JP2014228701A - Reflective display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflective display device, in which particles in a display medium are prevented from moving among cells even when a through-hole of a counter electrode is disposed below a partition wall.SOLUTION: The reflective display device displays a desired image by a display medium when a predetermined electric field is applied between two substrates. The device includes partition walls which are disposed between the two substrates and segment a plurality of regions. A transparent electrode is formed on one substrate; and a counter electrode is formed on the other substrate. A through-hole is formed in the counter electrode. The width of a top part of the partition wall on a side close to the counter electrode is larger than the width of an opening of the through-hole on a side close to the partition wall.

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。   The present invention relates to a reflective display device applied to electronic paper and the like.

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体(通常は電気泳動する粒子)の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、2枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。   Recently, as a reflective display device, an electrophoretic display device using an electrophoretic material as an electroresponsive material contained in a display medium has been widely used. An electrophoretic display device is a device that displays information by using electrophoretic migration, that is, particle movement, of an electrophoretic body (usually electrophoretic particles) in air or in a solvent. In general, an electrophoretic state is controlled by applying an electric field between two substrates, thereby realizing a desired display. As the electrophoretic body, charged powder as well as charged particles can be used. In that case, the charged powder electrophoreses in the gas.

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性(目にやさしい)、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。   In recent years, the electrophoretic display device has attracted attention especially as an electronic paper. When applied as an electronic paper, it is possible to enjoy advantages such as visibility at the printed matter level (easy for eyes), ease of information rewriting, low power consumption, and light weight.

電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス(表示媒体)が封入されている。例えば特許文献1(特開2011−170019号公報)及び特許文献2(国際公開第2005/015892号公報)には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。   However, in an electrophoretic display device, display defects, particularly a decrease in contrast, may occur due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder. In order to prevent this phenomenon, it is used to form partition walls between the upper and lower electrode substrates and divide the migration space of the particles and powder to be electrophoresed, that is, the movement space into minute spaces. This minute space is called a cell. In each cell, ink or gas (display medium) containing an electrophoretic body is enclosed. For example, Patent Literature 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-170019) and Patent Literature 2 (International Publication No. 2005/015892) disclose a conventional example of such an electrophoretic display device.

特開2011−170019号公報JP 2011-170019 A 国際公開第2005/015892号公報International Publication No. 2005/015892 特許第4516481号公報Japanese Patent No. 4516481 特許第4579768号公報Japanese Patent No. 4579768

本件発明者は、画素電極上への隔壁の配置方法について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。   The present inventor has obtained the following knowledge while earnestly researching the arrangement method of the partition wall on the pixel electrode.

上下の電極基板の一方に、TFT電極構造が配置される画素電極など、上層部がアイランド状になっている電極が用いられる場合には、画素電極と隔壁との配置関係が問題となってくる。すなわち、上層部がアイランド状の電極には上層部の電極と下層部の電極とを電気的に接続するためのスルーホールが形成されているため、図14に示すように、このスルーホールが隔壁の下に配置されると、隔壁の下にスルーホールを通してセル間を連通する通路ができてしまう。そして表示媒体に含まれる電気応答性材料は、基板間に当該電気応答性材料を駆動するための電圧が印加されると、当該通路を通って他のセルに移動してしまうことがある。このように、電気応答性材料がセル間を移動してしまうと、セル内の表示材料の成分比が変動して電荷バランスを崩し、反射率低下、表示ムラなどの表示特性の不具合を発生させてしまう。   When an electrode having an island shape on the upper layer is used on one of the upper and lower electrode substrates, such as a pixel electrode on which a TFT electrode structure is arranged, the arrangement relationship between the pixel electrode and the partition wall becomes a problem. . That is, since the through-hole for electrically connecting the upper layer electrode and the lower layer electrode is formed in the electrode having an island-like upper layer portion, as shown in FIG. If it is arranged below, there will be a passage communicating between the cells through the through hole under the partition. When the voltage for driving the electroresponsive material is applied between the substrates, the electroresponsive material included in the display medium may move to another cell through the passage. As described above, when the electrically responsive material moves between cells, the component ratio of the display material in the cell fluctuates and the charge balance is lost, resulting in display characteristics defects such as a decrease in reflectance and display unevenness. End up.

