JP2014236035A - Manufacturing method of circuit board - Google Patents

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岸本 邦雄
Kunio Kishimoto
邦雄 岸本
光男 原
Mitsuo Hara
光男 原
東谷 秀樹
Hideki Higashiya
秀樹 東谷
幸宏 石丸
Yukihiro Ishimaru
幸宏 石丸
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a circuit board with high interlayer and pattern coincidence and superior in via connection reliability.SOLUTION: A laminated prepreg 3 is processed by using a laser beam 21 which passes through adjacent to the center of an fθ lens 23 to form a through hole 4a with little distortion in hole diameter. By using the hole with little distortion as a mark for positioning, a circuit board with high lamination coincidence and pattern coincidence can be obtained.

Description

本発明は、複数層の回路パターンを接続してなる回路基板を製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a circuit board formed by connecting a plurality of layers of circuit patterns.

近年、電子機器の小型化、高密度化に伴い、産業用にとどまらず民生用の分野においても高機能な回路基板が強く要望されるようになってきた。特に接続部品の微細化、高機能化によって、より微細な回路パターン形成が重要となり接続の要であるビア位置精度および形状の向上安定化は、それらの接続信頼性を確保するため重要となっている。   In recent years, with the downsizing and increasing the density of electronic devices, there has been a strong demand for highly functional circuit boards not only for industrial use but also for consumer use. In particular, miniaturization of connected parts and higher functionality make it more important to form finer circuit patterns, and the improvement of the via position accuracy and shape, which are the key points of connection, are important to ensure their connection reliability. Yes.

以下に従来の回路基板製造方法について説明する。   A conventional circuit board manufacturing method will be described below.

図7は従来の両面回路基板の製造方法の工程断面図である。   FIG. 7 is a process sectional view of a conventional method for manufacturing a double-sided circuit board.

まず、図7(a)に示す51は、ガラスクロスに熱硬化性のエポキシ樹脂を含浸させた基板材料であるプリプレグであり、縦、横、厚みのサイズが500mm×500mm×0.1mmである。   First, reference numeral 51 shown in FIG. 7A denotes a prepreg which is a substrate material in which a glass cloth is impregnated with a thermosetting epoxy resin, and the size in length, width and thickness is 500 mm × 500 mm × 0.1 mm. .

また、52は導電性ペースト充填時のマスクフィルムとなる厚さ約19μmのプラスチックフィルムであり、片面に熱硬化性樹脂層を有し、その反対面にシリコンなどを塗布した離型層を有した構造のもので、その材質は例えばポリエチレンテレフタレート(以下PETシートと称する)が用いられる。   Reference numeral 52 denotes a plastic film having a thickness of about 19 μm which becomes a mask film when filled with a conductive paste, and has a thermosetting resin layer on one side and a release layer coated with silicon or the like on the opposite side. For example, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET sheet) is used.

図7(b)に示す工程は、PETシート52でプリプレグ51を挟持しPETシート52を前記プリプレグ51の両面に張り付けるラミネート工程である。   The process shown in FIG. 7B is a laminating process in which the prepreg 51 is sandwiched between the PET sheets 52 and the PET sheets 52 are attached to both surfaces of the prepreg 51.

PETシート52の離型層側にプリプレグ51を任意の一辺側から、少なくとも上下2本を1組とするラミネートロール(図示せず)によって加熱加圧し、順次プリプレグの反対の一辺側に向けてPETシート52をプリプレグ51の両面に張り付け、ラミネート済みプリプレグ53が形成される。   On the release layer side of the PET sheet 52, the prepreg 51 is heated and pressurized from any one side by a laminating roll (not shown) having at least two upper and lower sets as one set, and sequentially directed toward the opposite side of the prepreg. A sheet 52 is pasted on both sides of the prepreg 51 to form a laminated prepreg 53.

次に、図7(c)に示すように、ラミネート済みプリプレグ53の所定の箇所にレーザー加工装置にて貫通穴54を形成する。このとき製品となる導通用の貫通穴と露光フィルムとの位置合わせや多層化するための位置決め用の貫通穴をも同時に開けている。   Next, as shown in FIG.7 (c), the through-hole 54 is formed in the predetermined location of the laminated prepreg 53 with a laser processing apparatus. At this time, positioning through-holes for alignment and multilayering of the conductive through-holes and the exposure film, which are products, are also opened at the same time.

また加工テーブル(図示せず)とfθレンズ73とガルバノミラー72の組み合わせでレーザー光71をプリプレグの面積全体に照射し加工している。   In addition, the entire area of the prepreg is processed by a combination of a processing table (not shown), an fθ lens 73, and a galvanometer mirror 72.

次に図7(d)に示すように、印刷機(図示せず)を用いて、貫通穴54を有するラミネート済みプリプレグ53を設置し、スキージ55で印刷マスクの役割を果たしているPETシート52の表側から貫通穴54に導電性ペースト56を充填することにより導通穴57を形成する。   Next, as shown in FIG. 7 (d), a laminated prepreg 53 having a through hole 54 is installed using a printing machine (not shown), and a squeegee 55 serves as a print mask for the PET sheet 52. A conductive hole 57 is formed by filling the through hole 54 with the conductive paste 56 from the front side.

次に図7(e)に示すように、ラミネート済みプリプレグ53の両面からPETシート52を剥離することで、導電性ペースト充填済みプリプレグ58が形成される。   Next, as shown in FIG. 7E, the prepreg 58 filled with the conductive paste is formed by peeling the PET sheet 52 from both sides of the laminated prepreg 53.

このPETシート52を剥離する工程により、PETシート52に形成された穴に充填されていた導電性ペーストが、PETシート52の厚みに相当する分だけ凸状の鋲の形態で残り、これにより、後述する加熱加圧する工程において、圧縮効果をもたらし、導通穴の電気的接続の安定に寄与することになる。   By the process of peeling off the PET sheet 52, the conductive paste filled in the holes formed in the PET sheet 52 remains in the form of convex ridges corresponding to the thickness of the PET sheet 52. In the heating and pressurizing step described later, a compression effect is brought about, which contributes to the stability of electrical connection of the conduction holes.

次に図7(f)に示すように、導電性ペースト充填済みプリプレグ58の両面に銅はく等の金属箔59を重ね、熱プレスで加熱加圧することにより、金属箔59が導電性ペースト充填済みプリプレグ58と接着し、図7(g)に示す両面の銅張積層板60が形成される。   Next, as shown in FIG. 7 (f), a metal foil 59 such as copper foil is stacked on both sides of the prepreg 58 filled with the conductive paste, and the metal foil 59 is filled with the conductive paste by heating and pressing with a hot press. Bonding with the finished prepreg 58 forms a double-sided copper-clad laminate 60 shown in FIG.

