JP2015162553A - Resin molding device and resin molding method of semiconductor device - Google Patents

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正明 石井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve quality of resin molding of a semiconductor device.SOLUTION: A resin molding device of a semiconductor device comprises: a mold having an upper die and a bottom die; a clamp plate which is provided on the upper die or the bottom die, for clamping the semiconductor device and which is energized by an energizing member in a clamping direction; and one and a plurality of stoppers which are provided on the upper die or the bottom die, for stopping the clamp plate at a predetermined position at the time of clamping.

Description

本発明は、樹脂成形装置、特に、半導体装置の樹脂成形装置に関する。   The present invention relates to a resin molding apparatus, and more particularly to a resin molding apparatus for a semiconductor device.

本発明は、樹脂成形方法、特に、半導体装置の樹脂成形方法に関する。   The present invention relates to a resin molding method, and more particularly to a resin molding method for a semiconductor device.

半導体装置の小型化を実現するため、半導体ウエハ一括樹脂成形による半導体装置の生産が行われている。このような樹脂成形技術の例が、特許文献1−3に記載されている。   In order to realize miniaturization of semiconductor devices, semiconductor devices are produced by semiconductor resin batch resin molding. Examples of such a resin molding technique are described in Patent Documents 1-3.

特許文献1に記載の半導体装置の製造方法では、半導体ウエハ11を第1の金型100にクランプ110で固定し、第2の金型200にフィルム状部材40を配置して所定領域に樹脂50を供給し、第1及び第2の金型を加熱した後に、金型昇降機構により型締めし、金型キャビティ内を減圧するとともに金型キャビティの容積を減少させ、これにより半導体ウエハ11の表面上に封止部を形成する(第6図、段落0074−0096)。   In the method of manufacturing a semiconductor device described in Patent Document 1, a semiconductor wafer 11 is fixed to a first mold 100 with a clamp 110, a film-like member 40 is disposed on a second mold 200, and a resin 50 is placed in a predetermined region. After the first and second molds are heated, the mold is clamped by the mold lifting mechanism, the inside of the mold cavity is decompressed and the volume of the mold cavity is reduced, thereby the surface of the semiconductor wafer 11 A sealing portion is formed thereon (FIG. 6, paragraphs 0074-0096).

特許文献2に記載の半導体ウエハの樹脂被覆方法では、下型キャビティ5内に半導体ウエハ4を設置し、吸着固定手段31で半導体ウエハ4をキャビティ底面に吸着・固定し、半導体ウエハ4のバンプ装着面上に樹脂6を供給して、上下型1,2を型締めする。その後、キャビティ5を真空引きするとともに樹脂を加熱溶融化し、上型1に設けられた押圧部材8によりフィルム7を半導体ウエハ4のバンプ3の先端部に押圧させるとともに、キャビティ5内で半導体ウエハのバンプ装着面を樹脂で被覆する(特許文献2の第1−3図、段落0014)。   In the resin coating method of a semiconductor wafer described in Patent Document 2, the semiconductor wafer 4 is placed in the lower mold cavity 5, the semiconductor wafer 4 is sucked and fixed to the bottom surface of the cavity by the suction fixing means 31, and the semiconductor wafer 4 is mounted with bumps Resin 6 is supplied onto the surface, and upper and lower molds 1 and 2 are clamped. Thereafter, the cavity 5 is evacuated and the resin is heated and melted, and the film 7 is pressed against the tip of the bump 3 of the semiconductor wafer 4 by the pressing member 8 provided on the upper mold 1. The bump mounting surface is covered with resin (FIG. 1-3 of Patent Document 2, paragraph 0014).

特許文献3に記載の半導体ウエハの樹脂被覆方法では、下型キャビティ5の底面に設けられた水平調整手段21により、半導体ウエハ4の厚さの偏りに起因するバンプ装着面の傾斜を修正し、バンプ装着面を水平に調整している(第1−2図、段落0016)。   In the resin coating method for a semiconductor wafer described in Patent Document 3, the inclination of the bump mounting surface due to the uneven thickness of the semiconductor wafer 4 is corrected by the horizontal adjustment means 21 provided on the bottom surface of the lower mold cavity 5, The bump mounting surface is adjusted horizontally (FIGS. 1-2, paragraph 0016).

特開2005−64456号公報JP-A-2005-64456 特開2000−260796号公報JP 2000-260796 A 特開2000−254933号公報JP 2000-254933 A

上述した特許文献1−3の技術には、(1)ウエハクランプ時の半導体ウエハ表面へのダメージが発生する問題、(2)樹脂成形時の未溶解樹脂による半導体ウエハ表面へのダメージが発生する問題、(3)成形品におけるボイドないし樹脂バリが発生する問題、(4)金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきの発生の問題、(5)上下金型が精度よく平行に型締めされないことに起因する、半導体ウエハへのダメージが発生する問題や、半導体ウエハに平行で均等な樹脂成形が出来ない問題等がある。
本発明の目的は、上記問題点を少なくとも一部を改善し、半導体装置の樹脂成形の品質を向上させることにある。
In the techniques of Patent Documents 1 to 3 described above, (1) the problem of damage to the semiconductor wafer surface during wafer clamping occurs, and (2) damage to the semiconductor wafer surface due to undissolved resin during resin molding occurs. Problems, (3) problems of voids or resin burrs in molded products, (4) problems of variations in thickness after molding due to low accuracy of the amount of molding resin supplied to the mold, (5) top and bottom There are problems such as damage to the semiconductor wafer due to the fact that the mold is not clamped in parallel with high accuracy, and the problem that resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor wafer cannot be performed.
An object of the present invention is to improve at least a part of the above problems and to improve the quality of resin molding of a semiconductor device.

