JP2016013542A - 多孔性基板内に疎水性構造を形成するためのシステムおよび方法 - Google Patents

多孔性基板内に疎水性構造を形成するためのシステムおよび方法 Download PDF

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Abstract

【課題】多孔性基板上に堆積される疎水性材料の流れの制御が改善された、基板内に疎水性材料を分散させる為の装置の提供。【解決手段】第1のローラ154と、第1のローラ154に係合してニップ166を形成する第2のローラ158と、第1のローラ154に動作可能に接続されており、第1のローラ154を、第2のローラ158の第2の温度よりも高い第1の温度まで加熱するように構成されているヒータ162と、所定の速度においてニップ166を通じて基板152を移動させるように構成されている基板搬送装置とを含み、第1のローラ154は基板の第1の面に係合し、第2のローラ158は基板の第2の面に係合して、疎水性材料144が基板内に浸透することを可能にする装置180。【選択図】図1

Description

本開示は、概して、多孔性基板における疎水性材料の堆積を制御するためのシステムおよび方法に関し、より詳細には、紙を通じた流体の拡散を制御するための、化学分析デバイスの一部として紙の中に疎水性材料を形成するためのシステムおよび方法に関する。
紙ベースの化学分析デバイスは、紙基板と、紙の中に流体チャネルおよび他の流体構造を形成するワックスと、1つまたは複数の試薬とを含む。紙ベースの化学分析デバイスの一般的な例は、紙から作成され、血液、尿および唾液のような試験流体における生化学分析および診断を実施する生物医学的試験デバイスを含む。これらのデバイスは小さく、軽量で低コストであり、少し例を挙げるだけでも健康管理、軍事および国土安全保障における診断デバイスとしての潜在的な用途を有する。現行の技術水準の紙診断デバイスは、ワックスが紙上に印刷された後にワックスチャネルのリフローを制御することができないことに起因して、流体特徴分解能および製造適合性に関して制約される。
図10Aおよび図10Bは、リフロー炉内で紙基板上に形成されるワックスを溶融するための従来技術の過程を示す。溶融過程は、ワックスが紙の表面上の層内に残るのではなく、紙の中に浸透することが必要とされる。図10Aにおいて、リフロー炉が、固化したワックスを有する紙基板を約150℃の温度まで加熱する。紙およびワックスの全体が等方性方法で同じ温度まで加熱される。図10Bに示すように、ワックスは溶融して、概ね均一に、多孔性紙の中および紙の表面にわたっての両方で拡散する。従来技術のリフロー炉は、溶融ワックスの流れの方向を制御することができず、溶融ワックスは、所望されるよりも大きい度合いまで紙の表面にわたって拡散する傾向にある。生物医学的試験デバイスにおいて、ワックスは、複数の列を成して、紙基板を通じて拡散する流体に対するバリアおよびチャネルとして機能する他の構造内に形成される。ワックスの拡散が制御されないことで、精密な形状を有するバリアおよび液体チャネルを形成する上で問題が生じる。それゆえ、多孔性基板上に堆積される疎水性材料の流れの制御に対する改善が有益である。
一実施形態において、基板内に疎水性材料を分散させる装置が開発されている。装置は、第1のローラと、第1のローラに係合してニップを形成するように構成されている第2のローラと、第1のローラに動作可能に接続されており、第1のローラを、第2のローラの第2の温度よりも高い第1の温度まで加熱するように構成されている第1のヒータと、第1のローラが基板の第1の面に係合することを可能にし、第2のローラが基板の第2の面に係合することを可能にするために、所定の速度においてニップを通じて基板を移動させるように構成されている基板搬送装置であって、基板の第2の面は、第1のローラと第2のローラとの間のニップにおける温度勾配に応答して基板内に浸透する疎水性材料を有する、基板搬送装置とを含む。
別の実施形態において、基板内に疎水性材料を分散させるための方法が開発されている。方法は、ニップを形成するために第1のローラを第2のローラと係合させるステップと、第1のローラを、第2のローラの第2の温度よりも高い第1の温度まで加熱するために、第1のローラに動作可能に接続されている第1のヒータを用いて第1のローラを加熱するステップと、第1の面および第2の面を有する基板を、第1のローラが基板の第1の面に係合することを可能にし、第2のローラが基板の第2の面に係合することを可能にするために、基板搬送装置を用いて所定の速度においてニップを通じて移動させるステップであって、基板の第2の面は、第1のローラと第2のローラとの間のニップにおける温度勾配に応答して基板内に浸透する疎水性材料を有する、移動させるステップとを含む。
基板上での疎水性材料の分散を制御する装置の上記の態様および他の特徴は、添付の図面とともに取り上げられる、以下の記載において説明される。
図1は、基板の表面上の疎水性材料に熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板に浸透することを可能にする装置を含むインクジェットプリンタの図である。 図2は、基板の表面上の疎水性材料に熱および圧力を加える装置の別の実施形態の図である。 図3は、疎水性材料が基板に浸透するのを促すための、図1または図2の装置において形成される温度勾配を示す図である。 図4は、図1または図2の装置が熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板に浸透することを可能にする前に、基板の表面に複数層の疎水性材料を被着させるインクジェットプリンタ構成の別の実施形態の図である。 