JP2015137387A - ガス供給装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体製造ないし薄膜形成に用いるチャンバの前段に設置するガス供給装置であって、複数の活性ガスを切替えるガス切替ユニットから構成するガス供給装置において、活性ガス配管は、より単純な配管構成にする要求がある。またガス切替装置とガス供給配管の気密漏れ検査において漏れ箇所が容易に特定できるガス供給装置が望まれている。【解決手段】掃気ガス配管と、複数の活性ガス配管を、三方弁で直列式に接続したガス切替ユニットと、ガス流量計と、流量調節器と、圧力計と、から構成するガス供給装置。【選択図】図2
Description
本発明は、掃気ガスと、複数の活性ガスを切り替えるガス切替ユニットを備えたガス供給装置に関するものである。
薄膜形成装置ないし半導体製造装置のガス供給装置は、製造工程に応じて複数の活性ガスを切り替えてチャンバに供給する。
文献1は、チャンバ内で薄膜を形成するにあたり、複数の活性ガスのガス切替ユニットから構成するガス供給部と、排気機構を備えた排気部を備えたガス供給装置において、ガス供給およびガス排気の方法を開示している。
薄膜形成の効率を上げるため、および安全性を高めるため、ガス残留、あるいは、ガス混合は避けなければならない。そこで前記文献1は、不活性ガス配管部を備え、チャンバ部に供給することで、残留ガスを掃気する。
薄膜形成の効率を上げるため、および安全性を高めるため、ガス残留、あるいは、ガス混合は避けなければならない。そこで前記文献1は、不活性ガス配管部を備え、チャンバ部に供給することで、残留ガスを掃気する。
しかしながら、掃気工程により、配管経路でのガス残留を除くとともに、ガスの混合の発生を防げるものの、供給ガス配管および掃気ガス配管は、より単純な配管構成とする要求がある。さらにガス切替装置の気密漏れ検査において、漏れ箇所が容易に特定できるガス供給装置が望まれている。
半導体製造ないし薄膜形成に用いるチャンバの前段に設置するガス供給装置であって、掃気ガスと、複数の活性ガスと、を切替えるガス切替ユニットは、三方弁を備える。
さらに、前記ガス供給装置は、掃気ガス配管と、複数の活性ガス配管を、三方弁で直列式に接続したガス切替ユニットと、ガス流量計と、流量調節器と、圧力計と、から構成する。
ガス切替えを実施する直前の掃気工程では、ガス配管を全て掃気することができるので、配管経路でのガス残留を除くとともに、ガスの混合の発生を防げる。また、ガス切替装置の気密漏れ検査において、容易に漏れ箇所が特定できる。
本発明の実施の形態1.を図1から図3を参照しながら詳細に説明する。
実施の形態1.
図1(a)は遮断弁を閉じた状態を表す。ガス流路F22と、ガス流路F21は遮断弁で遮断されている。図1(b)は遮断弁を開けた状態を表す。ガス流路F21とガス流路F22は繋がっている。図1(c)は三方弁のガス流路F32と、ガス流路F33は繋がっているとともに、ガス流路F31は遮断されている事を示す。
図2は、本発明に係わるガス供給装置の構成を説明する図である。掃気ガスボンベ1の出口に、遮断弁Vs1を繋ぐ。G1からG8の活性ガスボンベの出口に、遮断弁V11ないしV18を繋ぐ。三方弁V1ないしV8を、直列式に接続したガス切替ユニット2は、ガス流量計3と、流量調節器4と、を含めガス供給装置を構成する。前記ガス供給装置は、チャンバ5の入り口に接続する。前記チャンバ5は、排気口6を持つ。前記排気口6に繋ぐポンプなどの排気機構は図に示していない。前記掃気ガスボンベ1は、窒素ガスなどの排気ガスを充填したボンベを想定している。
半導体製造ないし薄膜形成に必要な活性ガスは、前記ガス供給装置から前記チャンバ5へ供給される。前記図2では、前記遮断弁V14を開けるとともに、前記三方弁V4は、G4ボンベの活性ガスを、前記三方弁V3側に流す。前記G4ボンベの活性ガスは、前記三方弁V3と、前記三方弁V2と、前記三方弁V1と、を通過して、前記ガス流量計3に流れる。この結果、前記G4ボンベの活性ガスは、前記チャンバ5に供給されることになる。任意の遮断弁の開閉制御と、三方弁の開閉制御と、ガス流量計測値に基づくガスの流量制御と、は制御装置(図示せず)が行う。
製造プロセスにおいて、第一の活性ガスを、第二の活性ガスに切り替える時、第一の活性ガスボンベの遮断弁を閉じる。さらに、第一の活性ガスの三方弁を切り替えるとともに、前記掃気ガスボンベ1の遮断弁Vs1および前記チャンバ5の前記排気口6を開けて、前記掃気ガスを前記ガス供給装置に流す。規定時間が経過後、残留活性ガスは、前記ガス供給装置と前記チャンバ5から除かれる。その後、前記遮断弁Vs1および前記排気口6を閉じる。
引き続いて、第二の活性ガスボンベの遮断弁を開けるとともに、前記第二の活性ガスの三方弁を切替えることで、前記第二の活性ガスを前記チャンバ5に流す。なお、製造工程の開始において、前記掃気ガスボンベ1の前記遮断弁Vs1および前記排気口6を開けて、前記掃気ガスを前記ガス供給装置に流し、規定時間が経過した後、前記遮断弁Vs1および前記排気口6を閉じる。
引き続いて、第二の活性ガスボンベの遮断弁を開けるとともに、前記第二の活性ガスの三方弁を切替えることで、前記第二の活性ガスを前記チャンバ5に流す。なお、製造工程の開始において、前記掃気ガスボンベ1の前記遮断弁Vs1および前記排気口6を開けて、前記掃気ガスを前記ガス供給装置に流し、規定時間が経過した後、前記遮断弁Vs1および前記排気口6を閉じる。
図3は、前記ガス供給装置のガス漏れ検査を説明する図である。前記図1の記号を用いて、遮断弁と三方弁のガス流路を明示さない理由は、前記図3は、前記ガス漏れ検査を概略的に説明するためである。最初は、前記ガス流量計3および前記流量調節器4を遮断する(図に示さず)。次に、前記遮断弁Vs1と、前記遮断弁V11ないしV18を全て閉じる。さらに全ての三方弁において、前記ガス流路F32と、F33を開き、前記ガス流路F31を閉じる。その後、漏れ確認用ガスボンベ7の遮断弁Vs2を開けて、漏れ確認用ガスを流すことで、前記ガス切替ユニット2に規定圧力をかける。規定時間が経過後、前記圧力計8の計測値を調べる。前期圧力計8に変化がなければ、前記三方弁V1に漏れがないと判る。次に前記三方弁V1を切り替えて、前記三方弁V1の前記ガス流路F31と、F33を開き、前記ガス流路F32を閉じる。規定時間が経過した後、前記圧力計8の計測値を調べる。前期圧力計8に変化がなければ、前記三方弁V2に漏れがないことが判る。同じ動作をつづけることで、すべての三方弁の漏れを検査できる。この様に、三方弁を直列に繋いでいるので、三方弁と遮断弁の開閉の手順は、単純になる。尚、記号P1ないしP8は、活性ガスボンベG1ないしG8の活性ガスが、前記ガス切替ユニット2に流入する方向を示す。
