JP2015084238A - Capacitive touch panel substrate and display device - Google Patents

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Shinsuke Nakazawa
澤 伸 介 中
田 憲 彦 鰐
Norihiko WANITA
田 憲 彦 鰐
村 剛 中
Takeshi Nakamura
村 剛 中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitive touch panel substrate in which a connecting part between transparent electrode units arrayed in two directions crossing each other is made substantially invisible.SOLUTION: A capacitive touch panel substrate 10 includes a translucent substrate 1, a plurality of first-direction transparent electrode units 2a disposed on one surface of the translucent substrate 1, a first-direction connection part 3a for connecting the first-direction transparent electrode units 2a, a plurality of second-direction transparent electrode units 2b disposed on the same surface as the first-direction transparent electrode units 2a, a second-direction connection part 3b for connecting the second-direction transparent electrode units 2b, and a low reflective layer 6. The second-direction connection part 3b is insulated from the first-direction connection part 3a by an insulating layer 4 and includes a reflective conductive layer 5. The low reflective layer 6 shows low reflectivity in which a Y value is 10% or less in a Yxy color system using a standard light source C, and at least partially overlaps the reflective conductive layer 5 when viewed from a direction perpendicular to the one surface of the translucent substrate 1.

Description

本発明は、静電容量式タッチパネル基板、及び表示装置に関する。特に、2方向に配列された透明電極単位の間の接続部が目立ち難い静電容量式タッチパネル基板と、これを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a capacitive touch panel substrate and a display device. In particular, the present invention relates to a capacitive touch panel substrate in which connection portions between transparent electrode units arranged in two directions are not conspicuous, and a display device including the same.

近年、スマートフォン、タブレットPC(パーソナルコンピュータ)など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導式、抵抗膜式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ(多点同時入力)が可能な静電容量式のタッチパネルである。   In recent years, touch panels have been rapidly spread as position input devices used in combination with display panels in various display devices such as smartphones and tablet PCs (personal computers). Various types of touch panels, such as electromagnetic induction type and resistive film type, have been known for a long time, and they have been used for various purposes. Among them, multi-touch (multi-point simultaneous input) has attracted particular attention recently. This is a capacitive touch panel capable of

図11(a)は、従来の静電容量式タッチパネル基板20を含むタッチパネル30が、液晶表示パネルやELパネル(電解発光パネル)などの画像を表示する表示パネル40と、カバーガラスなどからなる表示装置用前面保護板50との間に配置された構成を有する、従来の表示装置200の一例を模式的に示す分解平面図である。   FIG. 11A shows a display in which a touch panel 30 including a conventional capacitive touch panel substrate 20 includes a display panel 40 that displays an image such as a liquid crystal display panel or an EL panel (electroluminescence panel), a cover glass, and the like. FIG. 11 is an exploded plan view schematically showing an example of a conventional display device 200 having a configuration arranged between the front protection plate for a device 50.

図11(b)は、図11(a)中の従来の静電容量式タッチパネル基板20の透明電極単位に注目した部分拡大平面図であり、図11(c)は、図11(b)中の透明電極単位間の接続部に注目した部分拡大断面図である。図12は、図11(c)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。   FIG. 11B is a partially enlarged plan view focusing on the transparent electrode unit of the conventional capacitive touch panel substrate 20 in FIG. 11A, and FIG. 11C is the view in FIG. It is the elements on larger scale which paid its attention to the connection part between transparent electrode units. FIG. 12 is a partial enlarged cross-sectional view of the connection portion taken along line CC in FIG.

一般に静電容量式タッチパネル基板20では、図11(b)及び図11(c)に示すように、図面で上下方向であるY方向に配列された第1方向透明電極単位2aと、図面で左右方向であるX方向に配列された第2方向透明電極単位2bと、を有する。ここでは、Y方向を第1方向とも呼び、X方向を第2方向とも呼ぶことにする。   In general, in the capacitive touch panel substrate 20, as shown in FIGS. 11 (b) and 11 (c), first direction transparent electrode units 2a arranged in the Y direction which is the vertical direction in the drawing, and left and right in the drawing. 2nd direction transparent electrode unit 2b arranged in the X direction which is a direction. Here, the Y direction is also referred to as a first direction, and the X direction is also referred to as a second direction.

上記従来の静電容量式タッチパネル基板20は、第1方向透明電極単位2aと第2方向透明電極単位2bとを、透光性基板1の同一面側に形成した形態の例である(特許文献1参照)。この形態は、第1方向透明電極単位2aと第2方向透明電極単位2bとの相対的位置精度を向上できる利点がある。   The conventional capacitive touch panel substrate 20 is an example in which the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b are formed on the same surface side of the translucent substrate 1 (Patent Literature). 1). This form has an advantage that the relative positional accuracy between the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b can be improved.

すなわち、上記図面に例示する従来の静電容量式タッチパネル基板20は、透光性基板1の第1面S1の面上に、第1方向(図面でY方向)に配列された第1方向透明電極単位2aと、第1方向透明電極単位2aと同一材料で同一面に形成され、第1方向透明電極単位間2a同士を接続する第1方向接続部3aと、第1方向透明電極単位2aと同一材料で同一面に形成され、第1方向透明電極単位2aの間に位置すると共に第1方向接続部3aの間に位置して、第1方向(Y方向)と交差する第2方向(図面ではX方向)に配列された第2方向透明電極単位2bと、第2方向透明電極単位2b同士を接続し、第1方向接続部3aとは絶縁層4を介して絶縁された第2方向接続部3bと、を有する。   That is, the conventional capacitive touch panel substrate 20 illustrated in the above drawing is transparent in the first direction arranged in the first direction (Y direction in the drawing) on the surface of the first surface S1 of the translucent substrate 1. The electrode unit 2a, the first direction transparent electrode unit 2a, formed of the same material and on the same surface, the first direction connection part 3a connecting the first direction transparent electrode units 2a to each other, and the first direction transparent electrode unit 2a A second direction (drawing) that is formed of the same material on the same surface, is located between the first direction transparent electrode units 2a and is located between the first direction connection portions 3a and intersects the first direction (Y direction). The second direction transparent electrode units 2b arranged in the X direction) and the second direction transparent electrode units 2b are connected to each other, and the second direction connection is insulated from the first direction connection portion 3a via the insulating layer 4. Part 3b.

このとき、第2方向接続部3bは、透明性が得られる点で、第1方向接続部3aと同様に、第2方向透明電極単位2bと同一材料で形成する形態もあるが、各透明電極単位に比べて面積が小さいことを利用して、低コスト化が図れる形態として、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bが配列された位置検知領域の外周部に設けられる金属材料からなる配線7と、同一材料で同時形成する形態が知られている(特許文献1参照)。   At this time, the second direction connecting portion 3b can be formed of the same material as the second direction transparent electrode unit 2b in the same manner as the first direction connecting portion 3a in that transparency can be obtained. A metal that is provided on the outer periphery of the position detection region in which the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b are arranged as a form that can reduce the cost by utilizing the fact that the area is smaller than the unit. A form in which the wiring 7 made of material and the same material are simultaneously formed is known (see Patent Document 1).

すなわち、図12の断面図で示すように、第2方向接続部3bは、金属材料からなる反射性導電性層5から構成され、この反射性導電性層5は、銀合金など金属層からなり銀色の金属反射性を呈している。   That is, as shown in the sectional view of FIG. 12, the second direction connecting portion 3b is composed of a reflective conductive layer 5 made of a metal material, and the reflective conductive layer 5 is made of a metal layer such as a silver alloy. It exhibits silver metallic reflectivity.

第2方向接続部3bは、第2方向透明電極単位2bと同一材料で形成しても、絶縁層4を設ける関係上、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bと共に同時形成できず、追加の1工程が必要となる。しかし、第2方向接続部3bを、位置検知領域の外周部の配線7と同一材料で同時形成すれば、工程数をその分減らすことができる。   Even if the second direction connection portion 3b is formed of the same material as the second direction transparent electrode unit 2b, the second direction connection portion 3b is formed simultaneously with the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b due to the provision of the insulating layer 4. This is not possible and requires an additional step. However, if the second direction connecting portion 3b is formed simultaneously with the same material as the wiring 7 in the outer peripheral portion of the position detection region, the number of steps can be reduced accordingly.

特開2011−86122号公報JP 2011-86122 A

しかしながら、図12の断面図で示すように、第2方向接続部3bが、反射性導電性層5によって形成されていると、透明電極とは異なり、光Lが当たると反射するために、目立ってしまうことがある。反射性導電性層5が目立つ現象は、タッチパネルのサイズが小さくなる程、これを透して表示パネルを見る観察者、乃至はタッチパネルの操作者の目からの距離が近くなる為に、顕著になる傾向がある。   However, as shown in the cross-sectional view of FIG. 12, when the second direction connecting portion 3b is formed of the reflective conductive layer 5, unlike the transparent electrode, the second direction connecting portion 3b is reflected when exposed to the light L. May end up. The phenomenon in which the reflective conductive layer 5 becomes conspicuous is conspicuous because the smaller the size of the touch panel, the closer the distance from the eyes of the observer who sees the display panel through the touch panel or the operator of the touch panel. Tend to be.

本発明の課題は、互いに交差する2方向に配列された透明電極単位の間の接続部を目立ち難くした静電容量式タッチパネル基板を提供することである。また、これを備えた表示装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a capacitive touch panel substrate in which a connection portion between transparent electrode units arranged in two directions intersecting each other is hardly noticeable. Moreover, it is providing a display apparatus provided with this.

本発明による静電容量式タッチパネル基板は第1面と前記第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第1面及び第2面のいずれか一方の面上に、第1方向に配列された複数の第1方向透明電極単位と、
前記第1方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第1方向透明電極単位同士を接続する第1方向接続部と、
前記第1方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第1方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第1方向接続部の間に位置して、前記第1方向と交差する第2方向に配列された複数の第2方向透明電極単位と、
前記第2方向透明電極単位同士を接続し、前記第1方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第2方向接続部と、
国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたYxy表色系でのY値が、10%以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有する。
A capacitive touch panel substrate according to the present invention has a first surface and a translucent substrate having a second surface opposite to the first surface;
A plurality of first direction transparent electrode units arranged in a first direction on either one of the first surface and the second surface of the translucent substrate;
A first direction connecting portion that is formed on the same surface with the same material as the first direction transparent electrode unit and connects the first direction transparent electrode units;
The first direction transparent electrode unit is formed of the same material and on the same surface, is located between the first direction transparent electrode units and is located between the first direction connection portions, and intersects the first direction. A plurality of second direction transparent electrode units arranged in a second direction;
The second direction transparent electrode units are connected to each other, the second direction connection part is insulated from the first direction connection part via an insulating layer, and includes a reflective conductive layer;
Observation from a direction perpendicular to the one surface of the translucent substrate, showing low reflectivity by the International Illumination Commission CIE with a Y value of 10% or less in the Yxy color system using the standard light source C A low reflective layer overlapping at least a portion of the reflective conductive layer,
Have

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の30%以上である、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the area of the overlapping portion of the low reflective layer and the reflective conductive layer may be 30% or more of the area of the reflective conductive layer. .

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, an outer contour shape of the low reflective layer when observed from a direction perpendicular to the one surface of the translucent substrate is an outer contour shape of the reflective conductive layer. May be included inside.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記第1方向透明電極単位及び第2方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成されている、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the outer peripheral portion of the position detection region in which the first direction transparent electrode unit and the second direction transparent electrode unit are arranged on the one surface of the translucent substrate The decorative portion may be provided, and the low reflective layer may be formed of the same material as the decorative portion.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記第1方向透明電極単位及び第2方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the outer peripheral portion of the position detection region in which the first direction transparent electrode unit and the second direction transparent electrode unit are arranged on the one surface of the translucent substrate The wiring may have a wiring, and the reflective conductive layer may be made of the same material as the wiring.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the low reflective layer may be formed on the light transmissive substrate side with respect to the reflective conductive layer in the thickness direction.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the low reflective layer may be formed between the reflective conductive layer and the translucent substrate.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, a surface opposite to the one surface of the translucent substrate may function as an input surface of the touch panel.

