JP2015066482A - Coating device and coating method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating device and coating method which can adequately supply a coating liquid to a slit nozzle even when the coating liquid has high viscosity or resistance is generated in a supply system of the coating liquid such as a filter, or the like.SOLUTION: A supply system of a coating liquid includes a storage tank 61 for storing a coating liquid, and a pump 44 which feeds the coating liquid in the storage tank 61 to a slit nozzle 13. The storage tank 61 is arranged in a chamber 62. The chamber 62 is connected to a supply part of compressed air through a pressure-variable regulator 49 and an opening/closing valve 51. A filter 63 and an opening/closing valve 53 are arranged between the pump 44 and the storage tank 61. The pump 44 is connected to both end parts of the slit nozzle 13 through a pair of opening/closing valves 54, 55. A manometer 43 for measuring a pressure of the coating liquid pumped by the pump 44 is arranged on piping between the opening/closing valve 53 and the pump 44.

Description

この発明は、基板等の塗布対象物とノズルとを相対的に移動させることにより、塗布対象物に塗布液を塗布する塗布装置および塗布方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a coating liquid on a coating object by relatively moving a coating object such as a substrate and a nozzle.

例えば、太陽電池用パネル基板、有機ＥＬ表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の各種基板の表面に塗布液を塗布する場合においては、基板の表面と近接した状態で水平方向に移動することにより、この基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルを備えた塗布装置が使用される。   For example, when applying the coating liquid on the surface of various substrates such as a solar cell panel substrate, a glass substrate for an organic EL display device, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a PDP, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, etc. In the coating apparatus, a coating apparatus provided with a slit nozzle for coating a coating liquid on the surface of the substrate by moving in the horizontal direction in a state of being close to the surface of the substrate is used.

このような塗布装置においては、トラップタンク等の貯留槽に貯留した塗布液をチューブポンプやベローズポンプ等の、体積変化により塗布液を送液するポンプにより、スリットノズルに供給する構成が採用されている（特許文献１参照）。   In such a coating apparatus, a configuration is adopted in which the coating liquid stored in a storage tank such as a trap tank is supplied to the slit nozzle by a pump that feeds the coating liquid by volume change, such as a tube pump or a bellows pump. (See Patent Document 1).

特開２００８−１８２２６８号公報JP 2008-182268 A

このような塗布装置においては、従来、数ｃＰ（センチポアズ）から数十ｃＰ程度の粘度を有するものが使用されていた。しかしながら、近年においては、数千ｃＰ程度の粘度を有する塗布液も使用されている。このような塗布液を使用した場合においては、ポンプとして、チューブポンプやベローズポンプ等の、体積変化により塗布液を送液するポンプを使用する場合、塗布液の粘度により、適切な送液が実行し得ないという問題が生ずる。これは、塗布液の粘度が高い場合のみならず、塗布液を濾過するフィルターに目詰まりが生じた場合などにおいて、塗布液の供給系に抵抗が生じた場合にも同様に生ずる現象である。   In such a coating apparatus, a device having a viscosity of about several cP (centipoise) to several tens of cP has been conventionally used. However, in recent years, a coating solution having a viscosity of about several thousand cP is also used. When such a coating solution is used, when a pump that sends the coating solution by volume change, such as a tube pump or a bellows pump, is used as the pump, appropriate feeding is performed depending on the viscosity of the coating solution. The problem of not being possible arises. This is a phenomenon that occurs not only when the viscosity of the coating solution is high but also when resistance occurs in the coating solution supply system, such as when a filter that filters the coating solution is clogged.

このような問題を解決するため、塗布液を加圧した状態でポンプに供給することにより、塗布液の粘度が高い場合にも、適切にスリットノズルに塗布液を供給し得るようにすることが考えられる。   In order to solve such problems, it is possible to appropriately supply the coating liquid to the slit nozzle even when the viscosity of the coating liquid is high by supplying the coating liquid under pressure to the pump. Conceivable.

図９は、スリットノズル１３に対して加圧した塗布液を供給する実施形態における塗布液の供給系を示す概要図である。   FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a coating liquid supply system in an embodiment in which a pressurized coating liquid is supplied to the slit nozzle 13.

図９に示す塗布液の供給系は、塗布液を貯留する貯留槽６１と、この貯留槽６１内の塗布液をスリットノズル１３に向けて送液するポンプ４４とを備える。ポンプ４４と貯留槽６１との間には、フィルター６３と開閉弁５３が配設されている。また、ポンプ４４は、一対の開閉弁５４、５５を介して、スリットノズル１３の両端部と接続されている。さらに、スリットノズル１３には、管路中に開閉弁５６を備えたエア抜き用の配管が接続されている。   The coating liquid supply system shown in FIG. 9 includes a storage tank 61 that stores the coating liquid, and a pump 44 that feeds the coating liquid in the storage tank 61 toward the slit nozzle 13. A filter 63 and an opening / closing valve 53 are disposed between the pump 44 and the storage tank 61. The pump 44 is connected to both ends of the slit nozzle 13 via a pair of on-off valves 54 and 55. Further, the slit nozzle 13 is connected to an air vent pipe having an open / close valve 56 in the pipe line.

塗布液を貯留する貯留槽６１は、チャンバー６２内に配設されている。このチャンバー６２は、レギュレータ４９と、開閉弁５１とを介して、圧縮空気の供給部と接続されている。このため、圧縮空気の供給部からレギュレータ４９および、開閉弁５１を介して圧縮空気がチャンバー６２内に供給されると、貯留槽６１内の塗布液は圧縮される。そして、開閉弁５３が開放された場合には、塗布液はフィルター６３を介してポンプ４４に送液される。このようにポンプ４４に供給された塗布液が加圧されていた場合には、粘度が高い塗布液を使用するときに、ポンプ４４として、チューブポンプやベローズポンプ等の、体積変化により塗布液を送液するポンプを使用した場合においても、塗布液を適正にスリットノズル１３に供給することが可能となる。   A storage tank 61 for storing the coating liquid is disposed in the chamber 62. The chamber 62 is connected to a compressed air supply unit via a regulator 49 and an on-off valve 51. For this reason, when compressed air is supplied into the chamber 62 through the regulator 49 and the on-off valve 51 from the compressed air supply unit, the coating liquid in the storage tank 61 is compressed. When the on-off valve 53 is opened, the coating liquid is sent to the pump 44 through the filter 63. Thus, when the coating liquid supplied to the pump 44 is pressurized, when using a coating liquid having a high viscosity, the coating liquid is used as a pump 44 due to a volume change such as a tube pump or a bellows pump. Even when a pump for feeding liquid is used, the coating liquid can be properly supplied to the slit nozzle 13.