両面の金属箔59は、所定位置に設けた導通穴57内の導電性ペーストにより電気的に接続されている。   The metal foils 59 on both sides are electrically connected by a conductive paste in a conduction hole 57 provided at a predetermined position.

そして、図7(h)に示すように両面の金属箔59を選択的にエッチングして、回路パターン61が形成されて両面の回路基板62が得られる。   Then, as shown in FIG. 7H, the double-sided metal foil 59 is selectively etched to form a circuit pattern 61, whereby a double-sided circuit board 62 is obtained.

次に、図8を用いて従来の多層回路基板の製造方法を説明する。   Next, a conventional method for manufacturing a multilayer circuit board will be described with reference to FIG.

図8は、従来の多層の回路基板の製造方法を示す工程断面図であり、4層基板を例として示したものである。   FIG. 8 is a process cross-sectional view showing a conventional method for manufacturing a multilayer circuit board, and shows a four-layer board as an example.

まず図8(a)に示すように、前述の図7(a)〜(h)によって製造された両面の回路基板62と図7(a)〜(e)で製造された貫通穴54に導電性ペースト56を充填し、導通穴57を形成した上積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ58aと下積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ58bが準備される。   First, as shown in FIG. 8 (a), the two-sided circuit board 62 manufactured according to FIGS. 7 (a) to 7 (h) and the through hole 54 manufactured in FIGS. 7 (a) to 7 (e) are electrically connected. An electrically conductive paste filled prepreg 58a for filling an upper layer and a conductive paste filled prepreg 58b for a lower layer are prepared.

次に、図8(b)に示す工程は、積層ステージ(図示せず)上に金属箔59を乗せ、その上に下積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ58bを画像認識などで基準穴位置を認識位置決めした後に積層し、さらにその上に両面の回路基板62を同様に認識位置決めした後に積層し、さらにその上に上積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ58aを同様に認識位置決めした後に積層し、さらにその上に金属箔59を積層するアライメント積層工程である。   Next, in the step shown in FIG. 8B, a metal foil 59 is placed on a lamination stage (not shown), and a conductive paste filled prepreg 58b for lower lamination is placed on the reference hole position by image recognition or the like. Are stacked after recognition positioning is performed, and the circuit boards 62 on both sides are similarly recognized and positioned, and then laminated, and the conductive paste filled prepreg 58a for upper stacking is similarly recognized and positioned on the stack. This is an alignment laminating step in which the metal foil 59 is further laminated thereon.

次に図8(c)に示すように、金属箔59で挟持された導電性ペースト充填済みプリプレグ58a、58b、両面の回路基板62を熱プレスで加熱加圧することで4層銅張積層基板63を得る。   Next, as shown in FIG. 8 (c), the prepregs 58a and 58b filled with the conductive paste sandwiched between the metal foils 59 and the circuit boards 62 on both sides are heated and pressed by hot press to form a four-layer copper-clad laminate 63. Get.

上記の工程により、最外層の金属箔59は導通穴内の導電性ペーストを介して内層用の両面の回路基板62の接続用の円形の回路パターン61によって電気的に接続される。   Through the above-described steps, the outermost metal foil 59 is electrically connected by the circular circuit pattern 61 for connecting the inner-side circuit boards 62 via the conductive paste in the conduction hole.

次に図8(d)に示すように、両面の金属箔59を選択的にエッチングして回路パターン64を形成することで4層回路基板65が得られる。   Next, as shown in FIG. 8D, a four-layer circuit board 65 is obtained by selectively etching the metal foils 59 on both sides to form a circuit pattern 64.

ここでは4層の多層基板について説明したが、4層以上の多層基板、例えば6層基板については、製造方法で得られた4層回路基板を両面回路基板の代わりに用いて、多層基板の製造方法{図8(a)〜(d)}を繰り返せばよい。   Here, a four-layer multilayer substrate has been described. However, for a multilayer substrate having four or more layers, for example, a six-layer substrate, the four-layer circuit substrate obtained by the manufacturing method is used in place of the double-sided circuit substrate. The method {FIGS. 8A to 8D} may be repeated.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献資料としては、例えば、特許文献1、2が知られている。   As prior art document materials related to the invention of this application, for example, Patent Documents 1 and 2 are known.

特開平9−246718号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-246718 特開2001−256568号公報JP 2001-256568 A

上記の回路基板の製造方法の場合において、図7(c)の工程でラミネート済みプリプレグ53の任意の位置に貫通穴54をレーザーで加工する場合、XYの移動手段を具備した加工テーブルに縦横500mm×500mmのサイズのラミネート済みプリプレグ53を固定し、レーザー発振機から照射されたレーザー光を、複数のミラーやガルバノミラー、fθレンズを経由させ任意の加工点まで運び穴加工を行っている。   In the case of the above circuit board manufacturing method, when the through-hole 54 is processed with a laser at an arbitrary position of the laminated prepreg 53 in the step of FIG. 7C, the vertical and horizontal lengths of 500 mm are provided on a processing table equipped with XY moving means. A laminated prepreg 53 with a size of × 500 mm is fixed, and laser light irradiated from a laser oscillator is carried to a desired processing point via a plurality of mirrors, galvanometer mirrors, and fθ lenses to perform hole processing.

図7(c)の工程において、ガルバノミラーとfθレンズを用いることで加工テーブルを固定した状態で一定範囲(例えば50mm×50mm)にレーザー光をスキャニングして加工することが出来るので、加工テーブルを一定ピッチでXYに移動させることで500mm×500mmのサイズのラミネート済みプリプレグ53の全面を加工することが可能となっている。   In the process of FIG. 7C, the processing table can be processed by scanning the laser beam within a certain range (for example, 50 mm × 50 mm) with the processing table fixed by using a galvanometer mirror and an fθ lens. The entire surface of the laminated prepreg 53 having a size of 500 mm × 500 mm can be processed by moving to XY at a constant pitch.

従って、貫通穴54の加工位置精度は、ガルバノミラーのスキャン精度とfθレンズの収差による歪みと加工テーブルの位置精度の組み合わせで決まってくる。   Therefore, the processing position accuracy of the through hole 54 is determined by a combination of the scanning accuracy of the galvano mirror, the distortion due to the aberration of the fθ lens, and the position accuracy of the processing table.

