JP2015130918A

JP2015130918A - 磁気共鳴イメージング装置

Info

Publication number: JP2015130918A
Application number: JP2014002695A
Authority: JP
Inventors: 博光高森; Hiromitsu Takamori
Original assignee: Toshiba Corp; Toshiba Medical Systems Corp
Current assignee: Toshiba Corp; Canon Medical Systems Corp
Priority date: 2014-01-09
Filing date: 2014-01-09
Publication date: 2015-07-23
Anticipated expiration: 2034-01-09
Also published as: US10962612B2; US20150192650A1; JP6366940B2

Abstract

【課題】簡易な構成で被検体の居住性を高めること。
【解決手段】実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置は、高周波コイルと、コイル支持部とを備える。高周波コイルは、傾斜磁場コイルの内側に配置され、静磁場中で高周波磁場を発生する。コイル支持部は、略円筒形状に形成され、前記高周波コイルを支持する。また、コイル支持部は、磁場中心を含む所定範囲が軸方向に対して平行に形成され、かつ、前記コイル支持部の両端それぞれの内周が前記所定範囲の内周より大きい。
【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、磁気共鳴イメージング装置に関する。

磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ：Magnetic Resonance Imaging）装置によるＭＲＩ画像の撮像では、被検体は、天板に載置された状態で、架台装置が有するボア（bore）内に移動される。架台装置は、撮像条件に応じたパルスシーケンスに基づいて高周波磁場、傾斜磁場を発生させ、これにより被検体から発生した磁気共鳴信号を収集する。

架台装置は、ボア内に一様な静磁場を発生させる静磁場磁石や、静磁場磁石の内側に配置されてボア内に傾斜磁場を発生させる傾斜磁場コイル等を有する。静磁場磁石や傾斜磁場コイル等は、ボアを確保するためのボアチューブの外側に配置される。また、架台装置のボア内には、天板走行のためのレール等が配置される。

近年、撮像時における被検体の居住性を改善するために、ボア空間を物理的にできるだけ広くした大口径のＭＲＩ装置が開発されている。しかし、ＲＦコイルの性能や、ＭＲＩ画像の画質の観点から、ボアの口径を広くすることには、限界がある。

特開２０１１−８７９０４号公報

本発明が解決しようとする課題は、簡易な構成で被検体の居住性を高めることができる磁気共鳴イメージング装置を提供することである。

実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置は、高周波コイルと、コイル支持部とを備える。高周波コイルは、傾斜磁場コイルの内側に配置され、静磁場中で高周波磁場を発生する。コイル支持部は、略円筒形状に形成され、前記高周波コイルを支持する。また、コイル支持部は、磁場中心を含む所定範囲が軸方向に対して平行に形成され、かつ、前記コイル支持部の両端それぞれの内周が前記所定範囲の内周より大きい。

図１は、第１の実施形態に係るＭＲＩ装置の構成を示す機能ブロック図である。図２は、コイル支持部の一例を示す図である。図３は、コイル支持部の一例を示す図である。図４は、第１の実施形態に係るコイル支持部の一例を示す図である。図５は、第１の実施形態に係るコイル支持部の一例を示す図である。図６は、第１の実施形態に係るコイル支持部の一例を示す図である。図７は、第１の実施形態に係るコイル支持部の製造方法の一例を示す図である。図８は、第１の実施形態に係るコイル支持部の製造方法の一例を示す図である。図９は、第１の実施形態に係るコイル支持部の変形例を示す図である。

以下、図面を参照して、実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置を説明する。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係るＭＲＩ装置１００の構成を示す機能ブロック図である。なお、以下では、磁気共鳴イメージング装置をＭＲＩ（Magnetic Resonance Imaging）装置と称する。

図１に示すように、ＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石１０１と、静磁場電源１０２と、傾斜磁場コイル１０３と、傾斜磁場電源１０４と、寝台１０５と、寝台制御部１０６と、ＷＢ（Whole Body）コイル１０７と、送信部１０８と、受信コイル１０９と、受信部１１０と、シーケンス制御部１２０と、計算機１３０とを備える。なお、ＭＲＩ装置１００に、被検体Ｐ（例えば、人体）は含まれない。また、図１に示す構成は一例に過ぎない。

