JP2015169624A - 計測装置、計測方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】被検物の形状を計測するのに有利な計測装置を提供する。【解決手段】エッジを境界として区別される、高さの異なる2つの表面領域を含む被検物の形状を計測する計測装置であって、前記被検物を照明する照明系と、前記被検物によって反射された光により形成される前記被検物の像を撮像して画像を生成する撮像部と、前記被検物の形状を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記2つの表面領域のうちの一方の表面領域が照明され、他方の表面領域が照明されない又は前記一方の表面領域よりも照度が小さくなるように前記他方の表面領域を照明する第1状態となるように前記照明系を制御し、前記第1状態で前記撮像部によって生成された第1画像に基づいて前記エッジの位置を求めることを特徴とする計測装置を提供する。【選択図】図1
Description
本発明は、計測装置、計測方法及び物品の製造方法に関する。
画像測定機は、被検物の形状(寸法)を計測する計測装置として知られている。このような計測装置は、被検物の画像を取得して、画像処理によってサブピクセル精度でエッジ(の位置)を検出し、かかるエッジの間の距離を求めることで被検物の形状を計測する。
計測装置は、一般に、被検物を照明する照明ユニットと、結像光学系や光検出器(撮像素子)などを含み、被検物の画像を取得する画像取得ユニットと、を有する。照明ユニットでは、結像光学系に対して、被検物を後方から照明する透過照明や被検物を前方から照明する反射照明が用いられている。反射照明には、被検物の上方から垂直に被検物を照明する同軸落射照明やリング状に被検物を照明するリング照明などが含まれる。
計測装置においては、被検物を照明する照明方法として、透過照明を用いた場合には被検物の形状を高精度に計測することができるが、反射照明を用いた場合には被検物の形状を高精度に計測することができないことが従来から知られている。これは、被検物の表面のテクスチャ(加工痕や粗さ)によって、画像の強度(強度分布)に大きなばらつきが生じ、画像処理によるエッジの検出誤差が大きくなるためである。但し、被検物の凹凸や非貫通孔などについては、透過照明を用いて照明することができないため、反射照明を用いらなければならず、その形状を高精度に計測することが困難である。
そこで、このような被検物の形状を計測する計測装置に関する技術が幾つか提案されている(特許文献1及び2参照)。例えば、特許文献1には、被検物のエッジと交差するようにストライプ状に被検物を照明する構造化照明を用いた計測装置が提案されている。また、特許文献2には、透過照明を用いて検出されたエッジの位置と落射照明を用いて検出されたエッジの位置とを比較して補正係数を決定し、かかる補正係数に基づいて、落射照明を用いて検出されたエッジの位置を補正する技術が提案されている。
しかしながら、特許文献1では、エッジを検出可能な領域がストライプの狭い照明領域に限られるため、広い範囲でエッジを検出するためには、ストライプの位置を変えて複数の画像を取得する必要があり、計測に時間を要してしまう。また、合焦した面のテクスチャによって、画像の強度に大きなばらつきが生じてしまうため、被検物のエッジを高精度に検出することが難しい。
また、特許文献2では、被検物の性質(素材や色など)や状態(被検物の加工痕、表面粗さ、厚さなど)によって、補正係数を変更しなければならず、ユーザの負担が大きくなってしまう。更に、補正係数を決定するための作業に多大な時間を要してしまう。
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、被検物の形状を計測するのに有利な計測装置を提供することを例示的目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、エッジを境界として区別される、高さの異なる2つの表面領域を含む被検物の形状を計測する計測装置であって、前記被検物を照明する照明系と、前記被検物によって反射された光により形成される前記被検物の像を撮像して画像を生成する撮像部と、前記被検物の形状を求める処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記2つの表面領域のうちの一方の表面領域が照明され、他方の表面領域が照明されない又は前記一方の表面領域よりも照度が小さくなるように前記他方の表面領域を照明する第1状態となるように前記照明系を制御し、前記第1状態で前記撮像部によって生成された第1画像に基づいて前記エッジの位置を求めることを特徴とする。
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
