JP2015102532A - 三次元形状測定装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】測定精度を向上させることができる三次元形状測定装置を提供する。【解決手段】投影光学系2は、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を標本1に投影する。投影パターン切替機構4aは、周期パターン光の位相をシフトする。投影光学系2は、空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を標本1に投影する。撮像部7は、位相をずらしながら標本1に投影した周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像を生成し、標本1に投影されたランダムパターン光を撮像してランダム投影画像を生成する。演算部8bは、位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出し、ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出し、算出された三次元形状に基づいて、位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う。【選択図】図1
Description
本発明は、測定対象物の三次元形状を測定する三次元形状測定装置に関する。
工業部品の計測、建築物の構造や配管などの劣化度合いの計測、デザイン模型モデルの計測、人体計測を行う場合、数百μm〜数mのオーダの大きさの測定対象物の三次元形状の計測が行われる。例えば、測定対象物に既知の2次元パターンの光を投影し、投影されたパターン光の変形量から測定対象物の三次元形状を測定する技術が知られている。既知の2次元パターンを用いて測定を行う技術は、周期パターンを用いる技術(周期パターン投影法)と、ランダムパターンを用いる技術(ランダムパターン投影法)とに大きく分かれる。
周期パターン投影法では、周期的な縞パターンの光が測定対象物上に投影され、光が投影された方向とは異なる方向から、投影されたパターン光の画像が取得される。取得された画像において、縞パターンは、測定対象物の表面形状に応じた変形パターンとして観測される。三角測量の原理を用いてパターンの横方向のシフト量(変形量)から測定対象物の三次元形状が求まる。パターンの横方向のシフト量を求める方法として位相シフト法が最も広く利用されている。
パターンの横方向のシフト量を高精度に求める技術として位相シフト法が知られている。位相シフト法は、例えば特許文献1に記載されている。
位相シフト法では、位相が既知量だけシフトした周期的なパターンの光が投影された測定対象物の複数枚の画像が取得される。例えば、4分の1周期ずつ位相がシフトした周期的なパターンの光が投影された測定対象物を撮像した4枚の画像の輝度値をI1(x,y),I2(x,y),I3(x,y),I4(x,y)とした場合、画素(x,y)におけるパターンの位相分布φ(x,y)は式(1)となる。
この方法によれば、測定対象物上のパターンの変形量が位相分布φ(x,y)として画素毎に算出できる。このため、X,Y方向の分解能の高い高精度な三次元形状計測が可能である。
位相シフト法が規則正しい周期パターンを利用するのに対し、ランダムパターン投影法は、その名の通り、不規則なパターンを利用する。ランダムパターン投影法は、例えば特許文献2に記載されている。
ランダムパターン投影法では、ランダムパターンの光が投影された測定対象物の画像が取得される。さらに、パターンの不規則性を利用した部分画像のパターンマッチング処理により、変形前のパターンと変形後のパターンとで対応する領域が探索される。探索された領域について、変形前のパターンを基準とした、変形後のパターンにおける横シフト量が算出される。
位相シフト法では複数枚の画像の取得が必要であるのに対し、ランダムパターン投影法では一枚の画像から測定対象物の三次元形状を求めることができる。このため、ランダムパターン投影法はリアルタイム化に好都合である。
位相シフト法では、逆正接関数から位相分布φ(x,y)を求めるので、位相分布φ(x,y)は、0〜2πの値に畳み込まれた不連続な分布となる。この0〜2πの不連続な位相分布において位相が連続するように位相を滑らかに接続する処理は位相接続処理(アンラッピング)と呼ばれる。
位相接続処理は測定対象物の領域全体に渡って行われる。測定対象物が滑らかな表面を持つ場合には位相接続は容易である。しかし、測定対象物が急峻な段差を持つ場合、特に位相に換算してπを越える段差を持つ場合、その段差では正確な位相接続はできない問題がある。
また、撮影されたパターンの輝度値が極端に暗い場合(例えばパターンの死角部分など)、位相分布φ(x,y)には多くのノイズ情報が含まれる。このようなノイズ情報を含む部分では位相接続エラーが発生しやすい。位相接続処理では、隣接する画素の位相値の差分がπを超えるような不連続点を検出し、その画素およびその画素以降の画素の位相値に対して、隣接画素間の位相差がπ以下となるように2π×(位相の次数)が加算もしくは減算される。
位相接続エラーの発生により、加算もしくは減算される値が誤っていると、位相が不連続となる画素およびその画素以降の画素の全ての位相値に対して、誤った値が加算される。つまり、ひとたび位相接続エラーが発生すると、そのエラーが発生した画素を基点として、その後の位相接続処理においても位相接続エラーが伝播し続けるという問題がある。
特許文献1では、位相接続を確実にするために、補助パターンが用いられている。補助パターンの光は点状光、線状光、あるいは周期パターン光であり、注目した位相の不連続点のみに対して位相の次数が決定される。つまり、測定対象物の領域全体に渡って各画素の位相の次数を決定する訳ではない。このため、位相接続エラーが一度発生すると、そのエラーが発生した画素を基点として誤差が伝播し、測定精度が低下するという問題があった。
ランダムパターン投影法では、画像の部分領域の不規則性を利用したパターンマッチング処理により横シフト量を求めるため、パターンマッチング処理に用いる部分画像よりも小さな構造の変化を捉えることが難しい。つまりX,Y方向の分解能が悪く、測定精度が低下するという問題があった。