本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、ようにしてもよい。   In the capacitive touch panel substrate according to the present invention, the low reflective layer may be formed on a side farther from the translucent substrate than the reflective conductive layer in the thickness direction. Good.

また、本発明による表示装置は、表示パネルと、前記表示パネルの観察者側に配置された上述の静電容量式タッチパネル基板と、を含む。   In addition, a display device according to the present invention includes a display panel and the aforementioned capacitive touch panel substrate disposed on the viewer side of the display panel.

本発明の静電容量式タッチパネル基板によれば、互いに交差する2方向に配列された透明電極単位の間の接続部を目立ち難くすることができる。   According to the capacitive touch panel substrate of the present invention, the connection portion between the transparent electrode units arranged in two directions intersecting each other can be made inconspicuous.

本発明の表示装置によれば、それが備える静電容量式タッチパネル基板が、前記効果を有する。   According to the display device of the present invention, the capacitive touch panel substrate provided therein has the above-described effect.

図1(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の一実施形態(先形成の接続部)を説明する模式的平面図であり、図1(b)は、図1(a)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 1A is a schematic plan view for explaining one embodiment (pre-formed connection portion) of a capacitive touch panel substrate according to the present invention, and FIG. 1B is a diagram in FIG. It is a partial expanded sectional view of the connection part in the CC line. 図2(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(後形成の接続部)を説明する模式的平面図であり、図2(b)は、図2(a)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 2A is a schematic plan view for explaining another embodiment (post-formed connection portion) of the capacitive touch panel substrate according to the present invention, and FIG. 2B is a plan view of FIG. It is the elements on larger scale of the connection part in the CC line in the inside. 図3(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(先形成の接続部,スルーホール接続)を説明する模式的平面図であり、図3(b)は、図3(a)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 3A is a schematic plan view for explaining another embodiment (preformed connection portion, through-hole connection) of the capacitive touch panel substrate according to the present invention, and FIG. It is the elements on larger scale of the connection part in the CC line in 3 (a). 図4(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(後形成の接続部,スルーホール接続)を説明する模式的平面図であり、図4(b)は、図4(a)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 4A is a schematic plan view for explaining another embodiment of the capacitive touch panel substrate according to the present invention (post-formed connection portion, through-hole connection), and FIG. It is the elements on larger scale of the connection part in the CC line in 4 (a). 図5(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(反射性導電性層が低反射層から一部露出)を説明する模式的平面図であり、図5(b)は、図5(a)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 5A is a schematic plan view for explaining another embodiment of the capacitive touch panel substrate according to the present invention (the reflective conductive layer is partially exposed from the low reflective layer), and FIG. ) Is a partial enlarged cross-sectional view of a connection portion taken along line CC in FIG. 図6(a)、(b)は、図5の形態にて、反射性導電性層の露出状況の例をそれぞれ説明する平面図である。FIGS. 6A and 6B are plan views for explaining examples of the state of exposure of the reflective conductive layer in the form of FIG. 図7(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(低反射層が加飾部と同一材料)を説明する平面図であり、図7(b)は、赤外透過窓の部分を示す部分拡大断面図であり、図7(c)は、図1(b)に対応する接続部の部分拡大断面図である。Fig.7 (a) is a top view explaining another embodiment (The low reflection layer is the same material as a decorating part) of the capacitive touch panel board | substrate by this invention, FIG.7 (b) is infrared. FIG. 7C is a partial enlarged cross-sectional view showing a portion of the transmission window, and FIG. 7C is a partial enlarged cross-sectional view of the connection portion corresponding to FIG. 図8は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態(オーバーコート層付き)を示す(図1(b)の構成に対応する)部分拡大断面図である。FIG. 8 is a partially enlarged sectional view (corresponding to the configuration of FIG. 1B) showing another embodiment (with an overcoat layer) of the capacitive touch panel substrate according to the present invention. 図9は、本発明による表示装置の一実施形態を説明する断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of a display device according to the present invention. 図10は、本発明による表示装置の別の実施形態を説明する断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating another embodiment of the display device according to the present invention. 図11(a)は、従来の静電容量式タッチパネル基板を用いたタッチパネル、表示パネル、及び表示装置用前面保護板を備える、従来の表示装置の一例を示す分解平面図であり、図11(b)は、静電容量式タッチパネル基板の透明電極単位の一例を示す部分拡大平面図であり、図11(c)は、透明電極単位間の接続部の一例を示す部分拡大平面図である。FIG. 11A is an exploded plan view showing an example of a conventional display device including a touch panel using a conventional capacitive touch panel substrate, a display panel, and a front protective plate for the display device. FIG. 11B is a partially enlarged plan view showing an example of the transparent electrode unit of the capacitive touch panel substrate, and FIG. 11C is a partially enlarged plan view showing an example of the connecting portion between the transparent electrode units. 図12は、図11(c)中のC−C線での接続部の部分拡大断面図である。FIG. 12 is a partial enlarged cross-sectional view of the connection portion taken along line CC in FIG.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings are conceptual diagrams, and the scale relations, aspect ratios, and the like of components may be exaggerated as appropriate for convenience of explanation.

〔A〕用語の定義:
以下に、本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
[A] Definition of terms:
Hereinafter, definitions of main terms used in the present invention will be described here.

「表側」とは、静電容量式タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、静電容量式タッチパネル基板10を表示パネル40と組み合わせて使用したときに、表示パネル40から表示光が出光する側であり、表示パネル40の表示を観察する観察者の側を意味する。   The “front side” is a side where display light is emitted from the display panel 40 when the capacitive touch panel substrate 10 is used in combination with the display panel 40 in the capacitive touch panel substrate 10 or other components. Yes, it means the side of the observer who observes the display on the display panel 40.

また、「表側」とは、静電容量式タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、静電容量式タッチパネル基板10を用いたタッチパネル30を操作する操作者の側を意味する。   In addition, the “front side” means a side of an operator who operates the touch panel 30 using the capacitive touch panel substrate 10 in the capacitive touch panel substrate 10 or other components.

「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、静電容量式タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、表示パネル40の表示光が入光する側を意味する。   The “back side” means a side opposite to the “front side”, and means a side where the display light of the display panel 40 enters in the capacitive touch panel substrate 10 or other components.

「第1面」と「第2面」とは、何れかが前記「表側」となり、何れの面が前記「表側」となるかは任意である。   Any one of the “first surface” and the “second surface” is the “front side”, and which surface is the “front side” is arbitrary.

「第1面」と「第2面」とは、何れの面が「一方の面」となり、何れの面が「他方の面」となるかは任意である。   In the “first surface” and the “second surface”, which surface is “one surface” and which surface is the “other surface” is arbitrary.

ただし、本明細書においては、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bが設けられている側の面を「一方の面」と呼ぶことにしている。この「一方の面」が、前記「表側」となるか「裏側」となるかは、静電容量式タッチパネル基板10の層構成に関係した使われ方に依存する。静電容量式タッチパネル基板10は、その低反射層6が反射性導電性層5に対して表側になるように使われる。   However, in this specification, the surface on which the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b are provided is referred to as “one surface”. Whether this “one surface” is the “front side” or the “back side” depends on the usage related to the layer configuration of the capacitive touch panel substrate 10. The capacitive touch panel substrate 10 is used such that the low reflective layer 6 is on the front side with respect to the reflective conductive layer 5.

本明細書においては、前記「一方の面」が「裏側」として使用される形態を主体に説明し、「表側」として使われる形態も説明する。   In the present specification, a mode in which the “one side” is used as the “back side” will be mainly described, and a mode in which the “one side” is used as the “front side” will also be described.

〔B〕静電容量式タッチパネル基板10:
本発明による静電容量式タッチパネル基板10を、実施形態ごとに説明する。
[B] Capacitive touch panel substrate 10:
A capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention will be described for each embodiment.

《第1の実施形態:先形成の接続部》
図1(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板10の第1の実施形態の模式的平面図であり、図1(b)は図1(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
<< First Embodiment: Preformed Connection Portion >>
FIG. 1A is a schematic plan view of a first embodiment of a capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. It is a partial expanded sectional view.

本実施形態は、第2方向接続部3bを先に形成してから、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bを形成することで得られる構造の形態である。   This embodiment is a form of a structure obtained by forming the 1st direction transparent electrode unit 2a and the 2nd direction transparent electrode unit 2b after forming the 2nd direction connection part 3b previously.

図1に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板10は、
透光性基板1と、
この透光性基板1の一方の面上に、第1方向に配列された複数の第1方向透明電極単位2aと、
第1方向透明電極単位2aと同一材料で同一面に形成され、第1方向透明電極単位2a同士を接続する第1方向接続部3aと、
第1方向透明電極単位2aと同一材料で同一面に形成され、第1方向透明電極単位2aの間に位置すると共に第1方向接続部3aの間に位置して、第1方向と交差する第2方向に配列された複数の第2方向透明電極単位2bと、
第2方向透明電極単位2b同士を接続し、第1方向接続部2aとは絶縁層4を介して絶縁され、反射性導電性層5を含む第2方向接続部3bと、
国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたYxy表色系でのY値が、10%以下となる低反射性を示し、透光性基板1の前記一方の面である第1面S1に垂直な方向から観察したときに、反射性導電性層5の少なくとも一部と重なる、構成となっている。
The capacitive touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG.
A translucent substrate 1;
A plurality of first direction transparent electrode units 2a arranged in the first direction on one surface of the translucent substrate 1,
A first direction connecting portion 3a that is formed on the same surface with the same material as the first direction transparent electrode unit 2a and connects the first direction transparent electrode units 2a;
The first direction transparent electrode unit 2a is formed of the same material and on the same surface, is located between the first direction transparent electrode unit 2a and is located between the first direction connection portions 3a and intersects the first direction. A plurality of second direction transparent electrode units 2b arranged in two directions;
The second direction transparent electrode units 2b are connected to each other, the second direction connection part 3b including the reflective conductive layer 5 insulated from the first direction connection part 2a via the insulating layer 4;
1st surface S1 which shows the low reflectivity in which Y value in the Yxy color system using the standard light source C is 10% or less by the International Commission on Illumination CIE and which is the one surface of the translucent substrate 1 When viewed from a direction perpendicular to the reflective conductive layer 5, it overlaps at least a part of the reflective conductive layer 5.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5と低反射層6との前記重なりは、透光性基板1の前記一方の面である第1面S1に垂直な方向から観察したときに、低反射層6の外輪郭形状が、反射性導電性層5の外輪郭形状を内側に含むような重なり具合となっている。このことは、換言すると反射性導電性層5の面積の100%、つまり全域で低反射層6が重なっていることでもある。   In addition, in the present embodiment, the overlap between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 is observed from a direction perpendicular to the first surface S1, which is the one surface of the translucent substrate 1. The outer contour shape of the low reflective layer 6 is overlapped so as to include the outer contour shape of the reflective conductive layer 5 inside. In other words, the low reflective layer 6 overlaps 100% of the area of the reflective conductive layer 5, that is, the entire region.

本実施形態においては、透光性基板1の一方の面となる第1面S1は、図1(b)の断面図において図面上方の面である。したがって、静電容量式タッチパネル基板10は、この断面図において、図面下側の第2面S2を、表側として、タッチパネルの操作者でもある表示パネルの観察者Vに向けて、用いられることを想定した形態である。   In the present embodiment, the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1 is a surface above the drawing in the cross-sectional view of FIG. Therefore, it is assumed that the capacitive touch panel substrate 10 is used in this cross-sectional view with the second surface S2 on the lower side of the drawing as the front side toward the viewer V of the display panel who is also the operator of the touch panel. It is a form.

同図では、XY直交座標系において、Y方向が第1方向となっており、X方向が第2方向となっている。   In the figure, in the XY orthogonal coordinate system, the Y direction is the first direction, and the X direction is the second direction.

なお、本発明においては、互いに交差する第1方向と第2方向とは必ずしも直交している必要はない。   In the present invention, the first direction and the second direction intersecting with each other are not necessarily orthogonal to each other.