本発明によれば、例えば、被検物の形状を計測するのに有利な計測装置を提供することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
<第1の実施形態>
図1は、本発明の一側面としての計測装置10の構成を示す概略図である。計測装置10は、被検物の画像を取得して、画像処理によってエッジ(の位置)を検出し、かかるエッジの間の距離を求めることで被検物の形状を計測する画像測定機である。計測装置10は、被検物101を照明する照明系110と、被検物101の画像を取得するための画像取得部120とを有する。
図1は、本発明の一側面としての計測装置10の構成を示す概略図である。計測装置10は、被検物の画像を取得して、画像処理によってエッジ(の位置)を検出し、かかるエッジの間の距離を求めることで被検物の形状を計測する画像測定機である。計測装置10は、被検物101を照明する照明系110と、被検物101の画像を取得するための画像取得部120とを有する。
照明系110は、光源111と、空間光変調器112と、レンズ113とを含む。光源111には、例えば、LED、ランプ、蛍光灯などを用いることができる。空間光変調器112は、例えば、液晶、LCOS(Liquid Crystal On Silicon)、DMD(Digital Micromirror Device)などを含む。空間光変調器112は、制御部132に制御され、光源111から供給された光の強度、即ち、被検物101を照明する光の強度を空間的に調整する。レンズ113は、空間光変調器112によって空間的に強度が調整された光をコリメートする。
画像取得部120は、被検物101によって反射又は散乱された光を受光する光検出器121と、被検物101の像を光検出器121に結像する結像光学系122とを含む。光検出器121は、例えば、CCDやCMOSセンサなどを含み、被検物101によって反射又は散乱された光により形成される被検物101の像を撮像して画像を生成する撮像部として機能する。結像光学系122は、第1レンズ群122aと、第2レンズ群122bとを含む。但し、第1レンズ群122a及び第2レンズ群122bは、全ての光学素子がレンズである必要はなく、部分的にミラーを含んでいてもよいし、或いは、全ての光学素子がミラーであるミラー群に置換されてもよい。第1レンズ群122aと第2レンズ群122bとの間には、ハーフミラー123が配置されている。
照明系110からの光は、ハーフミラー123によって部分的に反射され、第1レンズ群122aによって集光されて被検物101を照明する。被検物101によって反射又は散乱された光は、結像光学系122に入射し、ハーフミラー123を透過して、光検出器121に結像する(即ち、被検物101の像が形成される)。
被検物101は、ステージ134に保持(載置)される。ステージ134は、アクチュエータ133によって結像光学系122の光軸124と平行な方向に駆動可能に構成されている。これにより、被検物101の表面にピント(焦点)を合わせることができる。また、ステージ134は、結像光学系122の視野よりも大きな被検物101を計測するために、光軸124と平行な方向だけではなく、光軸124に垂直な方向(XY方向)に駆動可能に構成されていてもよい。
光検出器121によって撮像(生成)された被検物101の画像は、制御部132に転送される。制御部132では、被検物101の画像から画像処理によってエッジ(の位置)を検出し、寸法や幾何公差などの被検物101の形状(形状情報)を求める。本実施形態では、制御部132は、被検物101の形状を求める処理を行う処理部として機能する。制御部132は、例えば、液晶モニタやブラウン管などの表示装置を有し、かかる表示装置に被検物101の形状(形状情報)を表示する。また、制御部132は、ハードディスクやSSDなどの記憶装置(記憶部)も有し、かかる記憶装置に被検物101の形状データを記憶したり、かかる記憶装置に記憶した被検物101の形状データを読み出したりすることができる。
図2乃至図4を参照して、計測装置10における被検物101の形状の計測処理について説明する。かかる計測処理は、制御部132が計測装置10の各部を統括的に制御することで行われる。
図2は、第1の実施形態における被検物101の形状の計測処理を説明するためのフローチャートである。ここでは、被検物101として、図1に示すような凸型形状の部品を例に説明する。但し、被検物101は、このような単純な形状の部品に限定されるものではなく、任意の形状の部品、例えば、複雑な形状の部品であってもよい。
被検物101は、本実施形態では、エッジを境界として区別される、高さの異なる2つの表面領域を含み、具体的には、被検物101は、高さの異なる表面101a及び101bを含む。ここでは、被検物101の形状として、エッジの間の寸法、即ち、側面101cと側面101dとの間の寸法を計測するものとする。かかる部分は、被検物101の下方から照明しても光が遮られるため、透過照明を用いることができず、被検物101を上方から照明する必要がある。
