JP2015023629A - ワニス処理装置およびワニス処理用誘導加熱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】加熱コイルの形状を固定子の形状に合わせてフレキシブルに変更させることにより、コア径などの異なる固定子を効率よく処理する。【解決手段】固定子Ｗに塗布されたワニスを加熱して硬化させる加熱硬化を行うワニス硬化ユニットは、固定子Ｗを加熱する加熱部１１を有する。この加熱部１１は、一端を支点として支持され、基準となる前記固定子Ｗの外周面に沿って延在する円弧状からなる加熱コイル保持ベース１２と、該加熱コイル保持ベース１２に取り付けられ、固定子Ｗを加熱する加熱用コイル１４と、加熱コイル保持ベース１２の一端を支持するピン１３と、該ピン１３によって支持された支点を中心に加熱コイル保持ベース１２を揺動させる揺動用アクチュエータ１７と、加熱コイル保持ベース１２を近接方向または離反方向に移動させるコイル間隔調整用アクチュエータ１９と、を有する。【選択図】図４

Description

本発明は、固定子におけるワニス処理技術に関し、特に、固定子のワニス処理の効率化に有効な技術に関する。

モータや発電機などの回転電械の生産においては、固定子に対してワニス処理が行われている。この種のワニス処理技術としては、例えば固定子を誘導加熱によって処理するものが知られている（例えば、特許文献１、および特許文献２参照）。

これらの技術は、具体的には、誘導加熱部分が電動機械の固定子の外側部分の少なくとも半分以上を近接して覆い、かつ、該誘導加熱部分においてコイルに流れる誘導加熱電流が一方向になるように、誘導加熱コイルを配置し、誘導加熱コイルに誘導加熱電流を供給すると共に、固定子を回転させながら加熱している。

上述した固定子のワニス処理において、誘導加熱による加熱は、電機ヒータなどを用いた加熱乾燥室による加熱に比べて、ワークである固定子の昇温時間を短縮することが可能であり、省エネルギー化を図ることができる。

特開２０１２−５２８３号公報 特開２０１３−５５５３号公報

ここで、固定子を効率よく加熱するには、加熱過熱部分の形状や位置などを該固定子のコア径などに合わせる必要がある。即ちワニス硬化に適切な、固定子コアの外周と加熱コイルの間のクリアランスは、コア径の大小に関わらず一定であるほうが好ましいためである。

この点、特許文献１，２では、加熱コイルの形状を該固定子のコア径などに合わせる技術については記載されていない。

そのため、コア径が異なる固定子を混在して処理することが困難となり、例えばコア径の異なる固定子を連続して処理する多品種少量生産に対応することができず、生産効率が低下してしまうという問題がある。

本発明の目的は、コア径などの異なる固定子を効率よく処理することができる技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴については、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。

上記課題を解決するために、例えば、請求項１に記載の発明を適用する。

即ちワニス処理装置は、固定子に塗布されたワニスを加熱して硬化させる加熱硬化を行うワニス硬化ユニットを有する。ワニス硬化ユニットは、固定子を加熱する誘導加熱部を有する。

誘導加熱部は、一端を支点として支持され、基準となる固定子の外周面に沿って延在する円弧状からなる加熱コイル保持部、加熱コイル保持部に取り付けられ、固定子を加熱する加熱用コイルを有する。

また、加熱コイル保持部の一端を支持する支持部材、支持部材によって支持された支点を中心に加熱コイル保持部を揺動させる揺動部、および加熱コイル保持部を近接方向または離反方向に移動させる移動部を有する。

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。

固定子のワニス処理における生産効率を向上させることができる。

本発明の実施の形態によるワニス処理装置における一例を示す外観図である。 固定子におけるワニス処理時の温度プロファイルの一例を示す説明図である。 図１のワニス処理装置におけるワニス処理の一例を示すフローチャートである。 図１のワニス処理装置におけるワニス硬化ユニットに設けられた加熱部の構成の一例を示す説明図である。 標準コア径よりも小さいコア径の固定子を加熱処理する際の加熱コイル保持ベースの形状の一例を示した説明図である。 標準コア径の固定子を加熱処理する際の加熱コイル保持ベースの形状の一例を示した説明図である。 標準コア径よりも大きいコア径の固定子を加熱処理する際の加熱コイル保持ベースの形状の一例を示した説明図である。 本実施の形態２によるワニス処理装置に設けられる加熱部の構成の一例を示す説明図である。

