JP2015534009A - ガス供給デバイス - Google Patents

Abstract

ガス供給デバイスは、軸方向流路１２内に弁部材１４を収容し、かつ典型的には、カプセル２と固定永久的係合を行うキャップ１０によって破砕される穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスク４によって密封されるガス貯蔵カプセルを備える。弁部材１４は、前方ディスク穿孔針１６と一体であるか、またはそれを担持し、ディスク穿孔力を加えることによって付勢されてディスクを穿孔して、カプセルからガスを放出することができる。弁部材１４は、圧縮ばね２４によって通常バイアスされてキャップ１０の内表面と弁閉鎖係合する後方端を有する。したがって、弁は、ディスク穿孔力が取り除かれると閉鎖する。【選択図】図３

Description

本発明は、ガス供給デバイスに関し、具体的には、典型的にユーザの手中に容易に保持され得る寸法および重量である、加圧下でガスを貯蔵するためのカプセルを含むデバイスに関する。

このようなカプセルは、一般的なものであり、従来、ガスを放出するために穿孔され得るダイヤフラムの形態でその口に閉鎖を有する。ダイヤフラムは、典型的には、カプセルに溶接されるか、またはそうでなけば結合される。充填は、ダイヤフラムの不在で行われ、カプセルが必要なガス塊で充填されると、ダイヤフラ ムは、カプセル上に位置付けられ、それに溶接されるか、またそうでなければ結合される。例えば、典型的に約６０バールの圧力で二酸化炭素または亜酸化窒素を含むカプセルは周知である。このようなカプセルは、典型的には、ダイヤフラムを穿孔するために別個のユニットとともに使用され、別個のユニットは、ガスが供給されるデバイスに、またはガスが使用されるユニットと嵌合し得る別個のデバイスに組み込まれる。

典型的な構成では、穿孔ユニットからのカプセルのこの係合は、穿孔されたダイヤフラムを通してシリンダ内の残留ガスの大気への損失をもたらす。このような構成の一例は、例えば、英国ＧＢ−Ａ−９７１ １６１に開示される。このような構成のさらなる欠点は、密封（カプセルと穿孔ユニットとの間）および穿孔行為が本質的に同時に行われるため、カプセルと穿孔ユニットとの間の良好な面密封が生じる前にダイヤフラムが穿孔される危険性があり、高圧ガスをカプセルと穿孔ユニットとの間に逃がすことである。このような漏れは、潜在的に危険である。加えて、漏れるガスは、カプセルと穿孔ユニットとの間のねじ山に浸透して、ねじ山に作用するガス圧の結果としてさらなるカプセルの締め付けが困難になり得る。

さらなる欠点は、使用済みカプセルの再利用がダイヤフラムの残部の除去、およびそれを再密封するために新しいダイヤフラムをカプセルに溶接またはそうでなければ結合することを必要とすることである。

本発明に従って、
加圧下でガスを貯蔵するためのカプセルであって、口を有する、カプセルと、
穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクの形態でカプセルの口における閉鎖と、
カプセルと係合させて、穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクを破砕し、それによりカプセルを密封することができるキャップと、
キャップを通るガス流路と、
ガス流路内の弁部材であって、前方ディスク穿孔部材と一体であるか、またはそれを担持し、ディスク穿孔メンバーにディスクを穿孔させるようにディスク穿孔力を加えることによって付勢され、それによりカプセルからガス流路の中にガスを放出することができ、ディスク穿孔力の除去時にガスがカプセル内に加圧下で保持される弁閉鎖位置に付勢されることができる後方面を有する、弁部材と、を備える、ガス供給デバイスが提供される。

本発明はまた、以下の請求項１〜１７のいずれかに記載のガス供給デバイス内で閉鎖として使用するための穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクを提供し、このディスクは、充填溝および弱めた穿孔可能な部分を備える。

本発明は、以下の請求項１〜１９のいずれかに記載のガス供給デバイスにガスを装填する方法をさらに提供し、穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクは、以下の請求項１８に従い、本方法は、
ａ）ガスカプセルの口の上に位置付けられた穿孔可能な可鍛性ディスクでガス供給デバイスを組み立てることと、
ｂ）ガスカプセルから離れた弁部材の側面に加圧下でガスを供給し、それにより弁部材の後方面をその弁閉鎖位置から移動させて、ガスが弁部材を超えて穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクの充填溝を通って流れることを可能にすることと、
ｃ）ガスの供給を停止し、それにより弁部材をその弁閉鎖位置に戻させることと、
ｄ）カプセル上のキャップを締め付けて、穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクを破砕し、変形させ、それにより穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクとガスカプセルとの間でガス密閉を行い、それ故に充填溝を除去すること、を含む。

