JP2015071513A - Insulated substrate for cigs solar battery and cigs solar battery - Google Patents

Insulated substrate for cigs solar battery and cigs solar battery Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulated substrate which is excellent in surface smoothness, has high-temperature heat resistance and enables compatibility of insulation suitable for applications in CIGS-system solar batteries and Na supply contributable to enhancement of the conversion efficiency and a CIGS solar battery using the insulated substrate.SOLUTION: In an insulated substrate for CIGS solar batteries, a glass layer of a thickness of 10-50 μm is formed on the surface of a steel sheet or steel foil by using a paste of an alkali metal-containing bismuth-based glass having a thermal expansion coefficient of 8-13x10/°C. An available alkali metal-containing bismuth-based glass has a glass transition point of 500°C or lower, a softening temperature of 550°C or higher and a crystallization temperature of 800°C or higher or a not crystallizing composition and comprises 30-90 mass% of BiO, 3-55 mass% of SiO+BOand a combined content of 0.5-20 mass% of one or more of LiO, NaO and KO.

Description

本発明は、CIGS太陽電池の絶縁基板、並びにその絶縁基板を用いたCIGS太陽電池に関するものである。   The present invention relates to an insulating substrate of a CIGS solar cell and a CIGS solar cell using the insulating substrate.

CIGS太陽電池は、カルコパイライト型の化合物層を光吸収層(光電変換層)とし、酸化亜鉛(ZnO)を窓層とする構造の化合物半導体型太陽電池である。図1に、従来一般的なCIGS太陽電池の断面構造を模式的に例示する。基板1の表面に金属Moからなる下部電極層2が形成されている。基板1としては一般にソーダライムガラスが適用される。ソーダライムガラスにはNaが含まれており、CIGS層成膜中にそのNaがCIGS層中へと拡散し、CIGS太陽電池の特性が向上する。下部電極層2の表面上に光吸収層としてCIGS層3が形成されている。さらにその上に、CdSからなるバッファ層4を介して、窓層である酸化亜鉛層5、およびITO(酸化インジウム錫)などからなる透光性導電層6が形成されている。透光性導電層6の一部表面に金属からなる上部電極層7が設けられている。下部電極層2と上部電極層7にそれぞれ導線8が接続され、負荷9に電力が供給される。 The CIGS solar cell is a compound semiconductor solar cell having a structure in which a chalcopyrite type compound layer is a light absorbing layer (photoelectric conversion layer) and zinc oxide (ZnO) is a window layer. FIG. 1 schematically illustrates a cross-sectional structure of a conventional general CIGS solar cell. A lower electrode layer 2 made of metal Mo is formed on the surface of the substrate 1. As the substrate 1, soda lime glass is generally applied. The soda lime glass contains Na, which diffuses into the CIGS layer during the CIGS layer formation, and improves the characteristics of the CIGS solar cell. A CIGS layer 3 is formed as a light absorption layer on the surface of the lower electrode layer 2. Further thereon, a zinc oxide layer 5 as a window layer and a translucent conductive layer 6 made of ITO (indium tin oxide) or the like are formed via a buffer layer 4 made of CdS. An upper electrode layer 7 made of metal is provided on a part of the surface of the translucent conductive layer 6. Conductive wires 8 are connected to the lower electrode layer 2 and the upper electrode layer 7, respectively, and power is supplied to the load 9.

特開2000−164909号公報JP 2000-164909 A 特開2009−267335号公報JP 2009-267335 A 特開昭62−276883号公報JP-A-62-276883 特開2006−80370号公報JP 2006-80370 A 特開平10−74966号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-74966 特開平10−74967号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-74967 特開平9−55378号公報JP-A-9-55378 特開平10−125941号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-125941 特開2006−210424号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-210424 特開2005−117012号公報JP 2005-1117012 A WO2009−116626号公報WO2009-116626

CIGS太陽電池では一般に基板としてガラス基板が用いられているが、軽量化、可とう性(フレキシビリティー)を有する太陽電池としてガラス基板以外にステンレス鋼板等の金属基板を用いた太陽電池も報告されている。金属基板を用いた太陽電池は、基板の軽量化、可とう性を実現できるため広い用途への適用が可能である。また、金属基板は400℃以上の高温プロセスに対する耐性もあることから、太陽電池の高効率化が期待できる。
しかしながら、ステンレス鋼板等の導電性基板を用いた場合には、太陽電池を直列接続するために、基板の裁断や導線での配線など複雑な製造プロセスが必要となり、コスト低減に課題がある。従って、基板上で複数のユニットセルを直列接続するため、金属基板上に絶縁層を設けることが必須となる。
In CIGS solar cells, glass substrates are generally used as substrates, but solar cells using metal substrates such as stainless steel plates in addition to glass substrates have also been reported as light-weight and flexible solar cells. ing. A solar cell using a metal substrate can be applied to a wide range of uses because the substrate can be reduced in weight and flexible. In addition, since the metal substrate has resistance to a high temperature process of 400 ° C. or higher, high efficiency of the solar cell can be expected.
However, when a conductive substrate such as a stainless steel plate is used, in order to connect the solar cells in series, a complicated manufacturing process such as cutting of the substrate and wiring with a conductive wire is required, and there is a problem in cost reduction. Therefore, in order to connect a plurality of unit cells in series on the substrate, it is essential to provide an insulating layer on the metal substrate.

絶縁層の形成方法として、例えば特許文献1にはゾルゲル法で絶縁層を形成する方法が記載されている。しかし、ゾルゲル法により作製した薄い膜では十分な絶縁耐圧を得ることは難しい。また、CIGS半導体層を作製する温度は500℃以上であり、この温度にさらされても絶縁層にクラックが生じないためには、半導体層との熱膨張係数差が小さい絶縁層が必要となる。
特許文献2には、金属基板上に陽極酸化膜を有し、陽極酸化膜の表面に細孔が形成された基板が記載されている。このような多孔質陽極酸化膜を絶縁層として用いた場合、クラックの発生しづらい酸化膜が得られるが、多孔質であるために水分が吸着しやすく、リーク電流が流れやすいという問題を有している。
As a method for forming an insulating layer, for example, Patent Document 1 describes a method for forming an insulating layer by a sol-gel method. However, it is difficult to obtain a sufficient withstand voltage with a thin film produced by the sol-gel method. In addition, the temperature at which the CIGS semiconductor layer is manufactured is 500 ° C. or higher, and an insulating layer having a small difference in thermal expansion coefficient from the semiconductor layer is necessary in order to prevent cracks in the insulating layer even when exposed to this temperature. .
Patent Document 2 describes a substrate having an anodized film on a metal substrate and having pores formed on the surface of the anodized film. When such a porous anodic oxide film is used as an insulating layer, an oxide film that is difficult to generate cracks can be obtained. However, since it is porous, there is a problem that moisture is easily adsorbed and a leak current easily flows. ing.