S101では、制御部132は、被検物101の表面101a及び101bが照明される第1照明状態(第2状態)となるように照明系110を制御する。具体的には、制御部132は、図3(a)に示すように、空間光変調器112を構成する全ての画素112aが光を透過する状態になるように、空間光変調器112を制御(設定)する。このように、第1照明状態では、被検物101の表面101a及び101bの両方(2つの表面領域)が照明系110によって照明される。
S102では、制御部132は、アクチュエータ133を介してステージ134を上下方向に駆動し、被検物101にピントを合わせるオートフォーカスを行う。オートフォーカスには、当業界で周知のいかなる技術をも適用することが可能である。被検物101の側面101cと側面101dとの間の寸法を計測する場合、図3(b)に示すように、画像取得部120(光検出器121)のフォーカス面125と被検物101の表面101aとが一致するようにピントが合わせられる。
S103では、第1照明状態において、光検出器121によって被検物101の第1画像140(第2画像)を取得する。図3(c)は、第1照明状態において、光検出器121によって取得された被検物101の第1画像140の一例を示す図である。図3(c)に示す第1画像140において、領域141aは、被検物101の表面101aに対応する画像領域であり、領域141bは、被検物101の表面101bに対応する画像領域である。
図3(d)は、図3(c)に示す破線Aにおける画像の断面強度プロファイルを示す図である。領域143aに対応する断面強度プロファイルは、被検物101の表面101aで反射又は拡散された光の強度分布に対応し、領域143bに対応する断面強度プロファイルは、被検物101の表面101bで反射又は拡散された光の強度分布に対応する。図3(d)に示す破線は、被検物101のエッジに対応する位置を表している。
図3(d)を参照するに、領域143aでは、強度の変動(ばらつき)が非常に大きくなっている。これは、被検物101の表面101aのテクスチャ(加工痕や粗さ)の影響によって、表面101aの場所に応じて反射又は散乱される光の強度が大きく変化するためである。被検物101の表面101bについても同様に、テクスチャの影響によって、表面101bの場所に応じて反射又は散乱される光の強度は大きく変化する。但し、被検物101の表面101bに対応する断面強度プロファイルの領域143bでは、強度の変動が小さくなっている。これは、被検物101の表面101bが表面101aよりもフォーカス面125から遠い位置にあり、ピントが外れることによって画像がぼやけてテクスチャの影響が平滑化されるためである。
図3(d)に破線で示す被検物101のエッジに対応する位置では、画像の強度が小さくなる。これは、被検物101の面取り、コーナーR、側面などで形成される影によって、反射又は散乱されて結像光学系122に入射する光の強度が低下するためである。被検物101のエッジに対応する画像の強度は、面取りやコーナーRの大きさに依存する。例えば、面取りが大きい場合には、かかる面取りの部分で反射された光の殆どは、結像光学系122に入射しないため、画像の強度が著しく低下する。一方、面取りがされていない場合には、画像の強度は殆ど低下しない。
S104では、制御部132は、S103で取得された第1画像に基づいて、被検物101のエッジ(少なくとも1つのエッジ)を検出する。被検物101のエッジの検出には、キャニー法などのサブピクセル精度が得られるアルゴリズムが用いられる。一般的なエッジの検出のアルゴリズムでは、ガウシアンフィルターなどによって画像を平滑化し、その後、微分演算を行うことによって、エッジの位置を求める。エッジの位置の検出精度は、エッジのコントラスト及びエッジ周辺の画像のノイズ(強度のばらつき)に依存する。例えば、被検物101に面取りがされていない場合、被検物101のエッジでそれほど強度が低下しないため、高いコントラストが得られない。また、第1画像140の領域141bで強度のばらつきが大きいことも、エッジの検出精度を低下させる要因となる。従って、S103で取得された第1画像からは、被検物101のエッジの位置を高い精度で求めることができない。
S105では、制御部132は、S104で検出されたエッジを境界として区別(分割)される被検物101の2つの表面領域(表面101a及び101b)のうち、どちらにピントが合っているかを判定する(即ち、フォーカスの判定を行う)。本実施形態では、図3(c)に示す第1画像140において、領域141aはピントが合っており、領域141bと領域142とはピントが外れている。
S106では、制御部132は、被検物101の表面101bが照明され、表面101aが照明されない第2照明状態(第1状態)となるように照明系110を制御する。具体的には、制御部132は、図4(a)に示すように、空間光変調器112を構成する画素112aのうち、被検物101の表面101aに対応する領域にある画素が光を透過しない状態になるように、空間光変調器112を制御(設定)する。また、制御部132は、図4(a)に示すように、空間光変調器112を構成する画素112aのうち、被検物101の表面101bに対応する領域にある画素が光を透過する状態になるように、空間光変調器112を制御(設定)する。これにより、被検物101のエッジを境界として区別される被検物101の2つの表面領域のうち、フォーカス面125から遠い領域(表面101b)が選択的に照明される。換言すれば、図4(b)に破線で示す被検物101の表面101aを照明する光が遮光される。なお、第1状態では、表面101aを僅かな照度で照明する、即ち、表面101bよりも照度が小さくなるように表面101aを照明してもよい。
S107では、第2照明状態において、光検出器121によって被検物101の第2画像150(第1画像)を取得する。図4(c)は、第2照明状態において、光検出器121によって取得された被検物101の第2画像150の一例を示す図である。図4(c)に示す第2画像150において、領域151aは、被検物101の表面101aに対応する画像領域であり、照明系110によって照明されていないため、画像は暗くなる。一方、図4(c)に示す第2画像150において、領域151aを除く被検物101の表面101b及びステージ134に対応する領域(画像領域)142は、照明系110によって選択的に照明されているため、画像は明るくなる。
図4(d)は、図4(c)に示す破線Aにおける画像の断面強度プロファイルを示す図である。領域153aに対応する断面強度プロファイルは、被検物101の表面101aで反射又は拡散された光の強度分布に対応し、領域153bに対応する断面強度プロファイルは、被検物101の表面101bで反射又は拡散された光の強度分布に対応する。図4(d)に示す破線は、被検物101のエッジに対応する位置を表している。
図4(d)を参照するに、領域153aでは、強度がほぼゼロである。これは、被検物101の表面101aが照明系110によって照明されていないためである。一方、領域153bでは、強度は大きな値となる。これは、被検物101の表面101bが照明系110によって選択的に照明されているためである。また、領域153bでは、強度の変動が小さくなっている。これは、被検物101の表面101bが表面101aよりもフォーカス面125から遠い位置にあり、ピントが外れることによって画像がぼやけてテクスチャの影響が平滑化されるためである。
S108では、制御部132は、S107で取得された第2画像に基づいて、被検物101のエッジ(少なくとも1つのエッジ)を検出する。上述したように、エッジの位置の検出精度は、エッジのコントラスト及びエッジ周辺の画像のノイズ(強度のばらつき)に依存する。図4(c)に示す第2画像150において、領域152aでは強度がほぼゼロであるが、領域152bでは強度が大きな値となっている。従って、第2画像150では、エッジにおいて、高いコントラストが得られる。更に、S107で取得された第2画像は、S103で取得された第1画像とは異なり、被検物101の表面101aに対応する領域151aでは強度がほぼゼロで強度のばらつきが小さいため、被検物101のエッジの位置を高い精度で求めることができる。従って、S107で取得された第2画像から求められる被検物101のエッジの位置の精度は、S103で取得された第1画像から求められる被検物101のエッジの位置の精度よりも高い(高精度である)。
S109では、制御部132は、S108で検出された被検物101のエッジの位置に基づいて、被検物101の形状を算出する。本実施形態では、領域151aと領域151bとの境界に対応するエッジの位置に基づいて、被検物101の側面101cと側面101dとの間の寸法が算出される。
S110では、制御部132は、被検物101の別の部分の形状を計測するかどうかを判定する。かかる判定は、その旨を表示装置に表示してユーザが選択できるようにしてもよいし、予め設定されたティーチングプログラムから判定してもよい。被検物101の別の部分の形状を計測する場合には、S101に移行し、被検物101の別の部分の形状を計測しない場合には、計測処理を終了する。