静磁場磁石１０１は、中空の略円筒形状に形成された磁石であり、内部の空間に静磁場を発生する。静磁場磁石１０１は、例えば、超伝導磁石等であり、静磁場電源１０２から電流の供給を受けて励磁する。静磁場電源１０２は、静磁場磁石１０１に電流を供給する。なお、静磁場磁石１０１は、永久磁石でもよく、この場合、ＭＲＩ装置１００は、静磁場電源１０２を備えなくてもよい。また、静磁場電源１０２は、ＭＲＩ装置１００とは別に備えられてもよい。

傾斜磁場コイル１０３は、中空の略円筒形状に形成されたコイルであり、静磁場磁石１０１の内側に配置される。傾斜磁場コイル１０３は、互いに直交するｘ、ｙ、及びｚの各軸に対応する３つのコイルが組み合わされて形成されており、これら３つのコイルは、傾斜磁場電源１０４から個別に電流の供給を受けて、ｘ、ｙ、及びｚの各軸に沿って磁場強度が変化する傾斜磁場を発生する。傾斜磁場コイル１０３によって発生するｘ、ｙ、及びｚの各軸の傾斜磁場は、例えば、スライスエンコード傾斜磁場Ｇ_SE（若しくはスライス選択傾斜磁場Ｇ_ＳＳ）、位相エンコード傾斜磁場Ｇ_ＰＥ、及び周波数エンコード傾斜磁場Ｇ_ＲＯである。傾斜磁場電源１０４は、傾斜磁場コイル１０３に電流を供給する。

寝台１０５は、被検体Ｐが載置される天板１０５ａを備え、寝台制御部１０６による制御の下、天板１０５ａを、被検体Ｐが載置された状態で、傾斜磁場コイル１０３の空洞（撮像口）内へ挿入する。通常、寝台１０５は、長手方向が静磁場磁石１０１の中心軸と平行になるように設置される。寝台制御部１０６は、計算機１３０による制御の下、寝台１０５を駆動して天板１０５ａを長手方向及び上下方向へ移動する。

ＷＢコイル１０７は、傾斜磁場コイル１０３の内側に配置され、送信部１０８からＲＦパルスの供給を受けて、高周波磁場を発生する。また、ＷＢコイル１０７は、高周波磁場の影響によって被検体Ｐから発せられる磁気共鳴信号（以下、適宜「ＭＲ（Magnetic Resonance）信号」）を受信し、受信したＭＲ信号を受信部１１０に出力する。なお、ＷＢコイル１０７は、静磁場磁石１０１の内側に配置されるＲＦコイルの一例である。

送信部１０８は、対象とする原子の種類及び磁場強度で定まるラーモア周波数に対応するＲＦパルスをＷＢコイル１０７に供給する。

受信コイル１０９は、傾斜磁場コイル１０３の内側に配置され、高周波磁場の影響によって被検体Ｐから発せられるＭＲ信号を受信する。受信コイル１０９は、ＭＲ信号を受信すると、受信したＭＲ信号を受信部１１０へ出力する。

なお、上述したＷＢコイル１０７及び受信コイル１０９は一例に過ぎない。例えば、ＷＢコイル１０７及び受信コイル１０９は、送信機能のみを備えたコイル、受信機能のみを備えたコイル、及び送受信機能を備えたコイルのうち、１つ若しくは複数を組み合わせることによって構成されれば良い。

受信部１１０は、受信コイル１０９から出力されるＭＲ信号を検出し、検出したＭＲ信号に基づいてＭＲデータを生成する。具体的には、受信部１１０は、受信コイル１０９から出力されるＭＲ信号をデジタル変換することによってＭＲデータを生成する。また、受信部１１０は、生成したＭＲデータをシーケンス制御部１２０へ送信する。なお、受信部１１０は、静磁場磁石１０１や傾斜磁場コイル１０３等を備える架台装置側に備えられても良い。

