JP2015232109A - Polymer composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, liquid crystal display device, and method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

Polymer composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, liquid crystal display device, and method for manufacturing liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer composition that gives a liquid crystal display device having excellent response speed characteristics and contrast characteristics and excellent afterimage characteristics, even with a small irradiation quantity of light on the polymer composition.SOLUTION: The polymer composition comprises (A) a polymer and (B) an organic solvent. The (A) polymer has a group represented by formula (1) below. In the formula (1), Rrepresents a specific photo-reactive group; Rrepresents a single bond or a divalent organic group; Yrepresents a cyclic group having a valence of (u+1) or a nitrogen atom; u represents an integer of 2 to 4, however, when Yis a nitrogen atom, u is 2; and * represents a bond.

Description

本発明は、重合体組成物、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法に関する。   The present invention relates to a polymer composition, a liquid crystal aligning agent, a liquid crystal alignment film, a liquid crystal display element, and a method for producing a liquid crystal display element.

液晶表示素子のうち、垂直配向モードとして従来知られているMVA(Multi−Domain Vertical Alignment)型パネルは、液晶パネル中に突起物を形成し、これにより液晶分子の倒れ込み方向を規制することにより視野角の拡大を図っている。しかし、この方式によると、突起物に由来する透過率及びコントラストの不足が不可避であり、さらに液晶分子の応答速度が遅いといった問題がある。   Among the liquid crystal display elements, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) type panel conventionally known as a vertical alignment mode forms protrusions in the liquid crystal panel, thereby restricting the tilting direction of liquid crystal molecules, thereby reducing the field of view. The corner is enlarged. However, according to this method, the lack of transmittance and contrast derived from the protrusions is unavoidable, and the response speed of the liquid crystal molecules is slow.

近年、上記の如きMVA型パネルの問題点を解決すべく、PSA(Polymer Sustained Alignment)モードが提案された(例えば特許文献1参照)。このPSA技術は、光照射により重合する重合性成分を液晶セルの液晶層に混入しておき、電圧印加によって液晶分子を傾斜させた状態で液晶セルに対して光照射することにより、重合性成分を重合して液晶分子の分子配向を制御しようとする技術である。この技術によると、視野角の拡大及び液晶分子の高速応答性を改善することが可能であるとされている。   In recent years, a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode has been proposed in order to solve the problems of the MVA type panel as described above (see, for example, Patent Document 1). In this PSA technology, a polymerizable component that is polymerized by light irradiation is mixed in the liquid crystal layer of the liquid crystal cell, and the liquid crystal cell is tilted by application of voltage, and the liquid crystal cell is irradiated with light, thereby the polymerizable component. Is a technique for controlling the molecular orientation of liquid crystal molecules by polymerizing the polymer. According to this technique, it is said that the viewing angle can be enlarged and the high-speed response of the liquid crystal molecules can be improved.

これとは別に、非特許文献1には、反応性メソゲンを含有するポリイミド系液晶配向剤から形成された液晶配向膜を用いる方法が提案されている。非特許文献1によると、この方法により形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子は液晶分子の応答が高速であるという。   Apart from this, Non-Patent Document 1 proposes a method using a liquid crystal alignment film formed from a polyimide liquid crystal aligning agent containing a reactive mesogen. According to Non-Patent Document 1, a liquid crystal display element including a liquid crystal alignment film formed by this method has a high response speed of liquid crystal molecules.

また本出願人は、液晶配向剤を用いて形成した塗膜に対して、できるだけ少ない光照射量で所望のプレチルト角特性を付与でき、かつ電圧変化に対する液晶分子の応答速度が十分に速い液晶表示素子を得るための技術を提案している(例えば、特許文献2参照)。この特許文献2には、重合体成分として(メタ)アクリロイル基を側鎖に有するポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤を用いて基板上に液晶配向膜を形成するとともに、該基板を用いて液晶セルを形成し、基板間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射することにより液晶表示素子を製造することが開示されている。   In addition, the present applicant can provide a desired pretilt angle characteristic to a coating film formed using a liquid crystal aligning agent with as little light dose as possible, and the liquid crystal display has a sufficiently fast response speed of liquid crystal molecules to voltage changes. A technique for obtaining an element has been proposed (see, for example, Patent Document 2). In Patent Document 2, a liquid crystal alignment film is formed on a substrate using a liquid crystal alignment agent containing a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group in the side chain as a polymer component, and a liquid crystal is formed using the substrate. It is disclosed that a liquid crystal display element is manufactured by forming a cell and irradiating the liquid crystal cell with light while a voltage is applied between the substrates.

特開2003−149647号公報JP 2003-149647 A 特開2011−118358号公報JP 2011-118358 A

Y.-J.Leeet. al. SID 09 DIGEST, p. 666(2009)Y.-J.Leeet. Al. SID 09 DIGEST, p. 666 (2009)

しかしながら、上記の技術を用いた液晶表示素子では、長時間駆動における残像の発生抑制の点で改善の余地がある。こうした残像発生の要因の一つとしては、液晶表示素子の長時間駆動に伴いプレチルト角が変化するためと考えられる。液晶表示素子においてプレチルト角が変化すると、液晶分子の応答速度特性や光学特性が大きく変わり、表示品位が低下する傾向にある。また、残像発生の別の要因としては、紫外線照射に伴い液晶分子や液晶配向膜が分解することに起因して不純物イオンが発生し、これが液晶表示素子内に分布するためと考えられる。不純物イオンの発生は、紫外線の照射量を少なくすることで抑制可能と考えられるが、紫外線の照射量を少なくすると、十分に高いプレチルト角を有する液晶配向膜を得ることができず、液晶分子の応答速度特性やコントラスト特性の低下を招くことが懸念される。特に近年、液晶表示素子の高性能化に対する要求は更に高まっており、液晶表示素子の表示品位を従来よりもさらに良好にすることが求められている。   However, the liquid crystal display element using the above technique has room for improvement in terms of suppressing the occurrence of afterimages during long-time driving. One possible cause of such afterimages is that the pretilt angle changes as the liquid crystal display element is driven for a long time. When the pretilt angle is changed in the liquid crystal display element, the response speed characteristics and optical characteristics of the liquid crystal molecules are greatly changed, and the display quality tends to be lowered. Another cause of the afterimage generation is considered to be that impurity ions are generated due to the decomposition of the liquid crystal molecules and the liquid crystal alignment film due to ultraviolet irradiation, and these are distributed in the liquid crystal display element. Generation of impurity ions is thought to be suppressed by reducing the amount of ultraviolet irradiation, but if the amount of ultraviolet irradiation is reduced, a liquid crystal alignment film having a sufficiently high pretilt angle cannot be obtained, and the liquid crystal molecules There is a concern that the response speed characteristic and the contrast characteristic may be deteriorated. In particular, in recent years, the demand for higher performance of liquid crystal display elements has further increased, and there has been a demand for better display quality of liquid crystal display elements than before.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、少ない光照射量でも優れた応答速度特性及びコントラスト特性を示し、かつ残像特性に優れた液晶表示素子を得ることができる重合体組成物を提供することを一つの目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a polymer composition that can exhibit a liquid crystal display device exhibiting excellent response speed characteristics and contrast characteristics even with a small amount of light irradiation and having excellent afterimage characteristics. One purpose.

本発明者らは、上記のような従来技術の課題を解決するべく鋭意検討した結果、特定構造を有する重合体を含む重合体組成物によれば、上記課題を解決可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明により以下の重合体組成物、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法が提供される。   As a result of intensive studies to solve the problems of the prior art as described above, the present inventors have found that the above problems can be solved by a polymer composition containing a polymer having a specific structure, The present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following polymer composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, liquid crystal display element and liquid crystal display element manufacturing method.

本発明は一つの側面において、(A)重合体及び(B)有機溶媒を含有する重合体組成物であって、(A)重合体が、下記式(1)で表される基を有する重合体である重合体組成物を提供する。   In one aspect, the present invention provides a polymer composition containing (A) a polymer and (B) an organic solvent, wherein the polymer (A) is a polymer having a group represented by the following formula (1). A polymer composition is provided that is a coalescence.

Figure 2015232109
(式(1)中、Rは下記式(r1−1)〜式(r1−6)
Figure 2015232109
(式(r1−1)〜式(r1−6)中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xは酸素原子又は−NR30−(ただし、R30は水素原子又はメチル基)である。Rは炭素数1〜20の1価の炭化水素基もしくは当該炭化水素基における少なくとも1個の水素原子をフッ素原子で置換した基、又は複素環を有する1価の基である。R及びRは水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基である。2個のRは、それぞれ独立に水素原子若しくは炭素数1〜20のアルキル基であるか、又は2個のRが互いに結合することでRが結合する2個の炭素原子とともに炭素数4〜20の炭化水素環構造を形成する。R10は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のフルオロアルキル基である。ただし、複数のR10は同じでも異なっていてもよい。Arは2価の芳香環基であり、Ar及びArは単結合又は2価の芳香環基である。)
のそれぞれで表される基よりなる群から選ばれる1価の基である。Rは単結合又は2価の有機基である。Yは(u+1)価の環状基又は窒素原子である。uは2〜4の整数である。ただし、Yが窒素原子の場合、u=2である。「*」は結合手を示す。)
Figure 2015232109
(In the formula (1), R 1 represents the following formula (r1-1) to formula (r1-6)
Figure 2015232109
(In Formula (r1-1) to Formula (r1-6), R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, X 5 is an oxygen atom or —NR 30 — (wherein R 30 is a hydrogen atom or a methyl group). R 6 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group in which at least one hydrogen atom in the hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, or a monovalent group having a heterocyclic ring. 7 and R 9 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and two R 8 s are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or two R 8 s. Are bonded to each other to form a hydrocarbon ring structure having 4 to 20 carbon atoms with two carbon atoms to which R 8 is bonded, and R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. 5 fluoroalkyl groups, provided that a plurality of R 1 0 may be the same or different, Ar 1 is a divalent aromatic ring group, and Ar 2 and Ar 3 are a single bond or a divalent aromatic ring group.)
These are monovalent groups selected from the group consisting of groups represented by R 2 is a single bond or a divalent organic group. Y 1 is a (u + 1) -valent cyclic group or a nitrogen atom. u is an integer of 2-4. However, when Y 1 is a nitrogen atom, u = 2. “*” Indicates a bond. )

本発明は一つの側面において、上記重合体組成物としての液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を提供する。また、当該液晶配向膜を備える液晶表示素子を提供する。また更に、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、上記重合体組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を形成した一対の基板を、液晶層を介して該塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する工程と、一対の基板における導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する工程と、を含む液晶表示素子の製造方法を提供する。また、本発明は別の一つの側面において、上記式(1)で表される基を有する重合体を提供する。   In one aspect, the present invention provides a liquid crystal alignment film formed using a liquid crystal aligning agent as the polymer composition. Moreover, a liquid crystal display element provided with the said liquid crystal aligning film is provided. Furthermore, a step of applying the polymer composition on the conductive film of a pair of substrates having a conductive film to form a coating film, and a pair of substrates on which the coating film has been formed are interposed through the liquid crystal layer. A method of manufacturing a liquid crystal display element, comprising: a step of constructing a liquid crystal cell by facing each other so that the coating films face each other; and a step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates. I will provide a. Moreover, this invention provides the polymer which has group represented by the said Formula (1) in another one side surface.

本発明の重合体組成物によれば、液晶分子の応答速度が速く、かつ良好なコントラストを示すうえ、長時間連続駆動しても良好な表示特性を示す液晶表示素子を得ることができる。また、液晶配向能を付与するための光照射量が少なくて済むため、光による液晶分子の分解等を抑制することができ、また液晶表示素子の製造コストの削減に資する。すなわち、本発明により得られる液晶表示素子は、性能面及びコスト面の双方において優れている。   According to the polymer composition of the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal display device which has a high response speed of liquid crystal molecules and a good contrast, and which has a good display property even when continuously driven for a long time. In addition, since the amount of light irradiation for imparting liquid crystal alignment ability is small, decomposition of liquid crystal molecules due to light can be suppressed, and the manufacturing cost of the liquid crystal display element can be reduced. That is, the liquid crystal display element obtained by the present invention is excellent in both performance and cost.

以下に、本発明の重合体組成物に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。   Below, each component contained in the polymer composition of this invention and the other component arbitrarily mix | blended as needed are demonstrated.

<(A)重合体>
本発明の重合体組成物は、重合体成分として、上記式(1)で表される基を有する重合体(以下、「(A)重合体」とも称する。)を含有する。
<(A) Polymer>
The polymer composition of this invention contains the polymer (henceforth "(A) polymer") which has group represented by the said Formula (1) as a polymer component.

ここで、本明細書における「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。また、「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。   Here, the “hydrocarbon group” in the present specification means a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group. Further, the “chain hydrocarbon group” means a linear hydrocarbon group and a branched hydrocarbon group which are composed only of a chain structure without including a cyclic structure in the main chain. However, it may be saturated or unsaturated. The “alicyclic hydrocarbon group” means a hydrocarbon group that includes only an alicyclic hydrocarbon structure as a ring structure and does not include an aromatic ring structure. However, it is not necessary to be comprised only by the structure of an alicyclic hydrocarbon, The thing which has a chain structure in the part is also included. “Aromatic hydrocarbon group” means a hydrocarbon group containing an aromatic ring structure as a ring structure. However, it is not necessary to be composed only of an aromatic ring structure, and a part thereof may include a chain structure or an alicyclic hydrocarbon structure.

上記式(1)のRは、上記式(r1−1)〜式(r1−6)のそれぞれで表される基よりなる群から選ばれる1価の基である。上記式(r1−1)において、Xは酸素原子又は−NR30−(R30は水素原子又はメチル基)であり、光反応性の観点から、好ましくは酸素原子又は−NH−である。 R 1 in the above formula (1) is a monovalent group selected from the group consisting of groups represented by each of the above formulas (r1-1) to (r1-6). In the formula (r1-1), X 5 is an oxygen atom or —NR 30 — (R 30 is a hydrogen atom or a methyl group), and preferably an oxygen atom or —NH— from the viewpoint of photoreactivity.

上記式(r1−2)において、Rの炭素数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、イコシル基などのアルキル基;シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基などの置換又は無置換のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基などのアラルキル基等が挙げられる。Rが、1価の炭化水素基の少なくとも1個の水素原子をフッ素原子で置換した基である場合、その具体例としては、上記例示の炭化水素基の少なくとも1個の水素原子をフッ素原子で置き換えてなる基などが挙げられ、例えばトリフルオロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などが挙げられる。 In the above formula (r1-2), examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms of R 6 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. Group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, icosyl group and other alkyl groups; substituted or unsubstituted cycloalkyl groups such as cyclohexyl group and methylcyclohexyl group; phenyl group, tolyl group, naphthyl group, etc. Aryl groups such as benzyl group and the like. When R 6 is a group obtained by substituting at least one hydrogen atom of a monovalent hydrocarbon group with a fluorine atom, specific examples thereof include at least one hydrogen atom of the above exemplified hydrocarbon group as a fluorine atom. And the like, and examples thereof include a trifluoromethyl group and a 3,3,3-trifluoropropyl group.

が、複素環を有する1価の基である場合、当該複素環としては、窒素含有複素環、酸素含有複素環及び硫黄含有複素環などが挙げられる。これらのうち窒素含有複素環であることが好ましく、その具体例としては、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ヘキサメチレンイミン、イミダゾリン、モルホリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、インドール、ベンゾイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、ナフチリジン、キノキサリン、フタラジン、トリアジン、アゼピン、ジアゼピン、アクリジン、フェナジン、フェナントロリン、オキサゾール、チアゾール、カルバゾール、チアジアゾール、ベンゾチアゾール、フェノチアジン、オキサジアゾール等が挙げられる。また、これらの複素環は置換基を有していてもよい。当該置換基の具体例としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;などが挙げられる。
上記複素環を有する1価の基は、これらの複素環から1個又は複数個の水素原子を取り除いてなる構造を有する。R中の複素環は、式(r1−2)中のエステル結合に直接結合していてもよいし、2価の連結基を介して結合していてもよい。
When R 6 is a monovalent group having a heterocyclic ring, examples of the heterocyclic ring include a nitrogen-containing heterocyclic ring, an oxygen-containing heterocyclic ring, and a sulfur-containing heterocyclic ring. Among these, a nitrogen-containing heterocyclic ring is preferable, and specific examples thereof include, for example, pyrrolidine, piperidine, piperazine, hexamethyleneimine, imidazoline, morpholine, pyrrole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, Indole, benzimidazole, purine, quinoline, isoquinoline, naphthyridine, quinoxaline, phthalazine, triazine, azepine, diazepine, acridine, phenazine, phenanthroline, oxazole, thiazole, carbazole, thiadiazole, benzothiazole, phenothiazine, oxadiazole and the like. Moreover, these heterocyclic rings may have a substituent. Specific examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; alkyl groups such as methyl group, ethyl group and propyl group; alkoxy such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group Group; and the like.
The monovalent group having a heterocyclic ring has a structure formed by removing one or more hydrogen atoms from these heterocyclic rings. The heterocyclic ring in R 6 may be directly bonded to the ester bond in formula (r1-2) or may be bonded via a divalent linking group.

上記式(r1−2)において、Arの2価の芳香環基は、芳香環の環骨格を構成する原子から2個の水素原子を取り除いてなる基である。当該芳香環としては、例えばベンゼン環やナフタレン環などの芳香族炭化水素環、及び上記Rの説明で例示した複素環のうち芳香族性を示す複素環(例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン等)などが挙げられる。 In the above formula (r1-2), the divalent aromatic ring group of Ar 1 is a group formed by removing two hydrogen atoms from atoms constituting the ring skeleton of the aromatic ring. Examples of the aromatic ring include aromatic hydrocarbon rings such as a benzene ring and a naphthalene ring, and heterocyclic rings having aromaticity among the heterocyclic rings exemplified in the description of R 6 (for example, pyrrole, imidazole, pyrazole, triazole). Pyridine, pyrimidine, pyridazine, etc.).

上記式(r1−3)のR及び上記式(r1−5)のRにおける炭素数1〜20のアルキル基の説明は、上記Rのアルキル基の説明を適用することができる。R及びRのアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよいが、直鎖状であることが好ましい。
上記式(r1−3)のAr及び上記式(r1−5)のArにおける2価の芳香環基の具体例は、上記Arの説明を適用することができる。
The description of the alkyl group of R 6 can be applied to the description of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R 7 of the above formula (r1-3) and R 9 of the above formula (r1-5). The alkyl group for R 7 and R 9 may be linear or branched, but is preferably linear.
The description of Ar 1 can be applied to specific examples of the divalent aromatic ring group in Ar 2 in the above formula (r1-3) and Ar 3 in the above formula (r1-5).

上記式(r1−4)のRは、水素原子若しくは炭素数1〜20のアルキル基であるか、又は2個のRが互いに結合することでRが結合する2個の炭素原子とともに炭素数4〜20の炭化水素環構造を形成する。Rが炭素数1〜20のアルキル基である場合、その具体例としては、上記Rのアルキル基として例示した基が挙げられる。2個のRは、互いに同じでも異なっていてもよい。
2個のRが互いに結合して形成される炭化水素環構造としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などの脂肪族炭化水素環;ベンゼン環などの芳香族炭化水素環;などが挙げられる。これらのうち、上記炭化水素環構造としては、脂肪族炭化水素環であることが好ましく、シクロヘキサン環であることがより好ましい。上記炭化水素環構造は、環部分に置換基を有していてもよい。当該置換基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基等が挙げられる。
としては、光反応性の観点から、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。
上記式(r1−4)の具体例としては、例えば下記式(r1−4−1)〜式(r1−4−5)のそれぞれで表される基等が挙げられる。

Figure 2015232109
(式中、*は結合手を示す。) R 8 in the above formula (r1-4) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or together with two carbon atoms to which R 8 is bonded by bonding two R 8 to each other. A hydrocarbon ring structure having 4 to 20 carbon atoms is formed. When R 8 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specific examples thereof include the groups exemplified as the alkyl group for R 6 above. Two R 8 may be the same or different from each other.
Examples of the hydrocarbon ring structure formed by bonding two R 8 to each other include an aliphatic hydrocarbon ring such as a cyclopentane ring and a cyclohexane ring; an aromatic hydrocarbon ring such as a benzene ring; Of these, the hydrocarbon ring structure is preferably an aliphatic hydrocarbon ring, and more preferably a cyclohexane ring. The hydrocarbon ring structure may have a substituent in the ring portion. Specific examples of the substituent include a methyl group and an ethyl group.
R 8 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, from the viewpoint of photoreactivity.
Specific examples of the formula (r1-4) include groups represented by the following formulas (r1-4-1) to (r1-4-5).
Figure 2015232109
(In the formula, * indicates a bond.)

上記式(r1−6)において、R10の炭素数1〜5のアルキル基の具体例は、Rで例示したアルキル基のうち炭素数1〜5のものを挙げることができ、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。炭素数1〜5のフルオロアルキル基は、炭素数1〜5のアルキル基の少なくとも1個以上の水素原子がフッ素原子で置換されていればよく、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基等が挙げられる。なお、式中の複数のR10は、互いに同じでも異なっていてもよい。 In the above formula (r1-6), specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms of R 10 can include those having 1 to 5 carbon atoms among the alkyl groups exemplified for R 6. It may be chained or branched. The fluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms is sufficient if at least one hydrogen atom of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is substituted with a fluorine atom, for example, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, 2 2,2-trifluoroethyl group and the like. A plurality of R 10 in the formula may be the same as or different from each other.

上記式(r1−1)〜式(r1−6)のそれぞれで表される基はいずれも光反応性を有する基である。上記Rとしては、光反応性が高い点で、これらの中でも上記式(r1−1)で表される基であることが好ましい。 All the groups represented by the above formulas (r1-1) to (r1-6) are groups having photoreactivity. Among these, R 1 is preferably a group represented by the above formula (r1-1) because of high photoreactivity.

上記式(1)において、Yは(u+1)価の環状基又は窒素原子である。ここで、本明細書における「(u+1)価の環状基」とは、環式化合物の環を構成する原子から(u+1)個の水素原子を取り除いてなる(u+1)価の基である。ただし、環部分に置換基を有していてもよい。Yが(u+1)価の環状基である場合、当該環状基は、ベンゼン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環又はピリジン環を環骨格とする基であることが好ましい。これらのうち、合成しやすさ及びコストの点でベンゼン環から(u+1)個の水素原子を取り除いた基であることが好ましい。
なお、Yの環骨格が有していてもよい置換基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など)、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基等が挙げられる。
uは2〜4の整数であり、(A)重合体の光感度を適度に高くする観点から、好ましくは2又は3である。なお、Yが窒素原子の場合、式(1)中のuは2である。
In the above formula (1), Y 1 is a (u + 1) -valent cyclic group or a nitrogen atom. Here, the “(u + 1) -valent cyclic group” in the present specification is a (u + 1) -valent group obtained by removing (u + 1) hydrogen atoms from atoms constituting the ring of the cyclic compound. However, the ring part may have a substituent. When Y 1 is a (u + 1) -valent cyclic group, the cyclic group is preferably a group having a benzene ring, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, or a pyridine ring as a ring skeleton. Of these, a group obtained by removing (u + 1) hydrogen atoms from the benzene ring is preferable in terms of ease of synthesis and cost.
Examples of the substituent that the ring skeleton of Y 1 may have include, for example, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 6 alkoxy groups and the like.
u is an integer of 2 to 4, and is preferably 2 or 3 from the viewpoint of appropriately increasing the photosensitivity of the polymer (A). Note that when Y 1 is a nitrogen atom, u in the formula (1) is 2.

