JP2014235861A - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】有機エレクトロルミネッセンス表示装置の高精細化及び不良発生の低減を実現することを目的とする。【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、素子基板と、前記素子基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子上を覆う封止膜と、前記封止膜上に、前記素子基板の一部の領域に対向するように配置された対向基板と、前記素子基板の前記対向基板と対向しない領域の上面に形成された外部接続端子部と、を有し、前記外部接続端子部は、互いに間隔を空けて一方に延在する複数の端子と、前記端子の側面を覆う絶縁膜と、を有し、前記端子は、その上面が前記絶縁膜から露出される、ことを特徴とする。【選択図】図4

Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
薄型で軽量な発光源として、有機エレクトロルミネッセンス発光(organic electro luminescent)素子が注目を集めており、多数の有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備える画像表示装置が開発されている。有機エレクトロルミネッセンス発光素子は、発光層を有する有機層が、陽極と陰極とで挟まれた構造を有する。
このような有機エレクトロルミネッセンス表示装置としては、特許文献1に、基板と、陽極を有する有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、封止膜と、対向基板と、外部接続端子と、を有する構成が開示されている。外部接続端子は表示領域の外側に延在し、絶縁膜によって被覆されている。
特開2012−42662号公報
近年、外部接続端子の製造工程において、外部接続端子上の絶縁膜などの封止膜を、テープなど粘着性を有する部材により剥離する方法が検討されている。しかし、特許文献1に記載の構成によれば、外部接続端子から封止膜を剥離する際に、封止膜が外部接続端子と基板との間の段差において切れてしまうおそれがある。このため、隣接する外部接続端子同士の間に封止膜の剥がれ残りが残りやすくなり、外部接続端子と外部機器の接続における不良発生のおそれが生じる。特に、画素が微細になるほど外部接続端子同士の間隔が小さくなるため、封止膜の剥がれ残りが生じやすくなる。また、剥がれ残りの封止膜をエッチングなどにより除去すると、外部接続端子にダメージが生じる恐れがある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の不良発生の低減を実現することを目的とする。
(1)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、素子基板と、前記素子基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子上を覆う封止膜と、前記封止膜上に、前記素子基板の一部の領域に対向するように配置された対向基板と、前記素子基板の前記対向基板と対向しない領域の上面に形成された外部接続端子部と、を有し、前記外部接続端子部は、互いに間隔を空けて一方に延在する複数の端子と、前記端子の側面を覆う絶縁膜と、を有し、前記端子は、その上面が前記絶縁膜から露出される、ことを特徴とする。
(2)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、(1)において、前記複数の端子の延在方向に垂直な切断面で前記外部接続端子部の断面を見た場合に、前記絶縁膜の上面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であってもよい。
(3)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、(1)または(2)において、前記外部接続端子部が、複数の前記端子同士の間に、前記端子と互いに間隔を空けて配置された、前記端子に沿って延在する絶縁部材を有し、前記絶縁膜が前記絶縁部材の側面を覆い、前記絶縁部材は、その上面が前記絶縁膜から露出されてもよい。
(4)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、素子基板と、前記素子基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子上を覆う封止膜と、前記封止膜上に、前記素子基板の一部の領域に対向するように配置された対向基板と、前記素子基板の前記対向基板と対向しない領域の上面に形成された外部接続端子部と、を有し、前記外部接続端子部は、一方に延在する複数の端子を有し、前記複数の端子は互いに間隔を空けて配置され、前記複数の端子の延在方向に垂直な切断面で前記端子の断面を見た場合に、前記端子の断面が下から上に向けて先細り形状であることを特徴とする。
(5)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、(4)において、前記端子の断面において、前記端子の側面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であってもよい。
(6)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、(4)または(5)において、前記外部接続端子部が、複数の前記端子同士の間に、前記端子と互いに間隔を空けて配置された、前記端子に沿って延在する絶縁部材を有し、前記切断面で前記絶縁部材の断面を見た場合に、前記絶縁部材の断面が下から上に向けて先細り形状であってもよい。
(7)本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、(6)において、前記絶縁部材の断面において、前記絶縁部材の側面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であってもよい。
上記(1)乃至(7)のいずれかによれば、画素が微細になることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、端子同士の間に封止膜の剥がれ残りが生じにくい。このため、外部接続端子部と外部機器との接続における不良発生が防がれる。以上のことから、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の不良発生の低減を実現することができる。