シーケンス制御部１２０は、計算機１３０から送信されるシーケンス情報に基づいて、傾斜磁場電源１０４、送信部１０８及び受信部１１０を駆動することによって、被検体Ｐの撮像を行う。ここで、シーケンス情報は、撮像を行うための手順を定義した情報である。シーケンス情報には、傾斜磁場コイル１０３に供給する電流の強さや電流を供給するタイミング、送信部１０８がＷＢコイル１０７に供給するＲＦパルスの強さやＲＦパルスを印加するタイミング、受信部１１０がＭＲ信号を検出するタイミング等が定義される。例えば、シーケンス制御部１２０は、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の集積回路、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＭＰＵ（Micro Processing Unit）等の電子回路である。

また、シーケンス制御部１２０は、傾斜磁場電源１０４、送信部１０８及び受信部１１０を制御して被検体Ｐを撮像した結果、受信部１１０からＭＲ信号データを受信すると、受信したＭＲ信号データを計算機１３０へ転送する。

計算機１３０は、ＭＲＩ装置１００の全体制御や、ＭＲ画像の生成等を行う。例えば、計算機１３０は、操作者から入力される撮像条件に基づいてシーケンス制御部１２０に撮像シーケンスを実行させる。また、計算機１３０は、シーケンス制御装置１２０から送信されたＭＲ信号データに基づいて画像を再構成する。計算機１３０は、再構成された画像を記憶部に格納したり、表示部に表示したりする。なお、計算機１３０は、例えば、コンピュータ等の情報処理装置である。

ところで、ＷＢコイル１０７は、中心軸から傾斜磁場コイル１０３までの間において、適切な位置に配置される。例えば、傾斜磁場コイル１０３の内周面には、通常、ＲＦシールドが貼り付けられている。ＷＢコイル１０７は、このＲＦシールドに近づけば近づくほど、ＲＦパワーが低下してしまうため、傾斜磁場コイル１０３から離れた位置に配置されるのが好ましい。しかしながら、ＷＢコイル１０７の位置が傾斜磁場コイル１０３から離れれば離れるほど、被検体が挿入される空間（ボア）が狭くなり、居住性が低下してしまう。このため、ＷＢコイル１０７は、ボアの広さを確保しつつＲＦパワーを維持するという観点で、適切な位置に配置される。

ここで、ＷＢコイル１０７を適切な位置に配置するために、ＷＢコイル１０７を支持するコイル支持部（ボビン）が用いられる。コイル支持部は、例えば、その外周面にＷＢコイル１０７が設置される。そして、コイル支持部は、ＷＢコイル１０７が適切な位置に配置されるように、その内径（内周）の大きさが調節されて形成され、傾斜磁場コイル１０３の内側に配置される。

図２及び図３は、コイル支持部の一例を示す図である。図２及び図３には、静磁場磁石１０１の中心軸を通るｙｚ平面における架台の断面図をそれぞれ例示する。

図２に示す例では、コイル支持部２０は、軸方向の長さが短くなるように形成される。具体的には、コイル支持部２０の軸方向の長さは、ＷＢコイル１０７を配置可能な範囲で最も短く形成される。そして、コイル支持部２０は、静磁場磁石１０１と同程度の長さの円筒部材２１によって支持される。また、円筒部材２１は、例えば、複数の支持部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄによって支持される。これにより、ＷＢコイル１０７は、適切な位置に配置される。なお、円筒部材２１の内側には、例えば、支持部材１０ａ，１０ｂによって寝台レール１１が設置される。また、架台は、寝台レール１１で覆われる面を除いて、架台カバー１２で覆われる。また、架台カバー１２と円筒部材２１との間の空間２３ａ，２３ｂには、遮音材や吸音材が配置される。

図３に示す例では、コイル支持部３０は、静磁場磁石１０１と同程度の長さで、中心軸に平行に形成される。そして、コイル支持部３０は、例えば、複数の支持部材３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄによって支持される。これにより、ＷＢコイル１０７は、適切な位置に配置される。なお、コイル支持部３０の内側には、例えば、支持部材１０ａ，１０ｂによって寝台レール１１が設置される。また、架台は、寝台レール１１で覆われる面を除いて、架台カバー１２で覆われる。

ここで、コイル支持部２０を用いる場合には（図２）、ＷＢコイル１０７を必要最小限の大きさのコイル支持部２０で支持するので、被検体の居住性を高めることができる。しかしながら、この場合、コイル支持部３０を用いる場合（図３）と比較して部品点数が多くなり、製造コストが増加してしまう。

