JP2015154020A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】支持基板を接合したメイン基板において、センサ回路部への周辺回路部からのノイズの混入を低減することができる半導体装置を提供すること。【解決手段】実施形態の半導体装置は、第1の半導体基板と、前記第1の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第1の貫通電極と、前記第1の半導体基板の表面側の前記第1の貫通電極上に設けられた第1のコンタクト部と、前記第1のコンタクト部上に設けられた第1の表面配線と、前記第1の表面配線上の一部に設けられた第2のコンタクト部と、前記第2のコンタクト部上に設けられた第2の表面配線と、前記第2の表面配線上の一部に設けられた第3の表面配線と、前記第3の配線層上に設けられた第2の半導体基板と、前記第2の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第2の貫通電極と、を具備し、前記第3の表面配線と前記第2の貫通電極とが接合していることを特徴とする。【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、半導体装置に関する。
CMOSイメージセンサ等の固体撮像装置、中でも裏面照射型を製造する場合、光がフォトダイオードに届く厚さになるまでメイン基板の裏側を研磨する必要がある。その際に、メイン基板は非常に薄くなるため単独では最後まで研磨することができない。そのため、センサ回路部が設けられているメイン基板の他に、メイン基板を支えるための支持基板が接合される。
近年、支持基板も同じシリコンであることから支持基板上にも素子を形成する、という支持基板を積層チップの一つとして利用する技術が出てきた。通常、支持基板とメイン基板の端子を接続する場合、ワイヤーや半田ボールにより接続していた。しかしながら、高集積化により内部配線の微細化や多層化が進む中で、メイン基板と支持基板を接合する部分が小型化に影響を与えていた。また、センサ回路部への周辺回路部からのノイズの混入を防ぐ必要があり、ワイヤーや半田ボールが半導体素子に接近すると電磁波の影響、クロストークの発生が問題となる。
本発明が解決しようとする課題は、支持基板を接合したメイン基板において、センサ回路部への周辺回路部からのノイズの混入を低減することができる半導体装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明の第1の実施形態の半導体装置は、第1の半導体基板と、前記第1の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第1の貫通電極と、前記第1の半導体基板の表面側の前記第1の貫通電極上に設けられた第1のコンタクト部と、前記第1のコンタクト部上に設けられた第1の表面配線と、前記第1の表面配線上の一部に設けられた第2のコンタクト部と、前記第2のコンタクト部上に設けられた第2の表面配線と、前記第2の表面配線上の一部に設けられた第3の表面配線と、前記第3の配線層上に設けられた第2の半導体基板と、前記第2の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第2の貫通電極と、を具備し、前記第3の表面配線と前記第2の貫通電極とが接合していることを特徴とする。
以下、本発明の各実施形態につき図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。本発明の各実施形態は、裏面照射型のCMOSイメージセンサに適用した例であり、基本的な構成はMOSトランジスタ等と同様である。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる半導体装置のセンサ部とパッド部の概略構造を示す断面図を示している。
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる半導体装置のセンサ部とパッド部の概略構造を示す断面図を示している。
第1の半導体基板であるメイン基板1において、図中の基板10は、シリコン基板11上にウェル領域12を形成した基板であり、基板10の第1面としての表面側にCMOSイメージセンサの画素部を構成するためのMOSトランジスタ等を有する画素回路ブロック(第1の回路ブロック)100が形成されている。この第1の画素回路ブロック100の周辺部には、他の回路ブロック(第2,第3,…第nの回路ブロック)が形成されている。
第1の画素回路ブロック100は、ゲート絶縁膜13、ゲート電極14、ソース/ドレイン領域15、第1のコンタクト部16で構成され、基板10の表裏を貫通して設けられた第1の貫通電極200で周囲が囲まれており、他の回路ブロックとは分離されている。即ち、第1の画素回路ブロック100を囲むように第1の貫通電極200を形成することにより、第1の貫通電極200は素子分離のための所謂DTI(Deep Trench Isolation)として機能するようになっている。また、貫通電極200で第1の画素回路ブロック100を完全に囲むのではなく、第1の貫通電極200で第1の画素回路ブロック100の一部を囲むようにしても良い。
なお、第1の貫通電極200は、基板10の表裏を貫通して設けられたビアホール内に、シリコン酸化膜21を介してポリシリコン膜22を埋め込むことにより形成されている。
