JP2015206879A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】明るさの低下を抑制した液晶表示装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、第１基板部と第２基板部と遮光部と液晶層とを含む液晶表示装置が提供される。第１基板部は、第１主面を有し、第１画素電極と、第１画素電極と第１方向において並ぶ第２画素電極と、第１画素電極と第２画素電極との間に設けられた画素間領域と、を含む。第２基板部は、光透過性の対向電極と、対向電極間領域と、を含む。対向電極は、Ｘ軸方向と垂直なＹ軸方向に延在する第１、２対向部を含む。対向電極間領域は、第１対向部と前記第２対向部との間に設けられ、第１主面に投影したときに画素間領域の少なくとも一部と重なる。遮光部は、第１主面に投影したときに、対向電極間領域の少なくとも一部と重なりＹ軸方向に延在する。第１画素電極は、第１極性の電位に設定される。第２画素電極は、第２極性の電位に設定される。【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。

液晶を用いた表示装置が開発されている。表示装置において遮光部が設けられる場合がある。遮光部を設けると、表示の明るさが低下する。明るさの低下を抑制することが望まれる。

特開２００４−３０２２９４号公報

本発明の実施形態は、明るさの低下を抑制した液晶表示装置を提供する。

本発明の実施形態によれば、第１基板部と、該第１基板部に対向して設けられる第２基板部と、これら一対の基板部間に設けられる液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。該第１基板部は、第１主面と、該第１主面内に、Ｘ軸方向を行方向とし当該Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向を列方向とするマトリクス状に配置される複数の画素電極と、これら複数の画素電極を覆って液晶層に対向する配向膜とを備える。前記複数の画素電極は、行方向又は列方向の一方に沿って隣り合って並ぶ第１画素電極と、第２画素電極とを備える。これら第１画素電極と第２画素電極は互いに異なる極性で駆動されるものであると共に、これら第１画素電極と第２画素電極との間には、列方向に延在する画素間領域が設けられている。前記第２基板部は、前記第１基板部の第１主面と対向する第２主面と、該第２主面に配置される複数の光透過性の対向電極と、これら複数の対向電極を覆って液晶層に対向する配向膜とを備える。該複数の対向電極は、前記第１基板部の複数の画素電極に対向し且つ前記行方向と列方向の一方に延在して設けられると共に、行方向と列方向のいずれか他方に沿って隣り合って並ぶ第１対向部と第２対向部を備える。これら第１対向部と前記第２対向部との間には、前記第１主面に投影した場合に前記第１基板部の画素間領域に重なる対向電極間領域が設けられている。前記第２基板部には、列方向に延在して前記対向電極間領域と前記画素間領域を覆う遮光層が、前記行方向と列方向のいずれか他方に沿って設けられている。

本発明の実施形態によれば、明るさの低下を抑制した液晶表示装置が提供される。

第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。 図２（ａ）及び図２（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す透視平面図である。 第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。 第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式図である。 第１の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式図である。 液晶表示装置の動作を示す模式図である。 図７（ａ）〜図７（ｅ）は、液晶表示装置を示す模式図である。 図８（ａ）〜図８（ｄ）は、液晶表示装置を示す模式図である。 図９（ａ）〜図９（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を示す模式図である。 図１０（ａ）〜図１０（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の液晶装置を示す模式図である。 図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式図である。 図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を示す模式的断面図である。 図１３（ａ）〜図１３（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を示す模式図である。 図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を示す模式的平面図である。 第２の実施形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。 図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を示す透視平面図である。

以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する透視平面図である。
図１は、図２（ａ）のＡ１−Ａ２線における断面の一部を例示している。図１、図２（ａ）及び図２（ｂ）においては、見やすさのため、液晶表示装置１１０の一部を省略して表している。

図１、図２（ａ）及び図２（ｂ）に表したように、本実施形態に係る液晶表示装置１１０は、第１基板部１０ｕと、第２基板部２０ｕと、液晶層３０と、遮光部２７（第１遮光部２７ａ、遮光層）と、を含む。
第１基板部１０ｕから第２基板部２０ｕへ向かう方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸方向に対して垂直な１つの方向をＸ軸方向とする。Ｚ軸方向とＸ軸方向とに対して垂直な方向をＹ軸方向とする。

第１基板部１０ｕと第２基板部２０ｕとの間に液晶層３０が設けられる。

第１基板部１０ｕは、光透過性を具備して平板状に形成された第１基板１０ｓを備え、該第１基板１０ｓの一対の表面のうち一方は、第２基板部２０ｕと対向する。第１基板部１０ｕは、第１主面１０ａを有する。第１主面１０ａは、Ｚ軸方向に対して交差する。第１主面１０ａの法線方向はＺ軸に一致しているため、第１主面１０ａは、Ｘ−Ｙ平面に対して平行である。また、第１基板部１０ｕは、複数の画素電極１０ｅ（第１画素電極１１及び第２画素電極１２など）を含む。複数の画素電極１０ｅは、第１主面１０ａ内に、Ｘ軸方向を行方向としＹ軸方向を列方向とするマトリクス状に配置されている。画素電極１０ｅは、液晶層３０と第１基板１０ｓとの間に設けられる。複数の画素電極１０ｅは、光反射性である。
第２画素電極１２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のいずれか一方において、第１画素電極１１と隣合って並ぶ。この例では、第２画素電極１２は、Ｘ軸方向において第１画素電極１１と並ぶ。
なお、本実施形態では、Ｘ軸とＹ軸とは直交しているが、所定の角度で交差する構成を採用することもできる。

第１基板部１０ｕは、複数の画素間領域１５を含む。複数の画素間領域１５のそれぞれは、各画素電極１０ｅどうしの間において、Ｙ軸方向に延在する。この例では、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に、Ｙ軸方向に延在する画素間領域１５（第１画素間領域１５ａ）が設けられている。

第２基板部２０ｕは、光透過性を具備して平板状に形成された第２基板２０ｓを備え、該第２基板２０ｓの一対の表面のうち一方は、第１基板部１０ｕと対向する。第２基板部２０ｕは、第２主面２０ａを有する。第２主面２０ａには、対向電極２１（コモン電極）が設けられている。対向電極２１は、光透過性である。
対向電極２１は、複数の対向部２１ｅ（第１対向部２１ａ及び第２対向部２１ｂなど）を含む。複数の対向部２１ｅは、第２主面２０ａ内に配置される。複数の対向部２１ｅは、複数の画素電極１０ｅの少なくとも一部に対向する。この例では、第２対向部２１ｂは、Ｘ軸方向において、第１対向部２１ａと並ぶ。本実施形態においては、複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｘ軸方向において互いに離間する。複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｙ軸方向に延在する帯状に形成されており、その幅は、複数の画素電極１０ｅ及びこれら画素電極１０ｅ間領域の合計のからなる幅に等しい。

第２基板部２０ｕは、対向電極間領域１４を含む。対向電極間領域１４は、隣り合う対向部２１ｅ間の領域であって、スリット状を呈している。対向電極間領域１４は、対向部２１ｅの側縁に沿ってＹ軸方向に延在している。第１基板部１０ｕの第１主面１０ａに投影したときに、一部の画素間領域１５は、対向電極間領域１４と重なる。本実施形態においては、かかる重なり状態においては、第１対向部２１ａは、第１画素電極１１と対向し、第２対向部２１ｂは、第２画素電極１２と対向するものとする。すなわち、第１対向部２１ａと第２対向部２１ｂとの間に設けられた対向電極間領域１４は、第１主面１０ａに投影した場合に、第１画素間領域１５ａと重なる。

この例では、遮光部２７は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、対向電極間領域１４の少なくとも一部と重なる。遮光部２７は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、画素間領域１５の少なくとも一部と重なる。

図２（ｂ）に表したように、遮光部２７は、Ｙ軸方向に延在する。Ｘ軸方向において互いに離間した複数の遮光部２７によって、Ｙ軸方向のストライプ状（縦ストライプ）のブラックマトリクスが形成される。すなわち、遮光部２７は、Ｙ軸方向に沿って設けられ、第１対向部２１ａと第２対向部２１との間の対向電極間領域１４と、第１画素間領域１５ａと、を覆う。

図２（ａ）及び図２（ｂ）に表したように、液晶表示装置１１０は、第２遮光部２７ｂをさらに含む。第１基板部１０ｕは、第１主面１０ａに設けられた第３画素電極１３と、第２画素間領域１５ｂをさらに含む。

遮光部２７のＸ軸方向に沿った長さ（幅）２７Ｗは、遮光部２７のＹ軸方向に沿った長さ２７Ｌよりも短い。遮光部２７のＸ軸方向に沿った長さ２７Ｗは、対向電極間領域１４のＸ軸方向に沿った長さ（幅）１４Ｗの１倍以上２倍以下である。

液晶層３０は、第１主面１０ａと第２主面２０ａとの間に設けられる。液晶層３０の一部は、複数の画素電極１０ｅと対向電極２１との間に配置される。液晶層３０の別の一部は、第１基板部１０ｕの画素間領域１５と、第２基板部２０ｕと、の間に配置される。