図1(a)の模式的平面図は、位置検知領域Ap内で、第1方向に配列された複数の第1方向透明電極単位2a、及び第2方向に配列された複数の第2方向透明電極単位2bの全てを描いてはいない。第2方向透明電極単位2b同士を接続する第2方向接続部3bの部分に注目し、一つの第2方向接続部3bとその周辺のみを代表して描いてある。また、位置検知領域Apの外周部に形成された配線7も、第1方向透明電極単位2aに接続するものとして1本のみを模式的に描いてあり、第2方向透明電極単位2bに接続する配線7の図示は省略してある。   The schematic plan view of FIG. 1A shows a plurality of first direction transparent electrode units 2a arranged in the first direction and a plurality of second direction transparents arranged in the second direction within the position detection region Ap. Not all of the electrode units 2b are drawn. Focusing on the portion of the second direction connecting portion 3b that connects the second direction transparent electrode units 2b, only one second direction connecting portion 3b and its periphery are depicted as representatives. Further, only one wiring 7 formed on the outer periphery of the position detection region Ap is schematically drawn as being connected to the first direction transparent electrode unit 2a, and is connected to the second direction transparent electrode unit 2b. Illustration of the wiring 7 is omitted.

なお、同図では、位置検知領域Apの外周部において配線7に重なり接続するように、第1方向透明電極単位2aと同一材料で同一面に同時にパターン形成された第1方向透明電極拡張部7aが、位置検知領域Apの外周部に設けられている。   In the figure, the first direction transparent electrode extended portion 7a, which is simultaneously patterned on the same surface with the same material as the first direction transparent electrode unit 2a so as to overlap and connect to the wiring 7 in the outer peripheral portion of the position detection region Ap. Is provided on the outer periphery of the position detection area Ap.

図1(a)は、静電容量式タッチパネル基板10を、反射性導電性層5、低反射層6などが形成された側の「裏側」から見た平面図である。図1(a)においては、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2bなどの透明層の向こう側に形成された絶縁層4、反射性導電性層5及び低反射層6が、当該透明層が不透明であれば本来は隠れる層的位置関係となるため、破線で描いてある。ただし、破線での表示は、あくまでも理解を容易にするためのものであり、層的位置関係を正確に表現したものではない。   FIG. 1A is a plan view of the capacitive touch panel substrate 10 as viewed from the “back side” on the side where the reflective conductive layer 5, the low reflective layer 6 and the like are formed. In FIG. 1A, the insulating layer 4, the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 formed on the other side of the transparent layer such as the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b are provided. If the transparent layer is opaque, the layer is originally hidden, so that it is drawn with a broken line. However, the display with broken lines is only for easy understanding, and does not accurately represent the layered positional relationship.

図1(a)の平面図と、図1(b)の部分拡大断面図との間では、図面で左右方向などの各構成要素間の寸法の大小関係は、維持されていない。   Between the plan view of FIG. 1 (a) and the partially enlarged sectional view of FIG. 1 (b), the size relationship between the respective components such as the left and right directions in the drawing is not maintained.

これらの図面表記に関することは、本発明に係る他の実施形態における図面についても同様である。   The same applies to the drawings in other embodiments according to the present invention.

本実施形態においては、低反射層6は、透光性基板1の前記一方の面である第1面S1に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、反射性導電性層5の外輪郭形状を内側に含んでいれば良く、同一で完全に重なり合っていてもよい。   In the present embodiment, the low reflection layer 6 has an outer contour shape when observed from a direction perpendicular to the first surface S1 which is the one surface of the translucent substrate 1. The outline shape may be included on the inside, and the same shape may be completely overlapped.

図1に示す本実施形態においては、低反射層6の外輪郭形状は長方形形状であり、反射性導電性層5の外輪郭形状も長方形形状である。そして、低反射層6の外輪郭形状は、反射性導電性層5の外輪郭形状よりも大きくなっている。しかも、低反射層6の外輪郭形状は、その全周囲で、反射性導電性層5の外輪郭形状に対して外側にはみ出している。なお、本発明においては、低反射層6の外輪郭形状は任意であり長方形に限定されるものではない。反射性導電性層5も同様である。   In the present embodiment shown in FIG. 1, the outer contour shape of the low reflective layer 6 is a rectangular shape, and the outer contour shape of the reflective conductive layer 5 is also a rectangular shape. The outer contour shape of the low reflective layer 6 is larger than the outer contour shape of the reflective conductive layer 5. In addition, the outer contour shape of the low reflective layer 6 protrudes outward with respect to the outer contour shape of the reflective conductive layer 5 around the entire periphery thereof. In the present invention, the outer contour shape of the low reflection layer 6 is arbitrary and is not limited to a rectangle. The same applies to the reflective conductive layer 5.

低反射層6の外輪郭形状は、位置合わせ精度に多少の余裕を持たせる意味で、反射性導電性層5の外輪郭形状に対して外側に全周囲で0.5μm以上、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、さらに好ましくは4μm以上、はみ出した大きい形状とするのが好ましい。ただ、はみ出しても、100μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは10μm以下、とするのが好ましい。はみ出し過ぎると、低反射層6の部分で、タッチパネルを透して見る表示パネルの表示をさえぎり、表示品質に悪影響することがあるからである。   The outer contour shape of the low reflective layer 6 means that the alignment accuracy has some allowance, and the outer contour shape of the reflective conductive layer 5 is 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more on the entire outer periphery. More preferably, it is 2 μm or more, more preferably 4 μm or more, and it is preferable to have a large shape protruding. However, even if it protrudes, it is preferably 100 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 10 μm or less. This is because if the protrusion is too large, the display of the display panel viewed through the touch panel is blocked by the low reflective layer 6 and the display quality may be adversely affected.

本実施形態においては、低反射層6は、厚み方向において、反射性導電性層5に対して透光性基板1側、より具体的には、反射性導電性層5と透光性基板1との間に形成された形態である。   In the present embodiment, the low reflective layer 6 is, in the thickness direction, the side of the transparent substrate 1 with respect to the reflective conductive layer 5, more specifically, the reflective conductive layer 5 and the transparent substrate 1. It is the form formed between.

ただ、本発明においては、前記「反射性導電性層5に対して透光性基板1側」とは、透光性基板1の他方の面、つまり第2面S2上に低反射層6が形成される形態も含む。要は、本発明の静電容量式タッチパネル基板10においては、静電容量式タッチパネル基板10を用いたタッチパネルを操作する操作者、これは静電容量式タッチパネル基板10が適用される表示パネル40を観察する観察者Vでもあるが、この観察者Vに、反射性導電性層5よりも近い側に低反射層6を有する構成とする。   However, in the present invention, the “translucent substrate 1 side with respect to the reflective conductive layer 5” means that the low reflective layer 6 is on the other surface of the translucent substrate 1, that is, the second surface S2. The form formed is also included. In short, in the capacitive touch panel substrate 10 of the present invention, the operator who operates the touch panel using the capacitive touch panel substrate 10, which is the display panel 40 to which the capacitive touch panel substrate 10 is applied. Although it is also the observer V to observe, this observer V is set as the structure which has the low reflection layer 6 in the near side from the reflective conductive layer 5. FIG.

〔材料及び形成法〕
[透光性基板1]
前記透光性基板1は、公知の材料を用いることができ、代表的にはガラス板であるが、ポリエステル樹脂などの樹脂材料でもよい。
[Material and forming method]
[Translucent substrate 1]
A known material can be used for the translucent substrate 1 and is typically a glass plate, but may be a resin material such as a polyester resin.

[第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び第1方向接続部3a]
前記第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b及び第1方向接続部3aは公知の材料、及び形成法を採用することができる。例えば、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide;インジウム亜鉛化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide;アルミニウム亜鉛酸化物)等の透明導電体薄膜を、フォトリソグラフィ法などによりパターン形成したものを用いることができる。
[First Direction Transparent Electrode Unit 2a, Second Direction Transparent Electrode Unit 2b, and First Direction Connection Portion 3a]
For the first direction transparent electrode unit 2a, the second direction transparent electrode unit 2b, and the first direction connection portion 3a, a known material and a forming method can be adopted. For example, a transparent conductive thin film such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), AZO (Aluminum Zinc Oxide) or the like is patterned by a photolithography method or the like. What was formed can be used.

[第2方向接続部3bと反射性導電性層5]
第2方向接続部3bは、少なくとも反射性導電性層5を含む。
[Second direction connecting portion 3b and reflective conductive layer 5]
The second direction connection portion 3 b includes at least the reflective conductive layer 5.

反射性導電性層5には、前記透明導電体薄膜以外の金属配線材料など、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、反射性導電性層5には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。例えば、銀、パラジウム及び銅からなる合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成したものを用いることができる。これらの金属材料で形成した反射性導電性層5は、金属特有の反射性を呈し、また、通常は不透明である。このため、光を反射して目立ち易いので、低反射層6で目立ち難くすることになる。   For the reflective conductive layer 5, known materials and forming methods such as metal wiring materials other than the transparent conductive thin film can be employed. For example, the reflective conductive layer 5 can be made of metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum. For example, a metal layer of an alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper, which is formed by sputtering and then patterned by photolithography, can be used. The reflective conductive layer 5 formed of these metal materials exhibits reflectivity peculiar to metals and is usually opaque. For this reason, it is easy to stand out by reflecting light, so that the low reflection layer 6 makes it difficult to stand out.

反射性導電性層5の反射性とは、反射率が可視光域(380〜780nm)の平均で50%以上示すこととする。例えば、一般に、銀は90%以上、アルミニウムは80%以上、金は短波長域で50%近くまで低下するが、平均では50%以上を示す。   The reflectivity of the reflective conductive layer 5 indicates that the reflectance is 50% or more on average in the visible light region (380 to 780 nm). For example, in general, silver falls to 90% or more, aluminum falls to 80% or more, and gold falls to nearly 50% in the short wavelength region, but on average shows 50% or more.

反射性導電性層5は、金属材料に限らず、例えば、反射性を示すなら導電性高分子でも良い。   The reflective conductive layer 5 is not limited to a metal material, and may be a conductive polymer as long as it exhibits reflectivity, for example.

本実施形態においては、反射性導電性層5は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、フォトリソグラフィ法によりパターン形成された金属層として形成されている。   In the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed as a metal layer patterned by photolithography using a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.

本実施形態においては、反射性導電性層5と配線7とは同一材料で形成されており、しかも同一面、具体的には透光性基板1の一方の面である第1面S1に同時形成されている。   In the present embodiment, the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 are formed of the same material and are simultaneously formed on the same surface, specifically, the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1. Is formed.

反射性導電性層5の外形形状の寸法は、例えば、図1に示す本実施形態においては、幅5〜20μm、長さ20〜500μmの長方形である。前記幅とは、第1方向(図面Y方向)の寸法であり、前記長さとは、第2方向(図面X方向)の寸法である。   The dimensions of the outer shape of the reflective conductive layer 5 are, for example, a rectangle having a width of 5 to 20 μm and a length of 20 to 500 μm in the present embodiment shown in FIG. The width is a dimension in the first direction (Y direction in the drawing), and the length is a dimension in the second direction (X direction in the drawing).

第2方向接続部3bは、反射性導電性層5以外に、さらに、前記したITOなどの透明導電体薄膜を含み、透明導電体薄膜が反射性導電性層5に接続するように接して積層された構造であってもよい。   In addition to the reflective conductive layer 5, the second direction connection portion 3 b further includes a transparent conductive thin film such as ITO described above, and the transparent conductive thin film is laminated so as to be connected to the reflective conductive layer 5. It may be a structured.

[絶縁層4]
絶縁層4は、電気絶縁性の層であり、公知の材料及び形成法を採用することができる。絶縁層4は、例えば、樹脂層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
[Insulating layer 4]
The insulating layer 4 is an electrically insulating layer, and known materials and forming methods can be employed. The insulating layer 4 can be patterned by, for example, a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin as a resin layer.

なお、本明細書において、「絶縁」及び「接続する」とは、いずれも電気的な意味での用語として用いる。   Note that in this specification, “insulation” and “connect” are both used in terms of electrical meaning.

