JP2014511346A - 酸化オレフィンの製造方法 - Google Patents
酸化オレフィンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014511346A JP2014511346A JP2013548410A JP2013548410A JP2014511346A JP 2014511346 A JP2014511346 A JP 2014511346A JP 2013548410 A JP2013548410 A JP 2013548410A JP 2013548410 A JP2013548410 A JP 2013548410A JP 2014511346 A JP2014511346 A JP 2014511346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- component
- oxide
- tellurium
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 63
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 119
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 31
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 30
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 27
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 17
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- -1 oxirane compound Chemical class 0.000 description 79
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 25
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 14
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 12
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 11
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 9
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 8
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 8
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 150000003497 tellurium Chemical class 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 3
- RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxybutane Chemical compound CCC1CO1 RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N [Ru]=O Chemical class [Ru]=O ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910001963 alkali metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Inorganic materials Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNBDXQTMPYBAT-UHFFFAOYSA-N 2-butyloxirane Chemical compound CCCCC1CO1 WHNBDXQTMPYBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWSNNWLBMSXQR-UHFFFAOYSA-N 2-hexyloxirane Chemical compound CCCCCCC1CO1 NJWSNNWLBMSXQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOFYYYCFRVWBK-UHFFFAOYSA-N 2-pentyloxirane Chemical compound CCCCCC1CO1 NMOFYYYCFRVWBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 2-propyloxirane Chemical compound CCCC1CO1 SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000005752 Copper oxychloride Substances 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUKXTMUZKIXTJJ-UHFFFAOYSA-L N(=O)[Ru](Cl)Cl Chemical compound N(=O)[Ru](Cl)Cl SUKXTMUZKIXTJJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical class O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021603 Ruthenium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004116 SrO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001964 alkaline earth metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- SUWCFTLKWQKEFZ-UHFFFAOYSA-M azane;ruthenium(3+);chloride Chemical compound N.N.N.N.N.[Cl-].[Ru+3] SUWCFTLKWQKEFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- HKMOPYJWSFRURD-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;copper Chemical compound [Cu].ClOCl HKMOPYJWSFRURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQUYBLKIOPTDRU-UHFFFAOYSA-N copper oxocopper dinitrate Chemical compound [N+](=O)([O-])[O-].[Cu+2].[Cu]=O.[N+](=O)([O-])[O-] HQUYBLKIOPTDRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KOKFUFYHQQCNNJ-UHFFFAOYSA-L copper;2-methylpropanoate Chemical compound [Cu+2].CC(C)C([O-])=O.CC(C)C([O-])=O KOKFUFYHQQCNNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CRCKGIUJMFFISH-UHFFFAOYSA-N copper;ethanolate Chemical compound [Cu+2].CC[O-].CC[O-] CRCKGIUJMFFISH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L copper;oxalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VNGORJHUDAPOQZ-UHFFFAOYSA-N copper;propan-2-olate Chemical compound [Cu+2].CC(C)[O-].CC(C)[O-] VNGORJHUDAPOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000002036 drum drying Methods 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N n-decene Natural products CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- WYRXRHOISWEUST-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Ru+3] WYRXRHOISWEUST-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LJZVDOUZSMHXJH-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);triiodide Chemical compound [Ru+3].[I-].[I-].[I-] LJZVDOUZSMHXJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- LVBXEMGDVWVTGY-UHFFFAOYSA-N trans-2-octenal Natural products CCCCCC=CC=O LVBXEMGDVWVTGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/02—Sulfur, selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/057—Selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/0576—Tellurium; Compounds thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/54—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/56—Platinum group metals