本発明に従うガス供給デバイスは、ディスク穿孔力が取り除かれると、少なくとも一定期間、カプセル内にガスを保持することができる。

キャップは、典型的には、ガスが使用される別のデバイスにガス供給デバイスが連結されることを可能にする構成を有する外表面を有する。この目的を達成するために、キャップは、好都合に雄ねじ山を有する連結ノズルを有する。キャップの内表面は、典型的には、カプセルの外表面上の相補的ねじ山に係合することができるねじ山も有する。所望される場合、キャップの外表面には、キャップの機械的締め付けを容易にする駆動スプラインも提供され得る。

ディスクは好ましくは、ガス供給デバイスの組み立て後だが、カプセルへのディスクの密封係合が行われる前に、加圧下でガスをカプセルに充填することを可能にするように適合された構成を有する。この目的を達成するために、ディスクは、カプセルがガスで充填されるとき、ガスがディスクの下を通って、カプセルの中に通過することを可能にする波状または刻み縁部を有することができる。典型的な構成では、カプセルが充填されると、キャップの締め付けは、カプセルの口に対してディスクを破砕し、したがって周辺密封が作られるディスクを変形させる。

所望される場合、ディスクは、カプセルの口の上のディスクの位置特定を容易にするために下向きに曲がったリムを有することができる。このような構成の別の利点は、充填溝またはノッチがリム内に好都合に提供され得ることである。

ディスクは、任意の可鍛性金属、例えば、アルミニウム、可鍛性アルミニウム基合金、銅、または可鍛性銅基合金から形成され得る。所望される場合、ディスク、カプセル、およびキャップの材料は、キャップおよびカプセルではなくディスクが選択された酸またはアルカリ性に可溶であるように選択され得る。

ディスクは、穿孔部材によるその穿刺を容易にするために減少した厚さの穿孔可能な中央領域を有することができる。

弁部材は、典型的には、弁スピンドル、ディスク穿孔力が加えられ得るスピンドルに、取り付けられるか、それと一体である。典型的には、この構成は、本発明に従うディスク供給デバイスをガス使用デバイスに連結することを完了する行為がディスク穿孔力を加えさせるような構成である。

典型的には、本発明に従うガス供給デバイスは、弁閉鎖方向にバイアスを有するばねを含む。ばねは、圧縮ばねであり得る。圧縮ばねは、ディスク上に載置し得る。この構成は、充填中にディスクの変位を防ぐことに役立ち得る。

弁部材の後方面は、典型的には、弾性Ｏリングシールに対して載置する。Ｏリングシールは、弁が閉鎖されるとき、キャップの内表面に対して圧縮下で保持され得る。他の実施形態では、弁部材の後方面は、弁部材がキャップの内表面に対して載置するときに圧縮下で保持される弾性Ｏリングシールを担持することができる。

本発明に従うガス供給デバイスのいくつかの実施形態では、弁部材の前方面は、ディスク穿孔部材としての機能を果たす穿孔針と一体である。他の実施形態では、弁部材の前方面は、穿孔針を担持する。穿孔針は、ディスクの穿孔の際にカプセルからのガスの流路を容易にするように、中空であるか、または少なくとも１つの縦溝であり得る。ガス使用デバイスに連結されるキャップの前記外表面が連結ねじ山で形成される場合、そのねじ山の軸方向範囲は、好都合に、そのディスク穿孔位置からその弁閉鎖位置まで弁部材が移動する距離を超える。この構成は、ディスクが穿孔され得る前に、カプセルが他のデバイスに連結されて固着されることを可能にする。

弁部材が弁スピンドルに接続されるか、またはそれと一体である本発明に従うガス供給デバイスの実施形態では、弁スピンドルは、変位可能であり、スピンドルは好ましくは、弁がその閉鎖位置にあるときでさえもキャップから突出しない。したがって、弁は、カプセルが誤って落下した場合に損傷からの保護を有する。