絶縁層4は、透明、不透明いずれでもよいが、透明であることが好ましい。静電容量式タッチパネル基板10の透明性を低下させないためである。本実施形態においては、絶縁層4は透明な層として形成されている。   The insulating layer 4 may be either transparent or opaque, but is preferably transparent. This is because the transparency of the capacitive touch panel substrate 10 is not lowered. In the present embodiment, the insulating layer 4 is formed as a transparent layer.

[低反射層6]
低反射層6は、国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたJIS−Z8701に準ずるYxy表色系でのY値が、10%以下となる低反射性を示す層である。なお、測定は、もちろん、低反射層6の層面2面のうち反射性導電性層5から遠い方の面が観察される側から行う。低反射層6は、同時に遮光性(不透明性)も示す。これは、反射性導電性層5からの反射光を減らすことができるからである。したがって、低反射層6は、低反射性及び遮光性を示し反射性導電性層5を隠蔽する「隠蔽層」ということもできる。低反射層6は、前記反射性導電性層5を目立たなくさせる為の層として機能することができる。
[Low reflective layer 6]
The low reflection layer 6 is a layer exhibiting low reflectivity with a Y value in the Yxy color system according to JIS-Z8701 using the standard light source C by the International Commission on Illumination CIE of 10% or less. Of course, the measurement is performed from the side where the surface farther from the reflective conductive layer 5 out of the two layer surfaces of the low reflective layer 6 is observed. The low reflective layer 6 also exhibits light shielding (opacity) at the same time. This is because the reflected light from the reflective conductive layer 5 can be reduced. Therefore, the low reflective layer 6 can also be referred to as a “hidden layer” that exhibits low reflectivity and light shielding properties and conceals the reflective conductive layer 5. The low reflective layer 6 can function as a layer for making the reflective conductive layer 5 inconspicuous.

前記遮光性は、反射性導電性層5を目立たなくさせる観点から、透過率で言えば大きくても10%以下(光学濃度ODにて1以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。   From the viewpoint of making the reflective conductive layer 5 inconspicuous, the light-shielding property is 10% or less (1 or more at the optical density OD) in terms of transmittance, more preferably 1% or less (optical). Density OD2.0 or more), and more preferably 0.01% or less (optical density OD4.0 or more) in terms of transmittance.

低反射層6は、カーボンブラックなどの黒色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む黒色など暗色を呈する層として、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。硬化性樹脂には紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。本実施形態においては、低反射層6、カーボンブラックを含む紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成されている。   The low reflection layer 6 can be patterned by a photolithography method as a layer exhibiting a dark color such as black containing a black pigment such as carbon black in a resin binder made of a cured curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used. In the present embodiment, a pattern is formed by a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin containing a low reflection layer 6 and carbon black.

低反射層6を、黒色など暗色とするには、カーボンブラック以外の、赤、黄、青、緑などの有彩色顔料を複数種類用い黒色を呈する層としても良い。例えば、赤、黄、青の3色の着色顔料を用いて黒色としても良い。暗色とは、黒色以外に、紺色、深緑色などの有彩色で明度が低く、前記Yが10%以下を示す色のことを意味する。   In order to make the low reflection layer 6 dark, such as black, a layer that exhibits black using a plurality of chromatic pigments such as red, yellow, blue, and green other than carbon black may be used. For example, black may be formed using three color pigments of red, yellow, and blue. The dark color means a color other than black, such as dark blue or dark green, which has a low lightness and the Y is 10% or less.

したがって、低反射層6に用いる着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料など1種又は2種以上用いることができる。   Therefore, as a color pigment used for the low reflection layer 6, one or more kinds such as a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, and a purple pigment can be used.

低反射層6は、酸窒化クロムなどのそれ自体が暗色を示す無機材料で形成してもよい。   The low reflective layer 6 may be formed of an inorganic material that itself exhibits a dark color, such as chromium oxynitride.

低反射層6は、電気絶縁性であることが好ましい。低反射層6が導電性であると、層構成及びパターン形状の組み合わせによっては、絶縁性が必要となる部分の絶縁性の確保が困難になるからである。例えば、図1に示す本実施形態では問題ないが、後述する図2の第2の実施形態では、第2方向透明電極単位2bと第1方向接続部3aとの絶縁性の確保が困難になる。   The low reflective layer 6 is preferably electrically insulating. This is because, if the low reflection layer 6 is conductive, it is difficult to ensure the insulation of the portion that requires insulation depending on the combination of the layer configuration and the pattern shape. For example, although there is no problem in the present embodiment shown in FIG. 1, it is difficult to ensure insulation between the second direction transparent electrode unit 2b and the first direction connection portion 3a in the second embodiment of FIG. .

[配線7]
配線7には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線7には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。例えば、銀、パラジウム及び銅からなる合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成したものを用いることができる。
[Wiring 7]
A known material and formation method can be used for the wiring 7. For example, the wiring 7 can be made of metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum. For example, a metal layer of an alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper, which is formed by sputtering and then patterned by photolithography, can be used.

本実施形態においては、配線7は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、金属層として形成されている。つまり、本実施形態においては、前記反射性導電性層5と配線7とは同一材料で形成されており、しかも同一面、具体的には透光性基板1の一方の面である第1面S1に同時形成されている。   In the present embodiment, the wiring 7 is formed as a metal layer by a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper. That is, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 are formed of the same material, and are the same surface, specifically, the first surface that is one surface of the translucent substrate 1. It is formed simultaneously with S1.

[製造方法]
以上のような静電容量式タッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
[Production method]
The capacitive touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.

先ず、透光性基板1の一方の面である第1面S1に、低反射層6が形成される。次に、第2方向接続部3bとしての反射性導電性層5、及び配線7が、同一材料で同時にパターン形成される。次に、絶縁層4がパターン形成される。次に、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び、第1方向接続部3aが、同一材料で同時にパターン形成される。このようにして、静電容量式タッチパネル基板10を製造することができる。   First, the low reflection layer 6 is formed on the first surface S <b> 1 that is one surface of the translucent substrate 1. Next, the reflective conductive layer 5 as the second direction connecting portion 3b and the wiring 7 are simultaneously patterned with the same material. Next, the insulating layer 4 is patterned. Next, the 1st direction transparent electrode unit 2a, the 2nd direction transparent electrode unit 2b, and the 1st direction connection part 3a are pattern-formed simultaneously with the same material. In this way, the capacitive touch panel substrate 10 can be manufactured.

[本実施形態における効果]
以上のような構成とすることで、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板10では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層5の全てを、低反射層6が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the capacitive touch panel substrate 10 in the present embodiment, the low reflective layer 6 hides all of the reflective conductive layer 5 used in the connection portion between the transparent electrode units. Since it has a structure, it is possible to effectively make the connection portion inconspicuous.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5は、配線7と同一材料で形成されているので、反射性導電性層5は配線7と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   In addition, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed of the same material as the wiring 7, so the reflective conductive layer 5 is provided in the same process as the wiring 7 without increasing the number of processes. Therefore, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

《第2の実施形態:後形成の接続部》
図2(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板10の第2の実施形態の模式的平面図であり、図2(b)は図2(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
<< 2nd Embodiment: Post-forming connection part >>
FIG. 2A is a schematic plan view of a second embodiment of the capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. It is a partial expanded sectional view.

本実施形態は、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bを先に形成した後に、第2方向接続部3bを形成することで得られる構造の形態である。   This embodiment is a form of the structure obtained by forming the 2nd direction connection part 3b after forming the 1st direction transparent electrode unit 2a and the 2nd direction transparent electrode unit 2b previously.

図2に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板10は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。   The capacitive touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG. 2 is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.

a)反射性導電性層5及び配線7の形成と、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び第1方向接続部3aの形成との順序が逆になっている点。(換言すると、絶縁層4を介する表裏の層の位置関係が逆になっている。)
b)上記a)によって、絶縁層4の形成と、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び第1方向接続部3aの形成との順序が逆になっている点、並びに、絶縁層4の形成と、反射性導電性層5及び配線7の形成との順序が逆になっている点。
a) The order of the formation of the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 and the formation of the first direction transparent electrode unit 2a, the second direction transparent electrode unit 2b, and the first direction connection portion 3a are reversed. . (In other words, the positional relationship between the front and back layers through the insulating layer 4 is reversed.)
b) According to the above a), the order of the formation of the insulating layer 4 and the formation of the first direction transparent electrode unit 2a, the second direction transparent electrode unit 2b, and the first direction connection portion 3a are reversed. In addition, the order of the formation of the insulating layer 4 and the formation of the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 are reversed.

[製造方法]
以上のような静電容量式タッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
[Production method]
The capacitive touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.

先ず、透光性基板1の一方の面である第1面S1に、低反射層6が形成される。次に、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び、第1方向接続部3aが、同一材料で同時にパターン形成される。次に、絶縁層4がパターン形成される。次に、第2方向接続部3bとしての反射性導電性層5、及び配線7が、同一材料で同時にパターン形成される。このようにして、静電容量式タッチパネル基板10を製造することができる。   First, the low reflection layer 6 is formed on the first surface S <b> 1 that is one surface of the translucent substrate 1. Next, the 1st direction transparent electrode unit 2a, the 2nd direction transparent electrode unit 2b, and the 1st direction connection part 3a are pattern-formed simultaneously with the same material. Next, the insulating layer 4 is patterned. Next, the reflective conductive layer 5 as the second direction connecting portion 3b and the wiring 7 are simultaneously patterned with the same material. In this way, the capacitive touch panel substrate 10 can be manufactured.

[反射性導電性層5及び配線7の材料]
本実施形態では、反射性導電性層5及び配線7のパターン形成は、第1方向透明電極単位2a、第2方向透明電極単位2b、及び、第1方向接続部3aに対する同時パターン形成の後に行うため、反射性導電性層5及び配線7の材料には、第1方向透明電極単位2aなどのパターン形成時のエッチング液に対する耐性を考慮する必要がないという利点も得られる。
[Materials for Reflective Conductive Layer 5 and Wiring 7]
In the present embodiment, the pattern formation of the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 is performed after the simultaneous pattern formation for the first direction transparent electrode unit 2a, the second direction transparent electrode unit 2b, and the first direction connection portion 3a. Therefore, the material of the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 is also advantageous in that it is not necessary to consider the resistance to the etching solution when forming the pattern such as the first direction transparent electrode unit 2a.

このため、本実施形態では、反射性導電性層5及び配線7の材料として、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)の3層構造の配線材料(MAMと呼ばれている)を採用することもできる。   For this reason, in this embodiment, the material of the reflective conductive layer 5 and the wiring 7 is a wiring material having a three-layer structure of molybdenum (Mo), aluminum (Al), and molybdenum (Mo) (referred to as MAM). Can also be adopted.

[本実施形態における効果]
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板10では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層5の全てを、低反射層6が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration as described above, in the capacitive touch panel substrate 10 in the present embodiment, the low reflective layer 6 hides all of the reflective conductive layer 5 used in the connection portion between the transparent electrode units. Since it has a structure, it is possible to effectively make the connection portion inconspicuous.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5は、配線7と同一材料で形成されているので、反射性導電性層5は配線7と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   In addition, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed of the same material as the wiring 7, so the reflective conductive layer 5 is provided in the same process as the wiring 7 without increasing the number of processes. Therefore, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

《第3の実施形態:先形成の接続部、スルーホール接続》
図3(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板10の第3の実施形態の模式的平面図であり、図3(b)は図3(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
<< Third embodiment: Pre-formed connection part, through-hole connection >>
FIG. 3A is a schematic plan view of a third embodiment of the capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. It is a partial expanded sectional view.

本実施形態は、第2方向接続部3bを先に形成してから、スルーホール4hを有する絶縁層4を位置検知領域Apの全域に形成し、この次に、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bを形成して、スルーホール4hで第2方向透明電極単位2bを第2方向接続部3bと接続することで得られる構造の形態である。   In the present embodiment, the second direction connecting portion 3b is formed first, and then the insulating layer 4 having the through holes 4h is formed over the entire position detection region Ap. Next, the first direction transparent electrode unit 2a and This is a structure obtained by forming the second direction transparent electrode unit 2b and connecting the second direction transparent electrode unit 2b with the second direction connecting portion 3b through the through hole 4h.