- B01J23/58—Platinum group metals with alkali- or alkaline earth metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/78—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with alkali- or alkaline earth metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
- B01J23/8926—Copper and noble metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
- B01J23/8933—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals also combined with metals, or metal oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/89—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals
- B01J23/8933—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals also combined with metals, or metal oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/8946—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with noble metals also combined with metals, or metal oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with alkali or alkaline earth metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/02—Sulfur, selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/057—Selenium or tellurium; Compounds thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/08—Halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/128—Halogens; Compounds thereof with iron group metals or platinum group metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/128—Halogens; Compounds thereof with iron group metals or platinum group metals
- B01J27/13—Platinum group metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0201—Impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
- C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
- C07D301/04—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen
- C07D301/06—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
- C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
- C07D301/04—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen
- C07D301/08—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the gaseous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/04—Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
銅酸化物およびテルル酸化物を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。
Description
関連出願に対する相互参照
本願は、ここに出典明示してその全開示を本明細書の一部とみなす、２０１１年１月５日に出願した米国仮特許出願６１／４２９,９５５号の優先権の利益を主張する。
本願は、ここに出典明示してその全開示を本明細書の一部とみなす、２０１１年１月５日に出願した米国仮特許出願６１／４２９,９５５号の優先権の利益を主張する。
技術分野
本発明は、酸化オレフィンの製造方法に関する。
本発明は、酸化オレフィンの製造方法に関する。
酸化オレフィンの製造方法に関して、金属系触媒の存在下でのオレフィンエポキシ化が提案されている。例えば、米国特許出願第２００３／０１９１３２８号明細書は、特定のＢＥＴ表面積を有する担体に特定の金属群から選択される少なくとも２つの金属を含有する混合物の存在下で、炭化水素を酸素でエポキシ化する方法を記載する。特開２００２−３７１０７４号公報は、周期表の第III群〜第XVI群に属する金属から選択される少なくとも１種の金属を含有する金属酸化物触媒を使用する、オキシラン化合物の製造方法を開示する。
本発明は以下のものを提供する：
[１]銅酸化物およびテルル成分を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。
[２]触媒がルテニウム酸化物を含む[１]に記載の方法。
[３]触媒がアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む[１]または[２]に記載の方法。
[４]触媒がハロゲン成分を含む[１]または[２]に記載の方法。
[５]銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている[１]に記載の方法。
[６]銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が多孔性担体に担持されている[２]に記載の方法。
[７]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている[３]に記載の方法。
[８] 銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている[４]に記載の方法。
[９]多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む[５]から[８]のいずれか１に記載の方法。
[１０]多孔性担体がSiO2を含む[５]から[８]のいずれか１に記載の方法。
[１１]触媒中のテルル／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[１]から[１０]のいずれか１に記載の方法。
[１２]触媒中のルテニウム／銅モル比が０．０１／１〜５０／１である[２]に記載の方法。
[１３]触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[３]に記載の方法。
[１４]銅酸化物がCuOである[１]から[１３]のいずれか１に記載の方法。
[１５]テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む[１]から[１４]のいずれか１に記載の方法。
[１６]ルテニウム酸化物がRuO2である[２]に記載の方法。
[１７]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である[３]に記載の方法。
[１８]アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である[１７]に記載の方法。
[１９]銅酸化物とテルル成分の総量が、多孔性担体１００重量部に対して０．０１〜８０重量部である[５]に記載の方法。
[２０]銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[５]に記載の方法。
[２１]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[６]に記載の方法。
[２２]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[７]に記載の方法。
[２３]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[８]に記載の方法。
