JP2015017831A - ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 - Google Patents

ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015017831A
JP2015017831A JP2013143558A JP2013143558A JP2015017831A JP 2015017831 A JP2015017831 A JP 2015017831A JP 2013143558 A JP2013143558 A JP 2013143558A JP 2013143558 A JP2013143558 A JP 2013143558A JP 2015017831 A JP2015017831 A JP 2015017831A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
jet pump
suspension
liquid tank
film
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013143558A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6173806B2 (ja
Inventor
祥希 石崎
Yoshiki Ishizaki
祥希 石崎
裕介 青木
Yusuke Aoki
裕介 青木
裕紀 湊
Yuki Minato
裕紀 湊
森 啓
Hiroshi Mori
啓 森
英寿 佐々木
Eiju Sasaki
英寿 佐々木
邦彦 衣笠
Kunihiko Kinugasa
邦彦 衣笠
梢 松川
Kozue Matsukawa
梢 松川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2013143558A priority Critical patent/JP6173806B2/ja
Publication of JP2015017831A publication Critical patent/JP2015017831A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6173806B2 publication Critical patent/JP6173806B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/30Nuclear fission reactors

Landscapes

  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

【課題】ジェットポンプにクラッドが付着して堆積することを抑制するジェットポンプの皮膜形成技術を提供する。【解決手段】ジェットポンプの皮膜形成方法は、沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程S11と、浸漬されたジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程S13と、を含むことを特徴とする。【選択図】 図2

