JP2014235684A - 透明面状体及び透明タッチパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基板１１，２１の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層１２，２２を有する透明面状体１，２であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層１３，２３、第２薄膜層１４，２４及びハードコート層１５，２５が積層されており、前記透明導電膜層、前記第１薄膜層、前記第２薄膜層および前記ハードコート層は、それぞれについて規定された膜厚と光屈折率とを有し、パターン形成領域と非パターン形成領域とにおいて照射される光の反射率の差に関し、波長３８０〜４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００〜８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値を０．７以下とする。
【選択図】図１
【解決手段】透明基板１１，２１の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層１２，２２を有する透明面状体１，２であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層１３，２３、第２薄膜層１４，２４及びハードコート層１５，２５が積層されており、前記透明導電膜層、前記第１薄膜層、前記第２薄膜層および前記ハードコート層は、それぞれについて規定された膜厚と光屈折率とを有し、パターン形成領域と非パターン形成領域とにおいて照射される光の反射率の差に関し、波長３８０〜４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００〜８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値を０．７以下とする。
【選択図】図１
Description
本発明は、透明面状体及び透明タッチパネルに関する。
入力位置を検出するためのタッチパネルの構成は、従来から種々検討されているが、一例として静電容量式のタッチパネルが知られている。例えば、特許文献１に開示されたタッチパネルは、それぞれ所定のパターン形状を有する透明導電膜層を備えた一対の透明面状体の間に誘電体層が介在されて構成されており、指などが操作面に触れると、人体を介して接地されることによる静電容量の変化を利用して、タッチ位置を検出することができる。
上述したタッチパネルは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表面に装着して用いられるが、透明面状体に形成された透明導電膜層のパターン形状が目立ってしまい、視認性の低下を招いていた。
そこで、本発明は、視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルの提供を目的とする。
本発明の上記目的は、透明基板の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層を有する透明面状体であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層、第２薄膜層及びハードコート層が積層されており、前記透明導電膜層は、その膜厚が１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下、光屈折率が１．９以上２．３以下であり、前記第１薄膜層は、その膜厚が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、光屈折率が１．３以上１．５５以下であり、前記第２薄膜層は、その膜厚が３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、光屈折率が１．６以上１．９以下であり、前記ハードコート層は、その膜厚が１μｍ以上７μｍ以下、光屈折率が１．６以上１．８以下であり、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されているパターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率、及び、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることを特徴とする透明面状体により達成される。
また、この透明面状体において、前記ハードコート層の光屈折率は、前記第２薄膜層の光屈折率よりも低いことが好ましい。
また、前記第１薄膜層は、酸化珪素からなることが好ましい。
また、前記ハードコート層は、無機微粒子が添加された樹脂組成物により形成されていることが好ましい。
また、上記目的は、上記透明面状体を備える透明タッチパネルにより達成される。
本発明によれば、視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルを提供することができる。
以下、本発明の実態形態について添付図面を参照して説明する。尚、各図面は、構成の理解を容易にするため、実寸比ではなく部分的に拡大又は縮小されている。
図１は、本発明の一実施形態に係る透明タッチパネルの概略構成断面図である。この透明タッチパネル１０１は、静電容量式のタッチパネルであり、第１透明面状体１と第２透明面状体２とを備えている。第１透明面状体１は、透明基板１１と、当該透明基板１１の一方面側にパターニングされた透明導電膜層１２とを備えている。また、透明基板１１と透明導電膜層１２との間には、透明導電膜層１２側から順に、第１薄膜層１３、第２薄膜層１４及びハードコート層１５が積層されている。透明導電膜層１２は、第１薄膜層１３上に形成されており、ハードコート層１５は、透明基板１１上に形成されている。第２透明面状体２は、第１透明面状１と同様な構成を備えており、透明基板２１と、当該透明基板２１の一方面側にパターニングされた透明導電膜層２２とを備えている。また、透明基板２１と透明導電膜層２２との間には、透明導電膜層２２側から順に、第１薄膜層２３、第２薄膜層２４及びハードコート層２５が積層されている。透明導電膜層２２は、第１薄膜層２３上に形成されており、ハードコート層２５は、透明基板２１上に形成されている。