図5は、図1または図2の装置が熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板に浸透することを可能にする前に、基板の表面に複数層の疎水性材料を被着させるインクジェットプリンタ構成の別の実施形態の図である。 図6は、第1のドラムに複数層の疎水性材料を被着させ、疎水性材料および基板に熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板に浸透することを可能にするインクジェットプリンタの図である。 図7は、試薬または他の化学物質を含む液滴を、基板内の疎水性材料によって画定される基板内の流体チャネル上に吐出するインクジェットプリンタの図である。 図8は、疎水性材料によって形成される基板内の流体チャネルを用いた、基板内に形成される生物医学的試験デバイスの断面図および平面図である。 図9は、基板の表面上に形成される疎水性材料に熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板に浸透することを可能にするための過程のブロック図である。 基板の表面上に形成される疎水性材料を溶融させる従来技術のリフロー炉の図である。 従来技術の拡散過程における、図10Aのリフロー炉における基板上の疎水性材料の拡散を示す図である。
本明細書に開示するシステムおよび方法に関する環境ならびにシステムおよび方法に関する詳細の全般的な理解のために、図面を参照する。図面において、同様の参照符号は全体を通じて同様の要素を指定するために使用されている。本明細書において使用される場合、「プリンタ」という単語は、デジタル複写機、製本機、ファクシミリ装置、多機能機などのような、媒体上の樹脂または着色剤を用いて画像を生成する任意の装置を包含する。下記の記載において、プリンタは、溶融ワックス、相変化インク、または他の疎水性材料を、紙のような多孔性基板上に堆積するようにさらに構成される。下記に記載するプリンタはインクジェットプリンタであり、疎水性相変化材料はいくつかの実施形態において相変化インクであり得るが、いくつかの構成において、疎水性材料は、光学的に透明なワックス、または、特定の色を有しない他の材料である。疎水性材料の視覚的表現は、下記において例示のみを目的として提示されており、下記に記載する複数の異なる実施形態は、着色を有しない疎水性材料、または、化学分析デバイスとともに使用するのに適している任意の着色を有する疎水性材料を使用する。
プリンタは任意選択的に、基板に温度勾配および圧力を加えるように構成されており、これによって、疎水性材料が拡散し、疎水性材料が多孔性基板内に浸透して、水を含む液体の基板を通じた毛細管流動を制御するチャネルおよびバリアを含む疎水性構造を形成することが可能になる。
本明細書において使用される場合、「親水性材料」および「親水性基板」という用語は、水を吸収し、毛細管作用を介して材料を通じて水が拡散することを可能にする材料を指す。親水性基板の1つの一般的な例が、セルロースろ紙、クロマトグラフィ紙、または任意の他の適切なタイプの紙のような、紙である。親水性基板は、水、ならびに、血液、尿、唾液、および他の生体液のような、水を含む他の生体液が、基板内に拡散することを可能にする多孔性材料から形成される。下記に記載するように、疎水性材料が親水性基板に埋め込まれて、親水性基板を通じた流体の拡散を制御する流体チャネルバリアおよび他の疎水性構造を形成する。
本明細書において使用される場合、「疎水性材料」という用語は、水に対する癒着に抵抗し、毛細管運動を通じた水の流れに対して実質的に不浸透性である任意の材料を指す。紙のような多孔性基板に埋め込まれると、疎水性材料は、基板の、疎水性材料を含む部分を通じた水の拡散を阻害するためのバリアとして作用する。疎水性材料はまた、血液、尿、唾液、および他の生体液のような、水を含む多くの流体に対するバリアとしても作用する。下記に記載するように、疎水性材料が多孔性基板に埋め込まれて、基板を通じた流体の毛細管拡散を制御するチャネル壁および他の疎水性構造を形成する。一実施形態において、基板はまた、流体試料の様々な特性を試験するのに使用される生化学試薬をも含む。疎水性材料は、化学試薬の堆積物を有する、基板の複数の異なる箇所に流体を導くためのチャネルを形成する。疎水性材料はまた、疎水性材料と流体との間の化学反応を低減するかまたはなくすために、チャネル内の流体に対して実質的に、化学的に不活性でもある。単一の流体試料に対する複数の生化学的試験を実施するための単純で低コストなデバイスを提供するために、単一の流体試料が基板内のチャネルを通じて拡散して、基板の複数の異なる箇所にある複数の異なる試薬と反応する。
本明細書において使用される場合、「相変化材料」という用語は、室温および標準気圧(たとえば、20℃および1気圧)において固相を有し、上昇した温度および/または気圧レベルにおいて液相を有する疎水性材料を指す。本明細書において使用される疎水性相変化材料の例は、ワックスおよび相変化インクを含む。本明細書において使用される場合、「相変化インク」という用語は、室温においては実質的に固体であるが、上昇した温度においては軟化および液化するタイプのインクを指す。いくつかのインクジェットプリンタは、相変化インクの液化した滴を、回転ドラムまたはエンドレスベルトのような間接受像面上に吐出して、インク潜像を形成する。インク潜像は、紙シートのような基板に転写される。他のインクジェットプリンタは、インク液滴を、紙シートまたは長いロール紙のような印刷媒体上に直接吐出する。液体状態において、相変化材料は、紙のような多孔性基板に浸透することができる。
従来のインクジェットプリンタにおいて、相変化インクは基板の片面に転写され、オプションとして、両面印刷動作において、複数の異なる相変化インク画像が基板の両面に転写される。プリンタは基板の表面上に相変化インク液滴を拡散させ、相変化インク画像は印刷媒体の表面上で冷却および固化して印刷画像が形成される。一方、下記に記載する実施形態は、基板の表面上の相変化インクまたは別の疎水性材料に熱および圧力を加えて、疎水性材料が基板内の多孔性材料を通じて浸透することを可能にして、基板の厚さを通じて、基板を通じた流体の拡散を制御する三次元バリアを形成する。