Description

本発明の実施形態は、ジェットポンプの皮膜形成技術に関する。
沸騰水型原子炉における炉内構造物であるジェットポンプは、炉心で発生した熱を取り出すため、炉心内を内部循環する冷却水による炉心の熱除去や蒸気の発生を補助する。
図1は、ジェットポンプの要部を拡大した斜視図である。
ジェットポンプ10は、原子炉圧力容器11と炉心シュラウド12との間に設けられ、2本1組で構成される。1組に対して1本のライザ管14とトラジションピース15を介して一対のインレットミキサ50、ディフィーザ19とを備えている。
インレットミキサ50は、エルボ16、ノズル17と、スロート18から構成されており、取り出して炉外へ搬出することが可能である。ディフィーザ19は、原子炉圧力容器11のバッフルプレート20に溶接して組み付けられている。
再循環ポンプ(図示省略)を介して再循環入口ノズル13に戻された高速な再循環水は、ライザ管14を経てトラジションピース15を介して分岐する。そして、再循環水は、ノズル17で原子炉圧力容器11と炉心シュラウド12との環状部分の炉水を巻き込み、スロート18で混合される。この混合された高速水は、ディフィーザ19により炉心下方に送り込まれる。このようにして、ジェットポンプ10は、炉心内の冷却水を内部循環させる。
ところで、再循環水がジェットポンプ10を通過することにより、ジェットポンプ10の内表面に水溶液中に存在するクラッド(CRUD:Chalk River Unclassfied Deposit 炉水中の鉄酸化物)が付着する。
特に、インレットミキサ50のノズル17にクラッドが付着し堆積すると、ノズル17の内表面厚さが増加する。これにより、ライザ管14から所定の駆動流量が得られなくなり、流量が減少して循環効率が低下する可能性がある。
この課題を解決するために、クラッドが堆積したインレットミキサ50を新たに取り替えることや、クラッドが堆積したインレットミキサ50の内表面をウォータージェットで取り除く方法がある。しかし、いずれの方法も、放射性廃棄物を増大させる要因になる可能性がある。
そこで、クラッドの付着自体を抑制するため、ジェットポンプ10の構成部材の表面に、TiO、ZrO、Ta、SiOなどの酸化物皮膜をCVD法(化学蒸着法)により形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1、2)。
さらに、ジェットポンプ10の構成部材の表面に白金、ロジウム、イリジウム、パラジウム、銀、金またはそれらの金属合金の皮膜をプラズマ溶射、HVOF(高速フレーム溶射)、CVD、PVD(物理的気相成長法)、電気メッキおよび無電解メッキ等により形成する方法が提案されている(例えば、特許文献3、4)。
特開2002−207094号公報 米国特許第6633623号明細書 特開2007−10668号公報 米国特許出願公開第2007/0003001号明細書
しかしながら、特許文献1〜4の技術は、いずれも皮膜形成によるクラッドの付着抑制効果が十分ではなく、皮膜形成を行う装置も高価であり、皮膜形成する部材の大きさ、形状に制限がある等の課題があった。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、ジェットポンプにクラッドが付着して堆積することを抑制するジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置を提供することを目的とする。
本実施形態のジェットポンプの皮膜形成方法は、沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程と、浸漬された前記ジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程と、を含むことを特徴とする。
本発明により、ジェットポンプにクラッドが付着して堆積することを抑制するジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置が提供される。
ジェットポンプの要部を拡大した拡大図。 本実施形態に係るジェットポンプの皮膜形成フロー図。 本実施形態に適用されるジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置の構成図を示し、(A)はジェットポンプ設置時、(B)は浸漬時を表す図。 (A)は本実施形態に適用されるジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置の上面図、(B)は液体タンクの縦断面図。 (A)は本実施形態に適用される熱処理架台の平面図、(B)は熱処理架台の側面図。
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
図2の皮膜形成フロー図に示されるジェットポンプの皮膜形成方法は、沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程と、浸漬されたジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程と、を含むことを特徴とする。
ここでは、図1に示したジェットポンプ10の構成部材であるインレットミキサ50に対して、酸化物系セラミックスによる皮膜形成を行う方法について説明する。
まず、インレットミキサ50をライザ管14とディフィーザ19とから取り外す(S10)。
浸漬工程は、取り外したインレットミキサ50を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入されたステンレス製の液体タンクに浸漬させる(S11)。液体タンクの大きさ、容量は、浸漬対象となるジェットポンプ10の構成部材の形状、大きさ、容量に応じて適宜変更する。また、浸漬工程の前に、イオン交換水等の洗浄水でインレットミキサ50を洗浄する工程を挿入しても良い。
酸化物系セラミックスを含む懸濁液は、酸化物系セラミックスの微粒子を水、ブタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、その他の有機溶媒、またはこれらの混合物等に均一に分散させた液体である。
炉水中に存在するクラッドは、界面で電荷を帯びており、インレットミキサ50にコーティングされる材料が同じ極性のゼータ電位であった場合、静電反発力によりインレットミキサ50へのクラッド付着は抑制される。したがって、クラッド付着を抑制する二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化ケイ素(SiO)、アルミナ(Al)、二酸化チタン(TiO)、チタン酸ジルコニウム(TiZrO)等の酸化物系セラミックスを適宜選択する。
そして、浸漬されたインレットミキサ50を液体タンクから引き上げて乾燥させる(S12)。そして、インレットミキサ50を熱処理架台に設置し、熱処理炉に移送して加熱処理を行う(S13)。これにより、インレットミキサ50の内表面に酸化物系セラミックスからなる皮膜を形成することができる。この皮膜形成により、ジェットポンプ10にクラッドが付着して堆積することを抑制することができる。
また、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬する構成をとるため、ジェットポンプ10の構成部材の形状、大きさに制約されず低コストで皮膜形成することができる。
次に、浸漬工程における具体的な浸漬方法について説明する。
図3は、ジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置21(以下、単に「浸漬装置21」とする)の構成図を示している。図3(A)はインレットミキサ50の設置時を、図3(B)はインレットミキサ50の浸漬時を表している。