基板10の第2面としての裏面側には、シリコン酸化膜等の第1の絶縁膜31が形成され、この第1の絶縁膜31には第1の貫通電極200の下面に位置する部分に開口が設けられている。第1の絶縁膜31上には裏面配線32が形成され、この裏面配線32は第1の絶縁膜31の開口部で第1の貫通電極200の下面と電気的に接続されている。
また、裏面配線32は、図示しない電源又はシールド専用パッドへ接続されている。つまり、本実施形態の貫通電極200は基板10の表面から裏面まで達しており、裏面配線32を用いて所定の電位に固定されている。
また、第1のコンタクト部はソース/ドレイン領域15上と第1の貫通電極200上に形成される。なお、各々の第1のコンタクト部16は基板表面側の第1の表面配線17に接続されている。そして、第1の貫通電極200を裏面配線32に接続することにより、裏面配線32は第1の貫通電極200を介して第1の表面配線17に接続することが可能となっている。
さらに、裏面配線32は入射する光の経路以外の箇所、即ち、画素回路ブロック100と重ならないように設けられている。
次に、周辺回路300において、裏面側のパッド部40につながる複数本の第1のパット部用貫通電極41が設けられ、これらの第1のパット部用貫通電極41により裏面側のパッド部40と第1の表面配線17とが接続されている。即ち、第1のパット部用貫通電極41は基板裏面側の裏面配線32の一部で形成されたパッド部40に接続され、基板表面側でパッド部40と対抗する領域に形成される第1のコンタクト部16を介して第1の表面配線17に接続されている。なお、図1では図示していないが、第1のパット部用貫通電極41は、貫通電極200と同様に基板10の表裏を貫通して設けられたビアホール内に、シリコン酸化膜21を介してポリシリコン膜22を埋め込むことにより形成されている。
また、第2の絶縁膜33が、第1のコンタクト部16と第1の表面配線17が形成されている同層部分に形成されている。
そして、第2のコンタクト部18は、第1の表面配線17上の一部分に形成され、他の部分には第3の絶縁層34が形成される。第2の表面配線19は、第2のコンタクト部18と第3の絶縁膜34上に形成される。第3の表面配線20は、第2の表面配線19上の一部分に形成される。
次に、第2の半導体基板である支持基板2において、図1に示すように、メイン基板1上に絶縁膜と表面配線を介して、例えばメイン基板1と同等の第2の貫通電極201や第2のパット部用貫通電極42が形成されている基板が設けられている。
本発明の第1の実施形態では、図1の接合面3のように支持基板2の複数本の第2のパット部用貫通電極42を用いて、メイン基板1の上にメイン基板を支えるための支持基板2を接合して設ける。すなわち、支持基板2の複数本の第2のパット部用貫通電極42がメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合する。
なお、本実施形態では、メイン基板1と支持基板2の間の絶縁膜と表面配線は図1のような構成になっているが、それに限られることはなく、支持基板2の複数本の第2のパット部用貫通電極42と接合する表面配線が最上位にある配線層であれば良く、上部基板の用途に合わせて、絶縁膜と表面配線の積層の形態を変えても良い。
また、ここでは支持基板2として基板の表面側にCMOSイメージセンサの画素部を構成するためのMOSトランジスタ等を有する画素回路ブロックが形成されているが、メイン基板の最上位にある表面配線と接合するパット部用貫通電極を形成し支持基板2としての役割を果たすのであれば良く、MOSトランジスタ等を有する回路ブロックであっても良い。また、メイン基板1と支持基板2の間の絶縁膜と表面配線は上部基板の用途に合わせて、積層の形態を変えても良い。
このように本発明の第1の実施形態によれば、メイン基板1の上に支持基板2を設けるために、支持基板2の第2のパット部用貫通電極42を用いてメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合することで、従来のようにワイヤーや半田ボールによる接合よりも接合部分を軽減でき、半導体装置をより小型化することができる。さらに、メイン基板1と支持基板2を電気的に接続し、メイン基板1の第1のパッド部用貫通電極41と共に、支持基板2の第2のパッド部用貫通電極42を電位固定することによって、回路間のノイズや外部からのノイズの抑制に有効である。また、支持基板2の表面側からの配線も追加することにより、ノイズ抑制効果をより高めることも可能である。また、支持基板2の第2の貫通電極201を支持基板2の表面側に設けられる電源パッドに接続することにより、ノイズの抑制だけでなく、シリコン表面回路の電源補強も可能となるため、IRドロップの軽減、シリコン表面配線リソースの増加を期待することができる。
また、支持基板2としてメイン基板1の製造過程で製造可能な基板を用いれば、支持基板2を製造するための新たなプロセスが必要になることもない。また、通常の基板同士の積層には貫通電極を用いて接合しているため、同じ方法を用いてメイン基板1と支持基板2を接合することができる。これは、製造コストの増大を招くことなく支持基板2を形成できることを意味し、実用性大なる効果である。
次に、本発明の第1の実施形態の半導体装置の製造方法について図面を参照して説明する。図2から図4は、第1の実施形態において製造プロセス毎に示す半導体装置の模式的な断面図を示している。なお、従来の製造方法と同一部分に関しては省略する。