第１透明面状体１と第２透明面状体２とは、図１に示すように第１透明面状体１における透明基板１１の他方面（ハードコート層１５が形成されていない面）と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、粘着層４を介して貼着されている。また、第１透明面状体１における透明導電膜層１２上には、透明導電膜層１２を保護するための保護層３が粘着層５を介して設けられている。この保護層３としては、耐擦傷性、耐摩耗性、耐指紋性、ノングレア性等向上のため表面処理加工が施された各種シートを好適に用いることができる。
透明基板１１，２１は、絶縁層を構成する誘電体基板であり、透明性が高い材料からなることが好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアクリル（ＰＡＣ）、アクリル、非晶性ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの合成樹脂製の可撓性フィルムやこれら２種以上の積層体、或いは、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス板により形成される。透明基板１１，２１の厚みは、特に限定されないが、例えば、合成樹脂製の可撓性フィルムにより透明基板１１，２１を構成する場合には、１０μｍ〜５００μｍ程度とすることが好ましく、２０μｍ〜２００μｍ程度とすることがさらに好ましい。また、ガラス板により透明基板１１，２１を構成する場合には、２０μｍ〜１０００μｍ程度とすることが好ましい。また、透明基板１１，２１の光屈折率は、１．４以上１．７以下の範囲に設定することが好ましい。
また、可撓性を有する材料から透明基板１１，２１を形成する場合、当該透明基板１１，２１に剛性を付与するために支持体を貼着してもよい。支持体としては、ガラス板や、ガラスに準ずる硬度を有する樹脂材料を例示することができ、その厚さは１００μｍ以上であることが好ましく、０．２ｍｍ〜１０ｍｍであることがより好ましい。
透明基板１１，２１の一方面にそれぞれ形成されているハードコート層１５，２５は、例えば、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂、エポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂、シリコーン系熱硬化性樹脂などの樹脂組成物により形成されている。このハードコート層１５，２５の厚みは、１μｍ以上７μｍ以下の範囲となるように構成されている。また、ハードコート層１５，２５の光屈折率は、１．６以上１．８以下の範囲となるように構成されている。また、ハードコート層１５，２５の光屈折率は、後述の第２薄膜層１４，２４の光屈折率よりも低くなるように設定することが好ましい。ハードコート層１５，２５と第２薄膜層１４，２４との光屈折率の差は０．０３〜０．２０程度が好ましい。光屈折率が比較的高いハードコート層１５，２５（光屈折率が１．６５以上のハードコート層１５，２５）を形成するためには、無機微粒子が分散又は複合化するようにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂等の樹脂組成物に添加すればよい。無機微粒子としては、粒径１ｎｍ以上２００ｎｍ以下のＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３等を例示することができる。ここで、ハードコート層１５，２５は、塗工法によって形成してもよく、或いは、フィルム状に形成したものを透明基板１１，２１上に貼着することにより形成してもよい。
ハードコート層１５，２５のそれぞれに積層される第２薄膜層１４，２４は、光屈折率が１．６以上１．９以下、より好ましくは１．６５以上１．８５以下の範囲となるように構成されている。第２薄膜層１４，２４は、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、酸化セリウム（iv）（ＣｅＯ２）などにより形成される膜であり、特にシリコン錫酸化物（silicon-tin oxide）を好ましく用いることができる。シリコン錫酸化物を用いる場合は、シリコンと錫の成分比を変えることにより光屈折率を適宜調整できる。また、第２薄膜層１４，２４の膜厚は、３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲となるように構成されている。また、第２薄膜層１４，２４は、スパッタリング法や塗工法等の種々の方法により形成することができる。
第２薄膜層１４，２４のそれぞれに積層される第１薄膜層１３，２３は、光屈折率が１．３以上１．５５以下、より好ましくは１．４以上１．５以下の範囲となるように構成されている。第１薄膜層１３，２３は、例えば、酸化珪素（ＳｉＯｘ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化イットリウム（ＹＦ３）、フッ化カルシウム（ＣａＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、酸化セリウム（iii）（Ｃｅ２Ｏ３）などにより形成される膜であり、その膜厚は、２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の範囲となるように構成されている。この第１薄膜層１３，２３は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法などにより形成することができる。ここで、第１薄膜層１３，２３の光屈折率は、上述の第２薄膜層１４，２４の光屈折率よりも低い。このように構成することにより、透明面状体１，２の視認性をより一層向上させることが可能となる。
第１薄膜層１３，２３のそれぞれに積層して形成される透明導電膜層１２，２２の材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系、酸化亜鉛、スズ酸化膜等の透明導電材料、或いは、スズ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどの金属材料、金属酸化物材料を例示することができ、これら２種以上を複合して形成してもよい。