図1は本発明の第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の概略平面図である。 図2は図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のII−II切断線における概略断面図である。 図3は図2に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のIII領域の部分拡大図である。 図4は図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のIV−IV切断線における概略断面図である。 図5は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。 図6は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。 図7は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するためのIII領域に対応する領域の部分拡大図である。 図8は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。 図9は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、III領域に対応する領域の部分拡大図である。 図10は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、III領域に対応する領域の部分拡大図である。 図11は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。 図12は本発明の第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置のIV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。 図13は第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。
以下、本発明の第1の実施形態に係るエレクトロルミネッセンス表示装置について、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aを例として図面に基づいて説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料等は一例であって、各構成要素はそれらと異なっていてもよく、その要旨を変更しない範囲で変更して実施することが可能である。
はじめに、本発明の第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aについて説明する。図1は本発明の第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの概略平面図であり、図2は図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aのII−II切断線における概略断面図である。
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aは、素子基板10と、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30と、封止膜40と、対向基板であるカラーフィルタ基板50と、外部接続端子部20と、を有している。
素子基板10は、絶縁性の基板であって、その上面10aに、配線Lと、図示しない薄膜トランジスタを有する回路層12と、平坦化膜13と、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30と、が順に形成される部材である。
素子基板10の上面10aの、表示領域Dに対応する領域には、電源線等の配線Lと、図示しない複数の制御信号線と、データ信号線と、が設けられている。配線Lは、例えばチタンとアルミの積層膜からなり、図示しない画素に応じて形成されている。なお、配線Lは、チタンとアルミの積層膜に限られず、その他の構成であってもよい。
回路層12は、図示しない薄膜トランジスタ及び絶縁層を有する層であり、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30を駆動するために形成されている。薄膜トランジスタは、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30を駆動するためのトランジスタである。表示領域Dには、多数の画素が規則的に、例えば平面視でマトリクス状に配置されており、薄膜トランジスタは、素子基板10上の表示領域Dに対応する領域に、画素ごとに設けられている。なお、表示領域Dの外側の領域には、例えばシール材Sが配置されている。
平坦化膜13は、回路層12上を覆うように形成されている。平坦化膜13は絶縁材料からなる層であり、基板10と有機エレクトロルミネッセンス発光素子30の間に形成されることにより、隣接する薄膜トランジスタ間や、薄膜トランジスタと有機エレクトロルミネッセンス発光素子30の間が、電気的に絶縁される。平坦化膜13は、例えばSiOやSiN、アクリル、ポリイミド等の絶縁性を有する材料からなる。
有機エレクトロルミネッセンス発光素子30は各画素に対応して設けられ、発光源として機能する。なお、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30は表示領域D内に複数設けられているが、説明の便宜上、図2においては詳細な図示を省略する。
図3は図2に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のIII領域の部分拡大図である。有機エレクトロルミネッセンス発光素子30は、例えば図示しない反射膜を介して平坦化膜13上に形成されている。有機エレクトロルミネッセンス発光素子30は、平坦化膜13上に形成された陽極32と、有機層33と、有機層33上を覆うように形成された陰極34と、から概略構成されている。なお、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30は複数設けられているが、説明の便宜上、図3においては詳細な図示を省略する。