以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。

また、以下の実施の形態において、要素の数等（個数、数値、量、範囲等を含む）に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。

さらに、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。

同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。

また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。

（実施の形態１）
〈概要〉
本実施の形態の概要は、ワニス処理装置である。このワニス処理装置は、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃ（ワニス硬化ユニット）を有する。ワニス硬化ユニットは、固定子Ｗ（固定子）に塗布されたワニスを加熱して硬化させる加熱硬化を行う。

また、ワニス硬化ユニットは、固定子を加熱する加熱部１１（誘導加熱部）を有する。ヒータ加熱部は、加熱コイル保持ベース１２（加熱コイル保持部）、加熱用コイル１４（加熱用コイル）、ピン１３（支持部材）、揺動用アクチュエータ１７（揺動部）、およびコイル間隔調整用アクチュエータ１９（移動部）を有する。

加熱コイル保持ベース１２は、一端を支点として支持され、基準となる固定子の外周面に沿って延在する円弧状からなる。加熱用コイルは、加熱コイル保持部に取り付けられ、固定子を加熱する。

支持部材は、加熱コイル保持部の一端を支持する。揺動部は、支持部材によって支持された支点を中心に加熱コイル保持部を揺動させる。移動部は、加熱コイル保持部を近接方向または離反方向に移動させる。

〈ワニス処理装置の構成例〉
図１は、本発明の実施の形態によるワニス処理装置における一例を示す外観図である。

ワニス処理装置１は、モータや発電機などの回転電機に用いられる固定子にワニスを塗布し、硬化させる処理を行う装置である。このワニス処理装置１は、図１に示すように、予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、搬送機構５、制御装置６、冷却ユニット７、搬入部８、および搬出部９を有する。

図１において、ワニス硬化加熱ユニット部４は、例えば３つのワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃを有している。これらワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、設置面である床面に水平に配列されている。以下、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃが配列されている方向を配列方向という。

ワニス硬化加熱ユニット部４の上部には、予備加熱ユニット部２が設けられている。予備加熱ユニット部２は、例えば２つの予備加熱ユニット２ａ，２ｂを有する。これら予備加熱ユニット２ａ，２ｂも同様に、配列方向に配列された構成となっている。

配列方向において、ワニス硬化加熱ユニット部４、および予備加熱ユニット部２の一端側には、ワニス滴下ユニット３が隣り合うように設けられている。また、配列方向において、予備加熱ユニット部２の他端側には、隣り合うように冷却ユニット７が設けられている。この冷却ユニット７には、配列方向に、該冷却ユニット７に隣り合って搬入部８が設けられており、該搬入部８の下方には、搬出部９が設けられている。

予備加熱ユニット２ａ，２ｂは、固定子を予備加熱するユニットである。予備加熱とは、固定子を構成する固定子コア、該固定子に巻き線された電線コイル、および絶縁物の水分除去やアニール処理を行うための加熱である。

ワニス滴下ユニット３は、固定子にワニスを滴下して塗布するユニットである。ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、ワニス滴下ユニット３においてワニスが塗布された固定子を加熱し、ワニスを硬化させる本加熱を行うユニットである。

予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、およびワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、例えば電磁誘導加熱によって固定子を加熱する。電磁誘導加熱は、後述する図４の加熱用コイル１４に交流電流を流すことにより、該加熱用コイル１４から放射される交番磁束に起因する被加熱電気導体となる固定子の渦電流によるジュール熱発生の原理を用いて、該固定子の表面を加熱するものである。加熱用コイル１４は、例えば電磁誘導加熱コイルからなる。

冷却ユニット７は、ワニス処理が終了した固定子を所望の温度まで冷却させるユニットであり、例えば３つ程度の固定子を載置することができる。なお、冷却ユニット７における固定子の載置台数は、これに限定されるものではなく、２台以下、あるいは４台以上の固定子を載置する構成としてもよい。

搬入部８は、ワニス処理装置１によりワニス処理される前の固定子が載置されるステージである。搬出部９は、ワニス処理装置１によってワニスの硬化処理が終了し、冷却ユニット７において冷却された後の固定子が載置されるステージである。

搬送機構５は、搬入部８、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃ、冷却ユニット７、搬入部８および搬出部９の間を移動して固定子を搬送する。

これら搬入部８、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃ、冷却ユニット７、搬入部８および搬出部９の前方の設置面には、配列方向に延びるレール１０が設けられている。搬送機構５は、そのレール１０上を移動することによって配列方向に移動する構成となっている。

搬送機構５は、図示しない保持部、上下移動部、および前後移動部をそれぞれ有している。保持部は、固定子の外径を保持する。上下移動部は、保持部を配列方向に垂直な方向である上下方向に移動させる。前後移動部は、保持部を前後方向に移動させる。前後方向とは、配列方向、および上下方向に対してそれぞれ垂直となる方向である。

これら予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、および搬送機構５は、制御装置６にそれぞれ接続されている。制御装置６は、予備加熱ユニット２ａ，２ｂ、およびワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃにおける加熱設定、ワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布、および搬送機構５による固定子搬送の際の駆動などの制御をそれぞれ行う。

制御装置６は、例えば、演算チップなどを備えたプログラマブルコントローラからなり、該プログラマブルコンピュータが有する記憶装置に記憶されたプログラムと、演算チップとの協働によって、予備加熱ユニット部２、ワニス滴下ユニット３、ワニス硬化加熱ユニット部４、および搬送機構５の制御を行う。なお、プログラムの格納装置として補助記憶装置を備えていてもよいし、プログラムのインストールや更新を有線、無線の通信網を介して、他の機器から行えるようにしてもよい。

〈ワニス処理の温度プロファイル例〉
図２は、固定子におけるワニス処理時の温度プロファイルの一例を示す説明図である。

ワニス処理時の温度プロファイルは、図２に示すように、予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、およびワニス硬化期間Ｔ３を有する。

予備加熱期間Ｔ１は、予備加熱ユニット２ａ，２ｂのいずれかに固定子が搬入され、予備加熱が開始されてから終了するまでの期間である。ワニス塗布期間Ｔ２は、予備加熱が終了した固定子がワニス滴下ユニット３に搬入され、該固定子へのワニス塗布が終了するまでの期間である。ワニス硬化期間Ｔ３は、ワニスが塗布された固定子がワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃのいずれかに搬送され、本加熱が開始されてから終了するまでの期間である。

予備加熱期間Ｔ１は、固定子を所望の温度まで上昇させた後、所望の温度まで該固定子を冷却する温度プロファイルとなっている。固定子を温度まで上昇させるのは、固定子に含まれる水分を蒸発させると共に、巻き線された電線の絶縁被膜へのダメージを緩和するためである。

電線の絶縁被膜には、固定子コアに電線を組み込む際にダメージを受けるが、アニール処理により該ダメージを緩和することができる。また、予備加熱期間Ｔ１における固定子の冷却は、固定子の温度がワニスの塗布に適した温度となるようにするためである。

ワニス塗布期間Ｔ２は、予備加熱が終了した固定子にワニスを塗布する期間である。ワニス硬化期間Ｔ３は、固定子に本加熱を行う期間である。このワニス硬化期間Ｔ３は、固定子への加熱を開始した後、塗布したワニスに見合った温度、および時間を維持してワニスを硬化させる。

主に、ワニス処理においては、ワニス塗布期間Ｔ２、予備加熱期間Ｔ１、そしてワニス硬化期間Ｔ３の順番で各処理に係る時間が長くなる場合が多い。よって、図２の温度プロファイルでは、予備加熱期間Ｔ１、ワニス塗布期間Ｔ２、およびワニス硬化期間Ｔ３の時間が、概ね２：１：３の比率となっている場合の例を示している。

