JP2015026710A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 温度変化が生じた場合でも配線導体と光電変換部との電気的な接続を良好に維持することが可能な、接続信頼性の高い光電変換装置を提供する。
【解決手段】 光電変換装置Mは、基板1と、基板1上に配置された光電変換部11と、基板1上の光電変換部11の外側に配置され、光電変換部11に電気的に接続された出力電極8と、光電変換部11に沿って一方向に延在するように出力電極8上に配置された配線導体9とを備え、配線導体9は、上記一方向において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位Wで出力電極8に接合されているとともに、第1部位W同士の間の第2部位Vにおいて、出力電極8側に凸となるように折れ曲がっているかまたは湾曲している複数の凸部を有し、この複数の凸部が出力電極8に当接するように弾性体13で固定されている。
【選択図】 図4
【解決手段】 光電変換装置Mは、基板1と、基板1上に配置された光電変換部11と、基板1上の光電変換部11の外側に配置され、光電変換部11に電気的に接続された出力電極8と、光電変換部11に沿って一方向に延在するように出力電極8上に配置された配線導体9とを備え、配線導体9は、上記一方向において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位Wで出力電極8に接合されているとともに、第1部位W同士の間の第2部位Vにおいて、出力電極8側に凸となるように折れ曲がっているかまたは湾曲している複数の凸部を有し、この複数の凸部が出力電極8に当接するように弾性体13で固定されている。
【選択図】 図4
Description
本発明は発電した電力を取り出すための配線導体を具備する光電変換装置に関する。
近年、エネルギー問題や環境問題の深刻化に伴い、光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽光発電が注目を集めている。
この太陽光発電に使用される光電変換装置では、光電変換部から得られた電力を、リード線等の配線導体を介して外部に取り出している。このような光電変換モジュールでは、基板の表面の中央部に光電変換部が形成されており、その光電変換部の正極および負極にそれぞれ接続された配線導体が、基板の表面における光電変換部の周辺部で引き回された後、基板の裏面に配置された端子ボックスの内部に導出されている(例えば、特許文献1参照)。
上記のような光電変換装置は、高温環境下での使用や製造工程における熱履歴等で温度変化が生じた場合に、基板と配線導体との線膨張係数の差によって、配線導体と光電変換部の正極または負極との接続強度が劣化しやすくなる。場合によっては、配線導体と光電変換部との接続不良が生じることもある。
本発明の一つの目的は、温度変化が生じた場合でも配線導体と光電変換部との電気的な接続を良好に維持することが可能な、接続信頼性の高い光電変換装置を提供することにある。
本発明の一態様に係る光電変換装置は、基板と、該基板上に配置された光電変換部と、前記基板上の前記光電変換部の外側に配置され、該光電変換部に電気的に接続された出力電極と、前記光電変換部に沿って一方向に延在するように前記出力電極上に配置された配線導体とを備え、前記配線導体は、前記一方向において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位で前記出力電極に接合されているとともに、前記第1部位同士の間の第2部位において、前記出力電極側に凸となるように折れ曲がっているかまたは湾曲している複数の凸部を有し、該複数の凸部が前記出力電極に当接するように弾性体で固定されている。
本発明の一態様に係る光電変換装置によれば、配線導体と光電変換部との接続信頼性を高くすることができる。
本発明の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、各図には、後述する光電変換セルの配列方向をX軸とする右手系のXYZ座標を付している場合がある。
<光電変換装置の構成>
本発明の一実施形態に係る光電変換装置Mは、基板1と、光電変換部11と、出力電極8と、配線導体9と、弾性体13とを備えている。図1〜図4では、光電変換部11および配線導体9の配置を分かりやすくするため、弾性体13を除いた状態の光電変換装置100を示している(以下、弾性体13を除いた状態の光電変換装置100のことを基本構造体100という)。そして、図5に示すように、この基本構造体100に弾性体が配線導体9および光電変換部11を覆うように配置されることによって、光電変換装置Mとなる。
本発明の一実施形態に係る光電変換装置Mは、基板1と、光電変換部11と、出力電極8と、配線導体9と、弾性体13とを備えている。図1〜図4では、光電変換部11および配線導体9の配置を分かりやすくするため、弾性体13を除いた状態の光電変換装置100を示している(以下、弾性体13を除いた状態の光電変換装置100のことを基本構造体100という)。そして、図5に示すように、この基本構造体100に弾性体が配線導体9および光電変換部11を覆うように配置されることによって、光電変換装置Mとなる。
基板1は、光電変換部11を支持する機能を有している。また、基板1の材質としては、は、厚さ1〜3mm程度の青板ガラス(ソーダライムガラス)または硼珪酸ガラス等が挙げられる。なお、基板1の材質としてはこれに限定されず、他のガラス、セラミックス、樹脂および金属等が用いられてもよい。また、基板1の形状は、例えば矩形状、円形状等の平板状であればよい。
光電変換部11は、基板1の一主面上に設けられている。光電変換部11は、発電の出力を高めるという観点から、図1〜図4に示すように、複数の光電変換セル10が互いに電気的に接続され、基板1上で集積化されていてもよい。光電変換部11の詳細については後述する。
出力電極8は、基板1の一主面上で、一対のもの(出力電極8Aおよび出力電極8B)が光電変換部11の一対の電極にそれぞれ電気的に接続されるように設けられている。
配線導体9は、一端部が出力電極8と電気的に接続されており、他端部が基板1に設けられた孔部1aを通して基板1の裏面に導出されている。配線導体9は、光電変換部11の出力を光電変換装置Mの外部に導く機能を有している。配線導体9は、基板1の一主面上において、光電変換部11に沿って一方向(図1〜図4ではY軸方向)に延在するように設けられている。
配線導体9は、例えば厚み0.2〜2mm程度で、延伸方向に直交する方向における幅(図1〜図3のX軸方向)が1〜5mm程度である。配線導体9は、例えば銅、銀、アルミニウムあるいはこれらを含む合金等の金属部材が用いられる。配線導体9として銅が用いられた場合、導電性が高いとともに変形が容易であるため、応力が生じるのを有効に低減できる。また、配線導体9は複数の金属部材の積層体であってもよい。また、配線導体9の表面には半田等の他の金属がコーティングされていてもよい。
そして、配線導体9は図4に示すように、上記一方向(Y軸方向)において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位Wで出力電極8Bに接合されている。なお、図4は図1のB−B線における断面図である。そして、配線導体9は、これらの第1部位W同士の間の第2部位Vにおいて、出力電極8B側に凸となるように折れ曲がっているかまたは湾曲している複数の凸部(図4では−Z方向に凸となるように折れ曲がった凸部)を有し、こ
れらの複数の凸部で出力電極8Bに当接している。図4においては、配線導体9の第2部位Vは、出力電極8B側(−Z方向)および出力電極8Bとは反対側(+Z方向)に凸となる屈曲部が交互に並んだジグザグ構造を有している。そして、−Z方向に凸となる屈曲部から成る複数の凸部が出力電極8Bに当接している。
れらの複数の凸部で出力電極8Bに当接している。図4においては、配線導体9の第2部位Vは、出力電極8B側(−Z方向)および出力電極8Bとは反対側(+Z方向)に凸となる屈曲部が交互に並んだジグザグ構造を有している。そして、−Z方向に凸となる屈曲部から成る複数の凸部が出力電極8Bに当接している。
このよう構成によって、基板1と配線導体9との線膨張係数の差に起因する応力が生じた場合でも、配線導体9の第2部位Vによって応力を有効に低減することができる。また、第1部位Wで配線導体9と出力電極8との電気的な接続を良好に維持することができるとともに、第2部位Vの複数の凸部で配線導体9と出力電極8との電気抵抗を低減することができる。以上の結果、接続信頼性の高い光電変換装置となる。
配線導体9における第1部位W同士の間隔は、例えば1〜50mm程度とすればよい。また、第2部位V同士の間隔は、例えば0.5〜10mm程度とすればよい。
配線導体9の第1部位Wと出力電極8との接合は、溶接、半田付けあるいは導電性ペーストによる接合等溶接等が用いられる。電気的な接続を良好に維持するとともに接合時に生じる応力を低減するという観点からは、第1部位Wと出力電極8とは半田付けされていてもよい。
配線導体9の第2部位Vは、図5に示すように基板1の一主面、出力電極8および配線導体9を覆う弾性体13によって固定されている。弾性体13は、出力電極8や配線導体9よりも弾性率の低い部材であり、樹脂等が用いられる。弾性体13は、図5に示すように、光電変換部11を封止する封止材の一部として形成されていてもよい。このような弾性体13としては、エチレンビニルアセテート共重合体(EVA)を主成分とする樹脂、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂、ポリエチレン等の樹脂、ブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム等を含む樹脂が用いられ得る。
