JP2015225963A - Wiring board, electronic device, and electronic module - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board which makes good electric connection between an inner surface electrode provided on an inner surface of a cutout part and a wiring conductor provided at an insulating substrate.SOLUTION: A wiring board 1 includes: an insulating substrate 11 having a cutout part 12 opening on a main surface and a side surface; an inner surface electrode 13 provided on an inner surface of the cutout part 12; and a wiring conductor 14 provided in the insulating substrate 11. The inner surface electrode 13 is divided into multiple parts in a thickness direction of the insulating substrate 11.

Description

本発明は、配線基板、電子装置および電子モジュールに関するものである。   The present invention relates to a wiring board, an electronic device, and an electronic module.

従来、配線基板は、絶縁基体の内部または表面に配線導体、また絶縁基体の側面から下面にかけて切り欠き部およびその内側面に配線導体に接続される内面電極が設けられたものがある。電子部品および配線基板を含む電子装置を半田等の接合材によって例えばモジュール用基板に接合する場合、この電極が半田等の接合材を介しモジュール用基板に接合される。   2. Description of the Related Art Conventionally, some wiring boards are provided with a wiring conductor inside or on the surface of the insulating base, a notch from the side surface to the bottom surface of the insulating base, and an inner surface electrode connected to the wiring conductor on the inner side surface. When an electronic device including an electronic component and a wiring board is bonded to, for example, a module substrate using a bonding material such as solder, the electrode is bonded to the module substrate via a bonding material such as solder.

特開2002−158509号公報JP 2002-158509 A

近年、電子装置の小型化および電子部品の高発熱化に伴い、電子部品の搭載部から切り欠き部までの距離が近くなってきており、電子部品の熱が切り欠き部の内面に形成した内面電極により多く伝達するものとなってきている。配線基板の高精度化に伴い、薄膜法を用いて絶縁基体表面に配線導体等を形成するということが行われているが、薄膜法を用いて切り欠き部の内側面に内面電極を形成すると、電子部品を作動させた際に、絶縁基体と内面電極との熱膨張差による応力により、および配線基板とモジュール用基板との熱膨張差による応力が接合材を介して内部電極の上部に加わってしまうことにより、内面電極が絶縁基体から剥離してしまうことが懸念される。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices and the high heat generation of electronic components, the distance from the mounting part of the electronic component to the notch has become closer, and the inner surface formed by the heat of the electronic component on the inner surface of the notch It is becoming more transmitted to the electrodes. With the increase in accuracy of wiring boards, it has been practiced to form wiring conductors etc. on the surface of an insulating substrate using a thin film method, but when an inner surface electrode is formed on the inner surface of a notch using a thin film method When an electronic component is operated, a stress due to a difference in thermal expansion between the insulating base and the inner surface electrode and a stress due to a difference in thermal expansion between the wiring board and the module substrate are applied to the upper part of the internal electrode via the bonding material. As a result, the inner surface electrode may be peeled off from the insulating substrate.

本発明の一つの態様によれば、配線基板は、主面および側面に開口する切り欠き部を有している絶縁基体と、前記切り欠き部の内側面に設けられている内面電極と、前記絶縁基体の内部に設けられている配線導体とを有しており、前記内面電極は、前記絶縁基体の厚み方向において複数に分割されている。   According to one aspect of the present invention, the wiring board includes an insulating base having a notch opening in the main surface and the side surface, an inner surface electrode provided on the inner surface of the notch, A wiring conductor provided inside the insulating base, and the inner surface electrode is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base.

本発明の他の態様によれば、電子装置は、上記構成の配線基板と、該配線基板に搭載された電子部品とを備えている。   According to another aspect of the present invention, an electronic device includes the wiring board having the above configuration and an electronic component mounted on the wiring board.

本発明の他の態様によれば、電子モジュールは、上記構成の電子装置がモジュール用基板の接続パッドに接合材を介して接続されている。   According to another aspect of the present invention, in the electronic module, the electronic device having the above configuration is connected to the connection pad of the module substrate via the bonding material.

本発明の一つの態様による配線基板において、主面および側面に開口する切り欠き部を有している絶縁基体と、切り欠き部の内側面に設けられている内面電極と、絶縁基体の内部に設けられている配線導体とを有しており、内面電極は、絶縁基体の厚み方向において複数に分割されていることから、電子部品の熱が内面電極に大きく伝達したとしても、絶縁基体と内面電極との熱膨張差による応力および配線基板とモジュール用基板との熱膨張差による応力は複数の内面電極に分散され、内面電極が絶縁基体から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   In the wiring board according to one aspect of the present invention, an insulating base having a notch opening in the main surface and side surfaces, an inner surface electrode provided on the inner side of the notch, and an inside of the insulating base Since the inner surface electrode is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base, even if the heat of the electronic component is largely transferred to the inner surface electrode, the inner base and the inner surface are provided. The stress due to the difference in thermal expansion from the electrode and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring board and the module substrate are distributed to the plurality of inner surface electrodes, and the possibility that the inner surface electrode peels off from the insulating base can be reduced. Thus, a small and highly accurate wiring board having excellent electrical connection reliability with the module substrate can be obtained.

本発明の他の態様による電子装置は、上記構成の配線基板と、配線基板に搭載された電子部品とを備えていることによって、電気的信頼性に関して向上されている。   An electronic device according to another aspect of the present invention is improved in terms of electrical reliability by including the wiring board having the above-described configuration and an electronic component mounted on the wiring board.

本発明の他の態様による電子モジュールは、上記構成の電子装置がモジュール用基板の接続パッドに接合材を介して接続されていることから、長期間にわたって配線基板とモジュール用基板との電気接続信頼性に優れたものとすることができる。   In the electronic module according to another aspect of the present invention, since the electronic device having the above-described configuration is connected to the connection pad of the module substrate via a bonding material, the electrical connection reliability between the wiring substrate and the module substrate over a long period of time. It can be made excellent in properties.

(a)は、本発明の第1の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は(a)の下面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 1st Embodiment of this invention, (b) is a bottom view of (a). 図1(a)のA方向における側面図である。It is a side view in the A direction of Fig.1 (a). (a)は、図1(a)に示された電子装置のA−A線における断面図であり、(b)は、(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing in the AA of the electronic device shown by Fig.1 (a), (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a). 本発明の第1の実施形態における電子装置の他の例における要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view in the other example of the electronic device in the 1st Embodiment of this invention. (a)、(b)は、本発明の第1の実施形態における電子装置の他の例における要部拡大断面図である。(A), (b) is principal part expanded sectional drawing in the other example of the electronic device in the 1st Embodiment of this invention. (a)〜(c)は、本発明の第1の実施形態における配線基板の内面電極、配線導体、主面電極の第1の製造方法を示す断面図である。(A)-(c) is sectional drawing which shows the 1st manufacturing method of the inner surface electrode, wiring conductor, and main surface electrode of the wiring board in the 1st Embodiment of this invention. (a)〜(d)は、本発明の第1の実施形態における配線基板の内面電極、配線導体、主面電極の第2の製造方法を示す断面図である。(A)-(d) is sectional drawing which shows the 2nd manufacturing method of the inner surface electrode, wiring conductor, and main surface electrode of the wiring board in the 1st Embodiment of this invention. (a)は、図1における電子装置をモジュール用基板に実装した電子モジュールを示す断面図であり、(b)は(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing which shows the electronic module which mounted the electronic device in FIG. 1 on the board | substrate for modules, (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a). (a)は、本発明の第2の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は(a)の下面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 2nd Embodiment of this invention, (b) is a bottom view of (a). 図9(a)のA方向における側面図である。It is a side view in the A direction of Fig.9 (a). (a)は、図9(a)に示された電子装置のA−A線における断面図であり、(b)は、(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing in the AA of the electronic device shown by Fig.9 (a), (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a). 本発明の第2の実施形態における電子装置の他の例を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the other example of the electronic device in the 2nd Embodiment of this invention. (a)は、本発明の第3の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は(a)の下面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 3rd Embodiment of this invention, (b) is a bottom view of (a). 図14(a)のA方向における側面図である。It is a side view in the A direction of Fig.14 (a). (a)は、図14(a)に示された電子装置のA−A線における断面図であり、(b)は、(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing in the AA of the electronic device shown by Fig.14 (a), (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a). (a)は、本発明の第4の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は(a)の下面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 4th Embodiment of this invention, (b) is a bottom view of (a). (a)は、図16(a)に示された電子装置のA−A線における断面図であり、(b)は、(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing in the AA of the electronic device shown by Fig.16 (a), (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a). (a)は、本発明の第5の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は、(a)のA−A線における断面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 5th Embodiment of this invention, (b) is sectional drawing in the AA of (a). (a)は、本発明の第6の実施形態における電子装置を示す上面図であり、(b)は(a)の下面図である。(A) is a top view which shows the electronic device in the 6th Embodiment of this invention, (b) is a bottom view of (a). 図19(a)に示された電子装置のA−A線における断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view taken along line AA of the electronic device shown in FIG. (a)は、本発明の第7の実施形態における電子装置を示す下面図であり、(b)は、(a)のA方向における側面図である。(A) is a bottom view which shows the electronic device in the 7th Embodiment of this invention, (b) is a side view in the A direction of (a). (a)は、図21(a)に示された電子装置のA−A線における断面図であり、(b)は、(a)のA部における要部拡大断面図である。(A) is sectional drawing in the AA of the electronic device shown by Fig.21 (a), (b) is a principal part expanded sectional view in the A section of (a).

本発明のいくつかの例示的な実施形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。   Several exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態における電子装置は、図1〜図3、図8に示されているように、配線基板1と、配線基板1の上面に設けられた電子部品2とを含んでいる。電子装置は、図8に示される例のように、例えば電子モジュールを構成するモジュール用基板5上に接合材6を用いて接続される。
(First embodiment)
The electronic device according to the first embodiment of the present invention includes a wiring board 1 and an electronic component 2 provided on the upper surface of the wiring board 1, as shown in FIGS. Yes. As in the example shown in FIG. 8, the electronic device is connected to the module substrate 5 constituting the electronic module, for example, using the bonding material 6.

