JP2015137927A - 撮像装置及び検査システム - Google Patents
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Abstract
【課題】透明部材の欠陥を画像により確認できると共に、その欠陥が表面にあるか裏面にあるかを容易に識別できる。
【解決手段】撮像装置40は、反射板20上のアクリル基板30の表面及び裏面でそれぞれ反射され、同一の光軸上を通過した反射光を、主にS波と主にP波に分離する偏光ビームスプリッタ42と、S波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43sと、P波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43pと、を備えている。
【選択図】図2
【解決手段】撮像装置40は、反射板20上のアクリル基板30の表面及び裏面でそれぞれ反射され、同一の光軸上を通過した反射光を、主にS波と主にP波に分離する偏光ビームスプリッタ42と、S波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43sと、P波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43pと、を備えている。
【選択図】図2
Description
本発明は、撮像装置及び検査システムに関する。
従来、ガラス基板の欠陥を検出すると同時に欠陥の表裏判別を行う簡便な欠陥の表裏識別方法が開示されている(特許文献1参照)。
特許文献1の技術は、ガラス板の表面に検査光を照射し、検出カメラが続けて2回の散乱光を検出した場合、表面にある欠陥で散乱光が発生し、この散乱光がガラス板の内部を伝搬して裏面で反射したとみなして、ガラス板の表面に欠陥があると判断する。一方、検出カメラが1回のみの散乱光を検出した場合、ガラス板の表面では散乱せずに内部に入射した検査光が裏面の欠陥で散乱したとみなして、裏面に欠陥があると判断する。
特許文献1では、ガラス板の表面での欠陥が大きい場合は問題ないが、小さい場合には、表面の欠陥での散乱光がガラス板の内部を伝搬する間に減衰し、裏面での反射光が非常に弱くなる。このため、表面の欠陥であるにも係わらず、2度目の散乱光が検出されずに、裏面の欠陥であると誤判断される場合がある。
また、特許文献1は、ガラス板の欠陥の有無を検出することができるが、その欠陥の形状、大きさ等を画像で確認することができない。さらに、表面の欠陥の近傍に裏面の欠陥がある場合は、表面及び裏面の欠陥がそれぞれどこにあるのか正確に確認できない問題がある。
本発明は、このような実情を鑑みて提案されたものであり、透明部材の欠陥を画像により確認できると共に、その欠陥が表面にあるか裏面にあるかを容易に識別することが可能になる撮像装置及び検査システムを提供することを目的とする。
本発明に係る撮像装置は、透明部材の表面及び裏面でそれぞれ反射され、同一の光軸上を通過した反射光を、主にS波を含む第1の反射光と、主にP波を含む第2の反射光と、に分離する光分離手段と、前記光分離手段により分離された第1の反射光が撮像面上で略フォーカスするように設置された第1の撮像素子と、前記光分離手段により分離された前記第2の反射光が撮像面上で略フォーカスするように設置された第2の撮像素子と、を備えている。
また、本発明に係る検査システムは、透明部材に光を照射する光照射手段と、前記透明部材を撮像する上記撮像装置と、を有している。
本発明によれば、透明部材の欠陥を画像により確認できると共に、その欠陥が表面にあるか裏面にあるかを容易に識別することが可能になる。
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る検査システム1の概略的な構成を示す図である。検査システム1は、透明板状のアクリル基板30の傷が表面、裏面のいずれにあるのかを検査するものである。
図1は、本発明の実施形態に係る検査システム1の概略的な構成を示す図である。検査システム1は、透明板状のアクリル基板30の傷が表面、裏面のいずれにあるのかを検査するものである。
検査システム1は、アクリル基板30に向かって光を照射する照明装置10と、アクリル基板30を裏面側から支持すると共に照明装置10からの光を反射する反射板20と、反射板20上に配置されたアクリル基板30を撮像する撮像装置40と、撮像装置40から出力された画像を表示する液晶ディスプレイ(LCD)50と、を備えている。検査対象物は、アクリル基板30であるが、その他ガラス基板などの透明な板状部材であればよい。
図2は、撮像装置40の構成を示すブロック図である。
撮像装置40は、所定の倍率を有する撮像レンズ41と、撮像レンズ41を介して光が入射される偏光ビームスプリッタ42と、偏光ビームスプリッタ42で分離されたそれぞれの光に応じて画像信号を生成する撮像素子43s,43pと、を備えている。
撮像装置40は、所定の倍率を有する撮像レンズ41と、撮像レンズ41を介して光が入射される偏光ビームスプリッタ42と、偏光ビームスプリッタ42で分離されたそれぞれの光に応じて画像信号を生成する撮像素子43s,43pと、を備えている。
偏光ビームスプリッタ42は、例えば、正方形の底面を有する四角柱(キューブ)状に形成されている。具体的には、偏光ビームスプリッタ42は、2つの同一形状の直角プリズム42aおよび直角プリズム42bが互いに斜面(貼り合わせ面)にて互いに貼り合わされたものである。