ところで、従来、CIGS太陽電池においてガラス基板としてソーダライムガラスが多用されているのは、光電変換半導体層を形成する際にナトリウムが光電変換半導体層に拡散することが発電効率の向上に寄与するという知見に基づくものである。しかしながら、上述の絶縁層を有する金属基板を太陽電池基板として用いた場合には、基板からナトリウムを供給することができないため、変換効率が上がらないという問題がある。
特許文献3および特許文献4には、金属基板上にガラス層を設けて金属基板使用時の絶縁性を確保するとともに、絶縁層にNaを含有させる試みがなされている。しかしながら、特許文献3の琺瑯は鉛を含有しており製品の安全性を損ねるとともに、熱膨張係数を鋼板の熱膨張係数と近づけることはできていない。特許文献4で設けられたガラス層もシリカ系ガラスであり、絶縁耐圧を高くすることができても熱膨張係数を合わせるまでには至っていない。さらに、Naを拡散しCIGS層の結晶成長を促進させるためには、NaFやNaAlFを含むようにするとの記載(段落0009)があるように、ベースのガラス層のみではNa拡散による効果は少ないと考えられる(表1)。
By the way, in the past, soda lime glass is frequently used as a glass substrate in CIGS solar cells, and when sodium is diffused into the photoelectric conversion semiconductor layer when the photoelectric conversion semiconductor layer is formed, it contributes to improvement in power generation efficiency. Based on knowledge. However, when a metal substrate having the above-described insulating layer is used as a solar cell substrate, there is a problem that conversion efficiency does not increase because sodium cannot be supplied from the substrate.
In Patent Document 3 and Patent Document 4, an attempt is made to provide a glass layer on a metal substrate to ensure insulation when the metal substrate is used, and to contain Na in the insulating layer. However, the bag of Patent Document 3 contains lead and impairs the safety of the product, and the thermal expansion coefficient cannot be brought close to the thermal expansion coefficient of the steel sheet. The glass layer provided in Patent Document 4 is also a silica-based glass, and even if it can increase the withstand voltage, it has not reached the thermal expansion coefficient. Further, in order to diffuse Na and promote crystal growth of the CIGS layer, there is a description (paragraph 0009) that NaF or Na 3 AlF 6 is included. Are considered to be small (Table 1).

光電変換半導体層へのアルカリ金属イオンの一般的な供給技術としては、例えば、特許文献5および6にはNaSeを、特許文献7ではNaを、特許文献8ではNaSを光電変換半導体層を構成する元素と共蒸着する方法が記載されている。また、特許文献9ではモリブデン(Mo)上にリン酸ナトリウムを蒸着する方法が、特許文献10ではNaMoOに浸漬することによりNa層を形成する方法が記載されている。さらに、特許文献11では、基板と下部電極層との間にケイ酸塩層を設ける方法が提案されている。ケイ酸塩層は、マグネトロンスパッタリング法により形成され、このケイ酸塩層に由来するアルカリ金属が裏面電極層を通過してCIGS系薄膜中に拡散されるため、CIGS系太陽電池のさらなる高効率化が可能とされている。しかし、いずれも絶縁層の上にさらに蒸着でサブミクロンオーダーの薄膜を形成させる必要があり、一層で絶縁性とNa供給による変換効率増大の両方の特性を与えることができない。 As a general technique for supplying alkali metal ions to the photoelectric conversion semiconductor layer, for example, Patent Documents 5 and 6 use Na 2 Se, Patent Document 7 uses Na 2 O 2 , and Patent Document 8 uses Na 2 S. A method of co-evaporation with an element constituting a photoelectric conversion semiconductor layer is described. Patent Document 9 describes a method of depositing sodium phosphate on molybdenum (Mo), and Patent Document 10 describes a method of forming a Na layer by immersing in Na 2 MoO 4 . Furthermore, Patent Document 11 proposes a method of providing a silicate layer between a substrate and a lower electrode layer. The silicate layer is formed by a magnetron sputtering method, and the alkali metal derived from the silicate layer passes through the back electrode layer and diffuses into the CIGS thin film. Is possible. However, in any case, it is necessary to further form a submicron order thin film on the insulating layer by vapor deposition, and it is impossible to give both characteristics of insulation and increase in conversion efficiency by supplying Na.

本発明は、表面平滑性に優れるとともに高温耐熱性を有し、CIGS系太陽電池の用途に好適な絶縁性と変換効率増大に寄与するアルカリ金属の供給を両立することが可能な絶縁基板、並びにその絶縁基板を用いたCIGS太陽電池を提供することを目的とするものである。 The present invention provides an insulating substrate that has both excellent surface smoothness and high-temperature heat resistance, and is capable of satisfying both the insulating properties suitable for CIGS solar cell applications and the supply of alkali metals that contribute to increased conversion efficiency, and An object of the present invention is to provide a CIGS solar cell using the insulating substrate.