配線基板1は、主面および側面に開口する切り欠き部12を有している絶縁基体11と、切り欠き部12の内側面に設けられている内面電極13と、絶縁基体11の内部に設けられている配線導体14とを有している。内面電極13は、絶縁基体11の厚み方向において複数に分割されている。図1〜図3、図8において、電子装置は仮想のxyz空間におけるxy平面に実装されている。図1〜図3、図8において、上方向、絶縁基体11の厚み方向とは、仮想のz軸の正方向のことをいう。   The wiring substrate 1 includes an insulating base 11 having a cutout portion 12 opened on the main surface and side surfaces, an inner surface electrode 13 provided on the inner surface of the cutout portion 12, and an insulating base 11. Wiring conductors 14 are provided. The inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base 11. 1 to 3 and 8, the electronic device is mounted on an xy plane in a virtual xyz space. 1 to 3 and 8, the upward direction and the thickness direction of the insulating base 11 refer to the positive direction of the imaginary z-axis.

絶縁基体11は、複数の絶縁層11aからなり、電子部品2の搭載領域を含む上面を有しており、平面視すなわち主面に垂直な方向から見ると矩形の板状の形状を有している。絶縁基体11は、電子部品2を支持するための支持体として機能し、上面中央部の搭載領域上に電子部品2が低融点ろう材または導電性樹脂等の接合部材を介して接着され固定される。   The insulating base 11 is composed of a plurality of insulating layers 11a, has an upper surface including a mounting area for the electronic component 2, and has a rectangular plate shape when viewed from a plan view, that is, a direction perpendicular to the main surface. Yes. The insulating base 11 functions as a support for supporting the electronic component 2, and the electronic component 2 is bonded and fixed to the mounting area in the center of the upper surface via a bonding member such as a low melting point brazing material or a conductive resin. The

絶縁基体11は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体またはガラスセラミックス焼結体等のセラミックスを用いることができる。   As the insulating substrate 11, for example, ceramics such as an aluminum oxide sintered body (alumina ceramic), an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, or a glass ceramic sintered body can be used.

絶縁基体11が、例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウム等の原料粉末に適当な有機バインダーおよび溶剤等を添加混合して泥漿状とし、これをドクターブレード法やカレンダーロール法等によってシート状に成形してセラミックグリーンシートを得て、しかる後、セラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともにこれを複数枚積層し、高温(約1600℃)で焼成することによって製作される。   If the insulating substrate 11 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, a suitable organic binder and solvent are added to and mixed with raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide and calcium oxide to form a slurry. Then, this is formed into a sheet shape by the doctor blade method or the calender roll method to obtain a ceramic green sheet. After that, the ceramic green sheet is subjected to appropriate punching processing, and a plurality of these are laminated to obtain a high temperature (about 1600 Manufactured by baking at a temperature of ° C.

切り欠き部12は、絶縁基体11の主面および側面に開口している。切り欠き部12は、図1〜図3、図8において絶縁基体11の下側主面(下面)と側面に開口している。切り欠き部12は、絶縁基板11の上側主面(上面)と下側主面(下面)と側面に開口していても構わない。平面視にて角部が円弧状の矩形状に形成されており、絶縁基体11の外辺に沿って長く形成されている。切り欠き部12は、図1〜図3に示す例においては、平面視において、切り欠き部12の幅(絶縁基体11の側面に沿った長さ)は、切り欠き部12の長さ(絶縁基体11の側面から切欠き部12の側壁の底部までの長さ)よりも大きく形成されている。なお、切り欠き部12は、平面視において、半円形状や半楕円形状や半長円形状、あるいは複数の大きさの切り欠き部12が重なった形状であっても構わない。このような切り欠き部12は、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートのいくつかに、レーザー加工や金型による打ち抜き加工等によって、切り欠き部12となる貫通孔を形成しておくことにより形成される。   The notch 12 is opened on the main surface and side surface of the insulating base 11. The cutout portion 12 opens on the lower main surface (lower surface) and side surfaces of the insulating base 11 in FIGS. 1 to 3 and 8. The cutout portion 12 may be opened on the upper main surface (upper surface), lower main surface (lower surface), and side surfaces of the insulating substrate 11. The corners are formed in an arcuate rectangular shape in plan view, and are long along the outer side of the insulating substrate 11. In the example shown in FIGS. 1 to 3, the cutout portion 12 has a width (length along the side surface of the insulating base 11) in plan view that is the length of the cutout portion 12 (insulation). The length from the side surface of the base 11 to the bottom of the side wall of the notch 12) is formed. Note that the cutout portion 12 may have a semicircular shape, a semi-elliptical shape, a semi-oval shape, or a shape in which a plurality of cutout portions 12 overlap each other in plan view. Such cutouts 12 are formed by forming through holes to be the cutouts 12 in some of the ceramic green sheets for the insulating substrate 11 by laser machining or punching with a mold. The

内面電極13は、切り欠き部12の内側面に設けられており、配線導体14は、絶縁基体11の表面および内部に設けられている。図1〜図3に示す例において、切り欠き部12が開口している主面に内面電極13と接続した主面電極15が設けられている。なお、内面電極13と主面電極15とを含む構成で外部電極となっている。配線導体14と主面電極15とは、絶縁基体11の下面において接続されている。内面電極13と配線導体14とは、主面電極15を介して電気的に接続されている。   The inner surface electrode 13 is provided on the inner surface of the notch 12, and the wiring conductor 14 is provided on the surface and inside of the insulating base 11. In the example shown in FIGS. 1 to 3, a main surface electrode 15 connected to the inner surface electrode 13 is provided on the main surface where the notch 12 is open. Note that the structure includes the inner surface electrode 13 and the main surface electrode 15 to form an outer electrode. The wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 are connected on the lower surface of the insulating base 11. The inner surface electrode 13 and the wiring conductor 14 are electrically connected via the main surface electrode 15.

内面電極13と主面電極15とを含む外部電極は、モジュール用基板5と接合するためのものである。内面電極13、配線導体14、主面電極15は、配線基板1に搭載された電子部品2とモジュール用基板5とを電気的に接続するためのものである。配線導体14は、絶縁基体11の表面または内部に設けられた配線導体14と、絶縁基体11を構成する絶縁層11aを貫通して上下に位置する配線導体同士を電気的に接続する貫通導体とを含んでいる。   External electrodes including the inner surface electrode 13 and the main surface electrode 15 are for bonding to the module substrate 5. The inner surface electrode 13, the wiring conductor 14, and the main surface electrode 15 are for electrically connecting the electronic component 2 mounted on the wiring substrate 1 and the module substrate 5. The wiring conductor 14 includes a wiring conductor 14 provided on the surface or inside of the insulating base 11, and a through conductor that electrically connects the wiring conductors that are positioned above and below the insulating layer 11a constituting the insulating base 11. Is included.

内面電極13または主面電極15は、薄膜層からなり、例えば、密着金属層とバリア層とを有している。内面電極13または主面電極15を構成する密着金属層は、絶縁基体11の主面および切り欠き部12の内側面に形成される。密着金属層は、例えば、窒化タンタルやニッケル−クロム、ニッケル−クロムーシリコン、タングステン−シリコン、モリブデン−シリコン、タングステン、モリブデン、チタン、クロム等から成り、蒸着法やイオンプレーティング法、スパッタリング法等の薄膜形成技術を採用することにより、絶縁基板11の表面および切り欠き部12の内側面に被着される。例えば真空蒸着法を用いて形成する場合には、絶縁基体11を真空蒸着装置の成膜室内に設置して、成膜室内の蒸着源に密着金属層と成る金属片を配置し、その後、成膜室内を真空状態(10−2Pa以下の圧力)にするとともに、蒸着源に配置された金属片を加熱して蒸着させ、この蒸着した金属片の分子を絶縁基板11に被着させることにより、密着金属層と成る薄膜金属の層を形成する。そして、薄膜金属層が形成された絶縁基体11にフォトリソグラフィ法を用いてレジストパターンを形成した後、エッチングによって余分な薄膜金属層を除去することにより、密着金属層が形成される。密着金属層の上面にはバリア層が被着され、バリア層は密着金属層とめっき層と接合性、濡れ性が良く、密着金属層とめっき層とを強固に接合させるとともに密着金属層とめっき層との相互拡散を防止する作用をなす。バリア層は、例えば、ニッケルークロムや白金、パラジウム、ニッケル、コバルト等から成り、蒸着法やイオンプレーティング法、スパッタリング法等の薄膜形成技術により密着金属層の表面に被着される。 The inner surface electrode 13 or the main surface electrode 15 is formed of a thin film layer, and includes, for example, an adhesion metal layer and a barrier layer. The adhesion metal layer constituting the inner surface electrode 13 or the main surface electrode 15 is formed on the main surface of the insulating base 11 and the inner surface of the notch 12. The adhesion metal layer is made of, for example, tantalum nitride, nickel-chromium, nickel-chromium-silicon, tungsten-silicon, molybdenum-silicon, tungsten, molybdenum, titanium, chrome, etc., and vapor deposition, ion plating, sputtering, etc. By adopting this thin film forming technique, the thin film is deposited on the surface of the insulating substrate 11 and the inner side surface of the notch 12. For example, in the case of forming using a vacuum vapor deposition method, the insulating substrate 11 is installed in a film forming chamber of a vacuum vapor deposition apparatus, a metal piece serving as an adhesion metal layer is disposed in a vapor deposition source in the film forming chamber, and then the formation is performed. By vacuuming the inside of the film chamber (pressure of 10 −2 Pa or less), heating and depositing a metal piece arranged in a deposition source, and depositing molecules of the deposited metal piece on the insulating substrate 11 Then, a thin film metal layer to be an adhesion metal layer is formed. Then, after a resist pattern is formed on the insulating substrate 11 on which the thin film metal layer is formed by using a photolithography method, an extra thin film metal layer is removed by etching to form an adhesion metal layer. A barrier layer is deposited on the top surface of the adhesion metal layer. The barrier layer has good adhesion and wettability between the adhesion metal layer and the plating layer, and firmly adheres the adhesion metal layer and the plating layer and also adheres to the adhesion metal layer and the plating layer. It acts to prevent interdiffusion with the layers. The barrier layer is made of, for example, nickel-chromium, platinum, palladium, nickel, cobalt or the like, and is deposited on the surface of the adhesion metal layer by a thin film forming technique such as a vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method.

密着金属層の厚さは0.01〜0.5μm程度が良い。0.01μm未満では、絶縁基体11上に密
着金属層を強固に密着させることが困難となる傾向がある。0.5μmを超える場合は密着
金属層の成膜時の内部応力によって密着金属層の剥離が生じ易くなる。また、バリア層の厚さは0.05〜1μm程度が良い。0.05μm未満では、ピンホール等の欠陥が発生してバリア層としての機能を果たしにくくなる傾向がある。1μmを超える場合は、成膜時の内部応力によりバリア層の剥離が生じ易くなる。
The thickness of the adhesion metal layer is preferably about 0.01 to 0.5 μm. If it is less than 0.01 μm, it tends to be difficult to firmly adhere the adhesion metal layer on the insulating substrate 11. When the thickness exceeds 0.5 μm, peeling of the adhesion metal layer is likely to occur due to internal stress during the formation of the adhesion metal layer. The thickness of the barrier layer is preferably about 0.05 to 1 μm. If it is less than 0.05 μm, defects such as pinholes tend to occur, making it difficult to function as a barrier layer. When the thickness exceeds 1 μm, the barrier layer is easily peeled off due to internal stress during film formation.

配線導体14は、タングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag)または銅(Cu)等の金属材料を用いることができる。例えば、絶縁基体11が酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、W,MoまたはMn等の高融点金属粉末に適当な有機バインダーおよび溶媒等を添加混合して得た導体ペーストを、絶縁基体11となるセラミックグリーンシートに予めスクリーン印刷法によって所定のパターンに印刷塗布して、絶縁基体11となるセラミックグリーンシートと同時に焼成することによって、絶縁基体11の所定位置に被着形成される。配線導体14が貫通導体である場合は、金型やパンチングによる打ち抜き加工やレーザー加工によってグリーンシートに貫通孔を形成して、この貫通孔に印刷法によって配線導体14用の導体ペーストを充填しておくことによって形成される。   The wiring conductor 14 can be made of a metal material such as tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), silver (Ag), or copper (Cu). For example, when the insulating substrate 11 is made of an aluminum oxide sintered body, a conductive paste obtained by adding and mixing a suitable organic binder and solvent to a refractory metal powder such as W, Mo or Mn is insulated. The ceramic green sheet to be the base 11 is preliminarily printed and applied in a predetermined pattern by a screen printing method, and is fired simultaneously with the ceramic green sheet to be the insulating base 11, thereby being deposited on a predetermined position of the insulating base 11. When the wiring conductor 14 is a through conductor, a through hole is formed in the green sheet by punching by a die or punching or laser processing, and a conductive paste for the wiring conductor 14 is filled into the through hole by a printing method. It is formed by placing.

内面電極13は、絶縁基体11の厚み方向において複数に分割されている。図1〜図3に示す例において、内面電極13は、絶縁基体11の厚み方向に2つに分割されている。図2に示す例において、内面電極13は、ハッチングにて示している。なお、内面電極13が絶縁基体11の厚み方向において複数に分割されているとは、切り欠き部12の内側面において、内面電極13が上下に連続していないことを示している。   The inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base 11. In the example shown in FIGS. 1 to 3, the inner surface electrode 13 is divided into two in the thickness direction of the insulating base 11. In the example shown in FIG. 2, the inner surface electrode 13 is shown by hatching. The fact that the inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base 11 indicates that the inner surface electrode 13 is not continuous vertically on the inner surface of the cutout portion 12.

配線基板1は、主面および側面に開口する切り欠き部12を有している絶縁基体11と、切
り欠き部12の内側面に設けられている内面電極13と、絶縁基体11の内部に設けられている配線導体14とを有しており、内面電極13は、絶縁基体11の厚み方向において複数に分割されていることから、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板1とすることができる。
The wiring substrate 1 includes an insulating base 11 having a cutout portion 12 opened on the main surface and side surfaces, an inner surface electrode 13 provided on the inner surface of the cutout portion 12, and an insulating base 11. Since the inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base 11, even if the heat of the electronic component 2 is largely transferred to the inner surface electrode 13, The stress due to the difference in thermal expansion between the insulating base 11 and the inner surface electrode 13 and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring board 1 and the module substrate 5 are distributed to the plurality of inner surface electrodes 13, and the inner surface electrode 13 peels from the insulating base 11. The possibility can be reduced, and the wiring substrate 1 can be made small and highly accurate with excellent electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time.

分割された複数の内面電極13の間隔h3は、例えば、内面電極13が絶縁基体11の厚み方向において2つに分割された場合、切り欠き部12の深さD1に対して、0.05D1≦h3≦0.3D1としておくと、切り欠き部12の内側面に形成される内面電極13の面積を良好に確
保しつつ、複数の内面電極13を良好に分割して形成することができるので、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板1とすることができる。
For example, when the inner surface electrode 13 is divided into two in the thickness direction of the insulating base 11, the distance h3 between the plurality of divided inner surface electrodes 13 is 0.05D1 ≦ h3 with respect to the depth D1 of the notch 12. If it is set to ≦ 0.3D1, a plurality of inner surface electrodes 13 can be formed with good division while ensuring a good area of the inner surface electrode 13 formed on the inner surface of the notch portion 12, so that the Thus, the wiring board 1 can be made small and highly accurate with excellent electrical connection reliability with the module substrate 5.

また、例えば、内面電極13が絶縁基体11の厚み方向において2つに分割された場合、切り欠き部12の奥底部における内面電極13の高さh1、切り欠き部12の下面側開口部における内側電極13の高さh2は、それぞれ0.28D1≦h1≦0.57D1、0.28D1≦h2≦0.57D1、0.67h2≦h1≦1.5h2程度としておくと、配線基板1とモジュール基板5との
熱膨張差による応力は、絶縁基体11の厚み方向に沿って複数の内面電極13に良好に分割され、絶縁基体11と内面電極13とが剥離する可能性を低減することができる。
Further, for example, when the inner surface electrode 13 is divided into two in the thickness direction of the insulating base 11, the height h1 of the inner surface electrode 13 at the back bottom of the notch 12 and the inner side of the lower surface side opening of the notch 12 When the height h2 of the electrode 13 is set to about 0.28D1 ≦ h1 ≦ 0.57D1, 0.28D1 ≦ h2 ≦ 0.57D1, and 0.67h2 ≦ h1 ≦ 1.5h2, respectively, the difference in thermal expansion between the wiring substrate 1 and the module substrate 5 occurs. The stress is satisfactorily divided into the plurality of inner surface electrodes 13 along the thickness direction of the insulating base 11, and the possibility that the insulating base 11 and the inner surface electrode 13 are peeled can be reduced.

また、切り欠き部12の奥底部における内面電極13の厚みが、切り欠き部12の下面側開口部における内側電極13の厚みよりも小さくても構わない。   In addition, the thickness of the inner surface electrode 13 at the bottom of the notch 12 may be smaller than the thickness of the inner electrode 13 at the lower surface side opening of the notch 12.

また、図2に示す例のように、切欠部12の内側面に沿って分割されていることによって、配線基板1とモジュール基板5との熱膨張差による応力は、絶縁基体11の厚み方向に沿って複数の内面電極13に分割するので、絶縁基体11と内面電極13とが剥離する可能性を低減することができる。   Further, as in the example shown in FIG. 2, the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring substrate 1 and the module substrate 5 is caused in the thickness direction of the insulating base 11 by being divided along the inner surface of the notch 12. Accordingly, the possibility that the insulating base 11 and the inner surface electrode 13 are peeled off can be reduced.

図1〜図3に示す例においては、配線導体14と主面電極15とが、絶縁基体11の主面にて接続されている。図4に示す例においては、内面電極13と配線導体14とが、内面電極13における絶縁基体11の主面とは反対側の端部すなわち切り欠き部12の奥底部にて接続されている。配線導体14が主面電極15と接続されている場合には、内面電極13と配線導体14とが接続されている場合と比較して、電子部品2と配線基板1、モジュール基板5との電気的接続を良好なものとすることができる。   In the example shown in FIGS. 1 to 3, the wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 are connected to the main surface of the insulating base 11. In the example shown in FIG. 4, the inner surface electrode 13 and the wiring conductor 14 are connected at the end of the inner surface electrode 13 opposite to the main surface of the insulating base 11, that is, at the bottom of the notch 12. When the wiring conductor 14 is connected to the main surface electrode 15, compared with the case where the inner surface electrode 13 and the wiring conductor 14 are connected, the electrical connection between the electronic component 2, the wiring substrate 1, and the module substrate 5 is achieved. Connection can be made good.

図5に示す例において、分割された複数の内面電極13のそれぞれが配線導体14に電気的に接続されている。複数の内面電極13のそれぞれが配線導体14に電気的に接続していることにより、仮に複数の内面電極13の一方が絶縁基体11から剥がれたとしても、他方の内面電極13が配線導体14に電気的に接続されたものとなって、モジュール基板5との電気的接続信頼性に優れた配線基板1とすることができる。図5(a)に示す例においては、分割された複数の内面電極13のそれぞれが、切り欠き部12の内側面にて配線導体14に接続されている。図5(b)に示す例においては、内面電極13の1つと配線導体14とが、切り欠き部12の奥底部にて接続されているとともに、配線導体14と主面電極15とが、絶縁基体11の下側主面において接続されている。   In the example shown in FIG. 5, each of the divided plurality of inner surface electrodes 13 is electrically connected to the wiring conductor 14. Since each of the plurality of inner surface electrodes 13 is electrically connected to the wiring conductor 14, even if one of the plurality of inner surface electrodes 13 is peeled off from the insulating base 11, the other inner surface electrode 13 is connected to the wiring conductor 14. As a result, the wiring board 1 is excellent in electrical connection reliability with the module substrate 5. In the example shown in FIG. 5A, each of the divided plurality of inner surface electrodes 13 is connected to the wiring conductor 14 on the inner surface of the cutout portion 12. In the example shown in FIG. 5B, one of the inner surface electrodes 13 and the wiring conductor 14 are connected at the bottom of the notch 12, and the wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 are insulated. The lower main surface of the base 11 is connected.