本発明に従うガス供給デバイスはここで、添付図面を参照して例として記載される。

本発明に従うガス供給デバイスの全体的な略断面側立面図である。 図１に示されるガスカプセルの断面ではない全体的な略側立面図である。 図１および２に示されるガス供給デバイスのヘッドの拡大断面側立面図である。 図３に示されるカプセル閉鎖ディスクの概略斜視図である。 本発明に従うガス供給デバイスに連結され得る大気圧の非熱的気体プラズマ発生デバイスの概略図である。

図面は、必ずしも一定の比率の縮尺ではない。

図面の図１〜４を参照すると、本発明に従うガス供給デバイスは、加圧下でガスを貯蔵するためのガスカプセルを備える。図１〜３では、カプセルは、密封された後に示される。ガスカプセル２は、このような密封をもたらすようにその口における閉鎖４を有し、閉鎖４は、穿孔可能な可鍛性ディスクの形態である（図４参照）。図４は、カプセル２を密封する前の穿孔可能なディスクを示す。ディスク４には、図３および４に示されるような下向きに曲がったリムが提供されてもよく、または代替の実施形態（図示せず）では、波状または刻み縁部と平らであってもよい。

カプセル２は、それが人の手中に無理なく保持され得るような寸法および重量である。これは、典型的には、５〜６０ｍＬの範囲の水容量を有する。カプセル２は、加圧下で選択されたガスを貯蔵する。貯蔵圧力は、２５バール未満〜３００バール超の範囲であり得る。カプセル２の壁の構築物の厚さおよび材料は、選択された貯蔵圧力に耐えるために選択される。カプセル２は、典型的には、アルミニウムもしくはアルミニウム基合金、またはステンレス鋼等の好適な鋼鉄から形成される。カプセル２は、既知の製造プロセス、例えば、深絞りによって作製され得る。カプセル２は、任意の選択されたガスで充填され得る。いくつかの非永久ガスは、選択された貯蔵圧力に供されるときに液化し得る。したがって、カプセルは、液化状態でガスを貯蔵することができる。しかしながら、貯蔵されるガスまたはガス混合気体が永久ガスである場合、このガスは、貯蔵圧力で気体状態のままである。

図面の図３を参照すると、カプセル２の口は、カプセル２の端部に提供される。口は、環状面７によって画定された円形開口部を有する。キャップ１０は、カプセル２を密封し、かつその内容物を保持するために、面７に対して可鍛性ディスク４を破砕する。ディスク４は、典型的には、アルミニウム、可鍛性アルミニウム基合金、銅、または可鍛性銅基合金等の可鍛性金属から形成される。

端部６の外表面には、ねじ山が提供される。これは、キャップ１０上の相補的ねじ山に係合する。キャップ１０は、それを通って形成される流路１２を有し、後述されるように、弁を収容する。流路１２の長手方向軸は、カプセル２の長手方向軸と同軸である。カプセル２とキャップ１０とのねじ込み係合は、ユーザがカプセル２からキャップ１０を正常にねじって外すことができないような係合である。この目的を達成するために、接着剤は、典型的には、キャップ１０をカプセル２の端部６に結合するようにねじ山５０の間に利用される。したがって、キャップ１０は、カプセル２に固定して永久に固着される。図面に示されるガス供給デバイスのユーザは、単に手動手段によってカプセル２からキャップ１０をねじって外すこと、またはそれを分離することができない。

キャップ１０は、流路１２内に弁部材１４を収容する。弁部材１４は、ディスク穿孔針１６と一体である。弁部材１４は、弁スピンドル１８によって担持される（またはそれと一体である）。スピンドル１８は、流路１２内に完全に収容され、カプセル２と同軸である。キャップ１０は、弁部材２０から離れたスピンドル１８の端部が延在する中に一体ノズル２２を有する。ノズル２２は、ねじ込み表面を有することができ、ガスを供給することが所望されるとき、カプセル２からガスを供給することが所望される外部デバイス（図示せず）と係合され得る。軸方向圧縮ばね２４は、キャップ１０内に位置する。圧縮ばね２４の一方の端部は、ディスク４上に載置し、他方の端部は、弁部材１４に当接し、その後方端をバイアスしてキャップ１０の内表面と密封係合させる。この密封は、典型的には、弾性Ｏリング２６によって行われる。圧縮ばね２４は、ディスク穿孔力がスピンドル１８にかけられていない場合、針１６がディスク４と接触しないような位置で弁部材２０を保持する。

