JP2015210516A - 位相差板の製造方法及び位相差板 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、位相差板の製造方法及び位相差板を提供する。
【解決手段】この位相差板の製造方法は、交互に配列される少なくとも１つの第１液晶配向領域及び第２液晶配向領域を有する配向液晶層が形成される第１透光基材を提供することと、第１液晶配向領域と第２液晶配向領域の相接部に対応して位置する複数のシャッターバーを第２透光基材に印刷することと、接着層を塗布して第２透光基材の表面及びシャッターバーの表面を被覆することと、接着層と配向液晶層を接続し、且つ配向液晶層と第１透光基材を分離させることと、を含む。
【選択図】図１０

Description

本発明は位相差板の製造方法に関し、特にアライメント機能を有する位相差板の製造方法に関する。

近年来、３Ｄ立体ディスプレイが勢いよく発展し始め、それは次世代ディスプレイの重要な発展方向となるが、３Ｄ位相差フィルムの製造と使用が技術開発の重点となる。

台湾特許Ｉ２３３５１４において、光配向技術によって位相差板を製造して、ハードマスク（例えば石英）で覆って異なる領域を分割した後、更にそれぞれ異なる方向の偏光を用いて異なる領域の液晶をそれぞれ硬化させるだけで、パターン化の位相差板を製造することができる。しかしながら、この技術は、少なくとも２つのマスクを使用しなければ異なる配位方向を形成することができず、マスクの製造コストが増加する以外、アライメントプロセスの精度への要求が高く、アライメントに僅かなずれがあると、品質の低下を引き起こしやすいため、歩留まりが高くなく、或いは、２種の配位方向を有する特別なマスクで実施するが、マスクが高コストで大面積化もできず、実際に量産に応用することが困難である。光配向技術を用いて二領域配向を形成する時に、その液晶層が異なる配向方向における相接部に液晶配向の乱れによる輝線を形成しやすく、この輝線は光漏れ現象を引き起こし、３Ｄ表示の品質の低下を招き、ハードマスクを用いて、光線の拡散によって、このような輝線領域を更に拡大させやすい。

日本特許２００２１８５９８３には、黒色塗料で二領域配向領域の中間にある非配向領域を遮蔽し、３Ｄパネルの上下視野角を増加することができる。しかしながら、それは、直接に黒色塗料で位相差フィルムの液晶面を塗布し、液晶の欠陥を招きやすい。また、黒色塗料が乾燥した後ほこりを生じやすく、このほこりによってスクラッチ又は異物欠陥を形成するため、表示品質が悪く、製品の歩留まりの低下を招く。しかも、位相差フィルムに明らかなアライメントマークがないため、アライメントし難くなる。

従来の二種配向方向を有する位相差板の製造方法は、いずれも歩留まりが低く、アライメントし難くそしてロールツーロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）プロセスに応用することが困難である等の問題を有するため、ロールツーロールプロセスに応用でき、アライメントしやすく且つ品質がよい位相差板の製造方法を開発することが必要になる。

これに鑑みて、本発明は、黒色塗料を含有するシャッターバーを用いて位相差フィルムの二配位領域の中間の相接領域を遮蔽して、位相差フィルムを用いる３Ｄパネルの上下視野角を増加する。シャッターバーは、転移して貼り付けるプロセスを採用し、且つ接着層でシャッターバーを被覆して、黒色塗料が乾燥した後ほこりの発生又は脱落により製品の欠陥を招くことを避ける。この製造方法は、ロールツーロールプロセスに応用されてもよく、高い歩留まりの位相差フィルムを量産することができる方法を提供する。

本発明の一態様は、第１透光基材を提供することと、交互に配列される第１液晶配向領域及び第１液晶配向領域と異なる配向方向を有する第２液晶配向領域を備える配向液晶層を、第１透光基材の光配向層に形成することと、第１液晶配向領域と第２液晶配向領域の相接部に対応して位置する複数のシャッターバーを第２透光基材に印刷することと、接着層を塗布して第２透光基材のこれらのシャッターバーを有する表面及びこれらのシャッターバーの表面を被覆することと、接着層と配向液晶層を接続し、且つ配向液晶層と第１透光基材を分離させることと、を含む位相差板の製造方法を提供する。

本発明の一又は複数の実施形態において、第１透光基材を提供するステップでは、第１透光基材は、第１表面及び該第１表面に対応する第２表面を有し、第１表面に遮光パターンを有し、且つ第２表面に光配向材料層を有する。

本発明の一又は複数の実施形態において、第１透光基材の光配向層に配向液晶層を形成するステップは、直線偏光紫外光を照射して、光配向材料層に、交互に配列される第１配向領域及び第２配向領域を有する光配向層を形成させることと、交互に配列される第１液晶配向領域及び第２液晶配向領域を有し、第１液晶配向領域が該第１配向領域の上に位置し、第２液晶配向領域が第２配向領域の上に位置する配向液晶層を光配向層に形成することと、を含む。

本発明の一又は複数の実施形態において、直線偏光紫外光を照射して光配向材料層に光配向層を形成させるステップは、第１偏光方向を有する第１直線偏光紫外光を、第１透光基材の第１表面から第２表面の方向に向かって光配向材料層に照射して、光配向材料層において第１直線偏光紫外光によって照射された箇所に第１配向領域を形成させることと、第１偏光方向と異なる第２偏光方向を有する第２直線偏光紫外光を、第１透光基材の第２表面から第１表面の方向に向かって光配向材料層を照射して、光配向材料層において第１直線偏光紫外光によって照射されない箇所に第２配向領域を形成させることと、を含む。

本発明の一又は複数の実施形態において、直線偏光紫外光を照射して光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、まず第１直線偏光紫外光を照射して、且つ光配向材料層が第１直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーが、第２直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーより高い。

本発明の一又は複数の実施形態において、直線偏光紫外光を照射して光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、まず第２直線偏光紫外光を照射して、且つ光配向材料層が第１直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーが、第２直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーより低くない。

本発明の一又は複数の実施形態において、直線偏光紫外光を照射して光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、第１直線偏光紫外光の有する第１偏光方向が、第２直線偏光紫外光の有する第２偏光方向に垂直である。

本発明の一又は複数の実施形態において、配向液晶層を光配向層に形成するステップは、液晶材料層を該光配向層に塗布することと、紫外光で液晶材料層を照射して、光配向層と同じ配向方向を有する配向液晶層を形成することと、を含む。

本発明の一又は複数の実施形態において、シャッターバーの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む。そして、シャッターバーは幅が約４０ミクロン〜約１２０ミクロンである。

本発明の一又は複数の実施形態において、接着層の材料は、透光感圧接着剤である。透光感圧接着剤は、アクリル酸感圧接着剤、ウレタン感圧接着剤、ポリイソブチレン感圧接着剤、ゴム感圧接着剤、ポリビニルエーテル感圧接着剤、エポキシ感圧接着剤、メラミン感圧接着剤、ポリエステル感圧接着剤、フェノール類感圧接着剤及びケイ素感圧接着剤からなる群より選ばれるものである。

