JP2015181077A - Magnetic disk titanium plate and manufacturing method of the same and magnetic disk - Google Patents

Magnetic disk titanium plate and manufacturing method of the same and magnetic disk Download PDF

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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic disk titanium plate manufacturing method that is suitable to be used for a magnetic disk of a heat-assisted magnetic recording method, and can easily form a magnetic disk titanium plate of hardness equal to or more than Hv450, and a hardened modification layer of hardness equal to or more than Hv450 on a surface side of the titanium-made disk substrate without using expensive devices, and to provide the magnetic disk.SOLUTION: A magnetic disk titanium plate is composed of a disk substrate made up of pure titanium or a titanium alloy, and a hardened modification layer that is formed on a surface side of the disk substrate, in which oxygen density in the modification layer is equal to or 9 atom% and equal to or less than 30 atom%.

Description

本発明は、コンピュータ等の高密度記録用および再生用の媒体として用いられる磁気ディスク用チタン板およびその磁気ディスク用チタン板の製造方法と磁気ディスクに関するものである。   The present invention relates to a magnetic disk titanium plate used as a medium for high-density recording and reproduction in a computer or the like, a method of manufacturing the magnetic disk titanium plate, and a magnetic disk.

従来からコンピュータ等の高密度記録用および再生用の媒体のディスク基板にはアルミニウム合金が用いられることが多い。このアルミニウム合金は他の金属に比べ軟質であるため、その表面に別途硬質なニッケル−リンめっきによる厚さ約10μmの被膜を設けることで磁気ディスクとして用いられている。磁気ディスクの製造工程では、このニッケル−リンによる被膜の表面上に更にスパッタリング法によって磁性膜が設けられるが、この従来からの方法による磁性膜の成膜時の基板温度は約300℃であった。   Conventionally, an aluminum alloy is often used for a disk substrate of a medium for high-density recording and reproduction such as a computer. Since this aluminum alloy is softer than other metals, it is used as a magnetic disk by providing a coating with a thickness of about 10 μm by a hard nickel-phosphorous plating on its surface. In the manufacturing process of the magnetic disk, a magnetic film is further provided on the surface of the nickel-phosphorus film by sputtering, and the substrate temperature when the magnetic film was formed by this conventional method was about 300 ° C. .

磁気ディスクには記録密度の更なる高度化のニーズが高まってきており、最近では、高記録密度化を図る技術として熱アシスト磁気記録方式が特に注目されている。この熱アシスト磁気記録方式に適する磁性膜を磁気ディスクの表面に設ける際の熱処理温度は500〜600℃程度であり、アルミニウム合金でなるディスク基板上にニッケル−リン被膜を設けた従来からの磁気ディスクでは、耐熱性が不十分で熱アシスト磁気記録方式には適さない。   There is a growing need for further increase in recording density of magnetic disks, and recently, a heat-assisted magnetic recording method has attracted particular attention as a technique for increasing the recording density. A heat treatment temperature when a magnetic film suitable for the heat-assisted magnetic recording method is provided on the surface of the magnetic disk is about 500 to 600 ° C., and a conventional magnetic disk in which a nickel-phosphorus coating is provided on a disk substrate made of an aluminum alloy However, the heat resistance is insufficient and it is not suitable for the heat-assisted magnetic recording system.

熱アシスト磁気記録方式に対応するために、高温強度に優れるチタン板をディスク基板に用いることが試みられているが、チタンは本来の硬さがHv350以下であり、ニッケル−リン被膜より硬さが低いため、そのままでは使用することができない。尚、本明細書ではディスク基板の硬さを単に硬さと表現することがあるが、全てビッカース硬さを示す。   In order to cope with the heat-assisted magnetic recording method, it has been attempted to use a titanium plate having excellent high-temperature strength for the disk substrate. However, titanium has an original hardness of Hv 350 or less and is harder than the nickel-phosphorus coating. Since it is low, it cannot be used as it is. In this specification, the hardness of the disk substrate is sometimes simply expressed as hardness, but all indicate Vickers hardness.

そのような理由で、チタン板の表面側に硬化層を設けることが試みられており、特許文献1,2によって、雰囲気制御下での熱処理により純チタンよりなるディスク基板の表面側に硬質化された改質層を設ける方法が、特許文献3によって、電解研磨若しくは陽極酸化により純チタンよりなるディスク基板の表面側に酸化皮膜を形成した材料が、特許文献4によって、スパッタリング法により純チタンよりなるディスク基板の表面側に硬質皮膜を形成した材料が、それぞれ提案されている。   For this reason, an attempt has been made to provide a hardened layer on the surface side of the titanium plate. According to Patent Documents 1 and 2, the surface of the disk substrate made of pure titanium is hardened by heat treatment under atmosphere control. According to Patent Document 3, a material in which an oxide film is formed on the surface side of a disk substrate made of pure titanium by electrolytic polishing or anodization is made of pure titanium by a sputtering method. A material in which a hard film is formed on the surface side of a disk substrate has been proposed.

しかしながら、特許文献1,2に記載された方法で形成される改質層の硬さはHv300〜400程度であり、従来のアルミニウム合金でなるディスク基板の表面に設けられるニッケル−リン被膜の硬さである約Hv600と比較すると、明らかに硬さが低いため実用上不十分であるといえる。   However, the hardness of the modified layer formed by the methods described in Patent Documents 1 and 2 is about Hv 300 to 400, and the hardness of the nickel-phosphorus coating provided on the surface of the disk substrate made of a conventional aluminum alloy. Compared with about Hv600, which is apparently low in hardness, it can be said to be insufficient in practice.

特許文献3に記載された技術では、ディスク基板の酸素濃度を高めて酸化皮膜の強度と硬度を高めようとしているが、酸素濃度はJIS2種〜4種の純チタンの範囲で、材料の硬さはHv150〜250に過ぎず、前記したニッケル−リン被膜の硬さである約Hv600には遠く及ばない。   In the technique described in Patent Document 3, the oxygen concentration of the disk substrate is increased to increase the strength and hardness of the oxide film, but the oxygen concentration is in the range of JIS 2 to 4 types of pure titanium and the hardness of the material. Is only Hv 150 to 250, which is not far from about Hv 600, which is the hardness of the nickel-phosphorus coating described above.