本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであって、測定精度を向上させることができる三次元形状測定装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を測定対象物に投影する第1の投影機構と、前記周期パターン光の位相をシフトする位相シフト機構と、空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を測定対象物に投影する第2の投影機構と、前記位相シフト機構により位相をずらしながら前記測定対象物に投影した前記周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像を生成し、前記測定対象物に投影された前記ランダムパターン光を撮像してランダム投影画像を生成する撮像機構と、前記位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出し、前記ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出し、算出された三次元形状に基づいて、前記位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う測定部と、を有することを特徴とする三次元形状測定装置である。
また、本発明の三次元形状測定装置において、前記測定部は、前記位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する各位置の位相を含む位相分布を算出し、前記ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、各位置の高さを含む三次元形状を算出し、前記ランダムパターン投影法による測定によって算出された前記各位置の高さと、前記位相分布の所定の位相に対応する高さを単位とする次数とを対応付け、前記各位置の高さに対応付けられた前記次数に基づいて、前記位相分布において、前記各位置の不連続な位相が連続するように位相接続を行うことを特徴とする。
また、本発明の三次元形状測定装置において、前記第1の投影機構は、前記周期パターン光を前記測定対象物に投影する第1の光学系を有し、前記第2の投影機構は、前記ランダムパターン光を前記測定対象物に投影する、前記第1の光学系と異なる第2の光学系を有することを特徴とする。
また、本発明の三次元形状測定装置において、測定モードの指示に応じて、前記位相シフト法による測定を行う第1の測定モードと、前記ランダムパターン投影法による測定を行う第2の測定モードと、前記ランダムパターン投影法による測定の結果を用いて、前記位相シフト法による測定によって算出された前記位相分布の前記位相接続を行う第3の測定モードと、のいずれかを選択して測定を行うことを特徴とする。
本発明によれば、ランダムパターン投影法による測定によって算出された三次元形状に基づいて、位相シフト法による測定によって算出された位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行うことによって、測定精度を向上させることができる。
以下、図面を参照し、本発明の実施形態を説明する。
[第1の実施形態]
(構成)
図1は、第1の実施形態による三次元形状測定装置の構成を示している。図1に示す三次元形状測定装置は、測定対象物である標本1の三次元形状を測定する装置であり、投影光学系2、投影パターン列3、投影パターン切替機構4a、投影パターン切替機構制御部4b、光源5a、光源制御部5b、撮像光学系6、撮像部7、コンピュータ8、指示部9、表示器10を有する。
(構成)
図1は、第1の実施形態による三次元形状測定装置の構成を示している。図1に示す三次元形状測定装置は、測定対象物である標本1の三次元形状を測定する装置であり、投影光学系2、投影パターン列3、投影パターン切替機構4a、投影パターン切替機構制御部4b、光源5a、光源制御部5b、撮像光学系6、撮像部7、コンピュータ8、指示部9、表示器10を有する。
標本1の表面に向き合う方向に撮像光学系6が配置され、標本1と光学的におおよそ共役な位置に撮像部7が配置されている。撮像部7はCCD(Charge Coupled Devices)素子やCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の2次元イメージングセンサである。
撮像光学系6の光軸の方向とは異なる方向に投影光学系2と光源5aとが配置されている。投影光学系2に対する標本1の位置と光学的におおよそ共役な位置には投影パターン列3が配置されている。投影パターン列3は投影パターン切替機構4a(例えばメカニカルステージ)に配置されている。
光源5aは、標本1に投影される光を発生する。投影パターン列3は、光源5aからの光の一部を透過し光源5aからの光の一部を遮断することにより、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光または空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を生成する。投影パターン切替機構4aは、投影パターン列3が生成する光を周期パターン光とランダムパターン光との間で切り替える。投影光学系2は、投影パターン列3からの光を標本1に投影する。本実施形態では、投影光学系2は、周期パターン光を測定対象物(標本1)に投影する第1の投影機構と、ランダムパターン光を測定対象物(標本1)に投影する第2の投影機構との両方を兼ねている。
図2は投影パターン列3の詳細を示している。投影パターン列3は、2次元方向にパターンがランダム(不規則)に変化するランダムパターン21と、2次元の一定方向にパターン(明部と暗部とが交互に連続する縞状パターン)が周期的に変化する周期パターン31とを有する。これら2つのパターンは、互いに重ならないように並べられている。これら2つのパターンは投影パターン切替機構4aによって投影光学系2の光路に選択的に配置される。また、投影パターン切替機構4aは、後述する位相シフト動作の際の周期パターン31のスキャニング機構を兼ねている。すなわち、投影パターン切替機構4aは、周期パターン光の位相をシフトする位相シフト機構を兼ねている。
撮像光学系6は、周期パターン光またはランダムパターン光が投影された標本1で反射または散乱した光を撮像部7に結像する。撮像部7は、投影パターン切替機構4aにより位相をずらしながら標本1に投影した周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像(第1の画像)を生成し、標本1に投影されたランダムパターン光を撮像してランダム投影画像(第2の画像)を生成する撮像機構である。撮像部7が生成した画像はコンピュータ8に取り込まれる。
コンピュータ8は、記憶部8a、演算部8b、通信部8cを有する。記憶部8aは、アプリケーションプログラムや、取得した画像のデータを記憶する。演算部8bは、各種演算を行う。通信部8cは、外部機器と通信を行う。コンピュータ8にはマウスやキーボード等の指示部9と、アプリケーションプログラムの画面や測定結果等を表示する表示器10とが接続されている。
投影パターン切替機構制御部4bは、コンピュータ8からの指示に応じて、投影パターン切替機構4aの駆動を行う。光源制御部5bは、コンピュータ8からの指示に応じて、光源5aのON/OFFや調光を行う。
演算部8bは、本実施形態の特徴的な演算として、三次元形状の測定を行う。すなわち、演算部8bは、周期パターン光を撮像して生成された位相シフト画像(第1の画像)に基づいて、位相シフト法による演算処理(位相シフト法による測定)を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出する。演算部8bは、ランダムパターン光を撮像して生成されたランダム投影画像(第2の画像)に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出する。演算部8bは、算出された三次元形状に基づいて、位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う。
より具体的には、演算部8bは、周期パターン光を撮像して生成された位相シフト画像(第1の画像)に基づいて、位相シフト法による演算処理(位相シフト法による測定)を行い、三次元形状に対応する各位置の位相を含む位相分布を算出する。演算部8bは、ランダムパターン光を撮像して生成されたランダム投影画像(第2の画像)に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、各位置の高さを含む三次元形状を算出する。演算部8bは、ランダムパターン投影法による測定によって算出された各位置の高さと、位相分布の所定の位相に対応する高さを単位とする次数とを対応付ける。演算部8bは、各位置の高さに対応付けられた次数に基づいて、位相分布において、各位置の不連続な位相が連続するように位相接続を行う。演算部8bが行う三次元形状の測定の詳細については、後述する。
(動作)
図3は、本実施形態による三次元測定装置の動作の手順を示している。以下、図3を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
図3は、本実施形態による三次元測定装置の動作の手順を示している。以下、図3を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
操作者からの指示によって処理開始の指示がコンピュータ8に入力され、処理が開始される(ステップS100)。
処理が開始されると、コンピュータ8は、通信部8cを介して光源制御部5bに光源5aの点灯を指示し、投影パターン切替機構制御部4bに、投影パターン切替機構4aのランダムパターン21を光路に入れる指示を行う。光源5aからの光によって照明されたランダムパターン21の光を含むランダムパターン光は、投影光学系2を通して標本1の表面に投影される。撮像部7は、コンピュータ8からの指示によって、投影光学系2を通して標本1の表面に投影されたランダムパターン光によって形成されたパターンを撮影し、撮影パターンIrdm(x,y)を含む画像(ランダム投影画像)を取得する。撮影された画像は記憶部8aに保存される(ステップS105)。
コンピュータ8(演算部8b)は、撮影パターンIrdm(x,y)と、ランダムパターン21の画像とを使って、ランダムパターン投影法によって、標本1の概略の凹凸形状である表面形状Zrdm(x,y)を算出する(ステップS150)。ランダムパターン21を正面から撮影した画像、あるいは、ランダムパターン21と同一のパターンを有し、デジタル的に生成された画像がランダムパターン21の画像として予め記憶部8aに保存されている。
図4は、ステップS150の処理内容を示している。説明を簡単にするために、例えば図4(a)で示すような単純な段差を持つ標本1aを例に、ステップS150の処理内容を説明する。
図4(b)は、ランダムパターン21の画像である基準パターン41を示している。図4(c)は、標本1aの表面形状によって変形を受けた撮影パターンIrdm(x,y)を示している。撮影パターンIrdm(x,y)には、標本1の影が映った領域51が含まれる。
演算部8bは、基準パターン41の部分画像61,62に対応する撮影パターンIrdm(x,y)中の領域である探索位置63,64をパターンマッチング処理によりそれぞれ探索する。この際、例えば異なる位置毎に正規化相互相関係数が算出され、その係数が最大となる位置が探索位置63,64となる。部分画像61に探索位置63が対応し、部分画像62に探索位置64が対応する。探索位置64は、標本1aにおいて、探索位置63よりも高い段差部分にあるため、部分画像62に対して、より大きく右方向にシフトしている。
演算部8bは、対応付けられた部分領域について、変形前のパターン(基準パターン41)を基準とした、変形後のパターン(撮影パターンIrdm(x,y))における横シフト量を算出する。さらに、演算部8bは、算出した横シフト量に基づいて、三角測量の原理を用いて、標本1aの三次元的な表面形状Zrdm(x,y)を算出する。以上の内容が、ステップS150の処理内容である。
ステップS150の処理と並行して、以下で説明するステップS110〜S130の処理によって、位相シフト法による測定が行われる。
投影パターン切替機構4aは、コンピュータ8からの指示によって、投影光学系2の光路に配置される投影パターンをランダムパターン21から周期パターン31へと切り替える。光源5aからの光によって照明された周期パターン31の光を含む周期パターン光は、投影光学系2を通して標本1の表面に投影される。撮像部7は、コンピュータ8からの指示によって、投影光学系2を通して標本1の表面に投影された周期パターン光によって形成されたパターンを撮影し、撮影パターンI1(x,y)を含む画像を取得する。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS110)。