透明導電膜層１２，２２の形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを例示することができる。透明導電膜層１２，２２の厚みは、１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下の範囲に設定することが好ましい。また、透明導電膜層１２，２２の光屈折率は、１．９以上２．３以下、より好ましくは１．９以上２．１以下の範囲となるように設定する。
透明導電膜層１２，２２は、図２及び図３に示すように、平行に延びる複数の帯状導電部１２ａ，２２ａの集合体としてそれぞれ形成されており、各透明導電膜層１２，２２の帯状導電部１２ａ，２２ａは、互いに直交するように配置されている。透明導電膜層１２，２２は、導電性インクや金属薄膜などからなる引き廻し回路（図示せず）を介して外部の駆動回路（図示せず）に接続される。透明導電膜層１２，２２のパターン形状は、本実施形態のものに限定されず、指などの接触ポイントを検出可能である限り、任意の形状とすることが可能である。例えば、図４及び図５に示すように、透明導電膜層１２，２２を、複数の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが直線状に連結された構成とし、各透明導電膜層１２，２２における菱形状導電部１２ｂ，２２ｂの連結方向が互いに直交し、且つ、平面視において上下の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが重なり合わないように配置してもよい。なお、透明タッチパネル１０１の分解能などの動作性能については、第１透明面状体１と第２透明面状体２とを重ね合わせた場合に、導電部が存在しない領域を少なくする構成を採用する方が優れている。このような観点から、透明導電膜層１２，２２のパターン形状として、矩形状の構成よりも、複数の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが直線状に連結された構成の方が望ましい。
透明導電膜層１２，２２のパターニングは、第１薄膜層１３，２３上にそれぞれ形成された透明導電膜層１２，２２の表面に、所望のパターン形状を有するマスク部を形成して露出部分を酸液などでエッチング除去した後、アルカリ液などによりマスク部を溶解させて行うことができる。
粘着層４，５は、エポキシ系やアクリル系など、一般的な透明な接着剤や粘着剤を用いることができ、ノルボルネン系樹脂の透明性フィルムからなる芯材を含むものであってもよい。また、シート状粘着材を複数枚重ね合わせることにより粘着層４を形成してもよく、更に、種類の異なる複数のシート状粘着材を重ね合わせて形成してもよい。粘着層４の厚みは、特に指定はないが、実用上では２００μｍ以下であることが好ましく、特に、１０μｍ〜１００μｍであることが好ましい。また、粘着層の光屈折率は、１．４以上１．７以下の範囲であることが好ましい。粘着層４の光屈折率は透明導電膜層２２の光屈折率に近づける（高くする）と、界面での屈折率差が小さくなり、パターン形状を目立たなくする効果は高まるが、粘着層４の高屈折率化には高屈折材微粒子の添加等が必要であり、透明面状体全体としての光の透過率が下がる問題がある。
以上の構成を備える透明タッチパネル１０１において、タッチ位置の検出方法は、従来の静電容量式のタッチパネルと同様であり、第１透明面状体１の表面側における任意の位置を指などで触れると、透明導電膜層１２，２２は接触位置において人体の静電容量を介して接地され、透明導電膜層１２，２２を流れる電流値を検出することにより、接触位置の座標が演算される。
ここで、図６の透明面状体１の概略構成断面図に示すように、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率、及び、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることが好ましい。つまり下記関係式を満たすことが好ましい。
｜第１反射率平均値−第２反射率平均値｜ ≦ ０．７
このように、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下である場合には、透明導電膜層１２のパターン形状を目立たなくすることができ、視認性を向上させることができる。
｜第１反射率平均値−第２反射率平均値｜ ≦ ０．７
このように、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下である場合には、透明導電膜層１２のパターン形状を目立たなくすることができ、視認性を向上させることができる。
本発明者らは、透明面状体１についてのサンプルを作成して、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率、及び、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値を算出すると共に、透明導電膜層１２のパターン形状が目立たないか否かの官能試験を行った。
作成したサンプルは、１２種類（サンプル１〜サンプル１２）であり、サンプル１を除いて、それぞれが図６に示す構造を有している。サンプル１については、第２薄膜層１４を設けず、ハードコート層１５上に第１薄膜層１３を形成するようにして構成した。また、透明基板１１を厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）により形成し、第２薄膜層１４をシリコン錫酸化物により形成した。また、第１薄膜層１３を酸化珪素により形成し、透明導電膜層１２をインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）により形成した。なお、透明導電膜層１２、第１薄膜層１３および第２薄膜層１４は、スパッタリングで成膜した。透明導電膜層１２上には、厚み５０μｍの粘着層５（アクリル系粘着剤、屈折率１．５）、および保護膜３（ここでは粘着層５のセパレートフィルム（ＰＥＴフィルム、厚み１５μｍ））を配置した。また、ハードコート層１５については、サンプル８はアクリル系紫外線硬化性樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスター）を、サンプル８以外については、アクリル系紫外線硬化性樹脂（東洋インキ製造株式会社製リオデュラスＴＶＺシリーズ）を塗工することで形成した。