ユーザデバイス（図示せず）は、スピンドルに当接して、それにキャップ１０の内表面と弁閉鎖係合からＯリング２６を移動させ、同時にディスク４に向かって穿孔針１６を前進させることができるプローブを含むコネクタで形成される。ディスク４が予め穿孔されていない場合、スピンドル１８の変位は、ディスク４によって穿孔針を駆動して、ガスが通過し得るそのディスク内に開孔を形成する。一実施形態では、穿孔針１６は、中空であるが、その中にオリフィス２８を形成されそれで、加圧下でガスが、針１６及びオリフィス２８を通って、キャップ１０の内部に入り、かつ弁部材１４を過ぎてノズル２２に入るのを可能にされる。オリフィス２８を有する。代替の実施形態（図示せず）では、穿孔針１６は、ディスク４の穿孔によってカプセル２から放出された加圧ガスが上述されるものと類似の経路を進むことを可能にする１つ以上の縦溝（図示せず）で形成され得る。

ガスカプセル内の圧力がユーザデバイス内のものをもはや超えないときまで、ガスがガスカプセル２からユーザデバイス（図示せず）に流れ続けることができるが、ガスカプセル２から制限されたガスの量を供給することも可能である。上記は、ノズル２２からユーザデバイスを切断することによって制限され得る。この切断は、圧縮ばね２４のバイアスが弁部材２０を弁閉鎖位置に戻ることを可能にする。ディスク４が穿孔されたため、ばね２４の弁閉鎖行為は、ガスカプセル２内のガスの圧力によって増強される。ガスカプセル２の端部６がキャップ２の内表面に係合するねじ山を通ってキャップの内部からのガス漏れを除去するか、または抑制するために、Ｏリングシール３０は、端部６とキャップ２の内表面との間の圧縮下で保持される。ガスカプセル２から別のガスの量を供給することが所望されるとき、ユーザデバイスは、ユーザデバイスからのプローブ（図示せず）が圧縮ばね２４のバイアスおよびキャップ１０内のガスの圧力に対して弁開放方向にスピンドル１８を変位させる結果により、ノズル２２に単純に再接続され得る。

これは、キャップ１０がガスカプセル２の充填弁として機能することができる本発明に従うデバイスの特徴である。典型的には、空のカプセル２は、カプセル２の口の上に位置する好適なジグ（図示せず）およびディスク４内に垂直に保持される。所望される場合、ディスク４は、その位置特定を容易にするために下向きに曲がったリムを有することができる。キャップ１０は次に、穿孔針１６の先端がディスク４と接触しないように、端部６上であるが奥までではなく、ねじ込まれる。充填コネクタ（図示せず）は、ノズル２２と係合される。充填コネクタは、内部プローブを有し、これは、充填コネクタがノズル２２と完全に係合されるとき、開放するのに十分な距離であるが、穿孔針１６をディスク４に係合させるほどではなく、スピンドル１８を変位させることができる。さらに、この位置では、ディスク４は、破砕力に全く供されない。

図４に示されるように、ディスク４は、その周縁から内側に延在するいくつかの半径方向の充填溝３０で形成される。これらの充填溝は、正常な充填作業中にガスカプセルに出入りするガスに流路を提供する。このような充填作業では、カプセルは、典型的には、最初に空にされ、したがって空気は、典型的には、充填コネクタ（またはアダプタ）を介して抽出される。これが行われると、充填コネクタは、ガスが充填溝３０を通ってカプセルの中に流れる結果により、カプセル内に貯蔵される加圧ガスの供給源と連通して配置される。カプセル内の圧力がガスの供給源のものと均一にすると、キャップ１０は、ガスカプセル２上に完全に締め付けられる。この目的を達成するために、キャップ１０の外表面には、締め付けがトルクレンチを用いて行われることを可能にするように駆動スプライン４０が提供され得る。典型的には、カプセル２へのキャップ１０の適合前に、係合が行われるねじ山に好適な接着剤が供給される。最適な接着剤は、典型的には、高力ねじ山ロック化合物である。この接着剤は、キャップ１０がガスカプセル２に固定して永久に固着されるように硬化することを許容されるか、またはそれを引き起こされる。したがって、ユーザは、単に手動手段によってカプセル２からキャップ１０をねじって外すか、またはそれを分離することができない。キャップ１０はそれ故に、閉鎖４の保護デバイスとして役割を果たす。キャップが完全に締め付けられると、充填コネクタは、ケージ１０内の圧力によって助けられる圧縮ばねが弁部材１４をその弁閉鎖位置に戻る結果により、ノズル２２との係合から取り外され得る。充填コネクタは、その接続がガスカプセルへのガスを通過させるのに十分な距離だが、閉鎖４を針１６によって穿孔させるのに不十分な距離である様に、前方に弁部材１４を付勢するように構成される。