本発明の一又は複数の実施形態において、第１透光基材と第２透光基材の材料は、ポリエステル系樹脂、酢酸エステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル酸系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリ二塩化ビニル系樹脂及びメタクリル酸系樹脂からなる群より選ばれるものである。

本発明の一又は複数の実施形態において、第１透光基材と第２透光基材の材料は、三酢酸セルロース又はポリカーボネートである。

本発明の一又は複数の実施形態において、光配向材料層の材料は、光配向樹脂である。光配向樹脂は、ケイ皮酸エステル系誘導体、フェニルスチリルケトン系誘導体、マレイミドプロピオン系誘導体、キノリノン基系誘導体、ジフェニルメチレン基系誘導体及びクマリンエステル系誘導体からなる群より選ばれるものである。

本発明の一又は複数の実施形態において、遮光パターンの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む。

本発明の他の態様は、交互に配列される第１液晶配向領域及び第１液晶配向領域と異なる配位方向を有する第２液晶配向領域を備える配向液晶層と、配向液晶層の上に設けられる接着層と、接着層の上に設けられる透光基材と、透光基材と接着層が接続する表面に設けられ、第１液晶配向領域と第２液晶配向領域の相接部に対応し、且つ配向液晶層に接続されない複数のシャッターバーと、を含む位相差板を提供する。

本発明の一又は複数の実施形態において、シャッターバーは、厚さが約１ミクロン〜約５ミクロンであり、幅が約４０ミクロン〜約１２０ミクロンである。

本発明の一又は複数の実施形態において、接着層は、厚さが約１０ミクロン〜約３０ミクロンである。

本発明の一又は複数の実施形態において、シャッターバーの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む。

下記の添付図面の説明は、本発明の上記と他の目的、特徴、メリット及び実施例をより分かりやすくするためのものである。
本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。 本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの構造を示す断面模式図である。 比較例１における方法によって製造された位相差フィルムの構造を示す断面模式図である。 比較例２における方法によって製造された位相差フィルムの構造を示す断面模式図である。 比較例３における方法によって製造された位相差フィルムの構造を示す断面模式図である。

以下で、図面で本発明の複数の実施形態を開示し、説明を明らかにするために、多くの実際の細部を下記の叙述において一括して説明する。しかしながら、当業者が理解すべきなのは、本発明の一部の実施形態においては、これらの実際の細部が必要ないものであるため、本発明を限定するためのものではない。また、図面を簡素化するために、熟知の構造及び素子については、ただ模式的に図面に示す。

図１〜図９を参照すると、図１〜図９は、本発明の一部の実施形態に係る位相差フィルムの製造方法を示す断面模式図である。図１を参照すると、図１は、第１表面１１２及び第１表面１１２に対する第２表面１１４を有する第１透光基材１１０を提供し、第１表面１１２に遮光パターン１２０が形成され、且つ第２表面１１４に光配向材料層１３０が形成されるステップを示す。第１透光基材１１０の材料は、柔軟な、透明性を有する材料であり、ポリエステル系樹脂、酢酸エステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル酸系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリ二塩化ビニル系樹脂又はメタクリル酸系樹脂より選ばれるものであってよいが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、第１透光基材１１０の材料は、三酢酸セルロース又はポリカーボネートである。

遮光パターン１２０は、必要なパターンに従って、遮光材料、バインダー及び溶剤を混合した後、第１透光基材１１０の第１表面１１２に印刷して製造することが可能である。本発明の一部の実施形態において、熱硬化性のバインダーを使用する。遮光材料は、濾過しようとする光波帯域を吸収し又は反射することができ、当業者の熟知している、本技術分野に応用可能な遮光材料が、いずれもここに応用されてよく、本発明の一部の実施形態において、遮光パターン１２０が紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含んでよいが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、紫外光吸収剤は、ベンゾフェノン又はベンゾトリアゾールを含むが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、シェーディングインクは、カーボンブラック、黒鉛、アゾ染料又はフタロシアニン染料を含むが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、遮光パターン１２０は、実施上の便利性に応じて選択することができ、スクリーン印刷、グラビア印刷又はインクスプレー等を含むが、これらに限定されない方式によって第１表面１１２に形成される。本発明の一部の実施形態において、遮光パターン１２０は、ストリップ状構造で第１表面１１２に平行して配列する。本発明の一部の実施形態において、遮光パターン１２０は、幅が約５００μｍ〜約７００μｍである。

光配向材料層１３０の材料は、光配向樹脂であり、光配向樹脂が光異性化型樹脂、光誘起架橋型樹脂、及び光誘起開裂型樹脂等の３種を含み、プロセス上の操作の便利性に応じて選択することができる。本発明の一部の実施形態において、光配向材料層１３０の材料は、光誘起架橋型樹脂である。光誘起架橋樹脂は、ケイ皮酸エステル系誘導体、フェニルスチリルケトン系誘導体、マレイミドプロピオン系誘導体、キノリノン基系誘導体、ジフェニルメチレン基系誘導体又はクマリンエステル系誘導体又はその組み合わせを含むが、これらに限定されない。光配向材料層１３０が第２表面１１４に形成される方式は、特に限定されたものではなく、実施の便利性から選択することができ、スピンコーティング（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）、バーコーティング（ｂａｒ ｃｏａｔｉｎｇ）、浸漬コーティング（ｄｉｐ ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（ｓｌｏｔ ｃｏａｔｉｎｇ）、スクリーン印刷又はグラビア印刷等の方式を含むが、これらに限定されない。

図２Ａ、２Ｂ及び図３Ａ、３Ｂを参照すると、図２Ａ、２Ｂと図３Ａ、３Ｂは、直線偏光紫外光を照射して光配向材料層に光配向層を形成させるステップの２種の実施形態をそれぞれ示す。図２Ａを参照すると、図２Ａは、第１偏光方向を有する第１直線偏光紫外光２１０を、第１透光基材１１０の第１表面１１２から第２表面１１４の方向に向かって光配向材料層１３０に照射して、光配向材料層１３０における、第１直線偏光紫外光２１０によって照射された箇所に第１配向領域２２０を形成させるステップを示す。直線偏光紫外光は、単一の直線偏光方向を有する平面紫外光であり、一般的な非直線偏光（ｎｏｎ‐ｐｏｌａｒｉｚｅｄ）紫外光で他の方向の偏光紫外光をスクリーニングした後、必要な単一の線性方向の偏光紫外光のみを残して得られたものである。本発明の一部の実施形態において、偏光フィルム又は回折格子を利用して直線偏光紫外光をスクリーニングすることができる。第１直線偏光紫外光２１０は、第１偏光方向を有し、第１直線偏光紫外光２１０が光配向材料層１３０に照射される場合、照射された光配向材料層１３０における光配向材料層における分子に直線偏光紫外光の影響を及ぼし、偏光方向と同じ配向方向を有する第１配向領域２２０に改めて配列する。本発明の一部の実施形態において、光配向材料層１３０に用いられた光配向材料は、光誘起架橋型樹脂である。光誘起架橋型樹脂は、照射量が５ｍＪ／ｃｍ^２以上である直線偏光紫外光で照射するだけで、光化学反応を行うことができて配向効果を有する。