発明者らの詳細な研究の結果、基板材料として鋼板・鋼箔を用いて、アルカリ金属含有ビスマス系ガラスのペーストを用いて10〜50μmのガラス層を形成させると、太陽電池に要求される絶縁耐圧とアルカリ金属の拡散による変換効率の高いCIGS太陽電池が得られることがわかった。また、鋼板表面に形成される酸化皮膜とビスマス系ガラスとの密着性が良く、熱膨張係数の差も小さくすることができるため、厚膜被覆してもクラックや剥離が生じず耐久性も良好となる。さらには、加熱時のガラスのレベリング性が良く平坦な表面が得られるため、薄膜であるCIGS層の欠陥が少なく電池性能も良好となる。加えて、太陽電池基板として供するためには、絶縁膜上に金属の電極を形成する必要があり、マイグレーションが起こらない絶縁層としなければならないが、ビスマス系ガラス組成のみがアルカリ金属を含有しながらマイグレーションを防止する効果を示す。本発明はこのような知見に基づいて完成したものである。   As a result of detailed research by the inventors, when a glass layer of 10 to 50 μm is formed using a paste of an alkali metal-containing bismuth glass using a steel plate / steel foil as a substrate material, insulation required for a solar cell is obtained. It was found that a CIGS solar cell having a high conversion efficiency due to breakdown voltage and alkali metal diffusion can be obtained. In addition, the adhesion between the oxide film formed on the steel sheet surface and bismuth-based glass is good, and the difference in thermal expansion coefficient can be reduced. It becomes. Furthermore, since the leveling property of the glass at the time of heating is good and a flat surface is obtained, there are few defects in the CIGS layer which is a thin film, and the battery performance is also good. In addition, in order to serve as a solar cell substrate, it is necessary to form a metal electrode on the insulating film, and it must be an insulating layer that does not cause migration, while only a bismuth-based glass composition contains an alkali metal. The effect of preventing migration is shown. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち本発明では、熱膨張係数が9〜13x10−6/℃である普通鋼またはステンレス鋼板・箔に、熱膨張係数が8〜13x10−6/℃のビスマス系ガラスを被覆したCIGS太陽電池用絶縁基板が提供される。ここで、ビスマス系ガラスの皮膜としては、軟化温度が550℃以上で、結晶化温度が800℃以上又は結晶化しない組成とする。例えば、Bi:30〜90質量%、SiO+B:3〜55質量%を含み、さらにLiO, NaO, KOのいずれか1種以上を合計0.5〜20質量%含むガラス組成のものが挙げられる。10質量%までの範囲でTiO, Al等を添加しても良い。基材である鋼としては、種々の鋼種が適用対象となるが、例えば普通鋼やフェライト系ステンレス鋼を挙げることができる。その具体的な成分組成を例示すると以下のようになる。
〔普通鋼〕
質量%で、C:0.001〜0.15%,Si
: 0.001〜0.1%,Mn : 0.005〜0.6%, P : 0.001〜0.05%, S : 0.001〜0.5%, Al : 0.001〜0.5%, Ni : 0.001〜1.0%, Cr : 0.001〜1.0%, Cu : 0〜0.1%, Ti : 0〜0.5%, Nb : 0〜0.5%, N : 0〜0.05%、残部Feおよび不可避的不純物からなる鋼。
〔フェライト系ステンレス鋼〕
質量%で、C : 0.0001〜0.15%、Si : 0.001〜1.2%、Mn : 0.001〜1.2%、P : 0.001〜0.04%、S : 0.0005%〜0.03%、Ni : 0〜0.6%、Cr : 11.5〜32.0%、Mo : 0〜2.5%、Cu : 0〜1.0%、Nb : 0〜1.0%、Ti : 0〜1.0%、Al : 0〜0.2%、N : 0〜0.025%、B : 0〜0.01%、V : 0〜0.5%、W : 0〜0.3%、Ca、Mg、Y、REM(希土類元素)の合計:0〜0.1%、残部Feおよび不可避的不純物からなる鋼。
ここで、下限が0%である元素は任意元素であり、「0%」は通常の製鋼工程における分析値が測定限界以下である場合を意味する。
That is, in this invention, ordinary steel or stainless steel-foil having a coefficient of thermal expansion 9~13x10 -6 / ℃, insulating CIGS solar cells thermal expansion coefficient is coated with 8~13x10 -6 / ℃ of bismuth glass A substrate is provided. Here, the film of bismuth glass has a softening temperature of 550 ° C. or higher and a crystallization temperature of 800 ° C. or higher or a composition that does not crystallize. For example, Bi 2 O 3 : 30 to 90% by mass, SiO 2 + B 2 O 3 : 3 to 55% by mass, and any one or more of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are combined in a total of 0. The thing of the glass composition containing 5-20 mass% is mentioned. Range up to 10% by weight may be added TiO 2, Al 2 O 3 or the like. Various steel types are applicable as the base steel, and examples thereof include ordinary steel and ferritic stainless steel. The specific component composition is exemplified as follows.
[Regular steel]
% By mass, C: 0.001 to 0.15%, Si
: 0.001-0.1%, Mn: 0.005-0.6%, P: 0.001-0.05%, S: 0.001-0.5%, Al: 0.001-0 0.5%, Ni: 0.001 to 1.0%, Cr: 0.001 to 1.0%, Cu: 0 to 0.1%, Ti: 0 to 0.5%, Nb: 0 to 0. 5%, N: 0 to 0.05%, steel composed of the balance Fe and inevitable impurities.
[Ferrite stainless steel]
In mass%, C: 0.0001 to 0.15%, Si: 0.001 to 1.2%, Mn: 0.001 to 1.2%, P: 0.001 to 0.04%, S: 0.0005% to 0.03%, Ni: 0 to 0.6%, Cr: 11.5 to 32.0%, Mo: 0 to 2.5%, Cu: 0 to 1.0%, Nb: 0 to 1.0%, Ti: 0 to 1.0%, Al: 0 to 0.2%, N: 0 to 0.025%, B: 0 to 0.01%, V: 0 to 0.5 %, W: 0 to 0.3%, Ca, Mg, Y, REM (rare earth elements) total: 0 to 0.1%, the balance Fe and steel consisting of inevitable impurities.
Here, an element whose lower limit is 0% is an arbitrary element, and “0%” means a case where an analysis value in a normal steelmaking process is equal to or less than a measurement limit.

また本発明では、上記の基板のガラス層上に、Mo皮膜を有するCIGS太陽電池用電極基板が提供される。また、その電極基板のMo皮膜上に、Cu(In,Ga)Se型化合物層を有するCIGS太陽電池が提供される。 Moreover, in this invention, the electrode substrate for CIGS solar cells which has Mo film | membrane on the glass layer of said board | substrate is provided. In addition, a CIGS solar cell having a Cu (In, Ga) Se 2 type compound layer on the Mo film of the electrode substrate is provided.

本発明では、CIGS太陽電池の絶縁基板の絶縁層として、アルカリ金属含有ビスマス系ガラスを設けることにより、500V以上の絶縁耐圧を有し、ソーダライムガラス基板を用いたCIGS太陽電池と同様に高い変換効率が得られる。成膜時には500℃以上の高温加熱が可能であり、ポリマーフィルムを基材に使用する場合と比べ、成膜条件の自由度が大幅に拡大する。また、箔状のステンレス鋼板を使用することでフレキシブル化が可能となる。フェライト系ステンレスの熱膨張係数は、9〜13x10−6/℃であり、アルカリ金属含有ビスマス系ガラスの熱膨張係数も8〜13x10−6/℃に合わせているため、絶縁基板製造時およびCIGS層形成時、さらには太陽電池として長期使用時(冷熱サイクル)においても絶縁層にクラックが発生して絶縁性が低下することを防止できる。また、ガラス組成は比較的軟化温度が低いため、焼成においてレべリングし平滑な表面が得られる。したがって本発明は、CIGS太陽電池の軽量化、フレキシブル化、および低コスト化に寄与するものである。 In the present invention, by providing an alkali metal-containing bismuth glass as the insulating layer of the insulating substrate of the CIGS solar cell, it has a dielectric breakdown voltage of 500 V or more and is as high as a CIGS solar cell using a soda lime glass substrate. Efficiency is obtained. High-temperature heating at 500 ° C. or higher is possible during film formation, and the degree of freedom in film formation conditions is greatly expanded as compared with the case where a polymer film is used as a substrate. Moreover, it becomes flexible by using a foil-shaped stainless steel plate. The thermal expansion coefficient of ferritic stainless steel is 9 to 13 × 10 −6 / ° C., and the thermal expansion coefficient of the alkali metal-containing bismuth glass is also adjusted to 8 to 13 × 10 −6 / ° C. It is possible to prevent the insulating layer from being deteriorated due to cracks in the insulating layer during the formation and further when used as a solar cell for a long time (cooling cycle). Further, since the glass composition has a relatively low softening temperature, it can be leveled during firing to obtain a smooth surface. Therefore, this invention contributes to the weight reduction, flexibility, and cost reduction of a CIGS solar cell.

