JP2015196209A - Working fluid cleaning system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a working fluid cleaning system which achieves downsizing of a tank structure and eases tank cleaning.SOLUTION: A working fluid cleaning system includes: a supply tank 1 for storing a working fluid; a circulation supply passage 3 which supplies the working fluid to a processing device 2, returns the working fluid used for the processing to the supply tank 1, and circulates the working fluid to supply the working fluid; a separation removal device 4 which is disposed in the circulation supply passage 3 and separates and removes fine articles contained in the working fluid; and an agitation filtration passage 5 which returns a part of the working fluid, from which the fine articles are separated and removed, to the supply tank 1 and agitates and filters the working fluid.

Description

この発明は、微粉末クズ等の微細物が含まれる加工液から微細物を除去して供給する加工液浄化システムに関するものである。   The present invention relates to a machining fluid purification system that removes and supplies fines from a machining fluid containing fines such as fine powdered debris.

例えば、機械を切削加工する加工装置では、供給タンクから加工液を供給しながら切削などの加工が行なわれ、このように切削などの加工を行うための切削液などの加工液には微粉末状の切削クズ、異物や混入物、汚染物質等の微細物が含まれる。   For example, in a processing machine for cutting a machine, processing such as cutting is performed while supplying a processing fluid from a supply tank, and the processing fluid such as cutting fluid for performing processing such as cutting is in a fine powder form. Cutting scraps, foreign matter and contaminants, and contaminants.

この微細物が含まれる加工液をフィルタ装置に供給し、このフィルタ装置で微細物を除去して加工液を供給タンクに戻している（例えば特許文献１）。このようなフィルタ装置を用いる加工液浄化システムとして、例えば、図４に示すように、一次タンク１００と二次タンク１１０を分離したもの、また図５に示すように、一次タンク１００と二次タンク１１０を一体にしたものがある。   The processing liquid containing the fine material is supplied to the filter device, and the fine liquid is removed by the filter device and the processing liquid is returned to the supply tank (for example, Patent Document 1). As a processing liquid purification system using such a filter device, for example, as shown in FIG. 4, a primary tank 100 and a secondary tank 110 are separated, and as shown in FIG. 5, the primary tank 100 and the secondary tank. There is one in which 110 is integrated.

図４に示す一次タンク１００と二次タンク１１０を分離したものでは、一次タンク１００でドラムフィルタ１０１とチップコンベア１０２により加工液に含まれる切削クズを除去して取り出す。フィルタポンプ１２０により一次タンク１００の加工液は、フィルタ１２１を介して二次タンク１１０へ送られ、高圧ポンプ１２２により二次タンク１１０の加工液が、加工装置１３０へ送られると共に、低圧ポンプ１２３により一次タンク１００の加工液が加工装置１３０へ送られる。加工を行うために用いた加工液は切削クズと共に、チップコンベア１０２に入り、ドラムフィルタ１０１を介して一次タンク１００に戻される。一次タンク１００と二次タンク１１０を分離した構造であるから、二次タンク１１０からオーバーフローする加工液がパイプ１４０を介して一次タンク１００に戻されるように構成されている。   In the case where the primary tank 100 and the secondary tank 110 shown in FIG. 4 are separated, the cutting waste contained in the machining liquid is removed and removed by the drum filter 101 and the chip conveyor 102 in the primary tank 100. The processing fluid in the primary tank 100 is sent to the secondary tank 110 via the filter 121 by the filter pump 120, and the processing fluid in the secondary tank 110 is sent to the processing device 130 by the high pressure pump 122, and at the same time by the low pressure pump 123. The processing liquid in the primary tank 100 is sent to the processing device 130. The machining fluid used for processing enters the chip conveyor 102 together with the cutting waste, and is returned to the primary tank 100 through the drum filter 101. Since the primary tank 100 and the secondary tank 110 are separated from each other, the processing liquid overflowing from the secondary tank 110 is returned to the primary tank 100 via the pipe 140.

図５に示す一次タンク１００と二次タンク１１０を一体にしたものも同様にして高圧ポンプ１２２により二次タンク１１０の加工液が加工装置１３０へ送られると共に、低圧ポンプ１２３により一次タンク１００の加工液が加工装置１３０へ送られる。加工を行うために用いた加工液は切削クズと共に、チップコンベア１０２に入り、ドラムフィルタ１０１を介して一次タンク１００に戻されるが、一次タンク１００と二次タンク１１０を一体にした構造であるから、二次タンク１１０から加工液が隔壁１４１をオーバーフローして一次タンク１００に戻されるように構成されている。   Similarly, in the case where the primary tank 100 and the secondary tank 110 shown in FIG. 5 are integrated, the processing liquid in the secondary tank 110 is sent to the processing device 130 by the high-pressure pump 122 and the primary tank 100 is processed by the low-pressure pump 123. The liquid is sent to the processing device 130. The machining fluid used for processing enters the chip conveyor 102 together with the cutting waste and is returned to the primary tank 100 via the drum filter 101. However, the primary tank 100 and the secondary tank 110 are integrated. The working fluid overflows the partition wall 141 from the secondary tank 110 and is returned to the primary tank 100.

特開２００１−１３７７４３号公報JP 2001-137743 A

このような加工液浄化システムには、一次タンク１００と二次タンク１１０を備える配置スペースを確保する分システムが大型化する。また、二次タンク１１０から加工液がオーバーフローして一次タンク１００に戻されるように構成されているため、加工液による攪拌能力がないためタンク壁面に汚れが付着し、頻繁にタンクを清掃する必要があった。   In such a machining liquid purification system, the size of the system for securing the arrangement space including the primary tank 100 and the secondary tank 110 is increased. In addition, since the processing liquid overflows from the secondary tank 110 and is returned to the primary tank 100, since there is no ability to agitate with the processing liquid, dirt is attached to the tank wall surface, and the tank needs to be cleaned frequently. was there.

この発明は、このような現状に鑑みなされたもので、タンク構造の小型化を図り、しかもタンク清掃を軽減することが可能である加工液浄化システムを提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a machining liquid purification system capable of reducing the size of a tank structure and reducing tank cleaning.

前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention is configured as follows.

請求項１に記載の発明は、加工液を貯留する供給タンクと、
前記加工液を加工装置に供給し、この加工に用いた加工液を前記供給タンクへ戻して循環させて供給する循環供給経路と、
前記循環供給経路に配置され、前記加工液に含まれる微細物を分離して除去する分離除去装置と、
前記微細物を分離して除去した加工液の一部を前記供給タンクに戻して攪拌させてろ過する攪拌ろ過経路と、
を備えることを特徴とする加工液浄化システムである。 The invention according to claim 1 is a supply tank for storing a machining fluid;
A circulation supply path for supplying the machining fluid to a machining apparatus and returning the machining fluid used for the machining to the supply tank for circulation;
A separation / removal device that is disposed in the circulation supply path and separates and removes fines contained in the processing liquid;
A stirring filtration path for filtering a part of the processing liquid that has been separated and removed by returning to the supply tank and stirring, and
It is a processing liquid purification system characterized by comprising.

請求項２に記載の発明は、前記分離除去装置の出力側に、
前記加工液を前記加工装置に供給する供給ポンプを配置したことを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システムである。 In the invention according to claim 2, on the output side of the separation and removal device,
The processing liquid purification system according to claim 1, wherein a supply pump that supplies the processing liquid to the processing apparatus is disposed.

請求項３に記載の発明は、前記分離除去装置の入力側に、
前記供給タンクから加工液を前記分離除去装置に供給するフィルタポンプを配置したことを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システムである。 According to a third aspect of the present invention, on the input side of the separation and removal device,
The processing liquid purification system according to claim 1, wherein a filter pump for supplying the processing liquid from the supply tank to the separation and removal device is disposed.

請求項４に記載の発明は、前記分離除去装置は、前記加工に用いた加工液から遠心力により加工液に含まれる微細物を分離して除去することを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システムである。   The invention according to claim 4 is characterized in that the separation / removal device separates and removes fines contained in the processing liquid by centrifugal force from the processing liquid used for the processing. This is a machining fluid purification system.

請求項５に記載の発明は、前記供給タンクは、
前記循環供給経路の供給側と戻し側を、単一のタンク槽に配置した構造であることを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システムである。 The invention according to claim 5 is characterized in that the supply tank is
2. The machining fluid purification system according to claim 1, wherein the supply side and the return side of the circulation supply path are arranged in a single tank tank.

請求項６に記載の発明は、前記単一のタンク槽は、
方形の角部が曲面構造であることを特徴とする請求項５に記載の加工液浄化システムである。 According to a sixth aspect of the present invention, the single tank tank is
6. The machining fluid purification system according to claim 5, wherein the square corner has a curved surface structure.

請求項７に記載の発明は、前記循環供給経路の供給側と戻し側を、前記単一のタンク槽の対向する位置に配置し、
前記加工液が前記単一のタンク槽の内部を循環する構造であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の加工液浄化システムである。 In the invention according to claim 7, the supply side and the return side of the circulation supply path are arranged at positions facing the single tank tank,
The machining fluid purification system according to claim 5 or 6, wherein the machining fluid is structured to circulate inside the single tank tank.

前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。   With the above configuration, the present invention has the following effects.

請求項１乃至請求項７に記載の発明では、加工液を加工装置に供給し、この加工に用いた加工液を供給タンクへ戻して循環させて供給し、この循環供給経路に配置した分離除去装置で、加工液に含まれる微細物を分離して除去し、微細物を分離して除去した加工液の一部を供給タンクに戻して攪拌させてろ過することで、加工液が供給タンクの内部で循環し、加工液による攪拌能力が向上してタンクの底面や壁面に汚れが付着することを防止でき、タンク構造の小型化を図り、しかもタンク清掃を軽減することが可能である。   In the invention according to any one of claims 1 to 7, the processing liquid is supplied to the processing apparatus, the processing liquid used in the processing is returned to the supply tank, circulated and supplied, and the separation and removal disposed in the circulation supply path. The apparatus separates and removes the fines contained in the machining fluid, returns a part of the machining fluid that has been separated and removed to the supply tank, and stirs it for filtration. It circulates inside and improves the agitation ability by the working liquid, and can prevent dirt from adhering to the bottom and wall surfaces of the tank, reducing the size of the tank structure and reducing the tank cleaning.

加工液浄化システムを示す図である。It is a figure which shows a processing liquid purification system. タンク部の構造を示し、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図である。The structure of a tank part is shown, (a) is a front view, (b) is a top view. タンクを示し、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図である。A tank is shown, (a) is a front view, (b) is a top view. 従来の実施の形態の加工液浄化システムを示す図である。It is a figure which shows the processing liquid purification system of conventional embodiment. 従来の他の実施の形態の加工液浄化システムを示す図である。It is a figure which shows the processing liquid purification system of other conventional embodiment.

以下、この発明の加工液浄化システムの実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。   Hereinafter, an embodiment of the machining fluid purification system of the present invention will be described. The embodiment of the present invention shows the most preferable mode of the present invention, and the present invention is not limited to this.

この発明の加工液浄化システムは、工作機、加工機などに用いられる切削液などの加工液に含まれる切削粉等の微細物の除去に、また半導体、バイオ等の処理液などの加工液に含まれる不純物等の微細物の除去に使用される。   The machining fluid purification system of the present invention is used to remove fines such as cutting powder contained in machining fluids such as cutting fluids used in machine tools and processing machines, and to processing fluids such as semiconductors and bio-processing fluids. Used to remove fine substances such as impurities.