配線導体9の第2部位Vの出力電極8に対する弾性体による固定方法は、以下のようにして行なうことができる。まず、出力電極8上に配線導体9を配置し、複数の第1部位Wを溶接や半田付け等によって出力電極8に接合する。次に、出力電極8および配線導体9の上にフィルム状の弾性体を載置し、上から弾性体に圧力をかけながら弾性体を熱硬化させる。これによって、配線導体9の第2部位Vを出力電極8に当接した状態に固定化することができる。
なお、この弾性体を熱硬化させる際の弾性体に対して加える圧力を調整することによって、第2部位Vの出力電極8に当接した複数の凸部以外の部位において、第2部位Vと出力電極8との間に弾性体を介在させることができる。つまり、第2部位Vにおける凸部以外の部位は弾性体を介して出力電極8に接着された状態となる。このような構成であれば、配線導体9の第2部位Vにおいてある程度の変形が可能であり、これによって応力を有効に低減できるとともに、第2部位Vの複数の凸部と出力電極8との接触をさらに良好に維持することができる。
また、光電変換装置Mは、図5に示すように、光電変換部11に対する保護力を高めるため、弾性体13上にさらにカバー部材12が設けられていてもよい。カバー部材12は、光透過率と必要な強度の点から、例えば、風冷強化した白板ガラス等が用いられる。
<光電変換部の構成>
次に、光電変換部11について説明する。図2は基本構造体100のY方向の中央部における光電変換部11を示す部分拡大図であり、図3は図1のA−A線における部分拡大断面図である。なお、図2および図3の構成は、光電変換装置Mに用いられる光電変換部
11の一例を示すものであって、これに限定されるものではない。
次に、光電変換部11について説明する。図2は基本構造体100のY方向の中央部における光電変換部11を示す部分拡大図であり、図3は図1のA−A線における部分拡大断面図である。なお、図2および図3の構成は、光電変換装置Mに用いられる光電変換部
11の一例を示すものであって、これに限定されるものではない。
光電変換部11は、下部電極層2と、第1の半導体層3と、第1の半導体層3とは異なる導電型の第2の半導体層4と、上部電極層5と、集電電極6とを備えた光電変換セル10が図3のX方向に直列接続されて成る。隣接する光電変換セル10において、一方の光電変換セル10の上部電極層5が集電電極6および接続導体7を介して隣接する他方の光電変換セル10の下部電極層2に接続されている。そして、光電変換部11の一方端部(−X側端部)の外側に出力電極8Aが形成されており、一方端部側の光電変換セル10の下部電極層2に電気的に接続されている。また、その反対側の光電変換部11の他方端部(+X側端部)の外側にも出力電極8Bが形成されており、他方端部側の光電変換セル10の上部電極層5に電気的に接続されている。
下部電極層2は、一方向(図3のX方向)に互いに間隔をあけて基板1の一主面上に複数配置されている。このような下部電極層2は、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)または金(Au)等の金属またはこれらの合金を含む薄膜であればよい。また、これらの金属が積層されてなる構造体であってもよい。この下部電極層2は、例えば、基板1上にスパッタリング法または蒸着法等を利用して、厚さ0.2〜1μm程度に形成すればよい。
第1の半導体層3は、下部電極層2上に配置されている。第1の半導体層3は、例えば、アモルファスシリコンや化合物半導体等が用いられる。化合物半導体としては、例えば、I−III−VI化合物やI−II−IV−VI族化合物半導体、II−VI族化合物半導体等がある
。
。
I−III−VI化合物半導体とは、11族元素(I−B族元素ともいう)、13族元素(III−B族元素ともいう)および16族元素(VI−B族元素ともいう)の化合物半導体であ
る。そして、このようなI−III−VI化合物半導体は、カルコパイライト構造を有し、カルコパイライト系化合物半導体とも呼ばれる(CIS系化合物半導体ともいう)。I−III−VI化合物半導体としては、例えば、二セレン化銅インジウム(CuInSe2)、二セレン化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)Se2)、二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)(Se,S)2)、二イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)S2)または薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜がある。
る。そして、このようなI−III−VI化合物半導体は、カルコパイライト構造を有し、カルコパイライト系化合物半導体とも呼ばれる(CIS系化合物半導体ともいう)。I−III−VI化合物半導体としては、例えば、二セレン化銅インジウム(CuInSe2)、二セレン化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)Se2)、二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)(Se,S)2)、二イオウ化銅インジウム・ガリウム(Cu(In,Ga)S2)または薄膜の二セレン・イオウ化銅インジウム・ガリウム層を表面層として有する二セレン化銅インジウム・ガリウム等の多元化合物半導体薄膜がある。
また、I−II−IV−VI族化合物半導体とは、11族元素、12族元素(II−B族元素ともいう)、14族元素(IV−B族元素ともいう)および16族元素の化合物半導体である。I−II−IV−VI族化合物としては、例えば、Cu2ZnSnS4等がある。
また、II−VI族化合物半導体とは、12族元素および16族元素の化合物半導体である。II−VI族化合物半導体としては、例えば、CdTe等がある。
第1の半導体層3は、例えばスパッタリング法、蒸着法等といった真空プロセスによって形成される。また、第1の半導体層3は、塗布法あるいは印刷法と称されるプロセスによっても形成される。塗布法あるいは印刷法では、例えば、第1の半導体層3に主として含まれる元素の錯体溶液が下部電極層2の上に塗布され、その後、乾燥および熱処理が行われる。
第2の半導体層4は、第1の半導体層3の+Z側の主面の上に、例えば5〜200nmの厚さで設けられており、第1の半導体層3の導電型とは異なる導電型を有する半導体を
主に含む。なお、導電型が異なる半導体とは、伝導担体(キャリア)が異なる半導体である。例えば、第1の半導体層3がp型であれば、第2の半導体層4はn型であり、その逆であってもよい。また、第1の半導体層3と第2の半導体層4と界面に、i型等の他の半導体層が介在していてもよい。
主に含む。なお、導電型が異なる半導体とは、伝導担体(キャリア)が異なる半導体である。例えば、第1の半導体層3がp型であれば、第2の半導体層4はn型であり、その逆であってもよい。また、第1の半導体層3と第2の半導体層4と界面に、i型等の他の半導体層が介在していてもよい。
第2の半導体層4は、第1の半導体層3の表面部に他の元素がドープされて成るものであってもよく、第1の半導体層3とは異なる化合物がヘテロ接合されて成るものであってもよい。
上部電極層5は、第2の半導体層4の+Z側の主面の上に設けられており、例えば、第2の半導体層4と同じ導電型を有する透光性の導電層である。この上部電極層5は、第1の半導体層3および第2の半導体層4において生じたキャリアを取り出す電極として働く。上部電極層5は、第2の半導体層4よりも低い電気抵抗率を有する材料を主に含む。
上部電極層5は、禁制帯幅が広く且つ透光性で低抵抗の材料を主に含んでいる。このような材料としては、例えば酸化亜鉛(ZnO)、酸化亜鉛の化合物、錫が含まれた酸化インジウム(ITO)および酸化錫(SnO2)等の金属酸化物半導体等が挙げられる。酸化亜鉛の化合物は、アルミニウム、ボロン、ガリウム、インジウムおよびフッ素のうちの何れか1つの元素等が含まれたものである。
上部電極層5は、スパッタリング法、蒸着法または化学的気相成長(CVD)法等によって形成され得る。上部電極層5の厚さは、例えば、0.05〜3.0μmである。ここで、上部電極層5が、1Ω・cm未満の抵抗率と、50Ω/□以下のシート抵抗とを有していれば、上部電極層5を介して第1の半導体層3および第2の半導体層4からキャリアが良好に取り出され得る。
上部電極層5は、その厚みが0.05〜0.5μmであれば、透光性導電層6における光透過性が高められると同時に、光電変換によって生じた電流が良好に伝送され得る。さらに、上部電極層5の絶対屈折率と第2の半導体層4の絶対屈折率とが略同一であれば、上部電極層5と第2の半導体層4との界面で光が反射することで生じる入射光のロスが低減され得る。
集電電極6は、上部電極層5の+Z側の主面(一主面とも言う)の上に、上部電極層5の端部から接続導体7にかけて線状に設けられている。そして、例えば、光電変換セル10の上部電極層5によって集められたキャリアは、集電電極6によってさらに集められ、接続導体7を介して隣接する光電変換セル10に伝達され得る。
この集電電極6が設けられることで、上部電極層5における導電性が補われるため、上部電極層5の薄層化が可能となる。これにより、キャリアの取り出し効率の確保と、上部電極層5における光透過性の向上とが両立し得る。なお、集電電極6が、例えば、銀等の導電性が優れた金属を主に含んでいれば、光電変換セル10における変換効率が向上し得る。なお、集電電極6に含まれる金属としては、例えば銅、アルミニウムおよびニッケル等が挙げられる。
また、集電電極6の幅は、50〜400μmであれば、隣接する光電変換セル10間における良好な導電が確保されつつ、第1の半導体層3への光の入射量の低下が低減され得る。1つの光電変換セル10に複数の集電電極6が設けられる場合、該複数の集電電極6の間隔は、例えば、2.5mm程度であればよい。
接続導体7は、第1の半導体層3および第2の半導体層4を分離する分離溝内に配置さ
れている。この接続導体7は、集電電極6と電気的に接続している。また、接続導体7は、隣の光電変換セル10から延伸されている下部電極層2に接続している。これにより接続導体7は、隣接する光電変換セル10のうち、一方の光電変換セル10の上部電極層5と、他方の光電変換セル10の下部電極層2とを電気的に接続できる。
れている。この接続導体7は、集電電極6と電気的に接続している。また、接続導体7は、隣の光電変換セル10から延伸されている下部電極層2に接続している。これにより接続導体7は、隣接する光電変換セル10のうち、一方の光電変換セル10の上部電極層5と、他方の光電変換セル10の下部電極層2とを電気的に接続できる。
接続導体7は、集電電極6と同様の材質、方法で作製してもよい。そのため、接続導体7は、集電電極6の形成と同時に行なってもよい。また、接続導体7は、上部電極層5を延伸したものであってもよい。
<光電変換装置の変形例>
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で多くの修正及び変更を加えることができる。例えば、上記の配線導体9を図6に示すような形状の配線導体19に代えてもよい。図6は、光電変換装置の変形例であり、弾性体を除いた状態での基本構造体101を示す断面図である。図6は図4と同じ方向における断面図である。図6において、図1〜図5と同じ構成のものには同じ符号を付している。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で多くの修正及び変更を加えることができる。例えば、上記の配線導体9を図6に示すような形状の配線導体19に代えてもよい。図6は、光電変換装置の変形例であり、弾性体を除いた状態での基本構造体101を示す断面図である。図6は図4と同じ方向における断面図である。図6において、図1〜図5と同じ構成のものには同じ符号を付している。
図6において、配線導体19は、Y軸方向において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位Wで出力電極8Bに接合されている。また、配線導体19は、これらの第1部位W同士の間の第2部位Vにおいて、出力電極8B側に凸となるように湾曲している複数の凸部(図6では−Z方向に凸となるように湾曲した凸部)を有し、これらの複数の凸部で出力電極8Bに当接している。つまり、図4の配線導体は凸部が屈曲部であるのに対し、図6では凸部が湾曲部である点で異なっている。図6においては、配線導体19の第2部位Vは、出力電極8B側(−Z方向)および出力電極8Bとは反対側(+Z方向)に凸となる湾曲部が交互に並んだ波状構造を有している。
このような構成により、凸部と出力電極8との接触面積を大きくすることができ、より電気抵抗を小さくすることができる。
M:光電変換装置
1:基板
8、8A、8B:出力電極
9、9A、9B、19、19B:配線導体
11:光電変換部
13:弾性体
100、101:基本構造体
W:第1部位
V:第2部位
1:基板
8、8A、8B:出力電極
9、9A、9B、19、19B:配線導体
11:光電変換部
13:弾性体
100、101:基本構造体
W:第1部位
V:第2部位
Claims (4)
- 基板と、
該基板上に配置された光電変換部と、
前記基板上の前記光電変換部の外側に配置され、該光電変換部に電気的に接続された出力電極と、
前記光電変換部に沿って一方向に延在するように前記出力電極上に配置された配線導体とを備え、
前記配線導体は、前記一方向において互いに間隔をあけて位置する複数の第1部位で前記出力電極に接合されているとともに、前記第1部位同士の間の第2部位において、前記出力電極側に凸となるように折れ曲がっているかまたは湾曲している複数の凸部を有し、該複数の凸部が前記出力電極に当接するように弾性体で固定されている光電変換装置。 - 前記第2部位における前記凸部以外の部位は前記弾性体を介して前記出力電極に接着されている、請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記第1部位は半田によって前記出力電極に接合されている、請求項1または2に記載の光電変換装置。
- 前記配線導体は銅を主として含む、請求項1乃至3のいずれかに記載の光電変換装置。
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160219 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20160805 |