図１０は、図９に示す供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。   FIG. 10 is a graph showing changes in pressure of the coating liquid when the coating liquid is supplied from the supply system shown in FIG.

図１０に示すグラフにおいては、縦軸は圧力を示し、横軸は時間を示している。また、このグラフにおいては、実線は、貯留槽６１からポンプ４４に送液される塗布液の圧力を示している。さらに、このグラフにおいては、符号Ａはポンプ４４が適正に動作可能な最大圧力を示し、符号Ｂは塗布液の供給元の圧力、すなわち、レギュレータ４１により調整された塗布液の圧力を示し、符号Ｃはポンプ４４が適正に動作可能な最小圧力を示している。   In the graph shown in FIG. 10, the vertical axis represents pressure, and the horizontal axis represents time. Further, in this graph, the solid line indicates the pressure of the coating liquid fed from the storage tank 61 to the pump 44. Further, in this graph, the symbol A indicates the maximum pressure at which the pump 44 can operate properly, the symbol B indicates the pressure of the coating liquid supply source, that is, the pressure of the coating liquid adjusted by the regulator 41, C indicates the minimum pressure at which the pump 44 can operate properly.

塗布液の塗布開始前には、開閉弁５３は閉止されており、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は一定となっている。この状態において、塗布液の塗布を開始するときには、最初に、開閉弁５３が開放される。図１０における符号ａは、開閉弁５３が開放された時点を示している。この開閉弁５３の開放に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に低下した後、再度上昇する。そして、時間の経過とともに、ポンプ４４の入口における圧力は徐々に上昇し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、ポンプ４４の吸引動作が開始され、塗布液がポンプ４４へ供給される。図１０における符号ｂは、ポンプ４４の吸引動作が開始された時点を示している。   Before the start of application of the application liquid, the on-off valve 53 is closed, and the pressure of the application liquid at the inlet of the pump 44 is constant. In this state, when the application of the coating liquid is started, the on-off valve 53 is first opened. A symbol a in FIG. 10 indicates a point in time when the on-off valve 53 is opened. Due to the volume change accompanying the opening of the on-off valve 53, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily decreases and then increases again. Then, as time elapses, the pressure at the inlet of the pump 44 gradually increases and becomes a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. In this state, the suction operation of the pump 44 is started, and the coating liquid is supplied to the pump 44. A symbol b in FIG. 10 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is started.

ポンプ４４が吸引動作を開始し、塗布液がポンプ４４へ供給されると、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は急激に低下する。そして、塗布状況によっては、図１０に示すように、ポンプ４４の入口における圧力が、ポンプ４４が適正に動作可能な最小圧力Ｃより小さくなる場合がある。このような現象が発生した場合には、ポンプ４４が適正に送液を実行し得ないことから、スリットノズル１３の塗布速度を低下させる等の対応が必要となり、塗布液の適正な塗布動作が実行し得ないことになる。   When the pump 44 starts the suction operation and the coating liquid is supplied to the pump 44, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 rapidly decreases. Depending on the application state, as shown in FIG. 10, the pressure at the inlet of the pump 44 may be lower than the minimum pressure C at which the pump 44 can operate properly. When such a phenomenon occurs, the pump 44 cannot properly perform the liquid feeding, and therefore, it is necessary to take measures such as reducing the coating speed of the slit nozzle 13, and an appropriate coating liquid coating operation is performed. It cannot be executed.

塗布液の塗布を終了するときには、ポンプ４４による送液を停止するとともに、開閉弁５４、５５を閉止する。図１０における符号ｃは、ポンプ４４の吸引動作が停止した時点を示している。ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は、徐々に上昇し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、開閉弁５３を閉止すると、この開閉弁５３の閉止に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に上昇する。   When the application of the coating liquid is finished, the liquid feeding by the pump 44 is stopped and the on-off valves 54 and 55 are closed. A symbol c in FIG. 10 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is stopped. The pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 gradually increases and becomes a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. When the on-off valve 53 is closed in this state, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily rises due to the volume change accompanying the closing of the on-off valve 53.

このように、塗布液を加圧した状態でポンプ４４に供給する構成を採用した場合であっても、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力が、ポンプ４４が適正に動作可能な圧力の範囲外となる現象が生じ、塗布液を適正に塗布できない場合がある。   As described above, even when the configuration in which the coating liquid is supplied to the pump 44 in a pressurized state is adopted, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 is out of the pressure range where the pump 44 can operate properly. May occur and the coating solution may not be applied properly.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、塗布液の粘度が高い場合や、フィルター等の塗布液の供給系に抵抗が生じた場合等においても、スリットノズルに適正に塗布液を供給することが可能な塗布装置および塗布方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. Even when the viscosity of the coating liquid is high or when resistance occurs in the coating liquid supply system such as a filter, the coating liquid is properly applied to the slit nozzle. It is an object of the present invention to provide a coating apparatus and a coating method capable of supplying a liquid.

請求項１に記載の発明は、塗布対象物とノズルとを相対的に移動させることにより、前記塗布対象物に塗布液を塗布する塗布装置であって、塗布液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された塗布液を前記ノズルに送液するポンプと、前記貯留槽内の塗布液を加圧することにより、前記貯留槽内の塗布液を前記ポンプに圧送する加圧機構と、前記ポンプに圧送される塗布液の圧力を測定する圧力計と、前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。   The invention according to claim 1 is an application device that applies an application liquid to the application object by relatively moving the application object and the nozzle, and a storage tank that stores the application liquid; A pump for feeding the coating liquid stored in the storage tank to the nozzle, a pressurizing mechanism for pumping the coating liquid in the storage tank to the pump by pressurizing the coating liquid in the storage tank, and A pressure gauge that measures the pressure of the coating liquid pumped to the pump, and a control unit that controls the pressure of the coating liquid by the pressurizing mechanism based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge. It is characterized by that.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記制御部は、前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を連続的に変更する。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the controller continuously applies the pressure of the coating liquid by the pressurizing mechanism based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge. Change to

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記制御部は、前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を多段階に変更する。   According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the control unit multi-stages the pressure of the coating liquid by the pressurizing mechanism based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge. Change to

請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明において、前記ポンプと前記ノズルとを接続する管路に、当該管路内の塗布液の圧力を開放するための圧力開放部が付設される。   According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the pressure of the coating liquid in the pipe is released to the pipe connecting the pump and the nozzle. A pressure release part is attached.