［加工液浄化システムの構成］
この加工液浄化システムの実施の形態を、図１に示す。この実施の形態では、工作機の切削液に含まれる切削粉等の微細物の回収に用いる場合について説明する。この実施の形態では、流体として液体に含まれる微粉末状クズの微細物を除去する場合について用いているが、微細物であればよく、微粉末状クズに限定されない。 [Configuration of machining fluid purification system]
An embodiment of this machining liquid purification system is shown in FIG. In this embodiment, a description will be given of a case where it is used for collecting fine objects such as cutting powder contained in a cutting fluid of a machine tool. In this embodiment, although it is used about the case where the fine substance of the fine powdery waste contained in the liquid is removed as a fluid, it should just be a fine thing and is not limited to fine powdery waste.

この実施の形態の加工液浄化システムは、加工液を貯留する供給タンク１と、加工液を供給タンク１から加工装置２に供給し、この加工に用いた加工液を供給タンク１へ戻して循環させる循環経路３と、この循環供給経路３に配置され、加工に用いた加工液に含まれる微細物を分離して除去する分離除去装置４と、この分離除去装置４により微細物を分離して除去した加工液の一部を供給タンク１に戻して攪拌させてろ過する攪拌ろ過経路５とを備える。   The processing liquid purification system of this embodiment supplies a processing tank for storing a processing liquid, and supplies the processing liquid from the supply tank 1 to the processing apparatus 2, and returns the processing liquid used for the processing to the supply tank 1 for circulation. A circulation path 3 to be separated, a separation / removal device 4 that is disposed in the circulation supply path 3 and separates and removes fines contained in the processing liquid used for machining, and the separation / removal device 4 separates the fines. A stirring filtration path 5 is provided for returning a part of the removed processing liquid to the supply tank 1 and stirring and filtering.

分離除去装置４は、加工に用いた加工液から遠心力により加工液に含まれる微細物を分離して除去する遠心分離装置を用いているが、この遠心分離装置に限定されず、例えば加工に用いた加工液をろ過するろ過膜を備え、このろ過膜によって微細物を分離して除去するろ過装置などでもよい。分離除去装置４の出力側に、加工液を加工装置２に供給する高圧供給ポンプ６を配置し、分離除去装置４の入力側に、供給タンク１から加工液を分離除去装置４に供給するフィルタ用ポンプ７を配置している。   The separation / removal device 4 uses a centrifugal separation device that separates and removes fines contained in the processing liquid by centrifugal force from the processing liquid used for processing, but is not limited to this centrifugal separation device, for example, for processing A filtration device that includes a filtration membrane for filtering the used processing liquid and separates and removes fines by the filtration membrane may be used. A high-pressure supply pump 6 for supplying the processing liquid to the processing apparatus 2 is arranged on the output side of the separation / removal apparatus 4, and a filter for supplying the processing liquid from the supply tank 1 to the separation / removal apparatus 4 on the input side of the separation / removal apparatus 4 A pump 7 is arranged.

高圧供給ポンプ６には、高圧ポンプが用いられ、この高圧供給ポンプ６の出力側の循環供給経路３には、流量調整バルブ８が配置されると共に、戻し経路９が接続されている。戻し経路９には、リリーフバルブ９ａが配置され、高圧供給ポンプ６の駆動で高圧の加工液を加工装置２へ供給し、この高圧供給ポンプ６の出力側に接続されたリリーフバルブ９ａから一部の加圧液を戻し経路９を介して供給タンク１へ戻し、加圧液の供給圧力を調整する。   A high pressure pump is used as the high pressure supply pump 6, and a flow rate adjusting valve 8 is disposed in the circulation supply path 3 on the output side of the high pressure supply pump 6, and a return path 9 is connected thereto. A relief valve 9 a is arranged in the return path 9, and a high-pressure machining liquid is supplied to the machining apparatus 2 by driving the high-pressure supply pump 6, and a part of the relief valve 9 a is connected to the output side of the high-pressure supply pump 6. Is returned to the supply tank 1 via the return path 9 to adjust the supply pressure of the pressurized liquid.

この実施の形態の加工液浄化システムは、循環供給経路３と共に、供給経路１０が備えられ、この供給経路１０には、供給ポンプ１１が配置され、供給タンク１に貯留する加工液を加工装置２に直接供給する。供給タンク１には、チップコンベア１２とドラムフィルター１３が配置され、チップコンベア１２により供給タンク１の底部に溜まる微細物を外部に排出し、ドラムフィルター１３により供給タンク１の液中ある微細物を除去する。   The processing liquid purification system of this embodiment is provided with a supply path 10 together with a circulation supply path 3, a supply pump 11 is disposed in the supply path 10, and the processing liquid stored in the supply tank 1 is processed by the processing device 2. Supply directly to. The supply tank 1 is provided with a chip conveyor 12 and a drum filter 13. The chip conveyor 12 discharges fines accumulated at the bottom of the supply tank 1 to the outside, and the drum filter 13 removes fines in the liquid in the supply tank 1. Remove.

また、供給経路１０には、ドラムフィルター供給経路１４が接続され、供給経路１０には流量調整バルブ１５が配置され、ドラムフィルター供給経路１４には流量調整バルブ１６が配置されている。供給ポンプ１１を駆動し、流量調整バルブ１６で流量を必要量に調整し、流量調整バルブ１５にて流量を調整し、供給経路１０を介して加工液を加工装置２へ供給する。流量調整バルブ１５と、流量調整バルブ１６の流量調整によりドラムフィルター供給経路１４を介して加工液を供給タンク１へ戻す。供給ポンプ１１には、一般的な低圧ポンプが用いられる。   A drum filter supply path 14 is connected to the supply path 10, a flow rate adjustment valve 15 is disposed in the supply path 10, and a flow rate adjustment valve 16 is disposed in the drum filter supply path 14. The supply pump 11 is driven, the flow rate adjustment valve 16 adjusts the flow rate to a required amount, the flow rate adjustment valve 15 adjusts the flow rate, and the machining fluid is supplied to the machining apparatus 2 via the supply path 10. The working fluid is returned to the supply tank 1 through the drum filter supply path 14 by adjusting the flow rate of the flow rate adjustment valve 15 and the flow rate adjustment valve 16. As the supply pump 11, a general low-pressure pump is used.

分離除去装置４には、フィルタ用ポンプ７の駆動により入力側から微細物を含む加工液が供給され、内部において加工液が渦巻きとなり、遠心力により微細物を含む加工液から微細物を分離して沈降させる。分離除去装置４には、回収部が配置され、この回収部の構成は、排出管４ａを接続し、この排出管４ａに設けられた排出バルブ４ｂの操作によって沈殿した微細物をドレンカップ１７へ排出するようになっている。   The separation / removal device 4 is supplied with machining fluid containing fines from the input side by driving the filter pump 7. The machining fluid is swirled inside and separates fines from the machining fluid containing fines by centrifugal force. To settle. The separation / removal device 4 is provided with a recovery unit. The configuration of the recovery unit is such that a discharge pipe 4a is connected, and fine substances precipitated by operation of a discharge valve 4b provided in the discharge pipe 4a are supplied to the drain cup 17. It comes to discharge.

ドレンカップ１７への排出は、排出バルブ４ｂを全開で排出する。また、ドレンカップ１７を使用せずに排出するときは、手動バルブにて開度を決める方法と自動開閉式で排出するようにしてもよい。排出方法により出口側の流量が違うため事前に決めることが必要である。   For discharging to the drain cup 17, the discharge valve 4b is fully opened. Further, when discharging without using the drain cup 17, it may be discharged by a method of determining the opening degree with a manual valve and an automatic opening / closing type. Since the flow rate on the outlet side differs depending on the discharge method, it is necessary to decide in advance.

分離除去装置４の出力側には、加工液供給調整機構１８が備えられ、この加工液供給調整機構１８は、微細物を分離して除去した加工液を所定流量供給するように調整し、この加工液の一部が攪拌ろ過経路５を介して供給タンク１へ戻される。   A machining fluid supply adjustment mechanism 18 is provided on the output side of the separation / removal device 4, and the machining fluid supply adjustment mechanism 18 adjusts the machining fluid that has been separated and removed to supply a predetermined flow rate. A part of the processing liquid is returned to the supply tank 1 via the stirring filtration path 5.

このように、分離除去装置４は、加工液の入力側をフィルタ用ポンプ７側に接続し、加工液の出力側を加工装置側に接続した構成であり、加工液の出力側に加工液供給調整機構１８を備え、この加工液供給調整機構１８により加工液の供給調整し、この加工液の一部を、攪拌ろ過経路５を介して供給タンク１へ戻して循環させることで、分離除去装置４によって微細物を含む加工液から微細物を分離して除去すると共に、加工液が供給タンク１の内部で循環して攪拌し、タンクの底面や壁面に汚れが付着することを防止でき、タンク清掃を軽減することが可能である。   In this way, the separation / removal device 4 has a configuration in which the machining fluid input side is connected to the filter pump 7 side and the machining fluid output side is connected to the machining device side, and the machining fluid is supplied to the machining fluid output side. A separation / removal device is provided that includes an adjustment mechanism 18, adjusts the supply of the processing liquid by the processing liquid supply adjustment mechanism 18, and circulates a part of the processing liquid back to the supply tank 1 via the stirring filtration path 5. 4 can separate and remove fines from the working fluid containing fines, and the working fluid can be circulated and stirred inside the supply tank 1 to prevent dirt from adhering to the bottom and walls of the tank. Cleaning can be reduced.

また、供給タンク１は、循環供給経路３の供給側と戻し側を、単一のタンク槽に配置し、供給側のタンク槽の加工液をオーバーフローさせて戻し側のタンク槽に戻す構造を廃止した構造であり、二次タンクを必要とせず、シンプルかつコンパクトなタンク構造のシステムで加工液をクリーン化し加工装置２に供給することができる。また、加工液をクリーン化することで、供給ポンプ１１に用いる低圧ポンプの寿命が延びて耐久性を向上することができる。   In addition, the supply tank 1 has a structure in which the supply side and the return side of the circulation supply path 3 are arranged in a single tank tank, and the processing liquid in the supply side tank tank is overflowed and returned to the return side tank tank. With this structure, a secondary tank is not required, and the machining fluid can be cleaned and supplied to the machining apparatus 2 with a simple and compact tank structure system. Further, by cleaning the machining fluid, the life of the low-pressure pump used for the supply pump 11 can be extended and the durability can be improved.

［タンク部の構造］
この実施の形態のタンク部の構造を、図２乃至図３に示す。図２はタンク部の構造を示し、図２（ａ）は正面図、図２（ｂ）は平面図である。図３はタンクを示し、図３（ａ）は正面図、図３（ｂ）は平面図である。 [Structure of tank part]
The structure of the tank portion of this embodiment is shown in FIGS. FIG. 2 shows the structure of the tank, FIG. 2 (a) is a front view, and FIG. 2 (b) is a plan view. FIG. 3 shows a tank, FIG. 3 (a) is a front view, and FIG. 3 (b) is a plan view.

タンク部の構造は、図２に示すように、供給タンク１は例えば方形の箱型であり、この供給タンク１の中央部にはチップコンベア１２とドラムフィルター１３が配置されている。この供給タンク１には、チップコンベア１２を挟んで一方側に高圧供給ポンプ６とフィルタ用ポンプ７が配置され、他方側に供給ポンプ１１が配置されている。   As shown in FIG. 2, the structure of the tank portion is such that the supply tank 1 has a rectangular box shape, for example, and a chip conveyor 12 and a drum filter 13 are disposed in the center of the supply tank 1. In the supply tank 1, a high-pressure supply pump 6 and a filter pump 7 are arranged on one side of the chip conveyor 12, and a supply pump 11 is arranged on the other side.

供給タンク１の他方側に配置された供給ポンプ１１の駆動によって加工液が供給経路１０を介して加工装置２に供給され、この加工液は加工装置２から循環供給経路３によって供給タンク１の他方側に戻される。また、供給タンク１の一方側に配置されたフィルタ用ポンプ７を駆動し、循環供給経路３の供給側から加工液を分離除去装置４に供給し、分離除去装置４によって微細物を分離して除去する。この微細物が除去された加工液は、高圧供給ポンプ６の駆動によって加工装置２に供給され、この加工液は加工装置２から循環供給経路３によって供給タンク１の他方側に戻される。   By driving a supply pump 11 disposed on the other side of the supply tank 1, the processing liquid is supplied to the processing apparatus 2 through the supply path 10, and this processing liquid is supplied from the processing apparatus 2 to the other side of the supply tank 1 through the circulation supply path 3. Back to the side. In addition, the filter pump 7 disposed on one side of the supply tank 1 is driven, the processing liquid is supplied from the supply side of the circulation supply path 3 to the separation / removal device 4, and the separation / removal device 4 separates fines. Remove. The machining liquid from which the fine objects have been removed is supplied to the machining apparatus 2 by driving the high-pressure supply pump 6, and the machining liquid is returned from the machining apparatus 2 to the other side of the supply tank 1 through the circulation supply path 3.

供給タンク１は方形の箱型であるが、単一のタンク槽１ａには、方形の角部１ｂが曲面構造であり、加工液の流れが角部１ｂにおいて淀むことなく、角部１ｂの曲面構造によって円滑に流れて単一のタンク槽１ａの内部全体が攪拌されてより効果的にタンクの底面や壁面に汚れが付着することを防止でき、タンク清掃を軽減することが可能である。   Although the supply tank 1 has a rectangular box shape, the single tank tank 1a has a square corner portion 1b having a curved surface structure, and the flow of the machining liquid does not stagnate in the corner portion 1b, and the curved surface of the corner portion 1b. It is possible to prevent the dirt from adhering to the bottom surface and the wall surface of the tank more effectively because the structure smoothly flows and the entire inside of the single tank tank 1a is agitated, and the tank cleaning can be reduced.

また、攪拌ろ過経路５の戻し側５ａを、単一のタンク槽１ａの底部に取り付けることで、攪拌ろ過経路５を介して戻される加工液がフィルタ用ポンプ７の吸入側から吸い込まれ、これにより加工液に含まれる微細物が集められて分離除去装置４に送られ、分離除去装置４で加工に用いた加工液から遠心力により加工液に含まれる微細物を分離して除去し、二次タンクを必要とせず、シンプルかつコンパクトなタンク構造のシステムで加工液をクリーン化し加工装置２に供給することができる。   In addition, by attaching the return side 5a of the stirring filtration path 5 to the bottom of the single tank tank 1a, the processing liquid returned through the stirring filtration path 5 is sucked from the suction side of the filter pump 7, thereby Fines contained in the processing liquid are collected and sent to the separation / removal device 4, where the separation / removal device 4 separates and removes the fines contained in the processing liquid by centrifugal force from the processing liquid used for processing. The processing liquid can be cleaned and supplied to the processing apparatus 2 with a simple and compact tank system without the need for a tank.

この発明は、微粉末クズ等の微細物が含まれる加工液から微細物を除去して供給する加工液浄化システムに適用可能であり、タンク構造の小型化を図り、しかもタンク清掃を軽減することが可能である。   The present invention can be applied to a machining fluid purification system that removes and supplies fines from a machining fluid containing fines such as fine powder debris, and can reduce the tank structure and reduce tank cleaning. Is possible.

１ 供給タンク
１ａ タンク槽
１ｂ 角部
２ 加工装置
３ 循環経路
４ 分離除去装置
５ 攪拌ろ過経路
５ａ 戻し側
６ 高圧供給ポンプ
７ フィルタ用ポンプ
８ 流量調整バルブ
９ 戻し経路
９ａ リリーフバルブ
１０ 供給経路
１１ 供給ポンプ
１２ チップコンベア
１３ ドラムフィルター
１４ ドラムフィルター供給経路
１５，１６ 流量調整バルブ
１７ ドレンカップ
１８ 加工液供給調整機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Supply tank 1a Tank tank 1b Corner | angular part 2 Processing apparatus 3 Circulation path | route 4 Separation removal apparatus 5 Stir filtration path | route 5a Return side 6 High pressure supply pump 7 Filter pump 8 Flow control valve 9 Return path 9a Relief valve 10 Supply path 11 Supply pump 12 Chip conveyor 13 Drum filter 14 Drum filter supply path 15, 16 Flow rate adjusting valve 17 Drain cup 18 Working fluid supply adjusting mechanism

Claims (7)

加工液を貯留する供給タンクと、
前記加工液を加工装置に供給し、この加工に用いた加工液を前記供給タンクへ戻して循環させて供給する循環供給経路と、
前記循環供給経路に配置され、前記加工液に含まれる微細物を分離して除去する分離除去装置と、
前記微細物を分離して除去した加工液の一部を前記供給タンクに戻して攪拌させてろ過する攪拌ろ過経路と、
を備えることを特徴とする加工液浄化システム。 A supply tank for storing machining fluid;
A circulation supply path for supplying the machining fluid to a machining apparatus and returning the machining fluid used for the machining to the supply tank for circulation;
A separation / removal device that is disposed in the circulation supply path and separates and removes fines contained in the processing liquid;
A stirring filtration path for filtering a part of the processing liquid that has been separated and removed by returning to the supply tank and stirring, and
A machining fluid purification system comprising: 前記分離除去装置の出力側に、
前記加工液を前記加工装置に供給する供給ポンプを配置したことを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システム。 On the output side of the separation and removal device,
The processing liquid purification system according to claim 1, wherein a supply pump for supplying the processing liquid to the processing apparatus is disposed. 前記分離除去装置の入力側に、
前記供給タンクから加工液を前記分離除去装置に供給するフィルタポンプを配置したことを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システム。 On the input side of the separation and removal device,
The processing liquid purification system according to claim 1, further comprising a filter pump that supplies the processing liquid from the supply tank to the separation and removal device. 前記分離除去装置は、前記加工に用いた加工液から遠心力により加工液に含まれる微細物を分離して除去することを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システム。   The machining liquid purification system according to claim 1, wherein the separation / removal device separates and removes fines contained in the machining liquid by centrifugal force from the machining liquid used for the machining. 前記供給タンクは、
前記循環供給経路の供給側と戻し側を、単一のタンク槽に配置した構造であることを特徴とする請求項１に記載の加工液浄化システム。 The supply tank is
The machining fluid purification system according to claim 1, wherein the supply side and the return side of the circulation supply path are arranged in a single tank tank. 前記単一のタンク槽は、
方形の角部が曲面構造であることを特徴とする請求項５に記載の加工液浄化システム。 The single tank tank is
6. The machining fluid purification system according to claim 5, wherein the square corner has a curved surface structure. 前記循環供給経路の供給側と戻し側を、前記単一のタンク槽の対向する位置に配置し、
前記加工液が前記単一のタンク槽の内部を循環する構造であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の加工液浄化システム。 The supply side and the return side of the circulation supply path are arranged at opposing positions of the single tank tank,
The machining fluid purification system according to claim 5 or 6, wherein the machining fluid is structured to circulate inside the single tank tank.
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