上記式(1)におけるRは、単結合又は2価の有機基である。Rの2価の有機基としては、例えば2価の鎖状炭化水素基、2価の脂環式炭化水素基及び2価の芳香族炭化水素基などの2価の炭化水素基;2価の炭化水素基における少なくとも1個のメチレン基を、−O−、−CO−、−COO−、−NR−、−CONR−(ただし、Rは、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基である。)、−COS−、−S−等の2価の官能基で置き換えてなる基;などが挙げられる。
上記Rが2価の有機基である場合の好ましい具体例としては、下記式(r2−1)で表される基が挙げられる。

Figure 2015232109
(式(r2−1)中、R12は炭素数1〜20のアルカンジイル基又は下記式(r2−1−1)
Figure 2015232109
(式(r2−1−1)中、R20及びR21はそれぞれ独立に1価の置換基である。m1及びm2はそれぞれ独立に0〜2の整数である。ただし、1≦(m1+m2)≦2を満たす。t1及びt2はそれぞれ独立に0〜4の整数である。複数のR20は同一でも異なっていてもよく、複数のR21は同一でも異なっていてもよい。)
で表される基である。R13は炭素数1〜20のアルカンジイル基であり、R14は単結合又は炭素数1〜20のアルカンジイル基である。X及びXは、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルカンジイル基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレイド結合である。n1及びn2は、それぞれ独立に0〜2の整数であり、n1+n2≧1を満たす。「*」を付した結合手がRに結合する。) R 2 in the above formula (1) is a single bond or a divalent organic group. Examples of the divalent organic group represented by R 2 include divalent hydrocarbon groups such as a divalent chain hydrocarbon group, a divalent alicyclic hydrocarbon group, and a divalent aromatic hydrocarbon group; At least one methylene group in the hydrocarbon group of -O-, -CO-, -COO-, -NR a- , -CONR a- (wherein R a is a hydrogen atom or a C 1-6 carbon atom; And a group formed by replacing with a divalent functional group such as —COS— or —S—.
A preferred specific example when R 2 is a divalent organic group includes a group represented by the following formula (r2-1).
Figure 2015232109
(In the formula (r2-1), R 12 is an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms or the following formula (r2-1-1)
Figure 2015232109
(In the formula (r2-1-1), R 20 and R 21 are each independently a monovalent substituent. M1 and m2 are each independently an integer of 0 to 2. However, 1 ≦ (m1 + m2) ≦ 2 is satisfied, t1 and t2 are each independently an integer of 0 to 4. The plurality of R 20 may be the same or different, and the plurality of R 21 may be the same or different.
It is group represented by these. R 13 is an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 14 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 2 are each independently an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, an ether bond, an ester bond, an amide bond or a ureido bond. n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 2, and satisfy n1 + n2 ≧ 1. A bond marked with “* 1 ” is bonded to R 1 . )

上記式(r2−1)において、R12、R13及びR14の炭素数1〜20のアルカンジイル基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、デカンジイル基、ドデカンジイル基、ペンタデカンジイル基、オクタデカンジイル基等が挙げられる。これらは直鎖状でも分岐状でもよいが、プレチルト角付与の観点から、直鎖状であることが好ましい。R12、R13及びR14におけるアルカンジイル基は、炭素数1〜10であることが好ましく、炭素数1〜7であることがより好ましい。なお、R12、R13及びR14におけるアルカンジイル基は、互いに同じでも異なっていてもよい。 In the above formula (r2-1), examples of the alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 12 , R 13 and R 14 include a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, a pentanediyl group, and a hexanediyl group. , Heptanediyl group, octanediyl group, nonanediyl group, decanediyl group, dodecanediyl group, pentadecanediyl group, octadecanediyl group and the like. These may be linear or branched, but are preferably linear from the viewpoint of providing a pretilt angle. The alkanediyl group in R 12 , R 13 and R 14 preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 7 carbon atoms. In addition, the alkanediyl group in R < 12 >, R < 13 > and R < 14 > may mutually be same or different.

上記式(r2−1−1)で表される基は、1,4−フェニレン基及び1,4−シクロヘキシレン基の少なくともいずれかを1個以上有する基である。R20及びR21の具体例としては、例えばフッ素原子等のハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、水酸基等が挙げられる。
上記式(r2−1−1)で表される基としては、例えば1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、4,4’−ビフェニレン基、4,4’−ビシクロヘキシレン基、並びに下記式(r2−1−1−1)及び式(r2−1−1−2)のそれぞれで表される基などが挙げられる。

Figure 2015232109
(式中、「*」を付した結合手がRに結合する。) The group represented by the above formula (r2-1-1) is a group having at least one of a 1,4-phenylene group and a 1,4-cyclohexylene group. Specific examples of R 20 and R 21 include a halogen atom such as a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a hydroxyl group.
Examples of the group represented by the above formula (r2-1-1) include 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, 4,4′-biphenylene group, and 4,4′-bicyclohexylene group. And groups represented by each of the following formula (r2-1-1-1) and formula (r2-1-1-2).
Figure 2015232109
(In the formula, a bond marked with “* 1 ” is bonded to R 1. )

及びXは、炭素数1〜6のアルカンジイル基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレイド結合である。これらのうち、合成中間体の安定性や合成収率の観点から、エーテル結合、エステル結合又はアミド結合であることが好ましく、エーテル結合又はエステル結合であることがより好ましい。なお、エステル結合は、*−COO−及び*−OCO−(*を付した結合手がR13に結合する。)の両者を含む。また、アミド結合は、*−NH−CO−及び*−CO−NH−(*を付した結合手がR13に結合する。)の両者を含む。 X 1 and X 2 are an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, an ether bond, an ester bond, an amide bond or a ureido bond. Of these, an ether bond, an ester bond or an amide bond is preferable, and an ether bond or an ester bond is more preferable from the viewpoint of the stability of the synthetic intermediate and the synthesis yield. Incidentally, an ester bond, * - COO- and * --OCO - including both (bond marked with * is bonded to R 13.). Moreover, an amide bond, * - NH-CO- and * -CO-NH - including both (bond marked with * is bonded to R 13.).

上記式(1)で表される基の好ましい具体例としては、例えば下記式(a−1−1)〜式(a−5−3)及び式(b−1−1)〜式(b−1−3)のそれぞれで表される基などが挙げられる。なお、(A)重合体は、上記式(1)で表される基を1種のみ有していてもよいし、2種以上有していてもよい。

Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
(式中、Rは水素原子又はメチル基である。nは1〜18の整数である。) Preferable specific examples of the group represented by the formula (1) include, for example, the following formula (a-1-1) to formula (a-5-3) and formula (b-1-1) to formula (b- And groups represented by 1-3). In addition, the (A) polymer may have only 1 type of group represented by the said Formula (1), and may have 2 or more types.
Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
(In the formula, R is a hydrogen atom or a methyl group. N is an integer of 1 to 18.)

(A)重合体の主鎖としては、例えばポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレート等からなる骨格を挙げることができる。ここで、本明細書における重合体の「主鎖」とは、1種又は2種以上のモノマーが結合を繰り返すことにより形成される部分であり、重合体のうち最も長い「幹」の部分をいう。
本発明の重合体組成物を液晶配向剤の用途とする場合、(A)重合体は、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、(メタ)アクリル系重合体、及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であることが好ましい。
(A) As the main chain of the polymer, for example, polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyorganosiloxane, polyester, polyamide, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, poly (meth) A skeleton composed of acrylate or the like can be given. Here, the “main chain” of the polymer in the present specification is a portion formed by repeating bonding of one or more monomers, and the longest “trunk” portion of the polymer Say.
When the polymer composition of the present invention is used as a liquid crystal aligning agent, the polymer (A) is selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, (meth) acrylic polymer, and polyorganosiloxane. It is preferable that it is at least one polymer.

[ポリアミック酸]
上記(A)重合体がポリアミック酸(以下、「(A)ポリアミック酸」とも称する。)である場合、当該(A)ポリアミック酸は、例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。具体的には、例えば(i)上記式(1)で表される基を有するテトラカルボン酸二無水物をモノマーに含む重合により合成する方法;(ii)上記式(1)で表される基を有するジアミン(以下、「特定ジアミン」ともいう。)をモノマーに含む重合により合成する方法;(iii)上記式(1)で表される基を有するテトラカルボン酸二無水物及び上記特定ジアミンをモノマーに含む重合により合成する方法;によって得ることができる。これらのうち、モノマーの合成しやすさ及びモノマーの選択肢が広い点で、上記(ii)の方法によることが好ましい。
[Polyamic acid]
When the polymer (A) is a polyamic acid (hereinafter also referred to as “(A) polyamic acid”), the (A) polyamic acid is obtained by, for example, reacting a tetracarboxylic dianhydride and a diamine. Can be obtained. Specifically, for example, (i) a method of synthesizing by polymerization containing a tetracarboxylic dianhydride having a group represented by the above formula (1) as a monomer; (ii) a group represented by the above formula (1) (Iii) a tetracarboxylic dianhydride having a group represented by the above formula (1) and the above-mentioned specific diamine. It can obtain by the method of synthesize | combining by superposition | polymerization included in a monomer. Of these, the method (ii) is preferred because of the ease of monomer synthesis and the wide choice of monomers.

(特定ジアミン)
(A)ポリアミック酸の合成に使用する特定ジアミンは、脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン等のいずれでもよい。好ましい特定ジアミンの具体例としては、例えば下記式(DA)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2015232109
(式(DA)中、Rは単結合又は2価の連結基である。R、R、Y及びuは、それぞれ上記式(1)と同義である。) (Specific diamine)
(A) The specific diamine used for the synthesis of the polyamic acid may be any of aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine and the like. Specific examples of preferred specific diamines include compounds represented by the following formula (DA).
Figure 2015232109
(In the formula (DA), R 3 is a single bond or a divalent linking group. R 1 , R 2 , Y 1 and u have the same meanings as those in the above formula (1).)

上記式(DA)において、Rの2価の連結基の具体例としては、例えば−O−、−CO−、−COO−、−NR−、−CONR−(ただし、Rは、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基である。)、−COS−、−S−等の2価の官能基;鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基などの2価の炭化水素基;2価の炭化水素基における少なくとも1個のメチレン基を、上記2価の官能基で置き換えてなる基;などが挙げられる。Yが窒素原子の場合、Rは単結合又は2価の炭化水素基であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
、R、Y及びuの説明、並びに好ましい具体例は、上記式(1)の説明を適用することができる。ジアミノフェニル基における2つの1級アミノ基は、他の基に対して2,4−位又は3,5−位にあることが好ましく、2,4−位にあることがより好ましい。
上記式(DA)で表される化合物の好ましい具体例としては、例えば下記式(B−1)及び式(B−3)のそれぞれで表される化合物等を挙げることができる。

Figure 2015232109
(式(B−1)及び式(B−3)中、R及びRは上記式(1)と同義である。式(B−1)中、X及びXは、それぞれ独立に単結合、−O−、−COO−*又は−OCO−*(「*」を付した結合手がベンゼン環と結合する。)である。kは2又は3であり、iは0又は1であり、rは1〜3の整数である。) In the above formula (DA), specific examples of the divalent linking group for R 3 include, for example, —O—, —CO—, —COO—, —NR a —, —CONR a — (where R a is A hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms), a divalent functional group such as —COS— or —S—; a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group And a divalent hydrocarbon group such as a group obtained by replacing at least one methylene group in a divalent hydrocarbon group with the above divalent functional group. When Y 1 is a nitrogen atom, R 3 is preferably a single bond or a divalent hydrocarbon group, and more preferably a single bond.
The description of the above formula (1) can be applied to the description of R 1 , R 2 , Y 1 and u, and preferred specific examples. The two primary amino groups in the diaminophenyl group are preferably in the 2,4-position or 3,5-position with respect to other groups, and more preferably in the 2,4-position.
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (DA) include, for example, compounds represented by the following formulas (B-1) and (B-3).
Figure 2015232109
(In Formula (B-1) and Formula (B-3), R 1 and R 2 have the same meanings as in Formula (1) above. In Formula (B-1), X 3 and X 4 are each independently A single bond, —O—, —COO— * 1 or —OCO— * 1 (the bond marked with “* 1 ” is bonded to the benzene ring), k is 2 or 3, and i is 0 Or 1 and r is an integer of 1 to 3.)

上記式(B−1)における「−(X−C2r−X−」で表される2価の基としては、炭素数1〜3のアルカンジイル基、−O−、−COO−*、−COO−C−*(ただし、「*」を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。)であることが好ましい。
上記式(B−1)で表される化合物の好ましい具体例としては、例えば下記式(B−1−1)及び式(B−1−2)のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。

Figure 2015232109
(式(B−1−1)及び式(B−1−2)中、Aは、上記式(a−1−1)〜式(a−5−3)のそれぞれで表される基である。) As the divalent group represented by “— (X 3 —C r H 2r ) i —X 4 —” in the above formula (B-1), an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, —O—, —COO— * and —COO—C 2 H 4 — * (however, a bond marked with “*” is bonded to a diaminophenyl group) are preferred.
Preferable specific examples of the compound represented by the formula (B-1) include, for example, compounds represented by the following formula (B-1-1) and formula (B-1-2).
Figure 2015232109
(In Formula (B-1-1) and Formula (B-1-2), A 1 is a group represented by each of Formula (a-1-1) to Formula (a-5-3)). is there.)

また、上記式(B−3)で表される化合物の好ましい具体例としては、例えば下記式(B−3−1)〜式(B−3−3)のそれぞれで表される化合物などが挙げられる。

Figure 2015232109
(式(B−3−1)〜式(B−3−3)中、Rは水素原子又はメチル基である。nは1〜18の整数である。) Moreover, as a preferable specific example of the compound represented by the said formula (B-3), the compound represented by each of the following formula (B-3-1)-a formula (B-3-3), etc. are mentioned, for example. It is done.
Figure 2015232109
(In formula (B-3-1) to formula (B-3-3), R is a hydrogen atom or a methyl group. N is an integer of 1 to 18.)

上記特定ジアミンは、有機化学の定法を適宜組み合わせることにより合成することができる。その一例としては、上記式(DA)中の2つの1級アミノ基に代えて2つのニトロ基を有するジニトロ中間体を合成し、次いで、得られたジニトロ中間体のニトロ基を適当な還元系を用いてアミノ化する方法が挙げられる。ジトロ中間体を合成する方法は、目的とする化合物に応じて適宜選択することができる。
上記ポリアミック酸の合成に使用する特定ジアミンは、これらの化合物の1種を単独で又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
The specific diamine can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods. As an example, a dinitro intermediate having two nitro groups in place of the two primary amino groups in the above formula (DA) is synthesized, and then the nitro group of the obtained dinitro intermediate is converted into an appropriate reduction system. The method of amination using is mentioned. The method for synthesizing the ditro intermediate can be appropriately selected depending on the target compound.
As the specific diamine used for the synthesis of the polyamic acid, one kind of these compounds can be used alone or two or more kinds can be appropriately selected and used.

(その他のジアミン)
ポリアミック酸の合成に際しては特定ジアミンのみを用いてもよいが、特定ジアミンとともにその他のジアミンを併用してもよい。
上記その他のジアミンとしては、プレチルト角特性を発現可能な基(以下「プレチルト角発現性基」ともいう。)を有するジアミン及びプレチルト角発現性基を有さないジアミンに分類して例示することができる。ここで、プレチルト角発現性基としては、例えば炭素数2〜20のアルキル基、炭素数2〜20のフルオロアルキル基、炭素数2〜20のアルコキシ基、炭素数17〜51のステロイド骨格を有する基、2個以上の環が連結した構造を有する基などが挙げられる。プレチルト角発現性基におけるアルキル基、アルコキシ基及びフルオロアルキル基は直鎖状であることが好ましい。
(Other diamines)
In the synthesis of the polyamic acid, only the specific diamine may be used, but other diamines may be used in combination with the specific diamine.
Examples of the other diamines are classified into diamines having a group capable of developing pretilt angle characteristics (hereinafter also referred to as “pretilt angle developing group”) and diamines having no pretilt angle developing group. it can. Here, examples of the pretilt angle-expressing group include an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms, and a steroid skeleton having 17 to 51 carbon atoms. A group having a structure in which two or more rings are linked, and the like. The alkyl group, alkoxy group and fluoroalkyl group in the pretilt angle-expressing group are preferably linear.

プレチルト角発現性基を有するジアミンの具体例としては、例えばドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステリルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステリルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステリル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェノキシ)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサン、N−(2,4−ジアミノフェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)ベンズアミド、下記式(D−1)

Figure 2015232109
(式(D−1)中、XI及びXIIは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−COO−又は−OCO−であり、Rは炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、RIIは単結合又は炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、aは0又は1であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜20の整数であり、dは0又は1である。但し、a及びbが同時に0になることはない。) Specific examples of the diamine having a pretilt angle-expressing group include, for example, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene. , Octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2, 5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholesteryloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholesteryloxy-2,4-diamino Cholesteryl 3,5-diaminobenzoate, cholesteryl 3,5-diaminobenzoate, lanostannyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis (4 -Aminophenoxy) cholestane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-heptyl Cyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenoxy) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) ) Cyclohexane, N- (2,4-diaminophenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) benz Bromide, the following formula (D-1)
Figure 2015232109
(In Formula (D-1), X I and X II are each independently a single bond, —O—, —COO— or —OCO—, and R I is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. R II is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, a is 0 or 1, b is an integer of 0 to 2, c is an integer of 1 to 20, and d is 0 or 1, provided that a and b are not 0 at the same time.)

で表される化合物などを挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のプレチルト角発現性基を有するジアミンを用いることができる。
上記式(D−1)における「−X−(R−XII−」で表される2価の基としては、炭素数1〜3のアルカンジイル基、−O−、*−COO−又は−O−C−O−(ただし、「*」を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。)であることが好ましい。基「−C2c+1」の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などを挙げることができる。ジアミノフェニル基における2つのアミノ基は、他の基に対して2,4−位又は3,5−位にあることが好ましい。
In addition, a diamine having a pretilt angle-developing group described in JP 2010-97188 A can be used.
Examples of the divalent group represented by “—X I — (R I —X II ) d —” in the above formula (D-1) include alkanediyl groups having 1 to 3 carbon atoms, —O—, * — COO— or —O—C 2 H 4 —O— (however, a bond marked with “*” is bonded to a diaminophenyl group) is preferred. Specific examples of the group “—C c H 2c + 1 ” include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group. N-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group , N-eicosyl group and the like. The two amino groups in the diaminophenyl group are preferably in the 2,4-position or 3,5-position with respect to other groups.

上記式(D−1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(D−1−1)〜式(D−1−4)のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。

Figure 2015232109
Specific examples of the compound represented by the formula (D-1) include compounds represented by the following formulas (D-1-1) to (D-1-4). .
Figure 2015232109

プレチルト角発現性基を有さないジアミンは、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばメタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどを;脂環式ジアミンとして、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)などを;
芳香族ジアミンとして、例えばo−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジン、1,4−ビス−(4−アミノフェニル)−ピペラジン、3,5−ジアミノ安息香酸、4−(4’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、4−(4’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、2,4−ジアミノ−N,N―ジアリルアニリン、4−アミノベンジルアミン、3−アミノベンジルアミン、1−(2,4−ジアミノフェニル)ピペラジン−4−カルボン酸、4−(モルホリン−4−イル)ベンゼン−1,3−ジアミン、1,3−ビス(N−(4−アミノフェニル)ピペリジニル)プロパン、α−アミノ−ω−アミノフェニルアルキレン、及び4−(2−アミノエチル)アニリンなどを;
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンなどを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のプレチルト角発現性基を有さないジアミンを用いることができる。
Examples of the diamine having no pretilt angle developing group include aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, and diaminoorganosiloxane. Specific examples thereof include aliphatic diamines such as metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane; Examples of alicyclic diamines include 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) and the like;
Examples of aromatic diamines include o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,2′-. Dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2- Bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 ′-(p-phenylenediisopropylidene) Suaniline, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine 3,4-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3,6-diaminocarbazole N-phenyl-3,6-diaminocarbazole, N, N′-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N′-bis (4-aminophenyl) -N, N′-dimethylbenzidine, 1, 4-bis- (4-aminophenyl) -piperazine, 3,5-diaminobenzoic acid, 4- (4′-trifluoromethoxybenzoyloxy) ) Cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 4- (4′-trifluoromethylbenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 2,4-diamino-N, N-diallylaniline, 4-aminobenzylamine , 3-aminobenzylamine, 1- (2,4-diaminophenyl) piperazine-4-carboxylic acid, 4- (morpholin-4-yl) benzene-1,3-diamine, 1,3-bis (N- ( 4-aminophenyl) piperidinyl) propane, α-amino-ω-aminophenylalkylene, 4- (2-aminoethyl) aniline and the like;
Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane; and the like, and each of them has a pretilt angle developing group described in JP 2010-97188 A. No diamine can be used.

上記重合体組成物を液晶配向剤に適用する場合、液晶配向膜に安定したプレチルト角特性を発現させるために、特定ジアミンの使用割合を、(A)ポリアミック酸の合成に使用する全ジアミンに対して、5〜95モル%の範囲とすることが好ましく、30〜95モル%の範囲とすることがより好ましい。
また、液晶配向膜におけるプレチルト角発現の安定性をさらに高める観点において、プレチルト角発現性基を有するジアミンを併用することが有効である。プレチルト角発現性基を有するジアミンの使用割合は、配向不良の悪化を抑制する観点から、(A)ポリアミック酸の合成に使用する全ジアミンに対して、2〜50モル%の範囲とすることが好ましく、5〜40モル%の範囲とすることがより好ましい。
When applying the polymer composition to a liquid crystal aligning agent, in order to develop a stable pretilt angle characteristic in the liquid crystal aligning film, the use ratio of the specific diamine is set to (A) the total diamine used for the synthesis of the polyamic acid. Thus, the range is preferably 5 to 95 mol%, and more preferably 30 to 95 mol%.
From the viewpoint of further improving the stability of the pretilt angle expression in the liquid crystal alignment film, it is effective to use a diamine having a pretilt angle developing group in combination. The proportion of the diamine having a pretilt angle-expressing group may be in the range of 2 to 50 mol% with respect to the total diamine used for the synthesis of (A) polyamic acid, from the viewpoint of suppressing the deterioration of orientation failure. Preferably, the range is 5 to 40 mol%.

(テトラカルボン酸二無水物)
(A)ポリアミック酸の合成に用いるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシメチルノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2:4,6:8−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)などを;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物などを;
それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物等を用いることができる。なお、テトラカルボン酸二無水物は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Tetracarboxylic dianhydride)
(A) Examples of tetracarboxylic dianhydrides used for the synthesis of polyamic acid include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and the like. Can do. Specific examples thereof include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b- Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane -2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene- No 1,2-dicarboxylic acid 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2 : 4,6: 8-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone, 1,2,4,5 -Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), etc .;
Examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride;
In addition to the above, tetracarboxylic dianhydrides described in JP 2010-97188 A can be used. In addition, tetracarboxylic dianhydride can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(ポリアミック酸の合成)
(A)ポリアミック酸は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、必要に応じて分子量調節剤とともに反応させることにより得ることができる。ポリアミック酸(P)の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、0.3〜1.2当量となる割合がより好ましい。
分子量調節剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸などの酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミンなどのモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどのモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調節剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計100重量部に対して、20重量部以下とすることが好ましく、10重量部以下とすることがより好ましい。
(Synthesis of polyamic acid)
(A) The polyamic acid can be obtained by reacting the above tetracarboxylic dianhydride and diamine together with a molecular weight regulator as necessary. The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used in the synthesis reaction of the polyamic acid (P) is such that the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride is 0. A ratio of 2 to 2 equivalents is preferable, and a ratio of 0.3 to 1.2 equivalents is more preferable.
Examples of the molecular weight regulator include acid monoanhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride and itaconic anhydride, monoamine compounds such as aniline, cyclohexylamine and n-butylamine, and monoisocyanate compounds such as phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate. Can be mentioned. The use ratio of the molecular weight regulator is preferably 20 parts by weight or less, and more preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used.

(A)ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は、−20℃〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましい。また、反応時間は、0.1〜24時間が好ましく、0.5〜12時間がより好ましい。   (A) The polyamic acid synthesis reaction is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably -20 ° C to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C. The reaction time is preferably from 0.1 to 24 hours, more preferably from 0.5 to 12 hours.

反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。これらの有機溶媒のうち、非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒よりなる群(第一群の有機溶媒)から選択される1種以上、又は、第一群の有機溶媒から選択される1種以上と、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素及び炭化水素よりなる群(第二群の有機溶媒)から選択される1種以上との混合物を使用することが好ましい。後者の場合、第二群の有機溶媒の使用割合は、第一群の有機溶媒及び第二群の有機溶媒の合計量に対して、好ましくは50重量%以下であり、より好ましくは40重量%以下であり、更に好ましくは30重量%以下である。
特に好ましくは、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、m−クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される1種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの1種以上と他の有機溶媒との混合物を、上記割合の範囲で使用することが好ましい。
有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン並びに必要に応じて使用される分子量調節剤の合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して、0.1〜50重量%になる量とすることが好ましい。
Examples of the organic solvent used in the reaction include aprotic polar solvents, phenol solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, and the like. Among these organic solvents, one or more selected from the group consisting of an aprotic polar solvent and a phenolic solvent (first group organic solvent), or one or more selected from the first group of organic solvents And a mixture of at least one selected from the group consisting of alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons and hydrocarbons (second-group organic solvent). In the latter case, the proportion of the second group organic solvent used is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight, based on the total amount of the first group organic solvent and the second group organic solvent. Or less, more preferably 30% by weight or less.
Particularly preferred are N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, m-cresol, xylenol and halogen. It is preferable to use one or more selected from the group consisting of fluorinated phenols as a solvent, or to use a mixture of one or more of these and another organic solvent in the above range.
The amount (a) of the organic solvent used is such that the total amount (b) of the tetracarboxylic dianhydride and diamine and the molecular weight regulator used as required is 0. The amount is preferably 1 to 50% by weight.

以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。液晶配向剤としての重合体組成物を調製する場合、この反応溶液をそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。   As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. When preparing a polymer composition as a liquid crystal aligning agent, this reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, and after preparing the polyamic acid contained in the reaction solution, the liquid crystal aligning agent is prepared. You may use, or you may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, after refine | purifying the isolated polyamic acid. Isolation and purification of the polyamic acid can be performed according to known methods.

[ポリアミック酸エステル]
上記(A)重合体としてのポリアミック酸エステルは、例えば、[I]上記合成反応により得られた(A)ポリアミック酸と、エステル化剤とを反応させる方法、[II]テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、[III]テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、などによって得ることができる。
[Polyamic acid ester]
The polyamic acid ester as the polymer (A) is, for example, [I] a method of reacting the polyamic acid (A) obtained by the above synthesis reaction with an esterifying agent, or [II] a tetracarboxylic acid diester and a diamine. And [III] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine.

ここで、方法[I]で使用するエステル化剤としては、例えば水酸基含有化合物、アセタール系化合物、ハロゲン化物、エポキシ基含有化合物等が挙げられる。これらの具体例としては、水酸基含有化合物として、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、フェノール、クレゾール等のフェノール類などを;アセタール系化合物として、例えばN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N−ジエチルホルムアミドジエチルアセタールなどを;ハロゲン化物として、例えば臭化メチル、臭化エチル、臭化ステアリル、塩化メチル、塩化ステアリル、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタンなどを;エポキシ基含有化合物として、例えばプロピレンオキシドなどを、それぞれ挙げることができる。   Here, examples of the esterifying agent used in the method [I] include a hydroxyl group-containing compound, an acetal compound, a halide, and an epoxy group-containing compound. Specific examples thereof include hydroxyl group-containing compounds such as alcohols such as methanol, ethanol and propanol; phenols such as phenol and cresol; and acetal compounds such as N, N-dimethylformamide diethyl acetal, N, N-diethylformamide diethyl acetal and the like; halides such as methyl bromide, ethyl bromide, stearyl bromide, methyl chloride, stearyl chloride, 1,1,1-trifluoro-2-iodoethane and the like; epoxy group-containing Examples of the compound include propylene oxide.

方法[II]で使用するテトラカルボン酸ジエステルは、テトラカルボン酸二無水物を上記のアルコール類を用いて開環することにより得ることができる。また、方法[III]で使用するテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物は、上記の如くして得たテトラカルボン酸ジエステルを、塩化チオニル等の適当な塩素化剤と反応させることにより得ることができる。方法[II]及び[III]で使用するジアミンは上記特定ジアミンを含むことが好ましく、必要に応じて上記その他のジアミンを使用してもよい。なお、ポリアミック酸エステルは、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。   The tetracarboxylic acid diester used in Method [II] can be obtained by ring-opening tetracarboxylic dianhydride using the above alcohols. The tetracarboxylic acid diester dihalide used in the method [III] can be obtained by reacting the tetracarboxylic acid diester obtained as described above with an appropriate chlorinating agent such as thionyl chloride. The diamine used in the methods [II] and [III] preferably contains the above-mentioned specific diamine, and other diamines may be used as necessary. The polyamic acid ester may have only an amic acid ester structure, or may be a partially esterified product in which an amic acid structure and an amic acid ester structure coexist.

[ポリイミド]
上記(A)重合体としてのポリイミドは、例えば上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
[Polyimide]
The polyimide as the polymer (A) can be obtained, for example, by dehydrating and ring-closing the polyamic acid synthesized as described above to imidize.

上記ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。上記重合体組成物を用いて液晶配向膜を製造する場合、ポリイミドは、電気特性の観点からすると、30%以上とすることが好ましく、50%以上とすることがより好ましく、65%以上とすることがさらに好ましい。一方、重合体の溶解性を確保し、塗布性を高める観点からすると、イミド化率は、65%以下とすることが好ましく、30%以下とすることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。   The polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and cyclizing all of the amic acid structure possessed by the polyamic acid that is the precursor, and only a part of the amic acid structure is dehydrated and cyclized, It may be a partially imidized product in which an imide ring structure coexists. When manufacturing a liquid crystal aligning film using the said polymer composition, it is preferable to set it as 30% or more from a viewpoint of an electrical property, and it is preferable to set it as 50% or more, and 65% or more as for polyimide. More preferably. On the other hand, from the viewpoint of ensuring the solubility of the polymer and improving the coating property, the imidation ratio is preferably 65% or less, and more preferably 30% or less. This imidation ratio represents the ratio of the number of imide ring structures to the total of the number of polyimide amic acid structures and the number of imide ring structures in percentage. Here, a part of the imide ring may be an isoimide ring.

ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくは(i)ポリアミック酸を加熱する方法により、又は(ii)ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法により行われる。
上記(i)の方法における反応温度は、好ましくは50〜200℃であり、より好ましくは60〜170℃である。反応温度が50℃未満では脱水閉環反応が進行しにくく、反応温度が200℃を超えると、得られる重合体の分子量が低下することがある。反応時間は、好ましくは1.0〜24時間であり、より好ましくは1.0〜12時間である。
上記(ii)の方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、所望とするイミド化率によるが、ポリアミック酸のアミック酸構造の1モルに対して0.01〜20モルとすることが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとすることが好ましい。
脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0〜180℃であり、より好ましくは10〜150℃である。反応時間は、好ましくは1.0〜120時間であり、より好ましくは2.0〜30時間である。
The dehydration ring closure of the polyamic acid is preferably performed by (i) a method of heating the polyamic acid or (ii) dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst to this solution, and if necessary It is performed by the method of heating.
The reaction temperature in the method (i) is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 170 ° C. When the reaction temperature is less than 50 ° C., the dehydration ring-closure reaction does not proceed easily, and when the reaction temperature exceeds 200 ° C., the molecular weight of the resulting polymer may decrease. The reaction time is preferably 1.0 to 24 hours, more preferably 1.0 to 12 hours.
In the method (ii), as the dehydrating agent, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride can be used. Although the usage-amount of a dehydrating agent is based on the desired imidation rate, it is preferable to set it as 0.01-20 mol with respect to 1 mol of the amic acid structure of a polyamic acid. Moreover, as a dehydration ring closure catalyst, tertiary amines, such as a pyridine, collidine, lutidine, a triethylamine, can be used, for example. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closing catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents to be used.
Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified as those used for the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。液晶配向剤としての重合体組成物を調製する場合、この反応溶液をそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。   In this way, a reaction solution containing polyimide is obtained. When preparing a polymer composition as a liquid crystal aligning agent, this reaction solution may be directly used for the preparation of the liquid crystal aligning agent, and after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution, The polyimide may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal aligning agent, or the isolated polyimide may be purified and then used for the preparation of the liquid crystal aligning agent. These purification operations can be performed according to known methods.

以上のようにして得られるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドは、これを濃度10重量%の溶液としたときに、10〜800mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、15〜500mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度(mPa・s)は、当該重合体の良溶媒(例えばγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンなど)を用いて調製した濃度10重量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。
ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、1,000〜500,000であることが好ましく、2,000〜300,000であることがより好ましい。また、Mwと、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは15以下であり、より好ましくは10以下である。このような分子量範囲にあることで、液晶表示素子の良好な配向性及び安定性を確保することができる。
The polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide obtained as described above preferably have a solution viscosity of 10 to 800 mPa · s, when this is made into a solution having a concentration of 10% by weight, and 15 to 500 mPa · s. More preferably, it has a solution viscosity of s. In addition, the solution viscosity (mPa · s) of the above polymer is based on a polymer solution having a concentration of 10% by weight prepared using a good solvent for the polymer (eg, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.). The value measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer.
Regarding the polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography is preferably 1,000 to 500,000, and preferably 2,000 to 300,000. More preferred. Moreover, the molecular weight distribution (Mw / Mn) represented by the ratio between Mw and the polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) measured by GPC is preferably 15 or less, more preferably 10 or less. By being in such a molecular weight range, it is possible to ensure good orientation and stability of the liquid crystal display element.

[(メタ)アクリル系重合体]
(A)重合体としての(メタ)アクリル系重合体(以下、「特定(メタ)アクリル系重合体」とも称する。)は、有機化学の定法を適宜組み合わせることにより合成することができる。その一例としては、例えば[1]結合基を形成し得る2種の官能基(Z1,Z2)の反応を利用して、基(Z1)を有する(メタ)アクリル系重合体と、基(Z2)及び上記式(1)で表される基を有する化合物とを反応させることにより合成する方法;[2]上記式(1)で表される基を有する(メタ)アクリル系化合物をモノマー組成に含む重合により合成する方法;等が挙げられる。これらのうち、重合体の合成が容易な点で、上記[1]の方法が好ましい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」を含む意味である。
[(Meth) acrylic polymer]
(A) The (meth) acrylic polymer (hereinafter also referred to as “specific (meth) acrylic polymer”) as the polymer can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods. As an example, a (meth) acrylic polymer having a group (Z1) and a group (Z2) using, for example, the reaction of two types of functional groups (Z1, Z2) capable of forming a [1] bonding group ) And a compound having a group represented by the above formula (1) are reacted; [2] a (meth) acrylic compound having a group represented by the above formula (1) in the monomer composition And the like. Among these, the method of the above [1] is preferable because the synthesis of the polymer is easy. In the present specification, “(meth) acryl” means “acryl” and “methacryl”.

上記[1]の方法による場合、結合基を形成し得る2種の官能基のうちの一方の基(Z1)としては、例えばエポキシ基、イソシアナト基、カルボキシル基、水酸基等が挙げられる。また、他方の基(Z2)としては、例えば基(Z1)がエポキシ基であるときはカルボキシル基が;基(Z1)がイソシアナト基であるときは水酸基が;基(Z1)がカルボキシル基であるときはエポキシ基が;基(Z1)が水酸基であるときは酸無水物基又はエポキシ基が、それぞれ好ましい。これらのうち、重合体の側鎖に対し、上記式(1)で表される基の付与が容易な点で、基(Z1)がエポキシ基であって、基(Z2)がカルボキシル基であることが好ましい。
エポキシ基を有する(メタ)アクリル系重合体(以下、「エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体」とも称する。)と、上記式(1)で表される基を有するカルボン酸(以下、「特定カルボン酸(C−1)」とも称する。)との反応により、(A)重合体としての(メタ)アクリル系重合体を得る方法を一例に挙げて、以下説明する。
In the case of the method [1], examples of one group (Z1) of the two types of functional groups that can form a bonding group include an epoxy group, an isocyanato group, a carboxyl group, and a hydroxyl group. The other group (Z2) is, for example, a carboxyl group when the group (Z1) is an epoxy group; a hydroxyl group when the group (Z1) is an isocyanato group; and a group (Z1) is a carboxyl group. An epoxy group; when the group (Z1) is a hydroxyl group, an acid anhydride group or an epoxy group is preferred. Among these, the group (Z1) is an epoxy group and the group (Z2) is a carboxyl group in that the group represented by the formula (1) can be easily added to the side chain of the polymer. It is preferable.
A (meth) acrylic polymer having an epoxy group (hereinafter also referred to as “epoxy group-containing (meth) acrylic polymer”) and a carboxylic acid having a group represented by the above formula (1) (hereinafter, “ A method of obtaining a (meth) acrylic polymer as a polymer (A) by reaction with a specific carboxylic acid (C-1) ”will be described below as an example.

エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体は、例えば、エポキシ基を有する(メタ)アクリル系単量体(mc−1)、又は当該(メタ)アクリル系単量体(mc−1)とその他の(メタ)アクリル系単量体(mc−2)との混合物を重合開始剤の存在下で重合させることにより得ることができる。ここで、「(メタ)アクリル系単量体」としては、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸エステル及び不飽和多価カルボン酸無水物等が挙げられる。   The epoxy group-containing (meth) acrylic polymer is, for example, a (meth) acrylic monomer (mc-1) having an epoxy group, or the (meth) acrylic monomer (mc-1) and other It can be obtained by polymerizing a mixture with a (meth) acrylic monomer (mc-2) in the presence of a polymerization initiator. Here, examples of the “(meth) acrylic monomer” include unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic acid ester, and unsaturated polyvalent carboxylic acid anhydride.

(メタ)アクリル系単量体(mc−1)としては、例えばエポキシ基を有する不飽和カルボン酸エステルを挙げることができる。その具体例としては、例えば(メタ)アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸3,4−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸3−メチル−3−オキセタニルメチル及びアクリル酸4−ヒドロキシブチルグリシジルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種が好ましい。なお、(メタ)アクリル系単量体(mc−1)としては、上記のものを一種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the (meth) acrylic monomer (mc-1) include an unsaturated carboxylic acid ester having an epoxy group. Specific examples thereof include, for example, glycidyl (meth) acrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, glycidyl α-n-butyl acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate. Α-ethyl acrylate 3,4-epoxybutyl, (meth) acrylate 3,4-epoxycyclohexylmethyl, (meth) acrylate 6,7-epoxyheptyl, α-ethyl acrylate 6,7-epoxyheptyl, Examples include 4-hydroxybutyl glycidyl ether of acrylic acid, (meth) acrylic acid (3-ethyloxetane-3-yl) methyl, and the like. Among these, from the group consisting of glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3-methyl-3-oxetanylmethyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl glycidyl ether acrylate At least one selected is preferable. In addition, as a (meth) acrylic-type monomer (mc-1), the said thing can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(メタ)アクリル系単量体(mc−2)は、エポキシ基を有さない不飽和化合物である。その具体例としては、不飽和カルボン酸として、例えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン、クロトン酸、α−エチルアクリル酸、α−n−プロピルアクリル酸、α−n−ブチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸等を;
不飽和カルボン酸エステルとして、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸−n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)アクリル酸−イソブチル、(メタ)アクリル酸−t−ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸−N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸−N,N−ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸オクトキシポリエチレングリコール、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル:α−メトキシアクリル酸メチル、α−エトキシアクリル酸メチル等のα−アルコキシアクリル酸エステル:クロトン酸メチル、クロトン酸エチル等のクロトン酸エステル等を;
不飽和多価カルボン酸無水物として、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−1,2,3,4−テトラヒドロフタル酸無水物等を;
その他、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル等を;それぞれ挙げることができる。(メタ)アクリル系単量体(mc−2)としては、上記のものを1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
The (meth) acrylic monomer (mc-2) is an unsaturated compound having no epoxy group. Specific examples thereof include unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ω-carboxypolycaprolactone, crotonic acid, α-ethylacrylic acid, α-n-propylacrylic acid, α-n. -Butylacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, vinyl benzoic acid and the like;
Examples of unsaturated carboxylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (n-propyl) (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Acid-n-butyl, (meth) acrylic acid-isobutyl, (meth) acrylic acid-t-butyl, (meth) acrylic acid cyclohexyl, (meth) acrylic acid benzyl, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl, (meta ) Lauryl acrylate, (meth) acrylic acid trimethoxysilylpropyl, (meth) acrylic acid methoxyethyl, (meth) acrylic acid-N, N-dimethylaminoethyl, (meth) acrylic acid-N, N-diethylaminoethyl, (Meth) acrylic acid methoxypolyethylene glycol, (meth) acrylic acid octoxy (Meth) acrylic acid esters such as reethylene glycol and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate: α-alkoxyacrylic acid esters such as methyl α-methoxyacrylate and methyl α-ethoxyacrylate: methyl crotonate, ethyl crotonate, etc. Crotonic acid esters, etc .;
Examples of unsaturated polycarboxylic anhydrides include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, cis-1,2,3,4-tetrahydrophthalic anhydride and the like;
Other examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. As the (meth) acrylic monomer (mc-2), the above can be used singly or in combination of two or more.

エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体において、1gあたりのエポキシ基の合計量(モル数)は、5.0×10−5モル/g以上であることが好ましく、1.0×10−4〜1.0×10−2モル/gであることがより好ましく、5.0×10−4〜5.0×10−3モル/gであることが更に好ましい。したがって、(メタ)アクリル系単量体(mc−1)の使用割合については、(メタ)アクリル系重合体の1gあたりのエポキシ基の合計のモル数が上記数値範囲となるように調整することが好ましい。
なお、合成に使用するモノマーとしては、本発明の効果を奏する範囲内において、上記(メタ)アクリル系単量体(mc−1)及び(mc−2)以外に、例えば1,3−ブタジエンやイソプレン等のビニル系単量体、スチレン、ヒドロキシスチレン等のスチレン系単量体、N−イソプロピルアクリルアミドやN,N−ジメチルメタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド化合物、メチルビニルケトン等の不飽和ケトン化合物などのその他の単量体を含んでいてもよい。また、(メタ)アクリル系単量体と共に、必要に応じて分子量調整剤を使用してもよい。
In the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer, the total amount (number of moles) of epoxy groups per 1 g is preferably 5.0 × 10 −5 mol / g or more, and 1.0 × 10 −4. It is more preferable that it is -1.0 * 10 <-2 > mol / g, and it is still more preferable that it is 5.0 * 10 < -4 > -5.0 * 10 < -3 > mol / g. Therefore, the use ratio of the (meth) acrylic monomer (mc-1) should be adjusted so that the total number of moles of epoxy groups per gram of the (meth) acrylic polymer falls within the above numerical range. Is preferred.
In addition, as a monomer used for synthesis, for example, 1,3-butadiene or the like can be used in addition to the (meth) acrylic monomers (mc-1) and (mc-2) within the scope of the effects of the present invention. Vinyl monomers such as isoprene, styrene monomers such as styrene and hydroxystyrene, unsaturated carboxylic acid amide compounds such as N-isopropylacrylamide and N, N-dimethylmethacrylamide, and unsaturated ketones such as methyl vinyl ketone It may contain other monomers such as compounds. Moreover, you may use a molecular weight modifier with a (meth) acrylic-type monomer as needed.

上記(メタ)アクリル系単量体を用いた重合反応はラジカル重合により行うことが好ましい。当該重合反応に際して使用する重合開始剤としては、ラジカル重合に際して通常使用する開始剤を挙げることができ、例えば2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物;過酸化水素;これらの過酸化物と還元剤とからなるレドックス型開始剤等が挙げられる。これらの中でもアゾ化合物が好ましく、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)がより好ましい。重合開始剤としては、これらのものを一種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
重合開始剤の使用割合は、反応に使用する全モノマー100重量部に対して、0.01〜50重量部とすることが好ましく、0.1〜40重量部とすることがより好ましい。
The polymerization reaction using the (meth) acrylic monomer is preferably performed by radical polymerization. Examples of the polymerization initiator used in the polymerization reaction include initiators usually used in radical polymerization. For example, 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4 -Dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) and other azo compounds; benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxypivalate, 1,1′-bis ( Examples thereof include organic peroxides such as t-butylperoxy) cyclohexane; hydrogen peroxide; redox initiators composed of these peroxides and reducing agents. Of these, azo compounds are preferable, and 2,2′-azobis (isobutyronitrile) is more preferable. As a polymerization initiator, these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The use ratio of the polymerization initiator is preferably 0.01 to 50 parts by weight, and more preferably 0.1 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all monomers used in the reaction.

(メタ)アクリル系単量体の重合反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。当該反応に使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物などが挙げられる。これらの中でもアルコール及びエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種を使用することが好ましく、多価アルコールの部分エーテルを使用することがより好ましい。その好ましい具体例としては、例えばジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。なお、有機溶媒としてはこれらを一種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。   The polymerization reaction of the (meth) acrylic monomer is preferably performed in an organic solvent. Examples of the organic solvent used in the reaction include alcohols, ethers, ketones, amides, esters, hydrocarbon compounds, and the like. Among these, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of alcohols and ethers, and it is more preferable to use partial ethers of polyhydric alcohols. Preferred examples thereof include diethylene glycol ethyl methyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate. In addition, as an organic solvent, these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(メタ)アクリル系単量体の重合反応において、反応温度は、30℃〜120℃とすることが好ましく、60〜110℃とすることがより好ましい。反応時間は、1〜36時間とすることが好ましく、2〜24時間とすることがより好ましい。また、有機溶媒の使用量(a)は、反応に使用するモノマーの合計量(b)が、反応溶液の全体量(a+b)に対して、0.1〜50重量%になるような量にすることが好ましい。   In the polymerization reaction of the (meth) acrylic monomer, the reaction temperature is preferably 30 ° C to 120 ° C, and more preferably 60 ° C to 110 ° C. The reaction time is preferably 1 to 36 hours, and more preferably 2 to 24 hours. The amount of organic solvent used (a) is such that the total amount (b) of monomers used in the reaction is 0.1 to 50% by weight with respect to the total amount of reaction solution (a + b). It is preferable to do.

このようにしてエポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体を含む溶液を得ることができる。この反応溶液は、そのまま特定カルボン酸(C−1)との反応に供してもよく、必要に応じて反応溶液を濃縮又は希釈した後、特定カルボン酸(C−1)との反応に供してもよい。また、上記反応溶液中に含まれるエポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体を単離したうえで特定カルボン酸(C−1)との反応に供してもよい。工程数の削減を図る観点からすると、エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体を反応溶液中に含有させたまま特定カルボン酸(C−1)との反応に供することが好ましい。   In this way, a solution containing an epoxy group-containing (meth) acrylic polymer can be obtained. This reaction solution may be used for the reaction with the specific carboxylic acid (C-1) as it is, or after the reaction solution is concentrated or diluted as necessary, it is used for the reaction with the specific carboxylic acid (C-1). Also good. Moreover, after isolating the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer contained in the reaction solution, it may be subjected to a reaction with the specific carboxylic acid (C-1). From the viewpoint of reducing the number of steps, it is preferable that the reaction is carried out with the specific carboxylic acid (C-1) while the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer is contained in the reaction solution.

得られたエポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体に対し、次いで、特定カルボン酸(C−1)を反応させる。特定カルボン酸(C−1)としては、例えば上記式(a−1−1)〜式(a−5−3)のそれぞれで表される基における結合手の部分にカルボキシル基が結合した化合物などを挙げることができ、具体的には、下記式(A−1−1)〜式(A−5−3)のそれぞれで表される化合物などが挙げられる。特定カルボン酸(C−1)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。

Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
(上記式(A−1−1)〜式(A−5−3)中、Rは水素原子又はメチル基である。nは1〜18の整数である。) Next, specific carboxylic acid (C-1) is made to react with the obtained epoxy-group-containing (meth) acrylic polymer. As the specific carboxylic acid (C-1), for example, a compound in which a carboxyl group is bonded to the bond portion in the group represented by each of the above formulas (a-1-1) to (a-5-3), etc. Specific examples include compounds represented by the following formulas (A-1-1) to (A-5-3). Specific carboxylic acid (C-1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
Figure 2015232109
Figure 2015232109
Figure 2015232109
(In the above formula (A-1-1) to formula (A-5-3), R is a hydrogen atom or a methyl group. N is an integer of 1 to 18.)

なお、特定カルボン酸(C−1)の合成方法は特に限定されず、従来公知の方法を組み合わせて合成することができる。合成方法の一例としては、例えば上記式(1)中の基Rを有するカルボン酸と、ジヒドロキシ安息香酸などの2個以上の水酸基を有するカルボン酸とを、好ましくは脱水剤の存在下で反応させる方法等が挙げられる。 In addition, the synthesis method of specific carboxylic acid (C-1) is not specifically limited, It can synthesize | combine combining a conventionally well-known method. As an example of the synthesis method, for example, a carboxylic acid having the group R 1 in the above formula (1) and a carboxylic acid having two or more hydroxyl groups such as dihydroxybenzoic acid are preferably reacted in the presence of a dehydrating agent. And the like.

エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体との反応に使用するカルボン酸は、特定カルボン酸(C−1)単独であってもよいが、特定カルボン酸(C−1)と共に、特定カルボン酸(C−1)以外のその他のカルボン酸(C−2)を併用してもよい。
その他のカルボン酸(C−2)は、上記式(1)で表される基を有さないカルボン酸であればよく、その具体例としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートなどを挙げることができる。
また、その他のカルボン酸(C−2)としては、プレチルト角発現性基を有するカルボン酸が挙げられる。ここで、その他のカルボン酸(C−2)が有していてもよいプレチルト角発現性基としては、上記プレチルト角発現性基を有するジアミンで例示した基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基、フェニル基、ヒドロキシフェニル基などが挙げられる。
The carboxylic acid used for the reaction with the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer may be the specific carboxylic acid (C-1) alone, but together with the specific carboxylic acid (C-1), the specific carboxylic acid (C-1) Other carboxylic acids (C-2) other than C-1) may be used in combination.
Other carboxylic acid (C-2) should just be carboxylic acid which does not have group represented by the said Formula (1), As an example, acrylic acid, methacrylic acid, omega-carboxy-poly Examples include caprolactone monoacrylate and monohydroxyethyl acrylate phthalate.
Moreover, as other carboxylic acid (C-2), the carboxylic acid which has a pretilt angle expression group is mentioned. Here, as the pretilt angle-expressing group that other carboxylic acid (C-2) may have, groups exemplified by the diamine having the pretilt angle-expressing group, cyclohexyl group, hydroxycyclohexyl group, phenyl group And a hydroxyphenyl group.

その他のカルボン酸(C−2)におけるプレチルト角発現性基を有するカルボン酸の具体例としては、例えばカプロン酸、ラウリン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキジン酸等の炭素数6〜20の脂肪酸、下記式(2−1−1)〜式(2−1−4)のそれぞれで表される化合物、下記式(2−2−1)〜式(2−2−5)のそれぞれで表される化合物等を挙げることができる。

Figure 2015232109
(式中、jは0〜12の整数であり、hは1〜20の整数である。)
なお、その他のカルボン酸(C−2)としては、これらのうちから選択される1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Specific examples of the carboxylic acid having a pretilt angle-expressing group in other carboxylic acid (C-2) include, for example, caproic acid, lauric acid, pentadecylic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, vaccenic acid, linoleic acid, C6-C20 fatty acids such as linolenic acid and arachidic acid, compounds represented by the following formulas (2-1-1) to (2-1-4), and the following formula (2-2-1) To a compound represented by each of formulas (2-2-5).
Figure 2015232109
(In the formula, j is an integer of 0 to 12, and h is an integer of 1 to 20.)
In addition, as other carboxylic acid (C-2), 1 type selected from these can be used individually or in combination of 2 or more types.

エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体と反応させるカルボン酸の使用割合は、(メタ)アクリル系重合体が有するエポキシ基の合計1モルに対して、0.001〜1.5モルとすることが好ましく、0.01〜1.0モルとすることがより好ましい。
また、特定カルボン酸(C−1)の使用割合は、(メタ)アクリル系重合体が有するエポキシ基の合計1モルに対して、0.01〜0.8モルとすることが好ましい。当該使用割合が0.01モル未満であると、(A)重合体の光に対する感度が劣り、重合体組成物により形成した塗膜に対して十分な液晶配向能を付与できない場合がある。また、0.8モルを超えると、(A)重合体の光に対する感度が高くなりすぎ、重合体組成物により形成した塗膜のプレチルト角を好適な角度に制御しにくくなることがある。好ましくは0.03〜0.6モルであり、さらに好ましくは0.05〜0.4モルである。
その他のカルボン酸(C−2)の使用割合は、本発明の効果を十分に得る観点から、特定(メタ)アクリル系重合体の合成に使用するカルボン酸の合計量に対して、80モル%以下とすることが好ましく、50モル%以下とすることがより好ましい。
The use ratio of the carboxylic acid to be reacted with the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer is 0.001 to 1.5 mol with respect to a total of 1 mol of the epoxy groups of the (meth) acrylic polymer. Is preferable, and 0.01 to 1.0 mol is more preferable.
Moreover, it is preferable that the usage-amount of specific carboxylic acid (C-1) shall be 0.01-0.8 mol with respect to a total of 1 mol of the epoxy group which a (meth) acrylic-type polymer has. When the use ratio is less than 0.01 mol, the sensitivity of the (A) polymer to light is inferior, and sufficient liquid crystal alignment ability may not be imparted to the coating film formed from the polymer composition. Moreover, when it exceeds 0.8 mol, the sensitivity of the (A) polymer to light becomes too high, and it may be difficult to control the pretilt angle of the coating film formed from the polymer composition to a suitable angle. Preferably it is 0.03-0.6 mol, More preferably, it is 0.05-0.4 mol.
From the viewpoint of sufficiently obtaining the effects of the present invention, the use ratio of the other carboxylic acid (C-2) is 80 mol% with respect to the total amount of carboxylic acid used for the synthesis of the specific (meth) acrylic polymer. It is preferable to set it as follows, and it is more preferable to set it as 50 mol% or less.

エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体とカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。ここで、反応に使用する触媒としては、例えば有機塩基、エポキシ化合物の反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物などを用いることができる。
上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジンの如き1〜2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジンの如き3級有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級有機アミン;などを挙げることができる。有機塩基としては、これらのうち3級有機アミン又は4級有機アミンが好ましい。
上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミンなどの3級アミン;2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール化合物;ジフェニルフォスフィンなどの有機リン化合物;ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライドなどの4級フォスフォニウム塩;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7などのジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫などの有機金属化合物;テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの4級アンモニウム塩;三フッ化ホウ素などのホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫などの金属ハロゲン化合物;などを挙げることができるほか、潜在性硬化促進剤として公知のものを使用することができる。これらのうち、好ましくは4級アンモニウム塩である。
触媒の使用量は、カルボン酸と反応させる(メタ)アクリル系重合体100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、より好ましくは0.01〜100重量部以下、更に好ましくは0.1〜20重量部である。
The reaction between the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer and the carboxylic acid can be preferably performed in the presence of a catalyst and an organic solvent. Here, as the catalyst used for the reaction, for example, a compound known as a so-called curing accelerator that accelerates the reaction of an organic base or an epoxy compound can be used.
Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine and piperidine; tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine and pyridine; tetramethylammonium hydroxy And quaternary organic amines such as Of these, tertiary organic amines or quaternary organic amines are preferred as the organic base.
Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine; imidazole compounds such as 2-methylimidazole; organic phosphorus compounds such as diphenylphosphine; quaternary phosphonium salts such as benzyltriphenylphosphonium chloride. Diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7; organometallic compounds such as zinc octylate and tin octylate; quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide In addition to boron compounds such as boron trifluoride; metal halogen compounds such as zinc chloride and stannic chloride; and well-known latent curing accelerators can be used. Of these, quaternary ammonium salts are preferred.
The amount of the catalyst used is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight or less, and still more preferably 0.1 to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer to be reacted with the carboxylic acid. ~ 20 parts by weight.

反応に使用する有機溶媒としては、エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体の合成に使用することができる有機溶媒の例示を適用することができ、中でもエステルであることが好ましい。当該有機溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合)が、0.1重量%以上となる割合で使用することが好ましく、5〜50重量%となる割合で使用することがより好ましい。
エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体とカルボン酸との反応に際し、反応温度は、0〜200℃とすることが好ましく、50〜150℃とすることがより好ましい。反応時間は、0.1〜50時間とすることが好ましく、0.5〜20時間とすることがより好ましい。
As an organic solvent used for reaction, the illustration of the organic solvent which can be used for the synthesis | combination of an epoxy group containing (meth) acrylic-type polymer can be applied, and it is preferable that it is ester especially. The organic solvent is preferably used in such a ratio that the solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is 0.1% by weight or more, It is more preferable to use it at a ratio of 5 to 50% by weight.
In the reaction between the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer and the carboxylic acid, the reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

こうして、(A)重合体としての特定(メタ)アクリル系重合体を含有する溶液を得ることができる。上記重合体組成物を液晶配向剤に適用する場合、この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる(メタ)アクリル系重合体を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離した光配向性(メタ)アクリル系重合体を精製した上で液晶配向剤の調製に供してもよい。(メタ)アクリル系重合体の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。   Thus, a solution containing the specific (meth) acrylic polymer as the polymer (A) can be obtained. When the polymer composition is applied to a liquid crystal aligning agent, this reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, and after isolating the (meth) acrylic polymer contained in the reaction solution. You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, or you may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, after refine | purifying the isolated photo-alignment (meth) acrylic-type polymer. Isolation and purification of the (meth) acrylic polymer can be performed according to a known method.

以上のようにして得られる特定(メタ)アクリル系重合体は、これを濃度10重量%の溶液としたときに、1〜500mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、3〜200mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度(mPa・s)は、当該重合体の良溶媒(例えばN−メチル−2−ピロリドンなど)を用いて調製した濃度10重量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。
特定(メタ)アクリル系重合体について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、形成される液晶配向膜の液晶配向性を良好にするとともに、その液晶配向性の経時的安定性を確保するといった観点から、250〜500,000であることが好ましく、500〜300,000であることがより好ましく、1,000〜200,000であることが更に好ましい。
The specific (meth) acrylic polymer obtained as described above preferably has a solution viscosity of 1 to 500 mPa · s when it is made into a solution having a concentration of 10% by weight, and preferably 3 to 200 mPa · s. More preferably, it has a solution viscosity of s. In addition, the solution viscosity (mPa · s) of the above polymer is an E-type rotation with respect to a polymer solution having a concentration of 10% by weight prepared using a good solvent (for example, N-methyl-2-pyrrolidone) of the polymer. It is a value measured at 25 ° C. using a viscometer.
For the specific (meth) acrylic polymer, the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography improves the liquid crystal alignment of the liquid crystal alignment film to be formed, and the liquid crystal alignment From the viewpoint of ensuring stability over time, it is preferably 250 to 500,000, more preferably 500 to 300,000, and still more preferably 1,000 to 200,000.

[ポリオルガノシロキサン]
(A)重合体としてのポリオルガノシロキサン(以下、「特定ポリオルガノシロキサン」とも称する。)は、例えば、
[1]エポキシ基を有する加水分解性のシラン化合物(ms−1)、又は当該シラン化合物(ms−1)とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合して得られる重合体(以下、「エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン」ともいう。)と、上記式(1)で表される基を有するカルボン酸(特定カルボン酸(C−1))とを反応させる方法、
[2]上記式(1)で表される基を有する加水分解性のシラン化合物、又は当該シラン化合物とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合させる方法、
などを挙げることができる。反応容易な点において、上記[1]の方法が好ましい。
なお、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが、「官能基(Z1)を有する重合体」に相当し、特定カルボン酸(C−1)が、「上記式(1)で表される基を有しかつ官能基(Z1)と反応して結合基を形成可能な基(Z2)を有する化合物」に相当する。
[Polyorganosiloxane]
(A) Polyorganosiloxane as a polymer (hereinafter also referred to as “specific polyorganosiloxane”) is, for example,
[1] Hydrolyzable silane compound having an epoxy group (ms-1) or a polymer obtained by hydrolytic condensation of a mixture of the silane compound (ms-1) and another silane compound (hereinafter referred to as “ An epoxy group-containing polyorganosiloxane ”) and a carboxylic acid having a group represented by the above formula (1) (specific carboxylic acid (C-1)),
[2] A method of hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silane compound having a group represented by the above formula (1), or a mixture of the silane compound and another silane compound,
And so on. In view of easy reaction, the method [1] is preferable.
In addition, the epoxy group-containing polyorganosiloxane corresponds to “a polymer having a functional group (Z1)”, and the specific carboxylic acid (C-1) has “the group represented by the above formula (1) and It corresponds to “a compound having a group (Z2) capable of reacting with the functional group (Z1) to form a bonding group”.

シラン化合物(ms−1)は、エポキシ基を有する加水分解性のシラン化合物である。その具体例としては、例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、2−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、2−グリシドキシエチルジメチルメトキシシラン、2−グリシドキシエチルジメチルエトキシシラン、4−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、4−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、4−グリシドキシブチルメチルジメトキシシラン、4−グリシドキシブチルメチルジエトキシシラン、4−グリシドキシブチルジメチルメトキシシラン、4−グリシドキシブチルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシランなどを挙げることができる。シラン化合物(ms−1)としては、これらのうちの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   The silane compound (ms-1) is a hydrolyzable silane compound having an epoxy group. Specific examples thereof include, for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Glycidoxypropyldimethylmethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, 2-glycidoxyethyldimethylmethoxysilane, 2-glycidoxyethyldimethylethoxysilane, 4- Glycidoxybutyltrimethoxysilane, 4-glycidoxybutyltriethoxysilane, 4-glycidoxybutylmethyldimethoxysilane, 4-glycidoxybutylmethyldiethoxysilane, 4-glycidoxybutyldimethylmethoxysilane, 4 - Sidoxybutyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxy Examples include silane. As the silane compound (ms-1), one of these can be used alone, or two or more can be used in combination.

その他のシラン化合物は、加水分解性を示すシラン化合物である限り特に限定せず、重合体組成物の使用目的等に応じて適宜選択することができる。その他のシラン化合物の具体例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等の炭化水素側鎖含有のアルコキシシラン;
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(3−シクロヘキシルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等の窒素・硫黄原子含有のアルコキシシラン;
3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルトリメトキシシラン、8−(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン等の不飽和炭化水素含有のアルコキシシラン;
などを挙げることができる。なお、上記その他のシラン化合物は、上記のものを1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。本明細書における「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを含む意味である。
Other silane compounds are not particularly limited as long as they are hydrolyzable silane compounds, and can be appropriately selected according to the purpose of use of the polymer composition. Specific examples of other silane compounds include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, trimethoxysilylpropyl succinic anhydride, dimethyldimethoxy Alkoxysilanes containing hydrocarbon side chains such as silane and dimethyldiethoxysilane;
3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxy Alkoxysilanes containing nitrogen and sulfur atoms such as silane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (3-cyclohexylamino) propyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane;
3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, 6- (meth) acryloyloxyhexyltrimethoxysilane, 8- (meth) acryloyloxyoctyltrimethoxysilane, 3- An unsaturated hydrocarbon-containing alkoxysilane such as (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane;
And so on. In addition, the said other silane compound can use said thing individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In the present specification, “(meth) acryloyl” means acryloyl and methacryloyl.

十分な量の光反応性基(R)を重合体の側鎖に導入することを可能にしつつ、エポキシ基が過剰量であることに起因する副反応を抑制する観点において、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンのエポキシ当量は、80〜10,000g/モルであることが好ましく、100〜1,000g/モルであることがより好ましい。したがって、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを合成するにあたっては、シラン化合物(ms−1)とその他のシラン化合物との使用割合を、得られるポリオルガノシロキサンのエポキシ当量が上記範囲となるように調整することが好ましい。 From the viewpoint of suppressing side reactions caused by an excessive amount of epoxy groups while allowing a sufficient amount of photoreactive groups (R 1 ) to be introduced into the side chain of the polymer, The epoxy equivalent of the organosiloxane is preferably 80 to 10,000 g / mol, and more preferably 100 to 1,000 g / mol. Therefore, when synthesizing an epoxy group-containing polyorganosiloxane, the use ratio of the silane compound (ms-1) and other silane compounds should be adjusted so that the epoxy equivalent of the resulting polyorganosiloxane is within the above range. Is preferred.

シラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の1種又は2種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。
加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物(合計量)1モルに対して、好ましくは0.5〜100モルであり、より好ましくは1〜30モルである。
The hydrolysis / condensation reaction of the silane compound is carried out by reacting one or more of the above silane compounds with water, preferably in the presence of an appropriate catalyst and an organic solvent.
In the hydrolysis / condensation reaction, the proportion of water used is preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 30 mol, per 1 mol of the silane compound (total amount).

加水分解・縮合反応の際に使用する触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。
上記触媒の具体例としては、酸として、例えば塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、蓚酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸などを;アルカリ金属化合物として、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドなどを;
有機塩基として、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン:トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン:テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンなどを;それぞれ挙げることができる。有機塩基としては、これらのうち、3級の有機アミン又は4級の有機アミンが好ましい。
上記触媒としては、エポキシ基の開環などの副反応を抑制できる点や、加水分解縮合速度を速くできる点、保存安定性に優れている点などにおいて、これらの中でもアルカリ金属化合物又は有機塩基が好ましく、特に有機塩基が好ましい。
有機塩基の使用量は、有機塩基の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、全シラン化合物に対して、好ましくは0.01〜3倍モルであり、より好ましくは0.05〜1倍モルである。
Examples of the catalyst used in the hydrolysis / condensation reaction include acids, alkali metal compounds, organic bases, titanium compounds, zirconium compounds and the like.
Specific examples of the catalyst include acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, formic acid, succinic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid, acidic ion exchange resins, various Lewis acids, etc .; alkali metal compounds As, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like;
Examples of organic bases include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole: triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diaza And tertiary organic amines such as bicycloundecene: quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide; Of these, tertiary organic amines or quaternary organic amines are preferred as the organic base.
Examples of the catalyst include alkali metal compounds or organic bases, in that side reactions such as ring opening of epoxy groups can be suppressed, hydrolysis condensation rate can be increased, and storage stability is excellent. An organic base is particularly preferable.
The amount of the organic base used varies depending on the reaction conditions such as the type of organic base and temperature, and should be set as appropriate. More preferably, it is 0.05-1 times mole.

加水分解・縮合反応の際に使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができる。それらの具体例としては、炭化水素として、例えばトルエン、キシレンなどを;ケトンとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどを;エステルとして、例えば酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、乳酸エチルなどを;エーテルとして、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを;アルコールとして、例えば1−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルなどを;それぞれ挙げることができる。これらのうち非水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。なお、これらの有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
加水分解縮合反応における有機溶媒の使用割合は、反応に使用する全シラン化合物100重量部に対して、好ましくは10〜10,000重量部であり、より好ましくは50〜1,000重量部である。
Examples of the organic solvent used in the hydrolysis / condensation reaction include hydrocarbons, ketones, esters, ethers, alcohols and the like. Specific examples thereof include hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone; esters such as ethyl acetate. N-butyl acetate, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl lactate and the like; ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like; alcohols; For example, 1-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethyl Glycol mono -n- propyl ether, ethylene glycol monobutyl -n- butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono -n- propyl ether and the like; may be mentioned, respectively. Of these, it is preferable to use a water-insoluble organic solvent. In addition, these organic solvents can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
The use ratio of the organic solvent in the hydrolytic condensation reaction is preferably 10 to 10,000 parts by weight, more preferably 50 to 1,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total silane compounds used in the reaction. .

加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物を有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴などにより加熱して実施することが好ましい。加水分解・縮合反応時には、加熱温度を130℃以下とすることが好ましく、40〜100℃とすることがより好ましい。加熱時間は、0.5〜12時間とすることが好ましく、1〜8時間とすることがより好ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。反応終了後、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水(例えば、0.2重量%程度の硝酸アンモニウム水溶液など)を用いて洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は、洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後、有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブなどの乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができる。   The hydrolysis / condensation reaction is preferably carried out by dissolving the silane compound as described above in an organic solvent, mixing this solution with an organic base and water, and heating the solution with, for example, an oil bath. During the hydrolysis / condensation reaction, the heating temperature is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 40 to 100 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, and more preferably 1 to 8 hours. During heating, the mixture may be stirred or placed under reflux. After completion of the reaction, the organic solvent layer separated from the reaction solution is preferably washed with water. In this washing, washing with water containing a small amount of salt (for example, an aqueous ammonium nitrate solution of about 0.2% by weight) is preferable in that the washing operation is facilitated. Washing is performed until the aqueous layer after washing becomes neutral, and then the organic solvent layer is dried with a desiccant such as anhydrous calcium sulfate or molecular sieve as necessary, and then the solvent is removed to remove the solvent. The polyorganosiloxane can be obtained.

上記[1]の方法では、上記反応により得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、次いで、特定カルボン酸(C−1)と反応させる。これにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基とカルボン酸とが反応して、上記式(1)で表される基を側鎖に有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。この反応に使用するカルボン酸は、特定カルボン酸(C−1)単独であってもよいし、特定カルボン酸(C−1)と共にその他のカルボン酸を使用してもよい。特定カルボン酸(C−1)及びその他のカルボン酸の具体例については、上記特定(メタ)アクリル系重合体の合成に使用した刈るボン酸の説明を適用することができる。   In the method [1], the epoxy group-containing polyorganosiloxane obtained by the above reaction is then reacted with a specific carboxylic acid (C-1). Thereby, the epoxy group which epoxy group-containing polyorganosiloxane has, and carboxylic acid react, and the polyorganosiloxane which has group represented by the said Formula (1) in a side chain can be obtained. The carboxylic acid used in this reaction may be the specific carboxylic acid (C-1) alone, or other carboxylic acid together with the specific carboxylic acid (C-1). About the specific example of specific carboxylic acid (C-1) and other carboxylic acid, the description of the bonic acid to cut used for the synthesis | combination of the said specific (meth) acrylic-type polymer is applicable.