請求項５に記載の発明は、塗布対象物とノズルとを相対的に移動させながら、前記ノズルから塗布液を吐出することにより、前記塗布対象物に塗布液を塗布する塗布方法であって、貯留槽内に貯留された塗布液を加圧する加圧工程と、前記加圧工程において加圧された塗布液をポンプにより前記ノズルに送液して前記ノズルより塗布液を吐出するとともに、前記塗布対象物と前記ノズルとを相対的に移動させて塗布液の塗布を行う塗布工程と、前記ポンプに圧送される塗布液の圧力を測定する圧力測定工程と、前記圧力測定工程において測定した塗布液の圧力に基づいて、塗布液の加圧力を制御する加圧力制御工程と、を備えたことを特徴とする。   The invention according to claim 5 is an application method for applying the application liquid to the application object by discharging the application liquid from the nozzle while relatively moving the application object and the nozzle, A pressurizing step of pressurizing the coating solution stored in the storage tank; and the coating solution pressurized in the pressurizing step is fed to the nozzle by a pump and discharged from the nozzle; A coating process for coating the coating liquid by relatively moving the object and the nozzle, a pressure measuring process for measuring the pressure of the coating liquid pumped to the pump, and the coating liquid measured in the pressure measuring process And a pressurizing control step for controlling the pressurizing force of the coating liquid based on the pressure.

請求項１および請求項５に記載の発明によれば、塗布液の粘度が高い場合や、フィルター等の塗布液の供給系に抵抗が生じた場合等においても、スリットノズルに常に適正に塗布液を供給することが可能となる。   According to the first and fifth aspects of the present invention, the coating liquid is always properly applied to the slit nozzle even when the viscosity of the coating liquid is high or when resistance is generated in the supply system of the coating liquid such as a filter. Can be supplied.

請求項２に記載の発明によれば、圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、加圧機構による塗布液の加圧力を連続的に変更して、適正な圧力の塗布液をポンプに供給することが可能となる。   According to the second aspect of the present invention, based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge, the pressure of the coating liquid by the pressurizing mechanism is continuously changed, and the coating liquid having an appropriate pressure is supplied to the pump. It becomes possible to supply.

請求項３に記載の発明によれば、圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて加圧力を段階的に変更することから、簡易な構成で適正な圧力の塗布液をポンプに供給することが可能となる。   According to the invention described in claim 3, since the applied pressure is changed stepwise based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge, the coating liquid having an appropriate pressure is supplied to the pump with a simple configuration. Is possible.

請求項４に記載の発明によれば、塗布開始前あるいは塗布終了後に、速やかにポンプとノズル間の塗布液の圧力を通常の圧力まで低下させることが可能となる。   According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to quickly reduce the pressure of the coating liquid between the pump and the nozzle to a normal pressure before the start of application or after the end of application.

塗布装置の斜視図である。It is a perspective view of a coating device. 塗布装置の側面概要図である。It is a side surface schematic diagram of a coating device. この発明の第１実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the supply system of the coating liquid which concerns on 1st Embodiment of this invention. この発明の第１実施形態に係る供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the pressure of a coating liquid when a coating liquid is supplied by the supply system which concerns on 1st Embodiment of this invention. この発明の第２実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the supply system of the coating liquid which concerns on 2nd Embodiment of this invention. この発明の第２実施形態に係る供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the pressure of a coating liquid when a coating liquid is supplied by the supply system which concerns on 2nd Embodiment of this invention. この発明の第３実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the supply system of the coating liquid which concerns on 3rd Embodiment of this invention. この発明の第３実施形態に係る供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the pressure of a coating liquid when a coating liquid is supplied by the supply system which concerns on 3rd Embodiment of this invention. スリットノズル１３に対して加圧した塗布液を供給する実施形態における塗布液の供給系を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a coating liquid supply system in an embodiment for supplying a pressurized coating liquid to a slit nozzle. 図９に示す供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change of the pressure of a coating liquid when a coating liquid is supplied by the supply system shown in FIG.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、塗布装置の斜視図である。また、図２は、塗布装置の側面概要図である。なお、図１においては、ノズル洗浄装置３１およびプリディスペンス装置３４の図示を省略している。また、図２においては、キャリッジ１４等の図示を省略している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a coating apparatus. FIG. 2 is a schematic side view of the coating apparatus. In FIG. 1, illustration of the nozzle cleaning device 31 and the pre-dispensing device 34 is omitted. In FIG. 2, the carriage 14 and the like are not shown.

この塗布装置は、基板１００を吸着保持するためのステージ１１を備える。このステージ１１としては、その上面の平面度が数マイクロメータ程度とされた石定盤等が使用される。ステージ１１には、図示を省略した複数のリフトピンが、適宜の間隔をおいて設けられている。このリフトピンは、基板１００の搬入、搬出時に、基板１００をその下方より支持して、ステージ１１の表面より上方に上昇させる。   This coating apparatus includes a stage 11 for holding the substrate 100 by suction. As this stage 11, a stone surface plate or the like whose flatness of the upper surface is about several micrometers is used. A plurality of lift pins (not shown) are provided on the stage 11 at appropriate intervals. The lift pins support the substrate 100 from below and lift it upward from the surface of the stage 11 when the substrate 100 is loaded and unloaded.

ステージ１１の上方には、このステージ１１の両側部分から略水平に掛け渡されたキャリッジ１４が設けられている。このキャリッジ１４は、スリットノズル１３を支持するためのノズル支持部１５と、このノズル支持部１５の両端を支持する左右一対の昇降機構１６とを備える。また、ステージ１１の両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール１７が配設される。これらの走行レール１７は、キャリッジ１４の両端部をガイドすることにより、キャリッジ１４を、図１に示すＸ方向に往復移動させる。   Above the stage 11, a carriage 14 is provided that extends substantially horizontally from both sides of the stage 11. The carriage 14 includes a nozzle support portion 15 for supporting the slit nozzle 13 and a pair of left and right lifting mechanisms 16 for supporting both ends of the nozzle support portion 15. In addition, a pair of running rails 17 extending in parallel to the substantially horizontal direction are disposed at both ends of the stage 11. These running rails 17 reciprocate the carriage 14 in the X direction shown in FIG. 1 by guiding both ends of the carriage 14.

ステージ１１およびキャリッジ１４の両側部分には、ステージ１１の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子２１と移動子２２を備える一対のリニアモータ２０が配設されている。また、ステージ１１およびキャリッジ１４の両側部分には、それぞれスケール部と検出子とを備えた一対のリニアエンコーダ２３が固設される。このリニアエンコーダ２３は、キャリッジ１４の位置を検出する。   A pair of linear motors 20 each provided with a stator 21 and a moving element 22 are disposed along both side edges of the stage 11 at both side portions of the stage 11 and the carriage 14. A pair of linear encoders 23 each having a scale portion and a detector are fixed to both sides of the stage 11 and the carriage 14. The linear encoder 23 detects the position of the carriage 14.

また、図２に示すように、ステージ１１の側方には、ノズル洗浄装置３１が配設されている。この塗布装置においては、塗布動作を実行する前あるいは実行した後に、スリットノズル１３をこのノズル洗浄装置３１で洗浄するようにしている。   Further, as shown in FIG. 2, a nozzle cleaning device 31 is disposed on the side of the stage 11. In this coating apparatus, the slit nozzle 13 is cleaned by the nozzle cleaning apparatus 31 before or after the coating operation is performed.

また、図２に示すように、ステージ１１の側方には、プリディスペンス装置３４が配設されている。このプリディスペンス装置３４は、貯留槽３５内に貯留された洗浄液中にその一部を浸漬したプリディスペンスローラ３６と、ドクターブレード３７とを備える。プリディスペンスローラ３６とドクターブレード３７とは、Ｙ方向に対して、スリットノズル１３と同等以上の長さを有する。また、プリディスペンスローラ３６は、図示しないモータの駆動により回転する。この塗布装置においては、塗布動作を実行する前に、プリディスペンスローラ３６の上方に移動したスリットノズル１３から少量の塗布液を吐出することにより、ノズル洗浄装置３１による洗浄時に洗浄液を含有した塗布液を、スリットノズル１３内から除去する工程を実行するようにしている。   Further, as shown in FIG. 2, a pre-dispensing device 34 is disposed on the side of the stage 11. The pre-dispensing device 34 includes a pre-dispensing roller 36 in which a part thereof is immersed in the cleaning liquid stored in the storage tank 35 and a doctor blade 37. The pre-dispensing roller 36 and the doctor blade 37 have a length equal to or longer than that of the slit nozzle 13 in the Y direction. The pre-dispensing roller 36 is rotated by driving a motor (not shown). In this coating apparatus, before performing the coating operation, a small amount of coating liquid is discharged from the slit nozzle 13 that has moved above the pre-dispensing roller 36, so that the coating liquid containing the cleaning liquid at the time of cleaning by the nozzle cleaning apparatus 31. Is removed from the slit nozzle 13.

この塗布装置により塗布動作を実行するときには、最初に、図示しない搬送機構により、ステージ１１上に基板１００を搬入する。そして、この基板１００をステージ上に吸着保持する。この状態において、スリットノズル１３をステージ１１に吸着保持された基板１００の表面と近接させた状態で、このスリットノズル１３をリニアモータ２０の駆動により基板１００の表面に沿って移動させるとともに、塗布液を基板１００の表面に供給する。これにより、基板１００の表面に塗布液の薄膜が形成される。   When a coating operation is executed by this coating apparatus, first, the substrate 100 is loaded onto the stage 11 by a transport mechanism (not shown). Then, the substrate 100 is sucked and held on the stage. In this state, the slit nozzle 13 is moved along the surface of the substrate 100 by driving the linear motor 20 in a state where the slit nozzle 13 is brought close to the surface of the substrate 100 sucked and held on the stage 11, and the coating liquid Is supplied to the surface of the substrate 100. Thereby, a thin film of the coating liquid is formed on the surface of the substrate 100.

図３は、この発明の第１実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。   FIG. 3 is a schematic view showing a coating liquid supply system according to the first embodiment of the present invention.

図３に示す塗布液の供給系は、塗布液を貯留する貯留槽６１と、この貯留槽６１内の塗布液をスリットノズル１３に向けて送液するポンプ４４とを備える。ポンプ４４としては、塗布液の清浄性を担保するため、チューブポンプやベローズポンプ等の、体積変化により塗布液を送液するポンプが使用される。ポンプ４４と貯留槽６１との間には、フィルター６３と開閉弁５３が配設されている。また、ポンプ４４は、一対の開閉弁５４、５５を介して、スリットノズル１３の両端部と接続されている。また、スリットノズル１３には、管路中に開閉弁５６を備えたエア抜き用の配管が接続されている。さらに、開閉弁５３とポンプ４４との間の配管には、ポンプ４４に圧送される塗布液の圧力を測定するための圧力計４３が配設されている。   The coating liquid supply system shown in FIG. 3 includes a storage tank 61 that stores the coating liquid, and a pump 44 that feeds the coating liquid in the storage tank 61 toward the slit nozzle 13. As the pump 44, in order to ensure the cleanliness of the coating liquid, a pump that feeds the coating liquid by volume change such as a tube pump or a bellows pump is used. A filter 63 and an opening / closing valve 53 are disposed between the pump 44 and the storage tank 61. The pump 44 is connected to both ends of the slit nozzle 13 via a pair of on-off valves 54 and 55. The slit nozzle 13 is connected to an air vent pipe having an on-off valve 56 in the pipeline. Further, a pressure gauge 43 for measuring the pressure of the coating liquid pumped to the pump 44 is disposed in the pipe between the on-off valve 53 and the pump 44.