従来一般的なCIGS太陽電池の断面構造を模式的に例示した図。The figure which illustrated typically the section structure of the conventional general CIGS solar cell. 本発明の基板を用いたCIGS太陽電池の断面構造を模式的に例示した図。The figure which illustrated typically the section structure of the CIGS solar cell using the substrate of the present invention.

図2に、本発明の基板を用いたCIGS太陽電池の断面構造を模式的に例示する。図1に示した従来一般的なCIGS太陽電池と大きく相違する点は、ソーダライムガラスからなる基板1(図1)の替わりに、アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12を有するステンレス鋼板11を用いていることにある。本発明では、鋼板11の表面にアルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12を有するCIGS太陽電池用の基板を絶縁基板12と称する。 ガラス層の表面上には例えばスパッタリング法などにより金属Moからなる下部電極層2が形成される。ガラス層を後述の所定厚さ以上とすることにより、CIGS層3を成膜する際の高温加熱でステンレス鋼板11からステンレス成分元素のFeやCrなどがCIGS層3中に拡散することが防止されるとともに、太陽電池基板として要求される500V以上の耐電圧性を示すことができる。また、アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12にはアルカリ金属が含有されているため、CIGS層中3へのIa族アルカリ金属元素供給源として機能し、電池性能の向上をもたらす。
絶縁基板12の板厚は、例えば0.02〜2.00mm程度とすればよい。特にフレキシブル化を重視するためには、0.02〜0.5mmとすることが望ましい。
FIG. 2 schematically illustrates a cross-sectional structure of a CIGS solar cell using the substrate of the present invention. A significant difference from the conventional general CIGS solar cell shown in FIG. 1 is that a stainless steel plate 11 having an alkali metal-containing bismuth glass layer 12 is used instead of the substrate 1 made of soda lime glass (FIG. 1). There is to be. In the present invention, a substrate for a CIGS solar cell having an alkali metal-containing bismuth glass layer 12 on the surface of the steel plate 11 is referred to as an insulating substrate 12. A lower electrode layer 2 made of metal Mo is formed on the surface of the glass layer by, for example, sputtering. By setting the glass layer to have a predetermined thickness or more, which will be described later, it is possible to prevent stainless steel component elements such as Fe and Cr from diffusing into the CIGS layer 3 from the stainless steel plate 11 by high-temperature heating when forming the CIGS layer 3. And withstand voltage of 500 V or more required as a solar cell substrate. Further, since alkali metal is contained in the alkali metal-containing bismuth-based glass layer 12, it functions as a group Ia alkali metal element supply source to the CIGS layer 3 and brings about improvement in battery performance.
The plate thickness of the insulating substrate 12 may be about 0.02 to 2.00 mm, for example. In particular, in order to place importance on flexibility, it is desirable that the thickness is 0.02 to 0.5 mm.

〔鋼基材〕
絶縁鋼板12の鋼板11としては、熱膨張係数がCIGS層と比較的近い普通鋼()や、フェライト系ステンレス鋼が好適な対象となる。ステンレス鋼は耐食性に優れるため、高い耐久性・信頼性が重視される用途においては好適である。規格鋼種としては、普通鋼の場合、例えばJIS G3141:2009に規定される冷延鋼板(鋼帯を含む)を素材とするものが適用できる。また、ステンレス鋼の場合、例えばJIS G4305:2005に規定されるフェライト系の化学組成を有する鋼板(鋼帯を含む)が適用できる。具体的な化学組成範囲は前述のとおりである。
[Steel substrate]
As the steel plate 11 of the insulating steel plate 12, ordinary steel () having a thermal expansion coefficient relatively close to that of the CIGS layer and ferritic stainless steel are suitable targets. Since stainless steel is excellent in corrosion resistance, it is suitable for applications where high durability and reliability are important. As the standard steel type, in the case of plain steel, for example, a material using a cold-rolled steel sheet (including a steel strip) defined in JIS G3141: 2009 can be applied. In the case of stainless steel, for example, a steel plate (including a steel strip) having a ferritic chemical composition defined in JIS G4305: 2005 can be applied. The specific chemical composition range is as described above.

〔アルカリ金属含有ビスマス系ガラス〕
アルカリ金属含有ビスマス系ガラスの組成は、Bi:30〜90質量%、SiO+B:3〜55質量%を含み、さらにLiO,NaO,KOのいずれか1種以上を合計0.5〜20質量%含むガラス組成のものが好適である。10質量%までの範囲で、TiO、Alを添加しても良い。Bi成分はガラス形成酸化物の役割を果たし、ガラスの安定性の向上に大きく寄与し、特に500℃以下の低いガラス転移点(Tg)という本発明の目的を達成するのに欠かせない成分である。本発明においてガラスの低Tg化にはBiの含有量が強く依存するので、含有量が少ないと低Tgのガラスを得がたい。しかし、Biを過剰に含有するとガラス安定性が損なわれ、少なすぎると本発明の目的を満たすことが出来ない。よって、Bi量は上限を90質量%とするのが好ましく、下限を30質量%とするのが好ましい。
[Alkali metal-containing bismuth glass]
The composition of the alkali metal-containing bismuth-based glass includes Bi 2 O 3 : 30 to 90% by mass, SiO 2 + B 2 O 3 : 3 to 55% by mass, and any of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O A glass composition containing a total of 0.5 to 20% by mass of one or more of them is preferred. Range up to 10 wt%, it may be added TiO 2, Al 2 O 3. The Bi 2 O 3 component plays the role of a glass-forming oxide and greatly contributes to the improvement of the stability of the glass. In particular, the Bi 2 O 3 component is indispensable for achieving the object of the present invention having a low glass transition point (Tg) of 500 ° C. or lower. There are no ingredients. In the present invention, since the content of Bi 2 O 3 strongly depends on the glass Tg reduction, it is difficult to obtain a glass having a low Tg when the content is small. However, if Bi 2 O 3 is contained excessively, the glass stability is impaired, and if it is too small, the object of the present invention cannot be satisfied. Therefore, the Bi 2 O 3 content preferably has an upper limit of 90% by mass and a lower limit of 30% by mass.