続いて、投影パターン切替機構4aは、コンピュータ8からの指示によって、明暗(縞)の周期の1/4、つまり明暗の位相で90度に相当する量だけ周期パターン31を横にシフトする。この状態で、再び標本1に周期パターン光が投影され、撮像部7が、撮影パターンI2(x,y)を含む画像を取得する。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS115)。この周期パターン31を横にシフトする動作が、前述した位相シフト動作と呼ばれる動作である。
ステップS115と同様に、位相が90度シフト(ステップS110の状態から位相が180度シフト)し、撮影パターンI3(x,y)を含む画像が取得される。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS120)。さらに、位相が90度シフト(ステップS110の状態から位相が270度シフト)し、撮影パターンI4(x,y)を含む画像が取得される。取得された撮影パターンI4(x,y)は記憶部8aに保存される(ステップS125)。
演算部8bは、上記の処理で取得された一連の画像(位相シフト画像)における撮影パターンI1(x,y),I2(x,y),I3(x,y),I4(x,y)を式(2)に代入して標本1の位相分布φ(x,y)を算出する(ステップS130)。
図5は、測定の結果の一例を示している。図5(a)は、位相シフト法による測定の結果である位相分布φ(x,y)のグラフ71を示している。グラフ71の横軸は基準平面(例えばXY平面)上の測定位置(図5(a)ではX方向の位置)を示し、グラフ71の縦軸は位相分布φ(x,y)の位相値を示している。位相分布φ(x,y)は、逆正接関数から求められるので、0〜2πの値をとる不連続な分布である。グラフ71の曲線は、標本1の三次元形状に対応する各位置(X方向の位置)の位相を示している。
図5(b)は、ランダムパターン投影法による測定の結果である表面形状Zrdm(x,y)のグラフ72を示している。グラフ72の横軸は基準平面(例えばXY平面)上の測定位置(図5(b)ではX方向の位置)を示し、グラフ72の縦軸は表面形状Zrdm(x,y)の高さの値を示している。グラフ72の曲線は、標本1の三次元形状に対応する各位置(X方向の位置)の高さを示している。
演算部8bは、表面形状Zrdm(x,y)を高さ方向に複数の領域に分割する。分割は、位相シフト法による測定で得られた位相分布φ(x,y)の所定の位相(2π)に相当する高さを単位として行われる。演算部8bは、分割後の各領域に対して、位相の次数(n=0,1,2,3,・・・)を割り当てることにより、標本1の三次元形状に対応する各位置(X方向の位置)の高さと位相の次数とを対応付ける。図5(b)では、表面形状Zrdm(x,y)が5つの領域に分割され、各領域に0〜4の次数が割り当てられている。例えば、領域81の各位置に対応付けられた次数は4であり、領域82の各位置に対応付けられた次数は3である。各領域の高さは、位相分布φ(x,y)の所定の位相(2π)に相当する。
演算部8bは、位相の次数に基づいて、位相分布φ(x,y)の位相接続を行う。具体的には、演算部8bは、標本1の三次元形状に対応する各位置の高さに対応付けられた位相の次数に相当する位相量だけ、位相分布φ(x,y)の位相値を補正することによって、補正後(位相接続後)の位相分布φunwrap(x,y)を取得する。
図5(c)は、位相分布φ(x,y)に位相接続を行うことにより取得された位相分布φunwrap(x,y)のグラフ73を示している。グラフ73の横軸は基準平面(例えばXY平面)上の測定位置(図5(c)ではX方向の位置)を示し、グラフ73の縦軸は位相分布φunwrap(x,y)の位相値を示している。位相分布φunwrap(x,y)は、位相接続後の位相分布であるので、連続な分布である。グラフ73の曲線は、標本1の三次元形状に対応する各位置(X方向の位置)の位相を示している。
例えば、位相分布φ(x,y)のグラフ71における位置X1の位相φ(X1,y)と、表面形状Zrdm(x,y)のグラフ72における位置X1の表面形状Zrdm(X1,y)とが互いに対応している。グラフ72において、位置X1に対応する位相の次数は1である。したがって、演算部8bは、位相分布φ(x,y)のグラフ71における位置X1の位相φ(X1,y)を2πだけ補正することにより、位相分布φunwrap(x,y)のグラフ73における位相φunwrap(X1,y)を算出する。
つまり、演算部8bは、表面形状Zrdm(x,y)の各位置(x,y)に対応する位相の次数nを用いて、式(3)によって位相φunwrap(x,y)を算出する(ステップS135)。
位相φunwrap(x,y)=φ(x,y)+n×2π (3)
位相φunwrap(x,y)=φ(x,y)+n×2π (3)
上記の処理では、ある位置(x,y)の画素の位相φunwrap(x,y)が、隣接する画素の位相に関係なく算出される。したがって、位相接続エラーの伝搬はない。
図6は、位相分布φ(x,y)の所定の位相(2π)に相当する高さを求める方法の一例を示している。2πの位相に相当する高さは、投影光学系2と撮像光学系6との幾何学的な配置から簡単な演算によって求めることができる。例えば、図6に示すように、投影光学系2と撮像光学系6との光軸が交差する角度をθとし、標本1に投影された周期パターン光における周期パターンの周期をpとすると、2πの位相に相当する高さhは式(4)によって求められる。
h=p/sinθ (4)
h=p/sinθ (4)
演算部8bは、ステップS135で位相分布φunwrap(x,y)を算出した後、位相分布φunwrap(x,y)に基づいて、標本1に投影された周期パターン光における周期パターンの横シフト量を算出する。さらに、演算部8bは、周期パターンの横シフト量に基づいて、三角測量の原理を用いて標本1の表面形状Z(x,y)を算出する(ステップS140)。
続いて、コンピュータ8の指示によって、測定結果である表面形状Z(x,y)が表示器10に表示され、測定が終了する(ステップS145)。