本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形装置は、上型及び下型を有する金型と、前記上型又は前記下型に設けられ、半導体装置をクランプするためのクランププレートであり、付勢部材により型締め方向に付勢されるクランププレートと、前記上型又は前記下型に設けられ、型締めの際に前記クランププレートの位置を所定の位置に停止させる1又は複数のストッパと、を備える。ここで、半導体装置は、回路が形成された半導体ウエハ、半導体ウエハから個片化された個々の半導体装置、半導体装置が載置されたサブストレート等を含むものとする。
従来のクランプ方式ではバネ構造のみでストッパーが無く、バネ圧だけの不安定なクランプ状態だったが、本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形装置によれば、付勢部材により型締め方向に付勢されるクランププレートをストッパにより精度良く、所望の位置で停止させることができる。これにより、半導体ウエハ等の半導体装置にクランプにより過剰負荷がかかるのを防止し、半導体装置表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。また、この樹脂成形装置によれば、上下金型が精度よく平行に型締めされるため、平行に型締めされないことに起因する、半導体装置へのダメージや、半導体装置に平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。
A resin molding apparatus for a semiconductor device according to one aspect of the present invention is a mold having an upper mold and a lower mold, and a clamp plate that is provided in the upper mold or the lower mold and clamps the semiconductor device. A clamp plate urged in a mold clamping direction by a biasing member, and one or a plurality of stoppers provided on the upper mold or the lower mold and stopping the position of the clamp plate at a predetermined position during mold clamping, Is provided. Here, the semiconductor device includes a semiconductor wafer on which a circuit is formed, individual semiconductor devices separated from the semiconductor wafer, a substrate on which the semiconductor device is mounted, and the like.
In the conventional clamping method, there was no stopper with only a spring structure and an unstable clamping state only with the spring pressure, but according to the resin molding apparatus for a semiconductor device according to one aspect of the present invention, the clamping direction by the biasing member The clamp plate urged by can be stopped at a desired position with high accuracy by the stopper. As a result, it is possible to prevent an excessive load from being applied to the semiconductor device such as a semiconductor wafer by clamping, and to suppress or prevent damage to the surface of the semiconductor device. Further, according to this resin molding apparatus, the upper and lower molds are accurately clamped in parallel, so that damage to the semiconductor device due to not being clamped in parallel, or resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor device Can solve the problem that can not be.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記ストッパは、高さ及び傾きの微調整が可能な構成とすることができる。例えば、複数のストッパを着脱可能に金型に取り付け、各ストッパを個別に異なる高さのものに変更することにより、高さ及び傾きの微調整が可能である。これにより、型締め時のクランクプレートの傾きを抑制ないし防止することができる。
この樹脂成形装置によれば、ストッパの高さ及び傾きを調整することにより、上下金型を精度よく平行に型締めさせることができる。このため、平行に型締めされないことに起因する、半導体装置へのダメージや、半導体装置に平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, the stopper can be configured to allow fine adjustment of height and inclination. For example, the height and inclination can be finely adjusted by attaching a plurality of stoppers to the mold so as to be detachable and changing each stopper to a different height. Thereby, the inclination of the crank plate at the time of mold clamping can be suppressed or prevented.
According to this resin molding apparatus, the upper and lower molds can be accurately clamped in parallel by adjusting the height and inclination of the stopper. For this reason, it is possible to solve the problem that the semiconductor device is damaged due to the fact that the molds are not clamped in parallel, and the problem that resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor device cannot be performed.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記クランププレート及び前記ストッパにより半導体装置の外周部を均等に押圧する構成とすることができる。
クランププレートが半導体装置の外周部を反対側の金型に均等に押しつけ、半導体装置と金型との隙間を無くすことにより、樹脂が半導体装置の裏側に回り込んで樹脂バリを形成することを抑制ないし防止することができる。
また、クランプ位置でキャビティ内は密閉されるので、さらにキャビティ内を真空引きすれば、より精度よく空気溜まりを抑制ないし防止し、ボイドの発生を防ぐことが可能である。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, the outer peripheral portion of the semiconductor device can be uniformly pressed by the clamp plate and the stopper.
The clamp plate presses the outer periphery of the semiconductor device evenly against the mold on the opposite side, eliminating the gap between the semiconductor device and the mold, thereby preventing the resin from entering the back side of the semiconductor device and forming resin burrs. Or it can be prevented.
Further, since the inside of the cavity is sealed at the clamp position, if the inside of the cavity is further evacuated, it is possible to suppress or prevent air accumulation more accurately and to prevent generation of voids.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記上型及び下型の少なくとも一方を昇降させるプレス機構を更に備え、前記プレス機構は、本体とスライドガイドとを有するムービングプラテンと、前記スライドガイドに挿通し前記ムービングプラテンを上下方向に案内するシャフトとを備え、前記スライドガイドは、前記本体の前記スライドガイド配置部分以外の部分の厚さよりも大きい長さを有する構成とすることができる。
金型昇降を駆動するプレス機構のムービングプラテンの昇降スライドガイド性を向上させ、上下金型間の平行精度を改善することが可能である。これにより、半導体装置の外周部を均等にクランプし半導体装置へダメージを抑制し、且つ樹脂成形工程での溶融樹脂を半導体装置に平行かつ均等に押し広げ、均一な樹脂層を形成する。
The resin molding apparatus of the semiconductor device further includes a press mechanism that raises and lowers at least one of the upper mold and the lower mold, and the press mechanism is inserted into the slide guide through a moving platen having a main body and a slide guide. A shaft for guiding the moving platen in the vertical direction, and the slide guide may have a length larger than a thickness of a portion other than the slide guide arrangement portion of the main body.
It is possible to improve the elevating slide guide property of the moving platen of the press mechanism that drives the raising and lowering of the die, and to improve the parallel accuracy between the upper and lower die. Accordingly, the outer peripheral portion of the semiconductor device is uniformly clamped to prevent damage to the semiconductor device, and the molten resin in the resin molding process is spread evenly and parallel to the semiconductor device to form a uniform resin layer.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記上型及び下型の一方は、上下方向の位置が固定され、他方は上下方向に昇降可能に構成されており、前記半導体装置は、上下方向の位置が固定される型に保持される構成とすることができる。
半導体装置の裏面と金型面を隙間なく均等に適切な圧力で保持するために、昇降しない固定側の金型面に半導体装置の裏面を密着保持することにより、昇降側金型面に半導体装置を保持するより、安価で簡易構造で、かつ確実に半導体装置を密着固定することができる。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, one of the upper mold and the lower mold is configured such that the position in the vertical direction is fixed and the other is configured to be movable up and down in the vertical direction, and the semiconductor device has a position in the vertical direction. It can be set as the structure hold | maintained at the type | mold fixed.
In order to hold the back surface of the semiconductor device and the mold surface uniformly with an appropriate pressure without any gaps, the semiconductor device is held on the ascending / descending mold surface by holding the back surface of the semiconductor device in close contact with the fixed mold surface that does not move up and down. Therefore, the semiconductor device can be securely fixed with a low-cost and simple structure.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型とは異なる型に配置される構成とすることができる。
型締め時に、クランププレートが配置された金型とは反対側の金型に設けられたストッパにより、クランププレートを所望の位置に精度よく停止させることができる。成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体装置に平行に形成できる。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, the stopper may be arranged in a mold different from a mold in which the clamp plate is provided.
During clamping, the clamp plate can be accurately stopped at a desired position by a stopper provided on the mold opposite to the mold on which the clamp plate is disposed. The molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor device with a predetermined thickness.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型に配置される構成とすることができる。
クランクプレート配置金型にストッパを内蔵させることによっても、精度よく一定位置で停止することが出来る。この場合も、成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体装置に平行に形成できる。
In the resin molding apparatus for the semiconductor device, the stopper may be arranged in a mold provided with the clamp plate.
It is also possible to stop at a fixed position with high accuracy by incorporating a stopper in the crank plate placement mold. Also in this case, the molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor device with a predetermined thickness.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂計量部を更に備える構成とすることができる。
樹脂は金型供給前の樹脂計量塗布ステージで半導体装置表面上に樹脂を供給し、その後、樹脂供給された半導体装置を金型内に供給する。このように、予め樹脂を供給した半導体装置を一度の搬送で金型へ供給するので、従来の様に金型に半導体装置を供給後に樹脂を金型へ供給する個別搬送方式に比べ、装置のサイクルタイムを短縮でき、生産性向上につながる。また、樹脂供給が金型開口空間に制約されることがなく、精度よく、また効率よく供給できる効果が有る。
The resin molding apparatus of the semiconductor device may further include a resin metering unit that supplies resin to the semiconductor device before supplying the semiconductor device to a mold.
The resin is supplied onto the surface of the semiconductor device at the resin metering stage before the mold is supplied, and then the semiconductor device supplied with the resin is supplied into the mold. As described above, since the semiconductor device to which the resin has been supplied in advance is supplied to the mold by a single transfer, compared to the individual transfer method in which the resin is supplied to the mold after the semiconductor device is supplied to the mold as in the past, Cycle time can be shortened, leading to improved productivity. In addition, there is an effect that the resin supply is not restricted by the mold opening space and can be supplied accurately and efficiently.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記樹脂計量部は、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂供給機と、半導体装置に樹脂が供給された計量する樹脂計量機と、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量をフィードバック制御する制御部と、を備える構成とすることができる。
この場合、塗布量を計量し、液状樹脂供給機にフィードバックしながら精度よく半導体装置に樹脂を供給することができる。これにより、金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきを抑制ないし防止することができる。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, the resin weighing unit is measured by a resin feeder that supplies resin to the semiconductor device, a resin meter that measures the resin supplied to the semiconductor device, and the resin meter. And a control unit that feedback-controls the supply amount of the resin supply unit according to the value of weight.
In this case, it is possible to accurately supply the resin to the semiconductor device while measuring the coating amount and feeding back to the liquid resin supply machine. Thereby, the dispersion | variation in the thickness dimension after shaping | molding by the low precision of the amount of molding resin supply to a metal mold | die can be suppressed thru | or prevented.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記樹脂は液状樹脂とすることができる。
顆粒状やタブレット状に比較して、液状の成形樹脂を使用することにより、型締めおよび成形時に未溶融樹脂による半導体装置表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。
In the resin molding apparatus for the semiconductor device, the resin may be a liquid resin.
By using a liquid molding resin as compared with a granular shape or a tablet shape, it is possible to suppress or prevent damage to the surface of the semiconductor device due to unmelted resin during mold clamping and molding.

本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形方法は、金型の型締め時に、半導体装置の外周部をクランププレートで押圧するとともに、前記クランププレートをストッパにより所定の位置に停止させる工程と、前記半導体装置を樹脂成形する工程と、を含む。
従来のクランプ方式ではバネ構造のみでストッパーが無く、バネ圧だけの不安定なクランプ状態だったが、本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形装置によれば、付勢部材により型締め方向に付勢されるクランププレートをストッパにより精度良く、所望の位置で停止させることができる。これにより、半導体ウエハ等の半導体装置に過剰負荷がかかるのを防止し、半導体装置表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。また、この樹脂成形装置によれば、上下金型が精度よく平行に型締めされるため、平行に型締めされないことに起因する、半導体装置へのダメージや、半導体装置に平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。
A resin molding method for a semiconductor device according to one aspect of the present invention includes a step of pressing the outer peripheral portion of the semiconductor device with a clamp plate and clamping the clamp plate at a predetermined position with a stopper when the mold is clamped. And a step of resin-molding the semiconductor device.
In the conventional clamping method, there was no stopper with only a spring structure and an unstable clamping state only with the spring pressure, but according to the resin molding apparatus for a semiconductor device according to one aspect of the present invention, the clamping direction by the biasing member The clamp plate urged by can be stopped at a desired position with high accuracy by the stopper. Thereby, it is possible to prevent an excessive load from being applied to a semiconductor device such as a semiconductor wafer, and to suppress or prevent damage to the surface of the semiconductor device. Further, according to this resin molding apparatus, the upper and lower molds are accurately clamped in parallel, so that damage to the semiconductor device due to not being clamped in parallel, or resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor device Can solve the problem that can not be.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記ストッパは、高さ及び傾きを微調整する工程を更に含むようにすることができる。例えば、複数のストッパを着脱可能に金型に取り付け、各ストッパを個別に異なる高さのものに変更することにより、高さ及び傾きの微調整が可能である。これにより、型締め時のクランクプレートの傾きを抑制ないし防止することができる。
この樹脂成形装置によれば、ストッパの高さ及び傾きを調整することにより、上下金型を精度よく平行に型締めさせることができる。このため、平行に型締めされないことに起因する、半導体装置へのダメージや、半導体装置に平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。
また、クランプ位置でキャビティ内は密閉されるので、さらにキャビティ内を真空引きすれば、より精度よく空気溜まりを抑制ないし防止し、ボイドの発生を防ぐことが可能である。
In the resin molding method of the semiconductor device, the stopper may further include a step of finely adjusting a height and an inclination. For example, the height and inclination can be finely adjusted by attaching a plurality of stoppers to the mold so as to be detachable and changing each stopper to a different height. Thereby, the inclination of the crank plate at the time of mold clamping can be suppressed or prevented.
According to this resin molding apparatus, the upper and lower molds can be accurately clamped in parallel by adjusting the height and inclination of the stopper. For this reason, it is possible to solve the problem that the semiconductor device is damaged due to the fact that the molds are not clamped in parallel, and the problem that resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor device cannot be performed.
Further, since the inside of the cavity is sealed at the clamp position, if the inside of the cavity is further evacuated, it is possible to suppress or prevent air accumulation more accurately and to prevent generation of voids.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記クランププレートをストッパにより所定の位置に停止させる工程では、前記クランププレート及び前記ストッパにより半導体装置の外周部を均等に押圧するようにすることができる。
クランププレートが半導体装置の外周部を反対側の金型に均等に押しつけ、半導体装置と金型との隙間を無くすことにより、樹脂が半導体装置の裏側に回り込んで樹脂バリを形成することを抑制ないし防止することができる。
また、クランプ位置でキャビティ内は密閉されるので、さらにキャビティ内を真空引きすれば、より精度よく空気溜まりを抑制ないし防止し、ボイドの発生を防ぐことが可能である。
In the resin molding method of the semiconductor device, in the step of stopping the clamp plate at a predetermined position by a stopper, the outer peripheral portion of the semiconductor device can be uniformly pressed by the clamp plate and the stopper.
The clamp plate presses the outer periphery of the semiconductor device evenly against the mold on the opposite side, eliminating the gap between the semiconductor device and the mold, thereby preventing the resin from entering the back side of the semiconductor device and forming resin burrs. Or it can be prevented.
Further, since the inside of the cavity is sealed at the clamp position, if the inside of the cavity is further evacuated, it is possible to suppress or prevent air accumulation more accurately and to prevent generation of voids.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、プレス機構により前記金型の上型及び下型の少なくとも一方を昇降させる工程を更に含み、この工程では、プレス機構のムービングプラテンを、スライドガイド配置部分以外のムービングプラテン本体の部分よりも厚さよりも大きい長さを有するスライドガイドによって、上下方向に案内させることにより、前記金型の上型及び下型の少なくとも一方を昇降させるようにすることができる。
金型昇降を駆動するプレス機構のムービングプラテンの昇降スライドガイド性を向上させ、上下金型間の平行精度を改善することが可能である。これにより、半導体装置の外周部を均等にクランプし半導体装置へダメージを抑制し、且つ樹脂成形工程での溶融樹脂を半導体装置に平行かつ均等に押し広げ、均一な樹脂層を形成する。
The resin molding method of the semiconductor device further includes a step of raising and lowering at least one of the upper die and the lower die of the mold by a press mechanism. In this step, the moving platen of the press mechanism is moved except for the slide guide arrangement portion. At least one of the upper mold and the lower mold of the mold can be moved up and down by being guided in the vertical direction by a slide guide having a length larger than the thickness of the platen main body.
It is possible to improve the elevating slide guide property of the moving platen of the press mechanism that drives the raising and lowering of the mold, and to improve the parallel accuracy between the upper and lower molds. Accordingly, the outer peripheral portion of the semiconductor device is uniformly clamped to prevent damage to the semiconductor device, and the molten resin in the resin molding process is spread evenly and parallel to the semiconductor device to form a uniform resin layer.