SiOまたはBはガラスの形成酸化物であり、安定なガラスを得るのに有用な成分である。この効果を得るにはこれら成分の1種または2種合計の含有量の下限を3質量%とすることが好ましく、500℃以下のTgを得るためには、これらの含有量の上限を55質量%とすることが好ましい。この二つの成分は単独でガラス中に導入しても本発明の目的の達成が可能であるが、同時に使うことにより、ガラスの溶融性、安定性及び化学的耐久性が増すので、同時に使うのが好ましい。また、上記の効果を最大限に引き出すために、B/SiOの比を0.15〜5の範囲にするのが好ましい。 SiO 2 or B 2 O 3 is a forming oxide of glass and is a useful component for obtaining a stable glass. In order to obtain this effect, the lower limit of the total content of one or two of these components is preferably 3% by mass. In order to obtain a Tg of 500 ° C. or lower, the upper limit of these contents is 55% by mass. % Is preferable. These two components can achieve the object of the present invention even if they are introduced alone into the glass, but the simultaneous use increases the meltability, stability and chemical durability of the glass. Is preferred. In order to maximize the above effect, the ratio of B 2 O 3 / SiO 2 is preferably set in the range of 0.15 to 5.

LiO, NaO及びKOの何れか1種以上は、先にも述べたように無鉛ガラス組成を低軟化点化するのに有効な成分であるとともに、無鉛ガラス組成物に高い熱膨張係数を付与するために有効な成分である。ガラス成分に占めるこれらの合計含有量は、通常、重量百分率で0.5〜20%の範囲の内の何れかとされる。なお、これらの成分は、そのうちの何れか1種が含まれていればよく、2種又は3種全てが含有されていてもよい。これらの合計含有量が上記範囲の内の何れかとされるのは、例えば、その合計含有量が0.5%未満では、アルカリ金属のCIGS層への拡散により太陽電池形成時の変換効率を増大させるという効果が得られない。20%を超えると、無鉛ガラス組成物に十分な化学的耐久性を付与することが困難となるおそれがあるためである。TiO、Alの添加は化学的耐久性を向上させることができる。 Any one or more of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are effective components for lowering the softening point of the lead-free glass composition as described above, and are high in the lead-free glass composition. It is an effective component for imparting a thermal expansion coefficient. These total contents which occupy in a glass component shall normally be either in the range of 0.5 to 20% by weight percentage. In addition, these components should just contain any 1 type of them, and 2 types or all 3 types may contain them. For example, if the total content is less than 0.5%, the conversion efficiency during solar cell formation is increased by diffusion of alkali metal into the CIGS layer. The effect of making it not obtain. This is because if it exceeds 20%, it may be difficult to impart sufficient chemical durability to the lead-free glass composition. Addition of TiO 2 and Al 2 O 3 can improve chemical durability.

このガラス層の熱膨張係数は8〜13x10−6/℃であることが必要である。熱膨張係数が8x10−6/℃に満たない場合、基材の普通鋼またはステンレス鋼の熱膨張係数と差が大きくなるため、基材へのガラス層形成やCIGS層形成時にクラックが発生し、絶縁性を有する皮膜を得ることができない。一方、13x10−6/℃を超えると、CIGS層の熱膨張係数との差が開き過ぎ、CIGS層形成時にCIGS層に欠陥を生じやすい。 The thermal expansion coefficient of this glass layer needs to be 8 to 13 × 10 −6 / ° C. When the thermal expansion coefficient is less than 8 × 10 −6 / ° C., the difference between the thermal expansion coefficient of ordinary steel or stainless steel of the base material becomes large, so that a crack occurs when forming a glass layer or CIGS layer on the base material, An insulating film cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 13 × 10 −6 / ° C., the difference from the coefficient of thermal expansion of the CIGS layer is too wide, and defects are likely to occur in the CIGS layer when the CIGS layer is formed.

また、このガラス層は、軟化温度が550℃を超え、結晶化温度が800℃以上又は結晶化しない組成とする。ガラス転移点が500℃以下で、かつ軟化点が550℃を超える組成とすることで、CIGS層を形成する550℃で溶融せずに絶縁性に優れたガラス層が形成させる。また、結晶化温度が800℃以上又は結晶化しない組成にすると、軟化点に対してより高温で焼き付ける際にレべリング性が良好となり、平滑な表面が得られる。
アルカリ金属含有ガラス上における電極金属のマイグレーションは、アルカリ金属の溶出に伴う金属の溶出が影響すると考えられる。
アルカリ金属含有ビスマス系ガラスにおいてMoマイグレーションを防止できるのは、Biが所定量含まれた状態で、SiOおよびBを適量含有されることにより、ガラスの網目構造内にアルカリ金属が安定して存在できるようになるため、アルカリ金属溶出が抑制されてマイグレーションの防止効果が発現するものと考えられる。
The glass layer has a softening temperature exceeding 550 ° C. and a crystallization temperature of 800 ° C. or higher or a composition that does not crystallize. By setting it as the composition whose glass transition point is 500 degrees C or less and whose softening point exceeds 550 degreeC, the glass layer excellent in insulation is formed, without fuse | melting at 550 degreeC which forms a CIGS layer. Further, when the crystallization temperature is 800 ° C. or higher or a composition that does not crystallize, the leveling property is improved when baking at a higher temperature than the softening point, and a smooth surface is obtained.
The migration of the electrode metal on the alkali metal-containing glass is considered to be affected by the elution of the metal accompanying the elution of the alkali metal.
Mo migration can be prevented in the alkali metal-containing bismuth-based glass by containing a proper amount of SiO 2 and B 2 O 3 in a state where a predetermined amount of Bi 2 O 3 is contained. Since the metal can exist stably, it is considered that the alkali metal elution is suppressed and the effect of preventing migration is exhibited.

アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12は、CIGS層中へのIa族アルカリ金属元素の供給源として機能する。主としてCIGS層成膜時の高温加熱によって、ガラス層中のIa族アルカリ金属元素(Naなど)が下部電極層2(Mo皮膜)を通ってCIGS層中へ拡散する。アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12の平均厚さは5〜50μmとすることが望ましい。5μmより薄いと、太陽電池基板で要求される500Vの耐電圧性を得ることが難しく、50μmを超えるとロールコートなどにより巻き取る際にアルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12にクラックが発生し、絶縁性が低下する。   The alkali metal-containing bismuth glass layer 12 functions as a supply source of the group Ia alkali metal element into the CIGS layer. The group Ia alkali metal element (such as Na) in the glass layer diffuses into the CIGS layer through the lower electrode layer 2 (Mo film) mainly by high-temperature heating at the time of forming the CIGS layer. The average thickness of the alkali metal-containing bismuth glass layer 12 is preferably 5 to 50 μm. If it is thinner than 5 μm, it is difficult to obtain a voltage resistance of 500 V required for a solar cell substrate. If it exceeds 50 μm, cracks occur in the alkali metal-containing bismuth-based glass layer 12 when it is wound by roll coating, etc. Sex is reduced.

アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12は、微細に粉砕したガラス粉末を有機溶剤に分散した液を塗布・焼成することにより形成することができる。例えば、バーコート、ロールコート、スクリーン印刷などにより基板上に塗布後、基板11の表面温度が570〜800℃の範囲に保持されるように焼成することでアルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12を形成することができる。 The alkali metal-containing bismuth glass layer 12 can be formed by applying and baking a liquid obtained by dispersing finely pulverized glass powder in an organic solvent. For example, after coating on the substrate by bar coating, roll coating, screen printing, etc., the alkali metal-containing bismuth glass layer 12 is formed by baking so that the surface temperature of the substrate 11 is maintained in the range of 570 to 800 ° C. can do.

塗布液は、微粉砕したガラス粉末とビヒクルとを混合し、ペーストを調整する。ビヒクルは、バインダ成分である樹脂を溶剤に溶解したものである。ビヒクル用の樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセルロース、プロピルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂;メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート等のアクリル系モノマーの1種以上を重合して得られるアクリル系樹脂等の有機樹脂が用いられる。溶剤としては、セルロース系樹脂の場合は、ターピネオール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤が、アクリル系樹脂の場合は、メチルエチルケトン、ターピネオール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤が用いられる。 The coating solution is prepared by mixing finely pulverized glass powder and a vehicle to prepare a paste. The vehicle is obtained by dissolving a resin as a binder component in a solvent. Examples of the resin for the vehicle include cellulose resins such as methyl cellulose, ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, oxyethyl cellulose, benzyl cellulose, propyl cellulose, and nitrocellulose; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, butyl acrylate An organic resin such as an acrylic resin obtained by polymerizing one or more acrylic monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate is used. Solvents such as terpineol, butyl carbitol acetate, and ethyl carbitol acetate are used in the case of cellulose resins, and solvents such as methyl ethyl ketone, terpineol, butyl carbitol acetate, and ethyl carbitol acetate are used in the case of acrylic resins. Is used.

ビヒクル中の樹脂成分は、ガラス粉末のバインダとして機能するものであり、焼成時に除去される。 ペーストの粘度は、基材に塗布する装置に対応した粘度に合わせればよく、有機バインダとしての樹脂成分と、有機溶剤等の割合や、封着材料とビヒクルとの割合により調整することができる。ペーストには、消泡剤や分散剤のようにガラスペーストにおいて公知の添加物を加えてもよい。ペーストの調製には、攪拌翼を備えた回転式の混合機やロールミル、ボールミル等を用いた公知の方法を適用することができる。   The resin component in the vehicle functions as a binder for the glass powder and is removed during firing. The viscosity of the paste may be adjusted to the viscosity corresponding to the apparatus applied to the substrate, and can be adjusted by the ratio of the resin component as the organic binder, the organic solvent, etc., and the ratio of the sealing material and the vehicle. You may add a well-known additive in a glass paste like an antifoamer and a dispersing agent to a paste. For preparing the paste, a known method using a rotary mixer equipped with a stirring blade, a roll mill, a ball mill or the like can be applied.

〔下部電極(Mo皮膜)〕
アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層12の表面上に、下部電極層2としてMo皮膜を形成することにより、電極基板が得られる。Mo皮膜の形成手法は、スパッタリング法等、公知の手法が適用できる。この下部電極層2の厚さは0.2〜3.0μm程度とすればよい。
[Lower electrode (Mo coating)]
By forming a Mo film as the lower electrode layer 2 on the surface of the alkali metal-containing bismuth glass layer 12, an electrode substrate is obtained. As a method for forming the Mo film, a known method such as a sputtering method can be applied. The thickness of the lower electrode layer 2 may be about 0.2 to 3.0 μm.

〔太陽電池セルの作製〕
上記の下部電極層2(Mo電極)の表面上に、CIGS層3、バッファ層4、酸化亜鉛層5、透光性導電層6を順次形成することにより太陽電池セルが作製される。これら各層の形成方法としては従来公知の手法が適用可能である。例えばCIGS層3の形成は、下部電極層2(Mo皮膜)上にCu, In, Ga, Seを同時あるいは順次蒸着し、加熱拡散によりCIGS層を合成する手法が採用できる。加熱温度は500〜550℃の高温とすることが可能である。通常、この温度範囲でCIGS層の合成に最適な条件を見出すことができる。
[Production of solar cells]
On the surface of the lower electrode layer 2 (Mo electrode), a CIGS layer 3, a buffer layer 4, a zinc oxide layer 5, and a light-transmitting conductive layer 6 are formed in this order to produce a solar battery cell. A conventionally known method can be applied as a method of forming each of these layers. For example, the CIGS layer 3 can be formed by a method in which Cu, In, Ga, and Se are vapor-deposited simultaneously or sequentially on the lower electrode layer 2 (Mo film), and a CIGS layer is synthesized by heat diffusion. The heating temperature can be as high as 500 to 550 ° C. Usually, optimum conditions for synthesis of the CIGS layer can be found in this temperature range.

鋼板11として、以下の化学組成を有する普通鋼冷延鋼板およびSUS430鋼板を用意した。
普通鋼冷延鋼板:質量%で、C:0.003%、Al:0.038%、Si:0.003%、Mn:0.12%、P:0.012%、S:0.122%、Ni:0.02%、Cr:0.02%、Cu:0.01%、Ti:0.073%、N:0.0023%、残部Feおよび不可避的不純物
SUS430鋼板:質量%で、C:0.01%、Si:0.52%、Mn:0.19%、Ni:0.10%、Cr:18.4%、残部Feおよび不可避的不純物
普通鋼冷延鋼板の熱膨張率は10.8×10−6/℃、SUS430鋼板の熱膨張率は11.0×10−6/℃である。
これら鋼板を基材として、ビスマス系、亜鉛系、シリカ系のアルカリ金属含有ガラス層を形成し、絶縁基板を得た。
ガラス材料とビヒクルとを、ガラス材料が80質量%、ビヒクルが20質量%となるように混合して塗布用ペーストを調製した。ビヒクルはバインダ成分としてのエチルセルロース(2.5質量%)をターピネオールからなる溶剤(97.5質量%)に溶解したものである。なお、ガラス組成は表1に示すように変化させた。バーコーターにより板厚0.1mmのSUS430へペーストを塗布して300℃で乾燥後、700℃で10分焼き付けた。ガラス層の膜厚を15μmとした。
As the steel plate 11, a normal steel cold-rolled steel plate and a SUS430 steel plate having the following chemical composition were prepared.
Normal steel cold-rolled steel sheet:% by mass, C: 0.003%, Al: 0.038%, Si: 0.003%, Mn: 0.12%, P: 0.012%, S: 0.122 %, Ni: 0.02%, Cr: 0.02%, Cu: 0.01%, Ti: 0.073%, N: 0.0023%, balance Fe and inevitable impurities SUS430 steel plate:% by mass, C: 0.01%, Si: 0.52%, Mn: 0.19%, Ni: 0.10%, Cr: 18.4%, balance Fe and inevitable impurities Thermal expansion coefficient of ordinary steel cold-rolled steel sheet Is 10.8 × 10 −6 / ° C., and the thermal expansion coefficient of the SUS430 steel plate is 11.0 × 10 −6 / ° C.
Bismuth-based, zinc-based, and silica-based alkali metal-containing glass layers were formed using these steel plates as base materials to obtain an insulating substrate.
The coating material was prepared by mixing the glass material and the vehicle so that the glass material was 80% by mass and the vehicle was 20% by mass. The vehicle is obtained by dissolving ethyl cellulose (2.5% by mass) as a binder component in a solvent (97.5% by mass) made of terpineol. The glass composition was changed as shown in Table 1. The paste was applied to SUS430 having a thickness of 0.1 mm by a bar coater, dried at 300 ° C., and baked at 700 ° C. for 10 minutes. The film thickness of the glass layer was 15 μm.