図1は、熱勾配および圧力を紙のような親水性基板に加えて、基板の細孔内への疎水性材料の流れが、親水性基板を通じた流体の拡散を制御するバリアおよびチャネルを形成することを可能にするための装置180を含むインクジェットプリンタ100を示す。本明細書において使用される場合に、「装置」という用語が参照されている場合、これは、別途明示的に参照されていない限り、熱勾配および圧力を基板に加えて、基板の表面上に形成される疎水性材料が、異方性拡散パターンを有して基板内に浸透することを可能にするデバイスを指す。装置は任意選択的に、インクジェットプリンタのようなプリンタに組み込まれてもよい。下記に記載するように、装置180は図1において間接インクジェットプリンタ100の一部として示されているが、装置180は、他の印刷デバイスに組み込むことができ、または、インクジェットプリンタもしくは任意の他の適切な被着デバイスを使用して、表面上に形成される疎水性材料を有する基板を処理するように構成されている独立したデバイスとすることができる。
プリンタ100は、イメージングドラム104と、トランスフィックスローラ108と、イメージングドラムヒータ112と、回転アクチュエータ116と、基板ヒータ120とを含む。プリンタ100は、相変化インクまたは他の疎水性材料の液化した滴をイメージングドラム104の表面上に吐出する1つまたは複数のインクジェットプリントヘッド124を含む。イメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108は、ニップ106において互いに係合する。プリンタ100内で、機械式、空気圧式、または液圧式アクチュエータが、イメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108をともに保持して、ニップ106を形成し、ニップ106を通過する基板に圧力を加える。いくつかの実施形態において、アクチュエータはまた、イメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108を動かして係合させてニップ106を形成するか、または係合を解除する。回転アクチュエータ116は、たとえば、イメージングドラム104を選択される速度の範囲内で回転させる電気モータである。トランスフィックスローラ108は、イメージングドラム104に係合されると、イメージングドラム104の動きに応答して回転する。
装置180において、基板搬送装置は、矢印130が示す方向に基板を推進して、ニップ106を通過させる。基板搬送装置は、1つまたは複数のアクチュエータおよびベルトと、ローラと、イメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108の動きに同期してニップ106を通じて基板を移動させる他の搬送デバイスとを含む。イメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108は、ニップ106を通じて基板を推進する基板搬送システムの一部である。装置180がインクジェットプリンタに組み込まれている一実施形態においては、プリンタ内の媒体搬送システムが基板を装置180へと搬送し、基板は、装置180内の第1のローラ154と第2のローラ158との間に形成されるニップ166を通じて移動する。
装置180において、相変化インクまたは他の疎水性材料を第2のローラ158の表面から除去するシリコーン表面層または別の表面層を有するクリーナーローラ174が形成される。第2のローラ158は一般的に、第2のローラ158と疎水性材料144との間の癒着を低減するために、ポリテトラフルオロエチレンまたは別の適切なコーティングのような、低界面エネルギー材料をコーティングされている。動作中、小部分の疎水性材料144が第2のローラ158に癒着する場合があり、クリーナーローラ174が残存する疎水性材料を除去してニップ166を通過する後続の基板の汚染を防止する。
図1は、装置180がインクジェットプリンタの一部分である一実施形態における装置180の構成を示す。図1において、コントローラ190として示されているデジタル電子制御ユニット(ECU)が、基板上に形成されるべき疎水性材料の所定のパターンおよび形状に対応するデジタル画像データを受信する。装置180において、プリントヘッド124が相変化インクの液滴をイメージングドラム104の表面上に吐出して、インク潜像140を形成する。一実施形態において、イメージングドラム104は、プリントヘッド124を通過する複数回の回転を遂行し、プリントヘッド124は、各回転中に、基板152に転写される相変化インクの追加の層を形成する。プリンタ100の一実施形態において、アクチュエータ(図示せず)がトランスフィックスローラ108をイメージングドラム104との係合から解除する。アクチュエータ116がイメージングドラム104を、プリントヘッド124を通過して回転させ、イメージングドラム104が、2回以上の回転にわたってプリントヘッド124からインク潜像を受け取る。一実施形態において、プリントヘッド124は、4層の単一のインク潜像を、イメージングドラム104の表面上に形成する。インク潜像がイメージングドラム104上に形成されると、トランスフィックスローラ108がイメージングドラム104に係合し、基板152がニップ106を通過して、複数層のインク潜像を受け取る。
図1の別の実施形態において、プリンタ100は、基板152にニップ106を2回以上通過させて、複数層のインクから印刷画像を形成する。たとえば、図1において、第1の層の相変化インク142が基板152の表面156上に形成される。媒体搬送装置が基板152を経路130が示すように移動させて、イメージングドラム104が2回目にプリントヘッド124によって吐出される追加の層の相変化インク140を搬送するときに、ニップ106を通過させる。媒体経路130は、基板152の面156がニップ106の各通過の間にイメージングドラム104に係合することを可能にするためにプリンタにおいて両面印刷に一般的に使用される両面印刷ユニットを含まない。一構成において、コントローラ190は、相変化インクの単一の印刷パターンが基板の片面上に形成されるように、基板152の各通過の間に同じ画像を形成するようにプリントヘッド124を動作させる。たとえば、インク潜像140は、すでに基板152上に形成されているインク画像142と位置整合されて、画像140および142における組み合わされた容量の相変化インクを含む合成画像144が形成される。複数回通過させることによって、プリンタ100は、従来の印刷動作に一般的に使用されるよりも大量の相変化インクを基板152上に堆積させることが可能になる。いくつかの実施形態において、プリンタ100は、基板152にニップ106を4回通過させて、基板152の片面上に4層の相変化インクを形成する。
図1において、基板搬送装置は、紙シートまたは長いロール紙のような基板152を、ニップ106を通じて移動させる。一実施形態において、イメージングドラムヒータ112がイメージングドラム104の表面を57℃まで加熱し、アクチュエータ116がイメージングドラム104およびトランスフィックスローラ108を、5インチ毎秒(IPS)の直線表面速度で回転させて、疎水性材料潜像144を基板152の片面156に転写する。代替的な実施形態において、トランスフィックス速度は、印刷媒体152のニップ内の「滞留時間」を調整するために、より速いか、またはより遅い。本明細書において使用される場合、「滞留時間」という用語は、印刷媒体152の所与の部分が、ニップを形成するローラから熱および圧力を受け取るためにニップ内で過ごす時間量を指す。滞留時間の量は、ニップを形成するローラの表面積およびニップを通じた基板の直線速度に関係する。たとえば、ニップ166において、滞留時間は、ローラ154および158の表面積およびニップ166を通じた基板152の直線速度に関係する。滞留時間は、疎水性材料が、基板に浸透して基板内に流体チャネルの壁および他の疎水性構造を形成することが可能になるように選択される。選択される滞留時間は、印刷媒体152の厚さおよび多孔率、ニップ166内の温度勾配、ニップ166内の圧力、ならびに疎水性材料の粘度特性に基づいて変化し得る。ローラが大きくなるほど、一般的により大きい表面積を有するニップが形成される。したがって、ローラ径がより大きい装置180の一実施形態は、ローラ径がより小さく直線速度がより遅い装置180の別の実施形態と同じ滞留時間を達成するのに、より速い直線速度で動作する。装置180の異なる動作モードにおいて、選択される滞留時間は、約0.1秒〜10秒の範囲内である。
印刷媒体152の白紙面160は、イメージング動作中、トランスフィックスローラ108に係合する。ニップ106内の熱および圧力が基板152の表面上の疎水性材料140に拡散して、第1の面156上に印刷画像を形成し、図1の複数回通過実施形態においては疎水性材料140が疎水性材料142と組み合わされる。図1に示すイメージング動作の後、疎水性材料の相当部分144が基板152の表面156の上または付近に残っている。
プリンタ100において、基板152が印刷画像144を受け取るために1回または複数回通過した後、媒体搬送装置が、基板152を装置180へと移動させる。媒体搬送装置は、経路134が示すように、基板を装置180へと移動させる。装置180は、第1のローラ154と、第2のローラ158と、任意選択の基板ヒータ170と、クリーナーローラ174とを含む。第1のローラ154および第2のローラ158は互いに係合してニップ166を形成する。装置180内で、機械式、空気圧式、または液圧式アクチュエータが、ローラ154および158をともに保持して、ニップ166を形成し、ニップ166を通過する基板に圧力を加える。第1のローラ154および第2のローラ158は、図1の実施形態において、1,000ポンド毎平方インチ(PSI)の圧力で、基板152および疎水性材料144に加圧する。他の構成において、ニップ166の圧力は800PSI〜3,000PSIであり、基板の特性および疎水性材料の組成に基づいて選択される。ヒータ162は第1のローラ154に動作可能に接続され、第1のローラ154を、第2のローラ158よりも高い温度まで加熱するように構成されている。疎水性材料144が基板152の面156に転写された後、媒体搬送装置が基板152を、ニップ166を通じて移動させる。
図1の例において、第2のローラ158が疎水性材料144を有する基板152の印刷面156に係合しながら自由に回転するのと同時に、アクチュエータ168が第1のローラ154を回転させて、基板152が、方向134においてニップ166を通じて移動することを可能にする。第1のローラ154の温度の上昇がニップ166における温度勾配を形成し、第1のローラ154が基板152の第2の面160に係合する。後述するように、この温度勾配が、疎水性材料144の側方拡散を低減しながら、疎水性材料144の印刷パターンが基板152の厚さに浸透することを可能にする。
装置180において、任意選択の基板ヒータ170が、基板がニップ166を通過するときに、基板の温度を所定の温度まで上昇させる。一実施形態において、基板ヒータ170は、基板がニップ166に近づくときに基板を60℃まで加熱する。ローラヒータ162が、第2のローラ158の表面を約60〜70℃のより低い温度に維持したままで、第1のローラ154の表面を約100℃まで加熱する。一実施形態において、第2のローラ158は、第2のローラ158の表面が、ニップ166においてより高温の第1のローラ154に係合した後に冷却することを可能にするために、第1のローラ154よりも大きい直径を含む。他の実施形態において、これらのローラは実質的にサイズが等しいか、または、第1のローラ154が第2のローラ158よりも直径が大きい。ローラヒータ162および基板ヒータ170は、装置180内の電気放射ヒータとして具現化される。図1の実施形態において、アクチュエータ168は、基板152がニップ166を通過するときに、第1のローラ154および第2のローラヒータ158を約1インチ毎秒の直線速度で回転させる。基板152の直線速度は、ニップ166内の滞留時間に反比例する。滞留時間は、ローラ154および158の表面積の影響を受け、表面積はニップ166の物理的サイズおよび基板152の直線速度に影響を与える。装置180において、滞留時間は約0.1秒〜10秒であり、コントローラ190は、ニップ166内の選択される滞留時間をもたらすように、基板152の直線速度を調整する。
代替的な実施形態において、装置180の動作パラメータは、基板152を通じた疎水性材料144の浸透を制御するためにニップ166内の温度勾配および基板152のニップ166における滞留時間を変更するように調整される。装置180の異なる実施形態において、ニップ166内の温度勾配および圧力、ならびに基板152のニップ166における滞留時間は、異なる直径を有するローラに対して、選択される滞留時間をもたらすように調整される。
図1は、すでに片面156上に疎水性材料144を有する基板152がニップ166を通過するものとして装置180を示しており、ここで、圧力および温度勾配が基板152に加えられて、疎水性材料144が基板152の多孔性材料内に浸透することが可能になる。図1において、基板搬送装置が、白紙面160が第1のローラ154と係合しながら疎水性材料を有する面156が第2のローラ158と係合した状態で、ニップ166を通じて基板を移動させる。装置180はプリンタ100内に示されており、プリンタ100は、疎水性材料の印刷パターンを形成する。一方、別の実施形態において、装置180は、基板と、別個のインクジェット印刷デバイス内にて、または、基板の片面上に疎水性材料を形成する任意の適切な堆積プロセスを通じて形成される疎水性材料とを受け取る。
図2は、装置280の別の実施形態を示す。装置280は、第1のローラ154、第2のローラ158、第1のローラヒータ162、アクチュエータ168、および基板ヒータ170を含む、装置180からの構成要素のいくつかを含む。装置280はまた、第2のローラ158の表面および基板152の表面を、第1のローラ154と第2のローラ158との間に形成されるニップ206において係合させる中間ウェブ272をも含む。一実施形態において、中間ウェブ272は、基板152および疎水性材料144をニップ206において係合させるエンドレスまたは循環シリコーンゴムベルトから形成される。エンドレスベルト272は、疎水性材料144が第2のローラ158に転写されるのを防止し、ニップ206においてベルト272に転移する任意の疎水性材料を取り除くことができる。別の構成において、中間ウェブ272は、ニップ206を一度通過し、その後廃棄またはリサイクルされる、プラスチックフィルムまたはコート巻き取り紙のような犠牲材料である。図2の装置280は、装置180と同様に、疎水性材料144および基板152に圧力および温度勾配を加えて、疎水性材料が基板152に浸透することを可能にする。
図3は、疎水性材料144の基板152内への浸透をより詳細に示す。ニップ106における温度上昇および圧力によって固化疎水性材料144が溶融し、液化疎水性材料が基板152の多孔性材料内へ水平および垂直の両方向に拡散する。液化疎水性材料の拡散距離Lは、ウォッシュバーンの式
Figure 2016013542
によって与えられ、式中、γは溶融疎水性材料144の表面張力であり、Dは基板152内の細孔の孔径であり、tは、その間ニップにおける温度勾配および圧力が疎水性材料144の粘度を低減する、基板のニップにおける滞留時間であり、ηは溶融疎水液の粘度である。表面張力γおよび粘度ηの項は、疎水性材料144の特性から経験的に求められる。孔径Dは、紙または基板152を形成する他の親水性材料のタイプから経験的に求められる。装置180は、ニップ166においてもたらされる温度勾配、および、疎水性材料がニップ166においてどれだけ長く液化状態のままであるかについての時間tによって、疎水性材料および基板が移動するときに疎水性材料の粘度ηを直接または間接的に制御する。ワックスまたは相変化インクのような疎水性材料は、材料の温度および疎水性材料に加えられる圧力に基づいて、様々な粘度レベルを有する液体状態に遷移する。液化疎水性材料の粘度は、材料の温度に逆相関する。ニップにおける温度勾配によって、面160およびローラ154付近のより高温の領域にある疎水性材料の粘度が、より低温の面156およびより低温のローラ158よりも高い度合いだけ低減する。したがって、温度勾配によって、温度勾配のより高温の領域にあるインクが、増大した温度では粘度が低減することに起因して、より低温の領域にあるインクと比較してより長い距離を浸透することが可能になる。
当該技術分野において既知であるように、ニップ166において加えられる圧力も、疎水性材料144の実効溶融温度を低減し、それによって、ニップ166内の疎水性材料144を溶融し、その粘度レベルを低減するのに必要とされる温度レベルが、標準気圧における溶融温度よりも低くなる。基板152の一部がニップ166を出ると、圧力および温度レベルは急速に降下し、それによって、疎水性材料144が、図10Aに示す従来技術のリフロー炉よりも急速に、かつ制御された様式で固化状態に戻ることが可能になる。ニップ166内の基板152の各部分の滞留時間も、疎水性材料144が液体状態で過ごす時間量に影響を与える。
ニップ166において、温度勾配は、溶融疎水性材料144の異方性加熱を可能にする。面160側の第1のローラ154の温度がより高いことによって、疎水性材料144の粘度ηが、より低温の面156の側よりも大きい度合いだけ低減する。したがって、温度勾配によって、疎水性材料144が基板152の多孔性材料内へ、基板152の長さに沿った疎水性材料144の水平の流れよりも、面160に向けてより長い距離にわたって流れることが可能になる。図3において、長い方の矢印220が、基板152の高温の面160に向かう基板内の多孔性材料を通じた疎水性材料144のより長い流れの距離Lを示し、一方で、短い方の矢印224が、基板152の長さに沿ったより短い流れの距離を示している。相変化インク疎水性材料について、インクが基板152をより高温のローラ154に向かって浸透するときのインクの粘度ηが低減することによって、相変化インクが、印刷面156から基板を通じて第2の面160へと浸透することが可能になり、これによって、基板152の厚さ全体を通じて相変化インクの層が形成される。
装置180は、異方性温度勾配、および、疎水性材料144が、疎水性材料144による印刷ラインおよび他の印刷特徴を形成するための液流パターンを生成し、これは、基板152の長さに沿ったより少ない拡散、および、印刷面156から基板152を通じた白紙面160への改善された浸透を呈する。たとえば、一実施形態において、装置180によって形成される印刷チャネルバリアラインの水平幅は約650μmであり、一方で、図10Aの従来技術のリフローの炉実施形態は、同じ印刷ラインを約1000μmの幅まで拡散させてしまう。さらに、装置180における異方性温度勾配によって、疎水性材料144が、図10Bに示す等方性温度分布を有する従来技術のリフロー炉よりも大きい度合いだけ基板152内に浸透することが可能になる。バリアの幅が狭くなることで、より精細な特徴詳細を有するより小さいデバイスを製造することが可能になり、基板を通じた流体の毛細管拡散を制御する流体チャネルの有効性も改善する。
図4は、疎水性材料444のパターンを基板452上に堆積させるインクジェットプリンタ400の別の実施形態を示す。インクジェットプリンタ400は、印刷ゾーン内の、プリントヘッド424Aおよび424Bのような複数セットのプリントヘッドが、疎水性材料を基板452上に直接吐出するダイレクトインクジェットプリンタである。基板452は、長い媒体ウェブとして示されている。基板452が印刷ゾーンに入ると、ヒータ420が、基板452を60℃のような所定の温度まで加熱する。図4の例において、プリントヘッド424Aおよび424Bは、基板452上に所定のパターンの2層の疎水性材料444を形成するが、他のプリンタ実施形態は、追加の層の疎水性材料を有する印刷パターンを形成するための追加のプリントヘッドを含む。プリンタ400において、ローラ430は、基板を矢印434が示すように印刷ゾーンを通じて移動させる媒体搬送装置の一部である。基板452はその後、疎水性材料444が基板452を通じて浸透することを可能にするための温度勾配および圧力を加える装置180または280を通じて移動する。装置180または280は、一実施形態においてはプリンタ400内に組み込まれる。別の実施形態において、装置180または280は、仕上げ、または、プリンタ400による印刷後に行われる他の処理の間に基板452を受け取る。
図5は、疎水性材料544のパターンを基板552上に堆積させるインクジェットプリンタ500の別の構成を示す。プリンタ500において、基板552は、プリントヘッド524Aおよび524Bのような、印刷ゾーン内の複数のプリントヘッドを通過して、複数層の疎水性材料544を有する印刷パターンを受け取る、紙または別の基板材料の長いウェブである。図5は、基板552において2層の疎水性材料を形成する2セットのプリントヘッド524Aおよび524Bを示すが、プリンタ500の別の構成は、追加のプリントヘッドを使用して2層以上の疎水性材料を形成する。プリンタ500は、基板552が印刷ゾーンに近づくときに基板552を加熱する基板ヒータ520を含む。プリンタ500において、基板552は、基板552が印刷ゾーン内のプリントヘッド524Aおよび524Bを通り過ぎるときに基板552を支持する回転支持ローラ528に係合する。支持ローラ528は、印刷過程の間に基板552の温度を所定の温度(たとえば、60℃)に維持するためのヒータ562を含む。基板552はその後、矢印534が示すように印刷ゾーンを出て、装置180または280に入る。装置180または280は、一実施形態においてはプリンタ500内に組み込まれる。別の実施形態において、装置180または280は、仕上げ、または、プリンタ500による印刷後に行われる他の処理の間に基板452を受け取る。
図6は、装置180および280の機能を組み込んだインクジェットプリンタ600の別の実施形態を示す。インクジェットプリンタは、イメージングドラム604と、トランスフィックスローラ608と、基板ヒータ620と、プリントヘッド624Aおよび624Bと、クリーニングローラ674とを含む。イメージングドラム604はトランスフィックスローラ608に係合してニップ606を形成する。プリントヘッド624Aおよび624Bは各々、相変化インクまたは他の疎水性材料の層を吐出して、イメージングドラム604の表面上に疎水性材料画像644を形成する。図4の実施形態と同様に、プリンタ600は任意選択的に、追加の層の疎水性材料をイメージングドラム604上に形成するための追加のプリントヘッドを含むか、または、イメージングドラム604が、基板642を、ニップ606を通じて移動させる前に、1つまたは複数のプリントヘッドを通過する複数回の回転を遂行して、マルチパス印刷構成において多層印刷画像を形成する。
プリンタ600において、イメージングドラム604は任意選択的に、イメージングドラム604がプリントヘッド624Aおよび624Bを通過して回転するときにイメージングドラム604の表面を所定の温度(たとえば、60℃)まで加熱するヒータ612を含む。プリンタ600はまた、イメージングドラム604およびトランスフィックスローラ608をニップ606において、1,000PSI圧力レベルのような所定の圧力レベルで係合させる1つまたは複数の電気式、空気圧式、または液圧式アクチュエータをも含む。トランスフィックスローラ608は、トランスフィックスローラ608の表面を、ニップ606におけるイメージングドラム604の表面よりも高い温度まで加熱する別のヒータ662を含む。たとえば、一実施形態において、ニップ606におけるトランスフィックスローラ608の表面温度は約100℃であり、一方でイメージングドラム604の表面温度は約60℃〜70℃である。
動作中、プリンタ600は、装置180および280の構成と同様に、ニップ606における温度勾配を形成する。より低温のイメージングドラム604上の疎水性材料パターン644がニップ606における基板642の片面646に転写され、ニップ606における温度勾配が、疎水性材料644が基板642を通じてより高温のトランスフィックスローラ608に係合する面650に向かって浸透することを可能にする。プリント600のこの構成において、トランスフィックスローラ608は装置180および280からのより高温の第1のローラとして機能し、イメージングドラム604は装置180および280内のより低温の第2のローラとして機能する。イメージングドラム604はニップ606を通じて回転し続けてクリーニングローラ674を通過し、クリーニングローラ674は、残存する相変化インクまたは他の疎水性材料をイメージングドラム604の表面から除去する。
インクジェットプリンタおよび上述の装置は、紙のような親水性基板上に疎水性材料の所定のパターンを形成して、流体チャネル、および、基板を通じた液体の拡散を制御する他の特徴を形成する。上述のように、化学分析デバイスは、疎水性材料によって形成される流体チャネルを有する基板を含む1クラスのデバイスの一例である。化学分析デバイスの選択される領域は、生物医学的試験デバイスとともに使用される試薬、触媒、指示薬、緩衝液などを含む様々な化学薬品を含む。いくつかの実施形態において、インクジェットプリンタは、疎水性材料が基板に加えられて流体チャネルが形成された後に、化学薬品を基板の種々の領域に加える。
図7は、プリントヘッド724A〜724Cを有するインクジェットプリンタ700の一実施形態を示す。図7の構成において、プリントヘッド724A〜724Cの各々は、基板742から形成される生物医学的センサとして構成される化学分析デバイスとともに使用するための化学薬品を含む液滴を吐出する。別の構成において、プリンタは、異なる組み合わせの化学薬品を印刷するための異なる数のプリントヘッドを含むか、または、プリントヘッドの各々が、単一のプリントヘッドにおける異なるグループのインクジェットから異なるタイプの化学薬品を吐出することを可能にする複数の液体リザーバを有して構成される。基板742において、領域744は、実質的に基板742の厚さ全体に浸透して、領域704A、704B、および704Cのような、基板742の露出領域によって吸収される液体に対するバリアおよび流体チャネルを含む疎水性構造を形成する疎水性材料から形成される。プリントヘッド724A〜724Cは、1つまたは複数の選択される化学薬品を含む液滴を、基板742内の種々の露出領域上に吐出する。たとえば、プリントヘッド724A〜724Cは、種々の化学薬品を有する液滴を、それぞれ、図7の構成にある領域704A〜704C内に吐出する。液滴は、水、アルコール、または、溶液もしくは懸濁液として化学薬品を担持する別の溶媒のような担体化学薬品を含む。プリントヘッド724A〜724Cを通過した後、液体担体は基板742から乾燥し、化学分析または生物医学的試験デバイスにおいて後に使用するための化学薬品が、基板742内に堆積されて残る。
図8は、堆積箇所、および、化学試薬が流体と反応する種々の箇所に流体を導くために基板内の疎水性材料から形成される流体チャネルを含む生物医学的試験デバイス850内の印刷パターンの一例を示す。基板152は、疎水性材料144から形成されるバリア824および828を含む。装置180は、バリア疎水性構造824および828内の疎水性材料が、面156と160との間の基板152の厚さを通じて浸透して流体チャネル808を完全に包囲することを可能にする。親水性基板152は流体試料を吸収し、流体は毛細管拡散によってチャネル808を通じて移動するが、バリア824および828は流体がチャネル808から出るのを妨げる。生物医学的検出デバイス850は、基板152と、流体の拡散を制御するために基板内に形成される疎水性バリアと、堆積部位854と、反応部位858および862のような反応部位のセットとを含む。動作中、流体試料は中心堆積部位854に堆積される。図8には示されていないが、流体試料が堆積部位854のみにおいて吸収されることを保証するために、一般的に、印刷デバイス850の上にマスク層が形成される。流体試料は、疎水性材料によって形成されるチャネルを通じて反応部位のアレイまで、親水性基板152を通じて伝播する。反応部位の各々は、基板152に埋め込まれている化学試薬を含む。化学試薬は、流体試料中の種々の化合物と反応し、色が変化するか、または、流体試料を分析するのに使用することができる別の指標を生成する。たとえば、堆積部位854内に置かれた単一の血液試料において、反応部位858は貧血症について試験し、一方で反応部位862はブドウ糖(血糖)レベルについて試験する。
図9は、疎水性材料を加え基板を通じて拡散させるための過程900のブロック図を示す。過程900は、例示を目的として、図1の装置180、図2の装置280、図3のニップおよび温度勾配の図解例、ならびに図8の生物医学的試験デバイス850に関連して説明される。