前記半導体装置の樹脂成形方法であって、前記上型及び下型の一方は、上下方向の位置が固定され、他方は上下方向に昇降可能に構成されており、前記半導体装置を、上下方向の位置が固定される型に保持するようにすることができる。
半導体装置の裏面と金型面を隙間なく均等に適切な圧力で保持するために、昇降しない固定側の金型面に半導体装置の裏面を密着保持することにより、昇降側金型面に半導体装置を保持するより、安価で簡易構造で、かつ確実に半導体装置を密着固定することができる。
In the resin molding method for the semiconductor device, one of the upper mold and the lower mold is configured such that a position in the vertical direction is fixed and the other is movable up and down in the vertical direction. The mold can be held in a fixed position.
In order to hold the back surface of the semiconductor device and the mold surface uniformly with an appropriate pressure without any gaps, the semiconductor device is held on the ascending / descending mold surface by holding the back surface of the semiconductor device in close contact with the fixed mold surface that does not move up and down. Therefore, the semiconductor device can be securely fixed with a low-cost and simple structure.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型とは異なる型に配置され、型締め時に、前記異なる型側において前記クランププレートを前記ストッパにより停止させるようにすることができる。
型締め時に、クランププレートが配置された金型とは反対側の金型に設けられたストッパにより、クランププレートを所望の位置に精度よく停止させることができる。成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体装置に平行に形成できる。
In the resin molding method of the semiconductor device, the stopper is disposed in a different mold from the mold in which the clamp plate is provided, and the clamp plate is stopped by the stopper on the different mold side when the mold is clamped. Can do.
During clamping, the clamp plate can be accurately stopped at a desired position by a stopper provided on the mold opposite to the mold on which the clamp plate is disposed. The molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor device with a predetermined thickness.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型に配置され、型締め時に、前記クランププレートが設けられる型においても前記クランププレートを前記ストッパにより停止させるようにすることができる。
クランクプレート配置金型にストッパを内蔵させることによっても、精度よく一定位置で停止することが出来る。この場合も、成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体装置に平行に形成できる。
In the resin molding method of the semiconductor device, the stopper is disposed in a mold provided with the clamp plate, and the clamp plate is stopped by the stopper even in the mold provided with the clamp plate when the mold is clamped. Can do.
It is also possible to stop at a fixed position with high accuracy by incorporating a stopper in the crank plate placement mold. Also in this case, the molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor device with a predetermined thickness.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給するようにすることができる。
樹脂は金型供給前の樹脂計量塗布ステージで半導体装置表面上に樹脂を供給し、その後、樹脂供給された半導体装置を金型内に供給する。このように、予め樹脂を供給した半導体装置を一度の搬送で金型へ供給するので、従来の様に金型に半導体装置を供給後に樹脂を金型へ供給する個別搬送方式に比べ、装置のサイクルタイムを短縮でき、生産性向上につながる。樹脂供給が金型開口空間に制約されることがなく、精度よく、また効率よく供給できる効果が有る。
In the resin molding method of the semiconductor device, the resin can be supplied to the semiconductor device before the semiconductor device is supplied to the mold.
The resin is supplied onto the surface of the semiconductor device at the resin metering stage before the mold is supplied, and then the semiconductor device supplied with the resin is supplied into the mold. As described above, since the semiconductor device to which the resin has been supplied in advance is supplied to the mold by a single transfer, compared to the individual transfer method in which the resin is supplied to the mold after the semiconductor device is supplied to the mold as in the past, Cycle time can be shortened, leading to improved productivity. Resin supply is not restricted by the mold opening space, and there is an effect that the resin can be supplied accurately and efficiently.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記樹脂を供給する工程では、樹脂計量機上に半導体装置を載置した状態で、液状樹脂供給機により樹脂を半導体装置上に供給するとともに、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量を制御するフィードバック制御を行う、半導体装置の樹脂成形方法。
この場合、塗布量を計量し、液状樹脂供給機にフィードバックしながら精度よく半導体装置に樹脂を供給することができる。これにより、金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきを抑制ないし防止することができる。
In the resin molding method of the semiconductor device, in the step of supplying the resin, in a state where the semiconductor device is mounted on the resin weighing machine, the resin is fed onto the semiconductor device by the liquid resin feeding machine, and the resin weighing machine A resin molding method for a semiconductor device, wherein feedback control is performed to control a supply amount of the resin feeder in accordance with a weight value measured in (1).
In this case, it is possible to accurately supply the resin to the semiconductor device while measuring the coating amount and feeding back to the liquid resin supply machine. Thereby, the dispersion | variation in the thickness dimension after shaping | molding by the low precision of the amount of molding resin supply to a metal mold | die can be suppressed thru | or prevented.

前記半導体装置の半導体装置の樹脂成形方法において、前記樹脂は液状樹脂とすることができる。
顆粒状やタブレット状に比較して、液状の成形樹脂を使用することにより、型締めおよび成形時に未溶融樹脂による半導体装置表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。
In the semiconductor device resin molding method of the semiconductor device, the resin may be a liquid resin.
By using a liquid molding resin as compared with a granular shape or a tablet shape, it is possible to suppress or prevent damage to the surface of the semiconductor device due to unmelted resin during mold clamping and molding.

本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形装置は、上型及び下型を有する金型と、半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂計量部を備える。
樹脂は金型供給前の樹脂計量塗布ステージで半導体装置表面上に樹脂を供給し、その後、樹脂供給された半導体装置を金型内に供給する。このように、予め樹脂を供給した半導体装置を一度の搬送で金型へ供給するので、従来の様に金型に半導体装置を供給後に樹脂を金型へ供給する個別搬送方式に比べ、装置のサイクルタイムを短縮でき、生産性向上につながる。
A resin molding apparatus for a semiconductor device according to one aspect of the present invention includes a mold having an upper mold and a lower mold, and a resin weighing unit that supplies resin to the semiconductor apparatus before supplying the semiconductor apparatus to the mold. .
The resin is supplied onto the surface of the semiconductor device at the resin metering stage before the mold is supplied, and then the semiconductor device supplied with the resin is supplied into the mold. As described above, since the semiconductor device to which the resin has been supplied in advance is supplied to the mold by a single transfer, compared to the individual transfer method in which the resin is supplied to the mold after the semiconductor device is supplied to the mold as in the past, Cycle time can be shortened, leading to improved productivity.

前記半導体装置の樹脂成形装置において、前記樹脂計量部は、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂供給機と、樹脂が供給された半導体装置を計量する樹脂計量機と、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量をフィードバック制御する制御部と、を備える構成とすることができる。
この場合、塗布量を計量し、液状樹脂供給機にフィードバックしながら精度よく半導体装置に樹脂を供給することができる。これにより、金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきを抑制ないし防止することができる。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device, the resin measurement unit is measured by the resin supply machine that supplies the resin to the semiconductor device, the resin measurement machine that measures the semiconductor device supplied with the resin, and the resin measurement machine. And a control unit that feedback-controls the supply amount of the resin supply unit according to the value of weight.
In this case, it is possible to accurately supply the resin to the semiconductor device while measuring the coating amount and feeding back to the liquid resin supply machine. Thereby, the dispersion | variation in the thickness dimension after shaping | molding by the low precision of the amount of molding resin supply to a metal mold | die can be suppressed thru | or prevented.

本発明の一側面に係る半導体装置の樹脂成形方法は、半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する工程と、前記樹脂が供給された半導体装置を金型に供給する工程と、前記金型を型締めし、前記半導体装置を樹脂成形する工程と、を含む。
樹脂は金型供給前の樹脂計量塗布ステージで半導体装置表面上に樹脂を供給し、その後、樹脂供給された半導体装置を金型内に供給する。このように、予め樹脂を供給した半導体装置を一度の搬送で金型へ供給するので、従来の様に金型に半導体装置を供給後に樹脂を金型へ供給する個別搬送方式に比べ、装置のサイクルタイムを短縮でき、生産性向上につながる。
According to one aspect of the present invention, there is provided a resin molding method for a semiconductor device, the step of supplying resin to the semiconductor device before supplying the semiconductor device to a mold, and the semiconductor device supplied with the resin to the mold And a step of clamping the mold and resin-molding the semiconductor device.
The resin is supplied onto the surface of the semiconductor device at the resin metering stage before the mold is supplied, and then the semiconductor device supplied with the resin is supplied into the mold. As described above, since the semiconductor device to which the resin has been supplied in advance is supplied to the mold by a single transfer, compared to the individual transfer method in which the resin is supplied to the mold after the semiconductor device is supplied to the mold as in the past, Cycle time can be shortened, leading to improved productivity.

前記半導体装置の樹脂成形方法において、前記樹脂を供給する工程では、樹脂計量機上に半導体装置を載置した状態で、樹脂供給機により樹脂を半導体装置上に供給するとともに、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記液状樹脂供給機の供給量をフィードバックするようにすることができる。
この場合、塗布量を計量し、液状樹脂供給機にフィードバックしながら精度よく半導体装置に樹脂を供給することができる。これにより、金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきを抑制ないし防止することができる。
In the resin molding method of the semiconductor device, in the step of supplying the resin, the resin is supplied to the semiconductor device by the resin feeder while the semiconductor device is placed on the resin meter, and the resin meter The supply amount of the liquid resin feeder can be fed back according to the measured weight value.
In this case, it is possible to accurately supply the resin to the semiconductor device while measuring the coating amount and feeding back to the liquid resin supply machine. Thereby, the dispersion | variation in the thickness dimension after shaping | molding by the low precision of the amount of molding resin supply to a metal mold | die can be suppressed thru | or prevented.