陽極32は、有機層33に駆動電流を注入する電極である。陽極32は薄膜トランジスタ11に電気的に接続されて、薄膜トランジスタ11から駆動電流を供給される。陽極32は、各画素に対応して、平坦化膜13上に規則的に配置されている。陽極32は例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性及び導電性を有する材料からなる。
有機層33は少なくとも発光層を有する、有機材料により形成された層である。有機層33は、例えば白色光などの光を発する。有機層33は複数の陽極32上を覆うように形成されており、例えば、陽極32側から順に、図示しないホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が積層されてなる。なお、有機層33の積層構造はここに挙げたものに限られず、少なくとも発光層を含むものであれば、その積層構造は特定されない。
陰極34は有機層33上を覆うように形成されている。陰極34は複数の有機エレクトロルミネッセンス発光素子30の有機層33に共通に接触する、透明な共通電極である。このような構成を有することにより、陰極34は複数の有機エレクトロルミネッセンス発光素子30の有機層33に共通に接触する。陰極34は、例えばITO等の透光性及び導電性を有する材料からなる。
封止膜40は、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30上を、複数の画素にわたって覆うように形成されている。封止膜40は、例えば、窒化珪素(SiN)層を有していることが好ましいが、例えばSiO層、SiON層、樹脂層などを有していてもよい。また、封止膜40は、これらの材料からなる単層膜であっても、積層膜であってもよい。
対向基板であるカラーフィルタ基板50は、充填材45を介して、封止膜40上に、素子基板10の一部の領域に対向するように配置されている。カラーフィルタ基板50は平面視で素子基板10よりも小さいため、素子基板10の上面10aのうち一部の領域がカラーフィルタ基板50と重なる。上面10aのうち、カラーフィルタ基板50と対向しない領域を領域10aとする。
領域10aには、外部接続端子部20が形成されている。外部接続端子部20は、図示しない外部機器が接続される端子部である。外部接続端子部20は、外部機器が接続されることにより、各画素に印加する電圧信号を有機エレクトロルミネッセンス発光素子30に供給する。
外部接続端子部20の構成について、図3、図4を用いてその詳細を説明する。図4は図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aのIV−IV切断線における概略断面図である。外部接続端子部20は、互いに間隔を空けて一方の方向Yに延在する複数の端子21と、端子21に沿って方向Yに延在する絶縁部材23と、絶縁膜22とを有している。
端子21は、外部機器が電気的に接続される端子であり、互いに間隔を空けて形成されている。図3に示すように、端子21は、配線Lのうち、カラーフィルタ基板50の外側で封止膜40から露出する部分である。端子21は、素子基板10の上面10a上において、一方の方向Yに延在している。
絶縁部材23は、隣接する端子21同士の間の絶縁性を保つための部材である。絶縁部材23は、隣接する端子21同士の間に、間隔を空けて配置されている。また、絶縁部材23のX方向の幅は、端子21同士の間隔と、端子21と絶縁部材23の所望する間隔とに応じて適宜設定すればよい。絶縁部材23は、絶縁性を有するものであればその材料は限定されない。なお、外部接続端子部20は、少なくとも端子21と絶縁膜22とを有していればよいが、絶縁部材23を有していることが好ましい。
図4に示すように、端子21の上面21bと絶縁部材23の上面23bは、素子基板10の上面10aに略平行となるように形成されている。なお、「略平行」とは、製造の工程により素子基板10の上面10aに平行な方向から誤差の範囲でずれたものを含む。端子21の側面21aと絶縁部材23の側面23aは絶縁膜22によって覆われ、端子21の上面21b及び絶縁部材23の上面23bは、絶縁膜22から露出されている。
絶縁膜22は、素子基板10の上面10aと端子21の上面21bの段差を埋めるために形成された、絶縁性の材料からなる膜である。絶縁膜22は、少なくとも端子21の側面21aと絶縁層23の側面23aを覆っていればよく、図4に示すように、素子基板10の上面10aを覆っていてもよい。なお、絶縁膜22の材料としてはアクリル系樹脂などを用いることができるが、絶縁性を有するものであれば、その材料は限定されない。
なお、絶縁膜22の上面22aは、素子基板10の上面10aに平行であり、端子21の上面21bに連続する面であることが好ましいが、その少なくとも一部が上面10a側に凹んでいてもよい。例えば、上面22aの断面の少なくとも一部が弧を描き、端子21の上面21bよりも、素子基板10の上面10a側に位置していてもよい。また、このような弧の部分を含む、上面22aの全ての箇所において、上面22aと上面10aのなす角度αが20°以下であることが好ましく、その角度は小さければ小さいほど好ましい。
本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aは、外部接続端子部20が、Y方向に延在する端子21と、端子21の側面21aを覆う絶縁膜22とを有することにより、端子部21の側面21aと素子基板10の上面10aのなす角度と比べ、側面21aを覆う絶縁膜22の上面22aと素子基板10の上面10aのなす角度αの方が小さくなる。
このため、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、X方向の切断面における、外部接続端子部20と素子基板10の上面10aの成す角度が小さくなる。また、端子部21の側面21aが絶縁膜22によって覆われていても、端子21の上面21bが絶縁膜22から露出されることにより、外部接続端子部20の導電性が保たれる。