得られた絶縁基板について、ガラス層の各種特性と絶縁基板のクラック発生の有無、マイグレーション発生の有無との関係を調査した。 その結果を表1に示す。 About the obtained insulating substrate, the relationship between the various characteristics of a glass layer, the presence or absence of the crack generation of an insulating substrate, and the presence or absence of migration generation | occurrence | production was investigated. The results are shown in Table 1.

<軟化点・結晶化温度の測定>
各ガラス粉末試料を白金セル中に投入し、示差熱分析装置(DTA)にて測定した。
<熱膨張係数の測定>
JIS R 3102に基づいた測定方法により、絶縁層を形成するガラスフリット単体で棒状に焼成し、焼成後の熱膨張係数を測定した。
<Measurement of softening point and crystallization temperature>
Each glass powder sample was put into a platinum cell and measured with a differential thermal analyzer (DTA).
<Measurement of thermal expansion coefficient>
By a measuring method based on JIS R 3102, the glass frit forming the insulating layer was fired into a rod shape, and the thermal expansion coefficient after firing was measured.

<クラック発生の有無>
ガラスペーストを塗布・焼成後、空冷した後の表面を観察することによって、クラック発生有無を評価した。目視および光学顕微鏡による観察のいずれでもクラックの発生がなかったものを○とし、目視ではクラックの発生がなく、光学顕微鏡による観察でクラックの発生があったものを△とし、目視および光学顕微鏡による観察のいずれでもクラックの発生があったものを×とした。
<Presence of cracks>
The presence or absence of cracks was evaluated by observing the surface after air-cooling after applying and baking the glass paste. The case where no cracks were observed in both visual observation and observation with an optical microscope was rated as ◯, the case where there were no cracks observed with visual observation and the occurrence of cracks in the observation with an optical microscope was marked as △, and observation with a visual and optical microscope In any of the cases, cracks were observed as x.

<マイグレーション試験>
くし型電極をコートした絶縁鋼板を、設定温度121℃、2気圧、湿度95%の環境下に96時間保持し、その試験の前後において絶縁抵抗値を測定し、抵抗の低下のないものを○、低下が見られたものを×とした。
<Migration test>
An insulating steel sheet coated with a comb-shaped electrode is held for 96 hours in an environment of a set temperature of 121 ° C., 2 atm, and humidity of 95%, and the insulation resistance value is measured before and after the test, and the resistance does not decrease. The case where the decrease was observed was rated as x.

Figure 2015071513
Figure 2015071513

表1からわかるように、ガラスの熱膨張係数が8x10−6/℃未満では、鋼板との熱膨張係数との差が大きすぎて、焼成後に冷却した時点でクラックが認められた。また、熱膨張係数が8x10−6以上でSUS430の熱膨張係数に近いガラス組成としても、結晶化温度が800℃未満のガラス組成では、マイグレーション試験後に絶縁抵抗の低下が認められ、太陽電池基板として使用できないことがわかった。一方、本発明例のようなビスマス系のガラス組成にすることによって、クラックの発生がなく、マイグレーションによる絶縁抵抗低下の無い絶縁鋼板が得られることがわかった。 As can be seen from Table 1, when the thermal expansion coefficient of the glass was less than 8 × 10 −6 / ° C., the difference from the thermal expansion coefficient with the steel sheet was too large, and cracks were observed when cooled after firing. Moreover, even when the glass composition has a thermal expansion coefficient of 8 × 10 −6 or more and is close to the thermal expansion coefficient of SUS430, the glass composition having a crystallization temperature of less than 800 ° C. shows a decrease in insulation resistance after the migration test, and as a solar cell substrate It turned out that it cannot be used. On the other hand, it was found that by using a bismuth-based glass composition as in the present invention example, an insulating steel sheet free from cracks and having no decrease in insulation resistance due to migration was obtained.

そこで、ガラス材料の組成は、Bi:54質量%、SiO:38質量%、B:8質量%をベースとしてアルカリ金属の酸化物の含有量およびガラス層厚さを表2のように変化させ、CIGS太陽電池の変換効率および絶縁耐圧への影響を調査した。
上述のように絶縁鋼板を作製した後、下部電極層としてRFスパッタリング法により平均厚さ1μmのMo皮膜を形成し、電極基板を得た。
各絶縁基板のMo皮膜上に、以下に示す方法で太陽電池セルを作製した。
まず、絶縁基板温度を約550℃とした状態でCu, In, Ga, Seを同時に蒸着することにより、厚さ2μmのCIGS層を形成した。
Therefore, the composition of the glass material represents the content of the alkali metal oxide and the glass layer thickness based on Bi 2 O 3 : 54 mass%, SiO 2 : 38 mass%, and B 2 O 3 : 8 mass%. 2 and investigated the influence on the conversion efficiency and dielectric strength of the CIGS solar cell.
After producing an insulating steel plate as described above, a Mo film having an average thickness of 1 μm was formed as the lower electrode layer by RF sputtering to obtain an electrode substrate.
A solar battery cell was produced on the Mo film of each insulating substrate by the method described below.
First, a CIGS layer having a thickness of 2 μm was formed by simultaneously depositing Cu, In, Ga, and Se in a state where the temperature of the insulating substrate was about 550 ° C.

次に、CIGS層表面のセル部となる部分のみが露出するようマスクした状態でケミカル・バス・デポジション法(CBD法)により厚さ0.1μmの酸化亜鉛(ZnO)層および厚さ0.1μmのITO透光性導電層を順次形成した。太陽電池セルの大きさは5mmx5mmである。
このようにして作製した太陽電池セルのITO透光性導電層の一部表面のみが露出するようにマスクした状態で、その露出部分に上部電極層となるAuを蒸着法により形成し、CIGS太陽電池を得た。
Next, a zinc oxide (ZnO) layer having a thickness of 0.1 μm and a thickness of 0.1 μm are formed by a chemical bath deposition method (CBD method) in a state where only the cell portion on the CIGS layer surface is exposed. A 1 μm thick ITO transparent conductive layer was sequentially formed. The size of the solar battery cell is 5 mm × 5 mm.
In a state where only a part of the surface of the ITO translucent conductive layer of the solar battery thus produced is masked, Au serving as an upper electrode layer is formed on the exposed part by a vapor deposition method. A battery was obtained.