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと反応させるカルボン酸の使用割合は、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計1モルに対して、0.001〜1.5モルとすることが好ましく、0.01〜1.0モルとすることがより好ましい。
また、特定カルボン酸(C−1)の使用割合は、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計1モルに対して、0.01〜0.8モルとすることが好ましい。当該使用割合が0.01モル未満であると、(A)重合体の光に対する感度が低くなりすぎ、0.8モルを超えると、(A)重合体の光感度が高すぎる傾向にある。好ましくは0.03〜0.6モルであり、さらに好ましくは0.05〜0.4モルである。
その他のカルボン酸(C−2)の使用割合は、本発明の効果を十分に得る観点から、特定ポリオルガノシロキサンの合成に使用するカルボン酸の合計量に対して、80モル%以下とすることが好ましく、50モル%以下とすることがより好ましい。
The proportion of the carboxylic acid to be reacted with the epoxy group-containing polyorganosiloxane is preferably 0.001 to 1.5 mol, based on 1 mol of the total epoxy groups of the polyorganosiloxane, 0.01 to 1 More preferably, it is 0.0 mol.
Moreover, it is preferable that the usage-amount of specific carboxylic acid (C-1) shall be 0.01-0.8 mol with respect to 1 mol of total of the epoxy group which polyorganosiloxane has. When the use ratio is less than 0.01 mol, the sensitivity of the (A) polymer to light is too low, and when it exceeds 0.8 mol, the photosensitivity of the (A) polymer tends to be too high. Preferably it is 0.03-0.6 mol, More preferably, it is 0.05-0.4 mol.
The proportion of other carboxylic acid (C-2) used is 80 mol% or less based on the total amount of carboxylic acid used for the synthesis of the specific polyorganosiloxane, from the viewpoint of sufficiently obtaining the effects of the present invention. Is preferable, and it is more preferable to set it as 50 mol% or less.

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応において使用する触媒としては、例えば上記エポキシ基含有(メタ)アクリル系重合体とカルボン酸との反応に使用できる触媒として例示した化合物を挙げることができる。これらの中でも有機塩基が好ましい。触媒の使用割合は、カルボン酸と反応させるポリオルガノシロキサン100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、より好ましくは0.01〜100重量部、更に好ましくは0.1〜20重量部である。
The reaction between the epoxy group-containing polyorganosiloxane and the carboxylic acid can be preferably carried out in the presence of a catalyst and an organic solvent.
Examples of the catalyst used in the reaction between the epoxy group-containing polyorganosiloxane and the carboxylic acid include compounds exemplified as the catalyst that can be used in the reaction between the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer and the carboxylic acid. . Of these, organic bases are preferred. The ratio of the catalyst used is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane to be reacted with the carboxylic acid. is there.

上記反応において使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、アミド、アルコール等を挙げることができる。これらのうち、原料及び生成物の溶解性並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル、ケトンが好ましく、特に好ましい溶媒の具体例として、2−ブタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び酢酸ブチル等を挙げることができる。当該有機溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合)が、0.1重量%以上となる割合で使用することが好ましく、5〜50重量%となる割合で使用することがより好ましい。   Examples of the organic solvent used in the above reaction include hydrocarbons, ethers, esters, ketones, amides, alcohols and the like. Of these, ethers, esters, and ketones are preferred from the viewpoints of solubility of raw materials and products, and ease of purification of the products. Specific examples of particularly preferred solvents include 2-butanone, 2-hexanone, and methylisobutyl. Examples thereof include ketones and butyl acetate. The organic solvent is preferably used in such a ratio that the solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is 0.1% by weight or more, It is more preferable to use it at a ratio of 5 to 50% by weight.

上記反応における反応温度は、好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間であり、より好ましくは0.5〜20時間である。また、反応終了後においては、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。水洗後、有機溶媒層を、必要に応じて適当な乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、上記式(1)で表される基を有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。   The reaction temperature in the above reaction is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. Moreover, after completion | finish of reaction, it is preferable to wash | clean the organic-solvent layer fractionated from the reaction liquid with water. After washing with water, the organic solvent layer is dried with an appropriate desiccant as necessary, and then the solvent is removed to obtain a polyorganosiloxane having a group represented by the above formula (1).

以上のようにして得られる特定ポリオルガノシロキサンは、これを濃度10重量%の溶液としたときに、1〜500mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、3〜200mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度(mPa・s)は、当該重合体の良溶媒(例えばN−メチル−2−ピロリドンなど)を用いて調製した濃度10重量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。
特定ポリオルガノシロキサンについて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、形成される液晶配向膜の液晶配向性を良好にするとともに、その液晶配向性の経時的安定性を確保するといった観点から、1,000〜50,000であることが好ましく、3,000〜30,000であることがより好ましい。
The specific polyorganosiloxane obtained as described above preferably has a solution viscosity of 1 to 500 mPa · s, and a solution of 3 to 200 mPa · s, when this is a 10% by weight solution. More preferably, it has a viscosity. In addition, the solution viscosity (mPa · s) of the above polymer is an E-type rotation with respect to a polymer solution having a concentration of 10% by weight prepared using a good solvent (for example, N-methyl-2-pyrrolidone) of the polymer. It is a value measured at 25 ° C. using a viscometer.
For a specific polyorganosiloxane, the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography improves the liquid crystal alignment of the liquid crystal alignment film to be formed, and the stability over time of the liquid crystal alignment. From the standpoint of ensuring, it is preferably 1,000 to 50,000, more preferably 3,000 to 30,000.

<その他の成分>
上記重合体組成物は(A)重合体を含有するが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。当該重合体組成物に添加してもよいその他の成分としては、例えば、(A)重合体以外のその他の重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ基含有化合物」という。)、官能性シラン化合物、分子内に少なくとも2個の光重合性基を有する化合物(以下「光重合性化合物」ともいう。)等を挙げることができる。
<Other ingredients>
Although the said polymer composition contains the (A) polymer, it may contain the other component as needed. Other components that may be added to the polymer composition include, for example, (A) other polymers other than the polymer, compounds having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as “epoxy group-containing compound”). ), A functional silane compound, a compound having at least two photopolymerizable groups in the molecule (hereinafter also referred to as “photopolymerizable compound”), and the like.

[その他の重合体]
上記その他の重合体は、溶液特性や電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体は、上記式(1)で表される基を有さない重合体であり、その主骨格については特に限定しない。具体的には、例えばポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを主骨格とする重合体を挙げることができる。これらの中でも、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、(メタ)アクリル系重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体であることが好ましい。その他の重合体は、従来公知の方法により合成することができる。
その他の重合体を重合体組成物に配合する場合、その配合割合は、重合体組成物中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、50重量部以下とすることが好ましく、0.1〜40重量部とすることがより好ましく、0.1〜30重量部以下とすることが更に好ましい。
[Other polymers]
The above other polymers can be used for improving solution properties and electrical properties. Such other polymer is a polymer not having the group represented by the above formula (1), and the main skeleton thereof is not particularly limited. Specifically, for example, polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyorganosiloxane, polyester, polyamide, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, poly (meth) acrylate and the like as the main skeleton Can be mentioned. Among these, at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, (meth) acrylic polymer, and polyorganosiloxane is preferable. Other polymers can be synthesized by a conventionally known method.
When other polymers are blended in the polymer composition, the blending ratio is preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight in total of the polymers contained in the polymer composition. It is more preferable to set it as 1-40 weight part, and it is still more preferable to set it as 0.1-30 weight part or less.

[エポキシ基含有化合物]
エポキシ基含有化合物は、重合体組成物を用いて基板上に塗膜を形成する場合に、塗膜における基板表面との接着性や電気特性を向上させるために使用することができる。このようなエポキシ基含有化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミン等を好ましいものとして挙げることができる。その他、エポキシ基含有化合物の例としては、国際公開第2009/096598号記載のエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを用いることができる。
これらエポキシ化合物を重合体組成物に配合する場合、その配合割合は、重合体組成物中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、40重量部以下とすることが好ましく、0.1〜30重量部とすることがより好ましい。
[Epoxy group-containing compound]
The epoxy group-containing compound can be used in order to improve adhesion and electrical properties with the substrate surface in the coating film when a coating film is formed on the substrate using the polymer composition. Examples of such epoxy group-containing compounds include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1 , 6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylylene diene Amine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diamy Diphenylmethane, N, N-diglycidyl - benzylamine, N, N-diglycidyl - aminomethyl cyclohexane, N, N-diglycidyl - may be mentioned as being preferred and cyclohexylamine. In addition, as an example of the epoxy group-containing compound, an epoxy group-containing polyorganosiloxane described in International Publication No. 2009/096598 can be used.
When these epoxy compounds are blended into the polymer composition, the blending ratio is preferably 40 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the polymer composition. More preferably, the content is ˜30 parts by weight.

[官能性シラン化合物]
上記官能性シラン化合物は、重合体組成物を用いて基板上に塗膜を形成する場合に、重合体組成物の印刷性の向上を目的として使用することができる。このような官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、2−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
これら官能性シラン化合物を重合体組成物に配合する場合、その配合割合は、重合体組成物中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、2重量部以下とすることが好ましく、0.02〜0.2重量部とすることがより好ましい。
[Functional silane compounds]
The functional silane compound can be used for the purpose of improving the printability of the polymer composition when a coating film is formed on the substrate using the polymer composition. Examples of such functional silane compounds include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl). ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3- Aminopropyltrimethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-trimethoxysilyl -3,6- Methyl azananoate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 3-glycid And xylpropyltrimethoxysilane.
When these functional silane compounds are blended in the polymer composition, the blending ratio is preferably 2 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the polymer composition. More preferably, the content is 0.02 to 0.2 parts by weight.

[光重合性化合物]
上記光重合性化合物は、液晶表示素子における液晶分子の応答速度や表示特性、長期信頼性などを向上させること等を目的として使用することができる。このような光重合性化合物としては、例えば、分子中に下記式(B−I)
−X11−Y11−X12− (B−I)
(式(B−I)中、X11及びX12は、それぞれ独立に、1,4−フェニレン基又は1,4−シクロへキシレン基であり、Y11は単結合、炭素数1〜4の2価の炭化水素基、−COO−C2n−OCO−(nは1〜10の整数)、酸素原子、硫黄原子又は−COO−である。ただし、X11及びX12は1個又は複数個の炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換されていてもよい。)
で表される2価の基の少なくとも1個と、下記式(B−II)

Figure 2015232109
(式(B−II)中、Rは水素原子又はメチル基であり、Y及びYは、それぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子である。)
で表される1価の基の少なくとも2個とを有する化合物(以下「化合物(W)」ともいう。)などが挙げられる。 [Photopolymerizable compound]
The photopolymerizable compound can be used for the purpose of improving response speed, display characteristics, long-term reliability, etc. of liquid crystal molecules in a liquid crystal display element. As such a photopolymerizable compound, for example, the following formula (BI) in the molecule
-X 11 -Y 11 -X 12 - ( B-I)
(In formula (BI), X 11 and X 12 are each independently a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, and Y 11 is a single bond having 1 to 4 carbon atoms. A divalent hydrocarbon group, —COO—C n H 2n —OCO— (n is an integer of 1 to 10), an oxygen atom, a sulfur atom or —COO—, wherein X 11 and X 12 are one or (It may be substituted with a plurality of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, fluorine atoms or cyano groups.)
At least one of the divalent groups represented by the following formula (B-II):
Figure 2015232109
(In Formula (B-II), R is a hydrogen atom or a methyl group, and Y 2 and Y 3 are each independently an oxygen atom or a sulfur atom.)
And a compound having at least two of the monovalent groups represented by (hereinafter also referred to as “compound (W)”).

上記式(B−I)で表される2価の基としては、例えば4,4’−ビフェニレン基、下記式(B−I−2)〜式(B−I−6)のそれぞれで表される基や、当該基におけるベンゼン環及びシクロヘキサン環の少なくとも1個の水素原子が、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基で置換された基などが挙げられる。

Figure 2015232109
Examples of the divalent group represented by the above formula (BI) include a 4,4′-biphenylene group, and each of the following formulas (BI-2) to (BI-6): A group in which at least one hydrogen atom of a benzene ring and a cyclohexane ring in the group is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine atom, or a cyano group, etc. Is mentioned.
Figure 2015232109

上記式(B−II)中のYは酸素原子であることが好ましい。
上記化合物(W)として具体的には、例えばビフェニル構造を有するジ(メタ)アクリレート、フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ(メタ)アクリレート、2,2−ジフェニルプロパン構造を有するジ(メタ)アクリレート、ジフェニルメタン構造を有するジ(メタ)アクリレート、ジフェニルチオエーテル構造を有するジ−チオ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
化合物(W)の具体例としては、ビフェニル構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4’−(メタ)アクリロイロキシ−ビフェニル−4−イル−(メタ)アクリレート、2−[4’−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−ビフェニル−4−イロキシ]−エチル(メタ)アクリレート、[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジイル ビス(2−(メタ)アクリレート、4−((2−(メタ)アクリロイルオキシ)エトキシ)カルボニル)フェニル 4’−((メタ)アクリロイルオキシ)−[1,1’−ビフェニル]−4−カルボキシレート、4−((メタ)アクリロイルオキシ)フェニル 4’−((4−((メタ)アクリロイルオキシ)ベンゾイル)オキシ)−[1,1’−ビフェニル]−4−カルボキシレート、ビスヒドロキシエトキシビフェニルジ(メタ)アクリレート、2−(2−{4’−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−エトキシ]−ビフェニル−4−イロキシ}−エトキシ)−エチル(メタ)アクリレート、ビフェニルのエチレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビフェニルのプロピレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、2−(4’−(メタ)アクリロイロキシ−ビフェニル−4−イロキシ)−エチル(メタ)アクリレートなどを;
フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−(4−(メタ)アクリロイロキシ−フェニル)−シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−(4−(4−((メタ)アクリロイルオキシ)シクロヘキシル)フェノキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−{4−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−フェニル]−シクロヘキシロキシ}−エチル(メタ)アクリレート、2−[2−(4−{4−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−エトキシ]−フェニル}−シクロヘキシロキシ)−エトキシ]−エチル(メタ)アクリレートなどを;
Y 2 in the above formula (B-II) is preferably an oxygen atom.
Specific examples of the compound (W) include di (meth) acrylate having a biphenyl structure, di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure, di (meth) acrylate having a 2,2-diphenylpropane structure, and diphenylmethane. Examples thereof include di (meth) acrylate having a structure and di-thio (meth) acrylate having a diphenylthioether structure.
Specific examples of the compound (W) include di (meth) acrylates having a biphenyl structure, such as 4 '-(meth) acryloyloxy-biphenyl-4-yl- (meth) acrylate, 2- [4'-(2- (Meth) acryloyloxy-ethoxy) -biphenyl-4-yloxy] -ethyl (meth) acrylate, [1,1′-biphenyl] -4,4′-diyl bis (2- (meth) acrylate, 4-((2 -(Meth) acryloyloxy) ethoxy) carbonyl) phenyl 4 '-((meth) acryloyloxy)-[1,1'-biphenyl] -4-carboxylate, 4-((meth) acryloyloxy) phenyl 4'- ((4-((Meth) acryloyloxy) benzoyl) oxy)-[1,1′-biphenyl] -4-carboxylate, bishydroxyl Ethoxybiphenyl di (meth) acrylate, 2- (2- {4 ′-[2- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -ethoxy] -biphenyl-4-yloxy} -ethoxy) -ethyl (meth) acrylate, Di (meth) acrylate of biphenyl ethylene oxide adduct, di (meth) acrylate of biphenyl propylene oxide adduct, 2- (4 ′-(meth) acryloyloxy-biphenyl-4-iroxy) -ethyl (meth) acrylate, etc. ;
Examples of the di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure include 4- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -cyclohexyl (meth) acrylate, 2- (4- (4-((meth) acryloyloxy) cyclohexyl) Phenoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -phenyl] -cyclohexyloxy} -ethyl (meth) acrylate, 2- [2- (4- {4 -[2- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -ethoxy] -phenyl} -cyclohexyloxy) -ethoxy] -ethyl (meth) acrylate and the like;

2,2−ジフェニルプロパン構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−[1−(4−(メタ)アクリロイロキシ−フェニル)−1−メチル−エチル]−フェニル(メタ)アクリレート、2−(4−{1−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−フェニル]−1−メチル−エチル}−フェノキシ)−エチル(メタ)アクリレート、ビスヒドロキシエトキシ−ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2−{2−[4−(1−{4−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−エトキシ]−フェニル}−1−メチル−エチル)−フェノキシ]−エトキシ}−エチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、2−(4−{1−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−プロポキシ)−フェニル]−1−メチル−エチル}−フェノキシ)−1−メチル−エチル(メタ)アクリレートなどを; Examples of the di (meth) acrylate having a 2,2-diphenylpropane structure include 4- [1- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -1-methyl-ethyl] -phenyl (meth) acrylate, 2- (4 -{1- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) -ethyl (meth) acrylate, bishydroxyethoxy-bisphenol A di (meth) acrylate, 2 -{2- [4- (1- {4- [2- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -ethoxy] -phenyl} -1-methyl-ethyl) -phenoxy] -ethoxy} -ethyl (meth) Acrylate, di (meth) acrylate of bisphenol A ethylene oxide adduct, propylene oxide of bisphenol A Additive di (meth) acrylate, 2- (4- {1- [4- (2- (meth) acryloyloxy-propoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) -1-methyl-ethyl ( Such as meth) acrylate;

ジフェニルメタン構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−(4−(メタ)アクリロイロキシ−ベンジル)−フェニル(メタ)アクリレート、2−{4−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−ベンジル]−フェニル}−エチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFのプロピレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレート、2−[2−(4−{4−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−エトキシ]−ベンジル}−フェノキシ)−エトキシ]−エチル(メタ)アクリレート、2−{4−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−プロポキシ)−ベンジル−フェノキシ}−1−メチル−エチル(メタ)アクリレート、2−[2−(4−{4−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−プロポキシ)−プロポキシ]−ベンジル}−フェノキシ)−1−メチル−エトキシ]−1−メチル−エチルエチル(メタ)アクリレートなどを;
ジフェニルチオエーテル構造を有するジ−チオ(メタ)アクリレートとして、例えば4−(4−チオ(メタ)アクリロイルサルファニル−フェニルサルファニル)−フェニルジチオ(メタ)アクリレート、ビス(4−メタクロイルチオフェニル)スルフィドなどを;
その他の化合物(W)として、例えばペンタン−1,5−ジイル ビス(4−((メタ)アクリロイルオキシ)ベンゾエート、2,5−ビス{4−(3−アクリロイロキシ−プロポキシ)−安息香酸}トルエンなどを、それぞれ挙げることができる。
Examples of the di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure include 4- (4- (meth) acryloyloxy-benzyl) -phenyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy)- Benzyl] -phenyl} -ethyl (meth) acrylate, di (meth) acrylate of ethylene oxide adduct of bisphenol F, di (meth) acrylate of propylene oxide adduct of bisphenol F, 2- [2- (4- {4- [2- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -ethoxy] -benzyl} -phenoxy) -ethoxy] -ethyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-propoxy) -Benzyl-phenoxy} -1-methyl-ethyl (meth) acrylate, 2 [2- (4- {4- [2- (2- (meth) acryloyloxy-propoxy) -propoxy] -benzyl} -phenoxy) -1-methyl-ethoxy] -1-methyl-ethylethyl (meth) acrylate, etc. ;
Examples of the di-thio (meth) acrylate having a diphenylthioether structure include 4- (4-thio (meth) acryloylsulfanyl-phenylsulfanyl) -phenyldithio (meth) acrylate, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide Etc .;
As other compounds (W), for example, pentane-1,5-diyl bis (4-((meth) acryloyloxy) benzoate, 2,5-bis {4- (3-acryloyloxy-propoxy) -benzoic acid} toluene, etc. Can be mentioned respectively.

化合物(W)は、有機化学の定法を適宜に組み合わせることにより合成することができるほか、市販品として入手することができる。化合物(W)の市販品としては、例えばビスヒドロキシエトキシBPジアクリレート、ビスヒドロキシエトキシBis−Aジアクリレート(本州化学工業(株)製);アロニックスM−208、M−210(東亞合成(株)製);SR−349、SR−601,SR−602(サートマー社製);KAYARAD R−712、R−551(日本化薬(株)製);NKエステルBPE−100、NKエステルBPE−200、NKエステルBPE−500、NKエステルBPE−1300、NKエステルA−BPE−4(新中村化学工業(株)製);Actilane420(日本シイベルヘグナー(株)製);ライトエステルBP−2EM、ライトアクリレートBP−4EA、ライトアクリレートBP−4PA、エポキシエステル3000M、エポキシエステル3000A(共栄社化学(株)製);V#540、V#700(大阪有機化学工業(株)製);FA−321M(日立化成工業(株)製);MPSMA(住友精化社製);リポキシVR−77(昭和高分子(株)製)などを挙げることができる。   Compound (W) can be synthesized by combining organic chemistry methods as appropriate, or can be obtained as a commercial product. Examples of commercially available compounds (W) include bishydroxyethoxy BP diacrylate, bishydroxyethoxy Bis-A diacrylate (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.); Aronix M-208, M-210 (Toagosei Co., Ltd.) SR-349, SR-601, SR-602 (manufactured by Sartomer); KAYARAD R-712, R-551 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); NK ester BPE-100, NK ester BPE-200, NK ester BPE-500, NK ester BPE-1300, NK ester A-BPE-4 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.); Actilane 420 (manufactured by Nippon Shibel Hegner Co., Ltd.); light ester BP-2EM, light acrylate BP- 4EA, light acrylate BP-4PA, epoxy ester 3000 , Epoxy ester 3000A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); V # 540, V # 700 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.); FA-321M (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.); MPSMA (Sumitomo Seika Co., Ltd.) Lipoxy VR-77 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) and the like.

光重合性化合物を重合体組成物に配合する場合、その配合割合は、重合体組成物中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、1〜100重量部とすることが好ましく、5〜50重量部とすることがより好ましい。化合物(W)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   When the photopolymerizable compound is blended in the polymer composition, the blending ratio is preferably 1 to 100 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the polymer composition. More preferably, it is made into 50 weight part. A compound (W) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

なお、その他の成分としては、上記のほか、分子内に少なくとも一つのオキセタニル基を有する化合物や酸化防止剤、界面活性剤、金属キレート剤、光増感剤、帯電防止剤などを挙げることができる。   In addition to the above, examples of other components include compounds having at least one oxetanyl group in the molecule, antioxidants, surfactants, metal chelating agents, photosensitizers, antistatic agents, and the like. .

<(B)有機溶媒>
本発明の重合体組成物は、上記の(A)重合体及び必要に応じて使用されるその他の成分が、適当な溶剤中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
<(B) Organic solvent>
The polymer composition of the present invention is prepared as a liquid composition in which the above-mentioned polymer (A) and other components used as necessary are dispersed or dissolved in an appropriate solvent.