液晶層３０は、画素部３０ｄ（第１画素部３１及び第２画素部３２など）を有する。第１画素部３１は、第１画素電極１１と第２基板部２０ｕとの間に配置される。第２画素部３２は、第２画素電極１２と第２基板部２０ｕとの間に配置される。液晶層３０は、非画素部３０ｎをさらに含む。非画素部３０ｎは、画素間領域１５と第２基板部２０ｕとの間に配置される。

液晶層３０には、ネマティック液晶が用いられる。液晶層３０に含まれる液晶分子３５は、誘電率異方性を正としてダイレクタ方向３５Ｄを液晶分子の長軸方向に一致させる。液晶分子３５の長軸方向３５Ｄの向きは、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に発生する電界の強さ応じて変化する。すなわち、画素電極１０ｅに印可される電圧に応じて当該画素電極１０ｅ上の液晶層３０の向きが変化する。当該変化に伴って、液晶層３０の実効的な複屈折率（リタデーション）が変化する。液晶配向の変化に伴って、旋光性（光学活性）が変化しても良い。

本実施形態の液晶表示装置１１０は、反射型の表示装置であり、且つ、タッチパネル式の表示装置である。

表側から液晶表示装置１１０に入射した光は、第２基板部２０ｕ及び液晶層３０を通過して、画素電極１０ｅに入射する。画素電極１０ｅに入射した光は、画素電極１０ｅで反射する。反射した光が液晶層３０及び第２基板部２０ｕを通過し、表側から外部に出射する。

電圧を印加していない状態において、画素部３０ｄは、明状態である。所定の電圧を印加した状態において、画素部３０ｄは、暗状態である。液晶層３０が、しきい値を有する場合、所定の電圧は、しきい値よりも高い電圧（実効値が大きい電圧）である。画素部３０ｄにおいては、ノーマリブライト（ノーマリホワイト）の構成が適用される。本実施例は、ノーマリーブラックとしてもよい。

第２基板部２０ｕは、第２基板上に複数の検出線ＲＬを備えている。
複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｙ軸方向において互いに離間している。複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｘ軸方向に延在する。

複数の対向部２１ｅのそれぞれと、複数の検出線ＲＬのそれぞれと、の間に形成される容量を検出する。これにより、液晶表示装置１１０へのタッチ入力が検出される。検出動作において、液晶表示装置１１０の観視者（使用者）の指または入力部材（入力ペン）などが液晶表示装置１１０に接触、または、近接する。検出線ＲＬと対向部２１ｅとによって形成される電気容量が、上記の接触又は近接により変化する。この電気容量の変化を検出することで、タッチ入力及びタッチ出力の期間が検出される。静電容量型の検出が行われる。液晶表示装置１１０は、入力機能付きの表示装置である。この例では、対向電極２１は、表示のための電極として用いられると共に、タッチ入力の検出のための電極としても用いられる。

第１基板部１０ｕは、スイッチング素子１７ａと、複数の信号線１６（第１信号線１６ａ及び第２信号線１６ｂなど）と、複数のゲート線１７ｇ（第３ゲート線１７ｇａ及び第４ゲート線１７ｇｂなど）と、配線２２と、絶縁層１８ａと、絶縁層１８ｂと、をさらに含む。

図３は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。
図３に例示したように、表示装置１１０において、複数のスイッチング素子１７ａと、複数の画素電極１０ｅと、液晶層３０と、が設けられる。複数のスイッチング素子１７ａのそれぞれは、複数のゲート線１７ｇのいずれか、及び、複数の信号線１６のいずれかと電気的に接続される。

スイッチング素子１７ａは、ゲート１６ｇと、半導体層１６ｓと、を含む。半導体層１６ｓは、第１部分１６ｓａと、第２部分１６ｓｂと、を含む。ゲート１６ｇが、複数のゲート線１７ｇの１つと電気的に接続される。半導体層１６ｓの第１部分１６ｓａが、複数の信号線１６の１つと電気的に接続される。

複数の画素電極１０ｅのそれぞれは、複数のスイッチング素子１７ａのそれぞれと電気的に接続される。１つの画素電極１０ｅは、スイッチング素子１７ａの半導体層１６ｓの第２部分１６ｓｂと、電気的に接続される。

液晶層３０は、複数の画素電極１０ｅに与えられる電気信号に基づいて、光学動作を行う。光学動作は、光学特性の変化と、発光と、の少なくともいずれかを含む。表示層３０は、複数の画素電極１０ｅと複数の検出線ＲＬとの間に設けられる。

表示装置１１０において、複数の画素３３が設けられる。複数の画素３３のそれぞれに、少なくとも１つのスイッチング素子１７ａと、少なくとも１つの画素電極１０ｅと、が設けられる。すなわち、複数のスイッチング素子１７ａのそれぞれが、複数の画素３３のそれぞれに設けられる。複数の画素電極１０ｅのそれぞれが、複数の画素３３のそれぞれに設けられる。

図３に例示したように、表示装置１１０に制御部７０（駆動装置２１０）が設けられる。
制御部７０は、第１駆動回路７１と、第２駆動回路７２と、制御回路７３と、を含む。第１駆動回路７１は、複数のゲート線１７ｇと電気的に接続される。第２駆動回路７２は、複数の信号線１６及び複数の配線２２と電気的に接続される。制御回路７３は、第１駆動回路７１及び第２駆動回路７２と電気的に接続される。制御回路７３が入手する電気信号（画像信号を含む）に、適切な信号処理が行われる。信号処理が行われた電気信号が、第１駆動回路７１及び第２駆動回路７２に供給される。

配線２２、信号線１６、スイッチング素子１７ａ及び画素電極１０ｅにより、複数の画素３３における液晶層３０の光学動作が制御される。これにより、表示が行われる。表示動作において、配線２２が、画素電極１０ｅの対向電極として利用される。すなわち、スイッチング素子１７ａを介して画素電極１０ｅに電気信号が供給され、複数の画素電極１０ｅのそれぞれの電位が制御される。画素電極１０ｅと配線２２とにより生じる電界により液晶の配向が変化して、表示が行われる。

制御部７０に、検出回路７５がさらに設けられても良い。検出回路７５は、検出線ＲＬと電気的に接続される。検出動作においては、第２駆動回路７２と検出回路７５とにより、複数の配線２２のそれぞれと、複数の検出線ＲＬのそれぞれと、の間に形成される容量が検出される。

複数の検出線ＲＬと、複数の配線２２と、により、表示装置１１０へのタッチ入力が検出される。検出動作においては、表示装置１１０の観視者（使用者）の指または入力部材（例えば入力ペンなど）などが表示装置１１０に接触、または、近接する。検出線ＲＬと配線２２とによって形成される電気容量が、上記の接触または近接により変化する。この電気容量の変化を検出することで、タッチ入力が検出される。

実施形態において、第１基板１０ｓ及び第２基板２０ｓには、ガラス基板または樹脂基板が用いられる。

対向電極２１には、光透過性の導電材料が用いられる。対向電極２１には、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＴｉよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素を含む酸化物が用いられる。対向電極２１には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などが用いられる。対向電極２１には、光透過性の薄い金属層を用いても良い。

対向電極２１は、光透過性である。光透過性の部材（第１基板１０ｓ、第２基板２０ｓ及び対向電極２１など）においては、透過率が、反射率よりも高い。光透過性の部材においては、透過率は、吸収率よりも高い。

画素電極１０ｅには、アルミニウムなどが用いられる。画素電極１０ｅは、光反射性である。光反射性の部材（画素電極１０ｅなど）においては、反射率が透過率よりも高い。光反射性の部材においては、反射率は、吸収率よりも高い。

画素電極１０ｅ（第１画素電極１１及び第２画素電極１２など）は、鏡面反射性であることが好ましい。画素電極１０ｅに入射して反射する光の偏光特性は、反射により実質的に変化しない。画素電極１０ｅにおいて、拡散反射性が高い場合は、反射光の偏光特性は、入射光の偏光特性から変化する場合がある。反射により偏光性が劣化すると、表示のコントラスト比が低下する場合がある。画素電極１０ｅが鏡面反射性の場合に、高いコントラスト比を得やすい。画素電極１０ｅの表面は、比較的平坦である。これにより、鏡面反射性が得易い。

本実施形態において、画素は、サブ画素ＲＧＢを備えたものとなっている。このＲＧＢサブ画素すべてを備えた構成を１画素としている。第２基板部２０ｕは、カラーフィルタ層２５を備えている。カラーフィルタ層２５は、対向電極２１と第２基板２０ｓとの間に設けられる。第１対向部２１ａと第２基板２０ｓとの間に第１カラーフィルタＦ１が設けられる。第２対向部２１ｂと第２基板２０ｓとの間に第２カラーフィルタＦ２が設けられる。カラーフィルタは、所定の色の光に対する透過率が高い。第１カラーフィルタＦ１は、第１色の光を透過させる。第２カラーフィルタＦ２は、第２色の光を透過させる。光がカラーフィルタを通過することで、所定の色の光の強度を制御することができる。