樹脂計量ステージにおける半導体ウエハへの樹脂供給を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows resin supply to the semiconductor wafer in a resin measurement stage. 一実施形態に係る樹脂成形装置の半導体ウエハ搬入時の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view at the time of semiconductor wafer carrying-in of the resin molding apparatus which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る樹脂成形装置の型締め時の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view at the time of the mold clamping of the resin molding apparatus which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る樹脂成形装置のキャビティ容積減少時の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view at the time of cavity volume reduction | decrease of the resin molding apparatus which concerns on one Embodiment. 変形例に係る樹脂成形装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the resin molding apparatus which concerns on a modification. 従来のプレス機構の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the conventional press mechanism. 一実施形態に係るプレス機構の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the press mechanism which concerns on one Embodiment. 半導体ウエハとストッパの位置関係を説明するための樹脂成形装置の横断面図である。It is a cross-sectional view of the resin molding apparatus for demonstrating the positional relationship of a semiconductor wafer and a stopper.

以下、本発明の実施形態に係る樹脂成形装置及び樹脂成形方法を、図面を参照して説明する。本明細書において、半導体装置は、回路が形成された半導体ウエハ、半導体ウエハから個片化された個々の半導体装置、半導体装置が載置されたサブストレート等を含むものとする。なお、以下の説明では、半導体ウエハを例に挙げるが、個々の半導体装置、サブストレート等にも同様に本発明を適用可能である。   Hereinafter, a resin molding apparatus and a resin molding method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this specification, the semiconductor device includes a semiconductor wafer on which a circuit is formed, individual semiconductor devices separated from the semiconductor wafer, a substrate on which the semiconductor device is mounted, and the like. In the following description, a semiconductor wafer is taken as an example, but the present invention can be similarly applied to individual semiconductor devices, substrates and the like.

図1は、樹脂計量ステージ(樹脂計量部)における半導体ウエハ1への樹脂供給を示す図である。樹脂計量ステージは、樹脂成形装置において金型プレス機とは別に設けられる。樹脂計量ステージは、金型プレス機と同一のシステム内に配置されても、別のシステム内に配置されても良い。
本実施形態では、半導体ウエハ1への樹脂供給は、半導体ウエハ1を金型104に供給する前に行う。樹脂計量ステージは、液状樹脂供給機102と、樹脂計量機103とを備える。液状樹脂供給機102は、ディスペンサー等の液状樹脂の供給装置である。樹脂計量機103は、半導体ウエハ1を載置する載置部を有し、液状樹脂供給前及び供給開始後の半導体ウエハ1の重量を測定し、両者を比較して樹脂の重量(塗布量)を算出する。算出された樹脂の重量は、図示しない制御部に送信される。制御部は、液状樹脂供給機102に内蔵することも、別途設けることも可能である。制御部は、樹脂計量機103から出力される樹脂の重量を受け取り、これに基づいて、予め設定された樹脂量が半導体ウエハ1に供給されるように、液状樹脂供給機102の吐出量をフィードバック制御する。
FIG. 1 is a diagram showing resin supply to a semiconductor wafer 1 in a resin weighing stage (resin weighing unit). The resin metering stage is provided separately from the die press machine in the resin molding apparatus. The resin weighing stage may be arranged in the same system as the mold press machine or may be arranged in another system.
In the present embodiment, the resin supply to the semiconductor wafer 1 is performed before the semiconductor wafer 1 is supplied to the mold 104. The resin weighing stage includes a liquid resin supply machine 102 and a resin weighing machine 103. The liquid resin supply machine 102 is a liquid resin supply device such as a dispenser. The resin weighing machine 103 has a mounting portion for mounting the semiconductor wafer 1, measures the weight of the semiconductor wafer 1 before and after the liquid resin is supplied, and compares the two to compare the weight of the resin (amount of application). Is calculated. The calculated resin weight is transmitted to a control unit (not shown). The control unit can be built in the liquid resin feeder 102 or can be provided separately. The control unit receives the weight of the resin output from the resin weighing machine 103, and feeds back the discharge amount of the liquid resin supply machine 102 so that a preset resin amount is supplied to the semiconductor wafer 1 based on the weight. Control.

半導体ウエハ1に所定量の樹脂を供給後、半導体ウエハ1を搬送ロボット101により樹脂計量ステージから搬出し、図2に示すように、上下180度反転させ、金型104に搬入する。   After supplying a predetermined amount of resin to the semiconductor wafer 1, the semiconductor wafer 1 is unloaded from the resin weighing stage by the transfer robot 101, inverted 180 degrees up and down, and loaded into the mold 104 as shown in FIG.

図2乃至図4は、一実施形態に係る樹脂成形装置の縦断面図を示し、図2は半導体ウエハ搬入時の縦断面図、図3は型締め時の縦断面図、図4はキャビティ容積縮小時の縦断面図を示す。図2乃至図4に示すように、本実施形態に係る樹脂成形装置は、上金型105及び下金型106を有する金型104と、下金型106に第1バネ108により型締め方向に付勢されて設けられたクランププレート107と、上金型105においてキャビティ113を囲むように複数設けられた上部ストッパ112と、を備えている。また、上部ストッパ112の内側で上金型105には、第2バネ111により型締め方向に付勢される上型ホルダ110が設けられている。また、上金型105において、上型ホルダ110の内側には、ウエハ受け109が配置されている。   2 to 4 are longitudinal sectional views of a resin molding apparatus according to an embodiment, FIG. 2 is a longitudinal sectional view when a semiconductor wafer is carried in, FIG. 3 is a longitudinal sectional view when a mold is clamped, and FIG. 4 is a cavity volume. The longitudinal cross-sectional view at the time of reduction is shown. As shown in FIGS. 2 to 4, the resin molding apparatus according to the present embodiment includes a mold 104 having an upper mold 105 and a lower mold 106, and a lower mold 106 in a mold clamping direction by a first spring 108. A clamp plate 107 that is urged and a plurality of upper stoppers 112 that surround the cavity 113 in the upper mold 105 are provided. An upper mold holder 110 that is urged in the mold clamping direction by the second spring 111 is provided in the upper mold 105 inside the upper stopper 112. In the upper mold 105, a wafer receiver 109 is disposed inside the upper mold holder 110.

クランププレート107は、キャビティ113の外周を取り囲むように環状に配置されており、キャビティ113側に環状突起部107aを有している。この環状突起部107aは、型締め時に半導体ウエハ1の裏面に接触し、半導体ウエハ1をクランプするものであり、半導体ウエハ1の外周部の略全周にわたって設けられている。なお、半導体ウエハ1の外周部を実質的に均等に押圧できる範囲であれば、環状突起部107aの一部を省略した構成としても良い。つまり、環状突起部107aの一部が連続しておらず、当該部分で半導体ウエハ1に接触しないような構成でも良い。クランププレート107の下方にはクランププレート107と下金型106との間において、第1バネ108がクランププレート107を型締め方向に付勢するように設置されている。   The clamp plate 107 is arranged in an annular shape so as to surround the outer periphery of the cavity 113, and has an annular protrusion 107 a on the cavity 113 side. The annular protrusion 107 a comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 1 during clamping and clamps the semiconductor wafer 1, and is provided over substantially the entire outer periphery of the semiconductor wafer 1. Note that a part of the annular protrusion 107a may be omitted as long as the outer peripheral portion of the semiconductor wafer 1 can be pressed substantially uniformly. That is, a configuration may be employed in which a part of the annular protrusion 107a is not continuous and does not contact the semiconductor wafer 1 at that part. A first spring 108 is installed below the clamp plate 107 between the clamp plate 107 and the lower mold 106 so as to urge the clamp plate 107 in the mold clamping direction.

図8は、半導体ウエハ1とストッパの位置関係を説明するための樹脂成形装置の横断面図である。図示されるように、上部ストッパ112は、半導体ウエハ1の外周を取り囲むように均等な間隔で8本配置されている。各上部ストッパ112は、上金型105に着脱可能に取り付けられる。上部ストッパー112は、高さの異なるものを複数用意しておき、高さの異なる上部ストパー112に置き換えることで、上部ストッパー112の高さを変更可能である。また、複数の上部ストッパー112のうち一部を、微小に高さの異なるものに置き換えて上部ストッパー112の高さや傾き等の微調整が可能である。例えば、図2において、型締め時の上金型105と下金型106との間隔が紙面右側よりも紙面左側の方が広くなる場合(下金型106が、紙面左側が右側よりも下になるように傾く場合)には、紙面右側の上部ストッパ112の高さをより高いものに取り換えることにより、型締め時のクランププレートの傾きを調整することができる。   FIG. 8 is a cross-sectional view of the resin molding apparatus for explaining the positional relationship between the semiconductor wafer 1 and the stopper. As shown in the drawing, eight upper stoppers 112 are arranged at equal intervals so as to surround the outer periphery of the semiconductor wafer 1. Each upper stopper 112 is detachably attached to the upper mold 105. By preparing a plurality of upper stoppers 112 having different heights and replacing them with the upper stoppers 112 having different heights, the height of the upper stopper 112 can be changed. Further, it is possible to finely adjust the height, inclination, etc. of the upper stopper 112 by replacing a part of the plurality of upper stoppers 112 with those slightly different in height. For example, in FIG. 2, when the distance between the upper mold 105 and the lower mold 106 at the time of clamping is wider on the left side of the paper than on the right side of the paper (the lower mold 106 has the left side of the paper below the right side). In the case of tilting in such a manner, the tilt of the clamp plate at the time of clamping can be adjusted by replacing the upper stopper 112 on the right side of the paper with a higher height.

上型ホルダ110は、上部ストッパ112の内側で上金型105に設けられている。上型ホルダ110と上金型105との間には、第2バネ111が上型ホルダー110を型締め方向に付勢するように配置されている。上型ホルダ110の下面には、Oリング等のシール部材が取り付けられており、型締め時には、図3に示すように、上型ホルダー110は、クランププレート107に密着し、キャビティ113を密閉する。   The upper mold holder 110 is provided on the upper mold 105 inside the upper stopper 112. A second spring 111 is arranged between the upper mold holder 110 and the upper mold 105 so as to urge the upper mold holder 110 in the mold clamping direction. A seal member such as an O-ring is attached to the lower surface of the upper mold holder 110. When the mold is clamped, the upper mold holder 110 is in close contact with the clamp plate 107 and hermetically seals the cavity 113 as shown in FIG. .