過程900は、基板の表面上に疎水性材料を形成する任意選択の過程によって開始する(ブロック図904)。上述のように、一実施形態において、装置180がインクジェットプリンタ内に組み込まれ、インクジェットプリントヘッド124が、生物医学的試験デバイス850に示すパターンのような所定のパターンにおいて、疎水性材料の液滴を吐出する。基板搬送装置が白紙の基板をニップを通じて移動させ、疎水性材料が基板の印刷面に転写される。
過程900は、疎水性材料を有する基板が、異なる温度まで加熱される2つのローラから形成されるニップを通過するものとして継続し、基板の白紙面がより高温のローラと係合し、疎水性材料を有する基板の面がより低温のローラと係合する(ブロック908)。図1において上記に示したように、一構成において、ヒータ162が第1のローラ154を100℃まで加熱し、一方で、第2のローラ158は約60〜70℃のより低温のままである。代替的な構成において、ヒータ162は、第1のローラ154を70℃〜140℃の上昇した温度まで加熱する。第2のローラ158は、ニップ166において温度勾配をもたらすために第1のローラ154よりも低い温度のままである。基板がニップ166を通じて移動すると、ローラ154と158との間の温度勾配に起因して、白紙面160がより高温まで加熱され、印刷面156がより低温まで加熱される。図3に示すように、疎水性材料は液化して基板152の厚さを通じて流れる。ニップ166における温度勾配によって、疎水性材料が、液体流のより大きい部分が印刷面156から基板内に白紙面160へと導かれる異方性方法で流れることが可能になって、基板152内の親水性材料を通じた流体の拡散を制御するバリアおよびチャネルが形成される。
過程900は、疎水性流体チャネルバリアによって画定される親水性基板の領域に試薬または他の化学薬品を任意選択的に加えることによって継続する(ブロック912)。図7を参照して上記に示したように、インクジェットプリンタは、様々な化学薬品を含む液滴を、疎水性材料によって画定される基板の領域上に吐出することができる。単一の化学分析または生物医学的試験デバイスが、基板の異なる領域内に堆積されて、疎水性材料によって形成される流体チャネルによって互いから分離される複数の化学薬品を含むことができる。過程900において、疎水性材料が基板に浸透することを可能にするために熱および圧力を加えることによって化学センサまたは生物医学的試験デバイスにおいて使用される多くの化学薬品との望ましくない反応を生じる場合があるため、化学薬品は、単一の基板上に吐出される複数の異なる化学薬品間の交差汚染を防止するために疎水性材料を用いて流体チャネルが形成された後、基板上に形成される。

Claims (10)

  1. 基板内に疎水性材料を分散させるための装置であって、
    第1のローラと、
    前記第1のローラに係合してニップを形成するように構成されている第2のローラと、
    前記第1のローラに動作可能に接続されており、前記第1のローラを、前記第2のローラの第2の温度よりも高い第1の温度まで加熱するように構成されている第1のヒータと、
    前記第1のローラが基板の第1の面に係合することを可能にし、前記第2のローラが前記基板の第2の面に係合することを可能にするために、所定の速度において前記ニップを通じて基板を移動させるように構成されている基板搬送装置であって、前記基板の前記第2の面は、前記第1のローラと前記第2のローラとの間の前記ニップにおける温度勾配に応答して前記基板内に浸透する前記疎水性材料を有する、基板搬送装置と
    を備える、装置。
  2. 前記疎水性材料はワックスを含む、請求項1に記載の装置。
  3. 前記疎水性材料は相変化インクを含む、請求項1に記載の装置。
  4. 前記基板搬送装置上で前記ニップの前に位置付けられ、前記基板を所定の温度まで加熱するように構成されている第2のヒータをさらに備える、請求項1に記載の装置。
  5. 前記基板搬送装置は、前記第1のローラおよび前記第2のローラを前記所定の速度において回転させるように構成されているアクチュエータをさらに備える、請求項1に記載の装置。
  6. 前記第1の温度は約70℃〜140℃の範囲内である、請求項1に記載の装置。
  7. 前記所定の速度は、前記基板の所定の部分が、約0.1秒〜10秒の範囲内でニップ内に残ることを可能にする、請求項1に記載の装置。
  8. 前記第2のローラは、所定の圧力で前記第1のローラに係合して、前記ニップが、前記疎水性材料に強制的に前記基板内に入るようにすることを可能にするように構成されている、請求項1に記載の装置。
  9. 前記所定の圧力は、約800ポンド毎平方インチ(PSI)〜3,000PSIの範囲内である、請求項8に記載の装置。
  10. 基板内に疎水性材料を分散させるための方法であって、
    ニップを形成するために第1のローラを第2のローラと係合させるステップと、
    前記第1のローラを、前記第2のローラの第2の温度よりも高い第1の温度まで加熱するために、前記第1のローラに動作可能に接続されている第1のヒータを用いて前記第1のローラを加熱するステップと、
    第1の面および第2の面を有する基板を、前記第1のローラが前記基板の前記第1の面に係合することを可能にし、前記第2のローラが前記基板の前記第2の面に係合することを可能にするために、基板搬送装置を用いて所定の速度において前記ニップを通じて移動させるステップであって、前記基板の前記第2の面は、前記第1のローラと前記第2のローラとの間の前記ニップにおける温度勾配に応答して前記基板内に浸透する前記疎水性材料を有する、移動させるステップと
    を含む、方法。
JP2015116294A 2014-06-23 2015-06-09 多孔性基板内に疎水性構造を形成するためのシステムおよび方法 Active JP6633842B2 (ja)

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