<耐圧性の評価>
JIS C 2110に基づいた測定方法により、ガラス層を形成した絶縁鋼板の絶縁破壊電圧を測定した。
<耐冷熱衝撃性の評価>
サンプル温度を−40℃に30分間保持したあと、次いで250℃に30分間保持する条件を1サイクルとする冷熱衝撃試験を1000サイクル実施した。その後、試験実施後の鋼板とガラス層との界面や、ガラス層における亀裂や欠陥の発生有無を、目視および光学顕微鏡を用いて観察して評価した。クラック発生については、目視および光学顕微鏡による観察のいずれでもクラックの発生がなかったものを○とし、目視ではクラックの発生がなく、光学顕微鏡による観察でクラックの発生があったものを△とし、目視および光学顕微鏡による観察のいずれでもクラックの発生があったものを×とした。
<Evaluation of pressure resistance>
The dielectric breakdown voltage of the insulating steel sheet on which the glass layer was formed was measured by a measuring method based on JIS C 2110.
<Evaluation of thermal shock resistance>
After holding the sample temperature at −40 ° C. for 30 minutes and then holding at 250 ° C. for 30 minutes, a thermal shock test was performed for 1000 cycles. Thereafter, the interface between the steel plate and the glass layer after the test was conducted, and the presence or absence of cracks or defects in the glass layer were observed and evaluated using visual observation and an optical microscope. As for crack generation, the case where no crack was generated both visually and by observation with an optical microscope was marked as ◯, the crack was not visually observed, and the case where crack was observed when observed with an optical microscope was marked as △. In addition, the case where cracks were generated in both observations with an optical microscope was marked with x.

<変換効率の評価>
上記の方法により作製したCIGS太陽電池に、山下電装社製「ソーラーシミュレーター:YSS−100」を用いてAM1.5、100mW/cmの模擬太陽光を照射しながら、KEITHLEY社製「2400型ソースメータ」によりI−V特性を測定して、短絡電流密度Jsc、開放電圧Voc、形状因子FFの値を得た。これらの値から下記(1)式により光電変換効率ηの値を求めた。
光電変換効率η(%)=短絡電流密度Jsc(mA/cm)x開放電圧Voc(V)x{形状因子FF/入射光100(mW/cm)}x100・・・・(1)
ソーダライムガラスを基板に使用したCIGS太陽電池(表1の試験No.0)の光電変換効率η0を標準として、η0に対する各CIGS太陽電池の光電変換効率ηの比率η/η0の値(「変換効率比」という)を求めた。
以上の評価結果を表2に示す。
<Evaluation of conversion efficiency>
The CIGS solar cell produced by the above method was irradiated with simulated sunlight of AM1.5, 100 mW / cm 2 using “Solar Simulator: YSS-100” manufactured by Yamashita Denso Co., Ltd. The IV characteristics were measured with a “meter” to obtain values of the short circuit current density Jsc, the open circuit voltage Voc, and the form factor FF. From these values, the value of photoelectric conversion efficiency η was determined by the following formula (1).
Photoelectric conversion efficiency η (%) = short circuit current density Jsc (mA / cm 2 ) × open circuit voltage Voc (V) × {form factor FF / incident light 100 (mW / cm 2 )} × 100 (1)
Using the photoelectric conversion efficiency η0 of a CIGS solar cell using soda lime glass as a substrate (test No. 0 in Table 1) as a standard, the ratio η / η0 of the photoelectric conversion efficiency η of each CIGS solar cell with respect to η0 (“conversion Called efficiency ratio).
The above evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2015071513
Figure 2015071513

表2から分かるように、本発明の絶縁基板は、耐電圧性に優れ、CIGS太陽電池の変換効率は、ソーダライムガラスを基板に用いた従来タイプのCIGS太陽電池に対する光電変換効率の減少はわずかであり、フレキシブル基板でありながら、高性能のCIGS太陽電池を実現することができた。   As can be seen from Table 2, the insulating substrate of the present invention is excellent in withstand voltage, and the conversion efficiency of the CIGS solar cell is a slight decrease in photoelectric conversion efficiency compared to the conventional type CIGS solar cell using soda lime glass as the substrate. In spite of being a flexible substrate, a high-performance CIGS solar cell could be realized.

1 ソーダライムガラス基板
2 下部電極層
3 CIGS層
4 バッファ層
5 酸化亜鉛層
6 透光性導電層
7 上部電極層
8 導線
9 負荷
11 鋼板
12 アルカリ金属含有ビスマス系ガラス層
20 絶縁基板

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Soda-lime glass substrate 2 Lower electrode layer 3 CIGS layer 4 Buffer layer 5 Zinc oxide layer 6 Translucent conductive layer 7 Upper electrode layer 8 Conductor 9 Load 11 Steel plate 12 Alkali metal-containing bismuth glass layer 20 Insulating substrate

Claims (5)

鋼板の表面に、軟化点が550℃以上、結晶化温度が800℃以上または結晶化せず、熱膨張係数が8〜13x10−6/℃であるアルカリ金属含有のガラス層が形成されていることを特徴とするCIGS太陽電池用絶縁基板。 An alkali metal-containing glass layer having a softening point of 550 ° C. or higher, a crystallization temperature of 800 ° C. or higher, or a thermal expansion coefficient of 8 to 13 × 10 −6 / ° C. is formed on the surface of the steel plate. An insulating substrate for CIGS solar cells. 前記ガラスがアルカリ金属含有ビスマス系ガラスであり、Bi:30〜90質量%、SiO+B:3〜55質量%を含み、さらにLiO, NaO, KOのいずれか1種以上を合計0.5〜20質量%含む組成であることを特徴とする、CIGS太陽電池用絶縁基板。 The glass is an alkali metal-containing bismuth glass, containing Bi 2 O 3 : 30 to 90% by mass, SiO 2 + B 2 O 3 : 3 to 55% by mass, and further Li 2 O, Na 2 O, K 2 O. An insulating substrate for CIGS solar cells, comprising a composition containing any one or more of 0.5 to 20% by mass in total. 前記絶縁層の厚さが5〜50μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のCIGS太陽電池用絶縁基板。 The insulating substrate for CIGS solar cells according to claim 1 or 2, wherein the insulating layer has a thickness of 5 to 50 µm. 請求項1〜3のいずれかに記載の絶縁基板の上に、Mo皮膜を有するCIGS太陽電池用電極基板。 The electrode substrate for CIGS solar cells which has Mo film | membrane on the insulating substrate in any one of Claims 1-3. 請求項4に記載の電極基板のMo皮膜上に、Cu(In、Ga)Se型化合物層を有するCIGS太陽電池。


On Mo film of the electrode substrate according to claim 4, Cu (In, Ga) CIGS solar cells with Se 2 type compound layer.


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