JP2016012649A5 - - Google Patents
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Description
本発明の指令データの作成方法は、加速区間と等速区間と減速区間を含む第1軌道に沿って可動体を駆動させるための第1指令データを、前記可動体に対する学習制御により取得するステップと、加速区間と等速区間と減速区間を含む第2軌道に沿って前記可動体を駆動させるための第2指令データを、前記第1指令データの等速区間における一部の指令データと、前記第1指令データの前記加速区間の指令データ又は前記減速区間の指令データと、を用いて作成するステップとを有することを特徴とする。
Claims (14)
- 加速区間と等速区間と減速区間を含む第1軌道に沿って可動体を駆動させるための第1指令データを、前記可動体に対する学習制御により取得するステップと、
加速区間と等速区間と減速区間を含む第2軌道に沿って前記可動体を駆動させるための第2指令データを、前記第1指令データの等速区間における一部の指令データと、前記第1指令データの前記加速区間の指令データ又は前記減速区間の指令データと、を用いて作成するステップとを有することを特徴とする指令データの作成方法。 - 前記第1指令データの、駆動における異なる区間に対応するデータに対して、つなぎ合わせ処理を行うことで前記第2指令データを作成することを特徴とする請求項1に記載の作成方法。
- 前記第1指令データの前記加速区間の指令データ及び前記減速区間の指令データと、前記第1指令データの前記等速区間の一部の指令データと、を用いて前記第2指令データを作成することを特徴とする請求項1又は2に記載の指令データの作成方法。
- 前記加速区間の指令データ及び前記減速区間の指令データは、経過時間に対する指令情報を示すデータであることを特徴とする請求項3に記載の指令データの作成方法。
- 前記等速区間の一部の指令データは、位置に対する指令情報を示すデータであることを特徴とする請求項3又は4に記載の指令データの作成方法。
- 前記第2軌道上の、少なくとも前記第2指令データの等速区間に対応する軌道が、前記第1軌道上の前記第1指令データの等速区間に対応する軌道の一部と重複していることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。
- 前記加速区間の指令データ又は前記減速区間の指令データと前記等速区間の一部の指令データとを切り替える切り替え区間において、前記切り替え区間に用いる、前記加速区間の指令データ又は前記減速区間の指令データと、前記等速区間の一部の指令データと、のデータの比率を調整するステップを有することを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。
- 前記第1指令データを記憶するステップを有し、
該記憶するステップにおいて、インデックスと、該インデックスに対応する指令情報と、前記加速区間の指令データと前記減速区間の指令データと前記等速区間の指令データとの各区間に関する情報と、を記憶することを特徴とする請求項3乃至7のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。 - 前記第2指令データは、前記第1軌道に沿う前記可動体の駆動における加速条件および減速条件と同じ条件を用いて前記可動体を第2軌道に沿って駆動させるためのデータであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。
- 前記第2軌道における等速区間の長さは前記第1軌道における等速区間の長さとは異なり、
前記第2軌道における前記加速区間と前記等速区間の間の区間における指令データを、前記第1軌道における加速区間の後の第1指令データと前記第1軌道における等速区間の第1指令データとの比率を変更することにより作成することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。 - 前記第2軌道における等速区間の長さは前記第1軌道における等速区間の長さとは異なり、
前記第2軌道における前記等速区間と前記減速区間の間の区間における指令データを、前記第1軌道における等速区間の後の第1指令データと前記第1軌道における減速区間の第1指令データとの比率を変更することにより作成することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の指令データの作成方法。 - 可動体と、
前記可動体に対する学習制御によって取得した、加速区間と等速区間と減速区間を含む第1軌道に沿って可動体を駆動させるための第1指令データを記憶する記憶部と、
前記第1指令のデータの等速区間における一部の指令データを用いて、加速区間と等速区間と減速区間を含む第2軌道に沿って前記可動体を駆動させるための第2指令データを作成する作成部と、
を有することを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1乃至11に記載の作成方法で作成した指令データに基づいて駆動する可動体を有し、
前記可動体上の基板を照射してパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項13に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板を照射する工程と、
前記基板に対してエッチング処理を施す工程とを有し、エッチング処理が施された基板から物品を得ることを特徴とする物品の製造方法。
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