図3に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板10は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。   The capacitive touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG. 3 is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.

a)絶縁層4が、接続部のみならず、位置検知領域Apの全域に形成されるが、第2方向透明電極単位2bと第2方向接続部3bとの接続を行うスルーホール4hの部分は非形成とする点。
b)上記a)によって、第2方向接続部3bとしての反射性導電性層5は、スルーホール4hの部分で、第2方向透明電極単位2bと接続している点。
a) Although the insulating layer 4 is formed not only in the connection portion but in the entire position detection region Ap, the portion of the through hole 4h that connects the second direction transparent electrode unit 2b and the second direction connection portion 3b is Points that are not formed.
b) According to the above a), the reflective conductive layer 5 as the second direction connecting portion 3b is connected to the second direction transparent electrode unit 2b at the through hole 4h.

[製造方法]
以上のような静電容量式タッチパネル基板10は、絶縁層4を、パターン形成時に、スルーホール4hを層の非形成部として同時形成して、位置検知領域Apの全域に形成すること以外は、前記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
[Production method]
The capacitive touch panel substrate 10 as described above, except that the insulating layer 4 is simultaneously formed as a non-forming part of the layer at the time of pattern formation, and is formed over the entire position detection region Ap. It can be manufactured in the same manner as in the first embodiment.

[本実施形態における効果]
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板10では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層5の全てを、低反射層6が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration as described above, in the capacitive touch panel substrate 10 in the present embodiment, the low reflective layer 6 hides all of the reflective conductive layer 5 used in the connection portion between the transparent electrode units. Since it has a structure, it is possible to effectively make the connection portion inconspicuous.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5は、配線7と同一材料で形成されているので、反射性導電性層5は配線7と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   In addition, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed of the same material as the wiring 7, so the reflective conductive layer 5 is provided in the same process as the wiring 7 without increasing the number of processes. Therefore, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

《第4の実施形態:後形成の接続部、スルーホール接続》
図4(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板10の第4の実施形態の模式的平面図であり、図4(b)は図4(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
<< 4th Embodiment: Post-forming connection part, through-hole connection >>
FIG. 4A is a schematic plan view of a fourth embodiment of the capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. It is a partial expanded sectional view.

本実施形態は、第1方向透明電極単位2a及び第2方向透明電極単位2bを先に形成した後に、スルーホール4hを有する絶縁層4を位置検知領域Apの全域に形成し、この次に、第2方向接続部3bを形成して、スルーホール4hで第2方向透明電極単位2bと接続することで得られる構造の形態である。   In the present embodiment, after the first direction transparent electrode unit 2a and the second direction transparent electrode unit 2b are formed first, the insulating layer 4 having the through holes 4h is formed over the entire position detection region Ap. This is a structure obtained by forming the second direction connecting portion 3b and connecting to the second direction transparent electrode unit 2b through the through hole 4h.

図4に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板10は、前記図2に示した第2の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。   The capacitive touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG. 4 is the same as the second embodiment shown in FIG. 2 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.

a)絶縁層4が、接続部のみならず、位置検知領域Apの全域に形成されるが、第2方向透明電極単位2bと第2方向接続部3bとの接続を行うスルーホール4hの部分は非形成とする点。
b)上記a)によって、第2方向接続部3bとしての反射性導電性層5は、スルーホール4hの部分で、第2方向透明電極単位2bと接続している点。
a) Although the insulating layer 4 is formed not only in the connection portion but in the entire position detection region Ap, the portion of the through hole 4h that connects the second direction transparent electrode unit 2b and the second direction connection portion 3b is Points that are not formed.
b) According to the above a), the reflective conductive layer 5 as the second direction connecting portion 3b is connected to the second direction transparent electrode unit 2b at the through hole 4h.

[製造方法]
以上のような静電容量式タッチパネル基板10は、絶縁層4を、パターン形成時に、スルーホール4hを層の非形成部として同時形成して、位置検知領域Apの全域に形成すること以外は、前記第2の実施形態と同様にして製造することができる。
[Production method]
The capacitive touch panel substrate 10 as described above, except that the insulating layer 4 is simultaneously formed as a non-forming part of the layer at the time of pattern formation, and is formed over the entire position detection region Ap. It can be manufactured in the same manner as in the second embodiment.

[本実施形態における効果]
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板10では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層5の全てを、低反射層6が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration as described above, in the capacitive touch panel substrate 10 in the present embodiment, the low reflective layer 6 hides all of the reflective conductive layer 5 used in the connection portion between the transparent electrode units. Since it has a structure, it is possible to effectively make the connection portion inconspicuous.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5は、配線7と同一材料で形成されているので、反射性導電性層5は配線7と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   In addition, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed of the same material as the wiring 7, so the reflective conductive layer 5 is provided in the same process as the wiring 7 without increasing the number of processes. Therefore, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

《第5の実施形態:反射性導電性層5が低反射層6から一部露出》
図5(a)は、本発明による静電容量式タッチパネル基板10の第5の実施形態の模式的平面図であり、図5(b)は図5(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
<< 5th Embodiment: The reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6 >>
FIG. 5A is a schematic plan view of a fifth embodiment of the capacitive touch panel substrate 10 according to the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. It is a partial expanded sectional view.

本実施形態は、低反射層6が反射性導電性層5の一部と重なり、この結果、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出して見える形態である。   In the present embodiment, the low reflective layer 6 overlaps a part of the reflective conductive layer 5, and as a result, the reflective conductive layer 5 appears to be partially exposed from the low reflective layer 6.

図5に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板10は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。   The capacitive touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG. 5 is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.

a)低反射層6が、反射性導電性層5の一部と重なり、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出して見えている点。 a) The low reflective layer 6 overlaps with a part of the reflective conductive layer 5, and the reflective conductive layer 5 appears to be partially exposed from the low reflective layer 6.

[低反射層6と反射性導電性層5の重なり具合]
いままで説明した各実施形態は、いずれも、低反射層6は反射性導電性層5の全域において重なり、低反射層6の外輪郭形状が反射性導電性層5の外輪郭形状の内側に含まれる形態であった。このため、反射性導電性層5はその全域で完全に低反射層6で隠蔽され、反射性導電性層5は見えることはなかった。
[Overlapping of the low reflective layer 6 and the reflective conductive layer 5]
In each of the embodiments described so far, the low reflective layer 6 overlaps the entire area of the reflective conductive layer 5, and the outer contour shape of the low reflective layer 6 is inside the outer contour shape of the reflective conductive layer 5. It was an included form. For this reason, the reflective conductive layer 5 was completely covered with the low reflective layer 6 in the entire region, and the reflective conductive layer 5 was not visible.

反射性導電性層5を目立たなくさせるという点では、反射性導電性層5はその全域で低反射層6と重なっているのが好ましいが、反射性導電性層5が多少は見えたとしても、実用上、反射性導電性層5による表示品質への悪影響が軽微であれば、また、反射性導電性層5による表示品質の低下が許容され得る用途であれば、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出した形態も可能である。   In terms of making the reflective conductive layer 5 inconspicuous, it is preferable that the reflective conductive layer 5 overlaps the low reflective layer 6 in the entire area, but even if the reflective conductive layer 5 is somewhat visible. In practical use, if the adverse effect on the display quality by the reflective conductive layer 5 is slight, or if the display quality can be lowered by the reflective conductive layer 5, the reflective conductive layer 5 is acceptable. However, it is also possible to have a configuration in which a portion is exposed from the low reflection layer 6.

例えば、低反射層6と言えども表示画面を遮るので、表示品質への悪影響を考えれば、低反射層6は可能な限り小さい方が好ましい。すなわち、低反射層6自体による表示品質への悪影響も考慮する場合、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出した形態とすることもできる。すなわち、反射性導電性層5を完全に隠す観点では、低反射層6の最も小さい形状は反射性導電性層5と同一形状で同一寸法となる。しかしながら、多少の露出部Eの生成を許容するならば、低反射層6の外輪郭形状は、反射性導電性層5の外輪郭形状よりも小さくした方が、低反射層6の面積と露出部Eの面積の合計面積を、多少の位置ずれが生じても小さくすることが可能となる。このため、表示画面を遮る要素を小さくすることができる。   For example, even the low reflection layer 6 blocks the display screen, so that the low reflection layer 6 is preferably as small as possible in view of adverse effects on display quality. That is, when the adverse effect on the display quality due to the low reflective layer 6 itself is taken into consideration, the reflective conductive layer 5 may be partially exposed from the low reflective layer 6. That is, from the viewpoint of completely hiding the reflective conductive layer 5, the smallest shape of the low reflective layer 6 is the same shape and the same size as the reflective conductive layer 5. However, if the generation of some exposed portions E is allowed, the area and exposure of the low reflective layer 6 are smaller when the outer contour shape of the low reflective layer 6 is smaller than the outer contour shape of the reflective conductive layer 5. The total area of the part E can be reduced even if a slight positional shift occurs. For this reason, the element which interrupts a display screen can be made small.

また、位置合わせ精度が充分ではなく、反射性導電性層5と低反射層6との相対的位置関係の位置ずれによって、反射性導電性層5の一部が低反射層6から露出するような場合も考えられ得る。   Further, the alignment accuracy is not sufficient, and a part of the reflective conductive layer 5 is exposed from the low reflective layer 6 due to a positional shift in the relative positional relationship between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6. In some cases, it can be considered.

本第5の実施形態は、このような状況下などで、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出した形態である。   In the fifth embodiment, the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6 under such circumstances.

図5(a)及び図5(b)では、反射性導電性層5が、低反射層6に対して図面で右方向に位置ずれした結果、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出している露出部Eが生じた状況を示す。この結果、露出部Eは、観察者Vから視認可能なものとなる。同図は、反射性導電性層5はそのラインの延在方向(X軸方向)に位置ずれした場合であったが、反射性導電性層5と低反射層6との相対的位置ずれの関係は、反射性導電性層5を基準にしたとき、その線幅方向に位置ずれすることもあるし、反射性導電性層5のラインの延在方向と線幅方向との両方の方向に位置ずれすることもある。   5A and 5B, as a result of the reflective conductive layer 5 being displaced in the right direction in the drawing with respect to the low reflective layer 6, the reflective conductive layer 5 is separated from the low reflective layer 6. A situation in which an exposed portion E that is partially exposed has occurred is shown. As a result, the exposed portion E is visible from the observer V. This figure shows the case where the reflective conductive layer 5 is displaced in the extending direction of the line (X-axis direction), but the relative positional displacement between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 is shown. When the reflective conductive layer 5 is used as a reference, the relationship may be displaced in the line width direction, or in both the line extending direction and the line width direction of the reflective conductive layer 5. The position may be displaced.

図6は、反射性導電性層5と低反射層6との相対的位置ずれの方向について、2方向の場合で例示した図である。図6(a)は、反射性導電性層5のラインの延在方向(同図ではX軸方向)の場合を示し、図6(b)は、反射性導電性層5のラインの線幅方向(同図ではY軸方向)の場合を示す。図6(a)及び図6(b)で両矢印で示す方向が反射性導電性層5と低反射層6との相対的位置ずれの方向である。図6(a)は、前記図5の位置ずれ関係に該当する。   FIG. 6 is a diagram exemplifying the case of two directions with respect to the direction of relative positional deviation between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6. 6A shows the case of the line extending direction of the reflective conductive layer 5 (X-axis direction in the figure), and FIG. 6B shows the line width of the line of the reflective conductive layer 5. The case of the direction (Y-axis direction in the figure) is shown. A direction indicated by a double-headed arrow in FIGS. 6A and 6B is a direction of relative displacement between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6. FIG. 6A corresponds to the positional deviation relationship of FIG.

図6(a)は、低反射層6が反射性導電性層5に対してX軸方向で図面右方向に位置ずれした状況であり、反射性導電性層5の左側に露出部Eが生じる。図6(b)は、低反射層6が反射性導電性層5に対してY軸方向で図面下方向に位置ずれした状況であり、反射性導電性層5の上側に露出部Eが生じる。これら図面では、判りやすくするために、反射性導電性層5及び低反射層6は、それぞれ外輪郭形状の内側にハッチングは施さず、露出部Eの部分のみにハッチングを施してある。また、低反射層6によって隠れた部分の反射性導電性層5の外輪郭線は破線で示してある。   FIG. 6A shows a state in which the low reflective layer 6 is displaced in the right direction of the drawing in the X-axis direction with respect to the reflective conductive layer 5, and an exposed portion E is generated on the left side of the reflective conductive layer 5. . FIG. 6B shows a state in which the low reflective layer 6 is displaced in the Y-axis direction in the downward direction of the drawing with respect to the reflective conductive layer 5, and an exposed portion E is generated above the reflective conductive layer 5. . In these drawings, for easy understanding, the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 are not hatched inside the outer contour shape, but are hatched only on the exposed portion E. Further, the outline of the reflective conductive layer 5 hidden by the low reflective layer 6 is indicated by a broken line.

(反射性導電性層5が低反射層6で隠蔽される面積割合)
このように、低反射層6が反射性導電性層5の一部と重なり、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態では、低反射層6が反射性導電性層5に重なる部分の面積は、反射性導電性層5の面積の30%以上、好ましくは50%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上の面積割合とする。
上記面積割合が上記値未満であると、表示品質を低下させることがあるからである。
(Ratio of area where the reflective conductive layer 5 is hidden by the low reflective layer 6)
Thus, in a form in which the low reflective layer 6 overlaps with a part of the reflective conductive layer 5 and the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6, the low reflective layer 6 is the reflective conductive layer. 5 is 30% or more, preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more of the area of the reflective conductive layer 5.
This is because if the area ratio is less than the above value, the display quality may be deteriorated.

図6からも判るように、反射性導電性層5が低反射層6からはみ出す寸法が、例えば1μmなどと、はみ出す方向によらずに同じ寸法であっても、反射性導電性層5のライン方向(図面ではX軸方向)にはみ出したときと、線幅方向(図面ではY軸方向)にはみ出したときとは、反射性導電性層5が低反射層6から露出する露出部Eの面積の、反射性導電性層5の面積に対する面積割合は異なる。とりわけ、反射性導電性層5の露出部Eによる表示品質への悪影響が大きくなるのは、図6(b)に示す線幅方向に位置ずれしてはみ出したときである。こうした状況においても、低反射層6によって隠蔽される上記面積割合を上記値以上とすることにより、表示品質の低下を抑えることができる。   As can be seen from FIG. 6, even if the dimension of the reflective conductive layer 5 protruding from the low reflective layer 6 is, for example, 1 μm, the same dimension regardless of the protruding direction, the line of the reflective conductive layer 5 The area of the exposed portion E where the reflective conductive layer 5 is exposed from the low reflective layer 6 when it protrudes in the direction (X-axis direction in the drawing) and when it protrudes in the line width direction (Y-axis direction in the drawing) The area ratio to the area of the reflective conductive layer 5 is different. In particular, the adverse effect on the display quality due to the exposed portion E of the reflective conductive layer 5 is increased when it is displaced in the line width direction shown in FIG. 6B. Even in such a situation, it is possible to suppress a decrease in display quality by setting the area ratio concealed by the low reflective layer 6 to the above value or more.

具体例を示せば、反射性導電性層5のラインの線幅15μmに対して、そのラインの全長で線幅方向で3μmだけ低反射層6によって隠蔽されずにはみ出したとき、上記面積割合は{(15μm−3μm)/15μm}×100=80%となる。   To give a specific example, when the line width of the reflective conductive layer 5 is 15 μm, the area ratio of the total length of the line is 3 μm in the line width direction and is not concealed by the low reflective layer 6. {(15 μm−3 μm) / 15 μm} × 100 = 80%.

[本実施形態における効果]
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板10では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層5の一部を、低反射層6が隠す構造となっているので、接続部を目立ち難くすることができる。また、低反射層6自体による表示品質への悪影響を抑制することもできる。
[Effect in this embodiment]
Even with the configuration as described above, in the capacitive touch panel substrate 10 in the present embodiment, a part of the reflective conductive layer 5 used for the connection portion between the transparent electrode units is replaced by the low reflective layer 6. Since the structure is concealed, the connection portion can be made inconspicuous. Further, the adverse effect on the display quality due to the low reflective layer 6 itself can be suppressed.

しかも、本実施形態においては、反射性導電性層5は、配線7と同一材料で形成されているので、反射性導電性層5は配線7と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   In addition, in the present embodiment, the reflective conductive layer 5 is formed of the same material as the wiring 7, so the reflective conductive layer 5 is provided in the same process as the wiring 7 without increasing the number of processes. Therefore, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

さらに、ある程度の反射性導電性層5の露出を許容することで、位置合わせ精度を緩くでき、表示品質への悪影響を抑制しつつ製造がより容易となり、より低コスト化が可能となる。   Furthermore, by allowing the reflective conductive layer 5 to be exposed to some extent, the alignment accuracy can be relaxed, the manufacturing can be facilitated while the adverse effect on the display quality is suppressed, and the cost can be further reduced.

《変形形態》
本発明の静電容量式タッチパネル基板10は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<Deformation>
The capacitive touch panel substrate 10 of the present invention can take other forms other than the above-described forms. Some of these will be described below.

〔反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態〕
反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態として説明した第5の実施形態は、第1の実施形態の変形形態でもあった。
[Form in which the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6]
The fifth embodiment described as a form in which the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6 was also a modification of the first embodiment.

しかし本発明においては、反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態は、第1の実施形態の変形形態に限定されるものではない。反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態は、第2の実施形態、第3の実施形態、第4の実施形態、或いは後述する変形形態等その他の形態に対する、変形形態としてもあり得る。   However, in the present invention, the form in which the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6 is not limited to the modified form of the first embodiment. The form in which the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6 is a modification of the second embodiment, the third embodiment, the fourth embodiment, or other forms such as a modification described later. It is also possible.

[露出部Eを反射部として利用する形態]
反射性導電性層5が低反射層6から一部露出する形態では、低反射層6から露出した反射性導電性層5の部分である露出部Eを、反射部として積極的に利用してもよい。
[Mode in which the exposed portion E is used as a reflecting portion]
In a form in which the reflective conductive layer 5 is partially exposed from the low reflective layer 6, the exposed portion E, which is a portion of the reflective conductive layer 5 exposed from the low reflective layer 6, is actively used as a reflective portion. Also good.

例えば、射撃ゲームなどのゲーム機器において、静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネルが表示パネルの観察者側に配置された表示装置に対して、その表示画面内の任意の位置をガン型光コントローラからの光照射により指示し、このガン型光コントローラから放出された光が露出部Eによる反射部で反射した反射光を受光することで表示画面内の指示された位置を検知する反射位置検知手段であって、表示画面を撮影可能なCCDなどの二次元イメージセンサ等による反射位置検知手段を付加することによって、この反射位置検知手段と静電容量式タッチパネル基板10の露出部Eによる反射部とから光学的非接触指示位置検知手段を構成して、射撃ゲーム機器とすることが可能になる。なお、照射光に赤外光を用いると可視光との弁別を容易にすることができる。   For example, in a game machine such as a shooting game, a gun-type light controller is arranged at an arbitrary position in the display screen of a display device in which a touch panel including the capacitive touch panel substrate 10 is arranged on the viewer side of the display panel. Reflection position detecting means for detecting the instructed position in the display screen by receiving the reflected light reflected by the reflection part of the exposed part E by the light emitted from the gun-type light controller. In addition, by adding a reflection position detection means such as a two-dimensional image sensor such as a CCD capable of photographing the display screen, the reflection position detection means and the reflection portion by the exposed portion E of the capacitive touch panel substrate 10 From this, it is possible to configure the optical non-contact indication position detecting means to be a shooting game machine. Note that when infrared light is used as irradiation light, discrimination from visible light can be facilitated.

反射性導電性層5を反射部として利用する意味からは、低反射層6はむしろ設けない方が反射光強度を強くできる点でよいが、周囲環境の光が当たって反射性導電性層5が目立ち易くなる。ところが、低反射層6で反射性導電性層5の一部を隠す構成とすることによって、反射性導電性層5の本来の電気的な接続手段としての基本的電気性能、表示画面内での光学的非接触指示位置検知手段の1構成要素としての反射光強度、表示画面品質としての反射性導電性層5の目立ち難さ、反射性導電性層5と低反射層6との位置合わせ精度と関係する製造上の容易さ及びコスト、などの諸性能のバランスをより容易にとることが可能となり、設計の自由度を増すことができる。   From the viewpoint of using the reflective conductive layer 5 as a reflective part, it is sufficient that the low reflective layer 6 is not provided, but the reflected light intensity can be increased. However, the reflective conductive layer 5 is exposed to light from the surrounding environment. Becomes more noticeable. However, with the configuration in which a part of the reflective conductive layer 5 is hidden by the low reflective layer 6, the basic electrical performance of the reflective conductive layer 5 as the original electrical connection means, Reflected light intensity as one component of the optical non-contact indication position detecting means, difficulty of conspicuous of the reflective conductive layer 5 as display screen quality, and alignment accuracy between the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 It is possible to more easily balance various performances such as manufacturing easiness and cost related to the above, and the degree of freedom of design can be increased.

しかも、光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素としての反射部を、反射性導電性層5とは別に独立して設ければ、その分工程数増となりコスト高となり得るが、反射性導電性層5の露出部Eを反射部に利用することで、反射部は反射性導電性層5と同一材料で同時形成された構成となり、工程数を増やさずに設けることができる。   In addition, if the reflection part as a component of the optical non-contact indication position detecting means is provided independently of the reflective conductive layer 5, the number of processes can be increased and the cost can be increased. By using the exposed portion E of the conductive layer 5 as a reflective portion, the reflective portion is formed of the same material as that of the reflective conductive layer 5 and can be provided without increasing the number of steps.

こうした表示画面内の光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素としての反射部への露出部Eの応用は、ゲーム機器用途以外にも、表示画面内の任意位置を指示することで、その部分を中心とした画面の拡大又は縮小などの操作を行うコントローラとしての用途にも使用可能である。例えば、露出部Eが規則的に配列されることにより、露出部Eは表示画面内のグリッド線としての機能を担うことができる。   The application of the exposed portion E to the reflecting portion as one component of the optical non-contact indication position detecting means in the display screen can be performed by indicating an arbitrary position in the display screen in addition to the game machine application. The present invention can also be used as a controller for performing operations such as enlargement or reduction of a screen centering on a portion. For example, when the exposed portions E are regularly arranged, the exposed portions E can function as grid lines in the display screen.

なお、上記形態例において、光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素として機能の使用は、タッチパネル機能と使用のときを分けて使用される使い方の用途では、操作者は表示画面に手が届かない位置に居るときに行い、両機能が併用される使い方の用途では、操作者は表示画面に手が届く位置に居るときに行う。   In the above-described embodiment, the use of the function as one component of the optical non-contact indication position detecting means is that the operator needs to touch the display screen in a usage application that is used separately from the touch panel function. In a usage where both functions are used together, the operator performs it when the user is at a position where the hand can reach the display screen.

〔加飾部8の付加と、表示装置用前面保護板との兼用〕
図7に例示するように、本発明において、静電容量式タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を有することができる。
[Combination of addition of decoration part 8 and front protective plate for display device]
As illustrated in FIG. 7, in the present invention, the capacitive touch panel substrate 10 can have a decoration 8 on the outer periphery of the position detection region Ap.

加飾部8は、静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネル、このタッチパネルを用いた表示装置において、位置検知領域Apの外周部に位置する配線7や制御回路などを、表示装置の観察者V乃至はタッチパネルの操作者から、見えないように隠して、外観が損なわれないようにすると共に、任意の意匠を表現する部分である。   The decoration unit 8 is a touch panel including the capacitive touch panel substrate 10 and a display device using the touch panel, the wiring 7 and the control circuit positioned on the outer peripheral portion of the position detection area Ap are connected to the viewer V of the display device. Or it is a part which hides so that it may not be visible from the operator of a touch panel, and does not impair an external appearance, and expresses arbitrary designs.