また、各サンプルにおける透明基板１１、ハードコート層１５、第２薄膜層１４、第１薄膜層１３、透明導電膜層１２及び粘着層５のそれぞれの厚み及び光屈折率を下記表１ａ及び表１ｂに示す。なお、光学測定は透明基板１１側から行った。
また、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値算出は、サイバネットシステム（株）製薄膜設計ソフトウエア（OPTAS-FILM）を用いたシミュレーションにより行った。具体的には、まず、各サンプルに関し、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率（パターン形成領域反射率）を求めると共に、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率（非パターン形成領域反射率）を求める（例えば、図７に示すようなデータ；当該図７に示すデータは、上記サンプル３に関するデータである）。その後、波長毎のパターン形成領域反射率と非パターン形成領域反射率との差を算出する。この算出したパターン形成領域反射率と非パターン形成領域反射率との差に関するデータから、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値を求めると共に、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値を求め、両者の差の絶対値（｜第１反射率平均値−第２反射率平均値｜）を算出した。なお、透明基板１１は、透明導電膜層１２、第１薄膜層１３、第２薄膜層１４及びハードコート層１５に比べて極めて厚みの大きい部材であるため、透明基板１１については、その厚みを∞（無限大）としてシミュレーションを行った。また保護膜３（ＰＥＴフィルム、厚み１５μｍ）は光学設計的に影響が微小であり、計算に加えていない。
各サンプルに関し、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を下記表２〜表６に示す。なお、試験は、黒色背景のブース内で三波長蛍光灯（２７Ｗ）を照射し、本サンプルと目との距離を２０ｃｍに設定して評価した。また、表２〜表５の官能試験結果においては、透明導電膜層１２のパターン形状が全く見えないものを◎とし、色目の違う部分があることはわかるが、パターン形状がわからないものを○とした。また、パターンは確認できるが境界がぼやけて見えないものを△とし、パターン形状の外形（境界）が確認できるものを×とした。
ここで、表２は、第２薄膜層１４の厚みのみを０ｎｍ（サンプル１）、４５ｎｍ（サンプル２）、６０ｎｍ（サンプル３）、８０ｎｍ（サンプル４）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。また、表３は、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみを２０ｎｍ（サンプル５）、２５ｎｍ（サンプル３）と変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。また、表４は、第１薄膜層１３の厚みのみを１０ｎｍ（サンプル３）、２０ｎｍ（サンプル６）、４５ｎｍ（サンプル７）、８０ｎｍ（サンプル４）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。表５は、ハードコート層１５の光屈折率のみを１．５２（サンプル８）、１．６５（サンプル３）と変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。最後に、表６は、ハードコート層１５の光屈折率を１．７５と高くしたうえ、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみを２５ｎｍ（サンプル９）、３５ｎｍ（サンプル１０）、４０ｎｍ（サンプル１１）、４５ｎｍ（サンプル１２）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。
表２〜表６から、サンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０については、透明導電膜層１２のパターン形状が目立ちにくく優れた視認性を有するものであることが分かる。また、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が約０．７２６であるサンプル４は、僅かに透明導電膜層１２のパターン形状が確認されたが、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が０．７以下であるサンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０に関しては、透明導電膜層１２のパターン形状を確認できなかった。つまり、透明導電膜層１２のパターン形状の目立ちにくさは、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値と相関性を有していると認められ、この第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下である場合に、透明導電膜層１２のパターン形状を目立たなくすることができ、視認性を向上させることができることが分かる。
また、透明導電膜層１２のパターン形状を目立ちにくくする方策の一つとして、透明導電膜層１２の厚みを極力薄く形成すること（例えば１５ｎｍ未満の厚みに形成すること）により対応するという考え方がある。このような方策の場合、透明導電膜層１２の電気抵抗値が大きく上昇してしまうという問題があるが、サンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０に係る透明面状体１の場合、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが比較的大きい２０ｎｍ以上であるが、透明導電膜層１２のパターン形状は目立ちにくいものであり、本発明に係る透明面状体１によれば、透明導電膜層１２の電気抵抗値が高くならない厚み範囲（透明導電膜層１２の厚みが１５ｎｍ以上の範囲）において視認性向上を達成することが可能であることが分かる。