本発明の第1の実施形態における配線基板1は、例えば、以下の製造方法により製作することができる。   The wiring board 1 in the first embodiment of the present invention can be manufactured, for example, by the following manufacturing method.

第1の製造方法は、図6(a)に示された例のように、内部と表面に配線導体14が形成された、複数の絶縁層111aからなる絶縁母基板111を準備する。絶縁母基板111は、複数
の絶縁基体11がつながっている形状、例えば、複数個取り用配線基板の形状をしており、下側主面に開口する切り欠き部12となる凹部112を有している。そして、図6(b)に示
された例のように、絶縁母基板111の切り欠き部12となる凹部112の内側面に、絶縁母基板111の厚み方向において複数に分割されるように、内側電極13を形成する。図6(c)に
示された例のように、凹部112を分断することにより、切り欠き部112の内側面に、絶縁基板11の厚み方向において複数に分割された内側電極13を有する配線基板1を製作することができる。
In the first manufacturing method, as in the example shown in FIG. 6A, an insulating mother substrate 111 composed of a plurality of insulating layers 111a having a wiring conductor 14 formed on the inside and the surface is prepared. The insulating mother board 111 has a shape in which a plurality of insulating bases 11 are connected, for example, a shape of a wiring board for taking a plurality of pieces, and has a recess 112 that becomes a notch 12 that opens in the lower main surface. ing. Then, as in the example shown in FIG. 6B, the inner surface of the recess 112 that becomes the notch 12 of the insulating mother substrate 111 is divided into a plurality of portions in the thickness direction of the insulating mother substrate 111. The inner electrode 13 is formed. As shown in the example shown in FIG. 6C, the wiring substrate having the inner electrode 13 divided into a plurality in the thickness direction of the insulating substrate 11 on the inner surface of the notch 112 by dividing the recess 112. 1 can be made.

次に、第2の製造方法について、説明する。第2の製造方法は、第1の製造方法と同様に、図7(a)に示された例のように、内部と表面に配線導体14が形成された、複数の絶縁層111aからなる絶縁母基板111を準備する。そして、図7(b)に示された例のように、絶縁母基板111の切り欠き部12となる凹部112の内側面に、内側電極13を形成する。図7(c)に示された例のように、凹部112を分断することにより、切り欠き部112の内側面に、内側電極13を有する配線基板を製作する。さらに、図7(d)に示された例のように、切り欠き部112の内側面に形成された内側電極13が、絶縁基板11の厚み方向において複数
に分割することにより、切り欠き部112の内側面に、絶縁基板11の厚み方向において複数
に分割された内側電極13を有する配線基板1を製作することができる。
Next, the second manufacturing method will be described. In the second manufacturing method, as in the first manufacturing method, as in the example shown in FIG. 7A, an insulating layer 111a having a plurality of insulating layers 111a having wiring conductors 14 formed inside and on the surface is used. A mother board 111 is prepared. Then, as in the example shown in FIG. 7B, the inner electrode 13 is formed on the inner surface of the recess 112 that becomes the notch 12 of the insulating mother substrate 111. As in the example shown in FIG. 7C, the wiring board having the inner electrode 13 is manufactured on the inner surface of the notch 112 by dividing the recess 112. Further, as in the example shown in FIG. 7D, the inner electrode 13 formed on the inner surface of the notch 112 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating substrate 11. A wiring substrate 1 having an inner electrode 13 divided into a plurality of portions in the thickness direction of the insulating substrate 11 can be manufactured on the inner surface of the substrate.

なお、第1の製造方法は、生産性良く、電子部品2と配線基板1、モジュール基板5との電気的接続を良好な配線基板1を製作することができる。   Note that the first manufacturing method can produce the wiring substrate 1 with good productivity and good electrical connection between the electronic component 2, the wiring substrate 1, and the module substrate 5.

第2の製造方法は、平面視における切り欠き部12の大きさが小さい場合に、切り欠き部12の内側面に、絶縁基体11の厚み方向において、分割された複数の内面電極13を精度よく形成しやすいので、より小型の電子部品2と配線基板1、モジュール基板5との電気的接続を良好な配線基板1を製作することができる。   In the second manufacturing method, when the size of the cutout portion 12 in a plan view is small, a plurality of divided inner surface electrodes 13 are accurately provided on the inner side surface of the cutout portion 12 in the thickness direction of the insulating base 11. Since it is easy to form, it is possible to manufacture the wiring board 1 with good electrical connection between the smaller electronic component 2 and the wiring board 1 and module board 5.

電極13および配線導体14、主面電極15の露出する表面には、電解めっき法または無電解めっき法によってめっき層が被着される。めっき層は、ニッケル,銅,金または銀等の耐食性や接続部材との接続性に優れる金属から成るものであり、例えば、厚さ0.5〜5μm
程度のニッケルめっき層と0.1〜3μm程度の金めっき層とが、あるいは厚さ1〜10μm
程度のニッケルめっき層と0.1〜1μm程度の銀めっき層とが、順次被着される。これに
よって、電極13および配線導体14、主面電極15が腐食することを効果的に抑制できるとともに、配線導体14と電子部品2との固着や配線導体14ボンディングワイヤ等の接続部材3との接合や、電極13および主面電極15とモジュール用基板5に形成された接続用の接続パッド51との接合を強固にできる。
A plating layer is applied to the exposed surfaces of the electrode 13, the wiring conductor 14, and the main surface electrode 15 by an electrolytic plating method or an electroless plating method. The plating layer is made of a metal having excellent corrosion resistance such as nickel, copper, gold, or silver, and connectivity with the connection member. For example, the thickness is 0.5 to 5 μm.
A nickel plating layer of about 0.1 to 3 μm or a thickness of 1 to 10 μm
A nickel plating layer and a silver plating layer of about 0.1 to 1 μm are sequentially deposited. As a result, corrosion of the electrode 13, the wiring conductor 14, and the main surface electrode 15 can be effectively suppressed, and the wiring conductor 14 and the electronic component 2 can be fixedly bonded to each other or to the connection member 3 such as the wiring conductor 14 bonding wire. In addition, the bonding between the electrode 13 and the main surface electrode 15 and the connection pad 51 for connection formed on the module substrate 5 can be strengthened.

また、電子部品2の搭載となる配線導体14上では、例えば、厚さ10〜80μm程度の銅めっき層を被着させておくことにより、電子部品2の熱を良好に放熱させやすくしてもよい。また、外部電極上では、例えば、厚さ10〜80μm程度の銅めっき層を被着させておくことにより、配線基板1の熱を良好に放熱させやすくしてもよい。   Further, on the wiring conductor 14 on which the electronic component 2 is to be mounted, for example, a copper plating layer having a thickness of about 10 to 80 μm may be deposited so that the heat of the electronic component 2 can be easily radiated. Good. In addition, on the external electrode, for example, a copper plating layer having a thickness of about 10 to 80 μm may be deposited to easily dissipate the heat of the wiring board 1 satisfactorily.

配線基板1の上面には、電子部品2が搭載されることによって電子装置を作製できる。配線基板1に搭載される電子部品2は、ICチップやLSIチップ等の半導体素子,発光素子,水晶振動子や圧電振動子等の圧電素子および各種センサ等である。例えば、電子部品2がワイヤボンディング型の半導体素子である場合には、半導体素子は、低融点ろう材または導電性樹脂等の接合部材によって、配線導体14上に固定された後、ボンディングワイヤ等の接続部材3を介して半導体素子の電極と配線導体14とが電気的に接続されることによって配線基板1に搭載される。また、例えば、電子部品2がフリップチップ型の半導
体素子である場合には、半導体素子は、はんだバンプや金バンプまたは導電性樹脂(異方性導電樹脂等)等の接続部材3を介して、半導体素子の電極と配線導体14とが電気的および機械的に接続されることによって配線基板1に搭載される。また、配線基板1には、複数の電子部品2を搭載しても良いし、必要に応じて、抵抗素子や容量素子等の小型の電子部品を搭載しても良い。また、電子部品2は必要に応じて、樹脂やガラス等からなる封止材4、樹脂やガラス、セラミックス、金属等からなる蓋体等により封止される。
An electronic device can be manufactured by mounting the electronic component 2 on the upper surface of the wiring board 1. The electronic component 2 mounted on the wiring board 1 is a semiconductor element such as an IC chip or an LSI chip, a light emitting element, a piezoelectric element such as a crystal vibrator or a piezoelectric vibrator, and various sensors. For example, when the electronic component 2 is a wire bonding type semiconductor element, the semiconductor element is fixed onto the wiring conductor 14 by a bonding member such as a low melting point brazing material or a conductive resin, and then bonded to a bonding wire or the like. The electrode of the semiconductor element and the wiring conductor 14 are electrically connected via the connecting member 3 to be mounted on the wiring board 1. For example, when the electronic component 2 is a flip-chip type semiconductor element, the semiconductor element is connected via a connecting member 3 such as a solder bump, a gold bump, or a conductive resin (anisotropic conductive resin, etc.) The electrode of the semiconductor element and the wiring conductor 14 are mounted on the wiring board 1 by being electrically and mechanically connected. In addition, a plurality of electronic components 2 may be mounted on the wiring board 1, or small electronic components such as a resistance element and a capacitive element may be mounted as necessary. Further, the electronic component 2 is sealed with a sealing material 4 made of resin, glass, or the like, a lid made of resin, glass, ceramics, metal, or the like, as necessary.

本実施形態の電子装置が、図8に示される例のように、モジュール用基板5の接続パッド51に半田等の接合材6を介して接続されて、電子モジュールとなる。接合材6は、切り欠き部12内にて複数に分割された内面電極13、また絶縁基体11の下面にて主面電極15に接合されており、内面電極13にかかる応力を分散することが可能となる。また、接合材6は電極13の切り欠き部12内側の端部から接続パッド51の外側の端部にかけて広がるように傾斜している。このような構成とすることによって、取り扱い時の外力等により電子装置に応力が発生しても、広がるように傾斜している接合材6により応力が分散されるものとなり、電子装置がモジュール用基板5に強固に接続されるものとなって、接続信頼性が向上された電子モジュールとすることができる。この場合、平面透視すなわち主面に垂直な方向から透視すると、接続パッド51の外側の端部は内面電極13の切り欠き部12内側の端部より外側に位置している。また、接続パッド51の内側の端部は主面電極15内側の端部と同等の箇所に位置している。   As in the example shown in FIG. 8, the electronic device according to the present embodiment is connected to the connection pad 51 of the module substrate 5 via the bonding material 6 such as solder to form an electronic module. The bonding material 6 is bonded to the inner surface electrode 13 divided into a plurality of portions in the notch 12 and the main surface electrode 15 on the lower surface of the insulating base 11, so that the stress applied to the inner surface electrode 13 can be dispersed. It becomes possible. Further, the bonding material 6 is inclined so as to spread from the inner end of the notch 12 of the electrode 13 to the outer end of the connection pad 51. By adopting such a configuration, even if stress is generated in the electronic device due to an external force or the like during handling, the stress is dispersed by the bonding material 6 inclined so as to spread, and the electronic device becomes a module substrate. Thus, an electronic module with improved connection reliability can be obtained. In this case, when viewed in a plan view, that is, when viewed in a direction perpendicular to the main surface, the outer end portion of the connection pad 51 is located outside the end portion inside the cutout portion 12 of the inner surface electrode 13. Further, the inner end of the connection pad 51 is located at the same position as the inner end of the main surface electrode 15.

本実施形態の配線基板によれば、主面および側面に開口する切り欠き部12を有している絶縁基体11と、切り欠き部12の内側面に設けられている内面電極13と、絶縁基体13の内部に設けられている配線導体14とを有しており、内面電極13は、絶縁基体11の厚み方向において複数に分割されていることから、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板1とすることができる。   According to the wiring board of the present embodiment, the insulating base 11 having the cutout portion 12 opened on the main surface and the side surface, the inner surface electrode 13 provided on the inner side surface of the cutout portion 12, and the insulating base. 13, and the inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base 11, so that the heat of the electronic component 2 is greatly applied to the inner surface electrode 13. Even if transmitted, the stress due to the difference in thermal expansion between the insulating base 11 and the inner surface electrode 13 and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring board 1 and the module substrate 5 are distributed to the plurality of inner surface electrodes 13, and the inner surface electrode 13 is insulated. The possibility of peeling from the substrate 11 can be reduced, and the wiring board 1 can be made small and highly accurate with excellent electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time.

本実施形態における配線基板1は、小型で高出力の電子装置において好適に使用することができ、配線基板1における電気的接続を良好に図ることができる。例えば、電子部品2として、高発光の発光素子を搭載する発光素子搭載用の小型の配線基板1として好適に用いることができる。   The wiring board 1 in the present embodiment can be suitably used in a small and high-power electronic device, and electrical connection in the wiring board 1 can be favorably achieved. For example, the electronic component 2 can be suitably used as a small-sized wiring board 1 for mounting a light emitting element on which a high light emitting element is mounted.

本実施形態の電子装置によれば、上記構成の配線基板1を有していることによって、電気的信頼性に関して向上されている。   According to the electronic device of this embodiment, the electrical reliability is improved by having the wiring board 1 having the above-described configuration.

本発明の他の態様による電子モジュールによれば、上記構成の電子装置がモジュール用基板5の接続パッド51に接合材6を介して接続されていることから、長期間にわたって配線基板1とモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れたものとすることができる。   According to the electronic module according to another aspect of the present invention, since the electronic device having the above configuration is connected to the connection pad 51 of the module substrate 5 via the bonding material 6, the wiring substrate 1 and the module are used for a long period of time. The electrical connection reliability with the substrate 5 can be excellent.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による電子装置について、図9〜図12を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, an electronic device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第2の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図9〜図12に示された例のように、切り欠き部12の内側面が段差12aを有しており、内面電極13が段差12aによって複数に分割されている点である。   The electronic device according to the second embodiment of the present invention is different from the electronic device according to the first embodiment described above in that the inner surface of the notch 12 is the same as the example shown in FIGS. A step 12a is provided, and the inner surface electrode 13 is divided into a plurality of steps by the step 12a.

本発明の第2の実施形態における配線基板によれば、切り欠き部12の内側面に、絶縁基
体11の厚み方向において良好に分割して内面電極13が形成されるとともに、切り欠き部12の内側面が平面方向にずれて配置されており、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができる。また、内面電極13は段差12aによって複数に分割され、内面電極13の各々は平面方向で互いに間隔を有するものとなっており、絶縁基体11の厚み方向で上下の内面電極13間の間隔すなわち図3(b)〜図5(b)におけるh3を設けなくてもよく、絶縁基体11の厚み方向において各内面電極13の面積をより大きいものとすることが可能となって、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板1とすることができる。
According to the wiring board of the second embodiment of the present invention, the inner surface electrode 13 is formed on the inner side surface of the notch 12 in the thickness direction of the insulating base 11 so as to be well divided. Even if the inner side surface is displaced in the plane direction and the heat of the electronic component 2 is largely transferred to the inner surface electrode 13, the stress due to the thermal expansion difference between the insulating base 11 and the inner surface electrode 13 and the wiring board 1 and module The stress due to the difference in thermal expansion with respect to the substrate 5 is distributed to the plurality of inner surface electrodes 13, and the possibility that the inner surface electrode 13 is peeled off from the insulating base 11 can be reduced. Further, the inner surface electrode 13 is divided into a plurality of parts by the step 12a, and each of the inner surface electrodes 13 is spaced from each other in the plane direction, and the distance between the upper and lower inner surface electrodes 13 in the thickness direction of the insulating base 11, that is, FIG. 3 (b) to FIG. 5 (b) need not be provided, and the area of each inner surface electrode 13 can be made larger in the thickness direction of the insulating substrate 11, and the module can be used for a long time. A small and highly accurate wiring board 1 having excellent electrical connection reliability with the board 5 can be obtained.

第2の実施形態において、図9〜図11に示された例のように、平面視において、絶縁基体11の主面側すなわち切り欠き部12の下面側が、切り欠き部12の奥底部側よりも大きくなるように段差12aが形成されている。このような構成とすることによって、配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差によって電子装置がモジュール用基板5から剥がれるような応力が発生したとしても、段差12aによって応力を分散することが可能となり、好ましい。段差12aの奥行きLは、切り欠き部12の奥底部側の内面電極13の厚みよりも大きく、30μm〜200μm程度に形成される。このような第2の実施形態の配線基板1は、上述
の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。段差12aは、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートに形成する切り欠き部12用の貫通孔の大きさを異ならせて形成しても良いし、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートを積層した際に、切り欠き部12の下面側が小さくなるように積層しても構わない。このようにすると、切り欠き部12の内側面に形成する内面電極13を、絶縁基体11の厚み方向において良好に複数に分割することができる。
In the second embodiment, as in the examples shown in FIGS. 9 to 11, the main surface side of the insulating base 11, that is, the lower surface side of the notch portion 12, from the back bottom side of the notch portion 12 in plan view. The step 12a is formed to be larger. With such a configuration, even if a stress that causes the electronic device to peel from the module substrate 5 is generated due to a difference in thermal expansion between the wiring substrate 1 and the module substrate 5, the stress can be dispersed by the step 12a. This is possible and preferable. The depth L of the step 12a is larger than the thickness of the inner surface electrode 13 on the back bottom side of the notch 12 and is formed to be about 30 μm to 200 μm. Such a wiring board 1 of the second embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above. The step 12a may be formed by varying the size of the through hole for the cutout portion 12 formed in the green sheet to be the respective insulating layer 11a, or the green sheets to be the respective insulating layers 11a are laminated. At this time, lamination may be performed so that the lower surface side of the cutout portion 12 becomes smaller. In this way, the inner surface electrode 13 formed on the inner surface of the notch 12 can be divided into a plurality of portions in the thickness direction of the insulating base 11.

また、図12に示された例のように、平面視において、切り欠き部12の奥底部側が、絶縁基体11の主面側すなわち切り欠き部12の下面側よりも大きくなるように段差12aが形成されている場合には、配線基板1とモジュール用基板5とを接合する接合材6のメニスカスがなだらかなものとなり、配線基板1とモジュール用基板5との接合強度をより強固なものとすることが可能となり、好ましい。段差12aの奥行きLは、切り欠き部12の下面側の内面電極13の厚みよりも大きく、30μm〜200μm程度に形成される。このような第2の
実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。段差12aは、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートに形成する切り欠き部12用の貫通孔の大きさを異ならせて形成しても良いし、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートを積層した際に、切り欠き部12の下面側が大きくなるように積層しても構わない。このようにすると、切り欠き部12の内側面に形成する内面電極13を、絶縁基体11の厚み方向において良好に複数に分割することができる。
Further, as in the example shown in FIG. 12, the level difference 12a is formed so that the back bottom side of the notch 12 is larger than the main surface side of the insulating base 11, that is, the lower surface side of the notch 12 in plan view. When formed, the meniscus of the bonding material 6 for bonding the wiring substrate 1 and the module substrate 5 becomes gentle, and the bonding strength between the wiring substrate 1 and the module substrate 5 is further strengthened. Is possible and preferable. The depth L of the step 12a is larger than the thickness of the inner surface electrode 13 on the lower surface side of the notch 12, and is formed to be about 30 μm to 200 μm. Such a wiring board 1 of the second embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above. The step 12a may be formed by varying the size of the through hole for the cutout portion 12 formed in the green sheet to be the respective insulating layer 11a, or the green sheets to be the respective insulating layers 11a are laminated. At this time, the layers may be laminated so that the lower surface side of the cutout portion 12 becomes larger. In this way, the inner surface electrode 13 formed on the inner surface of the notch 12 can be divided into a plurality of portions in the thickness direction of the insulating base 11.

また、第2の実施形態における配線基板1は、第1の実施形態における配線基板1と比較して、段差12aにより複数の内面電極13に分割されているので、絶縁基体11の厚み方向における切り欠き部12の内側面に、複数の内面電極13を離間するための領域を設ける必要がなくなるで、配線基板1を薄型化しやすいとともに、切り欠き部12の内側面に複数の内面電極13を効率よく分割して形成しやすい。   Further, since the wiring board 1 in the second embodiment is divided into a plurality of inner surface electrodes 13 by the step 12a as compared with the wiring board 1 in the first embodiment, the insulating substrate 11 is cut in the thickness direction. It is not necessary to provide a region for separating the plurality of inner surface electrodes 13 on the inner surface of the notch 12, so that the wiring board 1 can be easily thinned, and the plurality of inner electrodes 13 can be efficiently used on the inner surface of the notch 12. Easy to divide well.

また、例えば、内面電極13が絶縁基体11の厚み方向において2つに分割された場合、第2の実施形態において、切り欠き部12の奥底部における内面電極13の高さh1、切り欠き部12の下面側開口部における内側電極13の高さh2は、それぞれ0.4D1≦h1≦0.6D1、0.4D1≦h2≦0.6D1、0.67h2≦h1≦1.5h2程度としておくと、配線基板1と
モジュール基板5との熱膨張差による応力は、絶縁基体11の厚み方向に沿って複数の内面電極13に良好に分割され、絶縁基体11と内面電極13とが剥離する可能性を低減することが
できる。
For example, when the inner surface electrode 13 is divided into two in the thickness direction of the insulating base 11, in the second embodiment, the height h 1 of the inner surface electrode 13 at the bottom of the notch 12 and the notch 12. When the height h2 of the inner electrode 13 in the lower surface side opening is about 0.4D1 ≦ h1 ≦ 0.6D1, 0.4D1 ≦ h2 ≦ 0.6D1, 0.67h2 ≦ h1 ≦ 1.5h2, respectively, the wiring substrate 1 and the module substrate The stress due to the difference in thermal expansion with respect to 5 is well divided into a plurality of inner surface electrodes 13 along the thickness direction of the insulating base 11, and the possibility that the insulating base 11 and the inner surface electrodes 13 are peeled off can be reduced.

また、第2の実施形態における配線基板1は、図5(a)に示す例と同様に、分割された複数の内面電極13のそれぞれが、切り欠き部12の内側面にて配線導体14に接続されていてもよいし、図5(b)に示す例と同様に、内面電極13の1つと配線導体14とが、切り欠き部12の奥底部にて接続されているとともに、配線導体14と主面電極15とが、絶縁基体11の下面側主面において接続されていてもよい。   Further, in the wiring board 1 according to the second embodiment, each of the divided plurality of inner surface electrodes 13 is connected to the wiring conductor 14 on the inner side surface of the notch 12 as in the example shown in FIG. As in the example shown in FIG. 5B, one of the inner surface electrodes 13 and the wiring conductor 14 are connected at the bottom of the notch 12, and the wiring conductor 14 is also connected. And the main surface electrode 15 may be connected on the lower surface side main surface of the insulating base 11.

なお、第2の実施形態においては、図9〜図12に示す例のように、主面電極15は、絶縁基体11の上面側および下面側に形成しており、絶縁基体11の上面側および下面側にて、配線導体14と主面電極15とがそれぞれ電気的に接続している。   In the second embodiment, as in the example shown in FIGS. 9 to 12, the main surface electrode 15 is formed on the upper surface side and the lower surface side of the insulating substrate 11, and the upper surface side of the insulating substrate 11 and On the lower surface side, the wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 are electrically connected to each other.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による電子装置について、図13〜図15を参照しつつ説明する。
(Third embodiment)
Next, an electronic device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第3の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図13〜図15に示された例のように、内面電極13が、切り欠き部12の奥底面に延出されている点である。   The electronic device according to the third embodiment of the present invention is different from the electronic device according to the first embodiment described above in that, as in the examples shown in FIGS. It is the point extended to the back bottom of 12.

本発明の第3の実施形態による配線基板1によれば、内面電極13が、切り欠き部12の内側面および奥底面に形成されていることによって、モジュール用基板5に接合材6を介して接合する際に、内面電極13の端部が、接合材6が濡れやすい切り欠き部12の内側面ではなく、奥底面に位置するものとなっており、配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力が、接合材6を介して内面電極13の端部に伝わりにくいものとすることが可能となり、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   According to the wiring substrate 1 according to the third embodiment of the present invention, the inner surface electrode 13 is formed on the inner surface and the deep bottom surface of the notch 12, so that the module substrate 5 is interposed with the bonding material 6. When joining, the end portion of the inner surface electrode 13 is located not on the inner side surface of the notch portion 12 where the joining material 6 easily gets wet, but on the back bottom surface, and the wiring substrate 1 and the module substrate 5 are connected to each other. It is possible to make it difficult for the stress due to the difference in thermal expansion to be transmitted to the end of the inner surface electrode 13 through the bonding material 6, and it is small and highly accurate with excellent electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time. The wiring board can be made.

第3の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring board 1 of the third embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による電子装置について、図16および図17を参照しつつ説明する。
(Fourth embodiment)
Next, an electronic device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第4の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図16および図17に示された例のように、配線導体14と、内面電極13または主面電極15との接続部が大きく形成されている点である。具体的には、内面電極13が切り欠き部12の奥底面に延出されて、配線導体14と内面電極13との接続された面積が大きくなっており、また配線導体14を構成する貫通導体と、内面電極13に接続されている主面電極15との間に接続ランドを設けて接続された面積が大きくなっているものである。   The electronic device according to the fourth embodiment of the present invention differs from the electronic device according to the first embodiment described above in that, as in the example shown in FIGS. 16 and 17, the wiring conductor 14 and the inner surface electrode 13. Alternatively, the connection portion with the main surface electrode 15 is formed large. Specifically, the inner surface electrode 13 is extended to the back bottom surface of the notch 12, the area where the wiring conductor 14 and the inner surface electrode 13 are connected is increased, and the through conductor constituting the wiring conductor 14 And a connecting land is provided between the inner surface electrode 13 and the main surface electrode 15 connected to the inner surface electrode 13, and the connected area is increased.

本発明の第4の実施形態による配線基板1によれば、内面電極13と配線導体14との接続、または配線導体14と主面電極15との接続を良好なものとし、絶縁基体11と内面電極13、あるいは絶縁基体11と主面電極15とが剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   According to the wiring board 1 according to the fourth embodiment of the present invention, the connection between the inner surface electrode 13 and the wiring conductor 14 or the connection between the wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 is improved, and the insulating substrate 11 and the inner surface It is possible to reduce the possibility that the electrode 13 or the insulating base 11 and the main surface electrode 15 are peeled off, and to make a small and high-precision wiring board excellent in electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time. be able to.

第4の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring board 1 of the fourth embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

第4の実施形態の配線基板1は、例えば、切り欠き部12の底面または絶縁基体11の下面に配線導体14が広範囲にわたって導出するようにしておくことにより形成することができる。また、切り欠き部12の底面に、切り欠き部12の内側面に沿って導出させておくと、内面電極13と配線導体14との接続をより良好なものとし、絶縁基体11と内面電極13とが剥離する可能性をより低減することができる。   The wiring board 1 of the fourth embodiment can be formed, for example, by allowing the wiring conductor 14 to lead out over a wide range on the bottom surface of the notch 12 or the bottom surface of the insulating base 11. Further, if the lead is led out along the inner side surface of the notch 12 to the bottom surface of the notch 12, the inner electrode 13 and the wiring conductor 14 can be connected better, and the insulating base 11 and the inner electrode 13 The possibility of peeling off can be further reduced.

また、絶縁基体11の上面において、配線導体14と主面電極15とが接続される場合においても、同様に、配線導体14を構成する貫通導体と主面電極15との接続ランドを大きく形成しておけば良い。   Similarly, when the wiring conductor 14 and the main surface electrode 15 are connected to each other on the upper surface of the insulating base 11, a connection land between the through conductor and the main surface electrode 15 constituting the wiring conductor 14 is similarly formed. Just keep it.

なお、絶縁基体11は、図16および図17に示された例のようにキャビティ16を含んでいる上面を有している。このようなキャビティ16は、セラミックグリーンシートにレーザー加工や金型による打ち抜き加工等によって、キャビティ16となる貫通孔を複数のセラミックグリーンシートに形成し、これらのセラミックグリーンシートを、貫通孔を形成していないセラミックグリーンシートに積層することで形成できる。また、絶縁基体11の厚みが薄い場合には、キャビティ16用の貫通孔は、セラミックグリーンシートを積層した後、レーザー加工や金型による打ち抜き加工等によって形成すると精度よく加工できるので好ましい。また、図16および図17に示された例のように、切り欠き部12は、キャビティ16の側壁部の幅の25%〜75%程度である。   The insulating base 11 has an upper surface including the cavity 16 as in the example shown in FIGS. Such cavities 16 are formed in a plurality of ceramic green sheets through holes that become the cavities 16 by laser machining or punching with a mold on the ceramic green sheets, and these ceramic green sheets are formed through holes. It can be formed by laminating the ceramic green sheets. In addition, when the insulating substrate 11 is thin, it is preferable that the through hole for the cavity 16 is formed by laser processing, punching with a mold, or the like after laminating ceramic green sheets, because it can be processed with high accuracy. Further, as in the example shown in FIGS. 16 and 17, the notch 12 is about 25% to 75% of the width of the side wall of the cavity 16.

キャビティ16が発光素子を搭載するための空間である場合には、キャビティ16の内側面とキャビティ16の底面とのなす角度θは鈍角であって、特に110度〜145度としても構わない。角度θをこのような範囲とすると、キャビティ16となる貫通孔の内側面を打ち抜き加工で安定かつ効率よく形成することが容易であり、この配線基板1を用いた発光装置を小型化しやすい。また、発光素子が発した光を外部に向かって良好に放射できる。このような角度θの内側面を有するキャビティ16は、パンチの径とダイスの穴の径とのクリアランスを大きく設定した打ち抜き金型を用いてセラミックグリーンシートを打ち抜くことによって形成される。すなわち、打ち抜き金型のパンチの径に対してダイスの穴の径のクリアランスを大きく設定しておくことで、セラミックグリーンシートを主面側から他方主面側に向けて打ち抜く際にグリーンシートがパンチとの接触面の縁からダイスの穴との接触面の縁に向けて剪断されて、貫通孔の径が主面側から他方主面側に広がるように形成される。このとき、セラミックグリーンシートの厚み等に応じてパンチの径とダイスの穴の径とのクリアランスを設定することで、セラミックグリーンシートに形成される貫通孔の内側面の角度を調節できる。このような打ち抜き方法は、打ち抜き加工のみで、キャビティ16の内側面とキャビティ16の底面とのなす角度θを所望の角度にできることから、生産性が高い。   When the cavity 16 is a space for mounting a light emitting element, the angle θ formed between the inner surface of the cavity 16 and the bottom surface of the cavity 16 is an obtuse angle, and may be 110 ° to 145 °. When the angle θ is in such a range, it is easy to stably and efficiently form the inner surface of the through-hole serving as the cavity 16 by punching, and the light emitting device using the wiring board 1 can be easily downsized. In addition, the light emitted from the light emitting element can be emitted well toward the outside. The cavity 16 having the inner surface with such an angle θ is formed by punching a ceramic green sheet using a punching die in which the clearance between the punch diameter and the die hole diameter is set large. In other words, by setting the clearance of the die hole diameter larger than the punch diameter of the punching die, the green sheet is punched when the ceramic green sheet is punched from the main surface side to the other main surface side. Is formed so that the diameter of the through hole spreads from the main surface side to the other main surface side by shearing from the edge of the contact surface to the edge of the contact surface with the die hole. At this time, the angle of the inner surface of the through hole formed in the ceramic green sheet can be adjusted by setting the clearance between the diameter of the punch and the diameter of the die hole according to the thickness of the ceramic green sheet. Such a punching method is highly productive because the angle θ formed by the inner surface of the cavity 16 and the bottom surface of the cavity 16 can be set to a desired angle only by punching.

また、パンチの径とダイスの穴の径とのクリアランスが小さい打ち抜き金型による加工によって角度θが約90度の貫通孔を形成した後に、貫通孔の内側面に円錐台形状または角錐台形状の型を押し当てることでも、上述のような一方の主面側から他方の主面側に広がる角度θを有する貫通孔を形成してもよい。このような場合には、キャビティ15の内側面とキャビティ15の底面とのなす角度θをより精度よく調整できる。   In addition, after forming a through hole having an angle θ of about 90 degrees by processing with a punching die having a small clearance between the diameter of the punch and the diameter of the die, a truncated cone shape or a truncated pyramid shape is formed on the inner surface of the through hole. A through-hole having an angle θ extending from one main surface side to the other main surface side as described above may be formed by pressing the mold. In such a case, the angle θ formed by the inner surface of the cavity 15 and the bottom surface of the cavity 15 can be adjusted with higher accuracy.

配線基板1が、例えば発光素子の搭載されるキャビティ16を含んだ上面を有する絶縁基体11を有する場合には、キャビティ16の内壁面に発光素子が発する光を反射させるための反射層が設けてられていてもよい。反射層は、例えばキャビティ16の内壁面に設けられた金属導体層と金属導体層上に被着されためっき層とを有している。金属導体層は、電極13および主面電極13aまたは配線導体14と同様の材料および方法によって形成することができる。   When the wiring board 1 has an insulating base 11 having an upper surface including the cavity 16 on which the light emitting element is mounted, for example, a reflection layer for reflecting light emitted from the light emitting element is provided on the inner wall surface of the cavity 16. It may be done. The reflective layer has, for example, a metal conductor layer provided on the inner wall surface of the cavity 16 and a plating layer deposited on the metal conductor layer. The metal conductor layer can be formed by the same material and method as the electrode 13 and the main surface electrode 13a or the wiring conductor.

例えば、配線基板1に発光素子を搭載する場合には、金属導体層の最表面には銀めっき層を被着させ、電極13および主面電極13a、配線導体14の最表面には金めっき層を被着させることが好ましい。金めっき層は、銀めっき層と比較して、電子部品2や接続部材3、接合材6との接合性に優れており、銀めっき層は、金めっき層と比較して光に対する反射率が高いためである。また、発光素子が搭載される部位の配線導体14と金属導体層の最表面を銀と金との合金めっき層として、例えば、銀と金との全率固溶の合金めっき層としてもよい。   For example, when a light emitting element is mounted on the wiring board 1, a silver plating layer is deposited on the outermost surface of the metal conductor layer, and a gold plating layer is formed on the outermost surface of the electrode 13, the main surface electrode 13a, and the wiring conductor 14. Is preferably applied. The gold plating layer is superior in bondability to the electronic component 2, the connection member 3, and the bonding material 6 as compared with the silver plating layer, and the silver plating layer has a light reflectivity as compared with the gold plating layer. This is because it is expensive. Further, the outermost surface of the wiring conductor 14 and the metal conductor layer in the portion where the light emitting element is mounted may be an alloy plating layer of silver and gold, for example, an alloy plating layer that is a solid solution of silver and gold.

第4の実施形態の配線基板1は、第1の実施形態と同様に、小型で高出力の電子装置において好適に使用することができ、配線基板1における電気的接続を良好に図ることができる。例えば、電子部品2として、高発光の発光素子を搭載する発光素子搭載用の小型の配線基板として好適に用いることができる。   Similar to the first embodiment, the wiring board 1 of the fourth embodiment can be suitably used in a small and high-power electronic device, and electrical connection in the wiring board 1 can be favorably achieved. . For example, the electronic component 2 can be suitably used as a small wiring board for mounting a light emitting element on which a high light emitting element is mounted.

(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態による電子装置について、図18を参照しつつ説明する。
(Fifth embodiment)
Next, an electronic device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明の第5の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図18に示された例のように、切り欠き部12が電子部品2の搭載面と同じ一方主面(以下、上面ともいう)と側面とに開口している点である。   The electronic device according to the fifth embodiment of the present invention differs from the electronic device according to the first embodiment described above in that the notch 12 is a mounting surface of the electronic component 2 as in the example shown in FIG. And the same main surface (hereinafter also referred to as the upper surface) and side surfaces.

本発明の第5の実施形態における配線基板によれば、第1の実施形態の配線基板と同様に、電子部品2の熱が内面電極13側に伝達することを低減するとともに、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   According to the wiring board of the fifth embodiment of the present invention, as in the wiring board of the first embodiment, the heat of the electronic component 2 is reduced from being transferred to the inner surface electrode 13 side, and the electronic component 2 Even if heat is transferred to the inner surface electrode 13, the stress due to the difference in thermal expansion between the insulating substrate 11 and the inner surface electrode 13 and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring substrate 1 and the module substrate 5 are distributed to the plurality of inner surface electrodes 13. Accordingly, the possibility that the inner surface electrode 13 is peeled off from the insulating base 11 can be reduced, and a small and highly accurate wiring board excellent in electrical connection reliability with the module substrate 5 can be obtained over a long period of time.

第5の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring substrate 1 of the fifth embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

また、このような配線基板1は、配線基板1の上面側で半田等の接合材6によりモジュール用基板5に接合できるので、配線基板1の下面側の全面に絶縁基体11よりも熱伝導率の高い部材を接合して配線基板1の放熱性を向上できる。絶縁基体11よりも熱伝導率の高い材料としては、絶縁基体が11が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合、銅(Cu)、銅−タングステン(Cu−W)またはアルミニウム(Al)等の金属材料、窒化アルミニウム質焼結体からなる絶縁体等が挙げられる。このような配線基板1においては、配線基板1に搭載された電子部品2から切り欠き部12側に伝わる熱量が抑制されるので、より効果的に内面電極13にかかる応力を低減し、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性および放熱性に優れた配線基板とすることができる。   In addition, since such a wiring board 1 can be bonded to the module substrate 5 with a bonding material 6 such as solder on the upper surface side of the wiring board 1, the thermal conductivity of the entire lower surface side of the wiring board 1 is higher than that of the insulating substrate 11. It is possible to improve the heat dissipation of the wiring board 1 by bonding a member having a high height. As a material having higher thermal conductivity than the insulating base 11, when the insulating base 11 is made of an aluminum oxide sintered body, a metal such as copper (Cu), copper-tungsten (Cu-W) or aluminum (Al) is used. Examples thereof include an insulator made of a material and an aluminum nitride sintered body. In such a wiring board 1, since the amount of heat transmitted from the electronic component 2 mounted on the wiring board 1 to the notch 12 side is suppressed, the stress applied to the inner surface electrode 13 can be more effectively reduced and extended for a long time. Thus, a wiring board excellent in electrical connection reliability and heat dissipation with the module substrate 5 can be obtained.

第5の実施形態の配線基板1は、第1の実施形態と同様に、小型で高出力の電子装置において好適に使用することができ、配線基板1における電気的接続を良好に図ることができる。例えば、電子部品2として、高発光の発光素子を搭載する発光素子搭載用の小型の配線基板として好適に用いることができる。   Similar to the first embodiment, the wiring board 1 of the fifth embodiment can be suitably used in a small and high-power electronic device, and electrical connection in the wiring board 1 can be favorably achieved. . For example, the electronic component 2 can be suitably used as a small wiring board for mounting a light emitting element on which a high light emitting element is mounted.

第5の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring substrate 1 of the fifth embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

(第6の実施形態)
次に、本発明の第6の実施形態による電子装置について、図19および図20を参照しつつ説明する。
(Sixth embodiment)
Next, an electronic device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第6の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図19および図20に示された例のように、切り欠き部12が、絶縁基体11の両方主面および側面に開口している点である。   The electronic device according to the sixth embodiment of the present invention is different from the electronic device according to the first embodiment described above in that, as in the example shown in FIG. 19 and FIG. 11 is open to both the main surface and the side surface.

本発明の第6の実施形態による配線基板によれば、本発明の第1の実施形態の配線基板と同様に、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   According to the wiring board according to the sixth embodiment of the present invention, as with the wiring board according to the first embodiment of the present invention, even if the heat of the electronic component 2 is largely transferred to the inner surface electrode 13, The stress due to the difference in thermal expansion with the inner surface electrode 13 and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring board 1 and the module substrate 5 are distributed to the plurality of inner surface electrodes 13, reducing the possibility that the inner surface electrode 13 is peeled off from the insulating substrate 11 Therefore, it is possible to provide a small and highly accurate wiring board having excellent electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time.

なお、第6の実施形態においては、図19および図20に示す例のように、複数の内面電極13間に凹部状の段差12aが形成されており、内面電極13が絶縁基体11の上面側と下面側とに複数に分割されている。   In the sixth embodiment, as in the example shown in FIGS. 19 and 20, a recess 12a is formed between the plurality of inner surface electrodes 13, and the inner surface electrode 13 is located on the upper surface side of the insulating base 11. And the lower surface side.

凹部状の段差12aは、例えば、内面電極13が形成される上側の切り欠き部12と下側の切り欠き部12との間に、これらの切り欠き部12よりも平面視における径の大きな切り欠き部12を介在させておくことにより形成することができる。このような配線基板1は、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートに形成する切り欠き部12用の貫通孔の大きさが異ならせて形成しておくことにより製作することができる。   The recess-shaped step 12a is formed, for example, between the upper notch 12 where the inner surface electrode 13 is formed and the lower notch 12 with a larger diameter in plan view than these notches 12. It can be formed by interposing the notch 12. Such a wiring board 1 can be manufactured by forming the through holes for the notches 12 formed in the green sheets to be the respective insulating layers 11a with different sizes.

第6の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring board 1 of the sixth embodiment can be manufactured using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

(第7の実施形態)
次に、本発明の第7の実施形態による電子装置について、図21および図22を参照しつつ説明する。
(Seventh embodiment)
Next, an electronic device according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第7の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、図21および図22に示された例のように、絶縁基体11の厚み方向において、平面視にて、幅および長さが異なっており、段差12aを有している点である。本発明の第7の実施形態による配線基板によれば、1の実施形態の配線基板と同様に、電子部品2の熱が内面電極13に大きく伝達したとしても、絶縁基体11と内面電極13との熱膨張差による応力および配線基板1とモジュール用基板5との熱膨張差による応力は複数の内面電極13に分散され、内面電極13が絶縁基体11から剥離する可能性を低減することができ、長期間にわたってモジュール用基板5との電気接続信頼性に優れた小型で高精度の配線基板とすることができる。   In the electronic device according to the seventh embodiment of the present invention, the difference from the electronic device according to the first embodiment described above is that, in the thickness direction of the insulating substrate 11, as in the example shown in FIGS. In the plan view, the width and length are different, and there is a step 12a. According to the wiring board according to the seventh embodiment of the present invention, as in the wiring board according to the first embodiment, even if the heat of the electronic component 2 is largely transferred to the inner surface electrode 13, the insulating substrate 11, the inner surface electrode 13, The stress due to the difference in thermal expansion and the stress due to the difference in thermal expansion between the wiring board 1 and the module substrate 5 are distributed to the plurality of inner surface electrodes 13, and the possibility that the inner surface electrode 13 is peeled off from the insulating substrate 11 can be reduced. Thus, it is possible to obtain a small and high-precision wiring board that has excellent electrical connection reliability with the module substrate 5 over a long period of time.

第7の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。   The wiring substrate 1 according to the seventh embodiment can be manufactured by using a manufacturing method similar to the first manufacturing method or the second manufacturing method described above.

このような配線基板1は、例えば、それぞれの絶縁層11aとなるグリーンシートに形成する切り欠き部12用の貫通孔の大きさおよび形状を異ならせて形成しておくことにより製作することができる。   Such a wiring board 1 can be manufactured by, for example, forming the through holes for the notches 12 formed in the green sheets to be the respective insulating layers 11a with different sizes and shapes. .

本発明は、上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、種々の変更は可能である
。上述の例では、切り欠き部12および内面電極13は、絶縁基体11の対向する2側面にそれぞれ1つずつ設けた例を示しているが、切り欠き部12および内面電極13を絶縁基体11の4側面全てに設けた配線基板1や複数の切り欠き部12および内面電極13をそれぞれの辺に設けた配線基板1であっても良い。また、図1〜図22に示す例では、絶縁基体11は、3層または3層の絶縁層11aから形成しているが、2層または4層以上の絶縁層11aからなるものであっても構わない。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. In the above-described example, the notch portion 12 and the inner surface electrode 13 are respectively provided on the two opposing side surfaces of the insulating base 11, but the notch 12 and the inner surface electrode 13 are provided on the insulating base 11. The wiring board 1 provided on all four side surfaces or the wiring board 1 provided with a plurality of cutout portions 12 and the inner surface electrode 13 on each side may be used. In the example shown in FIGS. 1 to 22, the insulating base 11 is formed of three or three insulating layers 11a, but may be formed of two or four or more insulating layers 11a. I do not care.

また、内面電極13は、配線基板1の上面側と下面側とに2つに分割しているが、3つ以上に分割していても構わない。   Further, the inner surface electrode 13 is divided into two on the upper surface side and the lower surface side of the wiring board 1, but it may be divided into three or more.

また、図16に示された例のように、配線基板1は、配線以外の導体である電子部品搭載層17、中央端子層18等を有していても構わない。例えば、これらの導体は、上述の内面電極13、配線導体14、主面電極15と同様の材料および方法により製作することができ、露出する表面には、内面電極13、配線導体14、主面電極15と同様のめっき層が被着されている。電子部品搭載層17は、例えば、電子部品2の搭載用に用いられ、中央端子層18は、例えば、電極13および主面電極13aと同様に、モジュール用基板5との接合に用いられる。また、図16に示される例のように、中央端子層18についても、切り欠き部12の内面に設けられた内面電極13に接続させていても構わない。   Further, as in the example shown in FIG. 16, the wiring board 1 may have an electronic component mounting layer 17, a central terminal layer 18, and the like, which are conductors other than wiring. For example, these conductors can be manufactured by the same material and method as the above-described inner surface electrode 13, wiring conductor 14, and main surface electrode 15, and the exposed surface includes the inner surface electrode 13, wiring conductor 14, and main surface. A plating layer similar to that of the electrode 15 is applied. The electronic component mounting layer 17 is used, for example, for mounting the electronic component 2, and the central terminal layer 18 is used, for example, for bonding to the module substrate 5 similarly to the electrode 13 and the main surface electrode 13 a. Further, as in the example shown in FIG. 16, the central terminal layer 18 may also be connected to the inner surface electrode 13 provided on the inner surface of the cutout portion 12.

また、第1〜第7の実施形態における配線基板1は、それぞれ平板状の配線基板1であっても構わないし、キャビティ16を有する配線基板1であっても構わない。また、第1〜第7の実施形態における配線基板1においては、第2の実施形態における配線基板1のように、切り欠き部12が複数の大きさの切り欠き部12が重なった形状としても構わないし、電子部品搭載層16や中央端子層17を備えていても構わない。   Further, the wiring substrate 1 in the first to seventh embodiments may be a flat wiring substrate 1 or a wiring substrate 1 having a cavity 16. Moreover, in the wiring board 1 in the first to seventh embodiments, the cutout portion 12 may have a shape in which the cutout portions 12 having a plurality of sizes overlap as in the wiring board 1 in the second embodiment. Alternatively, the electronic component mounting layer 16 and the central terminal layer 17 may be provided.

また、上述の例では、配線基板1には、1つの電子部品2が搭載されているが、複数の電子部品2が搭載される配線基板1であっても構わない。   In the above example, one electronic component 2 is mounted on the wiring board 1, but it may be a wiring board 1 on which a plurality of electronic components 2 are mounted.

また、配線基板1は多数個取り配線基板の形態で製作されていてもよい。   Further, the wiring board 1 may be manufactured in the form of a multi-piece wiring board.

1・・・・配線基板
11・・・・絶縁基体
11a・・・絶縁層
12・・・・切り欠き部
13・・・・内面電極
14・・・・配線導体
15・・・・主面電極
16・・・・キャビティ
17・・・・電子部品搭載層
18・・・・中央端子層
2・・・・電子部品
3・・・・接続部材
4・・・・封止材
5・・・・モジュール用基板
51・・・・接続パッド
6・・・・接合材
1 ... Wiring board
11 ... Insulating substrate
11a ... Insulating layer
12 .... Notch
13 ... Inner electrode
14 ... Wiring conductor
15 ... Main surface electrode
16 ... Cavity
17 ... Electronic component mounting layer
18 ... Central terminal layer 2 ... Electronic component 3 ... Connection member 4 ... Sealing material 5 ... Module substrate
51 ··· Connection pad 6 ··· Bonding material

Claims (4)

主面および側面に開口する切り欠き部を有している絶縁基体と、
前記切り欠き部の内側面に設けられている内面電極と、
前記絶縁基体の内部に設けられている配線導体とを有しており、
前記内面電極は、前記絶縁基体の厚み方向において複数に分割されていることを特徴とする配線基板。
An insulating base having a notch opening in the main surface and side surfaces;
An inner surface electrode provided on the inner surface of the notch,
A wiring conductor provided inside the insulating base;
The wiring board according to claim 1, wherein the inner surface electrode is divided into a plurality of parts in the thickness direction of the insulating base.
前記切り欠き部の前記内側面が段差を有しており、
前記内面電極は、前記段差によって複数に分割されていることを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
The inner surface of the notch has a step,
The wiring board according to claim 1, wherein the inner surface electrode is divided into a plurality of parts by the step.
請求項1に記載された配線基板と、
該配線基板に搭載された電子部品とを備えていることを特徴とする電子装置。
A wiring board according to claim 1;
An electronic device comprising: an electronic component mounted on the wiring board.
請求項3に記載された電子装置がモジュール用基板の接続パッドに接合材を介して接続されていることを特徴とする電子モジュール。   An electronic module according to claim 3, wherein the electronic device is connected to a connection pad of the module substrate via a bonding material.
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