使用する有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を挙げることができる。これらは、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the organic solvent to be used include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, Ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether , Ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Recall diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc. be able to. These can be used alone or in admixture of two or more.

本発明の重合体組成物における固形分濃度(重合体組成物の溶媒以外の成分の合計重量が、重合体組成物の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。本発明の重合体組成物を液晶配向剤の用途とする場合、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより、液晶配向膜である塗膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、固形分濃度が1重量%未満である場合には、塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜が得にくくなる。一方、固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜が得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布性が低下する傾向にある。   The solid content concentration in the polymer composition of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the polymer composition to the total weight of the polymer composition) is appropriately determined in consideration of viscosity, volatility, and the like. Although selected, it is preferably in the range of 1 to 10% by weight. When the polymer composition of the present invention is used as a liquid crystal aligning agent, it is applied to a substrate surface as described later, and preferably a film that is a liquid crystal alignment film or a liquid crystal alignment film when heated. Is formed. At this time, when the solid content concentration is less than 1% by weight, the film thickness of the coating film becomes too small, and it becomes difficult to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by weight, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film because the film thickness is excessive, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent increases and the applicability decreases. There is a tendency.

特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法により基板に塗布する場合には、固形分濃度(液晶配向剤中の溶媒以外の全成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)が1.5〜4.5重量%の範囲であることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それにより溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。上記重合体組成物を調製する際の温度は、好ましくは10〜50℃であり、より好ましくは20〜30℃である。   The particularly preferable range of the solid content concentration varies depending on the method used when the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate. For example, when applied to a substrate by the spinner method, the solid content concentration (the ratio of the total weight of all components other than the solvent in the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is 1.5 to 4.5% by weight. It is particularly preferable that the range is In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 9% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 1 to 5% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s. The temperature at the time of preparing the polymer composition is preferably 10 to 50 ° C, more preferably 20 to 30 ° C.

本発明の重合体組成物は、例えば位相差膜、偏光子、反射防止膜、選択反射膜、色補償膜、視野角補償膜、液晶配向膜、カラーフィルタ等の種々の用途に使用することができる。中でも、液晶表示素子の液晶配向膜形成用の樹脂組成物(液晶配向剤)として好適である。   The polymer composition of the present invention can be used for various applications such as a retardation film, a polarizer, an antireflection film, a selective reflection film, a color compensation film, a viewing angle compensation film, a liquid crystal alignment film, and a color filter. it can. Especially, it is suitable as a resin composition (liquid crystal aligning agent) for liquid crystal aligning film formation of a liquid crystal display element.

<液晶表示素子>
本発明の液晶表示素子は、上記重合体組成物を液晶配向剤として用いて形成された液晶配向膜を具備するものである。本発明の液晶表示素子の動作モードは特に限定せず、例えばTN型、STN型、VA型(VA−MVA型、VA−PVA型などを含む。)、IPS型、FFS型、OCB型など種々の動作モードに適用することができる。
<Liquid crystal display element>
The liquid crystal display element of this invention comprises the liquid crystal aligning film formed using the said polymer composition as a liquid crystal aligning agent. The operation mode of the liquid crystal display element of the present invention is not particularly limited. For example, TN type, STN type, VA type (including VA-MVA type, VA-PVA type, etc.), IPS type, FFS type, OCB type, etc. It can be applied to the operation mode.

上記液晶表示素子は、例えば以下の工程(1)〜(3)
(1)導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に上記重合体組成物を塗布して塗膜を形成する工程、
(2)塗膜を形成した一対の基板を、液晶層を介して該塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する工程、
(3)一対の基板における導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する工程、
を含む方法により製造することができる。工程(1)は、所望の動作モードによって使用する基板が異なる。工程(2)及び工程(3)は各動作モード共通である。
The liquid crystal display element includes, for example, the following steps (1) to (3).
(1) A step of forming a coating film by applying the polymer composition on the conductive film of a pair of substrates having a conductive film;
(2) A step of constructing a liquid crystal cell by arranging a pair of substrates on which a coating film is formed so as to face each other with the coating film facing each other through a liquid crystal layer,
(3) A step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films on the pair of substrates.
It can manufacture by the method containing. In the step (1), a substrate to be used differs depending on a desired operation mode. Step (2) and step (3) are common to each operation mode.

[工程(1):塗膜の形成]
先ず、基板上に本発明の重合体組成物を塗布し、次いで塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。
(1−1)例えばTN型、STN型又はVA型の液晶表示素子を製造する場合、まず、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、上記重合体組成物を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In−SnO)からなるITO膜などを用いることができる。パターニングされた透明導電膜を得るには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後、フォト・エッチングによりパターンを形成する方法;透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法;などによることができる。重合体組成物の塗布に際しては、基板表面及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板表面のうち塗膜を形成する面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などを予め塗布する前処理を施しておいてもよい。
[Step (1): Formation of coating film]
First, the polymer composition of the present invention is applied on a substrate, and then the coated surface is heated to form a coating film on the substrate.
(1-1) For example, when manufacturing a TN type, STN type, or VA type liquid crystal display element, first, a pair of two substrates on which a patterned transparent conductive film is provided, and each transparent conductive film is formed. On the surface, the polymer composition is preferably applied by an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method or an ink jet printing method, respectively. As the substrate, for example, glass such as float glass or soda glass; a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, poly (cycloaliphatic olefin) can be used. As a transparent conductive film provided on one surface of the substrate, an NESA film (registered trademark of PPG, USA) made of tin oxide (SnO 2 ), an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 —SnO 2 ), etc. Can be used. In order to obtain a patterned transparent conductive film, for example, after forming a transparent conductive film without a pattern, a method of forming a pattern by photo-etching; a method of using a mask having a desired pattern when forming a transparent conductive film; And so on. In applying the polymer composition, in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound or functional titanium is formed on the surface of the substrate surface on which the coating film is formed. You may give the pretreatment which apply | coats a compound etc. previously.

重合体組成物を塗布した後、塗布した重合体組成物の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30〜200℃であり、より好ましくは40〜150℃であり、特に好ましくは40〜100℃である。プレベーク時間は、好ましくは0.25〜10分であり、より好ましくは0.5〜5分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。このときの焼成温度(ポストベーク温度)は、好ましくは80〜300℃であり、より好ましくは120〜250℃である。ポストベーク時間は、好ましくは5〜200分であり、より好ましくは10〜100分である。このようにして形成される膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。   After applying the polymer composition, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing dripping of the applied polymer composition. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 40 to 150 ° C, and particularly preferably 40 to 100 ° C. The pre-bake time is preferably 0.25 to 10 minutes, and more preferably 0.5 to 5 minutes. Then, a baking (post-baking) process is implemented for the purpose of removing a solvent completely and heat imidating the amic acid structure which exists in a polymer as needed. The firing temperature (post-bake temperature) at this time is preferably 80 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C. The post-bake time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The thickness of the film thus formed is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm.

(1−2)IPS型又はFFS型の液晶表示素子を製造する場合、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板の電極形成面と、電極が設けられていない対向基板の一面とに、上記重合体組成物をそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。このとき使用される基板及び透明導電膜の材質、塗布方法、塗布後の加熱条件、透明導電膜又は金属膜のパターニング方法、基板の前処理、並びに形成される塗膜の好ましい膜厚については上記(1−1)と同様である。金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。   (1-2) In the case of manufacturing an IPS type or FFS type liquid crystal display element, an electrode forming surface of a substrate provided with an electrode made of a transparent conductive film or a metal film patterned in a comb shape, and an electrode are provided. The polymer composition is applied to one surface of the counter substrate that is not coated, and then the coated surface is formed by heating each coated surface. Regarding the material used for the substrate and the transparent conductive film, the coating method, the heating conditions after coating, the patterning method for the transparent conductive film or the metal film, the pretreatment of the substrate, and the preferred film thickness of the coating film to be formed The same as (1-1). As the metal film, for example, a film made of a metal such as chromium can be used.

上記(1−1)及び(1−2)のいずれの場合も、基板上に重合体組成物を塗布した後、有機溶媒を除去することによって液晶配向膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、塗膜形成後に更に加熱することによって、上記重合体組成物に配合されるポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドの脱水閉環反応を進行させ、よりイミド化された塗膜としてもよい。   In both cases (1-1) and (1-2), after applying the polymer composition on the substrate, the organic solvent is removed to form a liquid crystal alignment film or a coating film that becomes a liquid crystal alignment film. Is done. At this time, by further heating after the coating film is formed, a dehydration ring-closing reaction of the polyamic acid, polyamic acid ester and polyimide compounded in the polymer composition may be advanced to obtain a more imidized coating film.

TN型、STN型、IPS型又はFFS型の液晶表示素子を製造する場合、上記工程(1)で形成した塗膜に液晶配向能を付与する処理を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。一方、VA型液晶表示素子を製造する場合には、上記工程(1)で形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、該塗膜に対し配向能付与処理を施してもよい。配向能付与処理としては、塗膜を例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理などが挙げられる。   When manufacturing a TN type, STN type, IPS type, or FFS type liquid crystal display element, the process which provides liquid crystal aligning ability to the coating film formed at the said process (1) is implemented. Thereby, the orientation ability of liquid crystal molecules is imparted to the coating film to form a liquid crystal orientation film. On the other hand, when manufacturing a VA type liquid crystal display element, the coating film formed in the above step (1) can be used as it is as a liquid crystal alignment film, but even if the coating film is subjected to alignment ability imparting treatment. Good. Examples of the orientation ability imparting treatment include rubbing treatment in which the coating film is rubbed in a certain direction with a roll wound with a cloth made of fibers such as nylon, rayon, and cotton.

なお、ラビング処理後の液晶配向膜に対して更に、液晶配向膜の一部に紫外線を照射することによって液晶配向膜の一部の領域のプレチルト角を変化させる処理や、液晶配向膜表面の一部にレジスト膜を形成した上で先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去する処理を行い、液晶配向膜が領域ごとに異なる液晶配向能を持つようにしてもよい。この場合、得られる液晶表示素子の視界特性を改善することが可能である。VA型の液晶表示素子に好適な液晶配向膜は、PSA(Polymer sustained alignment)型の液晶表示素子にも好適に用いることができる。   In addition, the liquid crystal alignment film after the rubbing treatment is further subjected to a process for changing the pretilt angle of a part of the liquid crystal alignment film by irradiating a part of the liquid crystal alignment film with ultraviolet rays or a surface of the liquid crystal alignment film. A resist film is formed on the part, and a rubbing process is performed in a direction different from the previous rubbing process, followed by a process of removing the resist film, so that the liquid crystal alignment film has different liquid crystal alignment capabilities for each region. . In this case, it is possible to improve the visibility characteristics of the obtained liquid crystal display element. A liquid crystal alignment film suitable for a VA liquid crystal display element can also be suitably used for a PSA (Polymer sustained alignment) type liquid crystal display element.

[工程(2):液晶セルの構築]
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、対向配置した2枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール材を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール材により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。また、第二の方法は、ODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板の全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール材を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき、さらに、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。
[Step (2): Construction of liquid crystal cell]
Two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed as described above are prepared, and a liquid crystal cell is manufactured by disposing a liquid crystal between the two substrates disposed to face each other. In order to manufacture a liquid crystal cell, the following two methods are mentioned, for example. The first method is a conventionally known method. First, two substrates are arranged to face each other through a gap (cell gap) so that the respective liquid crystal alignment films are opposed to each other, and the peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealing material. A liquid crystal cell can be manufactured by injecting and filling liquid crystal into the cell gap partitioned by the step, and then sealing the injection hole. The second method is a method called an ODF (One Drop Fill) method. For example, an ultraviolet light curable sealant is applied to a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and liquid crystal is dropped at predetermined locations on the liquid crystal alignment film surface. After that, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces, and the liquid crystal is spread over the entire surface of the substrate, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the sealing material, thereby manufacturing a liquid crystal cell. can do. Regardless of which method is used, the liquid crystal cell produced as described above is further heated to a temperature at which the liquid crystal used takes an isotropic phase and then gradually cooled to room temperature. It is desirable to remove.

シール材としては、液晶用の接着剤として通常使用されるものを用いることができ、例えば硬化剤を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。また、シール材としては、スペーサーとしての酸化アルミニウム球を更に含有するものを用いてもよい。
液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液晶;商品名「C−15」、「CB−15」(メルク社製)として販売されているようなカイラル剤;p−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶などを、添加して使用してもよい。
As a sealing material, what is normally used as an adhesive agent for liquid crystals can be used, for example, an epoxy resin containing a curing agent can be used. Moreover, as the sealing material, a material further containing aluminum oxide spheres as a spacer may be used.
Examples of the liquid crystal include nematic liquid crystal and smectic liquid crystal. Among them, nematic liquid crystal is preferable. For example, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, phenylcyclohexane liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl liquid crystal, biphenyl. Cyclohexane liquid crystals, pyrimidine liquid crystals, dioxane liquid crystals, bicyclooctane liquid crystals, cubane liquid crystals, and the like can be used. Further, cholesteric liquid crystals such as cholestyl chloride, cholesteryl nonate, and cholesteryl carbonate; chiral agents such as those sold under the trade names “C-15” and “CB-15” (manufactured by Merck & Co., Inc.). A ferroelectric liquid crystal such as p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutylcinnamate may be added and used.

[工程(3):光照射工程]
液晶セルの構築後、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する。ここで印加する電圧は、例えば5〜50Vの直流又は交流とすることができる。また、照射する光としては、例えば150〜800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、300〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーなどを使用することができる。なお、上記の好ましい波長領域の紫外線は、光源を、例えばフィルター回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量としては、好ましくは1,000〜200,000J/mであり、より好ましくは1,000〜100,000J/mである。
[Step (3): Light irradiation step]
After the construction of the liquid crystal cell, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates. The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V direct current or alternating current. Moreover, as light to irradiate, the ultraviolet-ray and visible light which contain light with a wavelength of 150-800 nm can be used, for example, However, The ultraviolet-ray containing light with a wavelength of 300-400 nm is preferable. As a light source of irradiation light, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, or the like can be used. In addition, the ultraviolet rays in the above preferable wavelength region can be obtained by means of using a light source in combination with, for example, a filter diffraction grating. The irradiation dose of light, preferably 1,000~200,000J / m 2, more preferably from 1,000~100,000J / m 2.

そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。   And the liquid crystal display element of this invention can be obtained by bonding a polarizing plate on the outer surface of a liquid crystal cell. As a polarizing plate to be bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, a polarizing film or an H film itself in which a polarizing film called an “H film” in which iodine is absorbed while stretching and aligning polyvinyl alcohol is sandwiched between cellulose acetate protective films The polarizing plate which consists of can be mentioned.

本発明の液晶表示素子は、種々の装置に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、PDA、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置に用いることができる。   The liquid crystal display element of the present invention can be effectively applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, PDAs, digital cameras, mobile phones, smartphones, The present invention can be used for various display devices such as various monitors, liquid crystal televisions, and information displays.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

以下の実施例及び合成例において、重合体の重量平均分子量Mw、イミド化率、及び重合体溶液の溶液粘度は以下の方法により測定した。なお、以下では、式Xで表される化合物を単に「化合物X」と記すことがある。
[重合体の重量平均分子量Mw]
Mwは、以下の条件におけるGPCにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm
[重合体のイミド化率]
ポリイミドを含有する溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH−NMRを測定した。得られたH−NMRスペクトルから、下記数式(1)を用いてイミド化率を求めた。
イミド化率(%)=(1−A/A×α)×100 …(1)
(数式(1)中、Aは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Aはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
[重合体溶液の溶液粘度]
重合体溶液の溶液粘度[mPa・s]は、所定の溶媒を用い、重合体濃度10重量%に調製した溶液について、E型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
In the following Examples and Synthesis Examples, the weight average molecular weight Mw of the polymer, the imidization rate, and the solution viscosity of the polymer solution were measured by the following methods. Hereinafter, the compound represented by Formula X may be simply referred to as “Compound X”.
[Weight average molecular weight Mw of polymer]
Mw is a polystyrene equivalent value measured by GPC under the following conditions.
Column: Tosoh Co., Ltd., TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
[Imidation rate of polymer]
A solution containing polyimide is poured into pure water, and the resulting precipitate is sufficiently dried at room temperature under reduced pressure, then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR is measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance. did. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidation ratio was determined using the following mathematical formula (1).
Imidation ratio (%) = (1-A 1 / A 2 × α) × 100 (1)
(In Formula (1), A 1 is a peak area derived from protons of NH groups appearing near a chemical shift of 10 ppm, A 2 is a peak area derived from other protons, and α is a precursor of a polymer (polyamic acid). The number ratio of other protons to one proton of NH group in)
[Solution viscosity of polymer solution]
The solution viscosity [mPa · s] of the polymer solution was measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer for a solution prepared to a polymer concentration of 10% by weight using a predetermined solvent.

<カルボン酸の合成例>
[合成例1]
スキーム1のように化合物(X−1)を合成した。

Figure 2015232109
<Synthesis example of carboxylic acid>
[Synthesis Example 1]
Compound (X-1) was synthesized as in Scheme 1.
Figure 2015232109

・化合物(X−1a)の合成
セプタムを備えた5Lの三口フラスコに、6−ブロモヘキサン酸を195g、塩化メチレン2Lを入れて撹拌した。イソブテンガス1kgをバブリングしながら系中に導入し、反応させた。イソブテンガスの流量は1kg/2hとした。その後、1時間撹拌した後、12時間静置させた。窒素置換後、イオン交換樹脂(アンバーライトIRA-67、オルガノ株式会社製)2.5Lに反応溶液を流し込み、3時間撹拌させた。ろ過によりイオン交換樹脂を除去した後にろ液を濃縮することで化合物(X−1a)の無色液体126gを得た。
・化合物(X−1b)の合成
還流管および温度計を備えた5Lの三口フラスコに、化合物(X−1a)126g、炭酸カリウム82.9g、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール1.3g、N,N−ジメチルアセトアミド2Lおよびメタクリル酸258gを加えて100℃で2時間反応させた。反応終了後、シクロヘキサンを2L加え、水で1回、飽和炭酸ナトリウム水で2回、再び水で2回分液洗浄を行った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、300mLまで減圧濃縮した。次に、シリカカラムにて精製(展開溶剤はヘキサン:酢酸エチル(重量比)=9:1)した後、減圧濃縮により化合物(X−1b)の無色液体を64g得た。
・化合物(X−1)の合成
1Lのナスフラスコに化合物(X−1b)64g、塩化メチレン300mLおよびトリフルオロ酢酸150gを加えて室温で2時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮し、シクロヘキサン300mLを加えて水で10回分液洗浄を行った後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮、真空乾燥することで化合物(X−1)の無色液体を45g得た。
Synthesis of Compound (X-1a) 195 g of 6-bromohexanoic acid and 2 L of methylene chloride were placed in a 5 L three-necked flask equipped with a septum and stirred. 1 kg of isobutene gas was introduced into the system while bubbling and allowed to react. The flow rate of isobutene gas was 1 kg / 2h. Then, after stirring for 1 hour, it was left still for 12 hours. After nitrogen substitution, the reaction solution was poured into 2.5 L of an ion exchange resin (Amberlite IRA-67, manufactured by Organo Corporation) and stirred for 3 hours. After removing the ion exchange resin by filtration, the filtrate was concentrated to obtain 126 g of a colorless liquid of compound (X-1a).
Synthesis of compound (X-1b) In a 5 L three-necked flask equipped with a reflux tube and a thermometer, 126 g of compound (X-1a), 82.9 g of potassium carbonate, 1.3 g of 2,6-di-t-butylcresol , 2 L of N, N-dimethylacetamide and 258 g of methacrylic acid were added and reacted at 100 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 2 L of cyclohexane was added, and the mixture was washed once with water, twice with saturated aqueous sodium carbonate, and twice with water, then dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to 300 mL. Next, after purification with a silica column (developing solvent: hexane: ethyl acetate (weight ratio) = 9: 1), 64 g of a colorless liquid of compound (X-1b) was obtained by concentration under reduced pressure.
-Synthesis | combination of compound (X-1) 64 g of compounds (X-1b), 300 mL of methylene chloride, and 150 g of trifluoroacetic acid were added to the 1 L eggplant flask, and it was made to react at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, added with 300 mL of cyclohexane, washed with water 10 times, dried over magnesium sulfate, concentrated, and dried under vacuum to obtain 45 g of a colorless liquid of compound (X-1).

[合成例2]
スキーム2のように化合物(A−1−1−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 2]
Compound (A-1-1-1) was synthesized as in Scheme 2.
Figure 2015232109

還流管を備えた500mLのナスフラスコに、化合物(X−1)20g、塩化チオニル200mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.1gを加えて1時間還流した。反応終了後、減圧濃縮にて塩化チオニルを留去し、塩化メチレン100mLを加えた(この溶液を「A1液」とする。)。一方、滴下ロート、温度計を備えた300mL三口フラスコに、水酸化ナトリウム6.0g、3,4−ジヒドロキシ安息香酸7.7g、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール0.02gおよび水60mLを加えて、氷冷した。次に、先に調製したA1液を氷冷下で3時間かけて滴下し、室温でさらに1時間反応させた。反応終了後、濾過により白色沈殿を回収し、酢酸エチル300mLおよび1M塩酸水を300mL加え、水で3回分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エタノールを加えて減圧濃縮して生じた白色結晶をろ過、乾燥することで化合物(A−1−1−1)を15.5g得た。   To a 500 mL eggplant flask equipped with a reflux tube, 20 g of compound (X-1), 200 mL of thionyl chloride and 0.1 g of N, N-dimethylformamide were added and refluxed for 1 hour. After completion of the reaction, thionyl chloride was distilled off by concentration under reduced pressure, and 100 mL of methylene chloride was added (this solution is referred to as “A1 solution”). Meanwhile, in a 300 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel and a thermometer, 6.0 g of sodium hydroxide, 7.7 g of 3,4-dihydroxybenzoic acid, 0.02 g of 2,6-di-t-butylcresol and 60 mL of water were added. In addition, it was ice-cooled. Next, the previously prepared A1 solution was added dropwise over 3 hours under ice cooling, and the mixture was further reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, a white precipitate was collected by filtration, added with 300 mL of ethyl acetate and 300 mL of 1M hydrochloric acid, washed with water three times, dried over magnesium sulfate, added with ethanol, and concentrated under reduced pressure to yield white crystals 15.5g of compounds (A-1-1-1) were obtained by filtering and drying.

[合成例3]
スキーム3のように化合物(A−1−3−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 3]
Compound (A-1-3-1) was synthesized as in Scheme 3.
Figure 2015232109

還流管を備えた200mLのナスフラスコに化合物(X−1)6g、塩化チオニル60mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.03gを加えて1時間還流した。反応終了後、減圧濃縮にて塩化チオニルを留去し、塩化メチレン30mLを加えた(この溶液を「A2液」とする。)。一方、滴下ロートおよび温度計を備えた100mL三口フラスコに、水酸化ナトリウム1.6g、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸1.7g、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール0.01gおよび水20mLを加えて、氷冷した。次に、先に調製したA2液を氷冷下で3時間かけて滴下し、室温でさらに1時間反応させた。反応終了後、濾過により白色沈殿を回収し、酢酸エチル300mLおよび1M塩酸水を300mL加え、水で3回分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、10mLまで減圧濃縮した。次に、シリカカラム(展開溶剤はヘキサン:酢酸エチル(重量比)=8:2)で精製し、エタノールを加えて減圧濃縮して生じた白色結晶をろ過、乾燥することで化合物(A−1−3−1)を2.9g得た。   To a 200 mL eggplant flask equipped with a reflux tube, 6 g of compound (X-1), 60 mL of thionyl chloride and 0.03 g of N, N-dimethylformamide were added and refluxed for 1 hour. After completion of the reaction, thionyl chloride was removed by concentration under reduced pressure, and 30 mL of methylene chloride was added (this solution is referred to as “A2 solution”). Meanwhile, in a 100 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel and a thermometer, 1.6 g of sodium hydroxide, 1.7 g of 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, 0.01 g of 2,6-di-t-butylcresol and 20 mL of water was added and cooled with ice. Next, the previously prepared A2 solution was added dropwise over 3 hours under ice cooling, and the mixture was further reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, a white precipitate was collected by filtration, 300 mL of ethyl acetate and 300 mL of 1M aqueous hydrochloric acid were added, and the mixture was washed three times with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to 10 mL. Next, it is purified with a silica column (developing solvent is hexane: ethyl acetate (weight ratio) = 8: 2), ethanol is added and concentrated under reduced pressure, and the resulting white crystals are filtered and dried to give compound (A-1 2.9 g of 3-1) was obtained.

[合成例4]
スキーム4のように化合物(A−3−1−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 4]
Compound (A-3-1-1) was synthesized as in Scheme 4.
Figure 2015232109

還流管を備えた200mLのナスフラスコに、化合物(X−2)6g、塩化チオニル60mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.03gを加えて1時間還流した。反応終了後、減圧濃縮にて塩化チオニルを留去し、塩化メチレン30mLを加えた(この溶液を「A3液」とする。)。一方、滴下ロート、温度計を備えた100mL三口フラスコに水酸化ナトリウム1.6g、3,4−ジヒドロキシ安息香酸2.5g、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール0.01gおよび水20mLを加えて氷冷した。次に、先に調製したA3液を氷冷下で3時間かけて滴下し、室温でさらに1時間反応させた。反応終了後、濾過により白色沈殿を回収し、酢酸エチル300mLおよび1M塩酸水を300mL加え、水で3回分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、10mLまで減圧濃縮した。次に、シリカカラム(展開溶剤はヘキサン:酢酸エチル(重量比)=8:2)で精製し、エタノールを加えて減圧濃縮して生じた白色結晶をろ過、乾燥することで化合物(A−3−1−1)を2.9g得た。   To a 200 mL eggplant flask equipped with a reflux tube, 6 g of compound (X-2), 60 mL of thionyl chloride and 0.03 g of N, N-dimethylformamide were added and refluxed for 1 hour. After completion of the reaction, thionyl chloride was distilled off by concentration under reduced pressure, and 30 mL of methylene chloride was added (this solution is referred to as “A3 solution”). On the other hand, 1.6 g of sodium hydroxide, 2.5 g of 3,4-dihydroxybenzoic acid, 0.01 g of 2,6-di-t-butylcresol and 20 mL of water were added to a 100 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel and a thermometer. And ice-cooled. Next, the previously prepared A3 solution was added dropwise over 3 hours under ice cooling, and the mixture was further reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, a white precipitate was collected by filtration, 300 mL of ethyl acetate and 300 mL of 1M aqueous hydrochloric acid were added, and the mixture was washed three times with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to 10 mL. Next, it is purified with a silica column (developing solvent is hexane: ethyl acetate (weight ratio) = 8: 2), ethanol is added and concentrated under reduced pressure, and the resulting white crystals are filtered and dried to give compound (A-3 As a result, 2.9 g of (1-1) was obtained.

[合成例5]
スキーム5のように化合物(A−5−1−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 5]
Compound (A-5-1-1) was synthesized as in Scheme 5.
Figure 2015232109

滴下ロートおよび温度計を備えた500mL三口フラスコに、水酸化ナトリウム9.6g、3,4−ジヒドロキシ安息香酸12.4g、2,6−ジ−t−ブチルクレゾール0.02gおよび水120mLを加え氷冷した。次に、塩化メタクリロイル16.8gを160mLの塩化メチレンに溶かした溶液を氷冷下で3時間かけて滴下し、室温でさらに1時間反応させた。反応終了後、濾過により白色沈殿を回収し、テトラヒドロフラン200mL、酢酸エチル400mLおよび1M塩酸水を500mL加え、水で3回分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エタノールを加えて減圧濃縮して生じた白色結晶をろ過、乾燥することで化合物(A−5−1−1)を11.6g得た。   To a 500 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel and a thermometer, 9.6 g of sodium hydroxide, 12.4 g of 3,4-dihydroxybenzoic acid, 0.02 g of 2,6-di-t-butylcresol and 120 mL of water were added and iced. Chilled. Next, a solution of 16.8 g of methacryloyl chloride dissolved in 160 mL of methylene chloride was added dropwise over 3 hours under ice-cooling, and the mixture was further reacted at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, a white precipitate was recovered by filtration, and 200 mL of tetrahydrofuran, 400 mL of ethyl acetate and 500 mL of 1M hydrochloric acid water were added, and the mixture was washed three times with water, then dried over magnesium sulfate, and ethanol was added to concentrate under reduced pressure. The white crystals were filtered and dried to obtain 11.6 g of compound (A-5-1-1).

<特定ジアミンの合成例> <Synthesis example of specific diamine>

[合成例6]
下記スキーム6のように化合物(B−1−1−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 6]
Compound (B-1-1-1) was synthesized as shown in Scheme 6 below.
Figure 2015232109

・化合物(B−1−1a)の合成
温度計を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(A−5−1−1)5.8g、2,4−ジニトロフェネチルアルコール4.2g、および塩化メチレン100mLを加えて氷冷した。次に、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩4.6gおよびN,N−ジメチルアミノピリジン0.24gを加えて、氷冷下で2時間、室温で一昼夜反応させた。反応終了後、酢酸エチル200mLおよびTHF200mLを加えて希塩酸で1回、水で3回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。次に、エタノールを加えて減圧濃縮して析出した淡黄色結晶をろ過、乾燥することで化合物(B−1−1a)を7.8g得た。
・化合物(B−1−1−1)の合成
窒素導入管および温度計を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(B−1−1a)7.8g、亜鉛21g、塩化アンモニウム3.4g、テトラヒドロフラン80mLおよびエタノール20mLを加えて氷冷した後、水8mLをゆっくり加え、室温で3時間反応させた。反応終了後、濾過により亜鉛を除去し、得られたろ液に酢酸エチル80mLを加えて水で3回分液洗浄し、エタノールを加えて減圧濃縮することで化合物(B−1−1−1)の淡褐色結晶を5.4g得た。
Synthesis of Compound (B-1-1a) In a 300 mL three-necked flask equipped with a thermometer, 5.8 g of Compound (A-5-1-1), 4.2 g of 2,4-dinitrophenethyl alcohol, and methylene chloride 100 mL was added and ice-cooled. Next, 4.6 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 0.24 g of N, N-dimethylaminopyridine were added, and the mixture was allowed to react for 2 hours under ice-cooling and overnight at room temperature. . After completion of the reaction, 200 mL of ethyl acetate and 200 mL of THF were added, washed once with dilute hydrochloric acid and three times with water, and then dried over magnesium sulfate. Next, ethanol was added and concentrated under reduced pressure, and the pale yellow crystals deposited were filtered and dried to obtain 7.8 g of Compound (B-1-1a).
Synthesis of compound (B-1-1-1) In a 300 mL three-necked flask equipped with a nitrogen inlet tube and a thermometer, 7.8 g of compound (B-1-1a), 21 g of zinc, 3.4 g of ammonium chloride, tetrahydrofuran After adding 80 mL and 20 mL of ethanol and cooling with ice, 8 mL of water was slowly added and reacted at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, zinc was removed by filtration, 80 mL of ethyl acetate was added to the obtained filtrate, and the mixture was washed three times with water, ethanol was added, and the mixture was concentrated under reduced pressure to give the compound (B-1-1-1). 5.4 g of light brown crystals were obtained.

[合成例7]
・化合物(Y−1)の合成
スキーム7のように化合物(Y−1)を合成した。

Figure 2015232109
[Synthesis Example 7]
-Synthesis | combination of compound (Y-1) Compound (Y-1) was synthesize | combined like the scheme 7.
Figure 2015232109

温度計および窒素導入管を備えた200mL三口フラスコに、2,4−ジニトロフルオロベンゼン10.1g、エタノール50mL、ジエタノールアミン7.9gおよび炭酸水素ナトリウム6.3gを加えて60℃で8時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル300mL加えた水で4回分液洗浄を行った後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、ヘキサンを加えて減圧濃縮することで化合物(Y−1)の黄色結晶10.5gを得た。   To a 200 mL three-necked flask equipped with a thermometer and a nitrogen introducing tube, 10.1 g of 2,4-dinitrofluorobenzene, 50 mL of ethanol, 7.9 g of diethanolamine and 6.3 g of sodium hydrogen carbonate were added and reacted at 60 ° C. for 8 hours. . After completion of the reaction, the mixture was washed four times with water added with 300 mL of ethyl acetate, dried over magnesium sulfate, and hexane was added to concentrate under reduced pressure to obtain 10.5 g of yellow crystals of compound (Y-1). .

・化合物(B−3−1−1)の合成
スキーム8のように化合物(B−3−1−1)を合成した。

Figure 2015232109
-Synthesis | combination of compound (B-3-1-1) The compound (B-3-1-1) was synthesize | combined like the scheme 8.
Figure 2015232109

・化合物(B−3−1−1a)の合成
温度計を備えた300mL三口フラスコに、化合物(X−1)8.0g、化合物(Y−1)5.4gおよび塩化メチレン100mLを加えて氷冷した。次に、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩9.2gおよびN,N−ジメチルアミノピリジン0.24gを加えて氷冷下で2時間、室温で一昼夜、反応させた。反応終了後、酢酸エチル200mLおよびテトラヒドロフラン100mLを加えて、希塩酸で1回、水で3回分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エタノールを加えて減圧乾燥することで析出した黄色結晶をろ過、乾燥することで化合物(B−3−1−1a)10.2gを得た。
・化合物(B−3−1−1)の合成
窒素導入管および温度計を備えた300mLの三口フラスコに、化合物(B−3−1−1a)10.2g、亜鉛21g、塩化アンモニウム3.4g、テトラヒドロフラン80mLおよびエタノール20mLを加えて氷冷した後、水8mLをゆっくり加え、室温で3時間反応させた。反応終了後、濾過により亜鉛を除去し、得られたろ液に酢酸エチル80mLを加えて水で3回分液洗浄し、エタノールを加えて減圧濃縮することで化合物(B−3−1−1)の淡褐色結晶を7.4g得た。
Synthesis of Compound (B-3-1-1a) To a 300 mL three-necked flask equipped with a thermometer, 8.0 g of Compound (X-1), 5.4 g of Compound (Y-1) and 100 mL of methylene chloride were added and iced. Chilled. Next, 9.2 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 0.24 g of N, N-dimethylaminopyridine were added and reacted for 2 hours under ice-cooling and overnight at room temperature. . After completion of the reaction, 200 mL of ethyl acetate and 100 mL of tetrahydrofuran were added, and the mixture was washed once with dilute hydrochloric acid and three times with water, then dried over magnesium sulfate, and ethanol was added and dried under reduced pressure to filter the precipitated yellow crystals. By drying, 10.2 g of the compound (B-3-1-1a) was obtained.
Synthesis of Compound (B-3-1-1) In a 300 mL three-necked flask equipped with a nitrogen introduction tube and a thermometer, 10.2 g of Compound (B-3-1-1a), 21 g of zinc, 3.4 g of ammonium chloride After adding 80 mL of tetrahydrofuran and 20 mL of ethanol and cooling with ice, 8 mL of water was slowly added and reacted at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, zinc was removed by filtration, and 80 mL of ethyl acetate was added to the obtained filtrate, followed by separation and washing with water three times, addition of ethanol and concentration under reduced pressure to thereby add the compound (B-3-1-1). 7.4 g of light brown crystals were obtained.

<ポリアミック酸の合成>
[合成例PA−1]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物170.4g(0.760モル)、ジアミン化合物として化合物(B−1−1−1)291.8g(0.688モル)および(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン37.8g(0.076モル)を、NMP2000gに溶解させ、60℃で6時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸(これを「重合体PA−1」とする。)の重量平均分子量を測定したところ、150,000であった。また、得られた重合体PA−1を少量分取し、NMPを加えて固形分濃度10%の溶液で粘度を測定したところ、57mPa・sであった。
<Synthesis of polyamic acid>
[Synthesis Example PA-1]
170.4 g (0.760 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 291.8 g (0.688) of compound (B-1-1-1) as a diamine compound Mol) and 37.8 g (0.076 mol) of (3,5-diaminobenzoyloxy) cholestane were dissolved in 2000 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a polyamic acid solution. It was 150,000 when the weight average molecular weight of the obtained polyamic acid (it is set as "polymer PA-1") was measured. A small amount of the obtained polymer PA-1 was collected, NMP was added, and the viscosity was measured with a solution having a solid content concentration of 10%. The result was 57 mPa · s.

[合成例PA−2]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物158.0g(0.705モル)、ジアミン化合物として化合物(B−3−1−1)285.4g(0.496モル)、3,5−ジアミノ安息香酸21.6g(0.142モル)および(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン35.0g(0.071モル)を、NMP2000gに溶解させ、60℃で6時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸(これを「重合体PA−2」とする。)の重量平均分子量を測定したところ、150,000であった。また、得られた重合体PA−2を少量分取し、NMPを加えて固形分濃度10%の溶液で粘度を測定したところ、57mPa・sであった。
[Synthesis Example PA-2]
153.0 g (0.705 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 285.4 g (0.496) of compound (B-3-1-1) as a diamine compound Mol), 21.6 g (0.142 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid and 35.0 g (0.071 mol) of (3,5-diaminobenzoyloxy) cholestane were dissolved in 2000 g of NMP, It was made to react for time, and the polyamic acid solution was obtained. It was 150,000 when the weight average molecular weight of the obtained polyamic acid (it is set as "polymer PA-2") was measured. Further, a small amount of the obtained polymer PA-2 was fractionated, NMP was added, and the viscosity was measured with a solution having a solid content concentration of 10%, and it was 57 mPa · s.

[比較合成例PA−3]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物170.4g(0.760モル)、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン291.8g(0.688モル)および(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン37.8g(0.076モル)を、NMP2000gに溶解させ、60℃で6時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸(これを「重合体PA−3」とする。)の重量平均分子量を測定したところ、150,000であった。また、得られた重合体PA−3を少量分取し、NMPを加えて固形分濃度10%の溶液で粘度を測定したところ、57mPa・sであった。
[Comparative Synthesis Example PA-3]
170.4 g (0.760 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 291.8 g (0.688 mol) of p-phenylenediamine and (3,3) as diamine compounds 57.8 g (0.076 mol) of 5-diaminobenzoyloxy) cholestane was dissolved in 2000 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a polyamic acid solution. It was 150,000 when the weight average molecular weight of the obtained polyamic acid (it is set as "polymer PA-3") was measured. In addition, a small amount of the obtained polymer PA-3 was collected, NMP was added, and the viscosity was measured with a solution having a solid content concentration of 10%. As a result, it was 57 mPa · s.

[比較合成例PA−4]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物170.4g(0.760モル)、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン291.8g(0.688モル)および(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン37.8g(0.076モル)を、NMP2000gに溶解させ、60℃で6時間反応させ、ポリアミック酸を得た。得られたポリアミック酸(これを「重合体PA−4」とする。)の重量平均分子量を測定したところ、150,000であった。また、得られた重合体PA−4を少量分取し、NMPを加えて固形分濃度10%の溶液で粘度を測定したところ、57mPa・sであった。
[Comparative Synthesis Example PA-4]
170.4 g (0.760 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 291.8 g (0.688 mol) of p-phenylenediamine and (3,3) as diamine compounds 37.8 g (0.076 mol) of 5-diaminobenzoyloxy) cholestane was dissolved in 2000 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a polyamic acid. It was 150,000 when the weight average molecular weight of the obtained polyamic acid (it is set as "polymer PA-4") was measured. A small amount of the obtained polymer PA-4 was fractionated, NMP was added, and the viscosity was measured with a solution having a solid content concentration of 10%. As a result, it was 57 mPa · s.

<ポリイミドの合成>
[比較合成例PI−1]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物110g(0.50モル)、ジアミンとしてp−フェニレンジアミン43g(0.40モル)および3(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン52g(0.10モル)をNMP830gに溶解し、60℃で6時間反応を行った。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は60mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMP1,900gを追加し、ピリジン40gおよび無水酢酸51gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶剤を新たなNMPで溶媒置換(本操作にて脱水閉環反応に使用したピリジンおよび無水酢酸を系外に除去した。)することにより、イミド化率約50%のポリイミド(これを「重合体(PI−1)」とする。)を約15重量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えて固形分濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は47mPa・sであった。
<Synthesis of polyimide>
[Comparative Synthesis Example PI-1]
110 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 43 g (0.40 mol) of p-phenylenediamine as diamine and 3 (3,5-diaminobenzoyl) 52 g (0.10 mol) of oxy) cholestane was dissolved in 830 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 60 mPa · s.
Next, 1,900 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 40 g of pyridine and 51 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration cyclization reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP (by this operation, pyridine and acetic anhydride used for the dehydration cyclization reaction were removed from the system), and the imidation rate was about 50%. A solution containing about 15% by weight of polyimide (referred to as “polymer (PI-1)”) was obtained. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a solid content concentration of 10% by weight was 47 mPa · s.

<(メタ)アクリル系重合体の合成>
[合成例AC−1]
攪拌棒、三方コックおよび温度計を装着した四つ口フラスコに、モノマーとしてグリシジルメタクリレート30.0g(0.211モル)を仕込み、さらに溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル60g、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.2g、および分子量調整剤としてα−メチルスチレンダイマー0.6gを添加した。これを窒素気流で約10分間バブリングして系内の窒素置換を行った後、窒素雰囲気下、70℃で5時間反応させることにより、エポキシ基含有(メタ)アクリル重合体を33重量%含有する溶液を得た。
次に、1000mLの三口フラスコに、上記で得られたエポキシ基含有(メタ)アクリル重合体91.0g、化合物(A−1−1−1)54.3g(0.105モル)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル212.3g及びUCAT 18X(サンアプロ社の4級アミン塩)2.0gを仕込み、80℃で36時間撹拌した。反応終了後、水で再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得た。この溶液を3回水洗した後、溶媒を留去することにより、(メタ)アクリル重合体(これを「重合体AC−1」とする。)を白色粉末として21.6g得た。得られた重合体AC−1の重量平均分子量を測定したところ、30,000であった。また、得られた重合体AC−1を少量分取し、NMPを加えて重合体濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は17mPa・sであった。
<Synthesis of (meth) acrylic polymer>
[Synthesis Example AC-1]
A four-necked flask equipped with a stir bar, three-way cock and thermometer was charged with 30.0 g (0.211 mol) of glycidyl methacrylate as a monomer, 60 g of diethylene glycol ethyl methyl ether as a solvent, and 2,2 ′ as a polymerization initiator. -1.2 g of azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 0.6 g of α-methylstyrene dimer as a molecular weight modifier were added. This was bubbled in a nitrogen stream for about 10 minutes to perform nitrogen substitution in the system, and then reacted at 70 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere to contain 33% by weight of an epoxy group-containing (meth) acrylic polymer. A solution was obtained.
Next, in a 1000 mL three-necked flask, 91.0 g of the epoxy group-containing (meth) acrylic polymer obtained above, 54.3 g (0.105 mol) of the compound (A-1-1-1), diethylene glycol ethylmethyl 212.3 g of ether and 2.0 g of UCAT 18X (a quaternary amine salt of Sun Apro) were charged and stirred at 80 ° C. for 36 hours. After completion of the reaction, reprecipitation was performed with water, and the precipitate was dissolved in ethyl acetate to obtain a solution. This solution was washed with water three times, and then the solvent was distilled off to obtain 21.6 g of a (meth) acrylic polymer (referred to as “polymer AC-1”) as a white powder. It was 30,000 when the weight average molecular weight of obtained polymer AC-1 was measured. Further, a small amount of the obtained polymer AC-1 was sampled, and NMP was added thereto, and the solution viscosity measured as a solution having a polymer concentration of 10% by weight was 17 mPa · s.

[合成例AC−2]
合成例AC−1において、カルボン酸として化合物(A−1−3−1)75.1g(0.105モル)を用いた以外は合成例AC−1と同様の操作を実施することにより、(メタ)アクリル重合体(これを「重合体AC−2」とする。)を白色粉末として21.6g得た。得られた重合体AC−2の重量平均分子量を測定したところ、33,000であった。また、得られた重合体AC−2を少量分取し、NMPを加えて(メタ)アクリル重合体濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は15mPa・sであった。
[Synthesis Example AC-2]
In Synthesis Example AC-1, by performing the same operation as in Synthesis Example AC-1, except that 75.1 g (0.105 mol) of the compound (A-1-3-1) was used as the carboxylic acid, 21.6 g of a (meth) acrylic polymer (referred to as “polymer AC-2”) was obtained as a white powder. It was 33,000 when the weight average molecular weight of obtained polymer AC-2 was measured. Further, a small amount of the obtained polymer AC-2 was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a (meth) acrylic polymer concentration of 10% by weight was 15 mPa · s.

[比較合成例AC−3]
合成例AC−1において、カルボン酸として化合物(X−1)75.1g(0.105モル)を用いた以外は合成例AC−1と同様の操作を実施することにより、(メタ)アクリル重合体(これを「重合体AC−3」とする。)を白色粉末として21.6g得た。得られた重合体AC−3の重量平均分子量を測定したところ、33,000であった。また、得られた重合体AC−3を少量分取し、NMPを加えて重合体濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は15mPa・sであった。
[Comparative Synthesis Example AC-3]
In Synthesis Example AC-1, the same operation as in Synthesis Example AC-1 was performed, except that 75.1 g (0.105 mol) of Compound (X-1) was used as the carboxylic acid. 21.6 g of a combined product (referred to as “polymer AC-3”) was obtained as a white powder. It was 33,000 when the weight average molecular weight of obtained polymer AC-3 was measured. Further, a small amount of the obtained polymer AC-3 was fractionated, and NMP was added thereto, and the solution viscosity measured as a solution having a polymer concentration of 10% by weight was 15 mPa · s.

<ポリオルガノシロキサンの合成>
[合成例PS−1]
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン139.0g、メチルイソブチルケトン139.0g及びトリエチルアミン13.9gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水111.2gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、60℃で3時間反応させた。反応終了後、有機層を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄したのち、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。このエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンについて、H−NMR分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。
続いて100mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを56.0g、メチルイソブチルケトン206.0g、化合物(A−1−1−1)54.3g(0.105モル)およびUCAT 18X(サンアプロ社の4級アミン塩)0.6gを仕込み、80℃で36時間撹拌した。反応終了後、水で再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得、この溶液を3回水洗した後、溶媒を留去することにより、ポリオルガノシロキサン(これを重合体(PS−1)とする。)を白色粉末として42.6g得た。得られた重合体(PS−1)の重量平均分子量を測定したところ、30,000であった。また得られた重合体(PS−1)を少量分取し、NMPを加えてポリオルガノシロキサン濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は17mPa・sであった。
<Synthesis of polyorganosiloxane>
[Synthesis Example PS-1]
A reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser was charged with 139.0 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 139.0 g of methyl isobutyl ketone, and 13.9 g of triethylamine. And mixed at room temperature. Next, 111.2 g of deionized water was dropped from the dropping funnel over 30 minutes, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 3 hours while mixing under reflux. After completion of the reaction, the organic layer is taken out and washed with a 0.2% by mass aqueous ammonium nitrate solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure to obtain an epoxy group-containing polyorganosiloxane. Was obtained as a viscous transparent liquid. The epoxy group-containing polyorganosiloxane was subjected to 1 H-NMR analysis, and a peak based on the epoxy group was obtained in the vicinity of the chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity. It was confirmed that no reaction occurred.
Subsequently, 56.0 g of the epoxy group-containing polyorganosiloxane obtained above, 206.0 g of methyl isobutyl ketone, 54.3 g (0.105 mol) of the compound (A-1-1-1) and a 100 mL three-necked flask were obtained. 0.6 g of UCAT 18X (quaternary amine salt from San Apro) was charged and stirred at 80 ° C. for 36 hours. After completion of the reaction, reprecipitation is performed with water, and the precipitate is dissolved in ethyl acetate to obtain a solution. The solution is washed with water three times, and then the solvent is distilled off to remove polyorganosiloxane (this is a polymer ( PS-2) was obtained as a white powder. It was 30,000 when the weight average molecular weight of the obtained polymer (PS-1) was measured. Further, a small amount of the obtained polymer (PS-1) was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyorganosiloxane concentration of 10% by weight was 17 mPa · s.

[合成例PS−2]
合成例PS−1において、カルボン酸として化合物(A−3−1−1)75.1g(0.105モル)を用いた以外は合成例PS−1と同様の操作を実施することにより、ポリオルガノシロキサン(これを「重合体(PS−2)」とする。)を白色粉末として21.6g得た。得られた重合体(PS−2)の重量平均分子量を測定したところ、33,000であった。また、得られた重合体(PS−2)を少量分取し、NMPを加えてポリオルガノシロキサン濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は15mPa・sであった。
[Synthesis Example PS-2]
In Synthesis Example PS-1, the same procedure as in Synthesis Example PS-1 was carried out except that 75.1 g (0.105 mol) of the compound (A-3-1-1) was used as the carboxylic acid. 21.6 g of organosiloxane (referred to as “polymer (PS-2)”) was obtained as a white powder. It was 33,000 when the weight average molecular weight of the obtained polymer (PS-2) was measured. Further, a small amount of the obtained polymer (PS-2) was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyorganosiloxane concentration of 10% by weight was 15 mPa · s.

[比較合成例PS−3]
合成例PS−1において、カルボン酸として化合物(X−1)75.1g(0.105モル)を用いた以外は合成例PS−1と同様の操作を実施することにより、ポリオルガノシロキサン(これを「重合体(PS−3)」とする。)を白色粉末として21.6g得た。得られた重合体(PS−3)の重量平均分子量を測定したところ、33,000であった。また、得られた重合体(PS−3)を少量分取し、NMPを加えてポリオルガノシロキサン濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は15mPa・sであった。
[Comparative Synthesis Example PS-3]
In Synthesis Example PS-1, the same procedure as in Synthesis Example PS-1 was carried out except that 75.1 g (0.105 mol) of Compound (X-1) was used as the carboxylic acid. 21.6 g of “Polymer (PS-3)” as white powder. It was 33,000 when the weight average molecular weight of the obtained polymer (PS-3) was measured. Further, a small amount of the obtained polymer (PS-3) was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyorganosiloxane concentration of 10% by weight was 15 mPa · s.

[実施例1]
<重合体組成物の調製>
(A)重合体として上記合成例PA−1で得た重合体(PA−1)を含有する溶液に、有機溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)およびブチルセロソルブ(BC)を加え、BC濃度が全有機溶媒に対して20重量%であり、固形分濃度が6.0重量%である溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより、重合体組成物を調製した。
[Example 1]
<Preparation of polymer composition>
(A) N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC) are added as organic solvents to a solution containing the polymer (PA-1) obtained in Synthesis Example PA-1 as a polymer, and BC It was set as the solution whose density | concentration is 20 weight% with respect to all the organic solvents, and whose solid content concentration is 6.0 weight%. A polymer composition was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm.

<液晶セルの製造>
上記で調製した重合体組成物を、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いてITO膜からなる透明電極を有するガラス基板の透明電極面上に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、200℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚800Åの塗膜を形成した。
この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行い、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。なお上記ラビング処理は、液晶の倒れ込みを制御し、配向分割を簡易な方法で行う目的で行った弱いラビング処理である。
<Manufacture of liquid crystal cells>
The polymer composition prepared above was applied onto a transparent electrode surface of a glass substrate having a transparent electrode made of an ITO film using a liquid crystal alignment film printer (Nissha Printing Co., Ltd.), and hot at 80 ° C. After removing the solvent by heating (pre-baking) on the plate for 1 minute, heating (post-baking) on a hot plate at 200 ° C. for 10 minutes to form a coating film having an average film thickness of 800 mm.
The coating film was rubbed with a rubbing machine having a roll wrapped with a rayon cloth at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair foot indentation length of 0.1 mm. Then, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, and then drying was performed in a 100 ° C. clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film. The rubbing process is a weak rubbing process performed for the purpose of controlling the tilting of the liquid crystal and performing alignment division by a simple method.

次に、上記一対の基板のうちの1枚につき、液晶配向膜を有する面の外縁に、直径3.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。その後、液晶注入口より一対の基板間にネマチック液晶(メルク社製、MLC−6608)を充填し、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
次いで、上記で得た液晶セルの電極間に、周波数60Hzの交流15Vrmsを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、液晶セルの外側から紫外線を2J/cmの照射量にて照射した。なお、この照射量は、波長365nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。
上記と同様の方法で液晶セルをさらに2個製造するとともに、液晶セルに照射する紫外線の量を、一方の液晶セルは5J/cm、もう一方の液晶セルは10J/cmに変更した以外は、上記と同様に液晶セルの電極間に電圧を印加した状態で紫外線照射を行った。
Next, after applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 3.5 μm to the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film for one of the pair of substrates, the pair of substrates is liquid crystal alignment film surface The adhesives were cured by overlapping and pressing so that they face each other. Thereafter, nematic liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled between the pair of substrates from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port was sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell.
Next, an alternating current of 15 Vrms with a frequency of 60 Hz is applied between the electrodes of the liquid crystal cell obtained above, and the liquid crystal is driven, using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp as a light source, from the outside of the liquid crystal cell. Ultraviolet rays were irradiated at a dose of 2 J / cm 2 . In addition, this irradiation amount is the value measured using the light meter measured on the basis of wavelength 365nm.
In addition to manufacturing two more liquid crystal cells in the same manner as described above, the amount of ultraviolet rays irradiated to the liquid crystal cell was changed to 5 J / cm 2 for one liquid crystal cell and 10 J / cm 2 for the other liquid crystal cell. In the same manner as described above, ultraviolet irradiation was performed with a voltage applied between the electrodes of the liquid crystal cell.

<プレチルト角の評価>
上記で製造した各液晶セルについて、それぞれ非特許文献2(T.J.Scheffer et.al. J.Appl.Phys. vo.19, p.2013(1980))に記載の方法に準拠して、He−Neレーザー光を用いる結晶回転法により測定した液晶分子の基板面からの傾き角の値をプレチルト角とした。
照射量2J/cm、5J/cmおよび10J/cmの液晶セルにおけるそれぞれのプレチルト角を下記表1に示した。本液晶セルでは、5J/cmの紫外線照射時に、88.2度のプレチルト角を示した。応答速度とコントラストとの関係から、85度以上88.5度以下の値となっていることが良好なことから、本液晶セルは良好なプレチルト角特性を有していることがわかった。
<Evaluation of pretilt angle>
About each liquid crystal cell manufactured above, according to the method described in Non-Patent Document 2 (TJ Scheffer et.al. J.Appl.Phys. Vo.19, p.2013 (1980)), respectively. The value of the tilt angle of the liquid crystal molecules from the substrate surface measured by the crystal rotation method using He—Ne laser light was defined as the pretilt angle.
Table 1 below shows the respective pretilt angles in the liquid crystal cells with irradiation doses of 2 J / cm 2 , 5 J / cm 2 and 10 J / cm 2 . This liquid crystal cell showed a pretilt angle of 88.2 degrees when irradiated with 5 J / cm 2 of ultraviolet rays. From the relationship between the response speed and the contrast, it is preferable that the value is 85 degrees or more and 88.5 degrees or less, and thus it was found that the liquid crystal cell has a good pretilt angle characteristic.

<残像の評価>
上記の紫外線処理を実施した液晶セルを、温度40℃のオーブン内で、各画素に対し周波数60Hzの交流7Vrmsを168時間印加したのち、再度、上述の方法でプレチルト角の測定を実施した。このときの照射量2J/cm、5J/cmおよび10J/cmの液晶セルのそれぞれのプレチルト角を表1に併せて示した。
また、168時間のストレス前後でのプレチルト角変化量も表1に併せて示した。なお、プレチルト角変化量が小さいほど、良好な残像特性を有しているものと評価できる。実施例1では、5J/cmの紫外線照射量の液晶セルでプレチルト角変化量が0.3度となり、良好な残像特性を有することがわかった。
<Evaluation of afterimage>
The liquid crystal cell subjected to the above ultraviolet treatment was subjected to measurement of the pretilt angle again by the method described above after applying AC 7 Vrms with a frequency of 60 Hz for 168 hours to each pixel in an oven at a temperature of 40 ° C. Each of the pre-tilt angle of the liquid crystal cell dose 2J / cm 2, 5J / cm 2 and 10J / cm 2 at this time are shown together in Table 1.
Table 1 also shows the amount of change in the pretilt angle before and after the stress of 168 hours. It can be evaluated that the smaller the amount of change in the pretilt angle, the better the afterimage characteristics. In Example 1, it was found that the pretilt angle change amount was 0.3 degrees in a liquid crystal cell with an ultraviolet irradiation amount of 5 J / cm 2 , and it had good afterimage characteristics.

[実施例2〜9および比較例1〜5]
各成分の使用量をそれぞれ下記表1に記載のとおりとしたほかは実施例1と同様にして重合体組成物を調製し、これを用いて液晶セルを製造して評価した。なお、実施例3、実施例8および実施例9では(A)重合体とその他の重合体を併用し、比較例1〜5では重合体としてその他の重合体のみを用いた。結果を下記表1に示した。なお、表1中、重合体の配合量の数値は、重合体組成物の調製に使用した重合体の合計量に対する各重合体の配合割合(重量比)である。
[Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 5]
A polymer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of each component used was as described in Table 1 below, and a liquid crystal cell was produced and evaluated using the polymer composition. In Example 3, Example 8 and Example 9, (A) the polymer and other polymer were used in combination, and in Comparative Examples 1 to 5, only the other polymer was used as the polymer. The results are shown in Table 1 below. In Table 1, the numerical value of the blending amount of the polymer is the blending ratio (weight ratio) of each polymer with respect to the total amount of the polymers used for preparing the polymer composition.

Figure 2015232109
Figure 2015232109

表1に示すとおり、実施例1〜9では紫外線照射量を5J/cmとしても、良好なプレチルト角特性を示す液晶セルを得ることができた。また、実施例の液晶セルでは、紫外線照射量を5J/cmとした場合にも、ストレス付与前後のプレチルト角変化量が少なく、残像特性が良好であった。これに対し、比較例1〜5では実施例に比べて液晶セルのプレチルト角特性及び残像特性が劣っていた。 As shown in Table 1, in Examples 1 to 9, liquid crystal cells showing good pretilt angle characteristics could be obtained even when the ultraviolet irradiation amount was 5 J / cm 2 . Further, in the liquid crystal cell of the example, even when the ultraviolet irradiation amount was 5 J / cm 2 , the amount of change in the pretilt angle before and after the stress application was small, and the afterimage characteristics were good. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 5, the pretilt angle characteristics and the afterimage characteristics of the liquid crystal cell were inferior to those of the Examples.

[実施例10〜13]
重合体及び添加剤の使用量をそれぞれ下記表2に記載のとおりとしたほかは、実施例1と同様にして重合体組成物を調製した。また、調製した重合体組成物を用いて液晶セルを製造して評価を行った。なお、実施例11では(A)重合体とその他の重合体を併用した。結果を下記表2に示した。なお、表2中、重合体及び添加剤の配合量の数値は、重合体組成物の調製に使用した重合体の合計量に対する各化合物の配合割合(重量比)である。
[Examples 10 to 13]
A polymer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the polymer and additive used were as shown in Table 2 below. Moreover, the liquid crystal cell was manufactured and evaluated using the prepared polymer composition. In Example 11, the (A) polymer and other polymers were used in combination. The results are shown in Table 2 below. In Table 2, the numerical value of the blending amount of the polymer and the additive is the blending ratio (weight ratio) of each compound with respect to the total amount of the polymer used for the preparation of the polymer composition.

Figure 2015232109
Figure 2015232109

表2中、添加剤の略称は以下の意味である。
w−1;[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジイル ビス(2−メタクリレート)
w−2;4−((2−メタクリロイルオキシ)エトキシ)カルボニル)フェニル 4’−(メタクリロイルオキシ)−[1,1’−ビフェニル]−4−カルボキシレート
w−3;4−(メタクリロイルオキシ)フェニル 4’−((4−(メタクリロイルオキシ)ベンゾイル)オキシ)−[1,1’−ビフェニル]−4−カルボキシレート
w−4;2−(4−(4−(メタクリロイルオキシ)シクロヘキシル)フェノキシ)エチルメタクリレート
In Table 2, the abbreviations of the additives have the following meanings.
w-1, [1,1′-biphenyl] -4,4′-diyl bis (2-methacrylate)
w-2; 4-((2-methacryloyloxy) ethoxy) carbonyl) phenyl 4 ′-(methacryloyloxy)-[1,1′-biphenyl] -4-carboxylate w-3; 4- (methacryloyloxy) phenyl 4 '-((4- (methacryloyloxy) benzoyl) oxy)-[1,1'-biphenyl] -4-carboxylate w-4; 2- (4- (4- (methacryloyloxy) cyclohexyl) phenoxy) ethyl Methacrylate

表2に示すように、添加剤を配合した液晶配向剤についても、良好なプレチルト角特性を示す液晶セルを得ることができた。また、紫外線照射量が5J/cmと少ない場合にも、ストレス付与前後のプレチルト角変化量が少なく、残像特性が良好であった。 As shown in Table 2, a liquid crystal cell exhibiting good pretilt angle characteristics was also obtained for the liquid crystal aligning agent blended with the additive. In addition, even when the ultraviolet irradiation amount was as small as 5 J / cm 2 , the amount of change in the pretilt angle before and after the application of stress was small and the afterimage characteristics were good.

Claims (11)

(A)重合体、及び(B)有機溶媒を含有し、
前記(A)重合体は下記式(1)で表される基を有する、重合体組成物。
Figure 2015232109
(式(1)中、Rは下記式(r1−1)〜式(r1−6)
Figure 2015232109
(式(r1−1)〜式(r1−6)中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xは酸素原子又は−NR30−(ただし、R30は水素原子又はメチル基)である。Rは炭素数1〜20の1価の炭化水素基もしくは当該炭化水素基における少なくとも1個の水素原子をフッ素原子で置換した基、又は複素環を有する1価の基である。R及びRは水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基である。2個のRは、それぞれ独立に水素原子若しくは炭素数1〜20のアルキル基であるか、又は2個のRが互いに結合することでRが結合する2個の炭素原子とともに炭素数4〜20の炭化水素環構造を形成する。R10は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のフルオロアルキル基である。ただし、複数のR10は同じでも異なっていてもよい。Arは2価の芳香環基であり、Ar及びArは単結合又は2価の芳香環基である。)
のそれぞれで表される基よりなる群から選ばれる1価の基である。Rは単結合又は2価の有機基である。Yは(u+1)価の環状基又は窒素原子である。uは2〜4の整数である。ただし、Yが窒素原子の場合、u=2である。「*」は結合手を示す。)
(A) a polymer, and (B) an organic solvent,
The polymer composition (A) has a group represented by the following formula (1).
Figure 2015232109
(In the formula (1), R 1 represents the following formula (r1-1) to formula (r1-6)
Figure 2015232109
(In Formula (r1-1) to Formula (r1-6), R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, X 5 is an oxygen atom or —NR 30 — (wherein R 30 is a hydrogen atom or a methyl group). R 6 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group in which at least one hydrogen atom in the hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, or a monovalent group having a heterocyclic ring. 7 and R 9 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and two R 8 s are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or two R 8 s. Are bonded to each other to form a hydrocarbon ring structure having 4 to 20 carbon atoms with two carbon atoms to which R 8 is bonded, and R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. 5 fluoroalkyl groups, provided that a plurality of R 1 0 may be the same or different, Ar 1 is a divalent aromatic ring group, and Ar 2 and Ar 3 are a single bond or a divalent aromatic ring group.)
These are monovalent groups selected from the group consisting of groups represented by R 2 is a single bond or a divalent organic group. Y 1 is a (u + 1) -valent cyclic group or a nitrogen atom. u is an integer of 2-4. However, when Y 1 is a nitrogen atom, u = 2. “*” Indicates a bond. )
前記Rは下記式(r2−1)で表される基である、請求項1に記載の重合体組成物。
Figure 2015232109
(式(r2−1)中、R12は炭素数1〜20のアルカンジイル基又は下記式(r2−1−1)
Figure 2015232109
(式(r2−1−1)中、R20及びR21はそれぞれ独立に1価の置換基である。m1及びm2はそれぞれ独立に0〜2の整数である。ただし、1≦(m1+m2)≦2を満たす。t1及びt2はそれぞれ独立に0〜4の整数である。複数のR20は同一でも異なっていてもよく、複数のR21は同一でも異なっていてもよい。)
で表される基である。R13は炭素数1〜20のアルカンジイル基であり、R14は単結合又は炭素数1〜20のアルカンジイル基である。X及びXは、それぞれ独立に炭素数1〜6のアルカンジイル基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレイド結合である。n1及びn2は、それぞれ独立に0〜2の整数であり、n1+n2≧1を満たす。「*」を付した結合手がRに結合する。)
The polymer composition according to claim 1, wherein R 2 is a group represented by the following formula (r2-1).
Figure 2015232109
(In the formula (r2-1), R 12 is an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms or the following formula (r2-1-1)
Figure 2015232109
(In the formula (r2-1-1), R 20 and R 21 are each independently a monovalent substituent. M1 and m2 are each independently an integer of 0 to 2. However, 1 ≦ (m1 + m2) ≦ 2 is satisfied, t1 and t2 are each independently an integer of 0 to 4. The plurality of R 20 may be the same or different, and the plurality of R 21 may be the same or different.
It is group represented by these. R 13 is an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 14 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms. X 1 and X 2 are each independently an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, an ether bond, an ester bond, an amide bond or a ureido bond. n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 2, and satisfy n1 + n2 ≧ 1. A bond marked with “* 1 ” is bonded to R 1 . )
前記(A)重合体は、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、(メタ)アクリル系重合体、及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体である、請求項1又は2に記載の重合体組成物。   The polymer (A) is at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, (meth) acrylic polymer, and polyorganosiloxane. Polymer composition. 前記(A)重合体は、プレチルト角特性を発現可能な基(ただし、上記式(1)で表される基に該当する基を除く。)をさらに有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の重合体組成物。   The said (A) polymer further has group (however, group except the group applicable to the group represented by said Formula (1)) which can express a pretilt angle characteristic, It is any one of Claims 1-3. The polymer composition according to item. 前記(A)重合体は、上記式(1)で表される基を有する化合物をモノマー組成に含む重合により得られる重合体である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の重合体組成物。   The polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymer (A) is a polymer obtained by polymerization containing a compound having a group represented by the formula (1) in a monomer composition. Composition. 前記(A)重合体は、官能基(Z1)を有する重合体と、上記式(1)で表される基を有しかつ前記官能基(Z1)と反応して結合基を形成可能な基(Z2)を有する化合物と、を反応させて得られる重合体である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の重合体組成物。   The (A) polymer is a group having a functional group (Z1) and a group having the group represented by the above formula (1) and capable of reacting with the functional group (Z1) to form a bonding group. The polymer composition as described in any one of Claims 1-4 which is a polymer obtained by making the compound which has (Z2) react. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の重合体組成物からなる液晶配向剤。   The liquid crystal aligning agent which consists of a polymer composition as described in any one of Claims 1-6. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の重合体組成物を用いて形成された液晶配向膜。   The liquid crystal aligning film formed using the polymer composition as described in any one of Claims 1-6. 請求項8に記載の液晶配向膜を備える液晶表示素子。   A liquid crystal display element provided with the liquid crystal aligning film of Claim 8. 導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、請求項1〜6のいずれか一項に記載の重合体組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する工程と、
前記一対の基板における導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、を含む液晶表示素子の製造方法。
On the conductive film of a pair of substrates having a conductive film, a step of applying the polymer composition according to any one of claims 1 to 6 to form a coating film;
A step of constructing a liquid crystal cell by arranging the pair of substrates on which the coating film is formed so as to face each other with the coating film facing each other through a liquid crystal layer;
Irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films on the pair of substrates.
下記式(1)で表される基を有する重合体。
Figure 2015232109
(式(1)中、Rは下記式(r1−1)〜式(r1−6)
Figure 2015232109
(式(r1−1)〜式(r1−6)中、Rは水素原子又はメチル基であり、Xは酸素原子又は−NR30−(ただし、R30は水素原子又はメチル基)である。Rは炭素数1〜20の1価の炭化水素基もしくは当該炭化水素基における少なくとも1個の水素原子をフッ素原子で置換した基、又は複素環を有する1価の基である。R及びRは水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基である。2個のRは、それぞれ独立に水素原子若しくは炭素数1〜20のアルキル基であるか、又は2個のRが互いに結合することでRが結合する2個の炭素原子とともに炭素数4〜20の炭化水素環構造を形成する。R10は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のフルオロアルキル基である。ただし、複数のR10は同じでも異なっていてもよい。Arは2価の芳香環基であり、Ar及びArは単結合又は2価の芳香環基である。)
のそれぞれで表される基よりなる群から選ばれる1価の基である。Rは単結合又は2価の有機基である。Yは(u+1)価の環状基又は窒素原子である。uは2〜4の整数である。ただし、Yが窒素原子の場合、u=2である。「*」は結合手を示す。)
The polymer which has group represented by following formula (1).
Figure 2015232109
(In the formula (1), R 1 represents the following formula (r1-1) to formula (r1-6)
Figure 2015232109
(In Formula (r1-1) to Formula (r1-6), R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, X 5 is an oxygen atom or —NR 30 — (wherein R 30 is a hydrogen atom or a methyl group). R 6 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a group in which at least one hydrogen atom in the hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, or a monovalent group having a heterocyclic ring. 7 and R 9 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and two R 8 s are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or two R 8 s. Are bonded to each other to form a hydrocarbon ring structure having 4 to 20 carbon atoms with two carbon atoms to which R 8 is bonded, and R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. 5 fluoroalkyl groups, provided that a plurality of R 1 0 may be the same or different, Ar 1 is a divalent aromatic ring group, and Ar 2 and Ar 3 are a single bond or a divalent aromatic ring group.)
These are monovalent groups selected from the group consisting of groups represented by R 2 is a single bond or a divalent organic group. Y 1 is a (u + 1) -valent cyclic group or a nitrogen atom. u is an integer of 2-4. However, when Y 1 is a nitrogen atom, u = 2. “*” Indicates a bond. )
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