これに対して、コイル支持部３０を用いる場合（図３）には、他の支持部材を用いずに、コイル支持部３０を静磁場磁石１０１から支持するので、簡易な構成で実現できる。しかしながら、この場合、コイル支持部３０の軸方向の全長にわたって、ＷＢコイル１０７が配置される部分と同じ内径になってしまうため、被検体の居住性が低下してしまう。

そこで、第１の実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、簡易な構成で被検体の居住性を高めるために、略円筒形状に形成され、ＷＢコイル１０７を支持するコイル支持部４０を備える。なお、ここで言う略円筒形状は、円筒形状のみならず、ＭＲＩ装置１００の機能を大きく損なわない範囲で歪んだ円筒形状も含まれる。すなわち、略円筒形状は、例えば、ｘｙ平面の断面が真円である場合や楕円である場合を含む。

（コイル支持部４０の外観的な特徴）
図４〜図６を用いて、コイル支持部４０の外観的な特徴について説明する。図４〜図６は、第１の実施形態に係るコイル支持部４０の一例を示す図である。図４には、コイル支持部４０の断面図（中心軸を通るｙｚ平面における断面）を例示する。図５には、架台の断面図（中心軸を通るｙｚ平面における断面）を例示する。図６には、コイル支持部４０及びＷＢコイル１０７の位置関係を示す斜視図を例示する。なお、ここでは、各図について簡潔に説明した後に、コイル支持部４０の外観的な特徴について詳細に説明する。

図４に示すように、コイル支持部４０は、主に３つの範囲４０ａ，４０ｂ，４０ｃを有する。範囲４０ａは、磁場中心を含む所定範囲が軸方向に対して平行な略円筒形状に形成される。また、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、コイル支持部４０の両端それぞれから範囲４０ａまでの間において、軸方向に対して平行でない略円筒形状に形成される。具体的には、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、磁場中心側から両端に向かって広がるように、傾斜がつけられた略円筒形状に形成される。また、範囲４０ｄ，４０ｅそれぞれは、コイル支持部４０の両端からそれぞれ軸方向の中心方向に向かって所定距離の範囲である。

なお、第１の実施形態では、説明の都合上、コイル支持部４０をそれぞれの範囲４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ，４０ｅに分けて説明するが、コイル支持部４０の外観的な特徴を説明するための一手段に過ぎない。したがって、例えば、コイル支持部４０が、各範囲４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ，４０ｅで個別に成形されることを意味するものではない。なお、コイル支持部４０の成形方法については後述する。

図５に示すように、コイル支持部４０は、範囲４０ａにＷＢコイル１０７が設置される。そして、コイル支持部４０は、例えば、複数の支持部材４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄによって支持される。支持部材４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄは、例えば、コイル支持部４０の外周面の所定範囲を支持する土台である。これにより、ＷＢコイル１０７は、適切な位置に配置される。なお、コイル支持部４０の内側には、例えば、支持部材１０ａ，１０ｂによって寝台レール１１が設置される。また、架台は、寝台レール１１で覆われる面を除いて、架台カバー１２で覆われる。また、傾斜磁場コイル１０３は、図示しない支持部材によって静磁場磁石から支持される。

なお、図５はあくまでも一例に過ぎない。例えば、支持部材４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄは、必ずしも４つでなくても良い。例えば、ＭＲＩ装置１００は、支持部材４１ｃ，４１ｄを有していなくても良い。

図６に示すように、コイル支持部４０は、ｘｙ平面の断面における形状が真円の円筒形状である。具体的には、端面の形状、及び、範囲４０ａにおけるｘｙ平面の断面の形状は、真円である。また、コイル支持部４０は、範囲４０ａの外周面にＷＢコイル１０７が配置される。具体的には、コイル支持部４０は、範囲４０ａの外周面にＷＢコイル１０７のコイルパターンが形成され、コンデンサやキャパシタが配置される。一例としては、コイル支持部４０の範囲４０ａは、ＷＢコイル１０７のコイルパターンを形成しうる最小範囲である。

なお、図６はあくまでも一例に過ぎない。例えば、上述したように、コイル支持部４０は、ｘｙ平面の断面における形状が楕円の円筒形状であっても良い。この場合、端面の形状、及び、範囲４０ａにおけるｘｙ平面の断面の形状のうち、いずれか一方のみが楕円であっても良いし、両方が楕円であっても良い。すなわち、端面の形状、及び、範囲４０ａにおけるｘｙ平面の断面の形状は、異なる形状であっても良い。

以下、コイル支持部４０の外観的な特徴について詳細に説明する。コイル支持部４０は、ＷＢコイル１０７が設置される設置面を含む範囲４０ａが軸方向に対して平行に形成される。ここで、範囲４０ａの内径は、ＷＢコイル１０７が適切な位置に配置されるように、その大きさが決定される。また、範囲４０ａの軸方向の長さは、ＷＢコイル１０７の軸方向の長さより長く、傾斜磁場コイル１０３の軸方向の長さより短い。また、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、軸方向の中心から両端に向かって広がるように（図６の矢印）、傾斜を有する。言い換えると、コイル支持部４０は、コイル支持部４０の両端それぞれの内径（内周）が範囲４０ａの内径（内周）より大きい。これにより、コイル支持部４０は、被検体の居住性を高めることができる。

なお、コイル支持部４０のｘｙ平面の断面における形状が楕円の円筒形状である場合には、その内径は一意ではないが、少なくとも、コイル支持部４０の両端それぞれの内周が範囲４０ａの内周より大きい。

また、コイル支持部４０の軸方向の長さは、傾斜磁場コイル１０３の軸方向の長さより長い。また、コイル支持部４０の範囲４０ｄ，４０ｅの外周面は、静磁場磁石１０１の内周面と平行に形成される。このため、コイル支持部４０は、簡易な構成の支持部材４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄによって支持可能となる。これにより、コイル支持部４０は、部品点数を増やすことなく、簡易な構成でＷＢコイル１０７を支持することができる。なお、範囲４０ｄ，４０ｅそれぞれの軸方向の長さは、傾斜磁場コイル１０３の両端面より静磁場磁石１０１が長い部分の長さより短い。

また、コイル支持部４０の範囲４０ｄ，４０ｅそれぞれの厚みは、範囲４０ａの厚みより厚い。ここで、範囲４０ａの厚みは、被検体の居住性を高めるために、コイル支持部４０がＷＢコイル１０７を支持可能な範囲内で薄く作成することが好ましい。これに対して、コイル支持部４０の範囲４０ｄ，４０ｅそれぞれの厚みは、その位置にかかる荷重によってコイル支持部４０が変形しないように、厚く作成することが好ましい。具体的に、範囲４０ｄ，４０ｅには、寝台レール１１、天板１０５ａ、及び被検体による荷重がかかる。また、コイル支持部４０を支持する支持部材４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄと、コイル支持部４０から寝台レール１１を支持する支持部材１０ａ，１０ｂとの位置がずれている場合には、コイル支持部４０にモーメントによる力もかかるので、より厚く作成することが好ましい。

また、コイル支持部４０を用いることで、空間４２ａ、４２ｂが生まれる。この空間４２ａは、例えば、範囲４０ｂの外周面から傾斜磁場コイル１０３の内周面までの間の空間である。また、この空間４２ｂは、例えば、範囲４０ｃの外周面から傾斜磁場コイル１０３の内周面までの間の空間である。ここで、コイル支持部４０は部品点数が１点しかないので、コイル支持部４０を用いる場合には、空間４２ａ、４２ｂは、例えば、部品点数の多いコイル支持部２０を用いる場合の空間２３ａ，２３ｂよりも広くなる。これにより、コイル支持部４０は、遮音材や吸音材を配置可能な空間を広く確保することができる。

なお、上記の例はあくまでも一例に過ぎない。例えば、図５の例では、ボア内部の架台カバー１２とコイル支持部４０との間には隙間があるものとして説明しているが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、この隙間が空かないように、架台カバー１２とコイル支持部４０の内周面とを密着させても良い。また、架台カバーとコイル支持部４０とが平行に並んでいても良いし，平行に並んでいなくても良い。ただし、被検体の居住性を高めるためには、架台カバー１２とコイル支持部４０との間の隙間は小さい方が好ましく、また、架台カバー１２はコイル支持部４０の内周面に沿って形成されることが好ましい。