静電容量式タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を有することで、図11(a)で例示した従来の表示装置200における、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50としての機能を担うことができ、表示装置用前面保護板50と兼用させることができる。   The capacitive touch panel substrate 10 has the decorative portion 8 on the outer periphery of the position detection area Ap, so that the front protective plate for a display device such as a cover glass in the conventional display device 200 illustrated in FIG. 50, and can also be used as the front protective plate 50 for a display device.

表示装置用前面保護板50を兼用した構成の静電容量式タッチパネル基板10は、表示装置用前面保護板一体型タッチパネル基板ということもできる。この場合、透光性基板1の第1方向透明電極2a及び第2方向透明電極2bが設けられた面(一方の面、第1面S1)とは反対側の面(他方の面、第2面S2)は、操作者の指などの外部導体がタッチパネルセンサに接触(または接近)して位置入力が行われるタッチパネルの入力面(タッチ面、接触面)として機能する。   The capacitive touch panel substrate 10 having the configuration that also serves as the display device front protective plate 50 can also be referred to as a display device front protective plate integrated touch panel substrate. In this case, the surface (the other surface, the second surface) opposite to the surface (one surface, the first surface S1) on which the first direction transparent electrode 2a and the second direction transparent electrode 2b are provided. The surface S2) functions as an input surface (touch surface, contact surface) of the touch panel where an external conductor such as an operator's finger contacts (or approaches) the touch panel sensor and position input is performed.

静電容量式タッチパネル基板10は、表示装置用前面保護板50を兼用し一体化することで、さらに、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。   The electrostatic capacitance type touch panel substrate 10 can be combined with the front protective plate 50 for a display device and integrated, thereby further reducing the number of components and reducing the thickness.

〔低反射層6と、加飾部8との材料同一化〕
静電容量式タッチパネル基板10が加飾部8も有する形態では、その加飾部8に低反射層6と同様の低反射性及び遮光性を有する構成要素があるときは、低反射層6は、加飾部8と同一材料で形成することができる。また、低反射層6は加飾部8と同一材料で形成することが好ましい。低反射層6を加飾部8と同一材料で形成することで、低反射層6は、加飾部8と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができるからである。もちろん、この場合、低反射層6と加飾部8とは透光性基板1の同一面上に形成されている(図7(c)参照)ことで、同一工程で同時形成可能となる。なお、図7(c)は、図1の形態の低反射層6が、加飾部8と同時形成された例を示しているが、他の形態の低反射層6が、加飾部8と同時形成されていても良い。
[Material identification of the low reflection layer 6 and the decorative portion 8]
In the form in which the capacitive touch panel substrate 10 also has the decorative portion 8, when the decorative portion 8 has components having low reflectivity and light shielding properties similar to the low reflective layer 6, the low reflective layer 6 is It can be formed of the same material as the decorative portion 8. The low reflective layer 6 is preferably formed of the same material as the decorative portion 8. Since the low reflective layer 6 is formed of the same material as the decorative portion 8, the low reflective layer 6 can be provided in the same process as the decorative portion 8 without increasing the number of steps. This is because it is possible to realize a structure that does not stand out without cost. Of course, in this case, the low reflection layer 6 and the decorative portion 8 are formed on the same surface of the translucent substrate 1 (see FIG. 7C), and thus can be simultaneously formed in the same process. In addition, although FIG.7 (c) has shown the example in which the low reflection layer 6 of the form of FIG. 1 was formed simultaneously with the decoration part 8, the low reflection layer 6 of another form is the decoration part 8 And may be formed simultaneously.

加飾部8は、配線7などを隠すために、遮光性を有する遮光層8aを少なくも有するが、この他、赤外透過窓8bなども通常は有する。赤外透過窓8bは、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの部分に設けられる。   The decorative portion 8 has at least a light shielding layer 8a having a light shielding property in order to hide the wiring 7 and the like, but usually also has an infrared transmission window 8b and the like. The infrared transmission window 8b is necessary to prevent malfunction of the touch panel when the mobile phone is put on the ear during a call, and from the viewpoint of extinguishing the display panel and extending the battery life. It is provided in the part of the infrared sensor provided as a human sensor that senses.

低反射層6と同一材料で形成する加飾部8の構成要素としては、例えば、遮光層8aと、赤外透過窓8bの部分に形成する赤外透過層8bLとがある。   As a component of the decoration part 8 formed with the same material as the low reflection layer 6, there exist the light shielding layer 8a and the infrared transmission layer 8bL formed in the part of the infrared transmission window 8b, for example.

[遮光層8a]
遮光層8aの遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても3%以下(光学濃度ODにて1.5以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。透過率が上記を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。
[Light shielding layer 8a]
The light-shielding property of the light-shielding layer 8a depends on the required specifications and the expression color, but in terms of transmittance, it is at most 3% (optical density OD is 1.5 or more), more preferably the transmittance is 1% or less. (Optical density OD2.0 or higher), more preferably 0.01% or lower (optical density OD4.0 or higher) in transmittance is desirable. This is because if the transmittance exceeds the above, parts to be hidden may be seen.

遮光層8aは、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層8aは、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。   The light shielding layer 8a can be formed by a known material and a forming method. For example, the light shielding layer 8a can be formed from a layer containing a color pigment in a resin binder made of a cured product of a curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used.

遮光層8aに用いる着色顔料としては、遮光層8aで表現する色に応じたものを用いれば良く、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、1種単独で用いても良いし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いても良い。   The color pigment used for the light shielding layer 8a may be any color pigment corresponding to the color expressed by the light shielding layer 8a, and is not particularly limited. For example, as a colored pigment, a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, a purple pigment, or the like can be used. The color pigments may be used alone, or a plurality of types of color pigments of the same type or different colors may be used.

低反射層6と同一材料で形成する場合の遮光層8aが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色である。また、黒色は、加飾部8で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。   When the light-shielding layer 8a is formed of the same material as the low-reflection layer 6, the color exhibited by the light-shielding layer 8a is not a reflective color such as white but a dark color such as black. Moreover, black is also a kind of preferable color as a design color expressed by the decorative portion 8.

[赤外透過窓8b]
図7(a)及び図7(b)に例示するように、加飾部8には、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す赤外透過窓8bとする部分に、赤外透過層8bLが設けられることがある。遮光層8aが黒色の場合、黒色顔料としてカーボンブラックを用いると、可視光のみならず赤外光に対しても遮光性となってしまうために、遮光層8aとは材料が異なる層として赤外透過層8bLが必要になることがあるからである。
[Infrared transmission window 8b]
As illustrated in FIG. 7A and FIG. 7B, the decorative portion 8 has an infrared transmission window that has a light shielding property for visible light and a light transmittance for infrared light. An infrared transmission layer 8bL may be provided in a portion 8b. When the light shielding layer 8a is black, if carbon black is used as a black pigment, it becomes light shielding not only for visible light but also for infrared light. This is because the transmissive layer 8bL may be required.

赤外透過窓8bの赤外光に対する透過性としては、要求仕様、表現色、赤外透過窓8bに適用する赤外線センサなどの赤外利用部品にもよるが、一例を示せば、赤外領域での透過率が70%以上であればよい。前記透過率を70%以上とする赤外領域は、必ずしも780nm以上の領域でなくてもよく、例えば850nm以上の領域であれば、充分に機能することができる。なお、透過率を70%以上とする赤外領域の上限は、近赤外域、それも通常、1300nmまでを満たせばよい。   The transmittance of the infrared transmission window 8b with respect to infrared light depends on required specifications, expression color, and infrared components such as an infrared sensor applied to the infrared transmission window 8b. It is sufficient that the transmittance at 70 is 70% or more. The infrared region where the transmittance is 70% or more is not necessarily a region of 780 nm or more. For example, a region of 850 nm or more can function sufficiently. Note that the upper limit of the infrared region where the transmittance is 70% or more should satisfy the near infrared region, usually up to 1300 nm.

赤外透過窓8bの可視光に対する遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、赤外透過窓8bの部分は、通常、スポット的に小さいため、必ずしも、赤外透過窓8bと遮光層8aの遮光性のレベルに合わせる必要はない。このため、赤外透過窓8bの可視光に対する遮光性は、一例を示せば、透過率で言えば大きくても50%以下(光学濃度ODにて0.2以上)、より好ましくは透過率で25%以下(光学濃度OD0.6以上)、さらに好ましくは透過率で10%以下(光学濃度OD1.0以上)が望ましい。   The light shielding property of the infrared transmission window 8b with respect to visible light depends on the required specifications and the expression color. However, since the infrared transmission window 8b is usually small in spot, the infrared transmission window 8b and the light shielding layer are not necessarily used. It is not necessary to match the light shielding level of 8a. For this reason, as an example, the light shielding property with respect to visible light of the infrared transmission window 8b is 50% or less (0.2 or more in optical density OD) in terms of transmittance, more preferably transmittance. It is desirably 25% or less (optical density OD 0.6 or more), more preferably 10% or less (optical density OD 1.0 or more) in terms of transmittance.

こうして、赤外透過窓8bは、例えば、赤外光領域に対しては、波長850nm以上1300nm以下で70%以上の透過率、可視光領域に対しては10%以下の透過率を有する。なお、この透過率とは、平均値ではなく、各波長毎の値である。   Thus, the infrared transmission window 8b has, for example, a transmittance of 70% or more at a wavelength of 850 nm to 1300 nm for the infrared light region and a transmittance of 10% or less for the visible light region. The transmittance is not an average value but a value for each wavelength.

(赤外透過層8bL)
赤外透過層8bLは、赤外透過窓8bの存在を目立たなくさせるために、通常、遮光層8aと類似色で形成される。そして、赤外透過層8bLは、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。
(Infrared transmission layer 8bL)
The infrared transmission layer 8bL is usually formed in a similar color to the light shielding layer 8a in order to make the presence of the infrared transmission window 8b inconspicuous. The infrared transmission layer 8bL exhibits a light shielding property with respect to visible light and a transparency with respect to infrared light.

低反射層6と同一材料で形成する場合の赤外透過層8bLが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色である。また、黒色は、加飾部8で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。   The color that the infrared transmission layer 8bL exhibits when formed of the same material as the low reflection layer 6 is not a reflective color such as white, but a dark color such as black. Moreover, black is also a kind of preferable color as a design color expressed by the decorative portion 8.

赤外透過層8bLは、カーボンブラックのような黒色顔料は含有させずに、互いに色が異なる有彩色の着色顔料の複数種類、例えば、赤色、黄色、青色を含有させることで、黒色など暗色を表現した層として形成することができる。   The infrared transmission layer 8bL does not contain a black pigment such as carbon black, but contains a plurality of types of chromatic color pigments having different colors, for example, red, yellow, and blue, thereby providing a dark color such as black. It can be formed as an expressed layer.

低反射層6を赤外透過層8bLと同一材料で形成することで、低反射層6は、加飾部8の赤外透過層8bLと同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   By forming the low reflection layer 6 with the same material as the infrared transmission layer 8bL, the low reflection layer 6 can be provided in the same process as the infrared transmission layer 8bL of the decorative portion 8 without increasing the number of steps. The structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

さらに、配線7も設ける場合、遮光層8aで配線7を隠すためには、遮光層8aと配線7との透光性基板1に対する形成順序が、静電容量式タッチパネル基板10が用いられるときの観察者V乃至は操作者に対する表裏の向きが規制されるが、配線7が重なることがない赤外透過層8bLの場合では、赤外透過層8bLと配線7との透光性基板1の対する形成順序は、前記遮光層8aの場合のような規制を受けない。たとえは、(a)低反射層6と遮光層8aとを同時形成した後、遮光層8a上に配線7を形成してから、遮光層8aの赤外透過窓8bの部分に赤外透過層8bLを形成したり、これとは逆に、(b)低反射層6と遮光層8aとを同時形成した後、遮光層8aの赤外透過窓8bの部分に赤外透過層8bLを形成してから、遮光層8a上に配線7を形成することができる。この点で、低反射層6を赤外透過層8bLと同一材料で形成する形態では、製品設計の自由度が阻害されない利点を有する。   Further, when the wiring 7 is also provided, in order to hide the wiring 7 by the light shielding layer 8a, the formation order of the light shielding layer 8a and the wiring 7 with respect to the translucent substrate 1 is the same as that when the capacitive touch panel substrate 10 is used. In the case of the infrared transmission layer 8bL in which the wiring 7 does not overlap, the front and back directions with respect to the observer V or the operator are regulated, but the transparent substrate 1 of the infrared transmission layer 8bL and the wiring 7 is opposed to each other. The order of formation is not restricted as in the case of the light shielding layer 8a. For example, (a) after forming the low reflection layer 6 and the light shielding layer 8a at the same time, after forming the wiring 7 on the light shielding layer 8a, the infrared transmission layer is formed in the infrared transmission window 8b portion of the light shielding layer 8a. 8bL is formed or, conversely, (b) after the low reflection layer 6 and the light shielding layer 8a are simultaneously formed, the infrared transmission layer 8bL is formed in the infrared transmission window 8b portion of the light shielding layer 8a. Then, the wiring 7 can be formed on the light shielding layer 8a. In this respect, the form in which the low reflection layer 6 is formed of the same material as the infrared transmission layer 8bL has an advantage that the degree of freedom in product design is not hindered.

〔オーバーコート層9〕
静電容量式タッチパネル基板10は、図8に例示するように、透明なオーバーコート層9を含むことができる。同図は、オーバーコート層9を、透光性基板1の一方の面である第1面S1の面上の最上層として形成した形態例である。同図は図1の形態に対して、オーバーコート層9を追加した形態であるが、他の形態にオーバーコート層9を追加しても良い。オーバーコート層9によって、信頼性を向上させることができる。
[Overcoat layer 9]
The capacitive touch panel substrate 10 can include a transparent overcoat layer 9 as illustrated in FIG. 8. This figure shows an example in which the overcoat layer 9 is formed as the uppermost layer on the surface of the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1. Although the figure shows a form in which an overcoat layer 9 is added to the form of FIG. 1, the overcoat layer 9 may be added to other forms. Reliability can be improved by the overcoat layer 9.

オーバーコート層9には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、オーバーコート層9は、透明な樹脂、それも耐熱性の点で硬化性樹脂が好ましく、熱硬化型エポキシ樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂などを用いることができる。パターン形成する場合は、フォトリソグラフィ法で形成することができる。   For the overcoat layer 9, known materials and forming methods can be employed. For example, the overcoat layer 9 is preferably a transparent resin, preferably a curable resin in terms of heat resistance, and a thermosetting epoxy resin, an ultraviolet curable acrylic resin, or the like can be used. When forming a pattern, it can be formed by photolithography.

〔C〕表示装置:
本発明による表示装置は、表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された上記した静電容量式タッチパネル基板10と、を少なくとも含む表示装置である。以下、代表的な2形態を例に説明する。
[C] Display device:
The display device according to the present invention is a display device including at least the display panel and the above-described capacitance type touch panel substrate 10 disposed on the viewer side of the display panel. Hereinafter, two typical modes will be described as examples.

《第1の実施形態》
図9に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者V側に、前記した静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネル30と、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50とを少なくとも、この順に備える構成例である。
<< First Embodiment >>
A display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 9 is for a display panel 40, a touch panel 30 including the above-described capacitive touch panel substrate 10 on the viewer V side of the display panel 40, and a display device such as a cover glass. This is a configuration example including at least the front protective plate 50 in this order.

表示パネル40は、液晶表示パネル、電界発光(EL)パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管によるディスプレイ装置でもよく、公知の各種表示パネルでよい。   The display panel 40 is typically a liquid crystal display panel or an electroluminescence (EL) panel, but may be a display device using an electronic paper panel or a cathode ray tube, or any of various known display panels.

タッチパネル30は、静電容量式タッチパネル基板10を含み、さらに、タッチパネル機能を実現する為の制御回路、コネクタなどの公知の必要な部品を含む。   The touch panel 30 includes a capacitive touch panel substrate 10 and further includes known necessary components such as a control circuit and a connector for realizing a touch panel function.

この構成では、タッチパネル30とは別体の表示装置用前面保護板50を有する形態である為に、静電容量式タッチパネル基板10は、その反射性導電性層5に対して低反射層6が観察者Vに近くなる向きに配置される構成であれば良い。すなわち、反射性導電性層5と低反射層6とのどちらが、透光性基板1からの厚み方向で遠い位置にあるかは、いずれでもよく、透光性基板1の一方の面である第1面S1は、裏側とする向きの他、表側とする向きで配置することも可能となる。   In this configuration, since the display device front protective plate 50 is provided separately from the touch panel 30, the capacitive touch panel substrate 10 has the low reflective layer 6 relative to the reflective conductive layer 5. Any configuration may be used as long as it is arranged in a direction close to the observer V. That is, which of the reflective conductive layer 5 and the low reflective layer 6 is in a position far from the translucent substrate 1 in the thickness direction may be any, and the first surface of the translucent substrate 1 is the first surface. The first surface S1 can be arranged in the direction of the front side in addition to the direction of the back side.

表示装置用前面保護板50には、公知のものを採用することができ、例えば、化学強化ガラスなどのガラス板、アクリル樹脂などの樹脂板を透明な基材として用い、この基材の中央部は表示用領域として、この表示用領域の外周部に不透明な加飾部8を黒色など任意の色及び模様で加飾したものを採用することができる。   A well-known thing can be employ | adopted for the front-surface protective plate 50 for display apparatuses, for example, uses glass plates, such as chemically strengthened glass, and resin plates, such as an acrylic resin, as a transparent base material, The center part of this base material As the display area, it is possible to adopt an opaque decoration portion 8 decorated with an arbitrary color and pattern such as black on the outer periphery of the display area.

表示装置用前面保護板50としては、静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネル30が、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を含む場合には、加飾部8は省略する構成もあり得る。   As the front protective plate 50 for a display device, when the touch panel 30 including the capacitive touch panel substrate 10 includes the decoration portion 8 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap, the decoration portion 8 may be omitted. possible.

このような構成とすることで、タッチパネル30が備える静電容量式タッチパネル基板10における透明電極単位の間の接続部が、目立ちにくい表示装置とすることができる。   By setting it as such a structure, it can be set as the display apparatus with which the connection part between the transparent electrode units in the capacitive touch panel substrate 10 with which the touch panel 30 is provided is not conspicuous.

《第2の実施形態》
図10に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者側に、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50を兼用する形態の前記した静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネル30を少なくとも備える構成例である。
<< Second Embodiment >>
The display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 10 includes the display panel 40 and the above-described capacitive touch panel in the form of using the display device front protective plate 50 such as a cover glass on the viewer side of the display panel 40. 2 is a configuration example including at least a touch panel 30 including a substrate 10.

このような構成とすることで、前記図9の構成による効果に加えて、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。   By adopting such a configuration, in addition to the effects of the configuration of FIG. 9, the effects of reducing the number of parts and reducing the thickness can be obtained.

また、加飾部8に形成される配線7と、反射性導電性層5とを同一材料としたり、低反射層6を加飾部8と同一材料としたりした形態では、同一材料で形成する層同士を、同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層5を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   Moreover, in the form which made the wiring 7 formed in the decoration part 8 and the reflective conductive layer 5 into the same material, or made the low reflection layer 6 into the same material as the decoration part 8, it forms with the same material. Since the layers can be provided in the same process without increasing the number of processes, a structure in which the reflective conductive layer 5 is not conspicuous can be realized without cost.

《粘着シートなどの樹脂層の介在》
例えば、図8で例示した実施形態による表示装置100では、静電容量式タッチパネル基板10を含むタッチパネル30と表示パネル40との間、及び前記タッチパネル30と表示装置用前面保護板50との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明の表示装置100においては、各構成部材の間は、粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしても良い。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。
《Interposition of resin layer such as adhesive sheet》
For example, in the display device 100 according to the embodiment illustrated in FIG. 8, between the touch panel 30 including the capacitive touch panel substrate 10 and the display panel 40 and between the touch panel 30 and the display device front protective plate 50. However, in the display device 100 of the present invention, a gap between the constituent members may be filled with a known resin layer such as an adhesive layer. Since the light reflection on the surface of the member is reduced by the resin layer, the display can be more easily seen.

〔D〕用途:
本発明による静電容量式タッチパネル基板10、及び表示装置100の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットPCなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、ゲーム機器、自動券売機、ATM端末、POS端末、などである。
[D] Application:
Applications of the capacitive touch panel substrate 10 and the display device 100 according to the present invention are not particularly limited. For example, a mobile phone such as a smartphone, a portable information terminal such as a tablet PC, a personal computer, a car navigation system, a digital camera, an electronic notebook, a game machine, an automatic ticket vending machine, an ATM terminal, a POS terminal, and the like.

Claims (10)

第1面と前記第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第1面及び第2面のいずれか一方の面上に、第1方向に配列された複数の第1方向透明電極単位と、
前記第1方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第1方向透明電極単位同士を接続する第1方向接続部と、
前記第1方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第1方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第1方向接続部の間に位置して、前記第1方向と交差する第2方向に配列された複数の第2方向透明電極単位と、
前記第2方向透明電極単位同士を接続し、前記第1方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第2方向接続部と、
国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたYxy表色系でのY値が、10%以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有する、静電容量式タッチパネル基板。
A translucent substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A plurality of first direction transparent electrode units arranged in a first direction on either one of the first surface and the second surface of the translucent substrate;
A first direction connecting portion that is formed on the same surface with the same material as the first direction transparent electrode unit and connects the first direction transparent electrode units;
The first direction transparent electrode unit is formed of the same material and on the same surface, is located between the first direction transparent electrode units and is located between the first direction connection portions, and intersects the first direction. A plurality of second direction transparent electrode units arranged in a second direction;
The second direction transparent electrode units are connected to each other, the second direction connection part is insulated from the first direction connection part via an insulating layer, and includes a reflective conductive layer;
Observation from a direction perpendicular to the one surface of the translucent substrate, showing low reflectivity by the International Illumination Commission CIE with a Y value of 10% or less in the Yxy color system using the standard light source C A low reflective layer overlapping at least a portion of the reflective conductive layer,
A capacitive touch panel substrate.
前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の30%以上である、請求項1に記載の静電容量式タッチパネル基板。   2. The capacitive touch panel substrate according to claim 1, wherein an area of a portion where the low reflective layer and the reflective conductive layer overlap is 30% or more of an area of the reflective conductive layer. 前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、請求項1又は2に記載の静電容量式タッチパネル基板。   The outer contour shape of the low reflection layer when observed from a direction perpendicular to the one surface of the translucent substrate includes the outer contour shape of the reflective conductive layer on the inner side. The capacitive touch panel substrate described. 前記第1方向透明電極単位及び第2方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成されている、請求項1〜3のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
The outer peripheral portion of the position detection region in which the first direction transparent electrode unit and the second direction transparent electrode unit are arranged, and on the one surface of the translucent substrate, has a decoration portion,
The capacitive touch panel substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the low reflective layer is formed of the same material as the decorative portion.
前記第1方向透明電極単位及び第2方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項1〜4のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
The outer periphery of the position detection region in which the first direction transparent electrode unit and the second direction transparent electrode unit are arranged and having a wiring on the one surface of the translucent substrate,
The capacitive touch panel substrate according to claim 1, wherein the reflective conductive layer is formed of the same material as the wiring.
前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、請求項1〜5のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。   The capacitive touch panel substrate according to claim 1, wherein the low reflective layer is formed on the light transmissive substrate side with respect to the reflective conductive layer in a thickness direction. 前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、請求項6に記載の静電容量式タッチパネル基板。   The capacitive touch panel substrate according to claim 6, wherein the low reflective layer is formed between the reflective conductive layer and the translucent substrate. 前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、請求項1〜7のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。 The capacitive touch panel substrate according to claim 1, wherein a surface opposite to the one surface of the translucent substrate functions as an input surface of the touch panel. 前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、請求項1〜5のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。   The capacitance type according to claim 1, wherein the low reflection layer is formed on a side farther from the translucent substrate than the reflective conductive layer in the thickness direction. Touch panel substrate. 表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された請求項1〜9のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板と、を含む、表示装置。
A display panel;
A capacitive touch panel substrate according to claim 1, which is disposed on the viewer side of the display panel.
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