〈ワニス処理装置のワニス処理例〉
図３は、図１のワニス処理装置１におけるワニス処理の一例を示すフローチャートである。なお、この図３では、１つの固定子を搬入部８から取り出してワニス処理を行い、搬出部９に載置するまでについて説明する。

上述したように、予備加熱ユニット２ａ，２ｂやワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃにおける温度設定、およびワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布、および搬送機構５による固定子搬送の際の駆動などの制御は、制御装置６によってそれぞれ行われる。

まず、搬送機構５は、搬入部８に載置されているワニス処理前の固定子を取り出して搬送し、例えば、予備加熱ユニット２ａに搬送した固定子を投入する（ステップＳ１０１）。

続いて、固定子が投入されると、予備加熱ユニット２ａは、固定子の予備加熱を行う（ステップＳ１０２）。この予備加熱は、例えば図２の予備加熱期間Ｔ１に示す温度プロファイルとなるように制御装置６によって制御が行われる。

そして、予備加熱が終了すると、搬送機構５は、固定子を予備加熱ユニット２ａから取り出した後、ワニス滴下ユニット３まで搬送し、該ワニス滴下ユニット３に固定子を投入する。

ワニス滴下ユニット３は、固定子が投入されると、固定子へのワニスの塗布を行う（ステップＳ１０３）。このワニス滴下ユニット３によるワニスの塗布は、例えば固定子を回転させながらワニスを滴下含浸させることにより、電線コイルなどにワニスを含浸させる。

ワニス滴下ユニット３におけるワニスの塗布が終了すると、搬送機構５は、固定子をワニス滴下ユニット３から取り出し、ワニスの塗布が終了した固定子を、例えばワニス硬化ユニット４ａに投入する。固定子が投入されると、ワニス硬化ユニット４ａは、固定子の本加熱を行い、ワニスを硬化させる（ステップＳ１０４）。この本加熱は、例えば図２のワニス硬化期間Ｔ３に示す温度プロファイルとなるように制御装置６によって制御が行われる。

また、予備加熱ユニット２ａ、２ｂやワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃは、固定子を回転させる図示しない回転機構を有しており、該固定子を回転させながら本加熱を行う構成となっている。これにより、固定子に滴下したワニスを均一に加熱することができるとともにムラの発生を防止することができる。

ワニス硬化ユニット４ａにおいて本加熱が終了すると、搬送機構５は、固定子をワニス硬化ユニット４ａから取り出して冷却ユニット７まで搬送し、この冷却ユニット７において固定子を所望の温度まで冷却させる（ステップＳ１０５）。また、冷却ユニット７での固定子の冷却は、自然冷却であってもよいし、例えばスポットクーラなどによって冷風を固定子にあてることによって冷却する構成としてもよい。この場合、冷却させる温度は、例えば、作業者が固定子を取り扱うことができる温度である。

固定子の冷却が終了すると、搬送機構５は、固定子を冷却ユニット７から取り出し、搬出部９まで搬送する（ステップＳ１０６）。これにより、ワニス処理装置１におけるワニス処理が終了となる。

〈加熱部の構成例〉
図４は、図１のワニス処理装置における予備加熱ユニット２ａ，２ｂとワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃに設けられた加熱部１１の構成の一例を示す説明図である。

予備加熱ユニット２ａ，２ｂとワニス硬化ユニット４ａ〜４ｃには、加熱部１１が設けられている。この加熱部１１は、図４に示すよう、円弧状からなる４つの加熱コイル保持ベース１２がそれぞれ設けられている。加熱コイル保持ベース１２は、例えばＦＲＰ（Fiber Reinforced Plastics：繊維強化プラスチック）などの非導電性の材料からなる。

これら加熱コイル保持ベース１２は、加熱処理される固定子Ｗのほぼ外周全体を覆い、固定子の積み厚の厚みにほぼ一致する程度の長さを有する形状からなる。２つの加熱コイル保持ベース１２は、ピン１３によってそれぞれ連結されており、４つの加熱コイル保持ベース１２によって、ほぼ中空円柱状の形状が形成される。

なお、図４に示すように、互いに対向するように左右に配設された、加熱コイル保持ベース１２の対（つい）同士は、基準となる径の固定子に適切な配置したときに、ピン１３と連結される端部と異なる端部同士が、互いに、所定距離を離間している状態となるのが好ましい。後述するように、固定子の径に依存することなく適切な誘導加熱ができるようにするためである。

そして、中空円柱状の加熱コイル保持ベース１２には、加熱用コイル１４が取り付けられている。加熱用コイル１４は、例えば電磁誘導加熱コイルからなる。加熱用コイル１４に交流電流などを流すことにより、該固定子Ｗの表面を加熱する。

また、４つの加熱コイル保持ベース１２には、揺動アーム１５がそれぞれ取り付けられている。これら揺動アーム１５には、板状の固定用ベース１６に取り付けられた揺動用アクチュエータ１７がそれぞれ設けられている。

ピン１３には、固定用ベース１６に取り付けられた移動アーム１８がそれぞれ接続されている。この移動アーム１８には、コイル間隔調整用アクチュエータ１９がそれぞれ設けられている。

コイル間隔調整用アクチュエータ１９は、固定ベース２０に取り付けられている。この固定ベース２０は、例えば基材と対向する支持部材とからなり、コ字状断面からなる。コイル間隔調整用アクチュエータ１９は、例えば固定ベース２０の支持部材にそれぞれ取り付けられる。

揺動用アクチュエータ１７は、揺動アーム１５を移動させる移動機構であり、該揺動用アクチュエータ１７を動作させることによって、ピン１３を中心として加熱コイル保持ベース１２を揺動させる。これによって、固定子Ｗのコア径の大小に合わせて、中空円柱状における曲率半径を変更させることができる。

コイル間隔調整用アクチュエータ１９は、移動アーム１８を移動させる。コイル間隔調整用アクチュエータ１９を動作させると、移動アーム１８に取り付けられている固定用ベース１６を移動させる。そして、固定用ベース１６とともに加熱コイル保持ベース１２を移動させることによって、加熱用コイル１４と固定子Ｗとの間隔を調整する。なお、調整は、コイル間隔調整用アクチュエータ１９に、電磁ソレノイド等を適用し、制御装置６による動的制御を行うようになっているが、螺子機構等を適用して人手によって調整するようにしてもよい。

続いて、加熱部１１の動作について、図４、および図５〜図７を用いて説明する。

図５は、標準コア径よりも小さいコア径の固定子Ｗを加熱処理する際の加熱コイル保持ベース１２の形状の一例を示した説明図であり、図６は、標準コア径の固定子Ｗを加熱処理する際の加熱コイル保持ベース１２の形状の一例を示した説明図である。図７は、標準コア径よりも大きいコア径の固定子Ｗを加熱処理する際の加熱コイル保持ベース１２の形状の一例を示した説明図である。

まず、加熱部１１において、加熱コイル保持ベース１２は、図６の標準コア径の固定子Ｗを加熱処理する際に最も効率よく加熱することができる標準形状となっている。この場合、加熱コイル保持ベース１２における曲率半径は、図６に示すように、標準コア径の固定子Ｗとほぼ同じであり、加熱用コイル１４と固定子Ｗの外径とがほぼ同じ距離となっている。

続いて、図６よりも小さいコア径の固定子Ｗを加熱処理する際について説明する。

この場合、揺動用アクチュエータ１７を動作させることによって揺動アーム１５を固定子Ｗに近づける方向に移動させる。以下、この方向を接近方向という。これによって、加熱コイル保持ベース１２がピン１３を中心として揺動し、その結果、加熱コイル保持ベース１２の曲率半径を小さくすることができる。その結果、加熱用コイル１４を固定子Ｗのコア径に近づけることができる。

そして、本実施形態では、ピン１３を中心として加熱コイル保持ベース１２を揺動させて曲率半径を小さくして誘導加熱を効率的に行うようにするのに加え、ピン１３から固定子Ｗまでの距離を更に固定子側に近づくようにして、更に誘導加熱を効率を向上させるようになっている。即ち固定子Ｗのコア径に拘わらず、加熱用コイル１４と固定子Ｗの外周との距離をほぼ一定の距離に保つようになっている。

具体的には、コイル間隔調整用アクチュエータ１９を動作させて移動アーム１８を接近方向に移動させる。これによって、ピン１３と固定子Ｗとの距離を近づけることができ、ピン１３の近傍に取り付けられている加熱用コイル１４を該固定子Ｗに近づけることができる。

このように、固定子Ｗのコア径が小さくなっても、図５に示すように、すべての加熱用コイル１４を該固定子Ｗに近づけることができるので、効率よく加熱処理を行うことができる。

続いて、図７に示す図６よりも大きいコア径の固定子Ｗを加熱処理する際について説明する。

この場合、揺動用アクチュエータ１７を動作させることによって揺動アーム１５を固定子Ｗから遠ざける方向に移動させる。以下、この方向を離反方向という。これによって、加熱コイル保持ベース１２ピン１３を中心として揺動して、加熱コイル保持ベース１２の曲率半径を大きくすることができる。その結果、コア径の大きい固定子Ｗであっても、加熱用コイル１４を固定子Ｗに近づけることができる。

また、固定子Ｗのコア径が大きくなると、加熱コイル保持ベース１２が該固定子Ｗに接触してしまう恐れがある。そこで、コイル間隔調整用アクチュエータ１９を動作させて移動アーム１８を離反方向に移動させる。これによって、ピン１３が固定子Ｗから遠ざかり、加熱コイル保持ベース１２が固定子Ｗに接触することを防止することができる。また、図６の場合と同様に、すべての加熱用コイル１４をほぼ均一に固定子Ｗに近づけることができるので、効率よく加熱処理を行うことができる。

このように、固定子Ｗのコア径が大きくなっても、図７に示すように、すべての加熱用コイル１４をほぼ均等の距離にて固定子Ｗに近づけることができるので、効率よく加熱処理を行うことができる。

上述した揺動用アクチュエータ１７、およびコイル間隔調整用アクチュエータ１９の動作制御は、例えば制御装置６によって実行される。制御装置６は、図示しないメモリや制御部などを有している。

メモリには、操作制御情報、ワニス処理を行う固定子の種類、およびそれら固定子の処理順番などの処理情報が予め入力されている。操作制御情報は、固定子の種類、すなわち固定子のコア径毎に、揺動用アクチュエータ１７の移動量と移動方向を示すデータ、およびコイル間隔調整用アクチュエータ１９の移動量と移動方向を示すデータなどからなる。

そして、制御部は、メモリから処理情報を読み出し、固定子の処理順に、固定子のコア径に見合った操作情報を検索し、揺動用アクチュエータ１７、およびコイル間隔調整用アクチュエータ１９を動作制御する。

以上により、コア径の異なる固定子であっても、効率よくワニス処理を行うことができる。これによって、異なる種類の固定子が混在する多品種少量生産であっても、効率よく加熱処理を行うことができ、生産効率を向上させることができる。

なお、本実施の形態１では、４つの加熱コイル保持ベース１２を有し、２つの加熱コイル保持ベース１２を１ペアとして１つのピン１３にて支持する構成としたが、加熱コイル保持ベース１２のペア数は、３ペア以上であってもよい。その場合、ペア数が増加しても、各ペアにおける構成は、図４と同様の構成とする。

（実施の形態２）
前記実施の形態１では、コア径の異なる固定子を効率よく加熱処理する構成について述べた。しかし、固定子Ｗの種類は、コア径だけではなく、該固定子の長手方向の長さ、いわゆるコアの積み厚によって電動機械の出力を調整する場合もある。

このような場合、積み厚の増加に伴い、前記実施の形態１における図４の加熱部１１の構成では、固定子Ｗの外周全体を覆うことができなる恐れがある。そこで、本実施の形態２においては、固定子Ｗのコア径だけではなく、コアの積み厚の変化にも対応することのできる加熱部１１について説明する。

図８は、本実施の形態２による加熱部１１の構成の一例を示す説明図である。

なお、ワニス処理装置１については、前記実施の形態１における図４と同様であるので説明は省略する。

加熱部１１は、図８に示すように、加熱コイル保持ベース１２、ピン１３、加熱用コイル１４、揺動アーム１５、固定用ベース１６、揺動用アクチュエータ１７、移動アーム１８、コイル間隔調整用アクチュエータ１９、および固定ベース２０からなる前記実施の形態１の図４の構成に、積み厚方向移動用アクチュエータ２１、移動アーム２２、トラックレール２３、および固定板２４が新たに設けられた構成となっている。

固定板２４は、加熱部１１を載置する。この固定板２４の上面には、トラックレール２３が取りけられており、該固定板２４の１辺には、積み厚方向移動用アクチュエータ２１が取り付けられている。

積み厚方向移動用アクチュエータ２１には、一端が加熱部１１に接続された移動アーム２２が取り付けられている。積み厚方向移動用アクチュエータ２１は、移動アーム２２を移動させる。

トラックレール２３は、加熱部１１が固定子Ｗの積み厚方向に移動する軌道となっており、積み厚方向移動用アクチュエータ２１を動作させると、このトラックレール上の軌道を加熱部１１が固定子Ｗの積み厚方向に移動する。

コアの積み厚が増加することによって固定子Ｗが長手方向に延びてしまうと、加熱コイル保持ベース１２、すなわち加熱用コイル１４が固定子Ｗの外周全体を覆うことができなくなる。

そこで、図８に示すように、積み厚方向移動用アクチュエータ２１を動作させることにより、例えばコイル間隔調整用アクチュエータ１９を固定子Ｗの長手方向、すなわちコアの積み厚方向に移動させる。

その際には、積み厚方向移動用アクチュエータ２１を動作させて加熱部１１をコアの積み厚方向に移動させながら、加熱用コイル１４によって加熱処理を行う。これによって、加熱用コイル１４が固定子Ｗの外周全体を覆うことができなくなった場合であっても、該固定子Ｗをほぼ均一に加熱することができる。

ここでも、積み厚方向移動用アクチュエータ２１の動作制御は、制御装置６の制御部によって行われる。

また、メモリには、操作制御情報、ワニス処理を行う固定子の種類、およびそれら固定子の処理順番などに加えて固定子の積み厚方向の長さの情報などの処理情報が予め入力されている。

操作制御情報は、固定子のコア径毎に揺動用アクチュエータ１７の移動量と移動方向を示すデータ、コイル間隔調整用アクチュエータ１９の移動量と移動方向を示すデータ、および積み厚方向移動用アクチュエータ２１の移動量などを示すデータなどからなる。

そして、制御装置６は、メモリから処理情報を読み出し、固定子の処理順に、固定子のコア径に見合った操作情報を検索し、揺動用アクチュエータ１７、コイル間隔調整用アクチュエータ１９、積み厚方向移動用アクチュエータ２１を動作制御する。

以上により、コア径、およびコアの積み厚の異なる固定子であっても、効率よくワニス処理を行うことができる。これによって、よりフレキシブルに種類の異なる固定子に対応することが可能となり、生産効率を一層向上させることができる。

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。

なお、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施の形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。

また、ある実施の形態の構成の一部を他の実施の形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施の形態の構成に他の実施の形態の構成を加えることも可能である。また、各実施の形態の構成の一部について、他の構成の追加、削除、置換をすることが可能である。

１ ワニス処理装置
２ 予備加熱ユニット部
２ａ 予備加熱ユニット
２ｂ 予備加熱ユニット
３ ワニス滴下ユニット
４ ワニス硬化加熱ユニット部
４ａ ワニス硬化ユニット
４ｂ ワニス硬化ユニット
４ｃ ワニス硬化ユニット
５ 搬送機構
６ 制御装置
７ 冷却ユニット
８ 搬入部
９ 搬出部
１０ レール
１１ 加熱部
１２ 加熱コイル保持ベース
１３ ピン
１４ 加熱用コイル
１５ 揺動アーム
１６ 固定用ベース
１７ 揺動用アクチュエータ
１８ 移動アーム
１９ コイル間隔調整用アクチュエータ
２０ 固定ベース
２１ 積み厚方向移動用アクチュエータ
２２ 移動アーム
２３ トラックレール
２４ 固定板
Ｗ 固定子

Claims (10)

1. 固定子に塗布されたワニスを加熱して硬化させる加熱硬化を行うワニス硬化ユニットを有し、
   前記ワニス硬化ユニットは、前記固定子を加熱する誘導加熱部を有し、
   前記誘導加熱部は、
   一端を支点として支持され、基準となる前記固定子の外周面に沿って延在する円弧状からなる加熱コイル保持部と、
   前記加熱コイル保持部に取り付けられ、前記固定子を加熱する加熱用コイルと、
   前記加熱コイル保持部の一端を支持する支持部材と、
   前記支持部材によって支持された前記支点を中心に前記加熱コイル保持部を前記固定子の径方向に対して揺動させる揺動部と、
   前記加熱コイル保持部を前記固定子に対して近接方向または離反方向に移動させる移動部と、
   を有する、ワニス処理装置。
2. 請求項１記載のワニス処理装置において、
   前記誘導加熱部は、４つの前記加熱コイル保持部を有し、１つの前記支持部材によって２つの前記加熱コイル保持部の一端がそれぞれ支持され、互いの支持部材が対向する向きに配設されてなる、ワニス処理装置。
3. 請求項１記載のワニス処理装置において、
   前記誘導加熱部は、さらに、前記誘導加熱部を前記固定子の軸方向に移動させる軸方向移動部を有する、ワニス処理装置。
4. 請求項１記載のワニス処理装置において、
   前記加熱用コイルは、電磁誘導加熱によって前記固定子を加熱する、ワニス処理装置。
5. 請求項１記載のワニス処理装置において、
   前記ワニス硬化ユニットは、さらに、前記固定子を回転させる回転機構を有し、
   前記回転機構は、前記誘導加熱部が前記固定子を加熱する際に、前記固定子を回転させる、ワニス処理装置。
6. 固定子に塗布されたワニスを加熱して硬化させるワニス処理用誘導加熱装置であって、
   前記固定子を加熱する誘導加熱部を有し、
   前記誘導加熱部は、
   一端を支点として支持され、基準となる前記固定子の外周面に沿って延在する円弧状からなる加熱コイル保持部と、
   前記加熱コイル保持部に取り付けられ、前記固定子を加熱する加熱用コイルと、
   前記加熱コイル保持部の一端を支持する支持部材と、
   前記支持部材によって支持された前記支点を中心に前記加熱コイル保持部を前記固定子の径方向に対して揺動させる揺動部と、
   前記加熱コイル保持部を前記固定子に対して近接方向または離反方向に移動させる移動部と、
   を有する、ワニス処理用誘導加熱装置。
7. 請求項６記載のワニス処理用誘導加熱装置において、
   前記誘導加熱部は、４つの前記加熱コイル保持部を有し、１つの前記支持部材によって２つの前記加熱コイル保持部の一端がそれぞれ支持され、互いの支持部材が対向する向きに配設されてなる、ワニス処理用誘導加熱装置。
8. 請求項６記載のワニス処理用誘導加熱装置において、
   前記誘導加熱部は、さらに、前記誘導加熱部を前記固定子の軸方向に移動させる軸方向移動部を有する、ワニス処理用誘導加熱装置。
9. 請求項６記載のワニス処理用誘導加熱装置において、
   前記加熱用コイルは、電磁誘導加熱によって前記固定子を加熱する、ワニス処理用誘導加熱装置。
10. 請求項６記載のワニス処理用誘導加熱装置において、
    さらに、前記固定子を回転させる回転機構を有し、
    前記回転機構は、前記誘導加熱部が前記固定子を加熱する際に、前記固定子を回転させる、ワニス処理用誘導加熱装置。

Images