一方、特許文献4に記載されたようにスパッタリング法によって硬質化された改質層を形成する場合は、十分な硬さの改質層を得ることが可能であると思えるが、スパッタリング法を採用するには高価な装置が必要であり、また、部品ごとの処理が必要となるため、コストが非常に高くなってしまい、そのような面から改善すべき大きな問題が残る技術である。   On the other hand, when forming the modified layer hardened by the sputtering method as described in Patent Document 4, it seems that it is possible to obtain a modified layer having sufficient hardness, but the sputtering method is adopted. In order to achieve this, an expensive device is required, and since processing for each part is required, the cost becomes very high, and this is a technique that remains a major problem to be improved in this respect.

特開平1−112521号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-112521 特開平5−28456号公報JP-A-5-28456 特開平6−12661号公報JP-A-6-12661 特開平4−98616号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 4-98616

本発明は、上記従来の問題を解決せんとしてなされたもので、表面に磁性膜を設ける際の耐熱性に優れるため、熱アシスト磁気記録方式の磁気ディスク用として用いるのに適し、しかも、その硬さが実用上問題がないレベルのHv450以上である磁気ディスク用チタン板、およびチタン製のディスク基板の表面側にHv450以上の硬さの硬質化された改質層を高価な装置を用いることなく容易に形成することができる磁気ディスク用チタン板の製造方法、および前記磁気ディスク用チタン板の改質層の表面上に記録媒体層が形成された磁気ディスクを提供することを課題とするものである。   The present invention has been made in order to solve the above-described conventional problems, and is excellent in heat resistance when a magnetic film is provided on the surface thereof. Therefore, the present invention is suitable for use in a magnetic disk of a heat-assisted magnetic recording system, and its hardness. Without using an expensive apparatus, a titanium plate for a magnetic disk having a level of Hv450 or higher that has no practical problem, and a hardened modified layer having a hardness of Hv450 or higher on the surface side of a titanium disk substrate. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic disk titanium plate that can be easily formed, and a magnetic disk having a recording medium layer formed on the surface of a modified layer of the magnetic disk titanium plate. is there.

本発明の磁気ディスク用チタン板は、表面側に酸素固溶により硬質化された改質層が形成された純チタンまたはチタン合金よりなるディスク基板のみより構成されており、前記改質層中の酸素濃度が、9原子%以上30原子%以下であることを特徴とする磁気ディスク用チタン板である。   The titanium plate for a magnetic disk of the present invention is composed only of a disk substrate made of pure titanium or a titanium alloy having a modified layer hardened by solid solution of oxygen formed on the surface side. The titanium plate for a magnetic disk, wherein the oxygen concentration is 9 atomic% or more and 30 atomic% or less.

また、前記改質層中の酸素濃度が、9原子%以上20原子%以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the oxygen concentration in the said modified layer is 9 atomic% or more and 20 atomic% or less.

本発明の磁気ディスク用チタン板の製造方法は、ディスク基板の母材の表面側に前記改質層を形成するにあたり、前記ディスク基板を850℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用チタン板の製造方法である。   The method for manufacturing a titanium plate for a magnetic disk according to the present invention includes a step of heat-treating the disk substrate at 850 ° C. or higher when forming the modified layer on the surface side of the base material of the disk substrate. It is a manufacturing method of the titanium plate for discs.

また、前記熱処理は、酸素濃度が質量比で20ppm以下の不活性ガス中で行われることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said heat processing is performed in the inert gas whose oxygen concentration is 20 ppm or less by mass ratio.

また、前記熱処理後に、前記改質層の表面に形成されたスケール層を除去することが好ましい。   Moreover, it is preferable to remove the scale layer formed on the surface of the modified layer after the heat treatment.

本発明の磁気ディスクは、前記磁気ディスク用チタン板の前記改質層の表面上に記録媒体層が形成されていることを特徴とする磁気ディスクである。   The magnetic disk of the present invention is a magnetic disk characterized in that a recording medium layer is formed on the surface of the modified layer of the titanium plate for magnetic disk.

本発明の磁気ディスク用チタン板は、表面に磁性膜を形成する際の500〜600℃という高温に耐えることができ、高記録密度化を図ることができる熱アシスト磁気記録方式の磁気ディスク用として用いるのに適しており、しかも、その硬さが磁気ヘッドとの接触の際に不具合が発生することがないレベルのHv450以上の硬さである。   The titanium plate for a magnetic disk of the present invention can withstand a high temperature of 500 to 600 ° C. when a magnetic film is formed on the surface, and can be used for a magnetic disk of a thermally assisted magnetic recording system capable of achieving a high recording density. It is suitable for use and has a hardness of Hv450 or higher at a level that does not cause a problem when it comes into contact with the magnetic head.

本発明の磁気ディスク用チタン板の製造方法によると、チタン製のディスク基板の表面側に、硬さがHv450以上の硬質化された改質層を高価な装置を用いることなく容易に形成することができる。   According to the method for manufacturing a titanium plate for a magnetic disk of the present invention, a hardened modified layer having a hardness of Hv450 or more can be easily formed on the surface side of a titanium disk substrate without using an expensive apparatus. Can do.

試験体1〜3の表面(スケール層直下)からの深さとビッカース硬さの関係を示すグラフ図である。It is a graph which shows the relationship between the depth from the surface (just under a scale layer) of the test bodies 1-3, and Vickers hardness. 試験体1の表面付近の光学顕微鏡による金属組織の断面観察結果を示す図面代用写真である。4 is a drawing-substituting photograph showing a cross-sectional observation result of a metallographic structure with an optical microscope near the surface of the test body 1. 試験体2の表面付近の光学顕微鏡による金属組織の断面観察結果を示す図面代用写真である。3 is a drawing-substituting photograph showing a cross-sectional observation result of a metallographic structure with an optical microscope near the surface of a specimen 2. FIG. 試験体3の表面付近の光学顕微鏡による金属組織の断面観察結果を示す図面代用写真である。5 is a drawing-substituting photograph showing a cross-sectional observation result of a metallographic structure with an optical microscope near the surface of a specimen 3. 硬質化された改質層のビッカース硬さと硬質化された改質層中の酸素濃度の関係を示すグラフ図である。It is a graph which shows the relationship between the Vickers hardness of the hardened modified layer, and the oxygen concentration in the hardened modified layer. 試験体3,4の表面(スケール層直下)からの深さとビッカース硬さの関係を示すグラフ図である。It is a graph which shows the relationship between the depth from the surface (directly under a scale layer) of the test bodies 3 and 4, and Vickers hardness. 試験体3の表面付近の走査型電子顕微鏡による金属組織の断面観察結果を示す図面代用写真である。4 is a drawing-substituting photograph showing a cross-sectional observation result of a metallographic structure with a scanning electron microscope near the surface of a test body 3. 試験体4の表面付近の走査型電子顕微鏡による金属組織の断面観察結果を示す図面代用写真である。3 is a drawing-substituting photograph showing a cross-sectional observation result of a metallographic structure with a scanning electron microscope in the vicinity of the surface of a specimen 4.