次に、図9は本発明の回路基板の穴加工する際の概念図である。   Next, FIG. 9 is a conceptual diagram when drilling holes in the circuit board of the present invention.

図9(a)に示すように、特にレーザー光21がfθレンズ23の中心部付近を通過した場合は真円の貫通穴が開き易いが、図9(b)に示すように、fθレンズ73の外周部の近くを通過して加工された貫通穴は歪む傾向をもっている。   As shown in FIG. 9A, a perfect circular through hole is easily opened especially when the laser beam 21 passes near the center of the fθ lens 23. However, as shown in FIG. The through-holes processed by passing near the outer periphery of the steel have a tendency to be distorted.

例えば、スキャニング範囲の限界付近で、fθレンズ73の外周部に近い位置を通過させたレーザー光71で位置決めの貫通穴を開ける場合、位置がずれていたり穴形状が歪んだりする可能性が高くなる恐れがある。   For example, when the positioning through hole is opened with the laser beam 71 that has passed through a position close to the outer periphery of the fθ lens 73 near the limit of the scanning range, there is a high possibility that the position is shifted or the hole shape is distorted. There is a fear.

従来の対策として、スキャニング範囲を小さくする方法が提案されている。前記のレーザ加工装置では、レーザ光がfθレンズの中心部付近、すなわちスキャニングの範囲の中心部付近ほど精度が高い穴加工ができる傾向がある。そのため、スキャニングの範囲の中心部付近のみを穴加工に使用して、貫通穴の精度を高めるという方法である。しかしながら、少数の穴しか加工できないため、生産性において課題が残ることになる。   As a conventional measure, a method for reducing the scanning range has been proposed. In the above laser processing apparatus, there is a tendency that the laser beam can be drilled with higher accuracy near the center of the fθ lens, that is, near the center of the scanning range. For this reason, only the vicinity of the center of the scanning range is used for drilling, thereby improving the accuracy of the through hole. However, since only a small number of holes can be processed, problems remain in productivity.

またスキャニングの範囲を広げて対策すると、ガルバノミラーによるスキャニング範囲が広くなってしまい、結果ガルバノミラー72の動作距離が大きくなり、慣性でガルバノミラーの停止位置のばらつきが発生しやすくなり、一般的に位置精度が低下する恐れが高くなる。   In addition, if the scanning range is widened, the scanning range by the galvanometer mirror will be widened. As a result, the operating distance of the galvanometer mirror 72 will increase, and the galvanometer mirror stop position will vary easily due to inertia. There is a high possibility that the positional accuracy will be lowered.

またfθレンズの枚数等を増やすことで対応しようとすると、大きなコストアップにつながる事になり、効率的とは言えない。   Further, if it is attempted to cope with the problem by increasing the number of fθ lenses, etc., this leads to a large cost increase, which is not efficient.

したがって、パターン工程のパターンフィルムや上下層での積層の位置決めを行う際、光学系で貫通穴の重心を見てパターンフィルムや上下プリプレグと位置決めを行うため、位置決め用の貫通穴に位置ずれや歪みがあると、それだけ位置決め精度が悪化し、合致ずれが発生して、ショートなどの電気的不具合が発生する可能性が高くなる。   Therefore, when positioning the pattern film in the pattern process and the upper and lower layers, the optical system looks at the center of gravity of the through hole and positions it with the pattern film and the upper and lower prepregs. If there is, there is a high possibility that the positioning accuracy is deteriorated, the mating deviation occurs, and an electrical failure such as a short circuit occurs.

従来の回路基板の製造方法においては、このような位置ずれがあることを前提に考慮し、製造していたため、合致性の低下により歩留まりを落とすという課題を有していた。   Conventional circuit board manufacturing methods have been manufactured on the premise that there is such a positional shift, and thus there has been a problem that the yield is lowered due to a decrease in conformity.

上記目的を達成するために、本発明の回路基板の製造方法は、貫通穴を形成する際、fθレンズの中心付近を通過する座標に位置決め用の貫通穴を開けることで、穴形状の歪みが小さく、穴位置精度の高い穴を形成することで、位置決め用の貫通穴の位置精度を高め、パターンフィルムの位置合わせや、上下層のプリプレグとの位置合わせ精度を向上させるものである。   In order to achieve the above object, in the method of manufacturing a circuit board according to the present invention, when forming a through hole, a hole for positioning is formed by forming a through hole for positioning at a coordinate passing near the center of the fθ lens. By forming a small hole with high hole position accuracy, the position accuracy of the positioning through-hole is increased, and the position accuracy of the pattern film and the position of the upper and lower prepregs are improved.

本発明は、プリプレグの表裏に離型性を有したプラスチックシートを張り付ける工程と、プラスチックシートを張り付けたプリプレグの任意の位置にレーザー光を照射することにより、導通用および位置決め用の貫通穴を形成し、前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、前記プラスチックシートを前記プリプレグより剥離する工程と、前記プラスチックシートを剥離した導電性ペースト充填済みプリプレグを金属箔で挟持し、熱プレスにて加熱加圧する工程と、金属箔をエッチングしてパターン形成する工程を備え、前記位置決め用の貫通穴を形成する加工データがfθレンズの中央部付近をレーザー光が通過するデータを用いて加工することを特徴とする回路基板の製造方法であり、容易に設計データの変更だけで歪みの少ない位置決め用の貫通穴が得られ、位置合わせ精度の高い回路基板を得る作用を有するものである。   The present invention includes a step of attaching a plastic sheet having releasability to the front and back of a prepreg, and irradiating a laser beam to an arbitrary position of the prepreg attached with the plastic sheet, thereby forming through holes for conduction and positioning. Forming and filling the through-hole with conductive paste, peeling the plastic sheet from the prepreg, sandwiching the plastic sheet-filled conductive paste filled prepreg with metal foil, And forming a pattern by etching the metal foil, and processing data for forming the positioning through hole is processed by using data that the laser beam passes near the center of the fθ lens. The circuit board manufacturing method is characterized by the fact that it is easy to change the design data and reduce distortion. Obtained through hole for deciding, and has a function of obtaining a high positioning accuracy circuit board.

また、前記位置決め用の貫通穴を形成する手段として、fθレンズの中央部付近を通過する箇所に加工テーブルを移動させて加工することを特徴とする回路基板の製造方法であり、任意の位置に加工ステージを移動させることで、歪みの少ない位置決め用の貫通穴が得られ、位置合わせ精度の高い回路基板を得る作用を有するものである。   Further, as a means for forming the positioning through-hole, the circuit board manufacturing method is characterized in that the processing table is moved to a location that passes near the central portion of the fθ lens and processed. By moving the processing stage, positioning through-holes with less distortion can be obtained, and a circuit board having a high alignment accuracy can be obtained.