また、このような構成を有することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べて端子21同士の間に封止膜40の剥がれ残りが生じにくい。このため、外部接続端子部20と外部機器との接続における不良発生が防がれる。以上のことから、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの不良発生の低減を実現することができる。また、外部接続端子部20の端子21同士の間隔が小さくなっても不良発生を抑えられるため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの高精細化を実現することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aは、X方向の切断面で外部接続端子部20の断面を見た場合の絶縁膜22の上面22aと素子基板10の上面10aのなす角度αが20°以下であることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、より封止膜40の剥がれ残りが端子21同士の間に生じにくい。このため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの高精細化と、不良発生の低減を実現することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aは、複数の端子21同士の間に、端子21と互いに間隔を空けて配置された、端子21に沿ってY方向に延在する絶縁部材23を有していることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、隣接する端子21同士の絶縁性が保たれる。
また、絶縁部材23が形成されていることにより、隣接する端子21同士の間における、素子基板10の上面10aの露出する領域が狭くなる。このため、絶縁部材23と端子21との間に形成された絶縁膜22の上面22aの断面が弧を描く形状であったとしても、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、上面22aと、素子基板10の上面10aのなす角度が小さくなる。このため、絶縁部材23と端子21との間に封止膜40の剥がれ残りが生じにくくなり、外部接続端子部20と外部機器との接続における不良発生が防がれる。
また、絶縁部材23の上面23bが絶縁膜22から露出されていることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、端子21の上面21bの上面10aからの高さと、絶縁部材23の上面23bの上面10aからの高さが揃えられる。このため、このため、絶縁部材23と端子21との間の封止膜40の剥がれ残りが均一に除去され、外部接続端子部20と外部機器との接続における不良発生が防がれる。
次いで、本発明の第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法について図面を用いて説明する。本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1の製造方法は、素子基板10上に外部接続端子部20を形成する工程と、剥離層25を形成する工程と、薄膜トランジスタを有する回路層12を形成する工程と、平坦化膜13を形成する工程と、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30を形成する工程と、封止膜40を形成する工程と、カラーフィルタ基板50を配置する工程と、外部接続端子部20を露出する工程と、を有する。
初めに、外部接続端子部20を形成する。図5は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。外部接続端子部20を形成する工程は、端子21を形成する工程と、絶縁膜22を形成する工程と、端子21の上面22aを露出する工程と、を有する。
初めに、端子21を形成する。まず、素子基板10を用意する。次いで、図示しない画素に応じて配線Lを形成する。複数の配線Lは、表示領域Dよりも外側の領域である上面10aにおいて互いに間隔を空けて一方の方向Xに延在するように形成される。配線Lのうち、上面10aに形成された部分を端子21とする。また、端子21に沿って方向Xに延在する絶縁部材23を、端子21との間隔を空けて上面10aに形成することが好ましい。
次いで、例えばアクリル系樹脂からなる絶縁膜22を形成する。絶縁膜22は、少なくとも端子21の側面21aを覆うように形成すればよいが、端子21の側面21aと、絶縁層23の側面23aと、素子基板10の上面10aを覆うように形成することが好ましい。また、図6に示すように、絶縁膜22の上面22aの断面の一部が弧を描いていても良い。
次いで、端子21の上面21bと絶縁部材23の上面23bと絶縁膜22の上面22aを覆うように、剥離層25を形成する。図6は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。
まず、端子21の上面21bを絶縁膜22から露出する。上面21bを露出する方法としては、例えば、アッシング(Ashing)を用いることができるが、上面21bを露出できるのであれば、その方法は限定されない。また、上面21bを露出する工程において、上面21bとともに、絶縁部材23の上面23bも絶縁膜22から露出させることが好ましい。
また、上面21bを露出した後の絶縁膜22の上面22aと素子基板10の上面10aのなす角度を角度αとすると、角度αは20°以下であることが好ましく、その角度は小さければ小さいほど好ましい。また、絶縁膜22の上面22aは、素子基板10の上面10aに平行で、かつ、端子21の上面21bに連続する面であることが特に好ましい。
次いで、絶縁膜22の上面22aと端子の上面21bと絶縁部材23の上面23bを覆うように剥離層25を形成する。剥離層25を形成する方法としては、例えばALQ(tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium)を蒸着させる方法が挙げられるが、後述する封止膜40を上面21bと上面22aから剥離できるものであれば、この他の方法、材料を用いてもよい。
図7は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するためのIII領域に対応する領域の部分拡大図である。次いで、素子基板10上に、薄膜トランジスタを有する回路層12を形成する。次いで、回路層12上を覆うように、絶縁性を有する平坦化膜13を形成する。次いで、アルミニウムや銀(Ag)等の金属膜からなる図示しない反射膜を、平坦化膜13上の各画素に対応する領域に形成してもよい。
次いで、平坦化膜13上(反射膜上)の各画素に対応する領域に有機エレクトロルミネッセンス発光素子30を形成する。有機エレクトロルミネッセンス発光素子30を形成する工程は、例えばITO等の透光性及び導電性を有する材料からなる陽極32を形成する工程と、少なくとも発光層を有する有機層33を形成する工程と、例えばITO等の透光性及び導電性を有する材料からなる陰極34を形成する工程と、を有する。
図8は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。次いで、図8に示すように、外部接続端子部20上を覆うように、例えば、窒化珪素(SiN)からなる封止膜40を形成する。