塗布液を貯留する貯留槽６１は、チャンバー６２内に配設されている。このチャンバー６２は、圧力調整部としての圧力可変型のレギュレータ４９と、開閉弁５１とを介して、圧縮空気の供給部と接続されている。この圧力可変型のレギュレータ４９は、電空レギュレータ等と呼称されるものであり、制御信号に基づいてチャンバー６２に供給する圧縮空気の圧力を連続的に変更可能なレギュレータである。   A storage tank 61 for storing the coating liquid is disposed in the chamber 62. The chamber 62 is connected to a compressed air supply unit via a pressure variable regulator 49 as a pressure adjusting unit and an on-off valve 51. This variable pressure regulator 49 is called an electropneumatic regulator or the like, and is a regulator capable of continuously changing the pressure of compressed air supplied to the chamber 62 based on a control signal.

このような構成を採用することにより、圧縮空気の供給部からレギュレータ４９および、開閉弁５１を介して圧縮空気がチャンバー６２内に供給されると、貯留槽６１内の塗布液は圧縮される。そして、開閉弁５３が開放された場合には、塗布液は、レギュレータ４９により制御された圧力により、フィルター６３を介してポンプ４４に送液される。このようにポンプ４４に供給された塗布液が加圧されていた場合には、粘度が高い塗布液を使用するときに、ポンプ４４として、チューブポンプやベローズポンプ等の、体積変化により塗布液を送液するポンプを使用した場合においても、塗布液を適切にポンプ４４に供給することが可能となる。   By adopting such a configuration, when compressed air is supplied into the chamber 62 from the compressed air supply unit via the regulator 49 and the on-off valve 51, the coating liquid in the storage tank 61 is compressed. When the on-off valve 53 is opened, the coating liquid is sent to the pump 44 through the filter 63 by the pressure controlled by the regulator 49. Thus, when the coating liquid supplied to the pump 44 is pressurized, when using a coating liquid having a high viscosity, the coating liquid is used as a pump 44 due to a volume change such as a tube pump or a bellows pump. Even when a pump for feeding liquid is used, the coating liquid can be appropriately supplied to the pump 44.

この塗布装置は、論理演算を実行するＣＰＵ、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたＲＯＭ、制御時にデータ等が一時的にストアされるＲＡＭ等を備え、装置全体を制御する制御部４０を有する。この制御部４０は、上述したレギュレータ４９および圧力計４３に接続されている。なお、この制御部４０は、後述するように、圧力計４４により測定した塗布液の圧力に基づいてレギュレータ４９を調整することにより、塗布液の加圧力を制御する制御動作を実行する。   The coating apparatus includes a CPU that executes logical operations, a ROM that stores an operation program necessary for controlling the apparatus, a RAM that temporarily stores data during control, and the like, and a control unit 40 that controls the entire apparatus. Have The control unit 40 is connected to the regulator 49 and the pressure gauge 43 described above. As will be described later, the control unit 40 adjusts the regulator 49 based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge 44, thereby executing a control operation for controlling the pressure of the coating liquid.

図４は、図３に示す供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。   FIG. 4 is a graph showing changes in the pressure of the coating liquid when the coating liquid is supplied from the supply system shown in FIG.

図３に示すグラフにおいては、縦軸は圧力を示し、横軸は時間を示している。また、このグラフにおいては、実線は、貯留槽６１からポンプ４４に送液される塗布液の圧力、すなわち、ポンプ４４の入口側の圧力を示している。さらに、このグラフにおいては、符号Ａはポンプ４４が適正に動作可能な最大圧力を示し、符号Ｂは塗布液の供給元の圧力、すなわち、レギュレータ４９により調整された塗布液の圧力を示し、符号Ｃはポンプ４４が適正に動作可能な最小圧力を示し、符号Ｄは圧力の下側の基準値を示し、符号Ｅは圧力の上側の基準値を示している。   In the graph shown in FIG. 3, the vertical axis represents pressure, and the horizontal axis represents time. In this graph, the solid line indicates the pressure of the coating liquid fed from the storage tank 61 to the pump 44, that is, the pressure on the inlet side of the pump 44. Further, in this graph, the symbol A indicates the maximum pressure at which the pump 44 can operate properly, the symbol B indicates the pressure of the coating liquid supply source, that is, the pressure of the coating liquid adjusted by the regulator 49, C indicates a minimum pressure at which the pump 44 can operate properly, a symbol D indicates a reference value on the lower side of the pressure, and a symbol E indicates a reference value on the upper side of the pressure.

塗布液の塗布開始前には、開閉弁５１は開放されており、開閉弁５３は閉止されている。このため、ポンプ４４に供給されるべき塗布液の圧力は一定となっている。この状態において、塗布液の塗布を開始するときには、最初に、開閉弁５３が開放される。図４における符号ａは、開閉弁５３が開放された時点を示している。この開閉弁５３の開放に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に低下した後、再度上昇する。そして、時間の経過とともに、ポンプ４４の入口における圧力は徐々に上昇し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、ポンプ４４の吸引動作が開始され、塗布液がポンプ４４へ供給される。図４における符号ｂは、ポンプ４４の吸引動作が開始された時点を示している。   Before the application of the coating liquid is started, the on-off valve 51 is opened and the on-off valve 53 is closed. For this reason, the pressure of the coating liquid to be supplied to the pump 44 is constant. In this state, when the application of the coating liquid is started, the on-off valve 53 is first opened. A symbol a in FIG. 4 indicates a point in time when the on-off valve 53 is opened. Due to the volume change accompanying the opening of the on-off valve 53, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily decreases and then increases again. Then, as time elapses, the pressure at the inlet of the pump 44 gradually increases and becomes a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. In this state, the suction operation of the pump 44 is started, and the coating liquid is supplied to the pump 44. A symbol b in FIG. 4 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is started.

ポンプ４４が吸引動作を開始し、塗布液がポンプ４４へ供給されると、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は急激に低下する。そして、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力が圧力の下側の基準値Ｄより低下すると、制御部４０の制御によりレギュレータ４９が調整され、チャンバー６２に供給される圧縮空気の圧力、すなわち、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力が上昇する。そして、図４において実線で示すポンプ４４の入口における塗布液の圧力が圧力の上側の基準値Ｅを越えた時点で、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力がそのときの圧力に固定される。これにより、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力が適正値に維持される。   When the pump 44 starts the suction operation and the coating liquid is supplied to the pump 44, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 rapidly decreases. When the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 falls below the lower reference value D, the regulator 49 is adjusted by the control of the control unit 40, that is, the pressure of the compressed air supplied to the chamber 62, that is, the pump The pressure of the coating liquid supplied to 44 increases. When the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 indicated by the solid line in FIG. 4 exceeds the reference value E above the pressure, the pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 is fixed to the pressure at that time. . Thereby, the pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 is maintained at an appropriate value.

塗布液の塗布を終了するときには、ポンプ４４による送液を停止するとともに、開閉弁５４、５５を閉止する。図４における符号ｃは、ポンプ４４の吸引動作が停止した時点を示している。このときには、制御部４０の制御によりレギュレータ４９が調整され、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は、徐々に降下し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、開閉弁５３を閉止すると、この開閉弁５３の閉止に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に上昇する。   When the application of the coating liquid is finished, the liquid feeding by the pump 44 is stopped and the on-off valves 54 and 55 are closed. 4 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is stopped. At this time, the regulator 49 is adjusted by the control of the control unit 40, and the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 gradually decreases to a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. When the on-off valve 53 is closed in this state, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily rises due to the volume change accompanying the closing of the on-off valve 53.

このように、この実施形態に係る塗布装置においては、圧力計４３により測定した塗布液の圧力に基づいて加圧力を制御する構成を採用したことから、塗布液の粘度が高い場合や、フィルター６３等の塗布液の供給系に抵抗が生じた場合等においても、ポンプ４４に常に適正に塗布液を供給することが可能となる。   As described above, in the coating apparatus according to this embodiment, the configuration in which the applied pressure is controlled based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge 43 is employed. Even when resistance occurs in the coating liquid supply system such as the above, the coating liquid can be always properly supplied to the pump 44.

次に、この発明に係る塗布装置における塗布液の供給系の他の実施形態について説明する。図５は、この発明の第２実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。なお、図５においては、図３に示す第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。   Next, another embodiment of the coating liquid supply system in the coating apparatus according to the present invention will be described. FIG. 5 is a schematic view showing a coating liquid supply system according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 5, the same members as those in the first embodiment shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

この第２実施形態に係る塗布装置は、図３に示す第１実施形態に係る塗布装置における圧力可変型のレギュレータ４９にかえて、図９と同様の一般的なレギュレータ４１を使用している。そして、この第２実施形態に係る塗布装置においては、チャンバー６２を、レギュレータ４１の他に、一般的な他のレギュレータ４２と、開閉弁５２とを介して、圧縮空気の供給部と接続している。このレギュレータ４２の設定圧力は、レギュレータ４１の設定圧力より高くなっている。また、開閉弁５２は、制御部４０の制御により、ポンプ４４の吸引動作の実行中に開閉動作を実行する。   The coating apparatus according to the second embodiment uses a general regulator 41 similar to that shown in FIG. 9 in place of the pressure variable regulator 49 in the coating apparatus according to the first embodiment shown in FIG. In the coating apparatus according to the second embodiment, the chamber 62 is connected to the compressed air supply unit via the other regulator 42 and the on-off valve 52 in addition to the regulator 41. Yes. The set pressure of the regulator 42 is higher than the set pressure of the regulator 41. Further, the open / close valve 52 performs an open / close operation during the suction operation of the pump 44 under the control of the control unit 40.

図６は、図５に示す供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。   FIG. 6 is a graph showing changes in the pressure of the coating liquid when the coating liquid is supplied from the supply system shown in FIG.

図６に示すグラフにおいては、縦軸は圧力を示し、横軸は時間を示している。また、このグラフにおいては、実線は、貯留槽６１からポンプ４４に送液される塗布液の圧力、すなわち、ポンプ４４の入口側の圧力を示している。さらに、このグラフにおいては、符号Ａはポンプ４４が適正に動作可能な最大圧力を示し、符号Ｂは塗布液の供給元の圧力、すなわち、レギュレータ４９により調整された塗布液の圧力を示し、符号Ｃはポンプ４４が適正に動作可能な最小圧力を示し、符号Ｄは圧力の下側の基準値を示している。   In the graph shown in FIG. 6, the vertical axis represents pressure, and the horizontal axis represents time. In this graph, the solid line indicates the pressure of the coating liquid fed from the storage tank 61 to the pump 44, that is, the pressure on the inlet side of the pump 44. Further, in this graph, the symbol A indicates the maximum pressure at which the pump 44 can operate properly, the symbol B indicates the pressure of the coating liquid supply source, that is, the pressure of the coating liquid adjusted by the regulator 49, C indicates a minimum pressure at which the pump 44 can operate properly, and a symbol D indicates a lower reference value of the pressure.

上述した第１実施形態と同様、ポンプ４４の吸引動作前には、開閉弁５１は開放されており、開閉弁５３は閉止されている。このため、ポンプ４４に供給されるべき塗布液の圧力は一定となっている。また、開閉弁４２は閉止されている。この状態において、ポンプ４４への塗布液の供給を開始するときには、最初に、開閉弁５３が開放される。図６における符号ａは、開閉弁５３が開放された時点を示している。この開閉弁５３の開放に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に低下した後、再度上昇する。そして、時間の経過とともに、ポンプ４４の入口における圧力は徐々に上昇し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、ポンプ４４が吸引動作を開始することで塗布液の供給が開始される。図６における符号ｂは、ポンプ４４の吸引動作が開始された時点を示している。   Similar to the first embodiment described above, the opening / closing valve 51 is opened and the opening / closing valve 53 is closed before the suction operation of the pump 44. For this reason, the pressure of the coating liquid to be supplied to the pump 44 is constant. The on-off valve 42 is closed. In this state, when the supply of the coating liquid to the pump 44 is started, the on-off valve 53 is first opened. A symbol a in FIG. 6 indicates a point in time when the on-off valve 53 is opened. Due to the volume change accompanying the opening of the on-off valve 53, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily decreases and then increases again. Then, as time elapses, the pressure at the inlet of the pump 44 gradually increases and becomes a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. In this state, the supply of the coating liquid is started when the pump 44 starts the suction operation. A symbol b in FIG. 6 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is started.