また、表２から、第２薄膜層１４の厚みのみが相違するサンプル１、サンプル２、サンプル３及びサンプル４を比較すると、第２薄膜層１４の厚みが８０ｎｍであるサンプル４に関しては、官能試験結果が△となっており、第２薄膜層１４の厚みが４５ｎｍであるサンプル２や６０ｎｍであるサンプル３に関しては、官能試験結果が良好（○或いは◎）となっている。このことから、視認性向上の観点からは、第２薄膜層１４の厚みが７５ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。また、第２薄膜層１４を形成していないサンプル１に関しては、官能試験結果が×となっており、第２薄膜層１４の厚みが４５ｎｍであるサンプル２に関しては、官能試験結果が○となっていることから、視認性向上の観点からは、第２薄膜層１４の厚みが３８ｎｍ以上の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。
また、表３から、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみが相違するサンプル５とサンプル３とを比較すると、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが薄い方（サンプル５）が、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）が小さくなることが分かり、視認性向上の観点からは、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが薄い方が好ましいことが分かる。
また、表４から、第１薄膜層１３の厚みのみが相違するサンプル３、サンプル６及びサンプル７を比較すると、第１薄膜層１３の厚みが４５ｎｍであるサンプル７に関しては、官能試験結果が×となっており、第１薄膜層１３の厚みが１０ｎｍであるサンプル３や２０ｎｍであるサンプル６に関しては、官能試験結果が良好（◎或いは○）となっている。このことから、視認性向上の観点からは、第１薄膜層１３の厚みが２５ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。
また、表５から、ハードコート層１５の光屈折率のみが相違するサンプル８とサンプル３とを比較すると、光屈折率が１．５２であるサンプル８は、官能試験結果が×となっており、光屈折率が１．６５であるサンプル３２は官能試験結果が◎となっていることから、ハードコート層１５の光屈折率は、１．６以上であることが好ましいことが分かる。
また、表６から、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみが相違するサンプル９、サンプル１０、サンプル１１及びサンプル１２を比較すると、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが２５ｎｍであるサンプル９や３５ｎｍであるサンプル１０に関しては、官能試験結果が良好（◎或いは○）となっており、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが４０ｎｍ以上であるサンプル１１及びサンプル１２は、官能試験結果が×となっていることから、視認性向上の観点からは、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが３８ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。なお、ハードコート層１５の光屈折率は、サンプル９、サンプル１０、サンプル１１及びサンプル１２のいずれも１．７５であることから、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みを３８ｎｍ以下の範囲に設定する場合、ハードコート層１５の光屈折率を１．８以下に設定しても透明導電膜層１２のパターン形状を目立ちにくくすることが可能であると考えられる。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の具体的な態様は上記実施形態に限定されない。例えば、上記実施形態においては、第１透明面状体１と第２透明面状体２とは、図１に示すように第１透明面状体１における透明基板１１の他方面（ハードコート層１５が形成されていない面）と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、粘着層４を介して貼着されているが、このような構成に特に限定されない。例えば、第１透明面状体１における透明導電膜層１２と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、第１透明面状体１と第透明２面状体２とを粘着層４を介して貼着してもよい。また、１枚の透明面状体の両側に透明導電膜層１２，２２をそれぞれ設けてもよい。また、１枚の透明面状体の一方面側に、透明導電膜層１２，２２を、一つの層として形成してもよい。このように透明導電膜層１２，２２を、一つの層として形成する場合、例えば特開昭６０−７５９２７号公報に開示されているように、帯状導電部１２ａと帯状導電部２２ａとの交差部分において、絶縁膜を介した状態で、一方の帯状導電部１２ａ（２２ａ）と他方の帯状導電部２２ａ（１２ａ）とが積層されるように構成する。
１０１ 透明タッチパネル
１ 第１透明面状体
２ 第２透明面状体
１１，２１ 透明基板
１２，２２ 透明導電膜層
１３，２３ 第１薄膜層
１４，２４ 第２薄膜層
１５，２５ ハードコート層
３ 保護層
４，５ 粘着層
１ 第１透明面状体
２ 第２透明面状体
１１，２１ 透明基板
１２，２２ 透明導電膜層
１３，２３ 第１薄膜層
１４，２４ 第２薄膜層
１５，２５ ハードコート層
３ 保護層
４，５ 粘着層
本発明の上記目的は、透明基板の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層を有する透明面状体であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層、第２薄膜層及びハードコート層が積層されており、前記第２薄膜層の膜厚は、前記第１薄膜層の膜厚よりも大きくなるように形成されており、前記透明導電膜層は、その膜厚が１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下、光屈折率が１．９以上２．３以下であり、前記第１薄膜層は、その膜厚が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、光屈折率が１．３以上１．５５以下であり、前記第２薄膜層は、その膜厚が３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、光屈折率が１．６以上１．９以下であり、前記ハードコート層は、その膜厚が１μｍ以上７μｍ以下、光屈折率が１．６以上１．８以下であり、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されているパターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率、及び、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることを特徴とする透明面状体により達成される。
Claims (5)
- 透明基板の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層を有する透明面状体であって、
前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層、第２薄膜層及びハードコート層が積層されており、
前記透明導電膜層は、その膜厚が１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下、光屈折率が１．９以上２．３以下であり、
前記第１薄膜層は、その膜厚が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、光屈折率が１．３以上１．５５以下であり、
前記第２薄膜層は、その膜厚が３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、光屈折率が１．６以上１．９以下であり、
前記ハードコート層は、その膜厚が１μｍ以上７μｍ以下、光屈折率が１．６以上１．８以下であり、
前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されているパターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率、及び、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることを特徴とする透明面状体。 - 前記ハードコート層の光屈折率は、前記第２薄膜層の光屈折率よりも低いことを特徴とする請求項１に記載の透明面状体。
- 前記第１薄膜層は、酸化珪素からなる請求項１又は２に記載の透明面状体。
- 前記ハードコート層は、無機微粒子が添加された樹脂組成物により形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の透明面状体。
- 請求項１から４のいずれかに記載の透明面状体を備える透明タッチパネル。
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| WO2006126604A1 (ja) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Gunze Limited | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
| JP2008243622A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Gunze Ltd | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
| JP2012118936A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明シート付タッチパネルセンサ |
| JP2013513136A (ja) * | 2010-02-03 | 2013-04-18 | グンゼ株式会社 | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
| JP2013180556A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Lintec Corp | 透明導電性フィルム及びその製造方法 |
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2013
- 2013-06-05 JP JP2013118630A patent/JP5630774B1/ja active Active
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| JP2008243622A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Gunze Ltd | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
| JP2013513136A (ja) * | 2010-02-03 | 2013-04-18 | グンゼ株式会社 | 透明面状体及び透明タッチスイッチ |
| JP2012118936A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明シート付タッチパネルセンサ |
| JP2013180556A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Lintec Corp | 透明導電性フィルム及びその製造方法 |
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