直角プリズム42a,42bは、同一の三角柱形状を有し、直角三角形の上面及び下面と複数の四角形の側面を備える。複数の四角形の側面のうち、最大面積の側面(上面及び下面の直角を形成しない斜面)が貼り合わせ面になる。
直角プリズム42a又は直角プリズム42bの貼合わせ面には、コーティングされた誘電体偏光膜である偏光フィルタ42cが設けられている。このため、偏光フィルタ42cの法線方向は、偏光ビームスプリッタ42の入射角0度の光軸方向に対して45度の角度になっている。偏光フィルタ42cは、主にP波(P偏光)を透過して、残りの光(主にS波(s偏光))を反射する特性を有するフィルタである。
図3は、アクリル基板30の反射光が偏光ビームスプリッタ42によってS波とP波に分離される状態を示す図である。同図に示すように、偏光ビームスプリッタ42への入射光は、偏光フィルタ42cによって主にS波とP波に分離される。主にS波は、偏光フィルタ42cによって入射光の光軸に対して交差する方向(直角方向)へ反射して、撮像素子43sに照射される。主にP波は、偏光フィルタ42cを透過して、撮像素子43pに照射される。
なお、偏光ビームスプリッタ42は、上述の構成に限定されるものではなく、入射光を主にS波とP波に分離して、S波を撮像素子43sに、P波を撮像素子43pに照射できるものであればよい。
撮像素子43s,撮像素子43pは、撮像面に照射される光に応じた画像信号をそれぞれ生成する。なお、撮像素子43s,43pは、本実施形態ではCCDラインセンサであるが、例えば、CMOSセンサでもよいし、エリアイメージセンサでもよい。また、撮像素子43sは、その撮像面がS波の焦点位置になるように設置されている。撮像素子43pは、その撮像面がP波の焦点位置になるように設置されている。
図4は、アクリル基板30の反射光に含まれるS波とP波のそれぞれの焦点位置を示す図である。自然界の光は、横波であり、振動方向が90度異なるS波(入射面に垂直)とP波(入射面に平行)とが混在する。但し、光沢のある物質(ガラス表面・裏面、水面など)の反射光は、S波、P波のどちらかに偏る性質がある。
アクリル基板30に光が照射されると、図4に示すように、アクリル基板30の表面では主にS波が反射し、アクリル基板30の裏面では主にP波が反射する。このように、S波とP波は、それぞれ反射位置が異なる。このため、P波の反射位置から光学系(図4では撮像レンズ41)までの光路長は、S波の反射位置から光学系までの光路長に比べて、同一の光軸を通過する場合であっても、距離Eだけ長くなる。その結果、光学系を通過したS波及びP波の焦点位置までの距離も異なってしまう。図4では、光学系からP波の焦点位置までの距離は、光学系からS波の焦点位置までの距離よりも、ΔEだけ長くなる。
ここで、次のように各パラメータを定義する。
d:アクリル基板30の厚み
n:アクリル基板30の屈折率
X:光学系(撮像レンズ41)の倍率
E:アクリル基板30内のP波の光路長(空気内伝播に換算した値)
ΔE:空気中におけるS波とP波の光路長のずれ
d:アクリル基板30の厚み
n:アクリル基板30の屈折率
X:光学系(撮像レンズ41)の倍率
E:アクリル基板30内のP波の光路長(空気内伝播に換算した値)
ΔE:空気中におけるS波とP波の光路長のずれ
アクリル基板30への光の入射角は0度に近い値なので、d=Eとみなしてよい。そこで、アクリル基板30の厚みを空気長に換算した値Eは次のようになる。
E=d+d(1−1/n)
E=d+d(1−1/n)
よって、ΔEは次の通りになる。
ΔE=E・X=d(2−1/n)X ・・・(1)
ΔE=E・X=d(2−1/n)X ・・・(1)
例えば、d=2mm、n=1.5、X=0.5の場合、ΔE=1.3mmになる。つまり、光学系から撮像素子43pの撮像面までの距離は、光学系から撮像素子43sの撮像面までの距離に比べて、1.3mm長くなるようにすればよい。
なお、S波とP波が撮像面でジャストフォーカスになるためには、ΔEが上述した式(1)を満たす必要がある。但し、後述するように、S波画像及びP波画像に現れる傷が視認可能であれば、ΔEは式(1)の近傍値でもよいし、S波とP波は撮像面で略ジャストフォーカスする程度でもよい。
なお、S波とP波が撮像面でジャストフォーカスになるためには、ΔEが上述した式(1)を満たす必要がある。但し、後述するように、S波画像及びP波画像に現れる傷が視認可能であれば、ΔEは式(1)の近傍値でもよいし、S波とP波は撮像面で略ジャストフォーカスする程度でもよい。
また、図2に示すように、撮像装置40は、撮像素子43s,43pからの画像信号に相関二重サンプリング処理を行うCDS回路44s,44pと、CDS回路44s,44pから出力された画像信号をディジタル信号に変換するアナログ/ディジタル(A/D)コンバータ45s,45pと、A/Dコンバータ45s,45pから出力された画像信号に所定の信号処理を施す信号処理回路46と、を備えている。
CDS回路44s,44pは、撮像素子43s,43pからそれぞれ出力された画像信号に相関二重サンプリング処理を施し、当該画像信号に含まれるノイズ成分を除去する。A/Dコンバータ45s,45pは、CDS回路44s,44pからそれぞれ出力された画像信号をディジタル信号に変換する。
信号処理回路24は、A/Dコンバータ45s,45pからそれぞれ出力された画像信号に所定の処理(ガンマ補正、ゲイン制御、露光制御、ラインレート制御等)を施す。さらに、信号処理回路24は、S波に基づく画像信号、P波に基づく画像信号をそれぞれ同時に出力することができるが、いずれか一方の画像信号を選択して出力することもできる。
以上のように構成された検査システム1において、照明装置10がアクリル基板30に光を照射すると、アクリル基板30の反射光が偏光ビームスプリッタ42に入射され、偏光ビームスプリッタ42に入射された反射光が主にS波とP波に分離される。S波とP波は、それぞれ撮像素子43s,43pの撮像面にジャストフォーカス(又は略ジャストフォーカス)の状態で照射される。
これにより、撮像素子43sは、主にアクリル基板30の表面で反射されたS波に基づく画像信号を生成して、CDS回路44s、A/Dコンバータ45s、信号処理回路46を介して、図1に示すLCD50へ供給する。一方、撮像素子43pは、主にアクリル基板30の裏面で反射されたP波に基づく画像信号を生成して、CDS回路44p、A/Dコンバータ45p、信号処理回路46を介して、図1に示すLCD50へ供給する。LCD50には、S波に基づく画像、P波に基づく画像が表示される。
図5は、S波に基づく画像(S波画像)を示す図である。S波画像は、アクリル基板30の表面に焦点位置が合った画像である。このため、アクリル基板30の表面の傷は色が濃いが、裏面の傷は色が薄い。また、表面の傷の近傍には、その傷の影であるミラー像が現れている。ミラー像は、裏面の傷と同じ面に現れるので、裏面の傷と同程度に色が薄い。なお、裏面の傷の近傍には、その傷のミラー画像は現れない。
図6は、P波に基づく画像(P波画像)を示す図である。P波画像は、アクリル基板30の裏面に焦点位置が合った画像である。但し、アクリル基板30の裏面の傷は色が濃いが、表面の傷は色が薄い。また、表面の傷の近傍には、その傷の影であるミラー像が現れている。ミラー像は、裏面の傷と同じ面に現れるので、裏面の傷と同程度に色が濃い。
以上のように、撮像装置40は、反射板20上のアクリル基板30の表面及び裏面でそれぞれ反射され、同一の光軸上を通過した反射光を、主にS波と主にP波に分離する偏光ビームスプリッタ42と、S波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43sと、P波が撮像面上で略フォーカスするように設置された撮像素子43pと、を備えている。これにより、撮像装置40は、焦点位置の異なるS波及びP波に基づく画像をそれぞれ同時に生成することができる。
このとき、ユーザは、時間差のないS波画像及びP波画像を目視して両画像を比べることができ、アクリル基板30の傷の大きさ・形状などの状態を確認するとともに、ミラー像を比較することで、アクリル基板30の表面・裏面のいずれに傷があるかを把握することができる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内で設計変更されたものにも適用可能である。
例えば、上述の実施形態では、波長帯域が400〜700nmの可視光を対象にしているが、波長帯域が700〜1600nmの光(NIR、SWIR)を対象にしてもよい。この場合、上記波長帯域の光に対応する撮像素子を用いればよい。
例えば、上述の実施形態では、波長帯域が400〜700nmの可視光を対象にしているが、波長帯域が700〜1600nmの光(NIR、SWIR)を対象にしてもよい。この場合、上記波長帯域の光に対応する撮像素子を用いればよい。
また、検査システム1の検査対象は、アクリル基板30のような透明部材に限らず、透明部材と反射板が一体になったようなもの(例えば、金属板上に透明フィルムが貼り合わされたもの)であってもよい。この場合、ユーザは、透明フィルムの表面及び裏面の傷を把握できるだけでなく、金属板と透明フィルムの間にできた気泡の有無も確認することができる。
なお、図1において、反射板20は任意の構成要素である。つまり、検査システム1は図1から反射板20を除外した構成でもよい。このとき、上述した実施形態と同様に、アクリル基板30の表面で反射されたS波が、撮像素子43sの撮像面にジャストフォーカス(又は略ジャストフォーカス)の状態で照射され、アクリル基板30の裏面で反射されたP波が、撮像素子43pの撮像面にジャストフォーカス(又は略ジャストフォーカス)の状態で照射されればよい。これにより、反射板20がなくても、図5及び図6と同様の画像がそれぞれ得られる。
1 検査システム
10 照明装置
20 反射板
30 アクリル基板
40 撮像装置
41 撮像レンズ
42 ビームスプリッタ
42a,42b 直角プリズム
43s,43p 撮像素子
44s,44p CDS回路
45s,45p A/Dコンバータ
46 信号処理回路
50 LCD
10 照明装置
20 反射板
30 アクリル基板
40 撮像装置
41 撮像レンズ
42 ビームスプリッタ
42a,42b 直角プリズム
43s,43p 撮像素子
44s,44p CDS回路
45s,45p A/Dコンバータ
46 信号処理回路
50 LCD
Claims (4)
- 透明部材の表面及び裏面でそれぞれ反射され、同一の光軸上を通過した反射光を、主にS波を含む第1の反射光と、主にP波を含む第2の反射光と、に分離する光分離手段と、
前記光分離手段により分離された第1の反射光が撮像面上で略フォーカスするように設置された第1の撮像素子と、
前記光分離手段により分離された前記第2の反射光が撮像面上で略フォーカスするように設置された第2の撮像素子と、
を備えた撮像装置。 - 前記光分離手段から前記第2の撮像素子までの光路長が、前記光分離手段から前記第1の撮像素子までの光路長に比べて、前記透明部材の前記表面から前記裏面までの厚みを空気長に換算した値と、光学系の倍率と、に応じた距離だけ長いこと
を特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 - 透明部材に光を照射する光照射手段と、
前記透明部材を撮像する請求項1又は請求項2に記載の撮像装置と、
を有する検査システム。 - 光反射面を有する光反射部材を更に有する
請求項3に記載の検査システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014009502A JP2015137927A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | 撮像装置及び検査システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014009502A JP2015137927A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | 撮像装置及び検査システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015137927A true JP2015137927A (ja) | 2015-07-30 |
Family
ID=53769018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014009502A Pending JP2015137927A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | 撮像装置及び検査システム |
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JP (1) | JP2015137927A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105866394A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-08-17 | 南通筑升土木工程科技有限责任公司 | 岩土工程介质的信号处理方法、装置及系统 |
JP2017166070A (ja) * | 2009-06-25 | 2017-09-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 自己組織化単層パターン化基材の湿式エッチング方法、及び金属パターン化物品 |
JP2019053057A (ja) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 住友化学株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、円偏光板又は楕円偏光板の製造方法及び位相差板の製造方法 |
WO2022130843A1 (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置 |
-
2014
- 2014-01-22 JP JP2014009502A patent/JP2015137927A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017166070A (ja) * | 2009-06-25 | 2017-09-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 自己組織化単層パターン化基材の湿式エッチング方法、及び金属パターン化物品 |
CN105866394A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-08-17 | 南通筑升土木工程科技有限责任公司 | 岩土工程介质的信号处理方法、装置及系统 |
JP2019053057A (ja) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 住友化学株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、円偏光板又は楕円偏光板の製造方法及び位相差板の製造方法 |
JP7075853B2 (ja) | 2017-09-13 | 2022-05-26 | 住友化学株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、円偏光板又は楕円偏光板の製造方法及び位相差板の製造方法 |
WO2022130843A1 (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-23 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置 |
JP2022095139A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | 株式会社日立ハイテクファインシステムズ | 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置 |
JP7390278B2 (ja) | 2020-12-16 | 2023-12-01 | 株式会社日立ハイテクソリューションズ | 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置 |
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