カラーフィルタ層２５は、第１カラーフィルタＦ１と第２カラーフィルタＦ２との間の第１境界部Ｐ１を含む。第１遮光部２７ａは、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第１境界部Ｐ１と重なる部分を有する。

遮光部２７には、クロムまたはクロムを含む化合物などが用いられる。遮光部２７として、黒色の樹脂を用いても良い。遮光部２７には、異なる色の光に対応したカラーフィルタを積層した積層膜を用いてもよい。遮光部２７は、第１カラーフィルタＦ１と第２カラーフィルタＦ２との積層膜を含む。

第１基板部１０ｕ及び第２基板部２０ｕのそれぞれは、第１配向膜４０ａ及び第２配向膜４０ｂをさらに備えている。第１配向膜４０ａは、複数の画素電極１０ｅを覆って、液晶層３０と対向する。第２配向膜４０ｂは、対向電極２１を覆って液晶層３０と対向する。配向膜４０は、液晶層３０の液晶を配向させる。配向膜４０には、ポリイミドなどの有機膜が用いられる。

液晶層３０には、ネマティック液晶が用いられる。液晶層３０は、カイラル剤を含んでも良い。液晶層３０の厚さｔＬＣは、画素電極１０ｅを覆う配向膜４０と、対向電極２１を覆う配向膜４０との間のＺ軸方向に沿った距離である。

液晶層３０は、画素電極側の第１部分ＬＣａと、対向電極側の第２部分ＬＣｂと、これらの間の第３部分ＬＣｃと、を含む。発明の便宜上、以下では液晶層の構成をその厚さ方向に３つの部分に分けて説明するものとするが、これらの領域は明確なものではない。具体的には、液晶層をその厚さ方向に３つに分け、第１部分ＬＣａに属する液晶分子は主として画素電極に近い位置にある液晶分子であって、第２部分ＬＣｂに属する液晶分子は対向電極に近い位置にある液晶分子であって、これらの間に第３部分ＬＣｃに属する液晶分子が位置する。３つの部分の厚さは均等ではなく、例えば第３部分ＬＣｃが他の２つの部分よりも大きいことがある。
また、画素電極１０ｅ側の配向膜４０の配向力（アンカリング力）の影響が支配的である領域を第１部分ＬＣａとし、対向電極２１側の配向膜４０の配向力が支配的である領域を第２部分ＬＣｂとし、いずれの配向力よりも電界の影響を受けて容易にツイストする領域を第３部分ＬＣｃと定義づけることも可能である。

液晶層３０の誘電率異方性は、正でも負でも良い。本実施形態においては、液晶層３０の誘電率異方性が正であるものを用いている。

液晶層３０（画素電極〜対向電極間）に電界を発生させない状態（初期状態）において、液晶層３０の液晶分子３５の長軸方向３５Ｄは、Ｘ−Ｙ平面に実質的に沿っている。液晶分子３５のプレチルト角（長軸方向３５ＤとＸ−Ｙ平面との間の角度）は、１０度以下であり、約５度である。画素電極に電圧を印加することで、液晶層３０に電界を発生させると、液晶分子３５のチルト角が大きくなる。電圧印加時に、液晶層３０のうちの第３部分ＬＣｃにおいては、チルト角は約９０度になる。なお、液晶層３０の誘電率異方性が負のときは、プレチルト角は、７０度以上９０度以下である。実施形態において、プレチルト角は任意である。

第１部分ＬＣａにおける液晶分子３５の長軸の向き（長軸方向３５Ｄ、液晶ダイレクタ方向）は、第１基板部１０ｕの配向膜４０の配向方向（ラビング方向）によって定まる。第２部分ＬＣｂにおける液晶分子３５の長軸の向きは、第２基板部２０ｕの配向膜４０の配向方向によって定まる。

図４は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。
図４は、液晶層３０における液晶分子の配向方向を例示している。
図４に表したように、液晶層３０の第１部分ＬＣａにおける配向方向（第１配向方向ＬＣ１ａ）は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、Ｙ軸と交差する。第１配向方向ＬＣ１ａと、Ｘ軸方向との間の角度（第１配向角θＬＣａ）は、１４０度以上１８０度以下である。第１配向方向ＬＣ１ａのＸ軸方向成分は、第１配向方向ＬＣ１ａのＹ軸方向成分よりも大きい。

液晶層３０の第２部分ＬＣｂにおける配向方向（第２配向方向ＬＣ１ｂ）は、第１配向方向ＬＣ１ａと交差する。第１配向方向ＬＣ１ａと第２配向方向ＬＣ１ｂとの間の角度（ツイスト角θＬＣｔ）は、６０度以上８０度以下である。ここで、角度は、Ｘ軸方向を基準として、反時計回りの角度を正としている。
なお、配向膜４０の配向方向に関する情報は、偏光を用いて配向膜４０を解析することで得られる。配向膜４０の配向処理方向に関する情報は、配向処理の不均一性（ラビング傷など）を観察することで得られる。画素電極１０ｅと対向電極２１との間に直流を含む電圧を印加することで、配向処理の不均一に基づく筋が見易くなる場合がある。この筋に基づいて、配向処理方向（及び長軸方向３５Ｄ）を求めることができる。

第１基板部１０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第１部分ＬＣａにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。第１部分ＬＣａにおける液晶の配向方向は、第１基板部１０ｕにおける配向処理方向に沿う。同様に、第２基板部２０ｕにおける配向処理方向を求めることで、第２部分ＬＣｂにおける液晶の配向方向（長軸方向３５Ｄ）が求められる。すなわち、第２部分ＬＣｂにおける液晶の配向方向は、第２基板部２０ｕにおける配向処理方向に沿う。

図５は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。
図５は、液晶表示装置１１０の表示動作において、画素電極１０ｅのそれぞれに印加される電圧の極性を示している。

図５に表したように、第１画素電極１１は、対向電極２１を基準とした第１極性の電位に設定される。この例では、第１極性は、マイナスである。第２画素電極１２は、対向電極２１を基準とした第２極性の電位に設定される。第２極性は、第１極性と異なる極性である。この例では、第２極性はプラスである。

第１画素３３ａとＹ軸方向において並ぶ画素３３において、画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、第１極性と同じである。
第２画素３３ｂとＹ軸方向において並ぶ画素３３において、画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、第２極性と同じである。
各画素電極に印加される電圧の極性は、１フレーム毎に画素の列（Ｙ軸方向において並ぶ複数の画素）ごとに切り替えられる。

なお、上述の如く隣合う画素列ごとに極性を反転させる駆動をカラム反転駆動という。

このように、第１画素電極１１と第２画素電極１２とは、互いに異なる極性で駆動される。この極性の急激な変化に起因して、表示動作において、Ｘ軸方向に平行な方向に沿った電界（横電界）が生じる。第１画素電極１１と第２画素電極１２との間（非画素部３０ｎ）に横電界が生じる。
この電界によって、第１画素電極１１と第２画素電極１２との境界（画素間領域）上及びその周辺に位置する液晶分子３５に配向の欠陥（ディスクリネーション）が生じる場合がある。同様に、第２画素部３２の第１画素部３１側の端部（画素端部３０ｆ）に含まれる液晶分子３５に配向の欠陥が生じる場合がある。結果として、かかるディスクリネーションの発生によって、液晶表示装置の表示動作において、コントラストが低下してしまうことが考えられる。

このように、印加される電圧の極性が互いに異なる画素電極１０ｅの間に電界が生じる。この電界が生じる位置に対応した液晶層３０の領域に、液晶の配向不良が生じやすい。実施形態に係る液晶表示装置１１０においては、画素電極１０ｅどうしの間に生じる電界によって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

第１配向方向ＬＣ１ａの電界方向（この例ではＸ軸方向）に平行な成分が、第１配向方向ＬＣ１ａの電界方向（この例ではＹ軸方向）に垂直な成分よりも大きいときに、ディスクリネーションは発生しやすい。

液晶分子３５の長軸方向は、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に電界を発生させると、当該画素電極１０ｅ側から対向電極２１側に向けて連続的にその向きを変化させるものとなる。第１部分ＬＣａと第２部分ＬＣｂを上述のごとき配向状態に設定することで、第３部分ＬＣｃに含まれる液晶分子３５の一部の長軸方向は、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に電界を発生させると、主としてＸ軸方向（負側）の向きに沿うものとなる。

また、この時、第１画素電極１１に印加される電圧の極性と第２画素電極１２に印加される電圧の極性とは異なる。このため、これら第１画素電極１１と第２画素電極１２との間で電界が発生するものとなり、Ｘ軸方向を向いている第３部分ＬＣｃの液晶分子３５は、当該電界の影響を受けやすいものとなり、結果として、当該画素間領域１５上に配向乱れ（ディスクリネーション）を発生させるものとなる。