このように、本実施形態では、被検物101の2つの表面領域が照明される状態で被検物101の画像を取得し、かかる画像に基づいて、被検物101の2つの表面領域のうちの一方が照明され、他方の表面領域が照明されない状態で被検物101の画像を取得する。そして、被検物101の2つの表面領域のうちの一方が照明され、他方の表面領域が照明されない状態で被検物101の画像に基づいて、被検物101のエッジの位置を検出して、被検物101の形状を求める。従って、被検物101の照明状態を変更して2つの画像を取得するだけで、広い領域でエッジの位置を検出することができ、被検物101の形状を短時間で、且つ、高精度に計測することができる。
また、本実施形態では、被検物101の表面101aにピントを合わせて被検物101の表面101bを選択的に照明しているが、被検物101の表面101bにピントを合わせて被検物101の表面101aを選択的に照明することも可能である。但し、実際には、本実施形態のように、被検物101の表面101aにピントを合わせて被検物101の表面101bを選択的に照明する方が有利である。この理由について、図5を参照して説明する。
図5(a)は、被検物101の表面101aにピントを合わせて被検物101の表面101bを選択的に照明する場合の照明状態を示す図である。図5(a)に示すように、被検物101の表面101aが照明されないように、フォーカス面125において一定のマージンΔ1を設けて、それよりも外側の領域だけが選択的に照明されるように、照明系110は制御される。換言すれば、フォーカス面125において、被検物101のエッジから外側(照明される表面領域側)に予め定められた距離だけ離れた位置よりも外側の領域が照明されるように照明系110を制御する。結像光学系122は、一定の開口数(NA)を有しているため、マージンΔ1が大き過ぎない限りは、デフォーカスした位置にある被検物101の表面101bは、エッジ(境界)まで照明される。また、マージンΔ1には、一定の自由度があるため、空間光変調器112の各画素112aについて、透過又は遮光する範囲を厳密にエッジの位置に応じて決定する必要がなく、空間光変調器112の制御が容易である。
図5(b)は、被検物101の表面101bにピントを合わせて被検物101の表面101aを選択的に照明する場合の照明状態を示す図である。被検物101の表面101bにピントが合っている場合、テクスチャの影響が大きくなる表面101bが照明されないように、照明系110(空間光変調器112)を制御する必要がある。被検物101の側面で反射された光によって表面101bが照明されることを避けるためには、フォーカス面125でエッジから大きくシフトした位置(Δ2)よりも内側の領域だけが照明されるように、照明系110を制御しなければならない。更に、被検物101の表面101aのエッジまで照明するためには、空間光変調器112の各画素112aについて、透過又は遮光する範囲を厳密にエッジの位置に合わせる必要があり、空間光変調器112の制御が難しくなる。
従って、図5(a)に示すように、結像光学系122に近い被検物101の表面101aにピントを合わせて、結像光学系122から遠い被検物101の表面101bを選択的に照明することが好ましい。換言すれば、フォーカス面125と被検物101の照明されない表面101aとが一致するように、フォーカス面125を調整するとよい。
このように、本実施形態の計測装置10によれば、透過照明を用いて計測することができない被検物101の部分についても、短時間で、且つ、高精度に計測することができる。
<第2の実施形態>
図6は、第2の実施形態における被検物101の形状の計測処理を説明するためのフローチャートである。本実施形態は、被検物101の寸法や幾何公差などの形状(形状データ)が既知である場合、例えば、同一形状を有する異なる部品(同一型番の部品)を計測する場合に適用される。
図6は、第2の実施形態における被検物101の形状の計測処理を説明するためのフローチャートである。本実施形態は、被検物101の寸法や幾何公差などの形状(形状データ)が既知である場合、例えば、同一形状を有する異なる部品(同一型番の部品)を計測する場合に適用される。
S201では、制御部132は、計測装置10に対して、被検物101の位置合わせを行う。被検物101の位置合わせには、当業界で周知のいかなる技術をも適用することが可能である。例えば、被検物101を冶具によって保持し、かかる冶具をステージ134に設けられた突き当て部(不図示)に突き当てることによって、計測装置10に対する被検物101の位置合わせを行うことができる。また、被検物101を下方から照明して(即ち、透過照明を用いて)画像を取得し、被検物101の輪郭を算出することで計測装置10と被検物101との相対的な位置及び角度を求めて位置合わせを行ってもよい。この場合、被検物101の輪郭のコントラストが高くなるように、オートフォーカスなどによって予めピントを合わせておくとよい。
S202では、制御部132は、ハードディスクやSSDなどの記憶装置に記憶された被検物101の形状データを読み出す。ここで、形状データとは、被検物101のエッジの位置の情報を含むデータであって、例えば、被検物101の形状の設計値を表すデータを含む。また、形状データは、被検物101の2つの表面領域のうちの一方が照明され、他方の表面領域が照明されない状態で光検出器121によって取得された被検物101の画像から求められたエッジの位置を表すデータであってもよい。
S203では、制御部132は、S202で読み出された被検物101の形状データに基づいて、被検物101のエッジの位置を算出する。具体的には、S201で行われた被検物101の位置合わせの情報とS202で読み出された被検物101の形状データとを組み合わせて、計測装置10を基準とする被検物101のエッジの位置を算出する。
S204では、制御部132は、S203で算出された被検物101のエッジの位置に基づいて、アクチュエータ133を介してステージ134を上下方向に駆動し、被検物101にピントを合わせるオートフォーカスを行う。
S205では、制御部132は、S203で算出されたエッジを境界として区別(分割)される被検物101の2つの表面領域(表面101a及び101b)のうち、どちらにピントが合っているかを判定する(即ち、フォーカスの判定を行う)。
S206では、制御部132は、被検物101の表面101bが照明され、表面101aが照明されない選択的照明状態(第1状態)となるように照明系110を制御する。具体的には、制御部132は、図4(a)に示すように、空間光変調器112を構成する画素112aのうち、被検物101の表面101aに対応する領域にある画素が光を透過しない状態になるように、空間光変調器112を制御(設定)する。また、制御部132は、図4(a)に示すように、空間光変調器112を構成する画素112aのうち、被検物101の表面101bに対応する領域にある画素が光を透過する状態になるように、空間光変調器112を制御(設定)する。これにより、被検物101のエッジを境界として区別される被検物101の2つの表面領域のうち、フォーカス面125から遠い領域(表面101b)が選択的に照明される。換言すれば、図4(b)に破線で示す被検物101の表面101aを照明する光が遮光される。
S207では、選択的照明状態において、光検出器121によって被検物101の画像(第1画像)を取得する。被検物101の表面101bは表面101aよりもフォーカス面125から遠い位置にあり、ピントが外れることによって画像がぼやけてテクスチャの影響が平滑化される。
S208では、制御部132は、S207で取得された画像に基づいて、被検物101のエッジ(少なくとも1つのエッジ)を検出する。上述したように、エッジの位置の検出精度は、エッジのコントラスト及びエッジ周辺の画像のノイズ(強度のばらつき)に依存する。第1の実施形態と同様に、S207で取得された画像において、ピントが合った領域では強度がほぼゼロであるが、ピントが外れた領域では強度が大きな値となる。従って、S207で取得された画像では、エッジにおいて、高いコントラストが得られる。更に、S207で取得された画像は、被検物101の表面101aに対応する領域では強度がほぼゼロで強度のばらつきが小さいため、被検物101のエッジの位置を高い精度で求めることができる。従って、選択的照明状態で取得された画像から求められるエッジの位置は、高精度である。
S209では、制御部132は、S208で検出された被検物101のエッジの位置に基づいて、被検物101の形状を算出する。本実施形態では、領域151aと領域151bとの境界に対応するエッジの位置に基づいて、被検物101の側面101cと側面101dとの間の寸法が算出される。
S210では、制御部132は、被検物101の別の部分の形状を計測するかどうかを判定する。被検物101の別の部分の形状を計測する場合には、S203に移行し、被検物101の別の部分の形状を計測しない場合には、計測処理を終了する。
複数のピント位置で被検物101を計測する場合、第1の実施形態では、各ピント位置で2つの画像を取得する(第1照明状態及び第2照明状態のそれぞれで画像を取得する)必要がある。一方、本実施形態では、被検物101の既知の形状データを用いることで、各ピント位置で1つの画像のみを取得すればよい(選択的照明状態で画像を取得すればよい)。従って、被検物101が複雑な形状を有し、多数のピント位置での計測が必要な場合には、本実施形態における計測処理が好適である。
このように、本実施形態の計測装置10によれば、透過照明を用いて計測することができない被検物101の部分についても、短時間で、且つ、高精度に計測することができる。
<第3の実施形態>
上述した各実施形態の計測装置10は、機械部品などの物品の製造に適用することができる。かかる物品の製造方法は、上述した計測装置10を用いて被検物の形状を計測する工程と、その計測結果に基づいて、被検物の形状が所定の形状となるように被検物を加工(研磨など)する工程とを含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