磁気ディスク基板の材料としてアルミニウム合金が汎用されているが、近年、磁気ディスクには記録密度の高度化というニーズがあり、その高記録密度化を図る技術として熱アシスト磁気記録方式が注目されている。しかしながら、アルミニウム合金よりなるディスク基板の表面に別途ニッケル−リン被膜を設けた従来から汎用されている磁気ディスクは、耐熱性が不十分で熱アシスト磁気記録方式には適さないという問題があった。   Aluminum alloys are widely used as materials for magnetic disk substrates, but in recent years, there is a need for higher recording density for magnetic disks, and heat-assisted magnetic recording methods are attracting attention as a technology for achieving higher recording densities. . However, a conventionally used magnetic disk in which a nickel-phosphorus coating is separately provided on the surface of a disk substrate made of an aluminum alloy has a problem in that it has insufficient heat resistance and is not suitable for a heat-assisted magnetic recording system.

そこで、本発明者らは、熱アシスト磁気記録方式に対応するために、高温強度に優れるチタン板をディスク基板に用いることを試みた。しかしながら、チタン板の硬さはHv350以下と低く、そのままではディスク基板として使用することができないため、チタン板の表面側に硬質化された改質層を形成することに着目し、鋭意、実験、研究等により検討を行った。   Therefore, the present inventors tried to use a titanium plate having excellent high-temperature strength for the disk substrate in order to cope with the heat-assisted magnetic recording system. However, since the hardness of the titanium plate is as low as Hv 350 or less and cannot be used as it is as a disk substrate, pay attention to forming a hardened modified layer on the surface side of the titanium plate. We examined by research.

その結果、純チタンまたはチタン合金よりなるディスク基板を850℃以上の高温で熱処理することで、ディスク基板の母材の表面側に酸素固溶により硬質化された改質層を形成することができ、また、その改質層中の酸素濃度が9原子%以上となることで、改質層がHv450以上の硬さになることを見出した。   As a result, a hardened modified layer hardened by oxygen solid solution can be formed on the surface side of the base material of the disk substrate by heat-treating a disk substrate made of pure titanium or a titanium alloy at a high temperature of 850 ° C. or higher. In addition, it has been found that when the oxygen concentration in the modified layer is 9 atomic% or more, the modified layer has a hardness of Hv450 or more.

また、熱処理時の雰囲気(酸素濃度)によっては、硬質化された改質層の表面を覆うように酸化チタンよりなるスケール層が形成されることがあるが、このスケール層は研磨等の方法により除去すれば良い。   Also, depending on the atmosphere (oxygen concentration) during the heat treatment, a scale layer made of titanium oxide may be formed so as to cover the surface of the hardened modified layer. Remove it.

以下、本発明を添付図面に示す実施形態に基づいて更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on embodiments shown in the accompanying drawings.

本発明の磁気ディスク用チタン板は、表面側に硬質化された改質層が形成された純チタンまたはチタン合金よりなるディスク基板のみよりなる。まず、ディスク基板について詳しく説明し、改質層については別途詳しく説明する。   The titanium plate for a magnetic disk of the present invention is composed only of a disk substrate made of pure titanium or a titanium alloy having a hardened modified layer formed on the surface side. First, the disk substrate will be described in detail, and the modified layer will be described in detail separately.

<ディスク基板>
前記したように、ディスク基板は、純チタンまたはチタン合金からなる。このディスク基板の材料は、例えば、純チタンまたはチタン合金を、溶解、鋳造して鋳塊とし、熱間圧延した後、冷間圧延するという従来から公知の製造方法等で作製されたものである。また、ディスク基板の材料は、焼鈍仕上げされていることが好ましいが、その仕上げ状態は問わず、例えば、「焼鈍+酸洗仕上げ」、「真空熱処理仕上げ」、「光輝焼鈍仕上げ」等を採用することができる。
<Disc board>
As described above, the disk substrate is made of pure titanium or a titanium alloy. The material of this disk substrate is, for example, produced by a conventionally known manufacturing method or the like in which pure titanium or a titanium alloy is melted and cast to form an ingot, hot rolled, and then cold rolled. . The material of the disk substrate is preferably annealed, but regardless of the finished state, for example, “annealing + pickling finish”, “vacuum heat treatment finish”, “bright annealing finish”, etc. are adopted. be able to.

尚、ディスク基板は、純チタンまたはチタン合金からなるとしたが、特定の組成の純チタンまたはチタン合金に限定されるものではない。しかし、中間焼鈍なしでトータル圧延率35%以上の冷間圧延を実施できるという冷間圧延のしやすさ、その後の加工性確保の観点を考慮すると、質量比で、O:1500ppm以下、Fe:1500ppm以下、C:800ppm以下、N:300ppm以下、H:130ppm以下であり、残部がTiおよび不可避的不純物からなるものが好ましい。例えば、JIS1種の冷間圧延板を用いることができる。   Although the disk substrate is made of pure titanium or a titanium alloy, it is not limited to pure titanium or a titanium alloy having a specific composition. However, considering the ease of cold rolling that can be cold rolled at a total rolling rate of 35% or more without intermediate annealing, and the viewpoint of securing the subsequent workability, the mass ratio is O: 1500 ppm or less, Fe: It is preferably 1500 ppm or less, C: 800 ppm or less, N: 300 ppm or less, and H: 130 ppm or less, with the balance being Ti and inevitable impurities. For example, a JIS type 1 cold rolled plate can be used.

尚、前記添加元素のうち、Oは1000ppm以下、Feは1000ppm以下とすることがより好ましい。また、添加元素の添加量の下限は特に規定しないが、例示するならば、O:100ppm、Fe:100ppm、C:50ppm、N:30ppm、H:10ppmである。   Of the additive elements, O is more preferably 1000 ppm or less, and Fe is more preferably 1000 ppm or less. Further, the lower limit of the addition amount of the additive element is not particularly defined, but for example, O: 100 ppm, Fe: 100 ppm, C: 50 ppm, N: 30 ppm, H: 10 ppm.

また、ディスク基板は、ディスク形状に打ち抜き加工を行う前の板材の状態で改質層が形成されていても良いし、通常のチタン板材をディスク形状に打ち抜き加工した後に改質層が形成されたものであっても良い。   Further, the disk substrate may be formed with a modified layer in a state of a plate material before being punched into a disk shape, or a modified layer is formed after punching a normal titanium plate material into a disk shape. It may be a thing.

<硬質化された改質層>
一般的に磁気ディスクの表面にはニッケル−リン被膜のような被膜が別途設けられている。磁気ディスクの表面に被膜が設けられる理由は、情報記録時に磁気ヘッドがディスク表面に接触することがあるが、表面の硬さが不十分であると磁気ヘッドの接触時にディスク表面に凹みや疵が発生することがあるためである。このような凹みや疵が形成された部位は情報の記録ができなくなり、高記録密度化の障害となり好ましくない。
<Hardened modified layer>
In general, a coating such as a nickel-phosphorus coating is separately provided on the surface of the magnetic disk. The reason why the film is provided on the surface of the magnetic disk is that the magnetic head may come into contact with the disk surface during information recording. However, if the surface is not hard enough, the disk surface will be dented or wrinkled when the magnetic head is in contact. This is because it may occur. Such dents and wrinkles are not preferable because information cannot be recorded, which hinders high recording density.

ニッケル−リン被膜の硬さはHv600程度であるが、ニッケル−リン被膜をディスク基板の表面に設けることは、熱アシスト磁気記録方式にとって耐熱性の面で適さない。従って、本発明の特徴点は、ディスク基板自体の表面側をニッケルーリン被膜と同等の硬さまで硬化させること、すなわち、ディスク基板の表面側にニッケルーリン被膜と同等の硬さの硬質化された改質層を形成することであり、具体的には、その改質層の硬さはHv450以上であり、この硬さを得るためには改質層中の酸素濃度を9原子%以上とすれば良い。   The hardness of the nickel-phosphorous film is about Hv 600, but providing the nickel-phosphorous film on the surface of the disk substrate is not suitable for the heat-assisted magnetic recording system in terms of heat resistance. Therefore, the feature of the present invention is that the surface side of the disk substrate itself is cured to a hardness equivalent to that of the nickel-phosphorus coating, that is, the hardened modified material having the same hardness as that of the nickel-phosphorus coating on the surface side of the disk substrate. Specifically, the hardness of the modified layer is Hv450 or higher, and in order to obtain this hardness, the oxygen concentration in the modified layer should be 9 atomic% or higher. good.

硬質化された改質層の硬さがHv450未満であると、前記したように、磁気ヘッドの接触時にディスク表面に凹みや疵が発生する可能性がある。好ましい硬さはHv480以上、より好ましい硬さはHv500以上である。一方、改質層中の酸素濃度の観点では、好ましい酸素濃度は9.5原子%以上、より好ましい酸素濃度は10.0原子%以上である。   If the hardness of the hardened modified layer is less than Hv450, as described above, there is a possibility that dents and wrinkles are generated on the disk surface when the magnetic head is contacted. The preferred hardness is Hv 480 or more, and the more preferred hardness is Hv 500 or more. On the other hand, from the viewpoint of the oxygen concentration in the modified layer, the preferable oxygen concentration is 9.5 atomic% or more, and the more preferable oxygen concentration is 10.0 atomic% or more.

一方、硬質化された改質層の硬さの上限については、磁気ディスクの性能の面からは特に限定する必要はないが、改質層が硬すぎると、ディスク表面を鏡面仕上げする際の精密研磨時に時間がかかり過ぎ、また、硬くなり過ぎると脆くなってしまうため精密研磨によっても鏡面を得ることが難しくなる。従って、改質層中の酸素濃度は30原子%以下とし、好ましくは20原子%以下とするのが良い。   On the other hand, the upper limit of the hardness of the hardened modified layer is not particularly limited from the viewpoint of the performance of the magnetic disk, but if the modified layer is too hard, the precision when the disk surface is mirror finished It takes too much time during polishing, and if it becomes too hard, it becomes brittle, making it difficult to obtain a mirror surface even by precision polishing. Accordingly, the oxygen concentration in the modified layer is 30 atomic% or less, preferably 20 atomic% or less.

本発明では硬質化された改質層の厚さについては特に限定しないが、15μm以上の厚さとすることが好ましく、20μm以上とすることがより好ましい。磁気ディスクを作製する際には表面を鏡面研磨する工程があり、研磨により改質層の厚さが若干薄くなることが想定されるので、改質層には研磨代分を含め一定の厚さが必要である。特に改質層の厚さの上限については規定する必要がないが、改質層は熱処理により得られることから実際の厚みの上限は100μm程度であると考えられる。   In the present invention, the thickness of the hardened modified layer is not particularly limited, but is preferably 15 μm or more, and more preferably 20 μm or more. When manufacturing a magnetic disk, there is a process of mirror-polishing the surface, and it is assumed that the thickness of the modified layer is slightly reduced by polishing. Therefore, the modified layer has a certain thickness including the polishing allowance. is necessary. In particular, there is no need to define the upper limit of the thickness of the modified layer, but since the modified layer is obtained by heat treatment, the upper limit of the actual thickness is considered to be about 100 μm.

尚、硬質化された改質層の厚さおよび硬さは、試料を用いて断面加工を行い、マイクロビッカース硬さ試験機により断面のビッカース硬さを測定することにより求めることができる。断面加工は、試料を樹脂に包埋した後、樹脂ごと試料を切断して断面試料とし、更に断面を研磨することで行う。その後、試料の最表面より深さ方向に向け順次硬さを測定し、Hv450に達した時の位置を改質層の最下面とし、改質層の厚さを求める。尚、試料にスケール層が形成されている場合は、改質層の厚さの測定はスケール層直下を始点として改質層の厚さを求める。   The thickness and hardness of the hardened modified layer can be determined by performing cross-section processing using a sample and measuring the cross-section Vickers hardness with a micro Vickers hardness tester. The cross section processing is performed by embedding the sample in a resin, cutting the sample together with the resin to obtain a cross section sample, and further polishing the cross section. Thereafter, the hardness is measured sequentially from the outermost surface of the sample in the depth direction, and the position when reaching Hv450 is set as the lowermost surface of the modified layer, and the thickness of the modified layer is obtained. In the case where a scale layer is formed on the sample, the thickness of the modified layer is measured starting from directly below the scale layer.

また、硬質化された改質層中の酸素濃度は、断面からの、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分析(SEM/EDX)による組成分析によって測定することができる。本発明では測定時の加速電圧を15kVとし、炭素、窒素、酸素、チタンを測定しそれぞれの組成(原子%)を求め、改質層中の酸素濃度を規定している。   Further, the oxygen concentration in the hardened modified layer can be measured by a composition analysis by a scanning electron microscope / energy dispersive X-ray analysis (SEM / EDX) from a cross section. In the present invention, the acceleration voltage at the time of measurement is 15 kV, carbon, nitrogen, oxygen, and titanium are measured to determine their respective compositions (atomic%), thereby defining the oxygen concentration in the modified layer.

また、断面からの組織観察および硬質化された改質層中の組成分析を行うにあたり、断面試料の作製並びに観察は一般的な方法により行われる。例えば、採取した試料を樹脂に包埋した後、樹脂ごと切断し、その断面を研磨により平坦に加工し、その後、フッ酸と硝酸の混合溶液を用いてエッチング処理することによって断面試料を作製する。組織観察は光学顕微鏡より行うが、より分解能に優れる電子顕微鏡による観察を併用しても良い。   In addition, when performing the structure observation from the cross section and the composition analysis in the hardened modified layer, the preparation and observation of the cross section sample are performed by a general method. For example, after the collected sample is embedded in a resin, the whole resin is cut, the cross section is processed to be flat by polishing, and then a cross-sectional sample is prepared by etching using a mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid. . Tissue observation is performed with an optical microscope, but observation with an electron microscope having better resolution may be used in combination.

<製造方法>
本発明の磁気ディスク用チタン板は、チタンまたはチタン合金を、溶解、鋳造して鋳塊とし、熱間圧延した後、冷間圧延するという従来から公知の製造方法で作製されたものである。また、製造工程には、前記各工程を経て得たディスク基板の表面側に硬質化された改質層を形成するために、ディスク基板を850℃以上で熱処理するという工程を含む。また、熱処理前にディスク基板の表面を研磨して平滑にする工程、熱処理前もしくは熱処理後にディスク基板を所定サイズに切断加工する工程を含んでいても良い。
<Manufacturing method>
The titanium plate for a magnetic disk of the present invention is produced by a conventionally known manufacturing method in which titanium or a titanium alloy is melted and cast to form an ingot, hot-rolled and then cold-rolled. In addition, the manufacturing process includes a process of heat-treating the disk substrate at 850 ° C. or higher in order to form a hardened modified layer on the surface side of the disk substrate obtained through the above-described steps. Further, it may include a step of polishing and smoothing the surface of the disk substrate before the heat treatment, and a step of cutting the disk substrate into a predetermined size before or after the heat treatment.

硬質化された改質層は、熱処理時に雰囲気中の酸素がディスク基板の表面よりディスク基板中に向けて拡散侵入することで、酸素がディスク基板の表層に固溶することによって形成される。   The hardened modified layer is formed when oxygen in the atmosphere diffuses and penetrates from the surface of the disk substrate into the disk substrate during heat treatment, so that oxygen is dissolved in the surface layer of the disk substrate.

この硬質化された改質層が形成される際の酸素の固溶速度の主な支配因子は温度である。熱処理時の温度が850℃より低いと、ディスク基板の表面への酸素固溶速度が極めて遅くなるため、形成された改質層は硬質化された改質層として必要な硬さを得ることが難しくなり、また、硬質化された改質層を形成するために長時間を要することになる。   The temperature is the main governing factor of the oxygen dissolution rate when the hardened modified layer is formed. If the temperature during the heat treatment is lower than 850 ° C., the oxygen dissolution rate on the surface of the disk substrate becomes extremely slow, so that the formed modified layer can obtain the necessary hardness as a hardened modified layer. It becomes difficult, and it takes a long time to form a hardened modified layer.

このため、酸素濃度が9原子%以上で、硬さがHv450以上の硬質化された改質層を形成するための熱処理温度は、850℃以上である。好ましくは860℃以上、より好ましくは870℃以上とする。一方、熱処理温度の上限は特に規定しないが、熱処理時の温度が高すぎると、Hv1000を超える非常に硬く脆い層が形成されて歩留りに影響して望ましくないため、熱処理温度の上限は1200℃程度とすることが好ましい。   For this reason, the heat treatment temperature for forming a hardened modified layer having an oxygen concentration of 9 atomic% or higher and a hardness of Hv 450 or higher is 850 ° C. or higher. Preferably it is 860 degreeC or more, More preferably, you may be 870 degreeC or more. On the other hand, the upper limit of the heat treatment temperature is not particularly specified. However, if the temperature during the heat treatment is too high, a very hard and brittle layer exceeding Hv1000 is formed, which is undesirable because it affects the yield. Therefore, the upper limit of the heat treatment temperature is about 1200 ° C. It is preferable that

先に説明した通り、ディスク基板の表面側への硬質化された改質層の形成は酸素固溶により進行するが、熱処理雰囲気中の酸素濃度が高すぎる場合は、酸素固溶による改質層の形成と共に、その改質層の表面に多孔質のスケール層が形成されて歩留りが低下する。そのため、雰囲気中の酸素濃度は低い方が好ましく、熱処理は酸素濃度が質量比で20ppm以下の不活性ガス中で行われることが好ましい。酸素濃度が低いという観点からは真空下など減圧雰囲気での熱処理が想定される。   As described above, the formation of the hardened modified layer on the surface side of the disk substrate proceeds by oxygen solid solution, but if the oxygen concentration in the heat treatment atmosphere is too high, the modified layer by oxygen solid solution is used. As a result, a porous scale layer is formed on the surface of the modified layer, resulting in a decrease in yield. Therefore, the oxygen concentration in the atmosphere is preferably low, and the heat treatment is preferably performed in an inert gas having an oxygen concentration of 20 ppm or less by mass ratio. From the viewpoint of low oxygen concentration, heat treatment in a reduced pressure atmosphere such as under vacuum is assumed.

このように、熱処理時の酸素濃度によっては、熱処理後に硬質化された改質層の表面に多孔質で脆いスケール層が形成される。このスケール層は不要な層であるため、除去することが好ましい。スケール層の除去方法は特に規定しないが、例えば、物理的な研磨による除去、化学的なエッチングによる除去等、適宜好適な処方を選択して行えば良い。また、スケール層の除去は、例えば、色調で金属色が観察されるまで、表面からのビッカース硬さでHv1000以下になるまで等、適宜条件となる目安を事前の検討により定めておいてから行うことが推奨される。   Thus, depending on the oxygen concentration during the heat treatment, a porous and brittle scale layer is formed on the surface of the modified layer that has been hardened after the heat treatment. Since this scale layer is an unnecessary layer, it is preferably removed. A method for removing the scale layer is not particularly defined, but a suitable formulation may be selected as appropriate, for example, removal by physical polishing, removal by chemical etching, or the like. Further, the removal of the scale layer is performed after an appropriate criterion is determined by prior examination, for example, until a metallic color is observed in the color tone, or until the Vickers hardness from the surface is Hv 1000 or less. It is recommended.

<磁気ディスクの作製>
次に本発明の磁気ディスク用チタン板を用いて磁気ディスクを作製する方法について簡単に説明する。
<Production of magnetic disk>
Next, a method for producing a magnetic disk using the titanium plate for magnetic disk of the present invention will be briefly described.

まず、表面に硬質化された改質層が形成された磁気ディスク用チタン板を、例えば、外径2.5インチタイプのブランク材等、適宜ディスク形状に打ち抜き加工し、得られた磁気ディスクを複数枚重ねた状態で荷重をかけながら歪み取り焼鈍を行って表面を平坦化する。次いで、磁気ディスクの端面形状や寸法を整えるための加工を行い、最後に、表面を平滑にするための鏡面研磨等の研磨を行う。以上の工程の後改質層の表面上に記録媒体層を形成して磁気ディスクが完成する。尚、従来のアルミニウム合金からなる磁気ディスクの場合は、ニッケル−リン被膜を形成するための工程が必要となるが、本発明ではその工程を省略することができる。   First, a magnetic disk titanium plate having a hardened modified layer formed on the surface is appropriately punched into a disk shape, such as a blank material with an outer diameter of 2.5 inches, and the resulting magnetic disk The surface is flattened by performing strain relief annealing while applying a load in a state where a plurality of sheets are stacked. Next, processing for adjusting the end face shape and dimensions of the magnetic disk is performed, and finally, polishing such as mirror polishing for smoothing the surface is performed. After the above steps, a recording medium layer is formed on the surface of the modified layer to complete the magnetic disk. In the case of a magnetic disk made of a conventional aluminum alloy, a step for forming a nickel-phosphorus coating is required, but this step can be omitted in the present invention.

また、通常のチタン板をブランク材形状に打ち抜き加工した後に表面に硬質化された改質層を形成する処理を行って表面を硬化させたブランク材を作製し、その後、平坦化処理、形状を整えるための加工、鏡面研磨、記録媒体層形成の工程で磁気ディスクを作製しても良い。   Moreover, after blanking a normal titanium plate into a blank material shape, a blank material whose surface is hardened by performing a process of forming a hardened modified layer on the surface is prepared, and then a planarization process and a shape are performed. A magnetic disk may be manufactured by a process of trimming, mirror polishing, and recording medium layer formation.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは何れも本発明の技術的範囲に含まれる。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, and the present invention is implemented with appropriate modifications within a range that can meet the gist of the present invention. These are all included in the technical scope of the present invention.

<実施例1>
(試験体の作製)
試験体の作製には、JIS1種のチタン板材を使用した。このチタン板材の化学組成は、質量比で、O:450ppm、Fe:250ppm、N:40ppmであり、残部がTiおよび不可避的不純物である。また、板厚は1.0mmであり、サイズは20×50mmである。尚、このチタン板材は、チタン原料に対して、従来公知の溶解工程、熱間圧延工程、冷間圧延工程、酸洗工程を施して得たものである。
<Example 1>
(Preparation of test specimen)
For the preparation of the test body, a JIS type 1 titanium plate was used. The chemical composition of the titanium plate material is, by mass ratio, O: 450 ppm, Fe: 250 ppm, N: 40 ppm, with the balance being Ti and inevitable impurities. The plate thickness is 1.0 mm and the size is 20 × 50 mm. This titanium plate was obtained by subjecting a titanium raw material to a conventionally known melting step, hot rolling step, cold rolling step, and pickling step.

このチタン板材(ディスク基板)に対し、酸素を2ppm含む窒素ガス雰囲気下で熱処理を行った。熱処理温度は、800℃、900℃、1000℃の3条件とし、保持時間は各温度条件とも60分とした。尚、熱処理は、雰囲気熱熱処理炉を用いて炉内を窒素ガスに置換した後に施した。得られた試験体は下記の通りである。
試験体1:窒素ガス中 800℃、60分熱処理(比較例)
試験体2:窒素ガス中 900℃、60分熱処理(発明例)
試験体3:窒素ガス中 1000℃、60分熱処理(発明例)
This titanium plate (disk substrate) was heat-treated in a nitrogen gas atmosphere containing 2 ppm of oxygen. The heat treatment temperature was three conditions of 800 ° C., 900 ° C., and 1000 ° C., and the holding time was 60 minutes for each temperature condition. The heat treatment was performed after the inside of the furnace was replaced with nitrogen gas using an atmospheric heat treatment furnace. The obtained specimens are as follows.
Specimen 1: Heat treatment in nitrogen gas at 800 ° C. for 60 minutes (comparative example)
Test specimen 2: heat treatment in nitrogen gas at 900 ° C. for 60 minutes (invention example)
Specimen 3: Heat treatment at 1000 ° C. for 60 minutes in nitrogen gas (invention example)

(硬質化された改質層の硬さおよび厚さの評価)
熱処理後に試験体の表面側に形成された硬質化された改質層の硬さおよび厚さの測定は、各試験体を樹脂包埋した後、樹脂ごと試験体を切断して断面加工を行い、その断面を研磨(粗研磨、バフ研磨)によって平滑にし、その後、試験体の表面より深さ方向に向けてマイクロビッカース硬さの測定を行い、改質層の硬さと厚さの評価を行った。
(Evaluation of hardness and thickness of the hardened modified layer)
Measurement of the hardness and thickness of the hardened modified layer formed on the surface side of the specimen after heat treatment is performed by embedding each specimen and then cutting the specimen together with the resin to perform cross-section processing. Then, the cross section is smoothed by polishing (rough polishing, buff polishing), and then the micro Vickers hardness is measured from the surface of the specimen toward the depth direction, and the hardness and thickness of the modified layer are evaluated. It was.