本実施例においては、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間で、印加電位の極性を反転させる駆動を行っているため、当該配向乱れはＹ軸方向に沿って発生するものとなる。

本実施形態においては、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、液晶層３０にてディスクリネーション発生領域となる画素間領域１５と重なる位置に、Ｙ軸方向に延在する遮光部２７が設けられている。これにより、ディスクリネーションによって生じる表示の乱れは、観視されにくくなり、コントラストの低下を抑制することができる。

なお、第１基板部１０ｕに設けられる信号線１６（第１信号線１６ａ及び第２信号線１６ｂ）には、金属膜が用いられる。

スイッチング素子１７ａに含まれる半導体層１６ｓには、例えば、低温ポリシリコン、アモルファスシリコン、または、酸化物半導体が用いられる。酸化物半導体には、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）の少なくともいずれかを含む酸化物が用いられる。

絶縁層１８（絶縁層１８ａ及び１８ｂ）には、例えば、樹脂材料を用いることができる。樹脂材料として、例えば、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂の少なくともいずれかが用いられる。絶縁層１８ａは、光吸収性を有していても良い。これにより、画素間領域１５における光の透過が抑制される。一方、絶縁層１８の光透過性が高い場合、絶縁層１８において、高い加工精度を得易い。絶縁層１８は、樹脂層と、無機層と、の積層膜を用いても良い。無機層として、例えば、窒化シリコン、酸窒化シリコン、及び、酸化シリコンの少なくともいずれかが用いられる。

図６は、液晶表示装置の動作を例示する模式図である。
図６は、液晶表示装置１１１において、画素電極１０ｅと対向電極２１との間に印加される電圧と、液晶分子３５の配向方向との関係を例示している。液晶表示装置１１１には、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

画素間領域１５と、対向電極間領域１４とが、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに重なるように配置される。しかし、液晶表示装置１１１の製造プロセスには、ばらつきが生じる。このばらつきにより、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、画素間領域１５の少なくとも一部は、対向電極間領域１４と重ならない部分を有する場合がある。かかる液晶表示装置１１１においては、画素電極１０ｅと対向電極２１との間（画素間領域１５と対向電極間領域１４の間）に、重ねずれが生じている。この重ねずれによって、液晶分子３５の配向が乱れる場合がある。

この例では、液晶層３０は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第１対向部２１ａと重なり、第１画素電極１１と重ならない第１領域３０ａを有する。液晶層３０は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、第２画素電極１２と重なり、第２対向部２１ｂと重ならない第２領域３０ｂを有する。

第１領域３０ａまたは第２領域３０ｂにおいて、液晶分子３５には、所望の電圧が印加されない。これにより、第１領域３０ａの液晶分子３５、または、第２領域３０ｂの液晶分子３５において、配向不良が生じる。

図７（ａ）〜図７（ｅ）は、液晶表示装置を例示する模式図である。
図７（ａ）〜図７（ｄ）は、それぞれ参考例の液晶表示装置１９０〜１９３を例示している。
図７（ｅ）は、液晶表示装置１９０〜１９３における反射率Ｒｅｆ（％）を計算したシミュレーションの結果を例示している。

図７（ａ）に表したように、液晶表示装置１９０には、対向電極間領域１４が設けられない。すなわち、対向電極２１にスリットが設けられていない。

図７（ｂ）に表したように、液晶表示装置１９１において、対向電極間領域１４と、画素間領域１５と、は、Ｘ軸方向において重なる。すなわち、液晶表示装置１９１においては、対向電極２１と画素電極１０ｅとの間に重ねずれが生じていない。

図７（ｃ）に表したように、液晶表示装置１９２において、対向電極間領域１４は、画素間領域１５よりも−Ｘ軸方向（第１画素電極１１から第２画素電極１２へ向かう方向）に配置されている。対向電極間領域１４のＸ軸方向に沿った位置と、画素間領域１５のＸ軸方向に沿った位置と、の間の距離は、３μｍである。

図７（ｄ）に表したように、液晶表示装置１９３において、対向電極間領域１４は、画素間領域１５よりも＋Ｘ軸方向（第２画素電極１２から第１画素電極１１へ向かう方向）に配置されている。対向電極間領域１４のＸ軸方向に沿った位置と、画素間領域１５のＸ軸方向に沿った位置と、の間の距離は、３μｍである。

液晶表示装置１９０〜１９３のそれぞれにおいて、画素間領域１５のＸ軸方向に沿った長さは、４μｍである。液晶表示装置１９０〜１９３のそれぞれにおいて、対向電極間領域１４のＸ軸方向に沿った長さは、４μｍである。液晶表示装置１９０〜１９３には遮光部２７が設けられない。
これら以外については、液晶表示装置１９０〜１９３には、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

図７（ｅ）の縦軸は、液晶表示装置における反射率Ｒｅｆを表す。図７（ｅ）の横軸は、Ｘ軸方向に沿った位置Ｐｘを表す。反射率Ｒｅｆの計算においては、対向電極２１と、画素電極１０ｅと、の間に３Ｖの電圧が印加されている。

図７（ｅ）に表したように、液晶表示装置１１２及び液晶表示装置１１３においては、第１画素電極１１に対応する位置Ｐｘの反射率Ｒｅｆ、及び、第２画素電極１２に対応する位置Ｐｘの反射率Ｒｅｆは、低い。

液晶表示装置１１４においては、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれに応じて、第２画素電極１２に対応する位置Ｐｘの反射率Ｒｅｆが高い。液晶表示装置１１５においては、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれに応じて、第１画素電極１１に対応する位置Ｐｘの反射率Ｒｅｆが高い。

このように、重ねずれが生じると、液晶分子３５に所望の電圧が印加されず、配向の乱れが生じる。これにより、電極に電圧を印加しても反射率が下がらない領域（黒が締まらない領域）が生じ、コントラストが低下してしまう場合がある。

実施形態に係る液晶表示装置１１０においては、第１対向部２１ａ及び第２対向部２１ｂのそれぞれは、Ｙ軸方向に延在している。すなわち、対向電極間領域１４はＹ軸方向に延在している。このため、対向電極２１の位置と画素電極１０ｅの位置とのずれによって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

これに対して、液晶表示装置１１０においては、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、対向電極間領域１４と重なる位置に、Ｙ軸方向に延在する遮光部２７が設けられている。これにより、配向の不良によるコントラストの低下を抑制することができる。

以上、説明したように、実施形態に係る液晶表示装置１１０においては、第１対向部２１ａ、第２対向部２１ｂが、Ｘ軸方向において離間し、Ｙ軸方向に延在する。また、第１画素電極１１に印加される電圧の極性と、第２画素電極１２に印加される電圧の極性と、が異なる。Ｘ軸方向に沿った電界が形成される。

これにより、複数の画素電極１０ｅの間の電界によって生じる配向不良の方向は、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれによって生じる配向不良の方向と、一致し、いずれもＹ方向に沿って延在するものとなる。このため、これらの配向不良によって生じるコントラストの低下を抑制するために、遮光部２７を設けることとなっても、当該遮光部２７はＹ軸方向に沿ってのみ延在させるものでよく、少なくともＸ軸方向に延在する遮光部を設ける必要がない。このため、当該液晶表示装置１１０においては、Ｘ−Ｙ平面に投影したときの遮光部２７の面積を全体として小さくすることができる。これにより、液晶表示装置１１０の反射率の低下を抑制することができる。表示の明るさの低下を抑制することができる。

図８（ａ）〜図８（ｄ）は、参考例の液晶表示装置１９４を例示している。これらの図においては、見やすさのため液晶表示装置１９４の一部を省略して表している。

図８（ａ）は、液晶表示装置１９４の透視平面図である。液晶表示装置１９４においても、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び遮光部２７が設けられる。対向電極２１は、複数の対向部２１ｅを含む。図８（ａ）に表したように、液晶表示装置１９４においては、複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｙ軸方向において互いに離間する。複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｘ軸方向に延在する。対向電極間領域１４は、Ｘ軸方向に延在する。第１画素電極１１と第２画素電極１２との間の画素間領域１５と、対向電極間領域１４と、は、Ｘ−Ｙ平面に投影した時に重ならない。液晶表示装置１９４は、複数の検出線ＲＬを含む。複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｘ軸方向において互いに離間している。複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｙ軸方向に延在する。これ以外については、液晶表示装置１９４の構成には、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

液晶表示装置１９４においては、対向電極間領域１４はＸ軸方向に延在している。このため、対向電極２１の位置と画素電極１０ｅの位置とのずれによって、液晶層３０のＸ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

図８（ｂ）は、液晶表示装置１９４の液晶層３０における液晶の配向方向を例示している。図８（ｂ）に表したように、液晶表示装置１９４の液晶分子３５の配向方向は、液晶表示装置１１０の液晶分子３５の配向方向と同様である。