第１直線偏光紫外光２１０は、第１表面１１２から第２表面１１４の方向に向かって光配向材料層１３０を照射する時、遮光パターン１２０の遮断によって、光配向材料層１３０における遮光パターン１２０によって覆われない部分のみが第１直線偏光紫外光２１０によって照射され、第１直線偏光紫外光２１０で照射された光配向材料層１３０の箇所が、光誘起架橋型樹脂によって架橋硬化され、第１偏光方向と同じ光配向方向を有する第１配向領域２２０を形成する。

図２Ｂを参照し続ける。図２Ｂは、該第１偏光方向と異なる第２偏光方向を有する第２直線偏光紫外光２３０を、該第１透光基材１１０の第２表面１１４から第１表面１１２の方向に向かって光配向材料層１３０に照射して、光配向材料層１３０における第１直線偏光紫外光２１０によって照射されない箇所に第２配向領域２４０を形成するステップを示す。本発明の一部の実施形態において、第２直線偏光紫外光２３０と第１直線偏光紫外光２１０は、異なる偏光方向を有し、且つ第１偏光方向と第２偏光方向が基材の遅軸との夾角が９０度角又は０度である。第２直線偏光紫外光２３０で光配向材料層１３０を照射する時、光配向材料層１３０において既に一部の領域が第１直線偏光紫外光２１０によって照射されて第１配向領域２２０を形成したため、この時に、光配向材料層１３０が第２直線偏光紫外光２３０に露出する累積露光エネルギーを、第１直線偏光紫外光２１０に露出する累積露光エネルギーより低くする必要があり、こうしただけで、配向された第１配向領域２２０が第２直線偏光紫外光２３０の影響により配向方向も変わることなく、且つ光配向材料層１３０において配向方向を有しない領域を、第２配向方向を有する第２配向領域２４０に変換する。また、本発明の一部の実施形態において、第１直線偏光紫外光２１０及び第２直線偏光紫外光２３０の累積露光エネルギーは、５００ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、高すぎる累積露光エネルギーが比較的長い露出時間をかける必要があるため、ロールツーロールプロセスの生産効率に影響すると同時に、高いエネルギー出力も消費する必要があるため、プロセスコストを大幅に向上させる。上記の『累積露光エネルギー』（ｄｏｓａｇｅ）は、単位面積当たりの光配向材料層１３０が一回で直線偏光紫外光に露出する期間に累積した総照射エネルギーと定義される。本発明の一部の実施形態において、第１直線偏光紫外光２１０の照射量は、１８０ｍＪ／ｃｍ^２であり、第２直線偏光紫外光２３０の照射量は、９０ｍＪ／ｃｍ^２である。第１直線偏光紫外光２１０及び第２直線偏光紫外光２３０に照射された後、光配向材料層１３０は、第１配向領域２２０及び第２配向領域２４０を有する光配向層２５０に変換される。本発明の一部の実施形態において、第１配向領域２２０と第２配向領域２４０、光配向層２５０における配列方式が交互配列である。光配向層２５０は、その上に塗布される液晶分子をその配向方向に沿って配列させ、液晶配向の効果を発生させることができる。

図３Ａ、３Ｂを参照すると、図３Ａ、３Ｂと図２Ａ、２Ｂの実施形態は、図２Ａ、２Ｂの実施形態が先に第１直線偏光紫外光２１０を照射するが、図３Ａ、３Ｂの実施形態が先に第２直線偏光紫外光２３０を照射する点で異なる。図３Ａを参照すると、図３Ａは、第２偏光方向を有する第２直線偏光紫外光２３０を、第１透光基材１１０の第２表面１１４から第１表面１１２の方向に向かって、光配向材料層１３０を照射して、光配向材料層１３０における、第２直線偏光紫外光２３０によって照射された箇所に第２配向領域２４０を形成させるステップを示す。この実施形態において、第２表面１１４に遮光パターン１２０がないため、光配向材料層１３０全体にいずれも第２直線偏光紫外光２３０の影響を及ぼして、光配向材料層１３０の有する第２配向方向と第２偏光方向を同じにさせ、第２配向領域２４０を形成する。

図３Ｂを参照すると、図３Ｂは、第１偏光方向を有する第１直線偏光紫外光２１０を、第１透光基材１１０の第１表面１１２から第２表面１１４の方向に向かって光配向材料層１３０に照射し、光配向材料層１３０における、第１直線偏光紫外光２１０によって照射された箇所に第１配向領域２２０を形成するステップを示す。第１直線偏光紫外光２１０と第２直線偏光紫外光２３０は、異なる偏光方向を有し、且つ第１偏光方向と第２偏光方向が基材の遅軸との夾角が９０度又は０度である。第１直線偏光紫外光２１０を照射する時、第１表面１１２に遮光パターン１２０を有するため、遮光パターン１２０で遮蔽されない光配向材料層１３０の部分のみが、第１配向領域２２０を形成する。図３Ａに示す実施形態において、光配向材料層１３０にいずれも第２配向方向を有する第２配向領域２４０が形成されるため、この時に、光配向材料層１３０が第１直線偏光紫外光２１０に露出する累積露光エネルギーを、第２直線偏光紫外光２３０に露出する累積露光エネルギーより大きく又はそれと等しくする必要がある、こうしただけで、第１直線偏光紫外光２１０に照射した領域に配向方向を変更させ、第１配向領域２２０を形成することができる。且つ遮光パターン１２０の形状に応じて２つの配向領域を有する光配向層２５０を形成する。本発明の一部の実施形態において、第１配向領域２２０と第２配向領域２４０は、光配向層２５０における配列方式が交互配列である。本発明の一部の実施形態において、第１直線偏光紫外光２１０は、照射量が９０ｍＪ／ｃｍ^２であり、第２直線偏光紫外光２３０は、照射量が９０ｍＪ／ｃｍ^２である。

図４及び図５を参照すると、図４及び図５は、配向液晶層５５０を光配向層２５０に形成するステップを示す。このステップは、図２Ｂ又は図３Ｂの実施形態を続いて行う。図４を参照すると、図４は、液晶材料層４１０を光配向層２５０に塗布するステップを示す。液晶材料層４１０を光配向層２５０に塗布する方法は、スピンコーティング、バーコーティング、浸漬コーティング、スロットコーティング又はロールツーロール塗布等の塗布方式を含む。本発明の一部の実施形態において、液晶材料層４１０を塗布した後でオーブンに入れて溶剤を除去することができる。本発明の一部の実施形態において、液晶材料層４１０の材料は、光誘起架橋型液晶である。