図2に示すように、支持基板2の複数本の第2のパット部用貫通電極42がメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合することで、メイン基板1上に支持基板2を形成する。
次に、CVD法等によって、メイン基板1の裏面上に第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41に対応するパターンのマスクを形成する。そして、図3に示すように、メイン基板1の裏面側をRIE法によりエッチングして、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41のビアホールを形成する。
次に、図4に示すように、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41のビアホールを形成したら、ビアホール内の側面にシリコン酸化膜21を形成する。そして、ポリシリコン膜22を埋め込み、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41を形成する。なお、図4では図示していないが、第1のパット部用貫通電極41は、第1の貫通電極200と同様に基板10の表裏を貫通して設けられたビアホール内に、シリコン酸化膜21を介してポリシリコン膜22を埋め込むことにより形成する。
以上のように、上記第1の実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、メイン基板1の上に支持基板2を設けるために、支持基板2の第2のパット部用貫通電極42を用いてメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合することで、従来のようにワイヤーや半田ボールによる接合よりも接合部分を軽減でき、半導体装置をより小型化することができる。
(第2の実施形態)
図5は、本発明の第2の実施形態に係わる半導体装置のセンサ部とパッド部の概略構造を示す断面図を示している。なお、図1と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
図5は、本発明の第2の実施形態に係わる半導体装置のセンサ部とパッド部の概略構造を示す断面図を示している。なお、図1と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
本発明の第2の実施形態が先に説明した第1の実施形態と異なる点は、第3のパット部用貫通電極43がメイン基板1と支持基板2の裏表を貫通していることにある。即ち、支持基板2の上面からメイン基板1の裏面配線32までダイレクトに第3のパット部用貫通電極43を用いて接続されている。なお、図2では、第3のパット部用貫通電極43の1つのパット部用貫通電極のみがメイン基板1と支持基板2の裏表をダイレクトに貫通した構造になっているが、1つとは限らず複数であっても良い。
このように本発明の第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様に、メイン基板1の上に支持基板2の第2のパット部用貫通電極と第3のパット部用貫通電極43を用いて支持基板2を接合して設けることにより、従来のようにワイヤーや半田ボールによる接合よりも接合部分を軽減でき、半導体装置をより小型化することができる。さらに、メイン基板1と支持基板2を電気的に接続し、メイン基板1の第1のパッド部用貫通電極41と共に、支持基板2の第2のパッド部用貫通電極42と第3のパット部用貫通電極43を電位固定することによって、回路間のノイズや外部からのノイズの抑制に有効である。また、支持基板2の表面側からの配線も追加することにより、ノイズ抑制効果をより高めることも可能である。また、支持基板2の第2の貫通電極201を支持基板2の表面側に設けられる電源パッドに接続することにより、ノイズの抑制だけでなく、シリコン表面回路の電源補強も可能となるため、IRドロップの軽減、シリコン表面配線リソースの増加を期待することができる。また、第2の実施形態では1つのパッド用貫通電極がメイン基板と支持基板を貫通して、ダイレクトに接続する構造なので、電気的に接続した際に第1の実施形態よりも抵抗を低減できる。また、接合面3だけでなく、ダイレクトに接合する面もできるので、より強力に支持基板とメイン基板を接合することができる。
また、第1の実施形態と同様に、支持基板2としてメイン基板1の製造過程で製造可能な基板を用いれば、支持基板2を製造するための新たなプロセスが必要になることもない。また、通常の基板同士の積層には貫通電極を用いて接合しているため、同じ方法を用いてメイン基板と支持基板を接合することができる。これは、製造コストの増大を招くことなく支持基板を形成できることを意味し、実用性大なる効果である。
次に、本発明の第2の実施形態の半導体装置の製造方法について図面を参照して説明する。図6から図8は、第2の実施形態において製造プロセス毎に示す半導体装置の模式的な断面図を示している。なお、従来の製造方法と同一部分に関しては省略する。
図6に示すように、支持基板2の複数本の第2のパット部用貫通電極42がメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合することで、メイン基板1上に支持基板2を形成する。ただし、図6に示すように、後述する第3のパッド用貫通電極43が形成される部分には、コンタクト16は形成していない。