図８（ｃ）は、液晶表示装置１９４の表示動作において、画素電極１０ｅのそれぞれに印加される電圧を例示している。図８（ｃ）に表したように、液晶表示装置１９４においても、液晶表示装置１１０と同様に、カラム反転が用いられている。画素電極１０ｅどうしの間（第１画素電極１１と第２画素電極１２との間）に、Ｘ軸方向に平行な方向に沿った電界（横電界）が生じる。この電界によって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向の不良が生じやすい。

このように、液晶表示装置１９４においては、複数の画素電極１０ｅの間の電界によって生じる配向不良の方向は、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれによって生じる配向不良の方向と異なる。

図８（ｄ）は、液晶表示装置１９４の透視平面図である。
Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、対向電極間領域１４と重なる位置に遮光部２７を設ける。すなわち、遮光部２７は、Ｘ軸方向に延在する部分を含む。これにより、液晶の配向不良によるコントラストの低下を抑制することができる。

また、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、印加される電圧の極性が互いに異なる画素電極の間（第１画素電極１１と第２画素電極１２との間）の領域と重なる位置に遮光部２７を設ける。すなわち、遮光部２７は、Ｙ軸方向に延在する部分を含む。これにより、複数の画素電極１０ｅの間の電界よって生じる配向不良によるコントラストの低下を抑制することができる。

このように、参考例の液晶表示装置１９４において、遮光部２７は、Ｘ軸方向に延在する部分、及び、Ｙ軸方向に延在する部分を含む。液晶表示装置の縦方向及び横方向の両方に延在する格子状の遮光部２７が設けられる。Ｘ−Ｙ平面に投影した時に、遮光部２７の面積が大きくなってしまう。これにより、液晶表示装置１９４の反射率が低下し、表示の明るさが著しく低下してしまう。

これに対して、実施形態に係る液晶表示装置１１０の遮光部２７は、Ｘ軸方向に延在する部分を少なくすることができる。遮光部２７の面積を全体として小さくすることができる。
このように、複数の対向部２１ｅのそれぞれが延在する方向と、画素電極１０ｅのそれぞれに印加される電圧の極性が変化する方向と、を調整する。これにより、遮光部２７の面積を小さくすることができる。遮光部２７による表示の明るさの低下を抑制することができる。

図９（ａ）〜図９（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式図である。
図９（ａ）〜図９（ｄ）は、液晶表示装置１１２を例示している。これらの図においても、見やすさのため、液晶表示装置１１２の一部を省略して表している。
図９（ａ）〜図９（ｄ）は、液晶表示装置のＸ−Ｙ平面を表している。

図９（ａ）は、液晶表示装置１１２の透視平面図である。液晶表示装置１１２においても、液晶表示装置１１０と同様に、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び遮光部２７が設けられる。

図９（ａ）に表したように、第２画素電極１２は、Ｘ軸方向において第１画素電極１１と並ぶ。Ｘ軸方向は、第２画素電極１２から第１画素電極１１へ向かう方向である。

第１基板部１０ｕは、画素間領域１５を含む。画素間領域１５は、複数の画素電極１０ｅどうしの間の領域である。例えば、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に、Ｙ軸方向に延在する画素間領域１５が設けられる。

対向電極２１は、複数の対向部２１ｅを含む。複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｘ軸方向において互いに離間する。対向部２１ｅのそれぞれは、Ｘ軸方向に対して垂直なＹ軸方向に延在する。対向電極２１は、第１対向部２１ａ及び第２対向部２１ｂを含む。

第２基板部２０ｕは、対向電極間領域１４を含む。対向電極間領域１４は、第１対向部２１ａと第２対向部２１ｂとの間の領域である。対向電極間領域１４は、Ｙ軸方向に延在している。

複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｙ軸方向において互いに離間している。複数の検出線ＲＬのそれぞれは、Ｘ軸方向に延在している。

液晶表示装置１１０と同様に、複数の信号線１６のそれぞれは、Ｙ軸方向において離間し、Ｘ軸方向に延在する。複数のゲート線１７ｇのそれぞれは、Ｘ軸方向において離間し、Ｙ軸方向に延在する。

液晶表示装置１１２においては、対向電極間領域１４は、Ｙ軸方向に延在している。このため、対向電極２１の位置と画素電極１０ｅの位置とのずれによって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

図９（ｂ）は、液晶表示装置１１２の液晶層３０における液晶の配向方向を例示している。
図９（ｂ）に表したように、液晶表示装置１１２において、液晶層３０の第１部分ＬＣａにおける配向方向（第１配向方向ＬＣ１ａ）は、Ｙ軸方向と交差する。Ｙ軸方向と第１配向方向ＬＣ１ａとの間の角度は、８０度以上１００度以下である。第１配向方向ＬＣ１ａのＸ軸方向と平行な成分は、第１配向方向ＬＣ１ａのＹ軸方向と平行な成分よりも大きい。

液晶層３０の第２部分ＬＣｂにおける配向方向（第２配向方向ＬＣ１ｂ）は、第１配向方向ＬＣ１ａと交差する。ツイスト角θＬＣｔは、６０度以上８０度以下である。

図９（ｃ）は、液晶表示装置１１２の表示動作において、画素電極１０ｅのそれぞれに印加される電圧を例示している。図９（ｃ）に表したように、第１画素電極１１は、対向電極２１を基準とした第１極性の電位に設定される。第１極性は、マイナスである。このとき、第２画素電極１２は、対向電極２１を基準とした第２極性の電位に設定される。第２極性は、第１極性とは異なる極性である。この例では、第２極性はプラスである。

第１画素３３ａとＹ軸方向において並ぶ画素３３において、画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、第１極性と同じである。
第２画素３３ｂとＹ軸方向において並ぶ画素３３において、画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、第２極性と同じである。
液晶表示装置１１２では、液晶層３０に印加される電圧の極性は、画素の行（Ｙ軸方向において並ぶ複数の画素）ごとに切り替えられる。
かかる画素行ごとに極性を切り替える駆動をライン反転駆動という。

第１画素電極１１と第２画素電極１２との間にＸ軸方向に沿った電界が生じる。印加される電圧の極性が互いに異なる画素電極１０ｅの間の領域に電界が生じる。この電界が生じる位置に対応した液晶層３０の領域に、液晶の配向不良が生じやすい。実施形態に係る液晶表示装置１１２においては、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

このように、液晶表示装置１１２においては、複数の画素電極１０ｅの間の電界によって生じる配向不良の位置（方向）は、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれによって生じる配向不良の位置（方向）と、一致する（Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、少なくとも一部が重なる）。

図９（ｄ）は、液晶表示装置１１２の透視平面図である。
図９（ｄ）に表したように、遮光部２７は、Ｙ軸方向に延在する。Ｘ軸方向において互いに離間した複数の遮光部２７によって、横方向（Ｙ軸方向）のストライプ状（横ストライプ）のブラックマトリクスが形成される。

遮光部２７は、液晶の配向不良が生じる位置に対応する位置に設けられる。つまり、遮光部２７は、対向電極間領域１４と画素間領域１５とを覆う位置に設けられる。実施形態に係る液晶表示装置１１２においては、遮光部２７のＸ軸方向に延在する部分を設けなくても良い。これにより、遮光部２７の面積を小さくすることができる。遮光部２７による表示の明るさの低下を抑制することができる。

図１０（ａ）〜図１０（ｄ）は、第１の実施形態に係る別の液晶装置を例示する模式図である。
図１０（ａ）〜図１０（ｄ）は、実施形態に係る液晶表示装置１１３を例示している。これらの図においても、見やすさのため、液晶表示装置１１３の一部を省略して表している。

図１０（ａ）は、液晶表示装置１１３の透視平面図である。液晶表示装置１１３においても、液晶表示装置１１０と同様に、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び遮光部２７が設けられる。

図１０（ｃ）に表したように、液晶表示装置１１３において、複数の画素３３は、第３画素３３ｃと第４画素３３ｄとをさらに含む。第３画素３３ｃは、第３画素電極１３を含み、第４画素３３ｄは、第４画素電極１３ｂを含む。第３画素電極１３と第４画素電極１３ｂとは、互いにＸ軸方向に隣り合って並ぶと共に、第３画素電極１３はＹ軸方向で第１画素電極１１と隣り合い、第４画素電極１３ｂはＹ軸方向で第２画素電極１２と隣り合う。これ以外は、液晶表示装置１１３の構成には、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

第２画素電極１２と第１画素電極１１とは、互いにＸ軸方向に隣り合って並ぶと共に、第２画素電極１２はＹ軸方向で第４画素電極１３ｂと隣り合い、第１画素電極１１はＹ軸方向で第１画素電極と隣り合う。対向電極２１は、複数の対向部２１ｅを含む。複数の対向部２１ｅのそれぞれは、Ｘ軸方向において互いに離間し、Ｙ軸方向に延在する。対向電極間領域１４は、Ｙ軸方向に延在する。このため、対向電極２１の位置と画素電極１０ｅの位置とのずれによって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に、液晶の配向不良が生じやすい。

図１０（ｂ）は、液晶表示装置１１３の液晶層３０における液晶の配向方向を例示している。図１０（ｂ）に表したように、液晶表示装置１１３の液晶分子３５の配向方向は、液晶表示装置１１０の液晶分子３５の配向方向と同様である。

図１０（ｃ）は、液晶表示装置１１３の表示動作において、画素電極１０ｅのそれぞれに印加される電圧を例示している。図１０（ｃ）に表したように、第１画素電極１１は、対向電極２１を基準とした第１極性の電位に設定される。この例では、第１極性は、マイナスである。第２画素電極１２は、対向電極２１を基準とした第２極性の電位に設定される。第２極性は、第１極性と異なる極性である。この例では、第２極性はプラスである。第３画素電極１３は、対向電極２１を基準とした第２極性の電位に設定される。第４画素電極１３ｂは、対向電極２１を基準とした第１極性の電位に設定される。

複数の画素電極１０ｅのうち、Ｙ軸方向において隣接する画素電極１０ｅにおいて、印加される電圧の極性は、互いに異なる。
複数の画素電極１０ｅのうち、Ｘ軸方向に並ぶ画素電極１０ｅに印加される電圧の極性は、隣接する３つの画素電極１０ｅごとに切り替えられる。電圧の極性は、隣接する３つ以上、または、３つ以下、の画素電極１０ｅごとに切り替えられてもよい。
このように、液晶表示装置１１３の表示動作において、画素電極１０ｅに印加される電圧には、画素単位ごとに極性を反転させるドット反転が用いられる。

第１画素電極１１と第２画素電極１２との間に、Ｘ軸方向に沿った電界が形成される。また、第２画素電極１２と第４画素電極１３ｂとの間に、Ｙ軸方向に沿った電界が形成される。

図１０（ｂ）に表したように、この例では、液晶層３０の第１部分ＬＣａにおける液晶分子３５の配向方向（第１配向方向ＬＣ１ａ）は、Ｘ軸方向に沿っている。第１配向方向ＬＣ１ａのＸ軸方向に平行な成分は、第１配向方向ＬＣ１ａのＹ軸方向に平行な成分よりも大きい。これにより、第２画素電極１２と第４画素電極１３ｂとの間におけるよりも、第１画素電極１１と第２画素電極１２との間において、液晶の配向不良（ディスクリネーション）が発生しやすい。

このように、画素電極１０ｅに印加される電圧の極性と、液晶分子３５の配向方向と、によって、液晶層３０のＹ軸方向に沿った領域に液晶の配向不良が生じやすい。

液晶表示装置１１３においても、複数の画素電極１０ｅの間の電界によって生じる配向不良の位置（方向）と、対向電極２１と画素電極１０ｅとの重ねずれによって生じる配向不良の位置（方向）と、が一致する（Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、少なくとも一部が重なる）。

図１０（ｄ）は、液晶表示装置１１３の透視平面図である。
図１０（ｄ）に表したように、遮光部２７は、Ｙ軸方向に延在する。Ｘ軸方向において互いに離間した複数の遮光部２７によって、縦方向（Ｙ軸方向）のストライプ状（縦ストライプ）のブラックマトリクスが形成される。

遮光部２７は、液晶の配向不良が生じる位置に対応する位置に設けられる。実施形態に係る液晶表示装置１１３においては、遮光部２７のＸ軸方向に延在する部分を設けなくても良い。これにより、遮光部２７の面積を小さくすることができる。遮光部２７による表示の明るさの低下を抑制することができる。

図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式図である。
図１１（ａ）は、液晶表示装置１１２ａの使用状態を例示している。液晶表示装置１１２ａには、液晶表示装置１１２について説明した構成を適用することができる。

観視者８０は、液晶表示装置１１２に入射し、画素電極１０ｅによって反射された光を観視する。
液晶表示装置１１２の使用状態は、第１状態ＳＴ１である。第１状態ＳＴ１は、観視者８０の主視角方向Ｄｗ１（Ｘ−Ｙ平面に投影した時に、観視者８０が観視する光の進行する方向）が、遮光部２７の延在する方向に対して交差する状態である。主視角方向は、遮光部２７の延在する方向に対して垂直である。第１状態ＳＴ１においては、観視者８０は、遮光部２７の延在する方向と交差する方向（垂直な方向）から、液晶表示装置１１２を観視する。

図１１（ｂ）は、液晶表示装置１１０ａの使用状態を例示している。液晶表示装置１１０ａには、液晶表示装置１１０について説明した構成を適用することができる。

液晶表示装置１１０の使用状態は、第２状態ＳＴ２である。第２状態ＳＴ２は、観視者８０の主視角方向Ｄｗ１が、遮光部２７の延在する方向に対して平行な状態である。第２状態ＳＴ２においては、観視者８０は、遮光部２７の延在する方向と平行な方向から液晶表示装置１１０を観視する。

液晶表示装置１１２の遮光部２７の幅２７Ｗ（Ｙ軸方向に沿った長さ）は、液晶表示装置１１０の遮光部２７の幅２７Ｗ（Ｘ軸方向に沿った長さ）と同じである。このとき、第２状態ＳＴ２で使用される液晶表示装置１１０の方が、第１状態ＳＴ１で使用される液晶表示装置１１２よりも、観視者８０にとって明るい。

実施形態においては、第２状態ＳＴ２において液晶表示装置を使用することが望ましい。すなわち、遮光部２７が延在する方向を、主視角方向Ｄｗ１に対して平行な方向とすることが望ましい。特に、液晶表示装置が後述する光学層６５を含む場合には、第２状態ＳＴ２においての使用が望ましい。

（第２の実施形態）
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第２の実施形態に係る別の液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
図１２（ａ）は、液晶表示装置１１４を例示する模式的断面図である。図１２（ｂ）は、液晶表示装置１１５を例示する模式的断面図である。液晶表示装置１１４及び１１５においても、液晶表示装置１１０と同様に、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ、液晶層３０及び遮光部２７が設けられる。この例では、液晶表示装置１１４及び１１５は、第１状態ＳＴ１において使用されている。

図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に表したように、液晶表示装置１１４または１１５に、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、遮光部２７の延在する方向に対して垂直な方向に進行する光Ｌａ１が入射する。入射した光Ｌａ１は、第２基板部２０ｕ及び液晶層３０などを通過し、画素電極１０ｅにおいて反射される。反射された光Ｌａ２の一部は、外部へ出射し、観視される。一方、反射された光Ｌａ２の別の一部は、遮光部２７によって遮光され、外部に出射しない。遮光部２７によって遮光された光は、損失となる。これにより、表示の明るさが低下してしまう。
第１状態ＳＴ１においては、遮光部２７の幅２７Ｗよりも広い領域で反射された光が、損失となる。第１状態ＳＴ１においては反射された光の損失が生じやすい。

これに対して、第２状態ＳＴ２においては、遮光部２７の幅２７Ｗと同程度（同じ）の広さの領域で反射された光が、損失となる。第２状態ＳＴ２においては、第１状態ＳＴ１におけるよりも、光の損失が生じにくい。

図１２（ａ）に表したように、液晶表示装置１１４は、さらに偏光層５２、第１位相差層６１及び第２位相差層６２を含む。偏光層５２と、液晶層３０と、の間に第２基板部２０ｕが設けられる。偏光層５２と第２基板部２０ｕとの間に第１位相差層６１が設けられる。偏光層５２と第１位相差層６１との間に第２位相差層６２が設けられる。

第１位相差層６１として、１／４波長板が用いられる。第１位相差層６１のリタデーションは、１００ナノメートル以上１５０ナノメートル以下である。

第２位相差層６２として。１／２波長板が用いられる。第２位相差層６２のリタデーションは、２４０ナノメートル以上２９０ナノメートル以下である。

第１位相差層６１及び第２位相差層６２には、延伸フィルムなどが用いられる。位相差層において、位相差層の複屈折率と、位相差層の厚さと、の積がリタデーションに対応する。リタデーションは、偏光を用いた解析により求めることができる。

第１位相差層６１は、入射する直線偏光を、実質的に円偏光に変化させる。第２位相差層６２は、入射する直線偏光の偏光方向を９０度変化させる。

これらの位相差層を用いることで、液晶層３０における光学特性（実効的な複屈折率）の変化を、光の明るさの変化に変化することが、効率的に行われる。すなわち、明るさを向上し、高いコントラスト比が得られる。波長依存性が小さくなる。

実施形態において、これらの位相差層は、必要に応じて設けられ、省略しても良い。第１位相差層６１を用いることで、高い明るさと、高いコントラスト比と、が得易くなる。第２位相差層６２を用いることで、光学特性の波長依存性が改善され、色づきが抑制される。

図１２（ａ）に表したように液晶表示装置１１４においては、画素電極１０ｅが拡散反射性である。画素電極１０ｅの表面に凹凸が設けられている。画素電極１０ｅには、偏光層５２及び位相差層を介して入射する外光を反射する反射層が設けられてもよい。画素電極１０ｅが拡散反射性であることにより、鏡面反射が抑制されている。外部から偏光層５２に入射した光Ｌａ１は、第１位相差層６２、第２位相差層６１、第２基板部２０ｕ、及び、液晶層３０を通過し、画素電極１０ｅに入射する。画素電極１０ｅに入射した光は、拡散して反射され、光Ｌａ２として外部に出射する。

図１２（ｂ）に表したように、液晶表示装置１１５は、光学層６５を含む。光学層６５は、第２基板部２０ｕと第１位相差層６１との間に設けられる。光学層６５は、光学層６５に入射する光の進行方向を変更する。光学層６５は、光学層６５に入射する光を拡散（散乱）する。光学層６５は、光学層６５に入射する光の拡散光（散乱光）の強度を、光学層６５に入射する光の方向（Ｘ−Ｙ平面内の方向）に応じて変化させる。

図１３（ａ）〜図１３（ｄ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の一部を例示する模式図である。
これらの図は、光学層６５を例示している。図１３（ａ）は、光学層６５を例示する模式的断面図である。図１３（ｂ）は、光学層６５を例示する模式的平面図である。図１３（ｃ）は、別の例の光学層６５を示す模式的平面図である。図１３（ｄ）は、光学層６５の別の例を示す模式的断面図である。

図１３（ａ）に例示したように、光学層６５は、複数の第１光学部６６と、第２光学部６７と、を含む。複数の第１光学部６６は、Ｘ−Ｙ平面内（第１主面１０ａに対して平行な平面内）に配置される。複数の第１光学部６６は、光透過性である。第２光学部６７は、複数の第１光学部６６のうちの任意の２つ間に設けられる。第２光学部６７も光透過性である。この例では、複数の第２光学部６７が設けられている。複数の第１光学部６６と、複数の第２光学部６７と、が交互に配置されている。複数の第１光学部６６の少なくともいずれかと、第２光学部６７との間の境界６８は、Ｘ−Ｙ平面に対して傾斜している。第２光学部６７の屈折率は、第１光学部６６の屈折率よりも高い、または、低い。

光学層６５に第１入射方向から入射する光（第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における散乱光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２）の光学層６５における散乱光の強度とは異なる。ここで、第１入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向は、第２入射方向の、Ｘ−Ｙ平面内の方向とは異なる。

第１入射光Ｌｉ１の光学層６５における散乱光の強度は、第２入射光Ｌｉ２の光学層６５における散乱光の強度よりも高い。第１入射光Ｌｉ１は光学層６５で散乱されて拡散する。一方、第２入射光Ｌｉ２においては、光学層６５における散乱（拡散）の程度が低く、透過性が高い。境界６８がＸ−Ｙ平面に対して傾斜していることで、このような散乱特性が得られる。光学層６５は、異方性散乱層である。光学層６５は、異方性前方散乱フィルムである。

光学層６５においては、例えば、屈折率が高い領域と、低い領域と、が設けられている。光学層６５は、透明フィルムである。光学層６５においては、光の入射方向によって、散乱の程度が異なる。光学層６５は、「散乱中心軸」を有する。散乱中心軸は、図１３（ａ）に例示した第１入射光Ｌｉ１の光軸に対応する。散乱中心軸は、最も散乱する光の入射方向に対応する。
光学層６５は、散乱中心軸の方向（散乱中心方向）を有する。光学層６５に第１入射方向から入射する光の光学層６５における散乱光の強度は、散乱中心方向と第１入射方向との間の角度が小さいほど、高い。

図１３（ｂ）に例示したように、複数の第１光学部６６は、帯状である。第１光学部６６及び第２光学部６７のそれぞれは、Ｚ軸方向に対して交差（直交）する１つの方向に沿って延在する。この例では、光学層６５は、ルーバ構造タイプである。

図１３（ｃ）に例示した別の例では、複数の第１光学部６６は、互いに離間した島状である。この例では、光学層６５は、柱状構造タイプである。

図１３（ｄ）に例示した例では、光学層６５は、複数の層（第１層６５ａ及び第２層６５ｂなど）を含む。これらの層は、Ｚ軸方向に沿って積層されている。第１層６５ａは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部６６ａと、複数の第１光学部６６ａのうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部６７ａと、を含む。第２光学部６７ａの屈折率は、複数の第１光学部６６ａのそれぞれの屈折率とは異なる。この場合も、複数の第１光学部６６ａの少なくともいずれかと第２光学部６７ａとの間の境界６８ａは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。

第２層６５ｂは、Ｘ−Ｙ平面内に配置された光透過性の複数の第３光学部６６ｂと、複数の第３光学部６６ｂのうちの２つの間に設けられた光透過性の第４光学部６７ｂと、を含む。第４光学部６７ｂの屈折率は、複数の第３光学部６６ｂのそれぞれの屈折率とは異なる。複数の第３光学部６６ｂの少なくともいずれかと第４光学部６７ｂとの間の境界６８ｂは、Ｘ−Ｙ面に対して傾斜している。境界６８ｂの延在方向は、境界６８ａの延在方向に沿っている。境界６８ｂを含む平面と、境界６８ａを含む平面と、の間の角度は、３０度以下でも良い。光学層６５に複数の層を設けることで、拡散範囲が拡大する。光学層６５に複数の層を設けることで、着色（虹色の発生）などが抑制できる。光学層６５に設けられる層の数は、３以上でも良い。

図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置の特性を例示する模式的平面図である。
これらの図は、光学層６５の特性を例示する模式図であり、光学層６５に光が入射したときの光学層６５を通過する光の強度を模式的に例示している。図１４（ａ）は、第１入射光Ｌｉ１が入射したときに対応する。この例では、第１入射光Ｌｉ１は、Ｙ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第１入射光Ｌｉ１の入射角（Ｚ軸方向と第１入射光Ｌｉ１との間の角度）は、３０度である。図１４（ａ）は、散乱中心軸に対して平行な方向から光が入射する場合に対応する。図１４（ｂ）は、第３入射光Ｌｉ３が入射したときに対応する。この例では、第３入射光Ｌｉ１は、Ｘ−Ｚ平面に沿って光学層６５に入射している。第３入射光Ｌｉ３の入射角（Ｚ軸方向と第３入射光Ｌｉ３との間の角度）は、３０度である。図１４（ｂ）は、散乱中心軸に対して垂直な方向から光が入射する場合に対応する。

これらの図に描かれている同心円は、Ｚ軸方向を基準にした角度（等角度線）に対応する。同心円の中心は、光学層６５から、実質的にＺ軸方向に沿って出射する透過光（垂直出射光）に対応する。これらの図に描かれている明るい領域Ｂ１及びＢ２は、透過光の強度が高い領域である。

図１４（ａ）に表したように、Ｙ軸方向に沿った第１入射光Ｌｉ１においては、垂直出射光の強度が高い。そして、Ｙ−Ｚ平面内で傾斜する方向に出射する透過光の強度も高い。

図１４（ｂ）に表したように、Ｘ軸方向に沿った第３入射光Ｌｉ３においては、垂直出射光の強度が低い。そして、Ｘ−Ｚ平面内で傾斜する方向（垂直方向から傾斜した方向）において、透過光の強度が高い。

このように、光学層６５においては、光学層６５に第１入射方向から入射する光（第１入射光Ｌｉ１）の光学層６５における光の強度は、光学層６５に第２入射方向から入射する光（第２入射光Ｌｉ２または第３入射光Ｌｉ３など）の光学層６５における光の強度とは異なる。

液晶表示装置１１５において、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、光学層６５の散乱中心軸は、観視者８０の主視角方向Ｄｗ１に沿った方向に配置される。
Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、光学層６５の散乱中心方向に沿った方向に遮光部２７が延在する。これにより、遮光部２７による光の損失を少なくし、より反射光の輝度を向上することができる。液晶表示装置において、表示の明るさの低下を抑制することができる。

図１５は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を例示する模式的断面図である。
図１５に表したように、液晶表示装置１１６においても、第１基板部１０ｕ、第２基板部２０ｕ、及び、液晶層３０が設けられる。この例では、液晶表示装置１１６は、偏光層５２、第１位相差層６１、第２位相差層６２、及び、光学層６５を含む。これらについては、液晶表示装置１１５について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

遮光部２７は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、対向電極間領域１４の少なくとも一部と重なる。遮光部２７は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、画素間領域１５の少なくとも一部と重なる。

液晶表示装置１１６においては、液晶層３０の一部は、遮光部２７と第２基板部２０ｕとの間に設けられる。このように、遮光部２７を第１基板部１０ｕの側に設けてもよい。

図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第２の実施形態に係る液晶表示装置を例示する透視平面図である。
図１６（ａ）は、液晶表示装置１１０ｂを例示している。図１６（ｂ）は、液晶表示装置１１０ｃを例示している。これらの図において、見やすさのため、表示装置の一部は省略されている。液晶表示装置１１０ｂ及び液晶表示装置１１０ｃには、液晶表示装置１１０について説明した構成と同様の構成を適用することができる。

図１６（ａ）は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときの、液晶表示装置１１０ｂの遮光部２７の形状を例示している。
図１６（ｂ）は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときの、液晶表示装置１１０ｃの遮光部２７の形状を例示している。

図１６（ａ）及び図１６（ｂ）に表したように、Ｘ軸方向に沿った遮光部２７の長さ２７Ｗは、Ｙ軸方向に沿って変化してもよい。

遮光部２７は、第１方向に沿った長さの最大値（最大幅２７Ｗｍ）を有する。最大幅２７Ｗｍは、遮光部２７の第１方向に沿った長さ２７Ｌよりも短い。このように、Ｙ軸方向に延在する遮光部２７の平面形状は、矩形に限らない。遮光部２７の平面形状は、種々の変形が可能である。

実施形態によれば、明るさの低下を抑制した液晶表示装置が提供できる。

なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。第１基板部、画素電極、画素間領域、第２基板部、対向電極、対向電極間領域、遮光部、液晶層、光学層、位相差層などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

その他、本発明の実施の形態として上述した液晶表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０ａ…第１主面、 １０ｅ…画素電極、 １０ｓ…第１基板、 １０ｕ…第１基板部、 １１〜１３…第１〜第３画素電極、 １３ｂ…第４画素電極、 １４…対向電極間領域、 １５…画素間領域、 １５ａ…第１画素間領域、 １５ｂ…第２画素間領域、 １６…信号線、 １６ａ…第１配線、 １６ｂ…第２配線、 １６ｓ…半導体層 １６ｓａ…第１部分 １６ｓｂ…第２部分 １７…配線、 １７ａ…スイッチング素子、 １７ｇ…ゲート線、 １７ｇａ…第３ゲート線、 １７ｇｂ…第４ゲート線、 １８ａ…絶縁層、 １８ｂ…絶縁層、 １９…接続部、 １９ａ…第１接続部、 １９ｂ…第２接続部、 ２０ａ…第２主面、 ２０ｓ…第２基板、 ２０ｕ…第２基板部、 ２１…対向電極、 ２１ａ…第１対向部、 ２１ｂ…第２対向部、 ２１ｅ…対向部、 ２２…配線、 ２５…カラーフィルタ層、 ２７…遮光部、 ２７Ｌ、２７Ｗ…長さ、 ２７ａ…第１遮光部、 ２７ｂ…第２遮光部、 ３０…液晶層、 ３０ａ…第１領域、 ３０ｂ…第２領域、 ３０ｄ…画素部、 ３０ｎ…非画素部、 ３１…第１画素部、 ３２…第２画素部、 ３３…画素、 ３３ａ…第１画素、 ３３ｂ…第２画素、 ３３ｃ…第３画素、 ３３ｄ…第４画素、 ３５…液晶、 ３５Ｄ…長軸方向、 ４０…配向膜 ５２…偏光層、 ６１…第１位相差層、 ６２…第２位相差層、 ６５…光学層、 ６５ａ…第１層、 ６５ｂ…第２層、 ６６…第１光学部、 ６６ａ…第１光学部、 ６６ｂ…第３光学部、 ６７…第２光学部、 ６７ａ…第２光学部、 ６７ｂ…第４光学部、 ６８、６８ａ、６８ｂ…境界、 ７０…制御部、 ７１…第１駆動回路、 ７２…第２駆動回路、 ７３…制御回路、 ７５…検出回路、 ８０…観視者、 θＬＣａ…第１配向角、 θＬＣｔ…ツイスト角、 １１０〜１１６、１１０ａ、１１２ａ、１９０〜１９４…液晶表示装置、 ２１０…駆動装置 Ｂ１、Ｂ２…領域、 Ｃｓ…蓄積容量、 Ｄｗ１…主視角方向、 Ｆ１…第１カラーフィルタ、 Ｆ２…第２カラーフィルタ、 ＬＣ１ａ…第１配向方向、 ＬＣ１ｂ…第２配向方向、 ＬＣａ…第１部分、 ＬＣｂ…第２部分、 ＬＣｃ…第３部分、 Ｌａ１、Ｌａ２…光、 Ｌｉ１〜Ｌｉ３…第１〜第３入射光、 Ｐ１…第１境界部、 Ｐｘ…位置、 ＲＬ…検出線、 Ｒｅｆ…反射率、 ＳＴ１…第１状態、 ＳＴ２…第２状態、 ｔＬＣ…厚さ

Claims (11)

1. 第１基板部と、該第１基板部に対向して設けられる第２基板部と、これら一対の基板部間に設けられる液晶層と、を備え、
   該第１基板部は、
   第１主面と、
   該第１主面内に、Ｘ軸方向を行方向とし、当該Ｘ軸方向に交差するＹ軸方向を列方向とするマトリクス状に配置される複数の画素電極と、
   これら複数の画素電極を覆って液晶層に対向する配向膜とを備え、
   前記複数の画素電極は、
   行方向又は列方向の一方に沿って隣り合って並ぶ第１画素電極と、第２画素電極とを備え、
   これら第１画素電極と第２画素電極は互いに異なる極性で駆動されるものであると共に、
   これら第１画素電極と第２画素電極との間には、列方向に延在する画素間領域が設けられており、
   前記第２基板部は、
   前記第１基板部の第１主面と対向する第２主面と、
   該第２主面に配置される複数の光透過性の対向電極と、
   これら複数の対向電極を覆って液晶層に対向する配向膜とを備え、
   該複数の対向電極は、前記第１基板部の複数の画素電極に対向し且つ前記行方向と列方向の一方に延在して設けられると共に、行方向と列方向のいずれか他方に沿って隣り合って並ぶ第１対向部と第２対向部を備え、
   これら第１対向部と第２対向部との間には、前記第１主面に投影した場合に前記第１基板部の画素間領域に重なる対向電極間領域が設けられており、
   前記第２基板部には、列方向に延在して前記対向電極間領域と前記画素間領域を覆う遮光層が、前記行方向と列方向のいずれか他方に沿って設けられている液晶表示装置。
2. 前記第１基板側の配向膜の配向方向は、前記行方向及び列方向の一方に直交又は鋭角で交差し、
   前記第２基板側の配向膜の配向方向は、前記第１基板側の配向膜の配向方向とは反対向きで前記行方向列方向に一方に鈍角で交差するものとなっている請求項１記載の液晶表示装置。
3. 前記第１画素電極と前記第２画素電極は列方向に並んでいる請求項１又は２記載の液晶表示装置。
4. 前記第１画素電極と第２画素電極は行方向に並んでいる請求項１又２に記載の液晶表示装置。
5. 前記複数の画素電極は、
   前記第１画素電極と前記列方向において並ぶ第３画素電極と、
   当該第３画素電極と前記行方向において並び、前記第２画素電極と前記列方向において並ぶ第４画素電極と、
   をさらに含み、
   前記第３画素電極は、前記第２電極と同極性の電位に設定され、
   前記第４画素電極は、前記第１画素電極と同極性の電位に設定される請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
6. 前記第２基板部上に光学層をさらに備え、
   前記光学層に第１入射方向から入射する光の当該光学層における散乱光の強度は、前記光学層に第２入射方向から入射する光の当該光学層における散乱光の強度とは異なり、
   前記第１入射方向の、前記第１主面に対して平行な平面における方向成分は、前記第２入射方向の、前記平面における方向成分とは異なる請求項１〜５のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
7. 前記光学層はシート状に形成されており、前記平面内に配置された光透過性の複数の第１光学部と、前記複数の第１光学部のうちの２つの間に設けられた光透過性の第２光学部と、を含み、
   前記複数の第１光学部及び前記第２光学部は、いずれも前記光学層の一方の表面から他方の表面に亘って形成され、
   前記第２光学部の屈折率は、前記複数の第１光学部のそれぞれの屈折率とは異なり、
   前記複数の第１光学部と前記第２光学部との間の境界は、前記平面に対して傾斜している請求項６記載の液晶表示装置。
8. 前記光学層は、前記一方の表面から前記他方の表面に向けて、直線状の散乱中心方向を有し、
   前記光学層に前記第１入射方向から入射する前記光の前記光学層における前記散乱光の前記強度は、前記散乱中心方向と前記第１入射方向との間の角度が小さいほど、高い請求項７記載の液晶表示装置。
9. 前記第１主面に投影したときに前記散乱中心方向は、前記列方向に沿った方向である請求項８記載の液晶表示装置。
10. 前記第２基板部には、前記第２主面を覆う偏光層が設けられる共に、当該偏光層の下方に１又は複数の位相差層が設けられており、
    前記第１基板部の各画素電極には、前記偏光層及び位相差層を介して入射する外光を反射する反射層が設けられている請求項１〜９のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
11. 前記遮光部は、クロムを含む化合物を含む請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液晶表示装置。