具体的には、マイクロビッカース硬さの測定は、マイクロビッカース硬さ測定装置(アカシ製MVK−G3)を用いて行い、最表面にスケール層が形成されている場合は、スケール層直下(母材最表面)を始点とし、深さ方向に10μm間隔で、荷重は10g、保持時間は15秒として実施した。   Specifically, the measurement of micro Vickers hardness is performed using a micro Vickers hardness measurement apparatus (MVK-G3 manufactured by Akashi). When a scale layer is formed on the outermost surface, the micro Vickers hardness is directly below the base layer (base material). The outermost surface) was used as the starting point, the interval was 10 μm in the depth direction, the load was 10 g, and the holding time was 15 seconds.

(硬質化された改質層の組成の評価)
マイクロビッカース硬さ試験装置で断面のビッカース硬さを測定した後、チタン材料本来の硬さであるHv200程度の硬さを示す母材領域と、Hv450以上の硬さを示す硬質化された改質層領域の組成分析を行った。尚、比較例の試験体1はHv450以上の硬質化された改質層領域は存在しないため、組成分析を行ったのは、発明例である試験体2,3のみである。
(Evaluation of the composition of the hardened modified layer)
After measuring the Vickers hardness of the cross section with a micro Vickers hardness tester, the base material region showing a hardness of about Hv200, which is the original hardness of the titanium material, and the hardened modification showing a hardness of Hv450 or more A compositional analysis of the layer region was performed. In addition, since the test body 1 of the comparative example does not have a hardened modified layer region of Hv450 or higher, the composition analysis was performed only on the test bodies 2 and 3 of the invention example.

硬質化された改質層と母材領域の組成分析は、具体的には、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分析(SEM/EDX)装置を用いて行い、加速電圧を15kVとして炭素、窒素、酸素、チタンの組成(原子%)を測定し、それぞれの領域の酸素濃度(原子%)を求めた。また、試験体2,3においてスケール直下から深さ方向の酸素濃度を測定し、硬さのデータと酸素濃度の測定値より両者の関係を求めた。   Specifically, the composition analysis of the hardened modified layer and the base material region is performed using a scanning electron microscope / energy dispersive X-ray analysis (SEM / EDX) apparatus, and the acceleration voltage is set to 15 kV. The composition (atomic%) of nitrogen, oxygen, and titanium was measured, and the oxygen concentration (atomic%) in each region was determined. Further, in the test bodies 2 and 3, the oxygen concentration in the depth direction was measured from directly below the scale, and the relationship between the two was determined from the hardness data and the measured oxygen concentration.

(硬質化された改質層の断面組織観察)
試験体の断面加工および硬さの測定を行った後の試験体の断面をバフ研磨して平滑に仕上げ、その研磨面を1質量%フッ酸・10質量%硝酸水溶液にてエッチングした後、光学顕微鏡で500倍の倍率で断面組織観察を行った。
(Observation of cross-sectional structure of hardened modified layer)
After cross-section processing and hardness measurement of the test body, the cross-section of the test body was buffed to finish it smoothly, and the polished surface was etched with 1% by mass hydrofluoric acid / 10% by mass nitric acid aqueous solution, and then optical The cross-sectional structure was observed with a microscope at a magnification of 500 times.

(試験結果)
図1は異なる3条件の温度で熱処理を行った試験体1〜3の表面(スケール層直下)からの深さとビッカース硬さの関係を示し、また、図2は試験体1の表面付近の光学顕微鏡による断面観察結果を、図3は試験体2の表面付近の光学顕微鏡による断面観察結果を、図4は試験体3の表面付近の光学顕微鏡による断面観察結果を、それぞれ示す。
(Test results)
FIG. 1 shows the relationship between the depth from the surface (immediately below the scale layer) and Vickers hardness of specimens 1 to 3 that were heat-treated at three different temperatures, and FIG. FIG. 3 shows a cross-sectional observation result by an optical microscope near the surface of the test specimen 2, and FIG. 4 shows a cross-sectional observation result by an optical microscope near the surface of the test specimen 3, respectively.

図1によると、試験体1では最も硬さが硬い領域でも硬さはHv300程度であり、硬さがHv450以上の硬質化された改質層は形成されていない。一方、試験体2では硬さがHv450以上の領域は表面から約30μm以内の領域であり、この領域内に硬さがHv450以上の硬質化された改質層が形成されていると判断できる。また、試験体3では硬さがHv450以上の領域は表面から約80μm以内の領域であり、この領域内に硬さがHv450以上の硬質化された改質層が形成されていると判断できる。   According to FIG. 1, the hardness of the specimen 1 is about Hv300 even in the hardest region, and no hardened modified layer having a hardness of Hv450 or higher is formed. On the other hand, in the specimen 2, the region having a hardness of Hv450 or higher is a region within about 30 μm from the surface, and it can be determined that a hardened modified layer having a hardness of Hv450 or higher is formed in this region. Moreover, in the test body 3, the area | region whose hardness is Hv450 or more is an area | region within about 80 micrometers from the surface, and it can be judged that the hardened modified layer whose hardness is Hv450 or more is formed in this area | region.

本発明では特に硬質化された改質層の厚さは規定していないが、900℃で熱処理を行った試験体2、1000℃で熱処理を行った試験体3では、硬さ、厚さともに十分な硬質化された改質層が表面に形成されている。一方、800℃で熱処理を行った試験体1は表面から10μmの位置でHv300程度と若干硬さが硬くなっているものの硬質化された改質層は形成されていないと判断することができる。   Although the thickness of the hardened modified layer is not specified in the present invention, both the hardness and thickness of the test body 2 that was heat-treated at 900 ° C. and the test body 3 that was heat-treated at 1000 ° C. A sufficiently hardened modified layer is formed on the surface. On the other hand, it can be determined that the specimen 1 that has been heat-treated at 800 ° C. has a hardness of about Hv300 at a position of 10 μm from the surface, but a hardened modified layer is not formed.

また、本発明の要件を満足する硬質化された改質層が表面に形成されているという結果を得た試験体2,3を用いて、硬質化された改質層の硬さと硬質化された改質層(硬化層と記載)中の酸素濃度の関係を求めた結果を図5に示す。図5より明らかなように硬さと酸素濃度には明確な相関関係が見られ、酸素濃度がおよそ9原子%以上でHv450以上の硬さとなっている。   In addition, the hardness and hardness of the hardened modified layer were obtained by using the test bodies 2 and 3 that obtained the result that the hardened modified layer satisfying the requirements of the present invention was formed on the surface. FIG. 5 shows the result of determining the relationship of the oxygen concentration in the modified layer (described as a hardened layer). As is clear from FIG. 5, there is a clear correlation between the hardness and the oxygen concentration, and the oxygen concentration is about 9 atomic% or higher and the hardness is Hv 450 or higher.

<実施例2>
実施例1と同一のJIS1種のチタン板材を用いて、このチタン板材(ディスク基板)に対し、実施例1とは異なり大気雰囲気下で熱処理を行った。熱処理温度は1000℃、保持時間は60分とした。得られた試験体は下記の通りである。
試験体4:大気中 1000℃、60分熱処理(発明例)
<Example 2>
Unlike the first example, the same JIS type 1 titanium plate material as in Example 1 was used, and the titanium plate material (disk substrate) was heat-treated in an air atmosphere. The heat treatment temperature was 1000 ° C. and the holding time was 60 minutes. The obtained specimens are as follows.
Specimen 4: Heat treatment in the atmosphere at 1000 ° C. for 60 minutes (Invention example)

この試験体4を用い、実施例1と同様の方法で、硬質化された改質層の硬さおよび厚さの評価、硬質化された改質層の断面組織観察を行った。   Using this test body 4, evaluation of the hardness and thickness of the hardened modified layer and observation of the cross-sectional structure of the hardened modified layer were performed in the same manner as in Example 1.

窒素ガス雰囲気下と大気雰囲気下という異なる熱処理雰囲気による影響を確認するために、試験体4と同一の熱処理温度、保持時間で熱処理を行った試験体3と、試験体4の試験結果を比較した。図6は試験体3,4の表面(スケール層直下)からの深さとビッカース硬さの関係を示し、また、図7は試験体3の表面付近の走査型電子顕微鏡による断面観察結果を、図8は試験体4の表面付近の走査型電子顕微鏡による断面観察結果を、それぞれ示す。尚、図7の断面観察画像と図4の断面観察画像は同じ試験体3の断面観察画像であるがその倍率が200倍で異なる。   In order to confirm the influence of different heat treatment atmospheres in a nitrogen gas atmosphere and an air atmosphere, the test results of the test body 3 and the test body 3 that were heat-treated at the same heat treatment temperature and holding time as the test body 4 were compared. . FIG. 6 shows the relationship between the depth from the surface of specimens 3 and 4 (just below the scale layer) and the Vickers hardness, and FIG. 7 shows the result of cross-sectional observation by the scanning electron microscope near the surface of specimen 3. 8 shows cross-sectional observation results by the scanning electron microscope in the vicinity of the surface of the specimen 4. The cross-sectional observation image in FIG. 7 and the cross-sectional observation image in FIG. 4 are cross-sectional observation images of the same specimen 3, but the magnification is different by 200 times.

図6によると、試験体3,4ともに硬さ、厚さともに十分な硬質化された改質層が表面に形成されていることが分かり、硬質化された改質層の形成自体は雰囲気の影響を殆ど受けていないことが分かる。   According to FIG. 6, it can be seen that both the specimens 3 and 4 have a hardened modified layer having sufficient hardness and thickness on the surface, and the formation of the hardened modified layer itself is the atmosphere. It turns out that it is hardly influenced.

一方、図7と図8の断面観察画像を比較すると、大気中で熱処理を行った試験体4では試験体3と比較すると相当分厚いスケール層が形成されていることが分かり、このスケール層の部分が材料ロスとなって歩留まり低下が予想されることから、熱処理中の酸素濃度は低い方が好ましいことが分かる。   On the other hand, when the cross-sectional observation images of FIGS. 7 and 8 are compared, it can be seen that a considerably thicker scale layer is formed in the specimen 4 that has been heat-treated in the atmosphere than in the specimen 3. Therefore, it can be understood that a lower oxygen concentration during the heat treatment is preferable.

Claims (6)

表面側に酸素固溶により硬質化された改質層が形成された純チタンまたはチタン合金よりなるディスク基板のみより構成されており、
前記改質層中の酸素濃度が、9原子%以上30原子%以下であることを特徴とする磁気ディスク用チタン板。
It consists only of a disk substrate made of pure titanium or a titanium alloy in which a modified layer hardened by oxygen solid solution is formed on the surface side,
A titanium plate for a magnetic disk, wherein an oxygen concentration in the modified layer is 9 atomic% or more and 30 atomic% or less.
前記改質層中の酸素濃度が、9原子%以上20原子%以下である請求項1記載の磁気ディスク用チタン板。   The titanium plate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the modified layer is 9 atomic% or more and 20 atomic% or less. 請求項1または2記載の磁気ディスク用チタン板の製造方法であって、
前記ディスク基板の母材の表面側に前記改質層を形成するにあたり、前記ディスク基板を850℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用チタン板の製造方法。
It is a manufacturing method of the titanium plate for magnetic discs of Claim 1 or 2, Comprising:
A method of manufacturing a titanium plate for a magnetic disk, comprising the step of heat-treating the disk substrate at 850 ° C. or higher when forming the modified layer on the surface side of the base material of the disk substrate.
前記熱処理は、酸素濃度が質量比で20ppm以下の不活性ガス中で行われることを特徴とする請求項3記載の磁気ディスク用チタン板の製造方法。   4. The method for producing a titanium plate for a magnetic disk according to claim 3, wherein the heat treatment is performed in an inert gas having an oxygen concentration of 20 ppm or less by mass ratio. 前記熱処理後に、前記改質層の表面に形成されたスケール層を除去することを特徴とする請求項3または4記載の磁気ディスク用チタン板の製造方法。   5. The method for producing a titanium plate for a magnetic disk according to claim 3, wherein the scale layer formed on the surface of the modified layer is removed after the heat treatment. 請求項1または2に記載の磁気ディスク用チタン板の前記改質層の表面上に記録媒体層が形成されていることを特徴とする磁気ディスク。   A magnetic disk, wherein a recording medium layer is formed on a surface of the modified layer of the titanium plate for a magnetic disk according to claim 1.
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