浸漬装置21は、上部が開口された筐体内部に酸化物系セラミックスを含む懸濁液23(以下、単に「懸濁液23」とする)が注入された液体タンク22を備える。なお、液体タンク22の容量は、インレットミキサ50を一体について皮膜形成する場合は約200L程度必要となる。
インレットミキサ50は、クレーンで吊り上げられて、浸漬装置21の開口部から挿入される。そして、浸漬装置21上面の突起部にエルボ16(トラジションピース15(図1)との接続口)が設置され固定される(図3(A))。
液体タンク22の下端は、マグネットスターラ25を介してボールネジ26に接続されている。そして、ボールネジ26は回転数を自由に調整可能なモータ27に直結される。
モータ27による回転運動をボールネジ26によって液体タンク22を上昇・下降させる直線運動に変換することにより、液体タンク22の上下駆動を実現する。なお、ボールネジ26に代えて、油圧あるいは空圧シリンダー等を用いて液体タンク22の上昇・下降を実現しても良い。
液体タンク22を上昇させることにより、インレットミキサ50を懸濁液23に浸漬する(図3(B))。また、モータ27による回転数を調整して液体タンクが上昇する高さを変更することにより、皮膜したい領域のみを浸漬させることができる。
また、液体タンク22は、その外周面に銅製の配管24が巻きつけるように取り付けられている。この配管24に、浸漬装置21の外部に設けられた熱交換器(図示省略)で熱交換された温水または冷水を流すことにより、懸濁液23の温度を調整する。
これにより、温度によって比重が変化する懸濁液23において皮膜形成に最適な設定温度を維持することができる。
図4(A)は、浸漬装置21の上面図を示している(適宜、図3参照)。
浸漬装置21の上面には、インレットミキサ50を挿入する開口部の周囲に一対の平面板29(29a、29b)が設けられている。この一対の平面板29は、一方の平面板29aは固定されて、他方は平面板29bの両側に設けられたガイドレール28に沿って移動可能となっている。なお、平面板29bの移動は、油圧シリンダー(図示省略)を用いて行われる。
インレットミキサ50が開口部から挿入されて、エルボ16部分が設置された後、平面板29bを移動させてインレットミキサ50を挟み込むことにより、インレットミキサ50は浸漬装置21に固定される。
また、浸漬装置21の上面にはレーザセンサ30が備えられている。
レーザセンサ30は、直下に位置する懸濁液23の液面にレーザを照射して、基準位置(レーザセンサ30設置位置)から液面までの距離を測定する。
そして、液面までの距離の測定を単位時間あたり所定の回数(例えば、1秒間に10回)実施することにより、基準位置から液面までの距離と経過時間のデータから液面の移動速度を図示しない速度制御装置によって求める。
そして、液面の移動速度が一定となるように、図3に示したモータ27の回転数を調整して液体タンク22を上下させる速度を制御する。
浸漬が終了して液体タンク22を下降させる際、懸濁液23からインレットミキサ50が引き抜かれる速度(液体の下降速度)が速すぎたり或いは遅すぎたりすると均一に皮膜が形成されない恐れがある。
インレットミキサ50は部位によって断面積が異なるため、液体タンク22を一定速度で下降させた場合のみでは、液体の下降速度は一定とならない。このため、溶液の下降速度は、液面の移動速度に基づいて定める必要がある。
したがって、液面を一定速度で移動させることにより、溶液の下降速度を一定にすることができるため、酸化物系セラミックスを均一に皮膜することができる。
図4(B)は、液体タンク22の縦断面図を示している(適宜、図3参照)。
マグネットスターラ25は、液体タンク22の下端に設置されている。そして、磁力により液体タンク22内に投入された回転子32を回転させて、酸化物系セラミックスを含む懸濁液23を攪拌する。
懸濁液23に有機溶媒を用いた場合、懸濁液23を一定時間そのままの状態で保持すると酸化物系セラミックスが沈殿して、均一に浸漬できないおそれがある。
マグネットスターラ25を用いて回転子32を回転させて攪拌することにより、懸濁液23の成分を均一にすることができる。
また、液体タンク22は、その内部にフロートセンサ31が取り付けられている。
フロートセンサ31は、浸漬が終了して液体タンク22を下降させる際、基準位置(液面の下降開始位置)から液面の距離を測定する。
そして、レーザセンサ30同様に、液面までの距離の測定を単位時間あたり所定の回数実施することにより、基準位置から液面までの距離と経過時間のデータから液面の移動速度を求める。そして、液面の移動速度が一定となるように、モータ27の回転数を調整して液体タンク22を上下させる速度を制御する。
液面を一定速度で移動させることにより、溶液の下降速度を一定にすることができるため、酸化物系セラミックスを均一に皮膜することができる。
続けて、乾燥工程及び加熱工程について説明する。
液体タンク22の下降終了後、浸漬されたインレットミキサ50を浸漬装置21に固定したままで約10分程度乾燥させる。そして、固定していたインレットミキサ50を浸漬装置21から開放させる。
図5は、加熱処理に用いられる熱処理架台33の構成図を示している。
図5(A)は熱処理架台33の平面図を示している。乾燥後のインレットミキサ50はクレーンで吊り上げられ、熱処理架台33の開口部に挿入される。
インレットミキサ50は、エルボ16が熱処理架台33の上面に設置され、ガイドレール34により移動可能な平面板により固定される。なお、一対のインレットミキサ50を設置可能なように、二カ所の設置箇所が設けられている。
エルボ16を熱処理架台33に固定することにより、熱処理炉まで移送する間に、インレットミキサ50が熱処理架台33と接触して打痕がつくのを防止する。
図5(B)は熱処理架台33の側面図を示している。熱処理中の変形を防止するためにインレットミキサ50は、立てた状態で設置される。
そして、インレットミキサ50を熱処理架台33に取り付けた後、クレーンで吊り上げ熱処理炉(図示省略)に移送する。
熱処理前にインレットミキサ50の上端と下端に熱電対(図示省略)を取り付けて、熱処理を開始する。熱処理は大気雰囲気・アルゴン置換雰囲気・真空雰囲気いずれも可能である。
熱処理開始後、インレットミキサ50の上端と下端に取り付けた熱電対の温度が設定温度内に達したことを確認して、所定時間保持した後に冷却する。なお、設定温度、保持時間は、酸化物系セラミックスの種類によって異なるが、400〜600℃、10分〜60分の範囲となる。
酸化物系セラミックスの皮膜厚さが要求範囲に無いときは、浸漬工程から加熱工程まで再度繰り返して皮膜形成を行う。
以上に述べたジェットポンプの皮膜形成方法によれば、ジェットポンプの構成部材を酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬して加熱処理を行うことにより、構成部材の内表面に酸化物系セラミックスの皮膜が形成されるため、ジェットポンプにクラッドが付着して堆積することを抑制することができる。
本発明の実施形態を説明したが、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10…ジェットポンプ、11…原子炉圧力容器、12…炉心シュラウド、13…再循環入口ノズル、14…ライザ管、15…トラジションピース、16…エルボ、17…ノズル、18…スロート、19…ディフィーザ、20…バッフルプレート、21…皮膜形成用浸漬装置、22…液体タンク、23…(酸化物系セラミックスを含む)懸濁液、24…配管、25…マグネットスターラ、26…ボールネジ、27…モータ、28、34…ガイドレール、29(29a、29b)…平面板、30…レーザセンサ、31…フロートセンサ、32…回転子、33…熱処理架台、50…インレットミキサ。