ウエハ受け109は、上金型105において、上型ホルダ110の内側に配置されている。ウエハ受け109は、図2に示すように、ウエハ搬送ロボット101から半導体ウエハ1を受け取り、保持するための機構である。ウエハ受け109は、半導体ウエハ1の回路2形成面の外周部で回路2が形成されていない部分を保持し、キャビティ113とは反対側(型締め方向とは逆方向)に移動し、半導体ウエハ1裏面を上金型105表面に仮に押圧保持する(図3の状態を参照)。なお、このとき、半導体ウエハ1の上金型105への保持は空気吸引によりウエハ1裏面を上金型105表面へ真空吸着してもよい。   The wafer receiver 109 is disposed inside the upper mold holder 110 in the upper mold 105. The wafer receiver 109 is a mechanism for receiving and holding the semiconductor wafer 1 from the wafer transfer robot 101 as shown in FIG. The wafer receiver 109 holds the portion of the semiconductor wafer 1 where the circuit 2 is not formed on the outer periphery of the circuit 2 formation surface, and moves to the side opposite to the cavity 113 (the direction opposite to the mold clamping direction). 1 Temporarily press and hold the back surface of the upper mold 105 (see the state of FIG. 3). At this time, the semiconductor wafer 1 may be held on the upper mold 105 by vacuum suction of the back surface of the wafer 1 to the upper mold 105 surface by air suction.

以下、図1から図4を参照しつつ、本実施形態に係る半導体装置の樹脂形成方法を説明する。   Hereinafter, the resin forming method of the semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4.

1.成形樹脂計量および供給工程(図1)
本実施形態では、半導体ウエハ1への樹脂供給は、半導体ウエハ1を金型104に設置する前に行う。樹脂供給は、半導体ウエハの金型への供給前の樹脂計量ステージ(図1)において行われる。図1に示すように、突起電極や配線等の回路2が形成された側の半導体ウエハ1の表面を上にした状態で半導体ウエハ1を樹脂計量ステージの樹脂計量機103に設置する。そして、予め設定された供給量の液状樹脂3を半導体ウエハ1の回路2形成面に供給し、塗布粘着等で保持する。液状樹脂3の供給は、例えばディスペンサー等の液状樹脂供給機102で行うことができる。樹脂供給量の設定は、液状樹脂供給機102の吐出量の設定で行う。半導体ウエハ1を樹脂計量機103に載せて計量しながら樹脂を塗布し、実際の塗布量の情報を液状樹脂供給機102の制御部にフィードバックしながら液状樹脂供給機102の吐出量を自動で微調整する。
1. Molding resin measurement and supply process (Fig. 1)
In the present embodiment, the resin supply to the semiconductor wafer 1 is performed before the semiconductor wafer 1 is placed on the mold 104. The resin is supplied at a resin weighing stage (FIG. 1) before the semiconductor wafer is supplied to the mold. As shown in FIG. 1, the semiconductor wafer 1 is placed on a resin weighing machine 103 of the resin weighing stage with the surface of the semiconductor wafer 1 on the side where the circuit 2 such as the protruding electrodes and wirings is formed facing up. Then, a preset supply amount of the liquid resin 3 is supplied to the surface of the semiconductor wafer 1 where the circuit 2 is formed, and is held by coating adhesive or the like. The supply of the liquid resin 3 can be performed by a liquid resin supply machine 102 such as a dispenser, for example. The resin supply amount is set by setting the discharge amount of the liquid resin supply machine 102. The semiconductor wafer 1 is placed on the resin weighing machine 103, and the resin is applied while weighing. The discharge amount of the liquid resin supply machine 102 is automatically finely adjusted while feeding back the actual application quantity information to the control unit of the liquid resin supply machine 102. adjust.

液状樹脂3の粘度は、塗布後のウエハ1の搬送に支障のない程度に高粘度のものを使用する。ここでは、液状樹脂を使用したが、成形用樹脂はシート状樹脂などでもよい。ウエハ1の表面への成形用樹脂の保持は塗布粘着のほか、保持器による保持でもよい。保持器として、例えば短冊状のフィルムを採用し、短冊状のフィルムでウエハ上の塗布樹脂を覆う。その後、ウエハ1を金型104に搬送後、短冊状のフィルムはそのままの状態で樹脂成形し、樹脂成型後に短冊状のフィルムを離形用に使用する。この場合、短冊状のフィルムを樹脂の保持と離方用の両方の用途に兼用でき、別途離型用のフィルム(図2中のフィルム4)を設ける必要がない。   The viscosity of the liquid resin 3 is so high that it does not hinder the conveyance of the wafer 1 after coating. Although a liquid resin is used here, the molding resin may be a sheet-like resin. The holding of the molding resin on the surface of the wafer 1 may be held by a cage in addition to coating adhesion. As the cage, for example, a strip-shaped film is adopted, and the coating resin on the wafer is covered with the strip-shaped film. Thereafter, after the wafer 1 is conveyed to the mold 104, the strip-shaped film is resin-molded as it is, and the strip-shaped film is used for releasing after the resin molding. In this case, the strip-shaped film can be used for both holding and releasing of the resin, and there is no need to provide a separate release film (film 4 in FIG. 2).

本実施形態では、樹脂供給はウエハ1の金型供給前にウエハ1表面に塗布するので、金型への設置後にウエハに樹脂供給する場合のように樹脂供給が金型開口空間に制約されることがなく、精度よく、また効率よく供給できる効果が有る。   In this embodiment, since the resin supply is applied to the surface of the wafer 1 before supplying the mold of the wafer 1, the resin supply is restricted to the mold opening space as in the case of supplying the resin to the wafer after being installed on the mold. There is an effect that can be supplied accurately and efficiently.

2.樹脂供給済みウエハの金型供給工程(図2)
液状樹脂3を塗布粘着したウエハ1の反対側の面(裏面)を、図1に示すように、搬送機、例えば真空吸着式のウエハ搬送ロボット101で保持し、図2に示すように、ウエハ1の回路2形成/樹脂塗布面を成形キャビティ113側となるように、ウエハ1を上下180度回転し、ウエハ1裏面が上となる姿勢で金型104に搬送し、上金型105に内蔵するウエハ受け109に設置する。
2. Mold supply process for resin-supplied wafer (Figure 2)
The opposite surface (back surface) of the wafer 1 coated and adhered with the liquid resin 3 is held by a transfer machine, for example, a vacuum suction type wafer transfer robot 101, as shown in FIG. 1, and the wafer as shown in FIG. The wafer 1 is rotated up and down 180 degrees so that the circuit 2 formation / resin application surface of 1 is on the molding cavity 113 side, and is transferred to the mold 104 with the back surface of the wafer 1 facing up, and is built in the upper mold 105 Is placed on the wafer receiver 109.

ウエハ受け109は、図2に示すように、半導体ウエハ1の回路2形成面の外周部で回路2が形成されていない部分を保持する。ウエハ受け109をキャビティ113とは反対側に移動し、ウエハ1裏面を上金型105表面に仮に押圧保持する(図3の状態を参照)。このとき、ウエハ1の上金型105への保持は空気吸引によりウエハ1裏面を上金型105表面へ真空吸着してもよい。   As shown in FIG. 2, the wafer receiver 109 holds a portion where the circuit 2 is not formed on the outer periphery of the circuit 2 formation surface of the semiconductor wafer 1. The wafer receiver 109 is moved to the side opposite to the cavity 113, and the back surface of the wafer 1 is temporarily pressed and held on the surface of the upper mold 105 (see the state of FIG. 3). At this time, the wafer 1 may be held on the upper mold 105 by vacuum suction of the back surface of the wafer 1 to the upper mold 105 surface by air suction.

このような半導体ウエハの金型供給方法によれば、ウエハ1と液状樹脂3を一度の動作で金型104に供給できるので、成形サイクル時間短縮と装置構造の合理化ないし簡略化を実現できる効果が有る。   According to such a semiconductor wafer mold supply method, the wafer 1 and the liquid resin 3 can be supplied to the mold 104 by a single operation, so that the effect of shortening the molding cycle time and rationalizing or simplifying the apparatus structure can be realized. Yes.

3.フィルムの張設工程(図2)
また、下金型106に構成されるキャビティ113上に、図2に示すように、フィルム4を張設する。
3. Film tensioning process (Figure 2)
Further, the film 4 is stretched on the cavity 113 formed in the lower mold 106 as shown in FIG.

4.型締め、ウエハクランプ工程(図3)
図示しない空気吸引孔によりフィルム4を空気吸引し、キャビティ113に密着させる。その後、図7において後述するプレス機構により、下金型106を上昇させて金型104を閉じ、下金型106に構成されるクランププレート107とバネ1108による押圧機構により、クランププレート107の環状突起部107aは、ウエハ1の回路2形成面の外周部(回路形成の範囲外)でかつウエハ受け109に干渉しない箇所を押圧する。この構成により、ウエハ1はキャビティ113下面と精度よく平行な状態で上金型105に押圧保持される。この時、上金型105に構成される上型ホルダー110と第2バネ111による押圧機構で上金型105と下金型106を精度よく平行に、且つ隙間なく密閉したキャビティ113を形成させる。
なお、ここでは、上金型105の位置を固定し、下金型106を上昇させて金型104を閉じる場合を説明したが、下金型106の位置を固定し、上金型105を下降させて金型104を閉じるようにしても良い。
4). Clamping and wafer clamping process (Figure 3)
The film 4 is sucked into air through an air suction hole (not shown) and is brought into close contact with the cavity 113. After that, the lower mold 106 is raised by the press mechanism described later in FIG. 7 to close the mold 104, and the annular protrusion of the clamp plate 107 is pressed by the clamp mechanism 107 and the spring 1108 formed in the lower mold 106. The portion 107 a presses a portion that does not interfere with the wafer receiver 109 on the outer peripheral portion (outside the range of circuit formation) of the circuit 2 formation surface of the wafer 1. With this configuration, the wafer 1 is pressed and held by the upper mold 105 in a state of being accurately parallel to the lower surface of the cavity 113. At this time, a cavity 113 in which the upper mold 105 and the lower mold 106 are sealed in parallel with high accuracy without gap is formed by a pressing mechanism using the upper mold holder 110 and the second spring 111 configured in the upper mold 105.
Here, the case where the position of the upper mold 105 is fixed and the lower mold 106 is raised to close the mold 104 has been described, but the position of the lower mold 106 is fixed and the upper mold 105 is lowered. Then, the mold 104 may be closed.

また、下金型106のクランププレート107は、上金型105のストッパー上112で停止され、設定値以上はウエハ1をクランプしない、つまり押圧しない。これは、過剰に型締めしてウエハ1にダメージを与えない効果が有る。   Further, the clamp plate 107 of the lower mold 106 is stopped on the stopper 112 of the upper mold 105, and the wafer 1 is not clamped, that is, not pressed beyond the set value. This has an effect of not damaging the wafer 1 by excessive clamping.

このとき、クランププレート107は、環状突起部107aでウエハ1の全周に亘って半導体ウエハ1の裏面をクランプする。また、クランププレート107の環状突起部107aでウエハ1の外周部を全周にわたり適正均等に押圧するのでウエハ1裏面への樹脂漏れを防ぐ効果が有る。なお、ウエハ1の外周部を実質的に均等に押圧できる範囲であれば、環状突起部107aの一部を省略した構成をとっても良い。つまり、環状突起部107aの一部が連続しておらず、当該部分で半導体ウエハ1に接触しないような構成でも良い。   At this time, the clamp plate 107 clamps the back surface of the semiconductor wafer 1 over the entire circumference of the wafer 1 by the annular protrusion 107a. Further, since the annular protrusion 107a of the clamp plate 107 presses the outer periphery of the wafer 1 properly and evenly over the entire periphery, there is an effect of preventing resin leakage to the back surface of the wafer 1. In addition, as long as the outer peripheral part of the wafer 1 can be pressed substantially uniformly, a configuration in which a part of the annular protrusion 107a is omitted may be employed. That is, a configuration may be employed in which a part of the annular protrusion 107a is not continuous and does not contact the semiconductor wafer 1 at that part.

なお、上部ストッパー112は、図8に示すように、ウエハ1の外側でウエハ1を囲むように円周上に複数(図8では8本)が配置されており、各上部ストッパー112は着脱可能に構成されている。上部ストッパー112は、高さの異なるものを複数用意しておき、高さの異なる上部ストパー112に置き換えることで、上部ストッパー112の高さを変更可能である。また、各上部ストッパ112を個別に微小に異なる高さのものに置き換えることが可能であるので、複数の上部ストッパー112のうち一部を、微小に高さの異なるものに置き換えて上部ストッパー112の高さや傾き等の微調整が可能である。   As shown in FIG. 8, a plurality of upper stoppers 112 (eight in FIG. 8) are arranged on the circumference so as to surround the wafer 1 outside the wafer 1, and each upper stopper 112 is detachable. It is configured. By preparing a plurality of upper stoppers 112 having different heights and replacing them with the upper stoppers 112 having different heights, the height of the upper stopper 112 can be changed. In addition, since each upper stopper 112 can be individually replaced with one having a slightly different height, a part of the plurality of upper stoppers 112 is replaced with one having a slightly different height so that the upper stopper 112 can be replaced. Fine adjustments such as height and inclination are possible.

キャビティ113は、図示しない真空引き機構によって空気吸引することにより、所定の真空状態とすることができる。これはボイドを防止する効果が有る。   The cavity 113 can be brought into a predetermined vacuum state by sucking air with a vacuum drawing mechanism (not shown). This has the effect of preventing voids.

5.樹脂成形工程
図3において、金型104を型締めし、半導体ウエハ1をクランプした後、金型104を加熱し、液状樹脂3を溶融化し始める。型締めに伴い精度よく平行に閉じる上金型105と下金型106で形成されるキャビティ113により、溶融した液状樹脂3は押圧されキャビティ113内に均等に広がっていく。また樹脂は液状でかつ溶融しているのでウエハ1の表面や回路2へのダメージを抑制ないし防止する効果が有る。
5. Resin Molding Step In FIG. 3, after the mold 104 is clamped and the semiconductor wafer 1 is clamped, the mold 104 is heated to start melting the liquid resin 3. As the mold is clamped, the molten liquid resin 3 is pressed and spread evenly in the cavity 113 by the cavity 113 formed by the upper mold 105 and the lower mold 106 which are accurately closed in parallel. Further, since the resin is liquid and melted, it has an effect of suppressing or preventing damage to the surface of the wafer 1 and the circuit 2.

その後、図4に示すように、下金型106を更に上昇させてキャビティ113の容積を減少させ、所定の成形厚み位置で、樹脂が硬化して成形完了するまで保持する。   Thereafter, as shown in FIG. 4, the lower mold 106 is further raised to reduce the volume of the cavity 113, and is held at a predetermined molding thickness position until the resin is cured and molding is completed.

なお、他の方法として、図5に示すように、下金型106のクランププレート107の下方に下部ストッパー114を更に配置し、型締めの際に、下金型106に内蔵する下部ストッパー114をクランププレート107の裏面に接触させ精度よく一定位置で停止させ、所定の成形厚み位置で成形完了まで保持してもよい。この時、成形樹脂が精度よく所定の厚みでウエハ1に平行に形成できる。下部ストッパー114は、上述した上部ストッパ112と同様に、高さや傾き等の微調整が可能である。
なお、図5では、上部ストッパ112に加えて下部ストパ114を設ける構成を例示したが、上部ストッパ112を省略し、上部ストッパー112の代わりに下部ストッパー114を設ける構成としてもよい。この場合も、型締めの際に、下部ストッパー114がクランププレート107に接触して精度よく一定位置で停止させ、所定の成形厚み位置で成形完了まで保持することができ、成形樹脂が精度よく所定の厚みでウエハ1に平行に形成できる。
As another method, as shown in FIG. 5, a lower stopper 114 is further disposed below the clamp plate 107 of the lower mold 106, and the lower stopper 114 built in the lower mold 106 is fixed at the time of clamping. It may be brought into contact with the back surface of the clamp plate 107 and stopped at a certain position with high accuracy, and held at a predetermined molding thickness position until the molding is completed. At this time, the molding resin can be accurately formed in parallel with the wafer 1 with a predetermined thickness. As with the upper stopper 112 described above, the lower stopper 114 can be finely adjusted such as height and inclination.
5 illustrates the configuration in which the lower stopper 114 is provided in addition to the upper stopper 112, the upper stopper 112 may be omitted, and the lower stopper 114 may be provided instead of the upper stopper 112. Also in this case, when the mold is clamped, the lower stopper 114 comes into contact with the clamp plate 107 and can be accurately stopped at a certain position, and can be held at a predetermined molding thickness position until the molding is completed. Can be formed in parallel with the wafer 1.

6.成形ウエハの取出し工程
成形完了後、金型104を開き、成形されたウエハ1を離形し取り出す。
6). Molded wafer removal step After the molding is completed, the mold 104 is opened, and the molded wafer 1 is released and removed.

7.金型の平行精度改善(図6、図7)
図6は、従来のプレス機構の縦断面図であり、図7は、本発明の一実施形態に係るプレス機構の縦断面図である。従来、成形プレスの金型昇降ガイドは図6に示す様に、ムービングプラテン201Aが内蔵するスライドガイド202Aによって軸(シャフト)203と平行に保持されて上下運動する。しかし、実際にはプレス機構200の精度や金型構造、型締め締結力のバランスなどの影響により上金型105と下金型106の平行度の精度低下が起こり、金型104が傾いた状態で締結、成形され、結果的に樹脂漏れなどの原因となることがあった。そこで、本実施形態では、図7の紙面右側に示すムービングプラテン201Bが内蔵するスライドガイド202Bのように、軸203に対するガイド(案内部)を長く取ることにより、ガイド性を向上させ、金型104の平行精度を維持する。つまり、ムービングプラテン本体のスライドガイド202Bを配置する部分以外の厚さよりも大きい長さのスライドガイド202Bを設ける。これより、ウエハ外周を均等にクランプしウエハ1へのダメージを抑制ないし防止し、樹脂成形工程での溶融樹脂をウエハに平行かつ均等に押し広げ、均一な樹脂層を形成し、樹脂漏れ、バリの発生を防止することができる。
7). Improving mold parallel accuracy (Figs. 6 and 7)
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a conventional pressing mechanism, and FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a pressing mechanism according to an embodiment of the present invention. Conventionally, as shown in FIG. 6, a mold lifting guide of a molding press moves up and down while being held in parallel with a shaft (shaft) 203 by a slide guide 202A built in a moving platen 201A. However, in reality, the accuracy of the parallelism between the upper mold 105 and the lower mold 106 is reduced due to the accuracy of the press mechanism 200, the mold structure, the balance of the clamping fastening force, and the like, and the mold 104 is tilted. It was fastened and molded at the end, resulting in resin leakage. Therefore, in the present embodiment, the guide property is improved by taking a long guide (guide portion) with respect to the shaft 203 like a slide guide 202B built in the moving platen 201B shown on the right side of FIG. Maintain parallel accuracy. That is, the slide guide 202B having a length larger than the thickness of the moving platen main body other than the portion where the slide guide 202B is disposed is provided. As a result, the outer periphery of the wafer is clamped evenly to suppress or prevent damage to the wafer 1, and the molten resin in the resin molding process is spread evenly and parallel to the wafer to form a uniform resin layer. Can be prevented.

なお、図7の左側に示すスライドガイド202Cの様にガイドを複数に分割してもよい。   In addition, you may divide | segment a guide into plurality like the slide guide 202C shown on the left side of FIG.

また、図7では、説明の都合上、スライドガイド202Bとスライドガイド202Cとを同一図面に記載しているが、一体のスライドガイド202Bのみを設ける構成、分割したスライドガイド202Cを設ける構成、図7のように両者を混在させる構成の何れを採用してもよい。   In FIG. 7, the slide guide 202B and the slide guide 202C are shown in the same drawing for convenience of explanation. However, only the integral slide guide 202B is provided, the divided slide guide 202C is provided, and FIG. Any of the configurations in which both are mixed may be adopted.

上記実施形態によれば、第1バネ108により型締め方向に付勢されるクランププレート107をストッパ112により精度良く、所望の位置で停止させることができる。これにより、半導体ウエハ1にクランプにより過剰負荷がかかるのを防止し、半導体ウエハ1表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。また、この樹脂成形装置によれば、上下金型が精度よく平行に型締めされるため、平行に型締めされないことに起因する、半導体ウエハ1へのダメージや、半導体ウエハ1に平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。   According to the embodiment, the clamp plate 107 urged in the mold clamping direction by the first spring 108 can be stopped at a desired position with high accuracy by the stopper 112. Thereby, it is possible to prevent an excessive load from being applied to the semiconductor wafer 1 by clamping, and to suppress or prevent damage to the surface of the semiconductor wafer 1. Further, according to this resin molding apparatus, since the upper and lower molds are clamped in parallel with high accuracy, damage to the semiconductor wafer 1 resulting from the fact that the molds are not clamped in parallel, or parallel to the semiconductor wafer 1 and even The problem that resin molding cannot be performed can be solved.