図9は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するためのIII領域に対応する領域の部分拡大図である。次いで、表示領域Dを囲むように、封止膜40上にシール材Sを配置する。次いで、シール材Sの内側に充填材45を充填する。次いで、充填材45を介して封止膜40の上面を覆うようにカラーフィルタ基板50を配置する。
次いで、外部接続端子部20を露出する。図10は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するためのIII領域に対応する領域の部分拡大図である。まず、図10に示すように、カラーフィルタ基板50とシール材Sの一部を切断し、表示領域Dの外側の領域の一部の封止膜40を露出させる。
次いで、外部接続端子部20上の封止膜40を剥離する。図11は第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。まず、図11に示すように、例えば粘着テープ60を外部接続端子部20上の封止膜40の上面40aに貼り付ける。粘着テープ60は粘着性を有する部材であり、例えば粘着層61と基材62を有する。
次いで、基材62上から例えばゴムローラーにより圧力を加えるなどして、粘着層61を封止膜40の上面40aに密着させる。なお、粘着層61を上面40aに密着させる方法はこれに限られず、他の方法を用いてもよい。そして、粘着テープ60を引き剥がすことにより、粘着層61に密着する封止膜40と剥離層25が、外部接続端子部20から剥離される。以上により、図3に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aが形成される。
本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法は、端子21の側面21aを覆う絶縁膜22を形成することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、X方向の切断面における、外部接続端子部20と素子基板10の上面10aの成す角度が小さくなる。このため、外部接続端子部20上から封止膜40を剥がす際に、封止膜40が途中で切れることや、剥がれ残りが生じることを防ぐことができる。このため、信頼性の高い外部接続端子部20を形成することができる。
また、封止膜40の剥がれ残りが防がれるため、外部接続端子部20上における封止膜40の剥がれ残りをエッチングにより除去する必要がない。よって、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、製造工程を簡略化することができる。また、外部接続端子部20の端子21へのエッチングによるダメージを防ぐことができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法は、角度αが20°以下となるように絶縁膜22を形成することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、外部接続端子部20上から封止膜40を剥がす際の、封止膜40の剥がれ残りの発生を防ぐことができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法は、複数の端子21同士の間に、端子21に沿ってX方向に延在する絶縁部材23を形成することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、隣接する端子21同士の間における、素子基板10の上面10aの露出する領域が狭くなる。
これにより、絶縁膜22の上面22aの断面が、表面張力により端子21と隣接する絶縁部材23との間で弧を描く形状となっても、その凹凸が小さくなる。このため、上面22aと、素子基板10の上面10aのなす角度αが小さくなり、外部接続端子部20上から封止膜40を剥がす際の、封止膜40の剥がれ残りの発生を防ぐことができる。
また、絶縁部材23の上面23bを絶縁膜22から露出することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造法と比べ、端子21の上面21bの上面10aからの高さと、絶縁部材23の上面23bの上面10aからの高さが揃えられる。このため、絶縁部材23と端子21との間の封止膜40の剥がれ残りを均一に除去することができる。
次いで、第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bについて説明する。第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bは、絶縁膜22が形成されておらず、外部接続端子部120の端子121の断面が下側から上側に向けて先細り形状である点が、第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aと異なっている。以下、本実施形態においては、外部接続端子部120の構成について説明し、第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aと同様の構成についてはその説明を省略する。
図12は本発明の第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。本実施形態における外部接続端子部120は、互いに間隔を空けて一方の方向Yに延在する複数の端子121と、端子121に沿って方向Yに延在する絶縁部材123を有している。
図12に示すように、本実施形態における端子121は、方向Xにおける切断面で外部接続端子部120を見た場合に、その端子121の断面が、外部接続端子部120の下側である素子基板10側から外部接続端子部120の上側であるカラーフィルタ基板50側に向けて先細り形状である。具体的には例えば、端子121の断面形状は、端子121の上面121bのX方向の幅よりも端子121の下面121cのX方向の幅の方が大きい、台形形状となっている。
このため、端子121の側面121aと素子基板10の上面10aのなす角度βは90°よりも小さくなる。また、角度βは、20°以下であることが好ましい。なお、端子121の上面121bは、素子基板10の上面10aに略平行となるように形成されている。
また、隣接する端子121同士の間に、絶縁部材123が、端子121と互いに間隔を空けて配置されていてもよい。この絶縁部材123は、方向Xにおける切断面で見た場合に、その断面が下側から上側に向けて先細り形状である。具体的には例えば、絶縁部材123の断面形状は、絶縁部材123の上面123bのX方向の幅よりも、絶縁部材123の下面123cのX方向の幅の方が大きい台形形状となっている。