上述した各実施形態の計測装置10は、機械部品などの物品の製造に適用することができる。かかる物品の製造方法は、上述した計測装置10を用いて被検物の形状を計測する工程と、その計測結果に基づいて、被検物の形状が所定の形状となるように被検物を加工(研磨など)する工程とを含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
Claims (11)
- エッジを境界として区別される、高さの異なる2つの表面領域を含む被検物の形状を計測する計測装置であって、
前記被検物を照明する照明系と、
前記被検物によって反射された光により形成される前記被検物の像を撮像して画像を生成する撮像部と、
前記被検物の形状を求める処理を行う処理部と、を有し、
前記処理部は、
前記2つの表面領域のうちの一方の表面領域が照明され、他方の表面領域が照明されない又は前記一方の表面領域よりも照度が小さくなるように前記他方の表面領域を照明する第1状態となるように前記照明系を制御し、
前記第1状態で前記撮像部によって生成された第1画像に基づいて前記エッジの位置を求めることを特徴とする計測装置。 - 前記処理部は、
前記2つの表面領域が照明される第2状態となるように前記照明系を制御し、
前記第2状態で前記撮像部によって生成された第2画像に基づいて、前記第1状態となるように前記照明系を制御することを特徴とする請求項1に記載の計測装置。 - 前記処理部は、前記第2画像に基づいて前記エッジの位置を求め、当該エッジの位置に基づいて前記第1状態となるように前記照明系を制御し、
前記第1画像から求められる前記エッジの位置の精度は、前記第2画像から求められる前記エッジの位置の精度よりも高いことを特徴とする請求項2に記載の計測装置。 - 前記被検物の形状を表す形状データを記憶する記憶部を更に有し、
前記処理部は、前記記憶部に記憶された形状データに基づいて前記エッジの位置を求め、当該エッジの位置に基づいて前記第1状態となるように前記照明系を制御することを特徴とする請求項1に記載の計測装置。 - 前記形状データは、前記被検物の形状の設計値を表すデータ、又は、前記2つの表面領域が照明される第2状態で前記撮像部によって生成された第2画像から求めた前記エッジの位置を表すデータを含むことを特徴とする請求項4に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記第1状態において、前記撮像部のフォーカス面に対して前記一方の表面領域が前記他方の表面領域よりも遠くなるように、前記撮像部のフォーカス面を調整することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記撮像部のフォーカス面と前記他方の表面領域とが一致するように、前記撮像部のフォーカス面を調整することを特徴とする請求項6に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記撮像部のフォーカス面において、前記エッジから前記一方の表面領域側に予め定められた距離だけ離れた位置よりも前記一方の表面領域側の領域が照明されるように前記照明系を制御することを特徴とする請求項7に記載の計測装置。
- 前記照明系は、前記被検物を照明する光の強度を空間的に調整する空間光変調器を含み、
前記処理部は、前記第1状態となるように前記空間光変調器を制御することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の計測装置。 - エッジを境界として区別される、高さの異なる2つの表面領域を含む被検物の形状を計測する計測方法であって、
前記2つの表面領域のうちの一方の表面領域が照明され、他方の表面領域が照明されない又は前記一方の表面領域よりも照度が小さくなるように前記他方の表面領域を照明する第1状態で前記被検物を照明する工程と、
前記第1状態で照明された前記被検物で反射された光により形成される前記被検物の像を撮像して画像を生成する工程と、
前記画像に基づいて前記エッジの位置を求める工程と、
を有することを特徴とする計測方法。 - 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の計測装置を用いて被検物の形状を計測する工程と、
前記工程での計測結果に基づいて、前記被検物の形状が所定の形状となるように前記被検物を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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