上記実施形態によれば、複数のストッパ112又は114を着脱可能に金型104に取り付け、各ストッパ112又は114を個別に異なる高さのものに変更することにより、高さ及び傾きの微調整が可能である。これにより、型締め時のクランクプレート107の傾きを抑制ないし防止することができる。
また、この樹脂成形装置によれば、ストッパ112又は114の高さ及び傾きを調整することにより、上下金型を精度よく平行に型締めさせることができる。このため、平行に型締めされないことに起因する、半導体ウエハへのダメージや、半導体ウエハに平行で均等な樹脂成形が出来ない問題を解決することができる。
According to the above-described embodiment, a plurality of stoppers 112 or 114 are detachably attached to the mold 104, and each stopper 112 or 114 is individually changed to a different height so that the height and inclination can be finely adjusted. Is possible. Thereby, the inclination of the crank plate 107 during mold clamping can be suppressed or prevented.
Moreover, according to this resin molding apparatus, the upper and lower molds can be clamped in parallel with high accuracy by adjusting the height and inclination of the stopper 112 or 114. For this reason, it is possible to solve the problem of damage to the semiconductor wafer caused by not being clamped in parallel, and the problem that resin molding that is parallel and uniform to the semiconductor wafer cannot be performed.

上記実施形態によれば、クランププレート107が半導体ウエハ1の外周部を反対側の金型に均等に押しつけ、半導体ウエハと金型との隙間を無くすことにより、樹脂が半導体ウエハの裏側に回り込んで樹脂バリを形成することを抑制ないし防止することができる。
また、クランプ位置でキャビティ113内は密閉されるので、さらにキャビティ内を真空引きすれば、より精度よく空気溜まりを抑制ないし防止し、ボイドの発生を防ぐことが可能である。
According to the above embodiment, the clamp plate 107 uniformly presses the outer periphery of the semiconductor wafer 1 against the mold on the opposite side, eliminating the gap between the semiconductor wafer and the mold, so that the resin wraps around the back side of the semiconductor wafer. It is possible to suppress or prevent the formation of resin burrs.
Further, since the cavity 113 is hermetically sealed at the clamp position, if the inside of the cavity is further evacuated, it is possible to suppress or prevent air accumulation more accurately and to prevent generation of voids.

上記実施形態によれば、金型昇降を駆動するプレス機構200のムービングプラテン201B、201Cの昇降スライドガイド性を向上させ、上下金型間の平行精度を改善することが可能である。これにより、半導体ウエハ1の外周部を均等にクランプし半導体ウエハへダメージを抑制し、且つ樹脂成形工程での溶融樹脂を半導体ウエハに平行かつ均等に押し広げ、均一な樹脂層を形成する。   According to the embodiment, it is possible to improve the elevating slide guide property of the moving platens 201B and 201C of the press mechanism 200 that drives the raising and lowering of the mold, and to improve the parallel accuracy between the upper and lower molds. Thereby, the outer peripheral part of the semiconductor wafer 1 is clamped uniformly, damage to the semiconductor wafer is suppressed, and the molten resin in the resin molding process is spread evenly and parallel to the semiconductor wafer to form a uniform resin layer.

上記実施形態によれば、半導体ウエハ1の裏面と金型面を隙間なく均等に適切な圧力で保持するために、昇降しない固定側の金型面に半導体ウエハの裏面を密着保持することにより、昇降側金型面に半導体ウエハを保持するより、安価で簡易構造で、かつ確実に半導体ウエハを密着固定することができる。   According to the above-described embodiment, in order to hold the back surface of the semiconductor wafer 1 and the mold surface uniformly with appropriate pressure without gaps, the back surface of the semiconductor wafer is held in close contact with the fixed mold surface that does not move up and down. Rather than holding the semiconductor wafer on the ascending / descending side mold surface, the semiconductor wafer can be securely fixed with a low cost and simple structure.

上記実施形態によれば、型締め時に、クランププレート107が配置された金型106とは反対側の金型105に設けられたストッパ112により、クランププレート107を所望の位置に精度よく停止させることができる。成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体ウエハに平行に形成できる。   According to the above embodiment, the clamp plate 107 is accurately stopped at a desired position by the stopper 112 provided on the mold 105 opposite to the mold 106 on which the clamp plate 107 is disposed, at the time of mold clamping. Can do. The molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor wafer with a predetermined thickness.

なお、クランクプレート配置金型106にストッパ114を内蔵させることによっても、精度よく一定位置で停止することが出来る。この場合も、成形樹脂が精度よく所定の厚みで半導体ウエハに平行に形成できる。   In addition, it is possible to stop at a fixed position with high accuracy by incorporating the stopper 114 in the crank plate placement mold 106. Also in this case, the molding resin can be accurately formed in parallel with the semiconductor wafer with a predetermined thickness.

上記実施形態によれば、樹脂は金型供給前の樹脂計量塗布ステージで半導体ウエハ1表面上に樹脂を供給し、その後、樹脂供給された半導体ウエハ1を金型104内に供給する。このように、予め樹脂を供給した半導体ウエハ1を一度の搬送で金型104へ供給するので、従来の様に金型に半導体ウエハを供給後に樹脂を金型へ供給する個別搬送方式に比べ、装置のサイクルタイムを短縮でき、生産性向上につながる。また、樹脂供給が金型開口空間に制約されることがなく、精度よく、また効率よく供給できる効果が有る。   According to the embodiment, the resin is supplied onto the surface of the semiconductor wafer 1 at the resin metering stage before the mold is supplied, and then the semiconductor wafer 1 supplied with the resin is supplied into the mold 104. Thus, since the semiconductor wafer 1 to which the resin has been supplied in advance is supplied to the mold 104 by a single transfer, compared to the individual transfer system in which the semiconductor wafer is supplied to the mold and then the resin is supplied to the mold as in the past, Equipment cycle time can be shortened, leading to improved productivity. In addition, there is an effect that the resin supply is not restricted by the mold opening space and can be supplied accurately and efficiently.

上記実施形態によれば、塗布量を計量し、液状樹脂供給機102にフィードバックしながら精度よく半導体ウエハ1に樹脂を供給することができる。これにより、金型への成形樹脂供給量の精度が低いことによる、成形後厚み寸法のばらつきを抑制ないし防止することができる。   According to the embodiment, the resin can be supplied to the semiconductor wafer 1 with high accuracy while measuring the coating amount and feeding it back to the liquid resin supplier 102. Thereby, the dispersion | variation in the thickness dimension after shaping | molding by the low precision of the amount of molding resin supply to a metal mold | die can be suppressed thru | or prevented.

上記実施形態によれば、液状の成形樹脂を使用するため、顆粒状やタブレット状の樹脂を使用する場合に比較して、型締めおよび成形時に未溶融樹脂による半導体ウエハ表面へのダメージを抑制ないし防止することができる。
以上、本発明の幾つかの実施形態のみを説明したが、本発明の新規の教示や利点から実質的に外れることなく例示の実施形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者には容易に理解できるであろう。従って、その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含むことを意図する。
According to the above embodiment, since liquid molding resin is used, damage to the semiconductor wafer surface due to unmelted resin during mold clamping and molding is suppressed as compared with the case where granular or tablet resin is used. Can be prevented.
Although only a few embodiments of the present invention have been described above, various modifications or improvements can be made to the illustrated embodiments without substantially departing from the novel teachings and advantages of the present invention. Will be easily understood by those skilled in the art. Therefore, it is intended that the embodiment added with such changes or improvements is also included in the technical scope of the present invention.

1 ウエハ
2 回路
3 液状樹脂
4 フィルム
101 ウエハ搬送ロボット
102 液状樹脂供給機
103 樹脂計量機
104 金型
105 上金型
106 下金型
107 クランププレート
108 第1バネ
109 ウエハ受け
110 上型ホルダー
111 第2バネ
112 上部ストッパー
113 キャビティ
114 下部ストッパー
200 プレス機構
201A、201B ムービングプラテン
202A、202B、202C スライドガイド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer 2 Circuit 3 Liquid resin 4 Film 101 Wafer transfer robot 102 Liquid resin supply machine 103 Resin metering machine 104 Mold 105 Upper mold 106 Lower mold 107 Clamp plate 108 First spring 109 Wafer receiver 110 Upper mold holder 111 Second Spring 112 Upper stopper 113 Cavity 114 Lower stopper 200 Press mechanism 201A, 201B Moving platen 202A, 202B, 202C Slide guide

Claims (26)