このため、絶縁部材123の側面123aと素子基板10の上面10aのなす角度γは、90°よりも小さくなる。また、角度γは、20°以下であることが好ましい。なお、絶縁部材123の上面123bは、素子基板10の上面10aに略平行となるように形成されている。
本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bは、端子121の方向Xにおける切断面が下側から上側に向けて先細り形状であるため、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、端子部121の側面121aと素子基板10の上面10aのなす角度βが小さくなる。
このような構成を有することにより、外部接続端子部120の端子121同士の間隔が小さくなっても、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べて端子121同士の間に封止膜40の剥がれ残りが生じにくい。このため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの高精細化と、不良発生の低減を実現することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bは、X方向の切断面で外部接続端子部120の断面を見た場合の端子121の側面121aと素子基板10の上面10aのなす角度βが20°以下であることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、より封止膜40の端子21間における剥がれ残りの発生が防がれる。このため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの高精細化と、不良発生の低減を実現することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bは、複数の端子121同士の間に、端子121と互いに間隔を空けて配置された、端子121に沿ってY方向に延在する絶縁部材123が形成されていることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、隣接する端子121同士の絶縁性が保たれる。
また、絶縁部材123の方向Xにおける切断面が下側から上側に向けて先細り形状であるため、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、絶縁部材123の側面123aと素子基板10の上面10aのなす角度が小さくなる。
このような構成を有することにより、外部接続端子部120の端子121と絶縁部材123との間隔が小さくなっても、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べて端子121と絶縁部材123の間に、封止膜40の剥がれ残りの発生が防がれる。このため、外部接続端子部120と外部機器との接続における不良発生が防がれる。以上のことから、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの高精細化と、不良発生の低減を実現することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bは、X方向の切断面で外部接続端子部120の断面を見た場合の絶縁部材123の絶縁部材123aと素子基板10の上面10aのなす角度γが20°以下であることにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置と比べ、より封止膜40の剥がれ残りが端子121と絶縁部材123の間に生じにくい。このため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの高精細化と、不良発生の低減を実現することができる。
次いで、第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの製造方法について説明する。第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの製造方法は、端子121を、その断面を素子基板10側からカラーフィルタ基板50側に向けて先細り形状となるように形成し、絶縁膜22を形成しない点が、第1の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法と異なっている。以下、本実施形態においては、外部接続端子部120を製造する工程について説明し、有機エレクトロルミネッセンス表示装置1aの製造方法と同様の構成についてはその説明を省略する。
図13は第2の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの製造方法を説明するための、IV−IV切断線に対応する切断線における概略断面図である。まず、素子基板10の上面10aに、Y方向に延在する端子121と絶縁部材123を形成する。次いで、方向Xにおける端子121の断面と絶縁部材123の断面が素子基板10側からカラーフィルタ基板50側に向けて先細り形状となるように、例えばエッチングを行う。なお、端子121及び絶縁部材123の断面を、上側に向けて先細り形状となるようにする方法はエッチングに限られず、その他の方法であってもよい。
これにより、端子121の側面121aと素子基板10の上面10aのなす角度βと、絶縁部材123の側面123aが上面10aとなす角度γは90°よりも小さくなる。また、エッチング条件は、角度βと角度γが20°以下となるように設定することがより好ましい。
次いで、端子121の上面121aと、絶縁部材123の上面123bと、端子121と絶縁部材123の間において露出する上面10aと、を覆うように剥離層25を形成する。
次いで、各画素に対応する領域に、回路層12、平坦化膜13、有機エレクトロルミネッセンス発光素子30、封止膜40を順次形成し、カラーフィルタ基板50を配置する。次いで、カラーフィルタ基板50とシール材Sの一部を切断し、表示領域Dの外側の領域の一部の封止膜40を露出させる。
その後、粘着テープ60により外部接続端子部120上の封止膜40と剥離層25を剥離することにより、図12に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bが形成される。
本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの製造方法は、方向Xにおける端子121及び絶縁部材123の断面が素子基板10側からカラーフィルタ基板50側に向けて先細り形状となるように形成することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、外部接続端子部120上から封止膜40を剥がす際における封止膜40の剥がれ残りを防ぐことができる。このため、信頼性の高い外部接続端子部120を形成することができる。
また、本実施形態における有機エレクトロルミネッセンス表示装置1bの製造方法は、角度βと角度γが20°以下となるように、エッチング条件を設定することにより、本構成を有さない有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法と比べ、外部接続端子部20上における封止膜40の剥がれ残りをより防ぐことができる。
以上、本発明の実施形態を説明してきたが、本発明は、上述した実施形態には限られない。例えば、上述した実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成、又は同一の目的を達成することができる構成により置き換えてもよい。
1a,1b 有機エレクトロルミネッセンス表示装置、10 素子基板、10a 上面、10a 上面、12 回路層、13 平坦化膜、20 外部接続端子部、21 端子、21a 側面、21b 上面、22 絶縁膜、22a 上面、23 絶縁部材、23a 側面、23b 上面、25 剥離層、30 有機エレクトロルミネッセンス発光素子、32 陽極、33 有機層、34 陰極、40 封止膜、40a 上面、45 充填材、50 カラーフィルタ基板、60 粘着テープ、61 粘着層、62 基材、120 外部接続端子部、121 端子、121a 側面、121b 上面、121c 下面、123 絶縁部材、123a 側面、123b 上面、123c 下面、D 表示領域、L 配線、S シール材、Y 端子の延在方向、X 垂直な方向、α 角度、β 角度、γ 角度。

Claims (7)

  1. 素子基板と、
    前記素子基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、
    前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子上を覆う封止膜と、
    前記封止膜上に、前記素子基板の一部の領域に対向するように配置された対向基板と、
    前記素子基板の前記対向基板と対向しない領域の上面に形成された外部接続端子部と、を有し、
    前記外部接続端子部は、
    互いに間隔を空けて一方に延在する複数の端子と、
    前記端子の側面を覆う絶縁膜と、を有し、
    前記端子は、その上面が前記絶縁膜から露出されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  2. 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
    前記複数の端子の延在方向に垂直な切断面で前記外部接続端子部の断面を見た場合に、前記絶縁膜の上面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
    前記外部接続端子部が、
    複数の前記端子同士の間に、前記端子と互いに間隔を空けて配置された、前記端子に沿って延在する絶縁部材を有し、
    前記絶縁膜が前記絶縁部材の側面を覆い、前記絶縁部材は、その上面が前記絶縁膜から露出されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  4. 素子基板と、
    前記素子基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、
    前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子上を覆う封止膜と、
    前記封止膜上に、前記素子基板の一部の領域に対向するように配置された対向基板と、
    前記素子基板の前記対向基板と対向しない領域の上面に形成された外部接続端子部と、を有し、
    前記外部接続端子部は、
    一方に延在する複数の端子を有し、
    前記複数の端子は互いに間隔を空けて配置され、
    前記複数の端子の延在方向に垂直な切断面で前記端子の断面を見た場合に、前記端子の断面が下から上に向けて先細り形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  5. 請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
    前記端子の断面において、前記端子の側面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  6. 請求項4または請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
    前記外部接続端子部が、
    複数の前記端子同士の間に、前記端子と互いに間隔を空けて配置された、前記端子に沿って延在する絶縁部材を有し、
    前記切断面で前記絶縁部材の断面を見た場合に、前記絶縁部材の断面が下から上に向けて先細り形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  7. 請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
    前記絶縁部材の断面において、前記絶縁部材の側面と前記素子基板の上面のなす角度が20°以下であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
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JP2017174703A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社ジャパンディスプレイ 有機el表示装置の製造方法
WO2019187380A1 (ja) * 2018-03-28 2019-10-03 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置および表示装置の製造方法

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