ステップS150におけるランダムパターン光の投影および撮影は、ステップS110〜S125における周期パターン光の投影および撮影とは異なるタイミングで行われる。ランダムパターン光が投影された標本1の画像が取得された後のステップS150における残りの処理は、ステップS110〜S125の処理と並行して行われてもよい。また、ステップS115〜S125の処理の順番は上記の順番と異なっていてもよい。
(効果)
本実施形態によれば、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を投影する第1の投影機構(投影光学系2)と、周期パターン光の位相をシフトする位相シフト機構(投影パターン切替機構4a)と、空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を投影する第2の投影機構(投影光学系2)と、位相シフト機構により位相をずらしながら測定対象物(標本1)に投影した周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像を生成し、測定対象物(標本1)に投影されたランダムパターン光を撮像してランダム投影画像を生成する撮像機構(撮像部7)と、位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出し、ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出し、算出された三次元形状に基づいて、位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う測定部(演算部8b)と、を有することを特徴とする三次元形状測定装置が構成される。
本実施形態によれば、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を投影する第1の投影機構(投影光学系2)と、周期パターン光の位相をシフトする位相シフト機構(投影パターン切替機構4a)と、空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を投影する第2の投影機構(投影光学系2)と、位相シフト機構により位相をずらしながら測定対象物(標本1)に投影した周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像を生成し、測定対象物(標本1)に投影されたランダムパターン光を撮像してランダム投影画像を生成する撮像機構(撮像部7)と、位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出し、ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出し、算出された三次元形状に基づいて、位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う測定部(演算部8b)と、を有することを特徴とする三次元形状測定装置が構成される。
本実施形態では、位相接続の必要のないランダムパターン投影法による測定の結果から位相の次数が算出され、その位相の次数に基づいて位相接続が行われる。このため、従来の位相シフト法の問題点であった位相接続エラーの伝播の問題は発生しない。よって、測定精度を向上させることができる。
また、表面形状Z(x,y)は、位相シフト法による測定によって算出された位相分布φ(x,y)に基づいて求められるので、ランダムパターン投影法による測定の結果よりもX,Y方向の分解能の高い高精度な測定結果を得ることができる。また、測定対象物が、位相分布φ(x,y)の2πに相当する高さよりも高い段差を有する場合でも、測定対象物の三次元形状を測定することができる。
本実施形態の特徴的な構成である第1の投影機構(投影光学系2)、第2の投影機構(投影光学系2)、撮像機構(撮像部7)、測定部(演算部8b)以外の構成は、測定精度を向上させることができるという効果に直接寄与しているわけではないため、本実施形態に必須の構成ではない。
<変形例>
図7を用いて本実施形態の変形例を説明する。図7は、本変形例における三次元形状測定装置の構成を示している。
図7を用いて本実施形態の変形例を説明する。図7は、本変形例における三次元形状測定装置の構成を示している。
(構成)
図7において、図1に示す構成と同様の構成には同一の符号が付与されている。図1に示す構成と同様の構成については、説明を省略する。本変形例では、図1における投影パターン切替機構4aと投影パターン切替機構制御部4bとがそれぞれデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)90aとDMD制御部90bとに置き換わる。
図7において、図1に示す構成と同様の構成には同一の符号が付与されている。図1に示す構成と同様の構成については、説明を省略する。本変形例では、図1における投影パターン切替機構4aと投影パターン切替機構制御部4bとがそれぞれデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)90aとDMD制御部90bとに置き換わる。
DMD90aは、数十万〜数百万個の微細な2次元ミラーアレイを有するデバイスである。DMD90aは、例えば近年のコンピュータ画面の表示用のプロジェクターに使われている。DMD90aでは個々のミラーの角度が可変である。DMD90aは、個々のミラーの角度を所望の角度に設定して2次元パターンの光を投影する。DMD90aは反射光を利用するため、光源5aはDMD90aの反射光路に設けられている。
(動作)
図3に示す動作では投影パターンの切替がメカニカルステージで行われるが、本変形例ではメカニカルステージが電子デバイスに置き換わる。ミラーの角度の変更により、投影パターンの変更と周期パターンの位相シフトとが可能となる。他の部分については、図3に示す動作と同様であるので、説明を省略する。
図3に示す動作では投影パターンの切替がメカニカルステージで行われるが、本変形例ではメカニカルステージが電子デバイスに置き換わる。ミラーの角度の変更により、投影パターンの変更と周期パターンの位相シフトとが可能となる。他の部分については、図3に示す動作と同様であるので、説明を省略する。
(効果)
メカニカルな可動部が無いので小型化、高速化が可能である。
メカニカルな可動部が無いので小型化、高速化が可能である。
[第2の実施形態]
(構成)
図8は、第2の実施形態による三次元形状測定装置の構成を示している。図8に示す三次元形状測定装置は、測定対象物である標本1の三次元形状を測定する装置であり、撮像光学系6、撮像部7、コンピュータ8、指示部9、表示器10、周期パターン31、第1の投影光学系102、位相シフト機構104a、位相シフト機構制御部104b、第1の光源105a、第1の光源制御部105b、第2の投影光学系112、第2の光源115a、第2の光源制御部115b、ランダムパターン121を有する。図8において、図1に示す構成と同様の構成には同一の符号が付与されている。図1に示す構成と同様の構成については、説明を省略する。
(構成)
図8は、第2の実施形態による三次元形状測定装置の構成を示している。図8に示す三次元形状測定装置は、測定対象物である標本1の三次元形状を測定する装置であり、撮像光学系6、撮像部7、コンピュータ8、指示部9、表示器10、周期パターン31、第1の投影光学系102、位相シフト機構104a、位相シフト機構制御部104b、第1の光源105a、第1の光源制御部105b、第2の投影光学系112、第2の光源115a、第2の光源制御部115b、ランダムパターン121を有する。図8において、図1に示す構成と同様の構成には同一の符号が付与されている。図1に示す構成と同様の構成については、説明を省略する。
撮像光学系6の光軸の方向とは異なる方向に第1の投影光学系102と第1の光源105aとが配置されている。第1の投影光学系102に対する標本1の位置と光学的におおよそ共役な位置には周期パターン31が配置されている。周期パターン31は位相シフト機構104a(例えばメカニカルステージ)に配置されている。
第1の光源105aは、標本1に投影される光を発生する。周期パターン31は、第1の光源105aからの光の一部を透過し第1の光源105aからの光の一部を遮断することにより、空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を生成する。位相シフト機構制御部104bは、周期パターン光の位相をシフトする。第1の投影光学系102は、周期パターン31からの光を標本1に投影する。
撮像光学系6の光軸の方向および第1の投影光学系102の光軸の方向とは異なる方向に第2の投影光学系112と第2の光源115aとが配置されている。第2の投影光学系112に対する標本1の位置と光学的におおよそ共役な位置にはランダムパターン121が配置されている。
第2の光源115aは、標本1に投影される光を発生する。ランダムパターン121は、第2の光源115aからの光の一部を透過し第2の光源115aからの光の一部を遮断することにより、空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を生成する。第2の投影光学系112は、ランダムパターン121からの光を標本1に投影する。
位相シフト機構制御部104bは、コンピュータ8からの指示に応じて、位相シフト機構104aの駆動を行う。第1の光源制御部105b、第2の光源制御部115bは、コンピュータ8からの指示に応じて、それぞれ第1の光源105a、第2の光源115aのON/OFFや調光を行う。
(動作)
本実施形態による三次元測定装置の動作の手順は、図3に示す手順と同様である。以下、図3を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
本実施形態による三次元測定装置の動作の手順は、図3に示す手順と同様である。以下、図3を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
操作者からの指示によって処理開始の指示がコンピュータ8に入力され、処理が開始される(ステップS100)。
処理が開始されると、コンピュータ8は、通信部8cを介して第1の光源制御部105bに第1の光源105aの消灯を指示し、第2の光源制御部115bに第2の光源115aの点灯を指示する。第2の光源115aからの光によって照明されたランダムパターン121の光を含むランダムパターン光は、第2の投影光学系112を通して標本1の表面に投影される。撮像部7は、コンピュータ8からの指示によって、第2の投影光学系112を通して標本1の表面に投影されたランダムパターン光によって形成されたパターンを撮影し、撮影パターンIrdm(x,y)を含む画像(ランダム投影画像)を取得する。撮影された画像は記憶部8aに保存される(ステップS105)。
コンピュータ8(演算部8b)は、撮影パターンIrdm(x,y)と、ランダムパターン121の画像とを使って、ランダムパターン投影法によって、標本1の概略の凹凸形状である表面形状Zrdm(x,y)を算出する(ステップS150)。ランダムパターン121を正面から撮影した画像、あるいは、ランダムパターン121と同一のパターンを有し、デジタル的に生成された画像がランダムパターン121の画像として予め記憶部8aに保存されている。表面形状Zrdm(x,y)を算出する処理は、第1の実施形態で説明した処理と同様であるので説明を省略する。
ステップS150の処理と並行して、以下で説明するステップS110〜S130の処理によって、位相シフト法による測定が行われる。
コンピュータ8は、通信部8cを介して第1の光源制御部105bに第1の光源105aの点灯を指示し、第2の光源制御部115bに第2の光源115aの消灯を指示する。第1の光源105aからの光によって照明された周期パターン31の光を含む周期パターン光は、第1の投影光学系102を通して標本1の表面に投影される。撮像部7は、コンピュータ8からの指示によって、第1の投影光学系102を通して標本1の表面に投影された周期パターン光によって形成されたパターンを撮影し、撮影パターンI1(x,y)を含む画像を取得する。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS110)。
続いて、位相シフト機構104aは、コンピュータ8からの指示によって、明暗(縞)の周期の1/4、つまり明暗の位相で90度に相当する量だけ周期パターン31を横にシフトする。この状態で、再び標本1に周期パターン光が投影され、撮像部7が撮影パターンI2(x,y)を含む画像を取得する。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS115)。
ステップS115と同様に、位相が90度シフト(ステップS110の状態から位相が180度シフト)し、撮影パターンI3(x,y)を含む画像が取得される。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS120)。さらに、位相が90度シフト(ステップS110の状態から位相が270度シフト)し、撮影パターンI4(x,y)を含む画像が取得される。取得された画像は記憶部8aに保存される(ステップS125)。
ステップS130〜S145の処理については、第1の実施形態で説明した処理と同様であるので説明を省略する。
(効果)
本実施形態による三次元形状測定装置において、第1の投影機構は、周期パターン光を測定対象物(標本1)に投影する第1の光学系(第1の投影光学系102)を有し、第2の投影機構は、ランダムパターン光を測定対象物(標本1)に投影する、第1の光学系と異なる第2の光学系(第2の投影光学系112)を有する。
本実施形態による三次元形状測定装置において、第1の投影機構は、周期パターン光を測定対象物(標本1)に投影する第1の光学系(第1の投影光学系102)を有し、第2の投影機構は、ランダムパターン光を測定対象物(標本1)に投影する、第1の光学系と異なる第2の光学系(第2の投影光学系112)を有する。
本実施形態では、第1の実施形態で得られる効果と同様の効果に加えて以下の効果が得られる。位相シフト法による測定の機能を有する単独の機器にランダムパターン光の投影機構を追加したり、ランダムパターン投影法による測定の機能を有する単独の機器に周期パターン光の投影機構や位相シフト機構を追加したりといったシステム上のアドオンが容易である。また、測定方式ごとに専用の投影光学系が備わるので、それぞれの測定に適した照明条件や絞りの配置などが施せるため、測定性能を最適にすることが設計上容易である。
本実施形態の特徴的な構成である第1の投影機構(第1の投影光学系102)、第2の投影機構(第2の投影光学系112)、撮像機構(撮像部7)、測定部(演算部8b)以外の構成は、測定精度を向上させることができるという効果に直接寄与しているわけではないため、本実施形態に必須の構成ではない。
[第3の実施形態]
(構成)
本実施形態による三次元形状測定装置の構成は、第1の実施形態または第2の実施形態による三次元形状測定装置の構成と同様である。本実施形態では、測定者は、表示器10に表示されている測定モードの選択画面を見て、指示部9に指示を与えることによって、測定モードを選択することが可能である。
(構成)
本実施形態による三次元形状測定装置の構成は、第1の実施形態または第2の実施形態による三次元形状測定装置の構成と同様である。本実施形態では、測定者は、表示器10に表示されている測定モードの選択画面を見て、指示部9に指示を与えることによって、測定モードを選択することが可能である。
本実施形態では、位相シフト法による測定を行う第1の測定モードと、ランダムパターン投影法による測定を行う第2の測定モードと、ランダムパターン投影法による測定の結果を用いて、位相シフト法による測定によって算出された位相分布の位相接続を行う第3の測定モードと、を選択することが可能である。第3の測定モードは、第1の実施形態または第2の実施形態における測定と同様の測定を行うモードである。本実施形態による三次元形状測定装置は、測定モードの指示に応じて、第1の測定モードと、第2の測定モードと、第3の測定モードと、のいずれかを選択して測定を行う。
(動作)
図9は、本実施形態による三次元測定装置の動作の手順を示している。以下、図9を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
図9は、本実施形態による三次元測定装置の動作の手順を示している。以下、図9を参照して三次元測定装置の動作を説明する。
操作者からの指示によって処理開始の指示がコンピュータ8に入力され、処理が開始される(ステップS10)。
処理が開始されると、操作者によって測定モードの指示が入力される(ステップS11)。標本1が、平滑でなだらかな表面を有する場合には、第1の測定モードが好ましい。標本1の形状によらず瞬間的な測定(リアルタイム性)が求められる場合には、第2の測定モードが好ましい。標本1の形状が複雑で、標本1が段差などを有し、かつ高精度な測定が必要な場合には、第3の測定モードが好ましい。操作者は、測定場面に応じて測定モードを選択する。
続いて、入力された測定モードの指示に応じて処理が分岐する(ステップS12)。第1の測定モードが選択された場合、第1の測定モードの処理が開始され、位相シフト法による測定が行われる(ステップS20)。第1の測定モードの処理が終了すると、全体の処理が終了する(ステップS21)。
第2の測定モードが選択された場合、第2の測定モードの処理が開始され、ランダムパターン投影法による測定が行われる(ステップS22)。第2の測定モードの処理が終了すると、全体の処理が終了する(ステップS23)。
第3の測定モードが選択された場合、第3の測定モードの処理が開始され、第1の実施形態または第2の実施形態における測定と同様の測定が行われる(ステップS24)。第3の測定モードの処理が終了すると、全体の処理が終了する(ステップS25)。
図10は、第1の測定モードの処理内容を示している。第1の測定モードの処理が開始される(ステップS200)と、図3を参照して説明したステップS110〜S130の処理が行われる。ステップS130で位相分布φ(x,y)が算出された後、演算部8bは、位相分布φ(x,y)の不連続な位相が連続するように位相接続を行い、位相分布φunwrap(x,y)を算出する(ステップS155)。この位相接続は、従来技術の位相接続と同様である。第1の測定モードでは、標本1が滑らかな表面形状を持っていることが想定されるため、位相接続エラーの発生の可能性は低い。このため、測定精度の低下の問題は小さい。
ステップS155で位相分布φunwrap(x,y)が算出された後、図3を参照して説明したステップS140の処理が行われる。ステップS140で表面形状Z(x,y)が算出された後、コンピュータ8の指示によって、測定結果である表面形状Z(x,y)が表示器10に表示され、第1の測定モードの処理が終了する(ステップS210)。
図11は、第2の測定モードの処理内容を示している。第2の測定モードの処理が開始される(ステップS220)と、図3を参照して説明したステップS105,S150の処理が行われる。ステップS150で表面形状Zrdm(x,y)が算出された後、コンピュータ8の指示によって、測定結果である表面形状Zrdm(x,y)が表示器10に表示され、第2の測定モードの処理が終了する(ステップS230)。
図12は、第3の測定モードの処理内容を示している。第3の測定モードの処理が開始される(ステップS240)と、図3を参照して説明したステップS105〜S150の処理が行われる。すなわち、位相シフト法による測定の結果と、ランダムパターン投影法による測定の結果との両方を使用して測定が行われる。ステップS140で表面形状Z(x,y)が算出された後、コンピュータ8の指示によって、測定結果である表面形状Z(x,y)が表示器10に表示され、第3の測定モードの処理が終了する(ステップS250)。
本実施形態では、指示部9が操作者から測定モードの選択の指示を受けることによって測定モードの選択が行われるが、操作者による測定モードの選択の指示が予め設定されたアプリケーションプログラムに従って自動的に測定モードの選択が行われてもよい。
(効果)
測定場面に応じて適した測定方法を選択することができる。
測定場面に応じて適した測定方法を選択することができる。
以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成は上記の実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。上記の実施形態による三次元形状測定装置は、画像を取得できる装置であればよい。例えば、顕微鏡を利用して画像を取得する装置や内視鏡を利用して画像を取得する装置を三次元形状測定装置として用いることが可能である。
1,1a 標本、2 投影光学系、3 投影パターン列、4a 投影パターン切替機構、4b 投影パターン切替機構制御部、5a 光源、5b 光源制御部、6 撮像光学系、7 撮像部、8 コンピュータ、8a 記憶部、8b 演算部、8c 通信部、9 指示部、10 表示器、21,121 ランダムパターン、31 周期パターン、90a DMD、90b DMD制御部、102 第1の投影光学系、104a 位相シフト機構、104b 位相シフト機構制御部、105a 第1の光源、105b 第1の光源制御部、112 第2の投影光学系、115a 第2の光源、115b 第2の光源制御部
Claims (4)
- 空間的に周期的なパターンの光を含む周期パターン光を測定対象物に投影する第1の投影機構と、
前記周期パターン光の位相をシフトする位相シフト機構と、
空間的にランダムなパターンの光を含むランダムパターン光を測定対象物に投影する第2の投影機構と、
前記位相シフト機構により位相をずらしながら前記測定対象物に投影した前記周期パターン光を順次撮像して一連の位相シフト画像を生成し、前記測定対象物に投影された前記ランダムパターン光を撮像してランダム投影画像を生成する撮像機構と、
前記位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する位相を含む位相分布を算出し、前記ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、三次元形状を算出し、算出された三次元形状に基づいて、前記位相分布の不連続な位相が連続するように位相接続を行う測定部と、
を有することを特徴とする三次元形状測定装置。 - 前記測定部は、
前記位相シフト画像に基づいて、位相シフト法による演算処理を行い、三次元形状に対応する各位置の位相を含む位相分布を算出し、
前記ランダム投影画像に基づいて、ランダムパターン投影法による測定を行い、各位置の高さを含む三次元形状を算出し、
前記ランダムパターン投影法による測定によって算出された前記各位置の高さと、前記位相分布の所定の位相に対応する高さを単位とする次数とを対応付け、
前記各位置の高さに対応付けられた前記次数に基づいて、前記位相分布において、前記各位置の不連続な位相が連続するように位相接続を行う
ことを特徴とする請求項1に記載の三次元形状測定装置。 - 前記第1の投影機構は、前記周期パターン光を前記測定対象物に投影する第1の光学系を有し、
前記第2の投影機構は、前記ランダムパターン光を前記測定対象物に投影する、前記第1の光学系と異なる第2の光学系を有する
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の三次元形状測定装置。 - 測定モードの指示に応じて、前記位相シフト法による測定を行う第1の測定モードと、前記ランダムパターン投影法による測定を行う第2の測定モードと、前記ランダムパターン投影法による測定の結果を用いて、前記位相シフト法による測定によって算出された前記位相分布の前記位相接続を行う第3の測定モードと、のいずれかを選択して測定を行うことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の三次元形状測定装置。
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JP2013245811A JP2015102532A (ja) | 2013-11-28 | 2013-11-28 | 三次元形状測定装置 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104897083A (zh) * | 2015-06-11 | 2015-09-09 | 东南大学 | 一种基于投影仪散焦解相位的光栅投影三维快速测量方法 |
JPWO2021145035A1 (ja) * | 2020-01-17 | 2021-07-22 | ||
WO2023190056A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 視差情報生成装置及び視差情報生成方法 |
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-
2013
- 2013-11-28 JP JP2013245811A patent/JP2015102532A/ja active Pending
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