半導体装置の樹脂成形装置であって、
上型及び下型を有する金型と、
前記上型又は前記下型に設けられ、半導体装置をクランプするためのクランププレートであり、付勢部材により型締め方向に付勢されるクランププレートと、
前記上型又は前記下型に設けられ、型締めの際に前記クランププレートの位置を所定の位置に停止させる1又は複数のストッパと、
を備えた半導体装置の樹脂成形装置。
A resin molding apparatus for semiconductor devices,
A mold having an upper mold and a lower mold;
A clamp plate for clamping the semiconductor device, provided on the upper mold or the lower mold, and biased in a mold clamping direction by a biasing member;
One or a plurality of stoppers provided on the upper mold or the lower mold and stopping the position of the clamp plate at a predetermined position during mold clamping;
A resin molding apparatus for semiconductor devices.
請求項1に記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記ストッパは、高さ及び傾きの微調整が可能な構成である、半導体装置の樹脂成形装置。
The resin molding apparatus for a semiconductor device according to claim 1,
The stopper is a resin molding apparatus for a semiconductor device, which is configured to allow fine adjustment of height and inclination.
請求項1又は2に記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記クランププレート及び前記ストッパにより半導体装置の外周部を均等に押圧する構成である、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device according to claim 1 or 2,
A resin molding apparatus for a semiconductor device, wherein the outer peripheral portion of the semiconductor device is uniformly pressed by the clamp plate and the stopper.
請求項1又は2に記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記上型及び下型の少なくとも一方を昇降させるプレス機構を更に備え、
前記プレス機構は、本体とスライドガイドとを有するムービングプラテンと、前記スライドガイドに挿通し前記ムービングプラテンを上下方向に案内するシャフトとを備え、
前記スライドガイドは、前記本体の前記スライドガイド配置部分以外の部分の厚さよりも大きい長さを有する、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device according to claim 1 or 2,
A press mechanism for raising and lowering at least one of the upper mold and the lower mold;
The press mechanism includes a moving platen having a main body and a slide guide, and a shaft that passes through the slide guide and guides the moving platen in the vertical direction.
The resin molding apparatus for a semiconductor device, wherein the slide guide has a length larger than a thickness of a portion other than the slide guide arrangement portion of the main body.
請求項1乃至4の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置であって、
前記上型及び下型の一方は、上下方向の位置が固定され、他方は上下方向に昇降可能に構成されており、前記半導体装置は、上下方向の位置が固定される型に保持される、半導体装置の樹脂成形装置。
A resin molding apparatus for a semiconductor device according to any one of claims 1 to 4,
One of the upper mold and the lower mold is configured such that the vertical position is fixed and the other is movable up and down, and the semiconductor device is held by a mold whose vertical position is fixed. Resin molding equipment for semiconductor devices.
請求項1乃至5の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型とは異なる型に配置される、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device in any one of Claims 1 thru | or 5,
The resin molding apparatus for a semiconductor device, wherein the stopper is disposed in a mold different from a mold in which the clamp plate is provided.
請求項1乃至6の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型に配置される、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device in any one of Claims 1 thru | or 6,
The said stopper is a resin molding apparatus of a semiconductor device arrange | positioned at the type | mold with which the said clamp plate is provided.
請求項1乃至7の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂計量部を更に備える、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding apparatus of the semiconductor device in any one of Claims 1 thru | or 7,
A resin molding apparatus for a semiconductor device, further comprising: a resin metering unit that supplies resin to the semiconductor device before the semiconductor device is supplied to the mold.
請求項8に記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記樹脂計量部は、
前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂供給機と、
半導体装置に樹脂が供給された計量する樹脂計量機と、
前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量をフィードバック制御する制御部と、
を備える、半導体装置の樹脂成形装置。
The resin molding apparatus for a semiconductor device according to claim 8,
The resin metering unit is
A resin feeder for supplying resin to the semiconductor device;
A resin weighing machine for weighing a semiconductor device supplied with resin;
A control unit that feedback-controls the supply amount of the resin supply machine according to the weight value measured by the resin weighing machine;
A resin molding apparatus for a semiconductor device.
請求項1乃至9の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置において、前記樹脂は液状樹脂である、半導体装置の樹脂成形装置。   10. The resin molding apparatus for a semiconductor device according to claim 1, wherein the resin is a liquid resin. 請求項1乃至10の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形装置において、前記半導体装置は、半導体ウエハ、半導体ウエハから個片化された個々の半導体装置、半導体装置が載置されたサブストレートを含む、半導体装置の樹脂成形装置。   11. The resin molding apparatus for a semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device includes a semiconductor wafer, individual semiconductor devices separated from the semiconductor wafer, and a substrate on which the semiconductor device is placed. A resin molding apparatus for semiconductor devices. 半導体装置の樹脂成形方法であって、
金型の型締め時に、半導体装置の外周部をクランププレートで押圧するとともに、前記クランププレートをストッパにより所定の位置に停止させる工程と、
前記半導体装置を樹脂成形する工程と、
を含む半導体装置の樹脂成形方法。
A resin molding method for a semiconductor device,
A step of pressing the outer peripheral portion of the semiconductor device with a clamp plate at the time of mold clamping, and stopping the clamp plate at a predetermined position by a stopper;
A step of resin-molding the semiconductor device;
A resin molding method for a semiconductor device.
請求項12に記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記ストッパは、高さ及び傾きを微調整する工程を更に含む、半導体装置の樹脂成形方法。
The resin molding method for a semiconductor device according to claim 12,
The method of resin molding a semiconductor device, wherein the stopper further includes a step of finely adjusting the height and inclination.
請求項12又は13に記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記クランププレートをストッパにより所定の位置に停止させる工程では、前記クランププレート及び前記ストッパにより半導体装置の外周部を均等に押圧する、半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 12 or 13,
A resin molding method for a semiconductor device, wherein in the step of stopping the clamp plate at a predetermined position by a stopper, an outer peripheral portion of the semiconductor device is uniformly pressed by the clamp plate and the stopper.
請求項12又は13に記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
プレス機構により前記金型の上型及び下型の少なくとも一方を昇降させる工程を更に含み、この工程では、プレス機構のムービングプラテンを、スライドガイド配置部分以外のムービングプラテン本体の部分よりも厚さよりも大きい長さを有するスライドガイドによって、上下方向に案内させることにより、前記金型の上型及び下型の少なくとも一方を昇降させる、前記半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 12 or 13,
The method further includes the step of raising and lowering at least one of the upper die and the lower die of the mold by a press mechanism. In this step, the moving platen of the press mechanism is made thicker than the portion of the moving platen main body other than the slide guide arrangement portion. The resin molding method of the semiconductor device, wherein at least one of an upper mold and a lower mold of the mold is moved up and down by being guided in a vertical direction by a slide guide having a large length.
請求項12乃至15の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形方法であって、
前記上型及び下型の一方は、上下方向の位置が固定され、他方は上下方向に昇降可能に構成されており、前記半導体装置を、上下方向の位置が固定される型に保持する、半導体装置の樹脂成形方法。
A resin molding method for a semiconductor device according to any one of claims 12 to 15,
One of the upper mold and the lower mold is configured such that a position in the vertical direction is fixed, and the other is configured to be movable up and down in the vertical direction, and the semiconductor device holds the semiconductor device in a mold in which the position in the vertical direction is fixed Resin molding method for equipment.
請求項12乃至16の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型とは異なる型に配置され、
型締め時に、前記異なる型側において前記クランププレートを前記ストッパにより停止させる、半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 12,
The stopper is arranged in a mold different from the mold in which the clamp plate is provided,
A resin molding method for a semiconductor device, wherein the clamp plate is stopped by the stopper on the different mold side during mold clamping.
請求項12乃至17の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記ストッパは、前記クランププレートが設けられる型に配置され、
型締め時に、前記クランププレートが設けられる型においても前記クランププレートを前記ストッパにより停止させる、半導体装置の樹脂成形装置。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 12,
The stopper is arranged in a mold provided with the clamp plate,
A resin molding apparatus for a semiconductor device, wherein the clamp plate is stopped by the stopper even in a mold provided with the clamp plate during mold clamping.
請求項12乃至18の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する、半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 12,
A resin molding method for a semiconductor device, wherein a resin is supplied to the semiconductor device before the semiconductor device is fed to a mold.
請求項19に記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記樹脂を供給する工程では、
樹脂計量機上に半導体装置を載置した状態で、液状樹脂供給機により樹脂を半導体装置上に供給するとともに、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量を制御するフィードバック制御を行う、半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 19,
In the step of supplying the resin,
While the semiconductor device is mounted on the resin weighing machine, the resin is supplied to the semiconductor device by the liquid resin supply machine, and the supply amount of the resin supply machine is set according to the weight value measured by the resin weighing machine. A resin molding method for a semiconductor device, which performs feedback control.
請求項12乃至20の何れかに記載の半導体装置の半導体装置の樹脂成形方法において、前記樹脂は液状樹脂である、半導体装置の樹脂成形方法。   21. A resin molding method for a semiconductor device of a semiconductor device according to claim 12, wherein the resin is a liquid resin. 請求項12乃至21の何れかに記載の半導体装置の樹脂成形方法において、前記半導体装置は、半導体ウエハ、半導体ウエハから個片化された個々の半導体装置、半導体装置が載置されたサブストレートを含む、半導体装置の樹脂成形方法。   The resin molding method for a semiconductor device according to any one of claims 12 to 21, wherein the semiconductor device includes a semiconductor wafer, individual semiconductor devices separated from the semiconductor wafer, and a substrate on which the semiconductor device is mounted. A resin molding method for a semiconductor device. 半導体装置の樹脂成形装置であって、
上型及び下型を有する金型と、
半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂計量部を備える、半導体装置の樹脂成形装置。
A resin molding apparatus for semiconductor devices,
A mold having an upper mold and a lower mold;
A resin molding apparatus for a semiconductor device, comprising: a resin metering unit that supplies resin to the semiconductor device before supplying the semiconductor device to a mold.
請求項23に記載の半導体装置の樹脂成形装置において、
前記樹脂計量部は、
前記半導体装置に樹脂を供給する樹脂供給機と、
樹脂が供給された半導体装置を計量する樹脂計量機と、
前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記樹脂供給機の供給量をフィードバック制御する制御部と、
を備える、半導体装置の樹脂成形装置。
The resin molding apparatus for a semiconductor device according to claim 23,
The resin metering unit is
A resin feeder for supplying resin to the semiconductor device;
A resin weighing machine for weighing a semiconductor device supplied with resin;
A control unit that feedback-controls the supply amount of the resin supply machine according to the weight value measured by the resin weighing machine;
A resin molding apparatus for a semiconductor device.
半導体装置の樹脂成形方法であって、
半導体装置を金型に供給する前に、前記半導体装置に樹脂を供給する工程と、
前記樹脂が供給された半導体装置を金型に供給する工程と、
前記金型を型締めし、前記半導体装置を樹脂成形する工程と、
を含む半導体装置の樹脂成形方法。
A resin molding method for a semiconductor device,
Supplying a resin to the semiconductor device before supplying the semiconductor device to the mold;
Supplying a semiconductor device supplied with the resin to a mold;
Clamping the mold and resin-molding the semiconductor device;
A resin molding method for a semiconductor device.
請求項25に記載の半導体装置の樹脂成形方法において、
前記樹脂を供給する工程では、
樹脂計量機上に半導体装置を載置した状態で、樹脂供給機により樹脂を半導体装置上に供給するとともに、前記樹脂計量機で測定した重量の値に応じて前記液状樹脂供給機の供給量をフィードバックする、半導体装置の樹脂成形方法。
In the resin molding method of the semiconductor device according to claim 25,
In the step of supplying the resin,
While the semiconductor device is mounted on the resin weighing machine, the resin is fed onto the semiconductor device by the resin feeding machine, and the supply amount of the liquid resin feeding machine is set according to the weight value measured by the resin weighing machine. A method of resin molding of a semiconductor device for feedback.
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