[２４]オレフィンがプロピレンであり、酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである[１]から[２３]のいずれか１に記載の方法。
[２５]オレフィンと酸素とを１００〜３５０℃の温度で反応させることを含む[１]から[２４]のいずれか１に記載の方法。
[２６]銅酸化物とテルル成分を含む、酸化オレフィン製造用の触媒。
[２７]触媒がルテニウム酸化物を含む[２６]に記載の触媒。
[２８]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む[２６]または[２７]に記載の触媒。
[２９]ハロゲン成分を含む[２６]から[２８]のいずれか１に記載の触媒。
[３０]銅酸化物がCuOである[２６]から[２９]のいずれか１に記載の触媒。
[３１]テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む[２６]から[３０]のいずれか１に記載の触媒。
[３２]ルテニウム酸化物がRuO2である[２７]から[３１]のいずれか１に記載の触媒。
[３３]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である[２８]から[３２]のいずれか１に記載の触媒。
[３４]アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である[３３]に記載の触媒。
[３５]銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている[２６]に記載の触媒。
[３６]銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が、多孔性担体に担持されている[２７]に記載の触媒。
[３７]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている[２８]に記載の触媒。
[３８]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている[２９]に記載の触媒。
[３９]多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む[３５]から[３８]のいずれか１に記載の触媒。
[４０]多孔性担体がSiO2を含む[３５]から[３８]のいずれか１に記載の触媒。
[４１]触媒中のテルル／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[２６]から[４０]のいずれか１に記載の触媒。
[４２]触媒中のルテニウム／銅モル比が０．０１／１〜５０／１である[２７]から[４１]のいずれか１に記載の触媒。
[４３]触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[２８]から[４２]のいずれか１に記載の方法。
[４４]銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３５]に記載の触媒。
[４５]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３６]に記載の触媒。
[４６]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３７]に記載の触媒。
[４７]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３８]に記載の方法。
[４８]酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである[２６]から[４７]のいずれか１に記載の触媒。
[１]銅酸化物およびテルル成分を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。
[２]触媒がルテニウム酸化物を含む[１]に記載の方法。
[３]触媒がアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む[１]または[２]に記載の方法。
[４]触媒がハロゲン成分を含む[１]または[２]に記載の方法。
[５]銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている[１]に記載の方法。
[６]銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が多孔性担体に担持されている[２]に記載の方法。
[７]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている[３]に記載の方法。
[８] 銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている[４]に記載の方法。
[９]多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む[５]から[８]のいずれか１に記載の方法。
[１０]多孔性担体がSiO2を含む[５]から[８]のいずれか１に記載の方法。
[１１]触媒中のテルル／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[１]から[１０]のいずれか１に記載の方法。
[１２]触媒中のルテニウム／銅モル比が０．０１／１〜５０／１である[２]に記載の方法。
[１３]触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[３]に記載の方法。
[１４]銅酸化物がCuOである[１]から[１３]のいずれか１に記載の方法。
[１５]テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む[１]から[１４]のいずれか１に記載の方法。
[１６]ルテニウム酸化物がRuO2である[２]に記載の方法。
[１７]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である[３]に記載の方法。
[１８]アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である[１７]に記載の方法。
[１９]銅酸化物とテルル成分の総量が、多孔性担体１００重量部に対して０．０１〜８０重量部である[５]に記載の方法。
[２０]銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[５]に記載の方法。
[２１]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[６]に記載の方法。
[２２]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[７]に記載の方法。
[２３]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって触媒を得る[８]に記載の方法。
[２４]オレフィンがプロピレンであり、酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである[１]から[２３]のいずれか１に記載の方法。
[２５]オレフィンと酸素とを１００〜３５０℃の温度で反応させることを含む[１]から[２４]のいずれか１に記載の方法。
[２６]銅酸化物とテルル成分を含む、酸化オレフィン製造用の触媒。
[２７]触媒がルテニウム酸化物を含む[２６]に記載の触媒。
[２８]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む[２６]または[２７]に記載の触媒。
[２９]ハロゲン成分を含む[２６]から[２８]のいずれか１に記載の触媒。
[３０]銅酸化物がCuOである[２６]から[２９]のいずれか１に記載の触媒。
[３１]テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む[２６]から[３０]のいずれか１に記載の触媒。
[３２]ルテニウム酸化物がRuO2である[２７]から[３１]のいずれか１に記載の触媒。
[３３]アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分がアルカリ金属含有化合物である[２８]から[３２]のいずれか１に記載の触媒。
[３４]アルカリ金属含有化合物が、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物である[３３]に記載の触媒。
[３５]銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている[２６]に記載の触媒。
[３６]銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が、多孔性担体に担持されている[２７]に記載の触媒。
[３７]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている[２８]に記載の触媒。
[３８]銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている[２９]に記載の触媒。
[３９]多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む[３５]から[３８]のいずれか１に記載の触媒。
[４０]多孔性担体がSiO2を含む[３５]から[３８]のいずれか１に記載の触媒。
[４１]触媒中のテルル／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[２６]から[４０]のいずれか１に記載の触媒。
[４２]触媒中のルテニウム／銅モル比が０．０１／１〜５０／１である[２７]から[４１]のいずれか１に記載の触媒。
[４３]触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である[２８]から[４２]のいずれか１に記載の方法。
[４４]銅イオンおよびテルル化合物またはテルルイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３５]に記載の触媒。
[４５]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオンおよびルテニウムイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３６]に記載の触媒。
[４６]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオンおよびアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３７]に記載の触媒。
[４７]銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、ルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンおよびハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、得られた該組成物を焼成することによって得られる[３８]に記載の方法。
[４８]酸化オレフィンがプロピレンオキサイドである[２６]から[４７]のいずれか１に記載の触媒。
本発明の方法は、（ａ）銅酸化物および（ｂ）テルル成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む。
触媒において、成分（ａ）および（ｂ）は好ましくは担体に担持され、より好ましくは、多孔性担体に担持される。この触媒は、本発明の１つの態様である酸化オレフィンの製造に価値がある。
担体は多孔性担体であってもよく、および非多孔性担体であってもよい。
多孔性担体は成分（ａ）および（ｂ）を担持することができる孔を有する。多孔性担体は、好ましくはAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2、より好ましくはSiO2を含む。SiO2を含む多孔性担体には、例えばメソ多孔性シリカが含まれる。このような多孔性担体は、ゼオライトも含んでいてもよい。
非多孔性担体には、例えば、CAB-O-SIL（登録商標）などのSiO2を含む非多孔性担体が含まれる。
担体は粉末の形態にすることができ、あるいは必要に応じて所望の構造に成形することができる。
触媒が担体としてSiO2を含む場合には、酸化オレフィンを良好な収率および良好な選択率で調製することができる。
触媒は、１種以上の（ａ）銅酸化物を含んでもよい。
（ａ）銅酸化物は、通常、銅と酸素から構成される。
銅酸化物には、例えば、Cu2OおよびCuOが含まれる。銅酸化物は好ましくはCuOである。
（ａ）銅酸化物は、通常、銅と酸素から構成される。
銅酸化物には、例えば、Cu2OおよびCuOが含まれる。銅酸化物は好ましくはCuOである。
触媒は、１種以上の（ｂ）テルル成分を含んでもよい。成分（ｂ）は、テルル含有化合物またはテルルイオンであってもよい。テルル含有化合物には、例えば、TeO、TeO2、TeO3またはTe2O5などのテルル酸化物、およびCl-、Br-、I-、F-、OH-、NO3-またはCO3 2-などのアニオンを有するテルル塩が含まれる。テルルイオンには、例えばTe2+、Te4+、Te6+、Te2-が含まれる。成分（ｂ）は、好ましくはテルル酸化物であり、より好ましくはテルルおよび酸素原子を含むものであり、さらにより好ましくはTeO2である。
触媒は、１種以上の（ｃ）ルテニウム酸化物を含んでもよい。成分（ｃ）は、通常、ルテニウムと酸素とから構成される。ルテニウム酸化物には、例えば、Ru2O4およびRu2O5、Ru3O5、Ru3O6、RuO4およびRuO２が含まれる。成分（ｃ）は好ましくはRuO2である。
触媒は、１種以上の（ｄ）アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含んでもよい。触媒において、成分（ｄ）は上記多孔性担体、または成分（ａ）および（ｂ）に担持されてもよい。
成分（ｄ）は、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属含有化合物、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンであってもよい。
成分（ｄ）は、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属含有化合物、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンであってもよい。
アルカリ金属含有化合物には、例えば、Na、K、RbおよびCsなどのアルカリ金属を含有する化合物が含まれる。アルカリ土類金属含有化合物には、例えば、Ca、Mg、SrおよびBaなどのアルカリ土類金属を含有する化合物が含まれる。アルカリ金属イオンには、例えば、Na+、K+、Rb+およびCs+が含まれる。アルカリ土類金属イオンは、例えば、Ca2+、Mg2+、Sr2+およびBa2+が含まれる。
アルカリ金属成分はアルカリ金属酸化物であってもよい。アルカリ金属酸化物には、例えば、Na2O、Na2O2、K2O、K2O2、Rb2O、Rb2O2、Cs2OおよびCs2O2が含まれる。アルカリ土類金属成分は、アルカリ土類金属酸化物であってもよい。アルカリ土類金属酸化物には、例えば、CaO、CaO2、MgO、MgO2、SrO、SrO2、BaOおよびBaO2が含まれる。
成分（ｄ）は、好ましくはアルカリ金属含有化合物であり、より好ましくは、ナトリウム含有化合物またはカリウム含有化合物であり、さらにより好ましくはナトリウム含有化合物である。
アルカリ金属含有化合物およびアルカリ土類金属含有化合物は、好ましくはアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩である。アルカリ金属塩は、アニオンと共に前記したようなアルカリ金属イオンを含む。アルカリ土類金属塩は、アニオンと共に前記したようなアルカリ土類金属イオンを含む。
このような塩のアニオンには、例えば、Cl-、Br-、I-、F-、OH-、NO3 -、SO4 2-およびCO3 2-が含まれる。このような塩は、好ましくはアルカリ金属ハロゲン化物のようなハロゲンを含むアルカリ金属塩、またはアルカリ土類金属ハロゲン化物のようなハロゲンを含むアルカリ土類金属含有塩であり、より好ましくはハロゲンを含むアルカリ金属塩であり、なおより好ましくはアルカリ金属塩化物である。
触媒は、好ましくはCuOおよびTe成分を含み、より好ましくはCuO、Te成分およびRuO2、またはCuO、Te成分、RuO2およびアルカリ金属含有化合物を含み、さらにより好ましくは、CuO、Te成分、RuO2およびナトリウム含有化合物を含む。なぜならば、酸化オレフィンを製造するのにこのような組合せを採用することにより、酸化オレフィンの収率および選択率を改良できるからである。特に、触媒が（ｄ）成分としてNaClを含む場合には、優れた酸化オレフィンの選択率を示すことができる。なお、触媒は、通常、銀成分を含まず、触媒は、銀金属または銀含有化合物を用いること無く調製できる。
触媒中のテルル／銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは０．００１／１〜５０／１である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは０．０１／１であり、さらにより好ましくは０．０５／１である。モル比の上限は、より好ましくは１／１、さらにより好ましくは０．５／１である。
触媒中のルテニウム／銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは０．０１／１〜〜５０／１である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは０．１／１であり、さらにより好ましくは０．１５／１であり、特に好ましくは０．２／１である。モル比の上限は、より好ましくは５／１、さらにより好ましくは２／１、および特に好ましくは１／１である。
触媒中の（ｄ）成分／銅モル比は、それらの原子に基づき、好ましくは０．００１／１〜５０／１である。モル比がこのような範囲内に含まれる場合、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。モル比の下限は、より好ましくは０．０１／１であり、さらにより好ましくは０．１／１である。モル比の上限は、より好ましくは１０／１、さらにより好ましくは５／１である。「（ｄ）成分」のモル比は、（ｄ）成分中に存在するアルカリ金属またはアルカリ土類金属および（ｄ）成分中に存在するアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンの総モル比を表す。
触媒において、成分（ａ）および（ｂ）、ならびに所望による成分（ｃ）および（ｄ）を多孔性担体に担持させる場合、これらの成分の総含量は、多孔性担体１００重量部に対して好ましくは０．０１〜８０重量部である。総含量がこのような範囲に入る場合には、酸化オレフィンの収率および選択率をさらに改善することができる。総含量の下限は、多孔性担体１００重量部に対して、より好ましくは０．０５重量部、さらにより好ましくは０．１重量部である。総含量の上限は、多孔性担体１００重量部に対して、より好ましくは５０重量部、さらにより好ましくは３０重量部である。
触媒は、成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の他に（ｅ）ハロゲン成分を含んでもよい。成分（ｅ）は、一般にハロゲン含有化合物である。ハロゲンには、例えば、塩素、フッ素、ヨウ素および臭素が含まれる。
このようなハロゲン含有化合物には、例えば、CuClおよびCuCl2などのハロゲン化銅、TeCl2およびTeCl4などのハロゲン化テルル、RuCl3などのハロゲン化ルテニウム、およびCuOCl2、CuClO4、ClO2Cu(ClO4)3およびCu2O(ClO4)2などの銅オキシハロゲン化物、Te6O11Cl12などのテルルオキシハロゲン化物、Ru2OCl4、Ru2OCl5およびRu2OCl6などのルテニウムオキシハロゲン化物が含まれる。触媒が成分（ｅ）を含有する場合、該成分は、成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）のうちのいずれか、または多孔性担体に担持され得る。
触媒はさらに、銅、テルルおよび酸素から成るもの、例えば、CuTeO4、CuTeO3およびCu3TeO6など、テルル、ナトリウムおよび酸素から成るもの、例えば、Na2TeO3、Na2TeO4、Na2Te4O9およびNa4TeO5など、ナトリウム、銅および酸素から成るもの、例えばNaCuO2、Na2CuO2、NaCuOおよびNa6Cu2O6など、ルテニウム、テルルおよび酸素から成るもの、ルテニウム、銅および酸素から成るもの、例えば、RuCu2O2、RuCuClO3、Ru2CuO6、Ru2Cu2O2など、ならびにルテニウム、ナトリウムおよび酸素から成るものを含む（ｆ）複合酸化物をさらに含む。
触媒が成分（ｆ）を含む場合、該成分は、多孔性担体に担持されるか、上記成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）のうちのいずれかに担持され得る。
触媒がルテニウム酸化物を含む場合、触媒中のルテニウム金属に対するV、MoまたはWのモル比は、好ましくは０．２５未満、より好ましくは０．１未満、さらに好ましくは、触媒は実質的にV、MoまたはWを含まない。
触媒の製造は特定の方法に制限されるものではなく、該方法には例えば、含浸法、沈殿法、析出沈殿法、化学蒸着法、機械化学的法、および固相反応法等の常套の方法が含まれ、含浸法が好ましい。触媒において、成分（ａ）および（ｂ）、さらに所望による成分（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）または（ｆ）が、多孔性担体に担持される場合、銅イオン、テルル化合物またはテルルイオン、および所望によるルテニウムイオン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属含有イオンおよび／またはハロゲンイオンを含有する溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させて組成物を調製した後に、該組成物を焼成することによって触媒を得ることができる。
好ましくは、溶液または懸濁液を多孔性担体に含浸させることにより得られる混合物は、５℃〜１００℃、より好ましくは１０℃〜５０℃の温度にて、撹拌しながら熟成される。混合物をそのまま使用してもよく、好ましくは、しばらく熟成させて使用する。熟成時間は、好ましくは０．５〜４８時間の範囲であり、より好ましくは１〜２５時間である。
上記イオンを含有する溶液または懸濁液は、溶媒中に、銅塩およびテルル化合物または塩、ならびに所望によるルテニウム塩、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属含有塩および／またはハロゲン含有化合物を混合することにより調製できる。銅塩には、例えば、酢酸銅、塩化アンモニウム銅、臭化銅、炭酸銅、銅エトキシド、水酸化銅、ヨウ化銅、銅イソブチレート、銅イソプロポキシド、シュウ酸銅、オキシ塩化銅、酸化銅、硝酸銅および塩化銅が含まれ、および硝酸銅および塩化銅が好ましい。
テルル化合物またはテルル塩には、例えば、TeF6、TeBr4、TeCl4およびTeI4などのハロゲン化物、オキシハロゲン化物、TeO、TeO2およびTeO3などの酸化物、Te(OC2H5)4などのアルコキシド、H2TeO3、H6TeO6、Na2TeO3およびNa2TeO4などのテルル酸塩が含まれ、好ましくはハロゲン化物および酸化物であり、より好ましくは酸化物であり、さらにより好ましくはTeO2である。
ルテニウム塩には、例えば、臭化ルテニウム、塩化ルテニウム、ヨウ化ルテニウムなどのハロゲン化物、Ru2OCl4、Ru2OCl5およびRu2OCl6などのオキシハロゲン化物、[RuCl2(H2O)4]Clなどのハロゲノ錯体、[Ru(NH3)5H2O]Cl2、[Ru(NH3)5Cl]Cl2、[Ru(NH3)6]Cl2および[Ru(NH3)6]Cl3などのアンミン錯体、Ru(CO)5およびRu3(CO)12のようなカルボニル錯体、[Ru3O(OCOCH3)6(H2O)3]などのカルボキシレート錯体、ニトロシル塩化ルテニウム、および[Ru2(OCOR)4]Cl(R=1〜3個の炭素原子を有するアルキル基)など、ならびに[Ru(NH3)5(NO)]Cl3、[Ru(OH)(NH3)4(NO)](NO3)2および[Ru(NO)](NO3)3などのニトロシル錯体、アミン錯体、アセチルアセトネート錯体、RuO2などの酸化物、および(NH4)2RuCl6などのアンモニウム塩が含まれ、Clを含有するルテニウム塩が好ましい。
溶液用のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩は、（ｄ）成分と同一であってもよく、異なるものであってもよい。アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩には、例えば、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ土類金属硝酸塩、アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アルカリ金属酪酸塩、アルカリ土類金属酪酸塩、アルカリ金属安息香酸塩、アルカリ土類金属安息香酸塩、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属クエン酸塩、アルカリ土類金属クエン酸塩、アルカリ金属ギ酸塩、アルカリ土類金属ギ酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属次亜塩素酸塩、アルカリ土類金属次亜塩素酸塩、アルカリ金属ハロゲン酸塩(alkaline metal halate)、アルカリ土類金属ハロゲン酸塩、アルカリ金属亜硝酸塩、アルカリ土類金属亜硝酸塩、アルカリ金属シュウ酸塩、アルカリ土類金属シュウ酸塩、アルカリ金属過ハロゲン酸塩、アルカリ土類金属過ハロゲン酸塩、アルカリ金属プロピオン酸塩、アルカリ土類金属プロピオン酸塩、アルカリ金属酒石酸塩およびアルカリ土類金属酒石酸塩が含まれ、アルカリ金属ハロゲン化物およびアルカリ金属硝酸塩が好ましく、NaNO3およびNaClがより好ましい。
ハロゲンを有するアルカリ金属塩またはハロゲンを有するアルカリ土類金属塩を触媒の製造に使用する場合、成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）を含む触媒は、溶媒中で銅塩、テルル塩およびアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を混合することにより得られる溶液または懸濁液から製造できる。好ましくは、上記金属塩から成る群から選択されるうちの少なくとも１つは、ハロゲンイオンを含有し、より好ましくは塩化物イオンを含有する。このようなハロゲンイオンは、NaClのような（ｄ）成分およびCuまたはTeのハロゲン化物およびオキシハロゲン化物などの（ｅ）成分を形成してもよい。溶液は、そのｐＨを制御する目的で酸性または塩基性の化合物を含んでいてもよい。酸化合物には、例えば、塩酸、硝酸、亜硝酸および過塩素酸が含まれる。塩基性化合物には、例えば、アルカリ金属水酸化物、アミン化合物、イミン化合物、ヒドラジンまたはヒドラジン化合物、アンモニア、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシアミンおよび水酸化アンモニウムが含まれる。
溶媒には、例えば、水、メタノールまたはエタノールなどのアルコール、およびエーテルが含まれる。溶媒の量は、銅塩１重量部あたり、好ましくは０．０１〜２０００重量部である。触媒が担体を含む場合、溶媒の量は、担体１重量部当たり好ましくは０．０１〜５００重量部であり、より好ましくは０．１〜１００重量部である。
含浸によって調製される組成物は、通常、乾燥され、該乾燥方法には、例えば、蒸発乾固、噴霧乾燥、ドラム乾燥およびフラッシュ（気流式）乾燥が含まれる。含浸によって調製される組成物は、組成物を焼成する前に、好ましくは１０℃〜２５０℃の温度、より好ましくは４０℃〜２００℃の温度で乾燥させる。乾燥は、常圧または減圧状態にて、空気雰囲気下または不活性ガス雰囲気（例えば、Ar、N2、He）下で行う。乾燥時間は、好ましくは０．５〜２４時間の範囲である。乾燥後、組成物は必要に応じて所望の構造に成形できる。
組成物を焼成する方法は限定されないが、組成物の焼成は、好ましくは酸素および／または不活性ガス（例えば、窒素、ヘリウムおよびアルゴンなど）を含むガス雰囲気下で行う。このようなガスには、例えば、空気、酸素ガス、亜酸化窒素および他の酸化ガスが含まれる。ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴンおよび水蒸気などの希釈ガスと適当な比で混合した後に使用してもよい。焼成の最適温度は、ガスおよび組成物の種類に応じて変化するが、温度が高すぎるとテルル成分および銅成分の凝集を引き起こす可能性がある。したがって、焼成温度は、一般に、２５０〜８００℃、好ましくは４００〜６００℃である。焼成時間は、好ましくは０．５時間〜２４時間の範囲である。
触媒は粉体として使用することができるが、通常はそれを球形、ペレット、柱形、リング形、中空柱形または星形のような所望の構造に成形する。触媒は押出、ラム押出、錠剤成形のような公知の方法によって成形することができる。通常、焼成は所望の構造に成形した後に行うが、成形する前に行うこともできる。
次に、前記した触媒存在下での酸素とのオレフィンの反応を以下に説明する。
本発明においては、オレフィンは線状または分岐状の構造を有してもよく、通常、２〜１０個、好ましくは２〜８個の炭素原子を有し得る。オレフィンは、モノオレフィンであってもよく、またはジオレフィンであることができる。モノオレフィンには、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキサン、ヘプテン、オクテン、ノネンおよびデセンが含まれる。ジエンには、例えば、１,３-ブタジエンまたは１,２-ブタジエンなどのブタジエンが含まれる。オレフィンには、例えば、好ましくはモノオレフィンが含まれ、より好ましくはエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテンおよびオクテンが含まれ、さらにより好ましくはエチレン、プロピレンおよびブテンが含まれ、最も好ましくはプロピレンが含まれる。
本発明においては、オレフィンは線状または分岐状の構造を有してもよく、通常、２〜１０個、好ましくは２〜８個の炭素原子を有し得る。オレフィンは、モノオレフィンであってもよく、またはジオレフィンであることができる。モノオレフィンには、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキサン、ヘプテン、オクテン、ノネンおよびデセンが含まれる。ジエンには、例えば、１,３-ブタジエンまたは１,２-ブタジエンなどのブタジエンが含まれる。オレフィンには、例えば、好ましくはモノオレフィンが含まれ、より好ましくはエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテンおよびオクテンが含まれ、さらにより好ましくはエチレン、プロピレンおよびブテンが含まれ、最も好ましくはプロピレンが含まれる。
一般に、反応は気相中で行う。反応において、オレフィンおよび酸素をガスの形態で各々送給してもよい。オレフィンおよび酸素ガスは、それらの混合ガスの形態で送給することができる。オレフィンおよび酸素ガスは、希釈ガスと共に供給してもよい。希釈ガスには、例えば、窒素、メタン、エタン、プロパン、二酸化炭素、またはアルゴンおよびヘリウムなどの希ガスが含まれる。
酸素源としては、純粋な酸素を使用してもよく、あるいは空気などの、反応に不活性なガスを含有する混合ガスを使用してもよい。使用する酸素の量は、反応の型、触媒、反応温度などに応じて変化する。酸素の量は、オレフィン１モルに対して、一般には０．０１〜１００モル、好ましくは０．０３〜３０モル、およびより好ましくは０．０５〜１０モルである。
反応は一般には１００〜３５０℃、好ましくは１２０〜３３０℃、より好ましくは１７０〜３１０℃の温度で行う。
反応は、通常、低圧〜高圧の範囲の反応圧力下で行う。このような反応圧力条件下で反応を行うことによって、酸化オレフィンの生産性および選択性を改善することができる。低圧とは大気圧よりも低い圧力を意味する。高圧とは大気圧よりも高い圧力を意味する。反応圧力は、絶対圧で、一般に、０．０１〜３ＭＰａの範囲であり、好ましくは０．０２〜２ＭＰａの範囲である。
ガス毎時空間速度（１時間あたり、１リットルの充填触媒を通過する標準温度および圧力におけるガスのリットル量）は、一般に、１００Ｎｌ／（１．ｈ）〜１０００００Ｎｌ／（１．ｈ）、好ましくは５００Ｎｌ／（１．ｈ）〜５００００Ｎｌ／（１．ｈ）である。線速度は、一般に、０．０００１ｍ／ｓ〜５００ｍ／ｓの範囲、および好ましくは０．００１ｍ／ｓ〜５０ｍ／ｓの範囲である。
反応は、バッチ反応または連続フロー反応として行ってもよいが、好ましくは産業上での適用のために連続フロー反応として行われ得る。本発明の反応は、オレフィンおよび酸素を混合した後、その混合物を低圧下ないし高圧下で触媒と接触させることによって行ってもよい。
反応器の型は限定されない。反応器の型は、例えば流動床反応器、固定床反応器、移動床反応器などであり、好ましくは固定床反応器である。固定床反応器を使用する場合は、単管反応器または複数管反応器を利用することができる。1個よりも多い反応器を使用することができる。反応器の数が大きい場合は、例えばマイクロ反応器のような、複数のチャネルを有することができる小さな反応器を使用することができる。
固定床反応器を使用する場合、触媒を反応器中に充填してもよく、または反応器壁の表面に塗布してもよい。被覆型反応器はマイクロ反応器に適しており、充填床反応器は大きな反応器に適している。
一般に、反応混合物は上向流モードまたは下向流モードで充填床反応器を通過できる。
断熱型反応器または熱交換型反応器も使用できる。断熱型反応器を使用する場合、反応器からの反応混合物の一部は、熱交換して反応温度を制御した後に、反応器中で再利用できる。
２個以上の反応器を使用する場合、反応器を直列に配置できおよび／または並行に配置できる。直列に配置された２個以上の反応器を使用する場合、反応温度を制御するために、反応器の間において熱交換器を使用できる。
本発明において、酸化オレフィンは線状または分岐状の構造を有してもよく、通常２〜１０個、好ましくは２〜８個の炭素原子を含有してもよい。反応にジオレフィンを適用する場合、酸化オレフィンは１つの炭素−炭素二重結合を有し得る。１つの炭素−炭素二重結合を有する酸化オレフィンには、例えば３，４−エポキシ−１−ブテンが含まれる。酸化オレフィンには、例えば、好ましくはエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブテンオキサイド、ペンテンオキサイド、ヘキセンオキサイド、ヘプテンオキサイド、オクテンオキサイドが含まれ、より好ましくはエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドおよびブテンオキサイドが含まれ、さらにより好ましくはプロピレンオキサイドが含まれる。
得られる酸化オレフィンは、水およびアセトニトリルなどの適当な溶媒で吸収し、次いで蒸留による分離などの当該技術分野で公知の方法を行うことにより収集できる。
実施例１〜７において、各測定は以下の方法に従い行った：
反応ガスを外部標準としてのエタン（１０Ｎｍｌ／分）と混合した後に、Gaskuropack 54のカラム（２ｍ）を備えたTCD-GCに直接導入した。直列に連結し、氷浴を用いて冷却した二重のメタノールトラップを用いて、反応ガス中のすべての生成物を１時間かけて収集した。２つのメタノール溶液を相互に混合し、外部標準としてのアニソールに添加した後に、異なるカラムPoraBOND U（２５ｍ）およびPoraBOND Q（２５ｍ）を備えた２つのFID-GCを用いて分析した。
反応ガスを外部標準としてのエタン（１０Ｎｍｌ／分）と混合した後に、Gaskuropack 54のカラム（２ｍ）を備えたTCD-GCに直接導入した。直列に連結し、氷浴を用いて冷却した二重のメタノールトラップを用いて、反応ガス中のすべての生成物を１時間かけて収集した。２つのメタノール溶液を相互に混合し、外部標準としてのアニソールに添加した後に、異なるカラムPoraBOND U（２５ｍ）およびPoraBOND Q（２５ｍ）を備えた２つのFID-GCを用いて分析した。
検出された生成物はプロピレンオキサイド（PO）、アセトン（AT）、アセトアルデヒド（AD）、ＣＯｘ（CO２およびCO）、プロパナール（PaL）、およびアクロレイン（AC）であった。
プロピレン転化率（XPR）を下記式から決定し
XPR＝｛［PO＋AC＋AT＋PaL＋CO2／3］out／［C3H6］in｝×100%
およびＰＯ選択率（SPO）を、下記式を用いて決定した
SPO＝｛［PO］／［PO＋AC＋AT＋PaL＋CO2／3］｝×100%
各金属の重量は、触媒の調製に使用した金属塩の量から決定した。
XPR＝｛［PO＋AC＋AT＋PaL＋CO2／3］out／［C3H6］in｝×100%
およびＰＯ選択率（SPO）を、下記式を用いて決定した
SPO＝｛［PO］／［PO＋AC＋AT＋PaL＋CO2／3］｝×100%
各金属の重量は、触媒の調製に使用した金属塩の量から決定した。
実施例１
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、固定床反応器を使用することによって評価した。このようにして得られた触媒１ｍＬをステンレス鋼製の１／２−インチ反応管に充填し、その反応管に４５０ＮｍＬ／時のプロピレン、９００ＮｍＬ／時の空気、および９９０ＮｍＬ／時の窒素ガスを供給して、高圧下（絶対圧力で０．３ＭＰａに等しい）にて、２００℃および２５０℃の反応温度で反応を行った。
触媒において、CuおよびTeの総量は、SiO2１００重量部に対して５．１重量部であった。
結果を表１に示す。
触媒において、CuおよびTeの総量は、SiO2１００重量部に対して５．１重量部であった。
結果を表１に示す。
実施例２
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．５５ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．５５ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、TeおよびRuの総量は、SiO2１００重量部に対して１３．３重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表２に示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表２に示す。
実施例３
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、TeおよびRuの総量は、SiO2１００重量部に対して１０．４重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表３に示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表３に示す。
実施例４
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．３０ｇのCU(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．３０ｇのCU(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、TeおよびNaの総量は、SiO2１００重量部に対して７．１重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表４に示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表４に示す。
実施例５
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．５５ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．５５ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2１００重量部に対して１５．３重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表５に示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で評価した。結果を表５に示す。
実施例５で得た触媒の粉末X線回折を、４０ｋＶおよび３００ｍＡの条件で、モノ−クロメート化(mono-chromatized)CuKα放射（λ＝０．１５４ｎｍ）を用いる、リガク社製の粉末回折装置RINT−2500Vにて測定した。回折パターンを、JCPDSデータベース（Joint Committee of Powder Diffraction Standards）に示された回折パターンと比較することにより同定した。その結果、２７．８°、３５．１°および４０．０°にてピークを観察した。
実施例６
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl（和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０４ｇのTeCl4 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl（和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2１００重量部に対して１０．４重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で２５０℃にて評価した。結果を表６に示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で２５０℃にて評価した。結果を表６に示す。
実施例６で得た触媒の粉末X線回折を、実施例５と同じ条件で行った。その結果、２７．８°、３５．１°および４０．０°にてピークを観察した。
実施例７
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０３ｇのTeO2 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒は、共含浸法によって調製した。所定重量（１．９ｇ）の非晶質シリカ粉体（SiO2、日本アエロジル株式会社、３８０ｍ2／ｇ）を、０．２２ｇの(NH4)2RuCl6 (アルドリッチ)、０．３０ｇのCu(NO3)2 （和光純薬工業株式会社）、０．０３ｇのTeO2 （和光純薬工業株式会社）、０．１０ｇのNaCl （和光純薬工業株式会社）、および４０ｇのイオン交換水を含有する水溶液混合物に添加した後に、空気中で室温にて２４時間それを撹拌し、担体に金属塩を含浸させた。次いで、得られた材料を乾燥するまで１００℃にて加熱し、空気中、５００℃にて１２時間焼成して触媒を得た。
触媒において、Cu、Te、RuおよびNaの総量は、SiO2１００重量部に対して１０．４重量部であった。
触媒を、実施例１と同様の方法で２５０℃にて評価した。結果を表７示す。
触媒を、実施例１と同様の方法で２５０℃にて評価した。結果を表７示す。
Claims (20)
- 銅酸化物およびテルル成分を含む触媒の存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。
- 触媒がルテニウム酸化物を含む請求項１に記載の方法。
- 触媒がアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む請求項１または２に記載の方法。
- 触媒がハロゲン成分を含む請求項１または２に記載の方法。
- 銅酸化物およびテルル成分が多孔性担体に担持されている請求項１に記載の方法。
- 銅酸化物、テルル成分およびルテニウム酸化物が多孔性担体に担持されている請求項２に記載の方法。
- 銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物およびアルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分が多孔性担体に担持されている請求項３に記載の方法。
- 銅酸化物、テルル成分、ルテニウム酸化物、アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分およびハロゲン成分が多孔性担体に担持されている請求項４に記載の方法。
- 多孔性担体がAl2O3、SiO2、TiO2またはZrO2を含む請求項５〜８のいずれかに記載の方法。
- 多孔性担体がSiO2を含む請求項５〜８のいずれかに記載の方法。
- 触媒中のテルル／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である請求項１または２に記載の方法。
- 触媒中のルテニウム／銅モル比が０．０１／１〜５０／１である請求項２に記載の方法。
- 触媒中のアルカリ金属またはアルカリ土類金属／銅モル比が０．００１／１〜５０／１である請求項３に記載の方法。
- 銅酸化物がCuOである請求項１または２に記載の方法。
- テルル成分がテルルおよび酸素原子を含む請求項１または２に記載の方法。
- ルテニウム酸化物がRuO2である請求項２に記載の方法。
- 銅酸化物とテルル成分を含む、酸化オレフィン製造用の触媒。
- 触媒がルテニウム酸化物を含む請求項１７に記載の触媒。
- アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む、請求項１７または１８に記載の触媒。
- ハロゲン成分を含む、請求項１７または１８に記載の触媒。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201161429955P | 2011-01-05 | 2011-01-05 | |
| US61/429,955 | 2011-01-05 | ||
| PCT/US2011/065142 WO2012094118A1 (en) | 2011-01-05 | 2011-12-15 | Process for producing olefin oxide |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014511346A true JP2014511346A (ja) | 2014-05-15 |
| JP2014511346A5 JP2014511346A5 (ja) | 2014-09-11 |
| JP5864610B2 JP5864610B2 (ja) | 2016-02-17 |
Family
ID=46457661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013548410A Expired - Fee Related JP5864610B2 (ja) | 2011-01-05 | 2011-12-15 | 酸化オレフィンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8765981B2 (ja) |
| EP (1) | EP2661323A4 (ja) |
| JP (1) | JP5864610B2 (ja) |
| KR (1) | KR101844620B1 (ja) |
| CN (1) | CN103298555B (ja) |
| BR (1) | BR112013015533A2 (ja) |
| WO (1) | WO2012094118A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR112013017785B1 (pt) * | 2011-01-24 | 2018-10-09 | Sumitomo Chemical Co | processo para produzir um óxido de olefina por meio do oxigênio molecular |
| WO2014003209A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing olefin oxide |
| US20140005039A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for preparing catalyst |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63209755A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-31 | Nitto Chem Ind Co Ltd | アンチモン・テルル含有金属酸化物触媒の製法 |
| JP2001232194A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシド製造用触媒、及び該触媒の製法 |
| JP2002371074A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-12-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | オキシラン化合物の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6042807A (en) * | 1997-04-02 | 2000-03-28 | Arco Chemical Technology, L.P. | Tellurium-containing molecular sieves |
| DE10024096A1 (de) | 2000-05-18 | 2001-11-22 | Bayer Ag | Verfahren zur Epoxidierung von Kohlenwasserstoffen |
| US6500969B1 (en) * | 2000-12-08 | 2002-12-31 | Hydrocarbon Technologies, Inc. | Integrated hydrogen peroxide production and organic chemical oxidation |
| DE10105527A1 (de) | 2001-02-07 | 2002-08-08 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung eines Epoxids |
| US6765101B1 (en) * | 2001-05-01 | 2004-07-20 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Synthesis of lower alkylene oxides and lower alkylene glycols from lower alkanes and/or lower alkenes |
| US20110152546A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing olefin oxide |
-
2011
- 2011-12-15 WO PCT/US2011/065142 patent/WO2012094118A1/en active Application Filing
- 2011-12-15 JP JP2013548410A patent/JP5864610B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-15 US US13/978,266 patent/US8765981B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-15 CN CN201180064298.7A patent/CN103298555B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-15 KR KR1020137015469A patent/KR101844620B1/ko active IP Right Grant
- 2011-12-15 BR BR112013015533A patent/BR112013015533A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2011-12-15 EP EP11854968.2A patent/EP2661323A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63209755A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-31 | Nitto Chem Ind Co Ltd | アンチモン・テルル含有金属酸化物触媒の製法 |
| JP2001232194A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | エポキシド製造用触媒、及び該触媒の製法 |
| JP2002371074A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-12-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | オキシラン化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2661323A1 (en) | 2013-11-13 |
| WO2012094118A1 (en) | 2012-07-12 |
| EP2661323A4 (en) | 2017-02-08 |
| US8765981B2 (en) | 2014-07-01 |
| KR101844620B1 (ko) | 2018-04-02 |
| BR112013015533A2 (pt) | 2016-09-20 |
| JP5864610B2 (ja) | 2016-02-17 |
| CN103298555A (zh) | 2013-09-11 |
| KR20130143696A (ko) | 2013-12-31 |
| US20130281722A1 (en) | 2013-10-24 |
| CN103298555B (zh) | 2015-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013505985A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| US20140005039A1 (en) | Process for preparing catalyst | |
| JP5864610B2 (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505996A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| WO2022161924A1 (en) | Epoxidation catalyst | |
| WO2014003209A1 (en) | Process for producing olefin oxide | |
| JP2013505987A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505986A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| WO2012094122A1 (en) | Process for producing olefin oxide | |
| JP2013505999A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| WO2012094121A1 (en) | Process for producing olefin oxide | |
| JP2013505993A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| WO2012094119A1 (en) | Process for producing olefin oxide | |
| WO2012094120A1 (en) | Process for producing olefin oxide | |
| WO2013100173A1 (en) | Process for producing olefin oxide using a catalyst comprising a ruthenium oxide and a tellurium component | |
| JP2013505990A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505995A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505992A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2014101295A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013506001A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505998A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505988A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013506000A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505991A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 | |
| JP2013505997A (ja) | 酸化オレフィンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140724 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140724 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150407 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150608 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20150608 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151215 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151224 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5864610 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |