JP2015118080A - 部品を検査するための支持デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】 正確で信頼性が高く実装するのに経済的であるようなｍｍ規模以下の小型の部品を検査又は測定するための支持デバイスを提供する。
【解決手段】 本体（１２）を有する支持体（６）と、前記支持体の表面に配置されたワーク面（２０）と、前記支持体のハウジング（１５）に取り付けられたフィールド集中要素（１０）と、フィールド発生器（８）とを有する支持デバイス（２）である。前記フィールド集中要素は、ベース部（２２）と、前記ワーク面の近くに配置された集束部（２４）とを有し、前記ベース部は、周囲の平均幅又は直径Ｄ２が軸方向端面（２８）上の前記集束部の直径Ｄ１よりも大きい軸方向ベース面（２６）を有する。前記ベース部は、曲面（３３）によって前記集束部に接続されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、小型の部品を測定又は検査するための支持デバイスに関する。これは、特に、回転又は回動する部品の心合わせをするために行われる。本発明の特定の応用分野は、腕時計機構の部品の測定又は検査に関する。

計時器アーバー及び車セットの測定におけるサンプルの位置合わせは、いずれの測定の不確かさも発生させずに行わなければならない。伝統的に、可動部品の幾何学的構成をすべて検査するためにいくつかの測定技術が使用される。これらの検査操作には、有能な人員と資材の点から相当な資源が必要となる。

検査されるいくつかの幾何学的構成を測定するために、視覚的な検査法を使用することができる。しかし、これらの方法は、部品を所定位置に保持することによって検査表面が隠れないということを確実にすることが困難である。さらに、回転する計時器の部品を支持するために、回転軸は、各部品の回転試験の間中、大きな振動なしで、絶えず平衡状態に維持されなければならない。

このような現在までに使用されてきた従来の測定技術は、車セットアーバーの２つの端の間の放射方向の距離にわたっての車セットの傾き誤りを１００μｍ未満の精度で測定することができない。

本発明の目的は、正確で信頼性が高く実装するのに経済的であるｍｍ規模以下の小型の部品を検査又は測定するための支持デバイスを提供することである。

本発明の特定の目的は、正確で信頼性が高く実装するのに経済的である小型の部品を見ることを可能にする装置を介して検査又は測定するための支持デバイスを提供することである。

本発明の特定の目的は、正確で信頼性が高く実装するのに経済的である小型の計時器機構の部品を見ることを可能にする装置を介して検査又は測定するための支持デバイスを提供することである。

本発明の特定の目的は、正確で信頼性が高く実装するのに経済的である計時器機構の部品のような小型の部品を見ることを可能にする装置を介して検査及び測定する支持デバイスを有する測定及び検査する装置を提供することである。

回転するメンバーのための非常に低摩耗な軸ベアリングを装備する支持デバイスを提供することは好ましい。

高効率な軸ベアリングを装備する支持デバイスを提供することは好ましい。

小型で堅牢性が高い支持デバイスを提供することは好ましい。

有能でないオペレーターによって測定又は検査される部品を迅速に適所にセットすることを確実にする支持デバイスを提供することは好ましい。

測定の間中に安定位置の回転する部品を保持することができる支持デバイスを提供することは好ましい。

静的及び動的な形状が検査される場合に、回転する部品の回転軸の配向方向を確実にすることができる支持デバイスを提供することは好ましい。

車とピニオンを有する長いアーバー、短いアーバー又は段付きアーバーのような様々な形状の部品を受けることができる測定装置及び他の計時器機構の部品を提供することは好ましい。

本発明の目的は、請求項１に記載の支持デバイスによって達成される。従属請求項は、本発明の好ましい態様について記載している。

本明細書は、本体を有する支持体と、前記支持体の表面に配置されたワーク面と、前記支持体のハウジングに取り付けられた変形例に応じて磁界及び／又は電界であるフィールド（磁界及び／又は電界）集中要素と、フィールド発生器とを有する支持デバイスについて記載している。前記フィールド集中要素は、ベース部と、前記ワーク面の近くに配置されたフィールド集束部とを有し、前記ベース部は、周囲の平均幅又は直径Ｄ２が軸方向端面上の前記集束部の直径Ｄ１よりも大きい軸方向ベース面を有する。前記ベース部は、曲面によって前記集束部に接続されている。

好ましくは、前記集中要素の曲面は、連続的形状を有する。一変形例では、前記曲面は、一定の曲率半径の円形状を有する。別の好ましい変形例において、前記曲面は、曲率半径が変化する円形状であり、その曲がった部分の半径は、前記集束部の側で大きい。前記曲面は、前記集束部と接線方向で連結していると好ましい。前記集束部は、円柱形の区画と、及び前記支持デバイスの軸に垂直な平坦又は実質的に平坦な軸方向端面とを有すると好ましい。

特定の実施形態において、集中要素の軸方向端面の直径Ｄ１は、０．１５〜０．６ｍｍであり、前記ベース部の直径又は幅Ｄ２は、２〜３ｍｍであり、前記曲面の曲率半径は、１．５〜４ｍｍである。

特定の実施形態において、前記フィールド集中要素の材料は、保磁力Ｈｃが５ｋＡ／ｍ以上であって最大透磁率が１００以上である磁気的に軟鋼である。

特定の実施形態において、フィールド集中要素の材料は、誘電剛性率が１０ｋＶ／ｍｍ以上である誘電体である。

特定の実施形態において、前記フィールド発生器は、１テスラを超える飽和磁界を有する希土類永久磁石である。

一実施形態では、前記フィールド発生器は、電気的キャパシターを有する。

前記フィールド発生器は、前記支持体の本体に形成される空洞に配置されていて、前記フィールド発生器は、前記フィールド集中要素の一部の軸方向ベース面に対して当接し又はこれに近傍にある。

ワーク面の材料は、高い硬度及び良好な摩擦特性を有するコランダム、ダイヤモンド及び他の貴重な石、及びセラミックス材料から選択することが好ましい。

前記ワーク面は、前記ハウジングを閉じる端壁で組み立てられた端片上に形成している。前記ハウジングは、円筒状の壁を有し、前記端壁は、前記端片を固定するための中央オリフィスを備える円形の円盤の形を実質的に有する。

本発明の目的は、請求項１５に記載の小型の部品を測定又は検査する機器によって達成される。

本明細書において、第１の支持デバイス及びこれと相補的な第２の支持デバイスを支持するフレームを有する測定及び検査機器であって、前記第１の支持デバイスは、本体を有する支持体と、前記支持体の表面に配置されたワーク面と、前記支持体のハウジングに取り付けられたフィールド集中要素と、変形例に応じて磁界及び／又は電界を発生させるフィールド発生器とを有し、前記フィールド集中要素は、ベース部と、前記ワーク面の近くに配置された集束部とを有し、前記ベース部は、周囲の平均幅又は直径が軸方向端面上の前記集束部の直径よりも大きい軸方向ベース面を有し、前記２つの支持デバイスは、同じ軸線Ａ上に整列しており、互いに対して反対方向に向いており、これらの支持デバイスの間に、測定又は検査されるメンバーを受けるように構成されている。

前記フレームは、異なる長さを有するメンバーを測定又は検査することを可能にするように、前記２つの支持デバイスの間の距離を変えるスライドデバイスを有することが好ましい。

好ましい一実施形態では、検査されるメンバーの第１の端が、前記第１の支持デバイスに当接し、その他方の端が、小空間によって前記相補的な支持デバイスから分けられている。この構成は、前記第１の支持デバイスによって与えられる磁気的及び／又は電気的な引力が、前記相補的な第２の支持デバイスによって与えられるものよりも大きいことによって得られる。

当該機器の支持デバイスは、上記のデバイスの一又は複数の特徴を有することが好ましい。

本発明の目的は、光学カメラを有し、測定又は検査機器を装備する光学的測定又は検査装置によっても達成される。

下記の請求の範囲、発明を実施するための形態、添付図面を読むことによって、他の本発明の好ましい目的及び態様が、明らかになるであろう。

図１は、本発明の一実施形態に係る測定機器についての図である。 図２ａは、本発明の一実施形態に係る支持デバイスの断面図である。 図２ｂは、本発明の一実施形態に係る支持デバイスの正面図である。 図３ａは、本発明の一実施形態に係る支持デバイスのフィールド集中要素の斜視図である。 図３ｂは、本発明の一実施形態に係る支持デバイスのフィールド集中要素の変形例の側面図である。 図４ａは、検査されるメンバーの検査の間中に本発明の実施形態に係る装置を測定及び検査する装置の光学カメラによって撮影された写真であり、メンバー全体を示す。 図４ｂは、検査されるメンバーの検査の間中に本発明の実施形態に係る装置を測定及び検査する装置の光学カメラによって撮影された写真であり、メンバーの一端の詳細図である。

図を参照して、本発明の一実施形態に係る測定機器１は、支持デバイス２及び相補的な支持デバイス４を支えるフレーム９を有し、これらの２つの支持デバイス２、４は、同じ軸線Ａ上に整列しており、これらの支持デバイス２、４は、互いに対して反対方向に向いており、測定又は検査されるメンバー３をこれらの支持デバイス２、４の間に受けるように構成されている。フレーム９は、異なる長さのメンバーを測定又は検査することを可能にするために、２つの支持デバイス２、４の間の距離を変化させるための他の取り除くことが可能な要素のスライドデバイスを有している。

支持デバイスは、磁界、又は一変形例においては、電界、又は一変形例においては、電界と磁界の組み合わせを集中させ配向させるように構成する。これによって、一変形例に従って、静磁場及び／又は静電場の力をメンバーに与えることによって、検査又は測定されるメンバー３を集中させる。

好ましい実施形態における図４ａに示すように、検査されるメンバー３のアーバー５の第１の端７ａが支持デバイス２の１つに当接し、他方の端７ｂが相補的な支持デバイス４の表面から小空間によって分離されるように測定機器が構成する。この構成は、（一変形例に従って）相補的な支持デバイス４によるものと比較して大きな静磁場及び／又は静電場の引力を支持デバイス２が与えることによって得ることができる。検査されるメンバー３が１つの端のみに当接することによって、摩擦力を減少させ、検査されるメンバーの正確な心合わせが確実になる。これは、検査されるメンバー３を貫通する２つの支持デバイス間の（変形例に依存して）磁界の磁束線及び／又は電界線に依存又はこれに主として依存する。フレーム９は、アーバー５の端７ｂと支持デバイス４の表面との間の自由空間を最適化するために、一方又は双方の支持デバイスの位置の細密調整を行う手段を有していてもよい。

好ましい一実施形態において、支持デバイスは、磁界を集中させ配向させるように構成する。計時器の運動・機構又は他の微小機械的な機構の回転するメンバーを測定又は検査する機器を測定又は検査する磁気的な部品を使用することは、好ましい。なぜなら、低摩擦を伴う相当に大きい局所的な力を発生させることができるからである。これによって、少なくとも１つの強磁性又は非常に透磁性のアーバーを有する回転する計時器の車セットが、互いに引力がはたらく２つの平行な磁気双極によって作られる磁界によって連続的な平衡状態に保持されることを可能にする。

相補的な支持デバイス４は、前記理由によってわずかに異なる電界強度を有すること以外は支持デバイス２と同じ原理に従う構造を有していてもよい。検査されるメンバー３の構造に起因して、検査されるメンバー３の一方の端が他方よりも強く引きつけられるような場合は、２つの表面デバイスも同一であることができる。

図２ａ及び２ｂを参照する。本発明の一実施形態に係る支持デバイス２は、支持体６、支持体６に取り付けられるフィールド集中要素１０、及びフィールド発生器８を有する。好ましい一実施形態において、フィールド発生器は磁石を有する。この磁石も支持体６に取り付けられていてもよい。磁石の機能が完全に果たされることを前提に、支持体の幾何学的構成に依存して、磁石を支持体６の外に取り付けることもできる。すなわち、要求される強度の磁界をフィールド集中要素１０に与えるように構成する。

支持体６は、フィールド発生器８又はその一部を収容し又はこのフィールド発生器８が挿入されるような空洞１３を備えた本体１２と、支持体におけるフィールド集中要素のアセンブリ及びポジショニングのために構成するハウジング１５を有することができる。支持体６は、さらに、支持部１６と、及びワーク面２０を備える端片１８とを有する端壁１４を備え、ハウジング１５へのアクセスを与える開口を閉じる端壁１４を有することができる。

一変形例では、フィールド集中要素１０のアセンブリのためのハウジング１５へと、空洞１３の側面を介してアクセス可能であることができる。この場合、端壁１４は、本体１２と一体成形されていてもよい。ワーク面２０を、一変形例において、フィールド集中要素１０の軸方向端面２８に直接設けて一体成形されたものとすることができる。

好ましい一実施形態では、ハウジング１５は円筒状の壁を有し、端壁１４は、端片１８を固定する中央オリフィスを有する実質的に円形の円盤の形に作られる。

ワーク面２０の材料は、良好な機械的性質がある材料であって、特に高い硬度及び良好な摩擦特性を有する材料から選択される。これらの基準に適合する材料の例としては、コランダム、ダイヤモンド、及び他の貴重な結晶性の石、及び特定のセラミックス材料がある。端片１８を形成するために、貴重な天然石を使用することができる。あるいは、変形例では、プラズマ蒸着又はＣＶＤ（化学蒸着）のような既知の堆積技術によって合成層を設けることができる。

磁石８は、永久磁石又は電磁石の形態で作られていてもよい。この第２の変形例において、本体１２に形成される空洞１３の外側に、誘導コイルを設けることができ、磁性材料で作られた挿入物によって磁界が形成される。磁性材料とは、すなわち、１００以上の高い最大透磁率を有する材料である。挿入物は、空洞１３内に収容され、フィールド集中要素のベース部２２の軸方向ベース面２６に当接し又はこれの近傍にある。

別の実施形態において、支持デバイス２は、磁石の代わりに、電界を与える電界発生器（例、電気的キャパシター）であってもよく、電界集中要素１０が電界を集中させるために使用される。この実施形態では、非磁性のメンバー又は低透磁率のメンバーの測定又は検査のために、支持デバイスを使用することができる。別の実施形態において、支持デバイスは、測定又は検査されるメンバーを心合わせするための電界及び磁界を与えるための磁界発生器及び電界発生器の双方又は一方とすることができる。

測定装置は、磁界又は電界をオン又はオフに切り替え、場の強度を時間にわたって検査する検査システムを備えた電気回路を有していてもよい。

図２ａ、２ｂ、図３ａ、３ｂを参照する。支持デバイス２は、ベース部２２及び集束部２４を有するフィールド集中要素１０を有する。ベース部２２は、その周囲３０ｂで平均幅又は直径Ｄ２を有する軸方向ベース面２６を有する。フィールド集中要素の他方の端において、集束部２４は、直径Ｄ２よりも小さな直径Ｄ１を備えた軸方向端面２８を有する。ベース部２２は、曲面３３によって集束部に接続されている。好ましい一実施形態において、曲面３３には連続的形状がある。すなわち、不連続性がない。そして、特定の一実施形態において、この曲面は、実質的に円形状のレンズの形を有し、その曲率半径Ｒは一定であっても可変であってもよい。一変形例では、曲面３３の輪郭は、楕円又は放物線の形であり、その曲がった部分の半径は、集束部２４の側で大きくなっている。軸方向端面２８とベース部２２の間の距離を定義する軸方向高さＨは、曲率半径Ｒよりも大きい。この部分に、集束部２４を連結する曲面が接線方向で接続されていてもよい。一実施形態において、集束部２４は円柱形の区画を有し、軸方向端面２８は、支持デバイスの軸Ａに垂直な平坦又は実質的に平坦な表面を有する。

ベース部２２は、フィールド集中要素が支持体６に固定されることを可能にする軸方向の厚みを有する。ベース部２２は、支持体に支持デバイスを固定するように構成する異なる形状とすることができる。図３ａは、基板部分を有するフィールド集中要素１０を示しており、基板部分は、フランジ３４と、図２ａに示すような相補的な形状のハウジングに埋め込まれた段部を形成する断面減少区画３０ａとを有する。フランジ３４には、本体１２におけるフィールド集中要素１０の方向をセットするために、偏光部（例、平面部分３８）を設けることができる。この偏光部の特徴は、ハウジング１５にフィールド集中要素が置かれ、測定又は検査されるメンバー３の回転から発生する回転磁力に起因して、偏光素子がない状態においてフィールド集中要素が回転する可能性があるような変形例において有用である。曲面３３及び集束部の円柱状の拡張部分によって、磁束の集束を特に最適化するが、高い点の局所的な飽和を防ぎながら、最適な方法で電界の集中をも最適化する。実際に、円環状又は実質的に円環状の形状によって、フィールド集中要素１０の端部における非常に減少した直径Ｄ１に集束することが可能になる。この部分におけるフィールド線が、軸方向端面２８に接近して軸方向端面２８を軸線方向Ａに整列し、測定又は制御されるメンバー３に対して軸線Ａのまわりで集中し軸の方向に配向した高密度の磁界又は電界を与えることが可能になる。

特に計時器運動の可動アーバーを測定又は検査する装置のための好ましい一実施形態において、軸方向端面の直径Ｄ１が０．１５〜０．６ｍｍであり、ベース部２２の直径又は幅Ｄ２が２〜３ｍｍであり、曲率半径Ｒが１．５〜３ｍｍ、例えば、２ｍｍであり、また、軸方向端面とベース部の間の高さＨは、１〜２ｍｍ、例えば、１〜１．５ｍｍである。

測定機器１は、例えば、人間の目に可視か不可視かにかかわらず電磁波スペクトルに対する光学カメラを有する光学的な検査又は測定装置に装備されていてもよい。これは、例えば、Ｘ線又は赤外線の装置である。また、測定機器１は、超音波などを使用して固体の形状を検知する他の手段に装備されていてもよい。好ましいことに、本発明に係る測定装置は、測定又は制御されるメンバーに障害物がない視野を提供することができる。

磁界を使用する特定の一実施形態において、ＡＦＫ５０２軟鋼を磁界集中要素に、また、１テスラを超える飽和磁界の希土類磁石を磁界発生器に使用することができる。

電界を利用する特定の一実施形態において、磁石の代わりに電気的キャパシターを使用することができ、例えば、金めっきした材料のような導電材料によって、フィールド集中要素を形成したり、フィールド集中要素をカバーすることができる。

最後に、変形実施形態によれば、集束部が磁気的に不均質であって回転軸近くでは高い透磁率を有するものとすることができる。

本発明の利点は、次の特徴を含む。
−高い測定効率
−測定条件の再現性
−回転する計時器の車セット（プレート、アーバー、バランスバネなど）の傾き誤りの±０．１５％までの正確な動的測定
−回転する計時器の車セット（プレート、アーバー、バランスバネなど）の集まり偏心誤りの±０．００５ｍｍまでの正確な動的測定
−磁気撮像装置の単純な較正及び検査
−控えめな大きさ
−容易な運動
−各部分の非常に単純な実装
−パルス空気による作動される回転の可能性
−部品の幾何学的構成のいずれも支持体によって隠されない
−傾き、重い計時器の部品の集まること、及び偏心誤りを測定できる可能性
−不均衡な計時器の部品の傾き、心合わせ、及び偏心誤りを測定できる可能性
−異なる部品構成に支持体を適応させるための端片の交換性

１ 測定装置
２ 支持デバイス
１０ フィールド集中要素
２２ ベース部
２６ 軸方向ベース面
３８ 偏光部
２４ 集束部
２８ 軸方向端面
３３ 曲面
６ 支持体
１２ 本体
１３ 空洞
１５ ハウジング
１４ 端壁
１６ 支持部
１８ 端片
２０ ワーク面
８ フィールド発生器
磁石／電気的キャパシター
４ 相補的な支持デバイス
３ 測定又は検査されるメンバー
５ アーバー
７ａ 第１の端
７ｂ 他方の端

Claims (21)

1. 本体（１２）を有する支持体（６）と、
   前記支持体の表面に配置されたワーク面（２０）と、
   前記支持体のハウジング（１５）に取り付けられたフィールド集中要素（１０）と、 フィールド発生器（８）とを有する支持デバイス（２）であって、
   前記フィールド集中要素は、ベース部（２２）と、前記ワーク面の近くに配置された集束部（２４）とを有し、
   前記ベース部は、周囲の平均幅又は直径Ｄ２が軸方向端面（２８）上の前記集束部の直径Ｄ１よりも大きい軸方向ベース面（２６）を有し、
   前記ベース部は、曲面（３３）によって前記集束部に接続されており、
   前記曲面は、前記フィールド集中要素（１０）の縦方向の軸の方向に凹んだ形状である
   ことを特徴とする支持デバイス。
2. 前記曲面は、連続的形状を有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の支持デバイス。
3. 前記曲面は、一定の曲率半径Ｒの円形状を有する
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の支持デバイス。
4. 前記曲面は、曲率半径Ｒが変化する円形状であり、その曲がった部分の半径は、前記集束部の側で大きい
   ことを特徴とする請求項２に記載の支持デバイス。
5. 前記曲面は、前記集束部と接線方向で連続している
   ことを特徴とする請求項２〜４に記載の支持デバイス。
6. 前記集束部は、円筒形の区画と、及び前記支持デバイスの軸線Ａに垂直な平坦又は実質的に平坦な軸方向端面（２８）とを有する
   ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の支持デバイス。
7. 前記軸方向端面の直径Ｄ１は、０．１５〜０．６ｍｍであり、
   前記ベース部の直径又は幅Ｄ２は、２〜３ｍｍであり、
   前記曲面の半径Ｒは、１．５〜４ｍｍである
   ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の支持デバイス。
8. 前記フィールド集中要素の材料は、保磁力が５ｋＡ／ｍ以上であって最大透磁率が１００以上である軟鋼である
   ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の支持デバイス。
9. 前記フィールド発生器は、１テスラを超える飽和磁界を有する希土類永久磁石である
   ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の支持デバイス。
10. 前記フィールド発生器は、電気的キャパシターを有する
    ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の支持デバイス。
11. 前記フィールド発生器は、前記支持体の前記本体に形成される空洞（１３）に配置され、
    前記フィールド発生器は、前記フィールド集中要素の一部の軸方向ベース面（２６）に対して当接し又はこれに近傍にある
    ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の支持デバイス。
12. 前記ワーク面の材料は、コランダム、ダイヤモンド及びセラミックス材料から選択される
    ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の支持デバイス。
13. 前記ワーク面は、前記ハウジング（１５）を閉じる端壁（１４）で組み立てられた端片（１８）上にある
    ことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の支持デバイス。
14. 前記ハウジングは、円筒状の壁を有し、前記端壁は、前記端片を固定するための中央オリフィスを備える円形の円盤の形を実質的に有する
    ことを特徴とする請求項１３に記載の支持デバイス。
15. 前記集束部は、回転軸近くで透磁率が高いような磁気的に不均質である
    ことを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の支持デバイス。
16. 第１の支持デバイス（２）及びこれと相補的な第２の支持デバイス（４）を支持するフレーム（９）を有する測定及び検査機器（１）であって、
    これらの２つの支持デバイスは、同じ軸線Ａ上に整列しており、
    互いに対して反対方向に向いており、これらの支持デバイスの間に、測定又は検査されるメンバー（３）を受けるように構成し、
    前記第１の支持デバイスは、本体（１２）を有する支持体（６）と、
    前記支持体の表面に配置されたワーク面（２０）と、
    前記支持体のハウジング（１５）に取り付けられたフィールド集中要素（１０）と、 フィールド発生器（８）とを有し、
    前記フィールド集中要素は、ベース部（２２）と、前記ワーク面の近くに配置された集束部（２４）とを有し、
    前記ベース部は、周囲の平均幅又は直径Ｄ２が軸方向端面（２８）上の前記集束部の直径Ｄ１よりも大きい軸方向ベース面（２６）を有する
    ことを特徴とする測定及び検査機器。
17. 前記フレームは、異なる長さを有するメンバーを測定又は検査することを可能にするように、前記２つの支持デバイスの間の距離を変えるスライドデバイスを有する
    ことを特徴とする請求項１６に記載の測定及び検査機器。
18. 検査されるメンバー（３）のアーバー（５）の第１の端（７ａ）が、前記第１の支持デバイス（２）に当接し、
    その他方の端（７ｂ）が、小空間によって前記相補的な支持デバイス（４）から分けられており、
    前記第１の支持デバイスによって与えられる磁気的及び／又は電気的な引力は、前記相補的な第２の支持デバイスによって与えられるものよりも大きい
    ことを特徴とする請求項１６または１７のいずれか一項に記載の測定及び検査機器。
19. 前記第１の支持デバイスは、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の支持デバイスを有する
    ことを特徴とする請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の測定及び検査機器。
20. 前記第２の支持デバイスは、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の支持デバイスを有する
    ことを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の測定及び検査機器。
21. 光学カメラと、及び請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の測定及び検査機器とを有する光学的測定又は検査装置。