本発明のガス供給装置は、供給ガス配管経路内のガスを残留しないとともに、ガス混合の発生を防げる。さらにガス切替装置と活性ガス供給配管の気密漏れ検査において、漏れ箇所を容易に特定できる。
また本発明のガス供給装置は、半導体製造装置ないし薄膜形成装置のガス供給装置のみならず、燃焼性ガス(天然ガス)の熱量計測器の調整工程に用いるチャンバのガス供給装置に活用できる。前記熱量計測器の調整工程において活性ガスは、天然ガスあるいは都市ガス成分であるCH4、C2H6、C3H8、C4H10やC5H12などである。
1 掃気ガスボンベ
2 ガス切替ユニット
3 ガス流量計
4 流量調節器
5 チャンバ
6 排気口
7 漏れ確認用ガスボンベ
8 圧力計
9 漏れ部位
F21、F22 遮断弁のガス流路
F31、F32、F33 三方弁のガス流路
V1、V2、V3、V4 三方弁
V5、V6、V7、V8 三方弁
V11、V12、V13、V14 遮断弁
V15、V16、V17、V18 遮断弁
Vs1、Vs2 遮断弁
G1、G2、G3、G4 活性ガスボンベ
G5、G6、G7、G8 活性ガスボンベ
P1、P2、P3、P4 ガス切替ユニットに流入する活性ガスの方向
P5、P6、P7、P8 ガス切替ユニットに流入する活性ガスの方向
2 ガス切替ユニット
3 ガス流量計
4 流量調節器
5 チャンバ
6 排気口
7 漏れ確認用ガスボンベ
8 圧力計
9 漏れ部位
F21、F22 遮断弁のガス流路
F31、F32、F33 三方弁のガス流路
V1、V2、V3、V4 三方弁
V5、V6、V7、V8 三方弁
V11、V12、V13、V14 遮断弁
V15、V16、V17、V18 遮断弁
Vs1、Vs2 遮断弁
G1、G2、G3、G4 活性ガスボンベ
G5、G6、G7、G8 活性ガスボンベ
P1、P2、P3、P4 ガス切替ユニットに流入する活性ガスの方向
P5、P6、P7、P8 ガス切替ユニットに流入する活性ガスの方向
Claims (2)
- 半導体製造ないし薄膜形成に用いるチャンバの前段に設置するガス供給装置であって、
掃気ガスと、複数の活性ガスと、を切り替えるガス切替ユニットは、三方弁を備えたことを特徴とするガス供給装置。 - 請求項1において、
掃気ガス配管と、複数の活性ガス配管を、三方弁で直列式に接続したガス切替ユニットと、ガス流量計と、流量調節器と、圧力計とから構成することを特徴とするガス供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014009051A JP2015137387A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014009051A JP2015137387A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | ガス供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015137387A true JP2015137387A (ja) | 2015-07-30 |
Family
ID=53768612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014009051A Pending JP2015137387A (ja) | 2014-01-22 | 2014-01-22 | ガス供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015137387A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020050919A1 (en) * | 2018-09-05 | 2020-03-12 | Applied Materials, Inc. | Gas input system for a substrate processing chamber |
JP2021095092A (ja) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | 三菱造船株式会社 | ガス置換方法 |
WO2024043400A1 (ko) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 및 가스공급방법 |
-
2014
- 2014-01-22 JP JP2014009051A patent/JP2015137387A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2020050919A1 (en) * | 2018-09-05 | 2020-03-12 | Applied Materials, Inc. | Gas input system for a substrate processing chamber |
CN112640078A (zh) * | 2018-09-05 | 2021-04-09 | 应用材料公司 | 用于基板处理腔室的气体输入系统 |
US11107704B2 (en) | 2018-09-05 | 2021-08-31 | Applied Materials, Inc. | Gas input system for a substrate processing chamber |
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JP2021095092A (ja) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | 三菱造船株式会社 | ガス置換方法 |
WO2021124621A1 (ja) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | 三菱造船株式会社 | ガス置換方法 |
WO2024043400A1 (ko) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 및 가스공급방법 |
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