カプセル２上のキャップを完全に締め付ける行為は、ガスカプセル２の口の面７上で密封させるようにディスク４を破砕する効果があり、したがってカプセル２からのガス漏れを防ぐ。この構成の利点のうちの１つは、ディスク４がガスカプセル２に溶接されず、またはそうでなければ結合されないことにより、これが本発明に従う使用済みガス供給デバイスの再利用を容易にすることである。このような使用済みガス供給デバイスは最初に、カプセル２とキャップ１０との間の接着剤結合を弱めるように処理され得る。典型的には、接着剤結合は、加熱により十分に弱められ得る。キャップ１０は次に、取り外されたカプセル２およびディスク４からねじって外され得る。所望される場合、ディスク４の取り外しは、好適な酸またはアルカリ性での処理によって化学的に生じ得る。ガス供給デバイスは次に、交換用ディスク４および交換用キャップ１０のユニットを用いて上述されるように再組み立てされ得る。

その穿孔を容易にするために、ディスク４は、鋳造されるか、またはそうでなければ弱められた中央領域３２を有することができる。

図面に示されるようなガス組み立てデバイスは、ユーザデバイスからのデバイスのあらゆる不注意による連結解除がキャップ１０内の弁を閉鎖させ、それによりユーザを望ましくないガスの排出から保護することにより、使用することが特に安全である。さらに、初期の穿孔後、デバイスは、ガスが使用されず、ガスが複数回投与され得るようにガス圧を保持する。加えて、ユーザデバイスとガス供給デバイスとの間の任意のねじ山がガス圧に供される可能性が高くなく、本発明に従うデバイスをユーザデバイスに取り付ける行為を行い、次いで比較的容易にそれを取り外す。

本発明に従うガス供給デバイスは、永久または非永久ガスのいずれかを貯蔵および供給するために使用され得る。一例では、これは、希ガス、例えば、ヘリウムもしくはアルゴン、またはヘリウムとアルゴンとの混合気体を、非熱的気体プラズマを人間（もしくは動物）の身体の口腔または他の部位に投与するためのデバイスに貯蔵および供給するために使用され得る。図５は、本発明に従うガス供給デバイス６０４を受容するドッキングステーション６０３を画定する筐体６０２を備える非熱的気体プラズマを発生させるためのヘルドデバイス６０１の概略図である。この実施形態では、ガス供給デバイス６０４は、２１ｍＬの容量のガスカプセルを備える。ドッキングステーション６０３には、接続デバイス（図示せず）が提供される。ドッキングステーション６０３内のガス供給デバイス６０４の全挿入は、ガスカプセルの閉鎖ディスクを穿孔させ、ガスを矢印の方向にガスカプセルから放出させる。ドッキングステーション６０３は、手動で操作可能な弁６０５が位置するガス流路６０６と連通する。この弁６０５は、ガスカプセルの閉鎖ディスクを穿孔すると、結果として生じるガス放出のいずれも弁６０５を超えないように正常に閉鎖される。弁６０５には、手動で操作可能なアクチュエータ６０８が提供され、これは、弁６０５を開放するように操作されて、ガスがそれを通過することを可能にすることができる。流路６０６は、典型的に大気圧で非熱的気体プラズマを発生させるためのセル６１０と連通する。プラズマ発生器のセル６１０には、口腔の中にまたは必要に応じて挿入されることができる塗布器６１２が提供される。経口治療におけるこのようなデバイスの構成および使用に関するさらなる情報は、特許出願第ＷＯ ２０１０／０７２９９７Ａ号、同第ＷＯ ２０１０／１０３２６２Ａ号、および同第ＷＯ ２０１０／１０３２６３Ａ号に示され、すべてが参照により本明細書に組み込まれる。

ガス供給デバイス６０４は、ドッキングステーション６０３から取り外されてもよい。このような取り外しの結果として、図１〜３を参照して記載される弁機構は閉鎖し、それによりカプセル内に加圧下でガスを保持する。

Claims (23)

1. ガス供給デバイスであって、
   加圧下でガスを貯蔵するためのカプセルであって、口を有する、カプセルと、
   穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクの形態で前記カプセルの前記口における閉鎖と、
   前記カプセルと係合させて、前記穿孔可能な可鍛性ディスクを破砕し、それにより前記カプセルを密封することができるキャップと、
   前記キャップを通るガス流路と、
   前記ガス流路内の弁部材であって、前方ディスク穿孔部材と一体であるか、またはそれを担持し、ディスク穿孔力を加えることによって付勢されて前記ディスクを穿孔し、それにより前記カプセルから前記ガス流路の中にガスを放出することができ、前記ディスク穿孔力の除去時にガスが前記カプセル内に加圧下で保持される弁閉鎖位置に付勢されることができる後方面を有する、弁部材と、を備える、ガス供給デバイス。
2. 固定永久的係合は、前記キャップと前記カプセルとの間で行われる、請求項１に記載のガス供給デバイス。
3. 前記キャップは、前記ガスが使用される別のデバイスに前記ガス供給デバイスが連結されることを可能にする構成を有する外表面を有する、請求項１または２に記載のガス供給デバイス。
4. 前記キャップは、連結ノズルを有する、請求項３に記載のガス供給デバイス。
5. 前記キャップの内表面は、前記カプセルの前記外表面上の相補的ねじ山に係合することができるねじ山を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
6. 前記キャップの前記外表面には、前記キャップの機械的締め付けを容易にする駆動スプラインが提供される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
7. 前記ディスクは、アルミニウム、可鍛性アルミニウム基合金、銅、または可鍛性銅基合金から形成される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
8. 前記ディスクは、減少した厚さの穿孔可能な中央領域を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
9. 前記ディスクは、下向きに曲がったリムを有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
10. 充填溝またはノッチは、前記リム内に提供される、請求項９に記載のガス供給デバイス。
11. 前記デバイスは、弁閉鎖方向にバイアスを有するばねを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
12. 前記ばねは、圧縮ばねである、請求項１１に記載のガス供給デバイス。
13. 前記圧縮ばねは、前記ディスク上に載置する、請求項１２に記載のガス供給デバイス。
14. 前記弁部材の前記後方面は、前記弁部材が前記キャップの内表面に対して載置するときに圧縮下で保持される弾性シールを担持される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
15. 前記ディスク穿孔部材は、前記弁部材と一体であるか、またはそれによって担持される穿孔針である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
16. 前記穿孔針は、中空である、請求項１３に記載のガス供給デバイス。
17. 前記キャップの外表面は、連結ねじ山で形成されて、それがガス使用デバイスに連結されることを可能にし、前記連結ねじ山は、そのディスク穿孔位置からその弁閉鎖位置まで前記ディスク穿孔部材が移動する距離を超える軸方向範囲を有する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
18. 前記弁部材は、弁スピンドルに接続されるか、またはそれと一体であり、前記弁スピンドルは、外部手段によって変位可能である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のガス供給デバイス。
19. 前記弁スピンドルは、前記弁がその閉鎖位置にあるときでさえも前記キャップから突出しない、請求項１８に記載のガス供給デバイス。
20. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載のガス供給デバイス内で閉鎖として使用するための穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスク。
21. 請求項１〜１９のいずれか一項に記載のガス供給デバイスにガスを装填する方法であって、
    ａ）前記ガスカプセルの前記口の上に位置付けられた前記穿孔可能な可鍛性ディスクで前記ガス供給デバイスを組み立てることと、
    ｂ）前記ガスカプセルから離れた前記弁部材の側面に加圧下でガスを供給し、それにより前記弁部材の前記後方面をその弁閉鎖位置から移動させて、ガスが前記弁部材を超えて前記穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクの前記充填溝を通って流れることを可能にすることと、
    ｃ）ガスの前記供給を停止し、それにより前記弁部材をその弁閉鎖位置に戻させることと、
    ｄ）前記カプセル上の前記キャップを締め付けて、前記穿孔可能な可鍛性ディスクを破砕し、それにより前記穿孔可能な可鍛性ディスクと前記ガスカプセルとの間でガス密閉を行うことと、を含む、方法。
22. 添付図面の図１〜３を参照して本明細書に記載されるガス供給デバイスと実質的に同一のガス供給デバイス。
23. 添付図面の図４を参照して本明細書に記載される穿孔可能な可鍛性閉鎖ディスクと実質的に同一の閉鎖ディスクであって、請求項１に記載のガス供給デバイス内での閉鎖としての使用に好適である、閉鎖ディスク。

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