次に、CVD法等によって、メイン基板1の裏面上に第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41と第3のパッド用貫通電極43に対応するパターンのマスクを形成する。そして、図7に示すように、メイン基板1の裏面側をRIE法によりエッチングして、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41と第3のパッド用貫通電極43のビアホールを形成する。
次に、図8に示すように、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41と第3のパッド用貫通電極43のビアホールを形成したら、ビアホール内の側面にシリコン酸化膜21を形成する。そして、ポリシリコン膜22を埋め込み、第1の貫通電極200と第1のパッド用貫通電極41と第3のパッド用貫通電極43を形成する。なお、図5では図示していないが、第1のパット部用貫通電極41と第3のパッド用貫通電極43は、貫通電極200と同様に基板10の表裏を貫通して設けられたビアホール内に、シリコン酸化膜21を介してポリシリコン膜22を埋め込むことにより形成する。
以上のように、上記第2の実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、メイン基板1の上に支持基板2を設けるために、支持基板2の第2のパット部用貫通電極42を用いてメイン基板1の最上位にある第3の表面配線20と接合することで、従来のようにワイヤーや半田ボールによる接合よりも接合部分を軽減でき、半導体装置をより小型化することができる。
なお、上記実施形態は唯一の実施形態では無く、種々の変形が可能である。すなわち、上記一実施形態は複数の態様を含んでおり、その一部のみが実施されても良い。
本発明の実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1…メイン基板
2…支持基板
3…接合面
10…基板
11…シリコン基板
12…ウェル領域
13…ゲート絶縁膜
14…ゲート電極
15…ソース/ドレイン領域
16…第1のコンタクト部
17…第1の表面配線
18…第2のコンタクト部
19…第2の表面配線
20…第3の表面配線
21…シリコン酸化膜
22…ポリシリコン膜
31…第1の絶縁膜
32…裏面配線
33…第2の絶縁膜
34…第3の絶縁膜
40…パッド部
41…第1のパット部用貫通電極
42…第2のパット部用貫通電極
43…第3のパット部用貫通電極
100…画素回路ブロック(第1の回路ブロック)
200…第1の貫通電極
201…第2の貫通電極
2…支持基板
3…接合面
10…基板
11…シリコン基板
12…ウェル領域
13…ゲート絶縁膜
14…ゲート電極
15…ソース/ドレイン領域
16…第1のコンタクト部
17…第1の表面配線
18…第2のコンタクト部
19…第2の表面配線
20…第3の表面配線
21…シリコン酸化膜
22…ポリシリコン膜
31…第1の絶縁膜
32…裏面配線
33…第2の絶縁膜
34…第3の絶縁膜
40…パッド部
41…第1のパット部用貫通電極
42…第2のパット部用貫通電極
43…第3のパット部用貫通電極
100…画素回路ブロック(第1の回路ブロック)
200…第1の貫通電極
201…第2の貫通電極
Claims (5)
- 第1の半導体基板と、
前記第1の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第1の貫通電極と、
前記第1の半導体基板の表面側の前記第1の貫通電極上に設けられた第1のコンタクト部と、
前記第1のコンタクト部上に設けられた第1の表面配線と、
前記第1の表面配線上の一部に設けられた第2のコンタクト部と、
前記第2のコンタクト部上に設けられた第2の表面配線と、
前記第2の表面配線上の一部に設けられた第3の表面配線と、
前記第3の配線層上に設けられた第2の半導体基板と、
前記第2の半導体基板の表裏を貫通して設けられた導電性を有する第2の貫通電極と、
を具備し、
前記第3の表面配線と前記第2の貫通電極とが接合していることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1の半導体基板の裏面側に設けられ、前記第1の貫通電極に接続され、前記第1の貫通電極を電源パッドへ接続する裏面配線をさらに具備していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2の半導体基板に前記第2の貫通電極が複数設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1のコンタクト部と前記第1の配線層と同層の所定の領域に絶縁層をさらに具備していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2の半導体基板の表面から前記第1の半導体基板の裏面まで設けられた導電性を有する第3の貫通電極をさらに具備していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
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