ポンプ４４が吸引動作を開始し、ポンプ４４へ塗布液の供給が開始されると、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は急激に低下する。そして、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力が圧力の下側の基準値Ｄより低下すると、制御部４０の制御により、開閉弁４２が開放され、チャンバー６２に供給される圧縮空気の圧力、すなわち、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力が上昇する。これにより、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力が適正値に維持される。   When the pump 44 starts the suction operation and the supply of the coating liquid to the pump 44 is started, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 rapidly decreases. When the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 falls below the lower reference value D, the control valve 40 opens the open / close valve 42 under the control of the control unit 40, that is, the pressure of the compressed air supplied to the chamber 62, The pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 increases. Thereby, the pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 is maintained at an appropriate value.

図６における符号ｃは、ポンプ４４の吸引動作が停止した時点を示している。また、このときには、制御部４０の制御により開閉弁５２が閉止され、ポンプ４４に供給される塗布液の圧力が当初の圧力まで低下する。これにより、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力は、徐々に降下し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。この状態において、開閉弁５３を閉止すると、この開閉弁５３の閉止に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に上昇する。   Reference symbol c in FIG. 6 indicates a point in time when the suction operation of the pump 44 is stopped. At this time, the on-off valve 52 is closed under the control of the control unit 40, and the pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 is reduced to the initial pressure. As a result, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 gradually decreases to a pressure that matches the supply pressure B of the coating liquid. When the on-off valve 53 is closed in this state, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily rises due to the volume change accompanying the closing of the on-off valve 53.

次に、この発明に係る塗布装置における塗布液の供給系のさらに他の実施形態について説明する。図７は、この発明の第３実施形態に係る塗布液の供給系を示す概要図である。なお、図７においては、図３に示す第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。   Next, still another embodiment of the coating liquid supply system in the coating apparatus according to the present invention will be described. FIG. 7 is a schematic view showing a coating liquid supply system according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 7, the same members as those in the first embodiment shown in FIG.

この第３実施形態に係る塗布液の供給系は、図３に示す第１実施形態に係る塗布液の供給系に対して、ポンプ４４と開閉弁５４、５５との間に、開閉弁５７を備えた圧力開放部を付設している。この開閉弁５７を備えた圧力開放部は、ポンプ４４とスリットノズル１３とを接続する管路内の塗布液の圧力を開放するためのものである。   The coating liquid supply system according to the third embodiment is different from the coating liquid supply system according to the first embodiment shown in FIG. 3 in that an opening / closing valve 57 is provided between the pump 44 and the opening / closing valves 54 and 55. A pressure relief part is provided. The pressure release portion provided with the on-off valve 57 is for releasing the pressure of the coating liquid in the pipe line connecting the pump 44 and the slit nozzle 13.

図８は、この供給系により塗布液を供給したときの塗布液の圧力の変化を示すグラフである。   FIG. 8 is a graph showing changes in the pressure of the coating liquid when the coating liquid is supplied from this supply system.

図８において符号ｃで示す、ポンプ４４の吸引動作が停止するまでの動作は、図４に示す第１実施形態と同様である。すなわち、ポンプ４４の吸引動作が停止され、レギュレータ４９が調整されてポンプ４４に供給される塗布液の圧力が当初の圧力まで低下すると、ポンプ４４の入口における塗布液の圧力も、徐々に降下し、塗布液の供給圧Ｂと一致する圧力となる。図８における符号ｄは、この時点を示している。   The operation until the suction operation of the pump 44 is stopped as indicated by reference sign c in FIG. 8 is the same as that of the first embodiment shown in FIG. That is, when the suction operation of the pump 44 is stopped and the regulator 49 is adjusted to reduce the pressure of the coating liquid supplied to the pump 44 to the initial pressure, the pressure of the coating liquid at the inlet of the pump 44 also gradually decreases. The pressure coincides with the supply pressure B of the coating liquid. A symbol d in FIG. 8 indicates this time point.

図８において符号ｄで示す時点において、開閉弁５３を閉止すると、この開閉弁５３の閉止に伴う体積変化により、ポンプ４４の入口における圧力は一時的に上昇する。そして、図８において符号ｅで示す時点で圧力開放部として機能する開閉弁５７を開放したときには、ポンプ４４と開閉弁５４、５５との間の圧力が低下し、ポンプ４４の入口における圧力も低下する。また、図８において符号ｄで示す時点で開閉弁５７を開放したときには、その時点で、ポンプ４４と開閉弁５４、５５との間の圧力が低下し、ポンプ４４の入口における圧力も低下する。   When the on-off valve 53 is closed at the time indicated by the symbol d in FIG. 8, the pressure at the inlet of the pump 44 temporarily increases due to the volume change accompanying the closing of the on-off valve 53. Then, when the on-off valve 57 that functions as a pressure release portion is opened at the time indicated by symbol e in FIG. 8, the pressure between the pump 44 and the on-off valves 54 and 55 decreases, and the pressure at the inlet of the pump 44 also decreases. To do. Further, when the on-off valve 57 is opened at the time indicated by the symbol d in FIG. 8, at that time, the pressure between the pump 44 and the on-off valves 54 and 55 decreases, and the pressure at the inlet of the pump 44 also decreases.

この第３実施形態に係る塗布液の供給系によれば、図３に示す第１実施形態に係る塗布液の供給系に対して圧力開放部として機能する開閉弁５７を追加したことから、ポンプ４４付近の圧力を速やかに大気圧付近まで安定的に下げることができる。供給圧の設定に依存せずに、常に塗布開始時のポンプ４４と開閉弁５４、５５間の塗布液の圧力を一定にすることができる。   According to the coating liquid supply system according to the third embodiment, the on-off valve 57 that functions as a pressure release unit is added to the coating liquid supply system according to the first embodiment shown in FIG. The pressure around 44 can be quickly and stably lowered to near atmospheric pressure. Regardless of the setting of the supply pressure, the pressure of the coating liquid between the pump 44 and the on-off valves 54 and 55 at the start of coating can always be made constant.

なお、上述した実施形態においては、いずれも、チャンバー６２内に塗布液を貯留する貯留槽６１を配設し、チャンバー６２内を加圧することで貯留槽６１内の塗布液を加圧して貯留槽内６１の塗布液をポンプ４４に圧送する加圧機構を採用している。しかしながら、塗布液を貯留する可撓性のタンクを物理的に加圧すること等により、貯留槽内の塗布液をポンプ４４に圧送する加圧機構を採用してもよい。   In any of the above-described embodiments, the storage tank 61 for storing the coating liquid is disposed in the chamber 62, and the coating liquid in the storage tank 61 is pressurized by pressurizing the inside of the chamber 62 to store the tank. A pressurizing mechanism that pumps the application liquid in the inner 61 to the pump 44 is employed. However, you may employ | adopt the pressurization mechanism which pumps the coating liquid in a storage tank to the pump 44 by physically pressurizing the flexible tank which stores a coating liquid.

また、上述した実施形態においては、いずれも、ステージ１１上に載置した矩形状の基板１００に対してスリットノズル１３を移動させることにより、塗布対象物としての基板１００に対して塗布液を塗布する塗布装置にこの発明を適用している。しかしながら、塗布対象物として長尺の基材を使用し、この基材をノズルに対して移動させることにより、基材の表面に塗布液を塗布する塗布装置にこの発明を適用してもよい。   In any of the above-described embodiments, by applying the slit nozzle 13 to the rectangular substrate 100 placed on the stage 11, the coating liquid is applied to the substrate 100 as the application target. The present invention is applied to a coating apparatus. However, the present invention may be applied to a coating apparatus that applies a coating solution to the surface of a base material by using a long base material as an application target and moving the base material with respect to a nozzle.

１１ ステージ
１３ スリットノズル
１４ キャリッジ
１５ ノズル支持部
１６ 昇降機構
１７ 走行レール
２０ リニアモータ
２３ リニアエンコーダ
３１ ノズル洗浄装置
３４ プリディスペンス装置
４０ 制御部
４１ レギュレータ
４２ レギュレータ
４３ 圧力計
４４ ポンプ
４９ レギュレータ
５１ 開閉弁
５２ 開閉弁
５３ 開閉弁
５７ 開閉弁
６１ 貯留槽
６２ チャンバー
６３ フィルター
１００ 基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Stage 13 Slit nozzle 14 Carriage 15 Nozzle support part 16 Elevating mechanism 17 Travel rail 20 Linear motor 23 Linear encoder 31 Nozzle cleaning apparatus 34 Pre-dispensing apparatus 40 Control part 41 Regulator 42 Regulator 43 Pressure gauge 44 Pump 49 Regulator 51 Opening and closing valve 52 Opening and closing Valve 53 On-off valve 57 On-off valve 61 Reservoir 62 Chamber 63 Filter 100 Substrate

Claims (5)

塗布対象物とノズルとを相対的に移動させることにより、前記塗布対象物に塗布液を塗布する塗布装置であって、
塗布液を貯留する貯留槽と、
前記貯留槽に貯留された塗布液を前記ノズルに送液するポンプと、
前記貯留槽内の塗布液を加圧することにより、前記貯留槽内の塗布液を前記ポンプに圧送する加圧機構と、
前記ポンプに圧送される塗布液の圧力を測定する圧力計と、
前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。 A coating apparatus that applies a coating liquid to the coating object by relatively moving the coating object and the nozzle,
A storage tank for storing the coating liquid;
A pump for feeding the coating liquid stored in the storage tank to the nozzle;
A pressurizing mechanism for pressurizing the coating liquid in the storage tank to the pump by pressurizing the coating liquid in the storage tank;
A pressure gauge for measuring the pressure of the coating liquid pumped to the pump;
Based on the pressure of the coating liquid measured by the pressure gauge, a control unit for controlling the pressure of the coating liquid by the pressurizing mechanism;
A coating apparatus comprising: 請求項１に記載の塗布装置において、
前記制御部は、前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を連続的に変更する塗布装置。 The coating apparatus according to claim 1,
The said control part is a coating device which changes continuously the applied pressure of the coating liquid by the said pressurization mechanism based on the pressure of the coating liquid measured with the said pressure gauge. 請求項１に記載の塗布装置において、
前記制御部は、前記圧力計により測定した塗布液の圧力に基づいて、前記加圧機構による塗布液の加圧力を多段階に変更する塗布装置。 The coating apparatus according to claim 1,
The said control part is a coating device which changes the applied pressure of the coating liquid by the said pressurization mechanism in multiple steps based on the pressure of the coating liquid measured with the said pressure gauge. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の塗布装置において、
前記ポンプと前記ノズルとを接続する管路に、当該管路内の塗布液の圧力を開放するための圧力開放部が付設される塗布装置。 In the coating device in any one of Claims 1-3,
A coating apparatus in which a pressure release portion for releasing the pressure of the coating liquid in the pipe is attached to a pipe connecting the pump and the nozzle. 塗布対象物とノズルとを相対的に移動させながら、前記ノズルから塗布液を吐出することにより、前記塗布対象物に塗布液を塗布する塗布方法であって、
貯留槽内に貯留された塗布液を加圧する加圧工程と、
前記加圧工程において加圧された塗布液をポンプにより前記ノズルに送液して前記ノズルより塗布液を吐出するとともに、前記塗布対象物と前記ノズルとを相対的に移動させて塗布液の塗布を行う塗布工程と、
前記ポンプに圧送される塗布液の圧力を測定する圧力測定工程と、
前記圧力測定工程において測定した塗布液の圧力に基づいて、塗布液の加圧力を制御する加圧力制御工程と、
を備えたことを特徴とする塗布方法。
An application method for applying a coating liquid to the application object by discharging the application liquid from the nozzle while relatively moving the application object and the nozzle,
A pressurizing step of pressurizing the coating liquid stored in the storage tank;
The coating liquid pressurized in the pressurizing step is sent to the nozzle by a pump and discharged from the nozzle, and the coating object and the nozzle are relatively moved to apply the coating liquid. An application process of performing,
A pressure measuring step for measuring the pressure of the coating liquid pumped to the pump;
A pressure control step for controlling the pressure of the coating liquid based on the pressure of the coating liquid measured in the pressure measuring step;
A coating method characterized by comprising:
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