（コイル支持部４０の製造方法による特徴）
図７及び図８を用いて、コイル支持部４０の製造方法の一例について説明する。図７及び図８は、第１の実施形態に係るコイル支持部４０の製造方法の一例を示す図である。

図７及び図８に示すように、第１の実施形態に係るコイル支持部４０は、例えば、フィラメントワインディング（ＦＷ）法により成形（成型）される。具体的には、ＦＷ法では、繊維束（ロービング）５０に接着剤となる樹脂（熱硬化性樹脂）を含浸させて一定の張力を与えながら、回転しているマンドレル（型）５１に糸口をトラバースさせて規則正しく巻き付け、所定の厚さまで巻回した後に加熱硬化させる。そして、旋盤によって外形を成形した後に、マンドレル５１を抜くことにより、コイル支持部４０が得られる。

ここで、繊維束５０は、複数の繊維が所定の方向に並んだ束である。つまり、複数の繊維が所定の方向に並んだ束が巻き付けられるので、コイル支持部４０は、複数の繊維が所定の方向に並んだ構造を有する。また、巻き付けられる繊維は、少なくとも範囲４０ａの内周１周分の長さを有する。なお、この繊維は、例えば、ガラス繊維である。また、樹脂は、例えば、ポリエステル樹脂又はエポキシ樹脂である。

また、ＦＷパターンとしては、フープ巻き（図７）と、ヘリカル巻き（図８）とが採用される。フープ巻きは、マンドレル５１に繊維束５０を軸心方向に対しておよそ９０度の方向に巻き付ける方法である。これにより、繊維束５０は、大きな隙間を空けることなくマンドレル５１に対して巻き付けられる。フープ巻きによって巻き付けられた繊維束５０の層をフープ巻き層と称する。また、ヘリカル巻きは、マンドレル５１に繊維束５０を軸心方向と所定の斜交角度で巻き付ける方法である。これにより、繊維束５０が交差する箇所が増え、成形体（コイル支持部４０）の強度を高めることができる。ヘリカル巻きによって巻き付けられた繊維束５０の層をヘリカル巻き層と称する。

例えば、コイル支持部４０は、フープ巻きと、ヘリカル巻きとが適宜組み合わせて採用される。すなわち、コイル支持部４０は、フープ巻き層及びヘリカル巻き層を有する。これにより、コイル支持部４０は、適切な強度に調整される。

また、例えば、コイル支持部４０は、内周面から１層目にフープ巻き層を有する。具体的には、ＦＷ法において、最初に、フープ巻きによってマンドレル５１に繊維束５０を巻き付ける。これにより、コイル支持部４０は、被検体のボアを均一な層で構成することができる。

なお、図７及び図８の例はあくまでも一例である。例えば、コイル支持部４０は、必ずしも内周面から１層目にフープ巻き層を有していなくても良い。また、例えば、コイル支持部４０は、フープ巻き及びヘリカル巻きのうち、いずれか一方のＦＷパターンのみで作成されても良い。

上述してきたように、第１の実施形態に係るＭＲＩ装置１００は、略円筒形状に形成され、ＷＢコイル１０７を支持するコイル支持部４０を備える。このコイル支持部４０は、ＷＢコイル１０７が設置される設置面を含む範囲４０ａが軸方向に対して平行に形成され、かつ、コイル支持部４０の両端それぞれの内周が範囲４０の内周より大きい。このため、ＭＲＩ装置１００は、簡易な構成で被検体の居住性を高めることができる。例えば、ＭＲＩ装置１００は、部品点数を増やさないので、製造コストの抑制に寄与する。

（第１の実施形態の変形例）
なお、コイル支持部４０の形状は、図４〜図６において説明した形状に限定されるものではない。例えば、コイル支持部４０は、範囲４０ｂ，４０ｃの厚みを更に厚く形成しても良い。