Claims (8)

  1. 沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンクに浸漬させる浸漬工程と、
    浸漬された前記ジェットポンプの構成部材を引き上げた後に加熱処理する加熱工程と、
    を含むことを特徴とするジェットポンプの皮膜形成方法。
  2. 前記浸漬工程は、前記ジェットポンプの構成部材を前記液体タンク上方に固定して、前記液体タンクを上下駆動させて浸漬させることを特徴とする請求項1記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
  3. 前記浸漬工程は、前記懸濁液を攪拌する攪拌工程を含むことを特徴とする請求項1または請求項2記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
  4. 前記浸漬工程は、前記懸濁液の温度を懸濁液が所定の比重となる温度に調節する懸濁液温度調節工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
  5. 前記浸漬工程は、前記懸濁液の表面高さを測定装置を用いて測定し、この測定値に基づいて前記液体タンクを上下させる速度を制御して浸漬させることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のジェットポンプの皮膜形成方法。
  6. 沸騰水型原子炉内に設けられるジェットポンプの構成部材を、酸化物系セラミックスを含む懸濁液が注入された液体タンク上方に固定して、この液体タンクを上下駆動装置によって上下駆動させて浸漬させることを特徴とするジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
  7. 前記液体タンクには、注入された懸濁液の温度を調節する懸濁液温度調節装置を設けたことを特徴とする請求項6記載のジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
  8. 前記上下駆動装置は、前記懸濁液の表面高さを測定装置を用いて測定し、この測定値に基づいて前記液体タンクを上下させる速度を制御する速度制御装置によって上下駆動制御されることを特徴とする請求項6または請求項7記載のジェットポンプの皮膜形成用浸漬装置。
JP2013143558A 2013-07-09 2013-07-09 ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置 Expired - Fee Related JP6173806B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013143558A JP6173806B2 (ja) 2013-07-09 2013-07-09 ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013143558A JP6173806B2 (ja) 2013-07-09 2013-07-09 ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015017831A true JP2015017831A (ja) 2015-01-29
JP6173806B2 JP6173806B2 (ja) 2017-08-02