さらに、前記位置決め用の貫通穴を複数組み合わせて群で形成されており、前記位置決め用の貫通穴の群全てを包含するスキャニング範囲内に加工テーブルを移動させて加工することを特徴とする回路基板の製造方法であり、同一スキャニング範囲内に位置決め用の貫通穴の群を集めることで、加工テーブルのNC位置精度ばらつきがない高精度の位置決め用の貫通穴が得られ、位置精度の高い回路基板を得る作用を有するものである。   Further, the circuit board is formed by combining a plurality of positioning through holes, and is processed by moving a processing table within a scanning range including all of the positioning through holes. This is a manufacturing method, and by collecting a group of positioning through-holes within the same scanning range, high-precision positioning through-holes with no NC position accuracy variation of the machining table can be obtained, and a circuit board with high positional accuracy It has the effect | action which obtains.

次に、前記プラスチックシートを剥離した導電性ペースト充填済みプリプレグを複数枚数準備する工程と、金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグ、もしくは金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグと内層用基板、もしくは前記導電性ペースト充填済みプリプレグを介して両面または多層の回路基板を積層し加熱加圧する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法であり、歪みの少ない高精度の位置決め用の貫通穴で層間の位置決めを行うことで、層間合致性の高い回路基板を得ることが出来る作用を有するものである。   Next, a step of preparing a plurality of conductive paste-filled prepregs from which the plastic sheet has been peeled off, a metal foil and the conductive paste-filled prepreg, or a metal foil, the conductive paste-filled prepreg, and an inner layer substrate, Or a method of manufacturing a circuit board, comprising a step of laminating double-sided or multilayer circuit boards through the prepreg filled with the conductive paste and heating and pressurizing, and a through hole for positioning with high accuracy with less distortion By performing positioning between layers, the circuit board having a high interlayer matching property can be obtained.

また、金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグ、もしくは金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグと内層用基板、もしくは前記導電性ペースト充填済みプリプレグを介して両面または多層の回路基板を積層し加熱加圧する工程の後、前記金属箔に回路パターンを形成する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法であり、歪みの少ない位置決め用の貫通穴を有した導電性ペースト充填済みプリプレグとパターンフィルムが高精度に合わせることが出来る作用を有するものである。   In addition, the metal foil and the conductive paste filled prepreg, or the metal foil, the conductive paste filled prepreg and the inner layer substrate, or the double-sided or multilayer circuit board are laminated and heated through the conductive paste filled prepreg. A method of manufacturing a circuit board comprising a step of forming a circuit pattern on the metal foil after the pressurizing step, and a prepreg and pattern filled with a conductive paste having a through-hole for positioning with little distortion The film has an action that can be adjusted with high accuracy.

また、本発明の回路基板の製造方法を用いて得られた内層用基板、両面の回路基板は、導電性ペースト充填済みプリプレグを金属箔で挟持し、熱プレスにて加熱加圧し、前記金属箔をエッチングしてパターン形成され、前記導電性ペーストにより表裏の回路パターンあるいは層間が電気的に接続されていることを特徴とする回路基板の製造方法であり、高精度に積層されることにより、回路基板本体の導通信頼性、絶縁信頼性を向上させる作用を有するものである。   Further, the inner layer substrate obtained by using the circuit board manufacturing method of the present invention and the circuit board on both sides are formed by sandwiching a prepreg filled with a conductive paste with a metal foil, and heat-pressing the metal foil with a hot press. Is a circuit board manufacturing method characterized in that a pattern is formed by etching, and circuit patterns or layers between the front and back surfaces are electrically connected by the conductive paste. It has the effect | action which improves the conduction | electrical_connection reliability of a board | substrate body, and insulation reliability.

本発明は、上記構成を有する回路基板の製造方法により、歪みが小さく位置精度の高い位置決め用の貫通穴を有した導電性ペースト充填済みプリプレグを得ることができることで、内層用基板、両面の回路基板との積層における層間の位置決めや、前記導電性ペースト充填済みプリプレグで形成されたことで位置精度の高い銅張積層板とパターンフィルムとの位置合わせが高精度に行えることで合致性を高めることができ、電気的接続が安定し、層間の接続信頼性が高い回路基板を高い生産性で提供することができる。   According to the present invention, an electrically conductive paste-filled prepreg having positioning through-holes with low distortion and high positional accuracy can be obtained by the method for manufacturing a circuit board having the above-described configuration. Interlayer positioning in the lamination with the substrate and the alignment with the copper clad laminate with high positional accuracy and the pattern film can be performed with high accuracy by forming with the prepreg filled with conductive paste. Therefore, a circuit board with stable electrical connection and high connection reliability between layers can be provided with high productivity.

本発明の実施の形態1における回路基板の製造方法を示す工程断面図Sectional drawing which shows the manufacturing method of the circuit board in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態1における多層回路基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the multilayer circuit board in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態1におけるXYの移動手段を備えた加工テーブル上にプリプレグを設置した概略図Schematic in which a prepreg is installed on a processing table having XY moving means in Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態2におけるXYの移動手段を備えた加工テーブル上にプリプレグを設置した概略図Schematic of installing a prepreg on a processing table having XY moving means in Embodiment 2 of the present invention. 従来及び本発明で使用される回路基板の製造方法で使用する位置決め用穴の加工パターンの一例を示す概略図Schematic showing an example of a processing pattern of a positioning hole used in a conventional method of manufacturing a circuit board used in the present invention 本発明の実施の形態3における回路基板の製造方法示す概略図Schematic which shows the manufacturing method of the circuit board in Embodiment 3 of this invention. 従来の回路基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional view showing a conventional method of manufacturing a circuit board 従来の多層回路基板の製造方法を示す工程断面図Cross-sectional process diagram showing a conventional multilayer circuit board manufacturing method 本発明の実施の形態における回路基板の製造方法を示す概略図Schematic which shows the manufacturing method of the circuit board in embodiment of this invention

(実施の形態1)
以下に本発明の回路基板の製造方法について説明する。
(Embodiment 1)
The circuit board manufacturing method of the present invention will be described below.

本実施の形態においては、両面の回路基板について説明する。   In the present embodiment, a double-sided circuit board will be described.

図1は本発明の実施の形態における回路基板の製造方法を示す工程断面図である。   FIG. 1 is a process sectional view showing a circuit board manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

まず、図1(a)におけるプリプレグ1は、ガラスクロスに熱硬化性のエポキシ樹脂を含浸させた基板材料であり、縦、横、厚みのサイズが500mm×500mm×0.1mmである。   First, the prepreg 1 in FIG. 1A is a substrate material in which a glass cloth is impregnated with a thermosetting epoxy resin, and the size of the length, width, and thickness is 500 mm × 500 mm × 0.1 mm.

また、プラスチックシート(以下PETシートと称す)2は、マスクフィルムとなる厚さ約19μmのプラスチックフィルムである。   A plastic sheet (hereinafter referred to as a PET sheet) 2 is a plastic film having a thickness of about 19 μm serving as a mask film.

前記PETシート2は、プラスチックフィルムの表層に融点を有しない熱硬化性樹脂からなる厚さ約1.2μmの穴径制御層(図示せず)、その反対面であるプリプレグ1と接する面に、例えばシリコンなどを塗布した離型層を有した構造のものである。   The PET sheet 2 has a hole diameter control layer (not shown) having a thickness of about 1.2 μm made of a thermosetting resin having no melting point on the surface layer of the plastic film, and a surface in contact with the prepreg 1 on the opposite side. For example, it has a structure having a release layer coated with silicon or the like.

なお、PETシート2の基材としては、例えばポリエチレンテレフタレートが用いられるが、PENやPPSなどを用いても問題ない。   In addition, as a base material of PET sheet 2, for example, polyethylene terephthalate is used, but there is no problem even if PEN or PPS is used.

次に図1(b)に示すように、PETシート2でプリプレグ1を挟持し、ラミネートなどの方法で加熱加圧することによりPETシート2をプリプレグ1の両面に張り付けることでラミネート済みプリプレグ3を形成する。   Next, as shown in FIG. 1 (b), the prepreg 1 is sandwiched between the prepregs 1 by sandwiching the prepreg 1 with the PET sheet 2 and applying heat and pressure by a method such as laminating. Form.

次に図1(c)に示すように、ラミネート済みプリプレグ3の所定の箇所にレーザー加工方法を用いて、貫通穴4を形成する。21はレーザー光、22はレーザー光21をfθレンズ上にスキャニングするためのガルバノミラー、23は基板上にスキャニングされたレーザー光をラミネート済みプリプレグ3上に集光するためのfθレンズである。   Next, as shown in FIG.1 (c), the through-hole 4 is formed in the predetermined location of the laminated prepreg 3 using the laser processing method. 21 is a laser beam, 22 is a galvanometer mirror for scanning the laser beam 21 on the fθ lens, and 23 is an fθ lens for condensing the laser beam scanned on the substrate onto the laminated prepreg 3.

図1(c)におけるレーザー加工工程において、パターンフィルムの位置決めや積層時の位置決めに用いる貫通穴を加工する場合を図3に示す。以下位置決め用の貫通穴4aと示す。   In the laser processing step in FIG. 1 (c), FIG. 3 shows a case where a through hole used for positioning of a pattern film or positioning at the time of lamination is processed. Hereinafter, it is shown as a positioning through hole 4a.

図3は、XYの移動手段を備えた加工テーブル24上にラミネート済みプリプレグ3を設置したものを図示したものである。説明の便宜上ガルバノミラー22とfθレンズ23の加工エリアを線で区切っている図面にしている。   FIG. 3 shows a case where a laminated prepreg 3 is installed on a processing table 24 having XY moving means. For convenience of explanation, the processing areas of the galvano mirror 22 and the fθ lens 23 are divided by lines.

加工テーブル24が、線で区切ったピッチでステップ送りされ、ラミネート済みプリプレグ3全体を加工する。加工エリアの区切り近傍は、当然レーザー光21がfθレンズ23の外周部に近い箇所に当たるため、貫通穴の歪みが大きくなりやすい。よって、加工エリアの中央付近に位置決め用の貫通穴4aが来るように設計することで、レーザー光21をfθレンズ23の中央付近を通過させて、ラミネート済みプリプレグ3に照射することで、歪みが少なく真円度が高くかつ位置精度の高い穴加工が得られるように設計上で配慮を行う。   The processing table 24 is stepped at a pitch separated by a line, and the entire laminated prepreg 3 is processed. Since the laser light 21 naturally hits a position near the outer periphery of the fθ lens 23 in the vicinity of the processing area, the distortion of the through hole tends to increase. Therefore, by designing the positioning through-hole 4a to be near the center of the processing area, the laser beam 21 is passed through the vicinity of the center of the fθ lens 23 and irradiated to the laminated prepreg 3, thereby causing distortion. Design considerations will be made so that drilling with a low roundness and high positional accuracy can be obtained.

本発明者が確認したところでは、ガルバノミラー22のスキャニング範囲が50mm×50mmある場合、レーザー光21をfθレンズ23中央部から20mm以内に通過させれば真円度が0.9以上の非常に真円度の高い貫通穴が得られており、その範囲内に位置決め用の貫通穴4aの穴加工を行っている。   As a result of confirmation by the present inventor, when the scanning range of the galvano mirror 22 is 50 mm × 50 mm, if the laser beam 21 is allowed to pass within 20 mm from the center of the fθ lens 23, the roundness is 0.9 or more. A through hole having a high roundness is obtained, and the through hole 4a for positioning is drilled within the range.

もちろん設備間の差があるので、設定する前に穴の歪みは調査し、その範囲を包含する範囲を設定することが望ましい。一般に位置決め用の貫通穴4aは、図5に示す様に複数の位置決め用の貫通穴4aを組み合わせてマーク状にして1つのパターンとして認識しているが、前記位置決め用の貫通穴4aの配置はPCDが1.8mmなど2mm×2mmの範囲に収まるのでもっと狭い範囲でも全く問題ない。   Of course, since there is a difference between facilities, it is desirable to investigate the distortion of the hole before setting and to set a range including the range. In general, the positioning through-hole 4a is recognized as one pattern by combining a plurality of positioning through-holes 4a as shown in FIG. 5, but the positioning through-hole 4a is arranged as follows. Since the PCD is within a range of 2 mm × 2 mm such as 1.8 mm, there is no problem even in a narrower range.

またレーザー光21を、fθレンズ23の中心部付近を通過させて穴加工することで、ガルバノミラー22の振り角も小さくなり回転慣性が押さえられ位置精度も上がることが一般に知られており位置精度の面からも優位になる。   Further, it is generally known that by drilling the laser beam 21 through the vicinity of the center of the fθ lens 23, the swing angle of the galvano mirror 22 is reduced, the rotational inertia is suppressed, and the positional accuracy is improved. It will also be advantageous from the aspect of.

次に図1(d)に示すように、印刷機(図示せず)を用いてスキージ5でPETシート2の上から貫通穴4に導電性ペースト6を充填し、導通穴7を形成する。   Next, as shown in FIG. 1 (d), using a printing machine (not shown), the conductive paste 6 is filled into the through hole 4 from the top of the PET sheet 2 with the squeegee 5 to form the conduction hole 7.

この工程において、表側のPETシート2は印刷マスクの役割を果たしており、PETシート2に穿設された貫通穴4の穴径が回路基板の層間の接続信頼性や多層積層工程における合致性に寄与する。   In this process, the front side PET sheet 2 plays the role of a printing mask, and the hole diameter of the through hole 4 drilled in the PET sheet 2 contributes to the connection reliability between the layers of the circuit board and the conformity in the multilayer stacking process. To do.

次に図1(e)に示すように、貫通穴4に導電性ペースト6が充填されたラミネート済みプリプレグ3の両面からPETシート2を剥離すると導電性ペースト充填済みプリプレグ8が形成される。   Next, as shown in FIG. 1 (e), when the PET sheet 2 is peeled from both surfaces of the laminated prepreg 3 in which the through holes 4 are filled with the conductive paste 6, the conductive paste-filled prepreg 8 is formed.

次に図1(f)に示すように、導電性ペースト充填済みプリプレグ8の両面に銅はく等の金属箔9を重ね、熱プレスで加熱加圧することにより、図1(g)に示す両面の銅張積層板10が形成される。両面の金属箔9は所定位置に設けた導通穴7の導電性ペーストを介して電気的に接続されている。   Next, as shown in FIG. 1 (f), both sides of the prepreg 8 filled with the conductive paste are overlapped with a metal foil 9 such as copper foil, and heated and pressed by hot press, whereby both sides shown in FIG. 1 (g). The copper clad laminate 10 is formed. The metal foils 9 on both sides are electrically connected via a conductive paste in a conduction hole 7 provided at a predetermined position.

そして、図1(h)に示すように、両面の金属箔9を選択的にエッチングして回路パターン11を形成して両面の回路基板12を得るが、このとき位置決め用の貫通穴4aは、fθレンズの中央付近を通過させて加工した歪みの極めて小さい穴を用いるのでフィルムとの位置合わせが高精度に行える。   And as shown in FIG.1 (h), the metal foil 9 of both surfaces is selectively etched, the circuit pattern 11 is formed, and the circuit board 12 of both surfaces is obtained, but the through-hole 4a for positioning is as follows. Since a hole with extremely small distortion processed by passing near the center of the fθ lens is used, alignment with the film can be performed with high accuracy.

なお位置決め用の貫通穴を1穴ではなく図5に示す様な5穴など多点にして全体の重心を取るようにすればさらに精度は向上する。   In addition, if the positioning through hole is not a single hole but multiple points such as five holes as shown in FIG.

次に、図2を用いて本発明の多層回路基板の製造方法を説明する。   Next, the manufacturing method of the multilayer circuit board of this invention is demonstrated using FIG.

図2は、本発明の多層の回路基板の製造方法を示す工程断面図あり、4層基板を例として示したものである。   FIG. 2 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a multilayer circuit board according to the present invention, and illustrates a four-layer board as an example.

まず図2(a)に示すように、前述の図1(a)〜(h)によって製造された両面の回路基板12と図1(a)〜(e)で製造された貫通穴4、4aに導電性ペースト6を充填し、導通穴7を形成した上積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ8aと下積層用の導電性ペースト充填済みプリプレグ8bが準備される。   First, as shown in FIG. 2 (a), the double-sided circuit board 12 manufactured according to FIGS. 1 (a) to 1 (h) and the through holes 4, 4a manufactured in FIGS. 1 (a) to (e). The conductive paste 6 is filled and the conductive layer 6 is filled with the conductive layer 6 filled with the conductive paste 6 and the conductive layer 6 filled with the conductive layer 6 is prepared.

次に、図2(b)に示す工程は、積層ステージ(図示せず)上に金属箔9を乗せ、その上に導電性ペースト充填済みプリプレグ8bを画像認識などで基準穴位置を認識位置決めした後に積層し、さらにその上に両面の回路基板12を同様に認識位置決めした後に積層し、さらにその上に導電性ペースト充填済みプリプレグ8aを同様に認識位置決めした後に積層し、さらにその上に金属箔9を積層するアライメント積層工程である。   Next, in the step shown in FIG. 2B, the metal foil 9 is placed on a lamination stage (not shown), and the conductive paste-filled prepreg 8b is recognized and positioned by image recognition or the like. Lamination is performed later, and the circuit boards 12 on both sides are similarly recognized and positioned thereon, and then laminated, and the prepreg 8a filled with the conductive paste is recognized and positioned in the same manner, and further laminated on the metal foil. 9 is an alignment laminating process for laminating 9.

この時、位置決めに使用する穴はレーザー光21をfθレンズ23の中央付近を通過させた貫通穴4aを用いるので収差の影響が小さく歪みの少ない高精度に加工された穴を用いて位置合わせを行う。   At this time, since the hole used for positioning uses the through hole 4a in which the laser beam 21 is passed through the vicinity of the center of the fθ lens 23, alignment is performed using a hole processed with high accuracy with less influence of aberration and less distortion. Do.

次に図2(c)に示すように、金属箔9で挟持された導電性ペースト充填済みプリプレグ8a、8b、両面の回路基板12を熱プレスで加熱加圧することで4層銅張積層基板13を得る。   Next, as shown in FIG. 2 (c), the prepregs 8a and 8b filled with the conductive paste sandwiched between the metal foils 9 and the circuit boards 12 on both sides are heated and pressed by hot press to form a four-layer copper-clad laminate 13 Get.

上記の工程により、最外層の金属箔9は導通穴内の導電性ペーストを介して内層用の両面の回路基板12の接続用の円形の回路パターン11によって電気的に接続される。   Through the above-described steps, the outermost metal foil 9 is electrically connected by the circular circuit pattern 11 for connecting the circuit boards 12 on both sides for the inner layer through the conductive paste in the conduction hole.

次に図2(d)に示すように、両面の金属箔9を選択的にエッチングして回路パターン14を形成することで4層回路基板15が得られる。この時も位置決めに使用する穴は、レーザ光21をfθレンズ23の中央付近を通過させて加工した歪みの極めて小さい穴を用いるので、フィルムとの位置合わせが高精度に行える。なお位置決め用の貫通穴4aを1穴ではなく図5に示す様な5穴などの多点にして全体の重心を取るようにすればさらに精度は向上する。   Next, as shown in FIG. 2D, a four-layer circuit board 15 is obtained by selectively etching the metal foils 9 on both sides to form a circuit pattern 14. At this time, the hole used for positioning is a hole with extremely small distortion that is processed by passing the laser beam 21 through the vicinity of the center of the fθ lens 23, so that the alignment with the film can be performed with high accuracy. If the positioning through hole 4a is not a single hole but multiple points such as five holes as shown in FIG.

ここでは4層の多層基板について説明したが、4層以上の多層基板、例えば6層基板については製造方法で得られた4層回路基板を両面回路基板の代わりに用いて、多層基板の製造方法{図2(a)〜(d)}を繰り返せばよい。   Here, a four-layer multilayer substrate has been described. However, for a multilayer substrate having four or more layers, for example, a six-layer substrate, a four-layer circuit board obtained by the manufacturing method is used instead of a double-sided circuit board, and a multilayer substrate manufacturing method is used. What is necessary is just to repeat {FIG.2 (a)-(d)}.

このことにより、実施の形態1における合致精度の高い回路基板の製造方法を実現することで、層間の接続信頼性が高い回路基板を提供することに加えて、回路基板の製造過程における生産性の向上を図ることができる。   As a result, in addition to providing a circuit board with high connection reliability between layers by realizing the manufacturing method of a circuit board with high matching accuracy in the first embodiment, productivity in the manufacturing process of the circuit board is improved. Improvements can be made.

(実施の形態2)
本実施の形態2においては、実施の形態1と同様の製造工程ではあるが、図1(c)に示すレーザー加工工程において、通常のラミネート済みプリプレグ3を加工テーブル24に設置し、貫通穴4は従来通りガルバノミラー22のスキャニング範囲で分割したエリアをステップ送りで加工するが、設計上fθレンズ23の中央部に位置決め用の貫通穴4aを形成できない場合は、図4に示す様に任意の位置に加工テーブル24を稼動させて、fθレンズ23の中央部に位置決め用の貫通穴4aが形成されるようにする。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, although the manufacturing process is the same as that of the first embodiment, in the laser processing step shown in FIG. 1C, a normal laminated prepreg 3 is placed on the processing table 24 and the through hole 4 is formed. As in the past, the area divided by the scanning range of the galvanometer mirror 22 is processed by step feed. However, if the design through hole 4a cannot be formed at the center of the fθ lens 23, any area as shown in FIG. The processing table 24 is operated at the position so that the positioning through hole 4 a is formed at the center of the fθ lens 23.

これにより位置決め用の貫通穴の形成位置の設計自由度が上がる。また、加工テーブル24を稼動させることにより、ガルバノミラー22の振り角も小さくなり回転慣性が押さえられ位置精度も上がるという作用がある。   Thereby, the design freedom of the formation position of the through hole for positioning increases. Further, by operating the processing table 24, the swing angle of the galvano mirror 22 is reduced, and the rotational inertia is suppressed and the positional accuracy is increased.

その他両面の回路基板の製造工程、多層基板の製造工程は実施の形態1と同様の工程を経ることで本発明の回路基板を得ることが出来る。   In addition, the circuit board of the present invention can be obtained through the same processes as those of the first embodiment in the manufacturing process of the double-sided circuit board and the manufacturing process of the multilayer board.

また、多層回路基板を得る場合には実施の形態2の方法で導電性ペースト充填済みプリプレグを複数作製して複数の回路基板の間に位置決めして金属箔で挟持し加熱加圧することでも多層基板を得ることが出来る。   Further, when obtaining a multilayer circuit board, a plurality of prepregs filled with conductive paste are produced by the method of Embodiment 2, positioned between the plurality of circuit boards, sandwiched between metal foils, and heated and pressed. Can be obtained.

(実施の形態3)
本実施の形態3においては、図1(c)に示す貫通穴のレーザー加工工程において位置決め用の貫通穴を加工する場合を図5と図6を用いて説明する。
(Embodiment 3)
In the third embodiment, a case where a positioning through hole is machined in the through hole laser machining process shown in FIG. 1C will be described with reference to FIGS.

図5は一般的な位置決め時に用いる位置決め用貫通穴4aのパターンの加工データを示しており、一般に5穴や9穴の組み合わせでパターンを形成し、複数の貫通穴でのパターンを画像認識などで高精度に認識させている。   FIG. 5 shows the processing data of the pattern of the positioning through-hole 4a used at the time of general positioning. In general, a pattern is formed by a combination of 5 or 9 holes, and the pattern at a plurality of through-holes is recognized by image recognition or the like. Recognize with high accuracy.

図6(a)に示す、2穴以上の複数の孔で形成された位置決め用貫通穴4aの加工パターンが2つ以上のガルバノスキャンエリア(便宜上点線で囲い範囲を示している)にまたがった場合や、図6(b)の様に2つ以上の位置決め用貫通穴4aの加工パターンが2つ以上のスキャニングエリアにまたがりスキャニングエリアの縦(Y)横(X)の距離より加工パターンの最外部の距離(Y1)の方が短い場合は、それぞれ一点鎖線で図示しているように、同一スキャニング範囲になるように実施の形態2と同様に加工テーブル24を移動させ加工する。   When the processing pattern of the positioning through-hole 4a formed by a plurality of holes of two or more holes shown in FIG. 6 (a) extends over two or more galvano scan areas (shown by a dotted line for convenience) As shown in FIG. 6B, the processing pattern of two or more positioning through-holes 4a extends over two or more scanning areas, and the outermost part of the processing pattern from the vertical (Y) horizontal (X) distance of the scanning area. When the distance (Y1) is shorter, the machining table 24 is moved and machined in the same manner as in the second embodiment so as to be within the same scanning range, as shown by the alternate long and short dash lines.

もしくは、複数の位置決め用の貫通穴4aが同一ガルバノスキャンエリア範囲に入るように考慮して設計した加工データで加工することで、加工テーブル24のNC位置精度がばらつかないため、加工精度が高く効率的な穴加工を行うことが可能となる。   Alternatively, since the NC position accuracy of the machining table 24 does not vary by machining with machining data designed so that the plurality of through holes 4a for positioning are within the same galvano scan area range, the machining accuracy is high. Efficient drilling can be performed.

それ以降の製造工程は実施形態1と同様の工程を経ることで本発明の回路基板を得ることが出来る。   Subsequent manufacturing steps are similar to those of the first embodiment, whereby the circuit board of the present invention can be obtained.

以上述べたように、本発明の回路基板の製造方法を用いることにより、高精度な位置決め用の穴を加工することが出来る。   As described above, a highly accurate positioning hole can be processed by using the circuit board manufacturing method of the present invention.

このため、高い位置精度で形成された導通穴を有したプリプレグと内層用基板の回路パターンとの位置合わせが容易となり、繊細パターンを有した多層の回路基板においても、導通穴と内層用基板の回路パターンとの合致精度を向上させ、層間の接続信頼性が高い回路基板を高い生産性で提供することができる。   For this reason, it becomes easy to align the prepreg having a conduction hole formed with high positional accuracy and the circuit pattern of the inner layer substrate, and even in a multilayer circuit board having a delicate pattern, the conduction hole and the inner layer substrate It is possible to improve the matching accuracy with the circuit pattern and provide a circuit board with high connection reliability between the layers with high productivity.

また本発明の技術を採用し、その技術を普及させることも容易であり、本発明の産業上の利用可能性は大であるといえる。   Moreover, it is easy to adopt the technique of the present invention and to spread the technique, and it can be said that the industrial applicability of the present invention is great.

1、51 プリプレグ
2、52 PETシート
3、53 ラミネート済みプリプレグ
4、4a、54 貫通穴
5、55 スキージ
6、56 導電性ペースト
7、57 導通穴
8、58 導電性ペースト充填済みプリプレグ
9、59 金属箔
10、60 銅張積層板
11、14、61、64 回路パターン
12、62 回路基板
13、63 4層銅張積層基板
15、65 4層回路基板
21 71 レーザー光
22、72 ガルバノミラー
23、73 fθレンズ
24 加工テーブル
1, 51 Prepreg 2, 52 PET sheet 3, 53 Laminated prepreg 4, 4a, 54 Through hole 5, 55 Squeegee 6, 56 Conductive paste 7, 57 Conductive hole 8, 58 Prepreg filled with conductive paste 9, 59 Metal Foil 10, 60 Copper-clad laminate 11, 14, 61, 64 Circuit pattern 12, 62 Circuit board 13, 63 4-layer copper-clad laminate 15, 65 4-layer circuit board 21 71 Laser light 22, 72 Galvano mirror 23, 73 fθ lens 24 processing table

Claims (5)

プリプレグの表裏に離型性を有したプラスチックシートを張り付ける工程と、
プラスチックシートを張り付けたプリプレグの任意の位置にレーザー光を照射することにより、
導通用および位置決め用の貫通穴を形成し、
前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、
前記プラスチックシートを前記プリプレグより剥離する工程と
前記プラスチックシートを剥離した導電性ペースト充填済みプリプレグを金属箔で挟持し熱プレスにて加熱加圧する工程と
金属箔をエッチングしてパターン形成する工程を備え、
前記位置決め用の貫通穴を形成する加工データがfθレンズの中央部付近をレーザー光が通過するデータを用いて加工することを特徴とする回路基板の製造方法。
Attaching a plastic sheet having releasability to the front and back of the prepreg;
By irradiating a laser beam to any position of the prepreg with a plastic sheet attached,
Form through holes for conduction and positioning,
Filling the through hole with a conductive paste;
A step of peeling the plastic sheet from the prepreg, a step of sandwiching the conductive paste-filled prepreg from which the plastic sheet has been peeled between metal foils, heating and pressing with a hot press, and a step of forming a pattern by etching the metal foil ,
A method of manufacturing a circuit board, wherein the processing data for forming the positioning through-hole is processed using data in which a laser beam passes near the center of the fθ lens.
前記位置決め用の貫通穴を形成する手段として、fθレンズの中央部付近を通過する箇所に加工テーブルを移動させて加工することを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。 2. The method of manufacturing a circuit board according to claim 1, wherein as the means for forming the positioning through-hole, the processing table is moved to a location that passes near the center of the f [theta] lens. 前記位置決め用の貫通穴を複数組み合わせて群で形成されており、前記位置決め用の貫通穴の群全てを包含するスキャニング範囲内に加工テーブルを移動させて加工することを特徴とする請求項2に記載の回路基板の製造方法。 3. The method according to claim 2, wherein a plurality of the positioning through holes are combined to form a group, and the processing table is moved to a scanning range including all of the positioning through holes. The manufacturing method of the circuit board of description. プリプレグの表裏に離型性を有したプラスチックシートを張り付ける工程と、
プラスチックシートを張り付けたプリプレグの任意の位置にレーザー光を照射することにより、
導通用および位置決め用の貫通穴を形成し、
前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、
前記プラスチックシートを前記プリプレグより剥離する工程と、
前記プラスチックシートを剥離した導電性ペースト充填済みプリプレグを複数枚数準備する工程と、
金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグ
もしくは金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグと内層用基板
もしくは前記導電性ペースト充填済みプリプレグを介して両面または多層の回路基板を積層し加熱加圧する工程を備えることを特徴とする回路基板の製造方法。
Attaching a plastic sheet having releasability to the front and back of the prepreg;
By irradiating a laser beam to any position of the prepreg with a plastic sheet attached,
Form through holes for conduction and positioning,
Filling the through hole with a conductive paste;
Peeling the plastic sheet from the prepreg;
Preparing a plurality of prepregs filled with conductive paste from which the plastic sheet has been peeled, and
A step of laminating a metal foil and the conductive paste filled prepreg or a metal foil, the conductive paste filled prepreg and the inner layer substrate or the conductive paste filled prepreg, and heating and pressing both sides or a multilayer circuit board. A method for manufacturing a circuit board, comprising:
金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグ
もしくは金属箔と前記導電性ペースト充填済みプリプレグと内層用基板
もしくは前記導電性ペースト充填済みプリプレグを介して両面または多層の回路基板を積層し加熱加圧する工程の後、
前記金属箔に回路パターンを形成する工程を備えることを特徴とする請求項4に記載の回路基板の製造方法。
A step of laminating a metal foil and the conductive paste-filled prepreg or a metal foil, the conductive paste-filled prepreg and the inner layer substrate or the conductive paste-filled prepreg and heating and pressing the double-sided or multilayer circuit board. rear,
The method for manufacturing a circuit board according to claim 4, further comprising a step of forming a circuit pattern on the metal foil.
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