図９は、第１の実施形態に係るコイル支持部４０の変形例を示す図である。図９には、架台の断面図（中心軸を通るｙｚ平面における断面）を例示する。図９に示すように、コイル支持部４０は、範囲４０ｂ，４０ｃの厚みを、図４〜図６において説明した厚みよりも厚く形成可能である。具体的には、コイル支持部４０は、図５の空間４２ａ，４２ｂに対応する位置を満たすように成形される。これにより、コイル支持部４０の厚みが増すので、コイル支持部４０の遮音性能が向上する。なお、この場合、コイル支持部４０の内周面は、図４〜図６のコイル支持部４０の内周面と同一であるので、被検体の居住性を低下させることはない。

なお、上述した実施形態においては、例えば、範囲４０ｂと範囲４０ｃとが対象に形成される場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、ＭＲＩ装置１００の機能を大きく損なわない範囲で、範囲４０ｂ及び範囲４０ｃをそれぞれ異なる形状にしても良い。範囲４０ｂ及び範囲４０ｃの形状は、例えば、被検体が挿入される側が大きい形状を有していても良い。

また、上述した実施形態においては、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、傾斜がつけられた略円筒形状に形成される場合を説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、磁場中心側から両端に向かって円弧を描いて広がるように、湾曲した略円筒形状に形成されても良い。また、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、傾斜及び湾曲のみならず、例えば、凹凸が合っても良い。

図４に示すように、コイル支持部４０は、主に３つの範囲４０ａ，４０ｂ，４０ｃを有する。範囲４０ａは、ＷＢコイル１０７が設置される設置面を含み、軸方向に対して平行な略円筒形状に形成される。また、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、コイル支持部４０の両端それぞれから範囲４０ａまでの間において、軸方向に対して平行でない略円筒形状に形成される。具体的には、範囲４０ｂ，４０ｃそれぞれは、軸方向の中心から両端に向かって広がるように、傾斜がつけられた略円筒形状に形成される。また、範囲４０ｄ，４０ｅそれぞれは、コイル支持部４０の両端からそれぞれ軸方向の中心方向に向かって所定距離の範囲である。

以上説明した少なくともひとつの実施形態によれば、簡易な構成で被検体の居住性を高めることができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

１００ＭＲＩ装置
１０７ＷＢコイル
４０コイル支持部

Claims

傾斜磁場コイルの内側に配置され、静磁場中で高周波磁場を発生する高周波コイルと、
略円筒形状に形成され、前記高周波コイルを支持するコイル支持部と
を備え、
前記コイル支持部は、磁場中心を含む所定範囲が軸方向に対して平行に形成され、かつ、前記コイル支持部の両端それぞれの内周が前記所定範囲の内周より大きいことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部は、両端面それぞれから前記所定範囲までの間が、傾斜がつけられた略円筒形状又は湾曲した略円筒形状で形成されることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記所定範囲は、前記高周波コイルのコイルパターンを形成しうる最小範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部の軸方向の長さは、前記傾斜磁場コイルの軸方向の長さより長いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部の両端それぞれの厚みは、前記所定範囲の厚みより厚いことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部の両端からそれぞれ軸方向の中心方向に向かって所定距離以内の外周面は、静磁場磁石の内周面と平行であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部は、ｘｙ平面の断面が真円又は楕円である略円筒形状で形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部は、繊維及び樹脂により構成され、複数の当該繊維が所定の方向に並ぶ構造を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記繊維は、少なくとも前記所定範囲の内周１周分の長さを有することを特徴とする請求項８に記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部は、フープ巻き層及びヘリカル巻き層を有することを特徴とする請求項８又は９に記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記コイル支持部は、内周面から１層目に前記フープ巻き層を有することを特徴とする請求項１０に記載の磁気共鳴イメージング装置。
前記繊維は、ガラス繊維で構成され、
前記樹脂は、ポリエステル樹脂又はエポキシ樹脂で構成されることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか一つに記載の磁気共鳴イメージング装置。
傾斜磁場コイルの内側に配置され、静磁場中で高周波磁場を発生する高周波コイルと、
略円筒形状に形成され、前記高周波コイルを支持するコイル支持部と
を備え、
前記コイル支持部は、磁場中心を含む所定範囲が軸方向に対して平行に形成され、かつ、前記コイル支持部の両端それぞれの内周が前記所定範囲の内周より大きく、フィラメントワインディング法により成形されることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。