図５を参照すると、図５は、紫外光５１０で液晶材料層４１０を照射して、光配向層２５０と同じ配向方向を有する配向液晶層５５０を形成するステップを示す。液晶材料層４１０は、光配向層２５０に位置する時、光配向層２５０の配向方向によって誘導されて、液晶分子に光配向層２５０と同じ配向方向を持たせて、紫外光５１０によって照射された後液晶材料層４１０が硬化され、光配向層２５０と同じ配向方向を有する配向液晶層５５０を形成する。この時の紫外光５１０は、非直線偏光紫外光である。配向液晶層５５０において、第１液晶配向領域５２０は、第１配向領域２２０と同じ配向方向を有し、第２液晶配向領域５４０は、第２配向領域２４０と同じ配向方向を有する。本発明の一部の実施形態において、第１液晶配向領域５２０は、第２液晶配向領域５４０と交互に配列される。

図６を参照すると、図６は、これらの第１液晶配向領域５２０と第２液晶配向領域５４０の相接部に対応して位置する複数のシャッターバー６２０を、第２透光基材６１０に印刷するステップを示す。第２透光基材６１０の材料は、柔軟な、透明性を有する材料であり、ポリエステル系樹脂、酢酸エステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル酸系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリ二塩化ビニル系樹脂又はメタクリル酸系樹脂を含むが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、第２透光基材６１０の材料は、三酢酸セルロース又はポリカーボネートである。

シャッターバー６２０の材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含むが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、紫外光吸収剤は、ベンゾフェノン又はベンゾトリアゾールを含むが、これらに限定されない。本発明の一部の実施形態において、シェーディングインクは、カーボンブラック、黒鉛、アゾ染料又はフタロシアニン染料を含むが、これらに限定されない。シャッターバー６２０の材料は、その目的が遮光材料と同様に遮光であるため、両者のいずれも同じ材料を使用してもよい。本発明の一部の実施形態において、シャッターバー６２０が第２透光基材６１０に形成される方式は、スクリーン印刷、グラビア印刷又はインクスプレー等の方式を含むが、これらに限定されない。シャッターバー６２０を形成した位置は、いずれも第１液晶配向領域５２０と第２液晶配向領域５４０の相接部に対応する。本発明の一部の実施形態において、シャッターバー６２０は、ストリップ状構造で第２透光基材６１０に平行して配列する。本発明の一部の実施形態において、シャッターバー６２０は、幅が約４０〜約１２０μｍ、例えば４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１１０、１２０μｍである。好ましくは、５０μｍ〜１００μｍである。シャッターバー６２０は、厚さが約１μｍ〜１０μｍである。好ましくは、１μｍ〜５μｍである。

図７を参照すると、図７は、接着層７１０を塗布して第２透光基材６１０の表面及びこれらのシャッターバー６２０の表面を覆うステップを示す。接着層７１０の材料は、透光感圧接着剤であってよく、アクリル酸感圧接着剤、ウレタン感圧接着剤、ポリイソブチレン感圧接着剤、ゴム感圧接着剤（例えばスチレン‐ブタジエンゴム、ＳＢＲ）、ポリビニルエーテル感圧接着剤、エポキシ感圧接着剤、メラミン感圧接着剤、ポリエステル感圧接着剤、フェノール類感圧接着剤、ケイ素感圧接着剤及び上記の混合物を含むが、これらに限定されない。塗布接着層７１０の方式は、実施の便利性から選択することができ、スピンコーティング、バーコーティング、浸漬コーティング、スロットコーティング又はロールツーロール塗布等を含むが、これらに限定されない塗布方式を使用する。接着層７１０は、厚さが約１０μｍ〜約３０μｍ、例えば１０、１５、２０、２５、３０μｍである。接着層７１０は、ガラスに対する剥離力（ｐｅｅｌ ｓｔｒｅｎｇｔｈ ａｇａｉｎｓｔｇｌａｓｓ）が約１５０〜３００ｇｆ／２５ｍｍであり、剥離力が大きければ大きいほど良くなり、続くステップにおいて配向液晶層５５０を剥離するようにする。

図８及び図９を参照すると、図８及び図９は、接着層７１０を配向液晶層５５０に接続し、配向液晶層５５０を第１透光基材１１０から分離させるステップを示す。図８を参照すると、図８は、接着層７１０と配向液晶層５５０を互いに接続するステップを示す。接着層７１０を配向液晶層５５０と徹底的に貼らせる。図９を参照すると、図９は、配向液晶層５５０と第１透光基材１１０を分離するステップを示す。配向液晶層５５０を第１透光基材１１０から剥がし、光配向層２５０と分離し、位相差板９００を形成する。位相差板９００は、第２透光基材６１０、接着層７１０、シャッターバー６２０及び配向液晶層５５０を含む。

図１〜図９により、位相差板を製造する実施形態を提供し、この実施形態において、シャッターバーを第２透光基材に形成することによって、シャッターバーの製造時、直接に液晶表面に製造することによる液晶表面へ発生可能な損傷を防止する。更に接着層で完全にシャッターバーを覆って、シャッターバーが乾燥した後粉末が発生しやくなることによる、フィルム面への損傷又はパネル表示における微粒の発生を防止する。最後に、更に接着層と配向液晶層を貼り付け、接着性によって配向液晶層と第１透光基材を剥離して、配向液晶層における異なる液晶配向領域の相接部にシャッターバーを有する位相差板を形成し、且つこの位相差板がアライメント機能を有する。そして、ロールツーロールプロセスに適用でき、この位相差フィルムを製造する方法は、コストを減少してプロセス歩留まりを向上させることができる。

図１０を参照すると、図１０は、本発明の一部の実施形態における位相差板を示す断面模式図である。位相差板９００は、少なくとも１つの第１液晶配向領域５２０及び第１液晶配向領域と異なる配向方向を有する第２液晶配向領域５４０を有し、第１液晶配向領域５２０と第２液晶配向領域５４０が交互に配列される配向液晶層５５０と、配向液晶層５５０の上に設けられる接着層７１０と、接着層７１０の上に設けられる第２透光基材６１０と、第２透光基材６１０が接着層７１０に接続される表面上に設けられ、第１液晶配向領域５２０と第２液晶配向領域５４０の相接部に対応し、且つ配向液晶層５５０と接触しない複数のシャッターバー６２０と、を含む。シャッターバー６２０は、厚さが約１μｍ〜約５μｍである。本発明の一部の実施形態において、シャッターバー６２０は、厚さが約１μｍである。シャッターバーの幅が約４０μｍ〜約１２０μｍである。本発明の一部の実施形態において、シャッターバーは、幅が約５０μｍ〜約１００μｍである。接着層７１０は、厚さが約１０μｍ〜約３０μｍである。本発明の一部の実施形態において、シャッターバー６２０は、厚さが約２０μｍである。シャッターバー６２０の材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含むが、これらに限定されない。第２透光基材６１０の材料は、三酢酸セルロース又はポリカーボネートを含むが、これらに限定されない。接着層７１０の材料は透光感圧接着剤であり、アクリル酸感圧接着剤、ウレタン感圧接着剤、ポリイソブチレン感圧接着剤、ゴム感圧接着剤、ポリビニルエーテル感圧接着剤、エポキシ感圧接着剤、メラミン感圧接着剤、ポリエステル感圧接着剤、フェノール類感圧接着剤又はケイ素感圧接着剤を含むが、これらに限定されない。

次に、以下の実施例によってさらに説明するが、これらの実施例は単なる例示説明に用いられるもので、本発明実施を限定するものではないことを分かるべきである。

１．遮光液の調製
バインダー（熱硬化型樹脂、番号ｍｅｄｉｕｍ）と溶剤のトルエンを１：１で混合し、１０ｇの混合液を配合する。紫外光（ＵＶ）吸収剤（永光化学から購入され、番号Ｅｖｅｒｓｏｒｂ５１）を取って上記の混合液と１：５０（即ち、ＵＶ吸収剤：バインダーが１：２５である）の比例（重量比）で混合し、遮光液を得る。

２．光配向塗布液の調製
（１）メチルエチルケトン（ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌｋｅｔｏｎｅ）とシクロペンタノン（ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｏｎｅ）を１：１の重量比で、３．５ｇの混合溶剤を配合する。
（２）０．５ｇの光誘起架橋型光配向樹脂（スイスのＲｏｌｉｃから購入され、番号ＲＯＰ１０３、ケイ皮酸エステル系、固形分１０％）を取って、ステップ（１）で配合された３．５ｇの混合溶剤を添加して、固形分が１．２５％である光配向塗布液を得る。

３．液晶塗布液の調製
１ｇの液晶固体（複屈折率差が０．１４である）を取って、４ｇのシクロペンタノンを添加して、固形分が２０％である液晶塗布液を配合する。

４．位相差板の製造

Ａ．３２インチのパネル

実施例Ａ１：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が５０μｍである＞

実施例Ａ１の位相差板の製造方法は、以下ステップを含む。

（１‐１）遮光パターンを製造する
予め設定されたパターンによりグラビア印刷の方式で遮光液をポリカーボネート基材（第１透光基材、厚さが６０μｍであり、複屈折率差△ｎが２．１７×１０^‐４であり、位相差値が１３ｎｍである）の第１表面に印刷し、印刷の厚さが約１μｍである。その後、恒温が６０℃であるオーブン内に置いて３０秒ベーキングし、遮光パターンを有する基材を得て、遮光パターン遮蔽部分の光透過率が１０％であることを測定する。

（１‐２）光配向材料層を製造する
４ｇの光配向塗布液を取って、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒）によりステップ（１‐１）における第１透光基材の第１表面に対向する第２表面に塗布し、平坦化した後、恒温が１００℃であるオーブン内に置いて２分間ベーキングして溶剤を除去し、更に取り出して室温に回復するまで静置して、光配向材料層を形成する。

（１‐３）第１回の露光
偏光方向が第１透光基材の遅軸との夾角が０°である第１直線偏光紫外光（ｆｉｒｓｔ ＰＵＶ）で、第１透光基材の第１表面から第２表面の方向へステップ（１‐２）で得られた光配向材料層（図２Ａに示すように、累積露光エネルギーが１８０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、光配向材料層において該第１直線偏光紫外光で照射された領域を硬化させ且つ第１配向方向を持たせて、第１配向領域を形成する。遮光パターンで遮蔽された領域は硬化されなくて且つ配向方向を有しない。このため、間隔配向効果を有する光配向材料層を形成する。

（１‐４）第２回の露光
偏光方向が該第１透光基材の遅軸との夾角が９０°である第２直線偏光紫外光で、第１透光基材の第２表面から第１表面の方向へ該ステップ（１‐３）で得られた、間隔配向効果を有する光配向材料層（図２Ｂに示すように、累積露光エネルギーが９０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、ステップ（１‐３）において遮光パターンで遮蔽された領域を硬化させ且つ第２配向方向を持たせて、第２配向領域を形成し、この際、光配向材料層が２種の異なる配向領域を有する光配向層に変換される。

（１‐５）液晶材料層を製造する
５ｇの液晶塗布液を取って、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒）により光配向層の表面上に塗布し、更に恒温が６０℃であるオーブン内に置いて５分間ベーキングして溶剤を除去し、そして、取り出して室温に回復するまで静置し、液晶材料層を得る。

（１‐６）配向液晶層を製造する
非直線偏光紫外光で上記液晶材料層（累積露光エネルギーが１２０ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、且つ同時に窒素を導入して、液晶材料層を硬化させて、配向液晶層を得る。且つ配向液晶層は、それぞれ光配向層の第１及び第２配向領域と同じ配向方向を有する第１及び第２液晶配向領域を備える。

（１‐７）シャッターバーを製造する
ステップ（１‐１）の遮光パターンにより、配向液晶層に対応する相接領域の位置においてグラビア印刷の方式で遮光液を三酢酸セルロース基材（第２透光基材）上に印刷し、印刷厚さが約１μｍで、幅が約５０μｍである。シャッターバーを有する第２透光基材を得る。

（１‐８）接着層を製造する
１０ｇのアクリル酸感圧接着剤（固形分が４０％である）を取って、バーコーティングで三酢酸セルロース基材（第２透光基材）のシャッターバーを印刷した表面上に塗布し、そして、恒温が１００℃であるオーブン内に置いて２分間ベーキングして溶剤を除去し、更に取り出して室温に回復するまで静置し、接着層を形成する。接着層の乾燥フィルムは、厚さが約２０μｍであり、ガラスに対する剥離力（ｐｅｅｌ ｓｔｒｅｎｇｔｈ ａｇａｉｎｓｔｇｌａｓｓ）が２００（ｇｆ／２５ｍｍ）である。

（１‐９）位相差板を製造する
ステップ（１‐８）で製造されたシャッターバー及び接着層を有する三酢酸セルロース基材（第２透光基材）を、その接着層で、ステップ（１‐６）で製造された配向液晶層と接続し、接着層を配向液晶層と貼り付けた後で、配向液晶層をポリカーボネート基材（第１透光基材）から剥がすと、配向液晶層を光配向層から分離し、三酢酸セルロース基材・接着層・配向液晶層の構造を有する、２つの配向方向を有する位相差板を得て、配向液晶層における第１液晶配向層と第２液晶配向層の中間の相接領域の上方にシャッターバーを有する。

実施例Ａ２：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１００μｍである＞

実施例Ａ２の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約１００μｍに変更する。

実施例Ａ３：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が５０μｍである＞

実施例Ａ３の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐３）と（１‐４）を以下のように変更する。

（１‐３）第１回の露光
偏光方向が該第１透光基材の遅軸との夾角が９０°である第２直線偏光紫外光で、第１透光基材の第２表面から第１表面の方向へ、ステップ（１‐２）で得られた光配向材料層（図３Ａに示すように、累積露光エネルギーが９０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、光配向材料層が第２直線偏光紫外光で照射されて硬化させ且つ第２配向方向を持たせて、第２配向領域を形成する。

（１‐４）第２回の露光
偏光方向が第１透光基材の遅軸との夾角が０°である第１直線偏光紫外光で、第１透光基材の第１表面から第２表面の方向へ、ステップ（１‐３）で得られた光配向材料層（図３Ｂに示すように、累積露光エネルギーが９０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、遮光パターンで遮蔽されない領域に配向方向を第１配向方向に変更させて、第１配向領域を形成する。

実施例Ａ４：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１００μｍである＞

実施例Ａ４の製造方法は、実施例Ａ３の製造方法と同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約１００μｍに変更する。

実施例Ａ５：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が７５μｍである＞

実施例Ａ５の製造方法は、実施例Ａ３の製造方法と同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約７５μｍに変更する。

比較例Ａ１：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、シャッターバーがない＞

比較例Ａ１の製造方法は実施例Ａ１の製造方法と同じであり、ただステップ（１‐７）を除去し、ステップ（１‐８）〜（１‐９）は以下のように変更する。

（１‐８）接着層を製造する
１０ｇのアクリル酸感圧接着剤（固形分が４０％である）を取って、三酢酸セルロース基材（第２透光基材）の表面にバーコーティングして、且つ該基材の塗覆されないもう１つの面に防眩性（Ａｎｔｉ‐Ｇｌａｒｅ）機能層を有する。そして、恒温が１００℃であるオーブン内に置いて２分間ベーキングして溶剤を除去し、更に取り出して室温に回復するまで静置し、接着層を形成する。接着層の乾燥フィルムは、厚さが約２０μｍで、ガラスに対する剥離力（ｐｅｅｌ ｓｔｒｅｎｇｔｈ ａｇａｉｎｓｔｇｌａｓｓ）が２００（ｇｆ／２５ｍｍ）である。

（１‐９）位相差板を製造する
ステップ（１‐８）で製造された接着層の三酢酸セルロース基材（第２透光基材）を、その接着層でステップ（１‐６）において製造された配向液晶層と接続し、接着層を配向液晶層と貼り付ける後で、配向液晶層をポリカーボネート基材（第１透光基材）から剥がすと、配向液晶層を光配向層から分離させ、三酢酸セルロース基材・接着層・配向液晶層構造を有する、２つの配向方向を有する位相差板（例えば図１１に示すように）を得る。

比較例Ａ２：＜石英マスクプロセス、第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、シャッターバーの幅が５０μｍである＞

比較例Ａ２の位相差板の製造方法は以下のステップを含む。

（２‐１）遮光パターンを製造する
石英マスクを準備する。

（２‐２）光配向材料層を製造する
４ｇの光配向塗布液を取って、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒）で三酢酸セルロース基材（第１透光基材）の第１表面に塗布して、且つこの第１表面に防眩性機能層を有し、平坦化した後で、恒温が１００℃であるオーブン内に置いて２分間ベーキングして溶剤を除去し、更に取り出して室温に回復するまで静置し、光配向材料層を形成する。

（２‐３）第１回の露光
偏光方向が第１透光基材の遅軸との夾角が０°である第１直線偏光紫外光で、石英マスクを第１表面上に置いた後、第１透光基材の第１表面から第２表面の方向へ、ステップ（１‐２）で得られた光配向材料層（累積露光エネルギーが１８０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、光配向材料層において該第１直線偏光紫外光で照射された領域を硬化させ、且つ第１配向方向を持たせ、そして、第１配向領域を形成する。石英マスクの遮光パターンで遮蔽された領域は、硬化されなく且つ配向方向を有しない。このため、間隔配向効果を有する光配向材料層を形成する。

（２‐４）第２回の露光
偏光方向が該第１透光基材の遅軸との夾角が９０°である第２直線偏光紫外光で、第１透光基材の第２表面から第１表面の方向へ、該ステップ（２‐３）で得られた間隔配向効果を有する光配向材料層（累積露光エネルギーが９０ｍＪ／ｃｍ^２である）を照射して、ステップ（２‐３）において遮光パターンで遮蔽された領域を硬化させかつ第２配向方向を持たせて、第２配向領域を形成して、この際、光配向材料層が２種の異なる配向領域を有する光配向層に変換される。

（２‐５）液晶材料層を製造する
５ｇの液晶塗布液を取って、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒）で光配向層の表面上に塗布し、更に恒温が６０℃であるオーブン内に置いて５分間ベーキングして溶剤を除去し、そして、取り出して室温に回復するまで静置し、液晶材料層を得る。

（２‐６）配向液晶層を製造する
非直線偏光紫外光で上記液晶材料層（累積露光エネルギーが１２０ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、且つ同時に窒素を導入し、液晶材料層を硬化し、配向液晶層を得る。且つ配向液晶層は、それぞれ光配向層の第１及び第２配向領域と同じ配向方向を有する第１及び第２液晶配向領域を備える。

（２‐７）シャッターバーを製造する
グラビア印刷の方式で遮光液を配向液晶層の相接領域上に印刷し、印刷厚さが約１μｍで、幅が約５０μｍである。シャッターバーを有する第１透光基材・光配向層・配向液晶層構造（図１２に示すように）を得る。

比較例Ａ３：＜石英マスクプロセス、第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、シャッターバーの幅が１００μｍである＞

比較例Ａ３の製造方法は、比較例Ａ２の製造方法と同じであり、ただステップ（２‐７）におけるシャッターバーの幅を約１００μｍに変更する。

比較例Ａ４：＜石英マスクプロセス、第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、シャッターバーの幅が１００μｍである＞

比較例Ａ４の製造方法は、比較例Ａ２の製造方法と同じであり、ただステップ（２‐７）を以下のように変更する。

（２‐７）シャッターバーを製造する
グラビア印刷の方式で遮光液を第１透光基材の第２表面（防眩性機能膜を有する表面）上に印刷して配向液晶層の相接領域の位置に対応する。印刷は厚さが約１μｍで、幅が約１００μｍである。シャッターバーを有する第１透光基材／光配向層／配向液晶層構造（図１３に示すように）を得る。

比較例Ａ５：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１５０μｍである＞

比較例Ａ５の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法と同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約１５０μｍに変更する。

比較例Ａ６：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が２００μｍである＞

比較例Ａ６の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法と同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約２００μｍに変更する。

比較例Ａ７：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が２５０μｍである＞

比較例Ａ７の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約２５０μｍに変更する。

比較例Ａ８：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が３００μｍである＞

比較例Ａ８の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約３００μｍに変更する。

Ｂ．５５インチのパネル

実施例Ｂ１：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が５０μｍである＞

実施例Ｂ１の製造方法は、実施例Ａ１の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

実施例Ｂ２：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１００μｍである＞

実施例Ｂ２の製造方法は、実施例Ａ２の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

実施例Ｂ３：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が５０μｍである＞

実施例Ｂ３の製造方法は、実施例Ａ３の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

実施例Ｂ４：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１００μｍである＞

実施例Ｂ４の製造方法は、実施例Ａ４の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

実施例Ｂ５：＜第１回の露光は第２直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が７５μｍである＞

実施例Ｂ５の製造方法は、実施例Ａ５の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

比較例Ｂ１：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、シャッターバーがない＞

比較例Ｂ１の製造方法は、比較例Ａ１の製造方法は同じであり、ただパネルサイズを５５インチに変更する。

比較例Ｂ２：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が１５０μｍである＞

比較例Ｂ２の製造方法は、実施例Ｂ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約１５０μｍに変更する。

比較例Ｂ３：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が２００μｍである＞

比較例Ｂ３の製造方法は、実施例Ｂ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約２００μｍに変更する。

比較例Ｂ４：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が２５０μｍである＞

比較例Ｂ４の製造方法は、実施例Ｂ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約２５０μｍに変更する。

比較例Ｂ５：＜第１回の露光は第１直線偏光紫外光を利用し、且つシャッターバーの幅が３００μｍである＞

比較例Ｂ５の製造方法は、実施例Ｂ１の製造方法は同じであり、ただステップ（１‐７）におけるシャッターバーの幅を約３００μｍに変更する。

上記実施例及び比較例において製造された位相差板は、ミクロ地域位相差測定器（王子計測機器株式会社から購入され、番号がＫＯＢＲＡ‐ＣＣＤである）を用いて位相差板の液晶配向方向及び位相差値を測量することができる。

テスト方法：

上記実施例及び比較例において製造された位相差板は、パネルに貼り付けられ、Ａ組３２インチのパネルにおいて配向液晶層における第１液晶配向領域と第２液晶配向領域の幅（ｐｉｔｃｈ）が５１０μｍである。Ｂ組５５インチのパネルにおいて配向液晶層における第１液晶配向領域と第２液晶配向領域の幅が６３０μｍである。更に偏光顕微鏡ＰＯＭで外観を評価し、外観欠陥があるかどうかを観察する。透過率と上下視野角は、色彩輝度計（Ｔｏｐｃｏｎから購入され、番号がＳＲ３である）を用いて測量されて、上下視野角を測量する時、信号干渉（Ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）を７％よりも小さくする必要がある。信号干渉の測量方式は、左目の画像を右目眼鏡測量輝度と合わせ、右目の画像を右目眼鏡測量輝度と合わせることである。左目の画像を右目眼鏡と合わせて、基本的に全暗になるべきであるが、位相差板とパネル画素がちゃんと合わせないと光漏れを有し、このため、信号干渉の値は小さければ小さいほど優れる。すべての上記実施例及び比較例のテスト結果は、表１に示す。

露光方式の影響：

それぞれの実施例Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２と実施例Ａ３、Ａ４、Ｂ３、Ｂ４の測量結果を比較して、実施例Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２においては、第１回の露光が第１直線偏光紫外光を利用したが、実施例Ａ３、Ａ４、Ｂ３、Ｂ４においては、第１回の露光が第２直線偏光紫外光を利用したことから、２種の露光方式のいずれも測量結果が同じである位相差板を得られることが分かる。

シャッターバー幅の影響：

実施例Ａ１と同じ製造方法で、ただシャッターバー幅を変更する試験結果を表２にまとめる。表２において、パネルサイズが３２インチであるか５５インチであるかに関わらず、シャッターバーの幅が広ければ広いほど、透過率が低くなり、上下視野角が大きくなることが分かる。位相差板にシャッターバーがない場合（比較例Ａ１、Ｂ１）、透過率が最大になり、視野角が最小になる。シャッターバーは、広すぎると、上下視野角が大きくなるが、透過率が低すぎになる。透過率は、８０％よりも小さいと許容されなく、本実施形態において、シャッターバー幅を１５０μｍよりも小さくする必要がある。

シャッターバー印刷方式の影響：

比較例Ａ２〜Ａ４では、石英マスクプロセスを用いて位相差板を製造して、実施例Ａ１及びＡ２との異なりは、石英マスクがハードマスクであり、第１回の露光後、直ちに取り外す必要があり且つロールツーロールプロセスに適用されなく、実施例において遮光パターンを第１基板に印刷してマスクを形成し且つロールツーロールプロセスに応用することができる方式と異なり、並びに、比較例Ａ２、Ａ３において直接にシャッターバーを配向液晶膜に印刷するが、比較例Ａ４においてシャッターバーを第１透光基材の機能膜を有する第１表面に印刷して、実施例Ａ１、Ａ２においてシャッターバーを第２透光基材に印刷し、更に配向液晶膜を接着層に転移して貼り付ける方式ではないことである。

それぞれの比較例Ａ２、Ａ３を実施例Ａ１、Ａ２と比較する場合、シャッターバーを直接に配向液晶層に印刷と、上下視野角を増加することができるが、外観のスクラッチ又は異物欠陥を引き起こしやすいことが分かる。比較例Ａ４を印刷黒バーがない比較例Ａ１と比較する場合、シャッターバーを第１透光基材の機能膜を有する第１表面に印刷と、上下視野角を増加することができるが、同様にスクラッチ又は異物欠陥を引き起こし、且つシャッターバーを完全に第１表面に塗布し難くて、シャッターバーの線に欠陥を持たせることを引き起こす。比較例Ａ２〜Ａ４において外観欠陥を引き起こす原因としては、液晶が硬化した後で、再加工（液晶面に対する加工又は非液晶面に対する加工のいずれ）さえすれば、いずれも液晶が再びローラと接触し摩擦を発生して、更にスクラッチを引き起こす。比較例Ａ４において、機能膜の表面張力がシャッターバーの材料に近づいたので、脱濡れ現象（ｄｅｗｅｔｔｉｎｇ）を発生することがあって、シャッターバーの線が不完全になることを引き起こす。機能膜、例えば防眩性（ａｎｔｉ‐ｇｌａｒｅ）機能膜又は硬質膜（ｈａｒｄ ｃｏａｔ）は、表面スクラッチを防止することができる。機能膜は、組成が多官能メタクリレート、ナノ粉末、光開始剤、添加剤などを含む。一般的に、三酢酸セルロース基材は、表面張力が３０ｍＮ／ｍよりも大きく、機能膜は、表面張力が約３０ｍＮ／ｍよりも小さく、シャッターバーは、表面張力が約２５ｍＮ／ｍよりも小さい。

上記の実施例から、本発明の一部の実施形態において提供された位相差フィルムを製造する方法は、製造された位相差フィルムの上下視野角を向上させることができることを更に検証することができる。且つロールツーロールプロセスに応用することができる。接着層を用いてシャッターバーを被覆する後、更に第２透光基材に転移して貼り付ける方式は、更に硬化した配向液晶層が再加工の際に表面を損傷し、又はシャッターバーの粉末が製品に混合されて欠陥を引き起こす状況を防止することができる。更に製品の歩留まりを向上させることができる。（効果）

本発明は、実施形態によって前述の通りに開示したが、これは、本発明を限定するものではなく、当業者なら誰でも、本発明の精神と範囲から逸脱しない限り、多様の変更や修正を加えることができ、したがって、本発明の保護範囲は、後の特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。

１１０ 第１透光基材
１１２ 第１表面
１１４ 第２表面
１２０ 遮光パターン
１３０ 光配向材料層
２１０ 第１直線偏光紫外光
２２０ 第１配向領域
２３０ 第２直線偏光紫外光
２４０ 第２配向領域
２５０ 光配向層
４１０ 液晶材料層
５１０ 紫外光
５２０ 第１液晶配向領域
５４０ 第２液晶配向領域
５５０ 配向液晶層
６１０ 第２透光基材
６２０ シャッターバー
７１０ 接着層
９００ 位相差板

Claims (22)

1. 第１透光基材を提供することと、
   交互に配列される第１液晶配向領域及び前記第１液晶配向領域と異なる配向方向を有する第２液晶配向領域を有する配向液晶層を前記第１透光基材の光配向層に形成することと、
   前記第１液晶配向領域と前記第２液晶配向領域の相接部に対応して位置する複数のシャッターバーを第２透光基材に印刷することと、
   接着層を塗布して前記第２透光基材のこれらの前記シャッターバーを有する表面及びこれらの前記シャッターバーの表面を被覆することと、
   前記接着層と前記配向液晶層を接続し、且つ前記配向液晶層と前記第１透光基材を分離させることと、
   を含む位相差板の製造方法。
2. 第１透光基材を提供するステップにおいて、前記第１透光基材は、第１表面及び前記第１表面に対応する第２表面を有し、前記第１表面に遮光パターンを有し、且つ前記第２表面に光配向材料層を有する請求項１に記載の方法。
3. 配向液晶層を前記第１透光基材の光配向層に形成するステップは、
   直線偏光紫外光を照射して、前記光配向材料層に、交互に配列される第１配向領域及び第２配向領域を有する光配向層を形成させることと、
   交互に配列される第１液晶配向領域及び第２液晶配向領域を有し、前記第１液晶配向領域が前記第１配向領域の上に位置し、前記第２液晶配向領域が前記第２配向領域の上に位置する配向液晶層を前記光配向層に形成することと、
   を含む請求項２に記載の方法。
4. 直線偏光紫外光を照射して前記光配向材料層に光配向層を形成させるステップは、
   第１偏光方向を有する第１直線偏光紫外光を、前記第１透光基材の第１表面から第２表面の方向に向かって前記光配向材料層に照射して、前記光配向材料層において前記第１直線偏光紫外光によって照射された箇所に第１配向領域を形成させることと、
   前記第１偏光方向と異なる第２偏光方向を有する第２直線偏光紫外光を、前記第１透光基材の前記第２表面から前記第１表面の方向に向かって前記光配向材料層に照射して、前記光配向材料層において前記第１直線偏光紫外光によって照射されない箇所に第２配向領域を形成させることと、
   を含む請求項３に記載の方法。
5. 直線偏光紫外光を照射して前記光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、まず前記第１直線偏光紫外光を照射して、且つ前記光配向材料層が前記第１直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーが、前記第２直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーより高い請求項４に記載の方法。
6. 直線偏光紫外光を照射して前記光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、まず前記第２直線偏光紫外光を照射して、且つ前記光配向材料層が前記第１直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーが、前記第２直線偏光紫外光に露出する累積露光エネルギーより低くない請求項４に記載の方法。
7. 直線偏光紫外光を照射して前記光配向材料層に光配向層を形成させるステップでは、前記第１直線偏光紫外光の有する前記第１偏光方向が、前記第２直線偏光紫外光の有する前記第２偏光方向に垂直である請求項４に記載の方法。
8. 配向液晶層を光配向層に形成するステップは、
   液晶材料層を前記光配向層に塗布することと、
   紫外光で前記液晶材料層を照射して、前記光配向層と同じ配向方向を有する配向液晶層を形成することと、
   を含む請求項３乃至請求項７のいずれかに記載の方法。
9. 前記シャッターバーの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
10. 前記シャッターバーは、幅が４０ミクロン〜１２０ミクロンである請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
11. 前記接着層の材料は、透光感圧接着剤である請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
12. 前記透光感圧接着剤は、アクリル酸感圧接着剤、ウレタン感圧接着剤、ポリイソブチレン感圧接着剤、ゴム感圧接着剤、ポリビニルエーテル感圧接着剤、エポキシ感圧接着剤、メラミン感圧接着剤、ポリエステル感圧接着剤、フェノール類感圧接着剤及びケイ素感圧接着剤からなる群より選ばれるものである請求項１１に記載の方法。
13. 前記第１透光基材と第２透光基材の材料は、ポリエステル系樹脂、酢酸エステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル酸系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリ二塩化ビニル系樹脂及びメタクリル酸系樹脂からなる群より選ばれるものである請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
14. 前記第１透光基材と第２透光基材の材料は、三酢酸セルロース又はポリカーボネートである請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
15. 前記光配向材料層の材料は、光配向樹脂である請求項２乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
16. 前記光配向樹脂は、ケイ皮酸エステル系誘導体、フェニルスチリルケトン系誘導体、マレイミドプロピオン系誘導体、キノリノン基系誘導体、ジフェニルメチレン基系誘導体及びクマリンエステル系誘導体からなる群より選ばれるものである請求項１５に記載の方法。
17. 前記遮光パターンの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む請求項２乃至請求項８のいずれかに記載の方法。
18. 交互に配列される第１液晶配向領域及び前記第１液晶配向領域と異なる配位方向を有する第２液晶配向領域を備える配向液晶層と、
    前記配向液晶層の上に設けられる接着層と、
    前記接着層の上に設けられる透光基材と、
    前記透光基材と前記接着層が接続する表面に設けられ、前記第１液晶配向領域と前記第２液晶配向領域の相接部に対応し、且つ前記配向液晶層に接続されない複数のシャッターバーと、
    を含む位相差板。
19. 前記シャッターバーは、厚さが１ミクロン〜５ミクロンである請求項１８に記載の位相差板。
20. 前記シャッターバーは、幅が４０ミクロン〜１２０ミクロンである請求項１８又は請求項１９に記載の位相差板。
21. 前記接着層の厚さが１０ミクロン〜３０ミクロンである請求項１８、請求項１９及び請求項２０のいずれかに記載の位相差板。
22. 前記シャッターバーの材料は、紫外光（ＵＶ）吸収剤又はシェーディングインクを含む請求項１８、請求項１９、請求項２０及び請求項２１のいずれかに記載の位相差板。