Family

ID=52438969

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013143558A Expired - Fee Related JP6173806B2 (ja) 2013-07-09 2013-07-09 ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6173806B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010067849A1 (ja) * 2008-12-12 2010-06-17 株式会社東芝 原子炉炉内構造物およびその製造方法
JP2012040266A (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 Nakata Coating Co Ltd ディップコーティング装置、およびディップコーティング方法
JP2012255211A (ja) * 2011-06-07 2012-12-27 General Electric Co <Ge> 金属表面への放射性種の蓄積を低減する酸化物皮膜の形成方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010067849A1 (ja) * 2008-12-12 2010-06-17 株式会社東芝 原子炉炉内構造物およびその製造方法
JP2010160144A (ja) * 2008-12-12 2010-07-22 Toshiba Corp 原子炉炉内構造物およびその製造方法
JP2012040266A (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 Nakata Coating Co Ltd ディップコーティング装置、およびディップコーティング方法
JP2012255211A (ja) * 2011-06-07 2012-12-27 General Electric Co <Ge> 金属表面への放射性種の蓄積を低減する酸化物皮膜の形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6173806B2 (ja) 2017-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3204278U (ja) スプレー設備
CN105195465B (zh) 一种超声波‑兆声波复合频率全自动光学元件清洗装置
CN1924709A (zh) 加热装置以及涂布·显影装置
US20160268146A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN102527613B (zh) 一种微纳米低表面疏水型复合防垢涂层的液相沉积-浸渍制备方法
CN104470681A (zh) 观察拍摄装置
JP6173806B2 (ja) ジェットポンプの皮膜形成方法及びその皮膜形成用浸漬装置
CN108330473A (zh) 一种纳米二氧化钛薄膜及其制备方法和应用
JP2005329402A (ja) 回転体の形状の中空部品を酸洗いする方法、および該方法を実施する装置
JP2013253298A (ja) ターゲットユニットの製造方法及びターゲットユニットの製造装置
CN104694908A (zh) 一种采用无机锆盐在锆合金表面制备氧化锆薄膜的方法
TW200533424A (en) Apparatus for electroless deposition of metals onto semiconductor substrates
JP5513864B2 (ja) 原子炉炉内構造物およびその製造方法
WO2016046642A2 (en) Systems and methods for large-scale nanotemplate and nanowire fabrication
CN217052328U (zh) 一种高速线材盐浴热处理综合实验平台
TW201703131A (zh) 用於化學處理半導體基材的裝置和方法
CN102296166A (zh) 防止熔模铸钢件热处理过程中表面氧化的方法
TWI594810B (zh) 在金屬表面上形成氧化物塗層以減少放射性種類積聚之方法
CN104005125B (zh) 假捻盘内表面陶瓷化处理的方法
CN210232505U (zh) 全口径抛光浸没式元件加工装置及抛光机
CN209652371U (zh) 一种移动式淬火机
RU2555272C2 (ru) Электрохимический роботизированный комплекс для формирования наноразмерных покрытий
JP5774285B2 (ja) ジェットポンプの皮膜形成方法
CN213803937U (zh) 一种金属制品加工用助镀液冷却设备
CN102554151A (zh) 热浸涂层多金属复合水平连铸铜包扁钢装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161227

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170606

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170705

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6173806

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees