JP2015017831A - ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 - Google Patents
ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015017831A JP2015017831A JP2013143558A JP2013143558A JP2015017831A JP 2015017831 A JP2015017831 A JP 2015017831A JP 2013143558 A JP2013143558 A JP 2013143558A JP 2013143558 A JP2013143558 A JP 2013143558A JP 2015017831 A JP2015017831 A JP 2015017831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jet pump
- suspension
- liquid tank
- film
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Description
ジェットポンプ10は、原子炉圧力容器11と炉心シュラウド12との間に設けられ、2本1組で構成される。1組に対して1本のライザ管14とトラジションピース15を介して一対のインレットミキサ50、ディフィーザ19とを備えている。
図2の皮膜形成フロー図に示されるジェットポンプの皮膜形成方法は、沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程と、浸漬されたジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程と、を含むことを特徴とする。
図3は、ジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置21(以下、単に「浸漬装置21」とする)の構成図を示している。図3(A)はインレットミキサ50の設置時を、図3(B)はインレットミキサ50の浸漬時を表している。
浸漬装置21の上面には、インレットミキサ50を挿入する開口部の周囲に一対の平面板29(29a、29b)が設けられている。この一対の平面板29は、一方の平面板29aは固定されて、他方は平面板29bの両側に設けられたガイドレール28に沿って移動可能となっている。なお、平面板29bの移動は、油圧シリンダー(図示省略)を用いて行われる。
レーザセンサ30は、直下に位置する懸濁液23の液面にレーザを照射して、基準位置(レーザセンサ30設置位置)から液面までの距離を測定する。
そして、液面までの距離の測定を単位時間あたり所定の回数(例えば、1秒間に10回)実施することにより、基準位置から液面までの距離と経過時間のデータから液面の移動速度を図示しない速度制御装置によって求める。
インレットミキサ50は部位によって断面積が異なるため、液体タンク22を一定速度で下降させた場合のみでは、液体の下降速度は一定とならない。このため、溶液の下降速度は、液面の移動速度に基づいて定める必要がある。
マグネットスターラ25は、液体タンク22の下端に設置されている。そして、磁力により液体タンク22内に投入された回転子32を回転させて、酸化物系セラミックスを含む懸濁液23を攪拌する。
フロートセンサ31は、浸漬が終了して液体タンク22を下降させる際、基準位置(液面の下降開始位置)から液面の距離を測定する。
液体タンク22の下降終了後、浸漬されたインレットミキサ50を浸漬装置21に固定したままで約10分程度乾燥させる。そして、固定していたインレットミキサ50を浸漬装置21から開放させる。
図5(A)は熱処理架台33の平面図を示している。乾燥後のインレットミキサ50はクレーンで吊り上げられ、熱処理架台33の開口部に挿入される。
Claims (8)
- 沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程と、
浸漬された前記ジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程と、
を含むことを特徴とするジェットポンプの皮膜形成方法。 - 前記浸漬工程は、前記ジェットポンプの構成部材を前記液体タンク上方に固定して、前記液体タンクを上下駆動させて浸漬させることを特徴とする請求項1記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
- 前記浸漬工程は、前記懸濁液を攪拌する攪拌工程を含むことを特徴とする請求項1または請求項2記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
- 前記浸漬工程は、前記懸濁液の温度を懸濁液が所定の比重となる温度に調節する懸濁液温度調節工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
- 前記浸漬工程は、前記懸濁液の表面高さを測定装置を用いて測定し、この測定値に基づいて前記液体タンクを上下させる速度を制御して浸漬させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
- 沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンク上方に固定して、この液体タンクを上下駆動装置によって上下駆動させて浸漬させることを特徴とするジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
- 前記液体タンクには、注入された懸濁液の温度を調節する懸濁液温度調節装置を設けたことを特徴とする請求項6記載のジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
- 前記上下駆動装置は、前記懸濁液の表面高さを測定装置を用いて測定し、この測定値に基づいて前記液体タンクを上下させる速度を制御する速度制御装置によって上下駆動制御されることを特徴とする請求項6または請求項7記載のジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013143558A JP6173806B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013143558A JP6173806B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015017831A true JP2015017831A (ja) | 2015-01-29 |
JP6173806B2 JP6173806B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=52438969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013143558A Expired - Fee Related JP6173806B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6173806B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010067849A1 (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-17 | 株式会社東芝 | 原子炉炉内構造物およびその製造方法 |
JP2012040266A (ja) * | 2010-08-23 | 2012-03-01 | Nakata Coating Co Ltd | ディップコーティング装置、およびディップコーティング方法 |
JP2012255211A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | General Electric Co <Ge> | 金属表面への放射性種の蓄積を低減する酸化物皮膜の形成方法 |
-
2013
- 2013-07-09 JP JP2013143558A patent/JP6173806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010067849A1 (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-17 | 株式会社東芝 | 原子炉炉内構造物およびその製造方法 |
JP2010160144A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-07-22 | Toshiba Corp | 原子炉炉内構造物およびその製造方法 |
JP2012040266A (ja) * | 2010-08-23 | 2012-03-01 | Nakata Coating Co Ltd | ディップコーティング装置、およびディップコーティング方法 |
JP2012255211A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | General Electric Co <Ge> | 金属表面への放射性種の蓄積を低減する酸化物皮膜の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6173806B2 (ja) | 2017-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3204278U (ja) | スプレー設備 | |
CN105195465B (zh) | 一种超声波‑兆声波复合频率全自动光学元件清洗装置 | |
CN1924709A (zh) | 加热装置以及涂布·显影装置 | |
US20160268146A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
CN102527613B (zh) | 一种微纳米低表面疏水型复合防垢涂层的液相沉积-浸渍制备方法 | |
CN104470681A (zh) | 观察拍摄装置 | |
JP6173806B2 (ja) | ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 | |
CN108330473A (zh) | 一种纳米二氧化钛薄膜及其制备方法和应用 | |
JP2005329402A (ja) | 回転体の形状の中空部品を酸洗いする方法、および該方法を実施する装置 | |
JP2013253298A (ja) | ターゲットユニットの製造方法及びターゲットユニットの製造装置 | |
CN104694908A (zh) | 一种采用无机锆盐在锆合金表面制备氧化锆薄膜的方法 | |
TW200533424A (en) | Apparatus for electroless deposition of metals onto semiconductor substrates | |
JP5513864B2 (ja) | 原子炉炉内構造物およびその製造方法 | |
WO2016046642A2 (en) | Systems and methods for large-scale nanotemplate and nanowire fabrication | |
CN217052328U (zh) | 一种高速线材盐浴热处理综合实验平台 | |
TW201703131A (zh) | 用於化學處理半導體基材的裝置和方法 | |
CN102296166A (zh) | 防止熔模铸钢件热处理过程中表面氧化的方法 | |
TWI594810B (zh) | 在金屬表面上形成氧化物塗層以減少放射性種類積聚之方法 | |
CN104005125B (zh) | 假捻盘内表面陶瓷化处理的方法 | |
CN210232505U (zh) | 全口径抛光浸没式元件加工装置及抛光机 | |
CN209652371U (zh) | 一种移动式淬火机 | |
RU2555272C2 (ru) | Электрохимический роботизированный комплекс для формирования наноразмерных покрытий | |
JP5774285B2 (ja) | ジェットポンプの皮膜形成方法 | |
CN213803937U (zh) | 一种金属制品加工用助镀液冷却设备 | |
CN102554151A (zh) | 热浸涂层多金属复合水平连铸铜包扁钢装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170705 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6173806 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |