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  1. 化学機械研磨パッドコンディショナーであって、前記化学機械研磨パッドコンディショナーは、
    基板であって、該基板と一体の複数の突出部を有する前面を含む基板、を含み、
    前記複数の突出部は、前記前面にほぼ垂直な正面方向に延在し、かつ該複数の突出部の各々が遠位端を含み、
    前記複数の突出部は:
    位置合せ面の変動の範囲内である前記遠位端を有する前記複数の突出部のサブセットであって、前記位置合せ面が、前記前面にほぼ平行であり、前記複数の突出部の前記サブセットの前記突出部が、互いに対して一定かつ所定の関係で前記位置合せ面に配置される複数の突出部のサブセットと;
    前記複数の突出部の前記サブセットの少なくとも前記遠位端を被覆する多結晶ダイヤモンドのコーティングと
    を含み、
    前記基板が多孔質材料を含み、それによりネアネットシェイプから加工又は形成された場合、前記多孔質材料は前記基板に粒子を結合することなく粗さ特性及び特徴部高さの分布を提供し、
    前記コーティングは前記粗さ特性に適合している化学機械研磨パッドコンディショナー。
  2. 前記基板が、20μmを超える細孔寸法を含む、請求項1に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  3. 前記遠位端のそれぞれが、前記複数の突出部の前記サブセットのそれぞれの突出部のメサ上に配置され、前記メサが、前記正面方向と反対の方向に、前記それぞれの突出部の前記遠位端から所定の距離以内であるものとして画定される、請求項1または2に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  4. 前記遠位端からの前記所定の距離が、0.3μm〜20μmである、請求項3に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  5. 前記突出部の前記遠位端上の多結晶ダイヤモンドの前記コーティングが、前記メサにわたる二乗平均平方根粗さを有し、前記遠位端からの前記所定の距離が、前記二乗平均平方根粗さの3〜5倍である、請求項3または4に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  6. 前記メサにわたる前記多結晶ダイヤモンドの前記二乗平均平方根粗さが、0.5μm〜10μmである、請求項5に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  7. 前記メサが、前記それぞれの突出部の突出高さの一定の割合として画定される、請求項3〜6のいずれか一項に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  8. 前記一定の割合が、5%〜50%の範囲内である、請求項7に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  9. 前記変動が、5μm〜50μmの範囲である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  10. 前記変動が、10μm〜25μmの範囲である、請求項9に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  11. 前記基板が、炭化ケイ素を含む、請求項に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  12. 前記基板は少なくとも10%の気孔率を有する、請求項9に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  13. 前記メサは角を丸められた角隅部を含む、請求項3に記載の化学機械研磨パッドコンディショナー。
  14. パッドコンディショナーであって:前記パッドコンディショナーは、
    基板であって、該基板と一体の複数の突出部を有する前面を含む基板、を含み、
    前記複数の突出部のそれぞれが、前記前面に垂直なそれぞれの位置合せ軸の周りで正面方向に延在し、前記複数の突出部のそれぞれが、前記それぞれの突出部のメサ上に配置される遠位端を含み、前記メサが、前記正面方向と反対の方向に前記それぞれの突出部の前記遠位端から所定の距離以内であるものとして画定され、前記それぞれの位置合せ軸のそれぞれが、前記基板の前記前面における所定の位置を画定し、前記複数の突出部のそれぞれが、前記メサの基部において、重心を画定する断面を画定し、
    前記複数の突出部の少なくとも一部について、前記断面のそれぞれの前記重心が、前記それぞれの位置合せ軸からオフセットされており、
    前記基板が多孔質材料を含み、それによりネアネットシェイプから加工又は形成された場合、前記多孔質材料は前記基板に粒子を結合することなく粗さ特性及び特徴部高さの分布を提供するパッドコンディショナー。
  15. 前記メサは角を丸められた角隅部を含む、請求項14に記載のパッドコンディショナー。
  16. 前記断面のそれぞれが、それぞれの主要寸法を画定し、前記複数の突出部の一部について、前記断面の前記重心が、前記主要寸法の少なくとも5%の距離だけ、前記それぞれの位置合せ軸からオフセットされている、請求項14に記載のパッドコンディショナー。
  17. 前記メサが、前記それぞれの突出部の突出高さの一定の割合として画定され、前記一定の割合が、前記突出高さの5%〜10%の範囲である、請求項14に記載のパッドコンディショナー。
  18. 第1のパターンを画定する第1のサブセットの突出部と;
    第2のパターンを画定する第2のサブセットの突出部と
    をさらに含み、
    前記第2のサブセットの突出部からの前記突出部の少なくとも一部が、前記第1のサブセットの突出部からの前記突出部の少なくとも一部の中で分散される、請求項14に記載のパッドコンディショナー。
  19. 請求項14乃至18のいずれか一項に記載のパッドコンディショナーは、前記複数の突出部の前記遠位端を少なくとも被覆する多結晶ダイヤモンドのコーティングを含み、前記コーティングは前記粗さ特性に適合しているパッドコンディショナー。
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