このような問題を回避するために、隔壁と画素電極とを両者のパターンの位置ズレが起こらないように精密にアライメントし、スルーホールが隔壁の下に配置されないように、隔壁を画素電極上に配置することも考えられる。しかし、例えば隔壁と画素電極とが異なる基板上に配置されている場合には、製造上の容易さや製造コストの面から、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントを要しない方法で、これらの基板が貼り合わされることが好ましい。また、電極基板としてプラスチックフィルムが採用された場合には、そもそも基板自体の寸法安定性を確保することができないため、隔壁と画素電極と間の精密なアライメントを行いながら上下の電極基板を貼り合わせることは、不可能である。さらに、隔壁が非周期的なパターンで形成された場合も、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントを行うことは困難である。   In order to avoid such a problem, the partition and the pixel electrode are precisely aligned so that the pattern misalignment between them does not occur, and the partition is placed on the pixel electrode so that the through hole is not disposed under the partition. Arrangement is also possible. However, for example, when the partition wall and the pixel electrode are arranged on different substrates, they are not required for precise alignment between the partition wall and the pixel electrode in terms of manufacturing ease and manufacturing cost. It is preferable that these substrates are bonded together. In addition, when a plastic film is used as the electrode substrate, the dimensional stability of the substrate itself cannot be ensured in the first place, so the upper and lower electrode substrates are bonded together while performing precise alignment between the partition walls and the pixel electrodes. It is impossible. Furthermore, even when the partition walls are formed in an aperiodic pattern, it is difficult to perform precise alignment between the partition walls and the pixel electrodes.

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、隔壁の下に対向電極のスルーホールが配置されても、表示媒体中の粒子のセル間の移動が抑制される、反射型表示装置を提供することにある。   The present invention has been made based on such circumstances, and the object thereof is to suppress the movement of particles in the display medium between cells even when the through-hole of the counter electrode is disposed under the partition. Another object is to provide a reflective display device.

本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、前記2枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、を備え、一方の基板には、透明な電極が形成されており、他方の基板には、対向電極が形成されており、前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置されており、前記対向電極には、スルーホールが形成されており、前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅が、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きいことを特徴とする反射型表示装置である。   In the present invention, a display medium including at least one kind of electrically responsive material is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each has electrodes formed thereon, A reflective display device in which the display medium performs a desired display when a predetermined electric field is applied between two substrates, and a partition that partitions a plurality of regions disposed between the two substrates; Each of the regions partitioned by the partition walls as a cell, and the display medium disposed in each cell, wherein a transparent electrode is formed on one substrate, and the other substrate is opposed to the other substrate. An electrode is formed, the transparent electrode and the counter electrode are arranged to face each other, and the counter electrode has a through hole formed on the top of the partition on the counter electrode side. The width of the opening on the partition side of the through hole A reflective display device and greater than.

本発明によれば、隔壁の対向電極側の頂部の幅が、スルーホールの隔壁側の開口の幅よりも大きい。この場合、隔壁がスルーホールと重なるように配置されていても、当該スルーホールは隔壁によって塞がれているため、当該隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   According to the present invention, the width of the top portion of the partition wall on the counter electrode side is larger than the width of the opening of the through hole on the partition wall side. In this case, even if the partition wall is arranged so as to overlap the through hole, the through hole is blocked by the partition wall, so that a passage communicating between the cells is suppressed under the partition wall. The Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

好ましくは、前記隔壁の前記対向電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置されている。この場合、スルーホールと重なるように配置された隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   Preferably, a top portion of the partition wall on the counter electrode side is disposed so as to partially overlap the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate. In this case, it is possible to suppress the formation of a passage communicating between the cells under the partition wall arranged so as to overlap the through hole. Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、前記2枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、を備え、一方の基板には、透明な電極が形成されており、他方の基板には、対向電極が形成されており、前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置されており、前記対向電極には、スルーホールが形成されており、前記隔壁の前記対向電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置されており、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て前記スルーホールと重なるように配置された前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅が、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きいことを特徴とする反射型表示装置である。   Alternatively, in the present invention, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each electrode is formed. A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates, and divides a plurality of regions arranged between the two substrates. A partition, and the display medium disposed in each cell with each region partitioned by the partition as a cell, a transparent electrode is formed on one substrate, and the other substrate is A counter electrode is formed, the transparent electrode and the counter electrode are arranged to face each other, a through hole is formed in the counter electrode, and the counter electrode side of the partition wall is formed on the counter electrode side. The top portion extends from the one substrate to the other substrate. The partition wall is arranged so as to partially overlap the through hole when viewed in the direction toward the first substrate, and overlaps the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate. The reflective display device is characterized in that the width of the top portion on the counter electrode side is larger than the width of the opening on the partition wall side of the through hole.

本発明によれば、スルーホールと重なるように配置された隔壁の対向電極側の頂部の幅は、スルーホールの隔壁側の開口の幅よりも大きい。この場合、スルーホールと重なるように配置された隔壁はスルーホールを塞いでいるため、スルーホールと重なるように配置された隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   According to the present invention, the width of the top portion on the counter electrode side of the partition arranged so as to overlap the through hole is larger than the width of the opening on the partition side of the through hole. In this case, since the partition arranged so as to overlap the through hole blocks the through hole, formation of a passage communicating between the cells is suppressed under the partition arranged so as to overlap the through hole. The Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

また、例えば、前記対向電極は、TFT電極構造を有する画素電極である。   For example, the counter electrode is a pixel electrode having a TFT electrode structure.

また、例えば、前記対向電極は、セグメント電極である。   For example, the counter electrode is a segment electrode.

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板上に複数の領域を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記一方の基板または他方の基板上に前記表示媒体を配置する表示媒体配置工程と、前記表示媒体が配置された後に、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、前記表示媒体が各セル内に封止されるよう、前記一方の基板と前記他方の基板とを、当該一方の基板の前記隔壁の頂面と当該他方の基板とが対向するように配置する対向基板配置工程と、を備え、前記一方の基板には、予め透明な電極が形成されており、前記他方の基板には、予めスルーホールを有する対向電極が形成されており、前記対向基板配置工程では、前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置され、前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅が、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きいことを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。   Alternatively, in the present invention, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each electrode is formed. A method of manufacturing a reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates, and a plurality of regions are partitioned on one substrate. A partition forming step for forming a partition, a display medium disposing step for disposing the display medium on the one substrate or the other substrate, and a region partitioned by the partition after the display medium is disposed As described above, the one substrate and the other substrate are arranged so that the top surface of the partition wall of the one substrate faces the other substrate so that the display medium is sealed in each cell. An opposing substrate placement step A transparent electrode is formed in advance on the one substrate, and a counter electrode having a through hole is formed in advance on the other substrate. In the counter substrate arranging step, the transparent electrode and the A reflective display device manufacturing method, wherein the reflective electrode device is disposed so as to face a counter electrode, and a width of a top portion of the partition wall on the counter electrode side is larger than a width of an opening of the through hole on the partition wall side. It is.

本発明によれば、隔壁の対向電極側の頂部の幅が、スルーホールの隔壁側の開口の幅よりも大きい。この場合、隔壁がスルーホールと重なるように配置されても、当該スルーホールは隔壁によって塞がれるため、当該隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   According to the present invention, the width of the top portion of the partition wall on the counter electrode side is larger than the width of the opening of the through hole on the partition wall side. In this case, even if the partition wall is arranged so as to overlap the through hole, the through hole is blocked by the partition wall, so that a passage communicating between the cells is suppressed from being formed under the partition wall. Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

好ましくは、前記対向基板配置工程において、前記隔壁の前記対向電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置される。この場合、スルーホールと重なるように配置された隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   Preferably, in the counter substrate arrangement step, the top of the partition on the counter electrode side is arranged so as to partially overlap the through hole when viewed in the direction from the one substrate to the other substrate. . In this case, it is possible to suppress the formation of a passage communicating between the cells under the partition wall arranged so as to overlap the through hole. Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板上に複数の領域を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記一方の基板または他方の基板上に前記表示媒体を配置する表示媒体配置工程と、前記表示媒体が配置された後に、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、前記表示媒体が各セル内に封止されるよう、前記一方の基板と前記他方の基板とを、当該一方の基板の前記隔壁の頂面と当該他方の基板とが対向するように配置する対向基板配置工程と、を備え、前記一方の基板には、予め透明な電極が形成されており、前記他方の基板には、予めスルーホールを有する対向電極が形成されており、前記対向基板配置工程では、前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置されると共に、前記隔壁の前記対向電極側の頂部が、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置され、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て前記スルーホールと重なるように配置された前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅は、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きいことを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。   Alternatively, in the present invention, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each electrode is formed. A method of manufacturing a reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates, and a plurality of regions are partitioned on one substrate. A partition forming step for forming a partition, a display medium disposing step for disposing the display medium on the one substrate or the other substrate, and a region partitioned by the partition after the display medium is disposed As described above, the one substrate and the other substrate are arranged so that the top surface of the partition wall of the one substrate faces the other substrate so that the display medium is sealed in each cell. An opposing substrate placement step A transparent electrode is formed in advance on the one substrate, and a counter electrode having a through hole is formed in advance on the other substrate. In the counter substrate arranging step, the transparent electrode and the The counter electrode is disposed so as to oppose the counter electrode, and the top of the partition on the counter electrode side is partially overlapped with the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate. The width of the top portion on the counter electrode side of the partition wall disposed so as to overlap the through hole when viewed in the direction from the one substrate toward the other substrate is the opening on the partition side of the through hole. It is a manufacturing method of a reflection type display device characterized by being larger than the width of the reflection type display device.

本発明によれば、スルーホールと重なるように配置された隔壁の対向電極側の頂部の幅は、スルーホールの隔壁側の開口の幅よりも大きい。この場合、スルーホールと重なるように配置された隔壁は当該スルーホールを塞ぐこととなるため、スルーホールと重なるように配置された隔壁の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。   According to the present invention, the width of the top portion on the counter electrode side of the partition arranged so as to overlap the through hole is larger than the width of the opening on the partition side of the through hole. In this case, since the partition arranged so as to overlap the through hole closes the through hole, a passage communicating between the cells may be formed under the partition arranged so as to overlap the through hole. It is suppressed. Therefore, it is suppressed that the particle | grains in a display medium move between cells through a through hole.

本発明によれば、隔壁の下に対向電極のスルーホールが配置されても、表示媒体中の粒子のセル間の移動が抑制される、反射型表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a reflective display device in which the movement of particles in a display medium between cells is suppressed even when a through-hole of a counter electrode is disposed under a partition.

図1は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す反射型表示装置の他方の基板上に形成された画素電極と画素電極に形成されたスルーホールとを概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing a pixel electrode formed on the other substrate of the reflective display device shown in FIG. 1 and a through hole formed in the pixel electrode. 図3は、画素電極と、当該画素電極に配置されたTFT電極構造と、当該画素電極とTFT電極構造とを電気的に接続するためのスルーホールと、を概略的に示す図である。詳しくは、図3(a)が、画素電極とTFT電極構造とスルーホールとを示す平面図であり、図3(b)が、図3(a)の3b−3b線断面図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a pixel electrode, a TFT electrode structure disposed on the pixel electrode, and a through hole for electrically connecting the pixel electrode and the TFT electrode structure. Specifically, FIG. 3A is a plan view showing a pixel electrode, a TFT electrode structure, and a through hole, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line 3b-3b of FIG. 図4は、セグメント電極の表示パターン電極と、当該表示パターン電極に配置された配線電極と、当該表示パターン電極と配線電極とを電気的に接続するためのスルーホールと、を概略的に示す図である。詳しくは、図4(a)が、セグメント電極と配線電極とスルーホールとを示す平面図であり、図4(b)が、図4(a)の4b−4b線断面図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a display pattern electrode of a segment electrode, a wiring electrode arranged on the display pattern electrode, and a through hole for electrically connecting the display pattern electrode and the wiring electrode. It is. Specifically, FIG. 4A is a plan view showing a segment electrode, a wiring electrode, and a through hole, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line 4b-4b of FIG. 図5は、スルーホールの幅の定義について説明する図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the definition of the width of the through hole. 図6は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。FIG. 6 is a flowchart schematically showing a manufacturing method of the reflective display device according to the embodiment of the present invention. 図7は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing an example of the partition wall forming step. 図8は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the definition of the width of the top surface of the partition wall. 図9は、接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the adhesive layer forming step. 図10は、隔壁上に接着層が形成されている場合における、隔壁の対向電極側の頂部の幅の定義について説明する図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the definition of the width of the top of the partition wall on the counter electrode side when an adhesive layer is formed on the partition wall. 図11は、隔壁上に接着層が形成されない場合における、隔壁の対向電極側の頂部の幅の定義について説明する図である。FIG. 11 is a diagram for explaining the definition of the width of the top portion of the partition wall on the counter electrode side when the adhesive layer is not formed on the partition wall. 図12は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 12 is a diagram schematically showing an example of the display medium arranging step. 図13は、対向基板配置工程において、一方の基板上に他方の基板が接着されている様子を概略的に示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a state where the other substrate is bonded onto one substrate in the counter substrate arranging step. 図14は、本発明の比較例による表示装置における隔壁の対向基板側の頂部の幅と、スルーホールの隔壁側の開口の幅と、の関係を概略的に示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing the relationship between the width of the top portion of the partition wall on the counter substrate side and the width of the opening of the through hole on the partition wall side in the display device according to the comparative example of the present invention.

図1は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極111,161が形成されている対向する2枚の基板間11,16に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体13が封入されていて、2枚の基板11,16間に所定の電界が与えられる際に表示媒体13が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板(一方の基板11)は、全光透過率が50%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上となるような透光性を有している。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. In the reflective display device according to the present embodiment, at least one of the electrical responses is provided between the two opposing substrates 11 and 16 on which at least one of them has translucency and the electrodes 111 and 161 are respectively formed. A display medium 13 containing a conductive material is enclosed, and the display medium 13 performs a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates 11 and 16. Here, in the specification and claims of the present application, “translucent” means a property of transmitting light. In the present embodiment, the substrate (one substrate 11) arranged on the viewing side has a light-transmitting property such that the total light transmittance is 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more. have.

図2乃至図14において、一方の基板11の面上には、電極111が設けられているが、電極111の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板11が視認側に配置され、他方の基板16が非視認側に配置される。   2 to 14, an electrode 111 is provided on the surface of one substrate 11, but the illustration of the electrode 111 is omitted. In the present embodiment, one substrate 11 is disposed on the viewing side, and the other substrate 16 is disposed on the non-viewing side.

一方の基板11としては、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等の透明な電極(透明電極)111を付したものが、典型的に用いられ得る。   One substrate 11 includes a light-transmitting film such as polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), or light-transmitting glass, and indium tin oxide (ITO). ), Zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or the like, to which a transparent electrode (transparent electrode) 111 is attached can be typically used.

透明電極111は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、CVD法等によって形成され得る。透明電極111は、アクティブマトリクス駆動の場合及びセグメント駆動の場合は共通電極として用いられるので、必ずしもパターンが形成されている必要は無く、基板全面が電極であってもよい。   The transparent electrode 111 can be formed by a coating method, sputtering, a vacuum deposition method, a CVD method, or the like. Since the transparent electrode 111 is used as a common electrode in the case of active matrix driving and segment driving, it is not always necessary to form a pattern, and the entire surface of the substrate may be an electrode.

一方の基板11の厚みは、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of one substrate 11 is preferably 10 μm to 1 mm. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

一方の基板11上には、バリア層が設けられてもよい。バリア層の機能は、セル内に水分が浸入することによる表示劣化を防止することである。バリア層は、一方の基板11の表示媒体13が配置される側の面(表示媒体側の面)に配置されてもよいし、当該表示媒体側の面とは反対側の面に設けられてもよい。また、バリア層は、一方の基板11と電極111との間に設けられてもよい。本実施の形態では、一方の基板は視認側に配置されるため、バリア層は、透光性である必要がある。バリア層は、無機膜が一方の基板11上に蒸着されることにより得られてもよいし、予めバリア層が形成されたフィルムが一方の基板11上に貼り合わせられることにより得られてもよい。   A barrier layer may be provided on one substrate 11. The function of the barrier layer is to prevent display deterioration due to moisture entering the cells. The barrier layer may be disposed on the surface of one substrate 11 on which the display medium 13 is disposed (the surface on the display medium side), or provided on the surface opposite to the surface on the display medium side. Also good. Further, the barrier layer may be provided between the one substrate 11 and the electrode 111. In this embodiment, since one substrate is disposed on the viewing side, the barrier layer needs to be light-transmitting. The barrier layer may be obtained by depositing an inorganic film on one substrate 11, or may be obtained by pasting a film on which a barrier layer has been previously formed on one substrate 11. .

また、一方の基板11の表示媒体側の面とは反対側の面に、紫外線カットフィルムまたは紫外線吸収層が設けられ得る。あるいは、一方の基板11自体に紫外線吸収機能を持たせてもよい。   Further, an ultraviolet cut film or an ultraviolet absorption layer may be provided on the surface of one substrate 11 opposite to the display medium side surface. Alternatively, one substrate 11 itself may have an ultraviolet absorbing function.

また、一方の基板11の表示媒体側の面とは反対側の面に、その他の表面コート層として、防眩層(AG層)、傷防止層(HC層)、反射防止層(AR層)などが付加され得る。   In addition, on the surface opposite to the display medium side surface of one of the substrates 11, as other surface coating layers, an antiglare layer (AG layer), a scratch prevention layer (HC layer), and an antireflection layer (AR layer). Etc. may be added.

一方の基板11は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。   One substrate 11 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

他方の基板16としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等の表示媒体側の面に金属等の導電性材料によって対向電極161が形成されたものが用いられ得る。対向電極161としては、セグメント駆動の場合はパターン状の電極、また、アクティブマトリクス駆動の場合はTFT(Thin Film Transistor)が配置される画素電極が用いられる。   As the other substrate 16, a substrate in which a counter electrode 161 is formed of a conductive material such as a metal on a display medium side surface such as a resin film, a resin plate, glass, epoxy glass (glass epoxy), or the like can be used. As the counter electrode 161, a pattern electrode is used in the case of segment driving, and a pixel electrode in which a TFT (Thin Film Transistor) is arranged in the case of active matrix driving is used.

また他方の基板16は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板16は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板11と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板11と同様の透光性の部材が使用され得る。   The other substrate 16 may be a translucent base material. Furthermore, it may be an opaque base material that is translucent, but an opaque glass base material, resin film, resin plate, glass, epoxy glass with the other surface different from the electrode surface roughened. (Garaepo) or the like can be used. In the present embodiment, since the other substrate 16 is disposed at a position opposite to the viewing side, there is no necessity of having translucency. However, when the same physical properties as the one substrate 11 such as thermal expansion characteristics are required, a light-transmitting member similar to the one substrate 11 can be used.

他方の基板16の厚みも、一方の基板11の厚みと同様に、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

他方の基板16の厚みも、一方の基板11の厚みと同様に、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

他方の基板16には、更なる機能層が付加され得る。例えば、他方の基板16上に、バリアフィルムが貼付され得る。予め透明無機膜のバリア層が蒸着等で形成された透明フィルムや、金属膜などの透光性のないバリア層が形成された透明フィルムが、他方の基板16として採用されても、これと同様の機能を発揮できる。バリアフィルムないしバリア層は、他方の基板16の表示媒体側の面(画素電極161上)に設けられてもよいし、当該表示媒体側の面とは反対側の面に設けられてもよい。   Further functional layers can be added to the other substrate 16. For example, a barrier film can be attached on the other substrate 16. Even if a transparent film in which a transparent inorganic film barrier layer is formed in advance by vapor deposition or the like, or a transparent film in which a non-transparent barrier layer such as a metal film is formed as the other substrate 16, is the same as this. The function of can be demonstrated. The barrier film or barrier layer may be provided on the display medium side surface of the other substrate 16 (on the pixel electrode 161), or may be provided on the surface opposite to the display medium side surface.

また、他方の基板16の表示媒体側の面とは反対側の面に、紫外線カットフィルムまたは紫外線吸収層が設けられ得る。あるいは、他方の基板16自体に紫外線吸収機能を持たせてもよい。   Further, an ultraviolet cut film or an ultraviolet absorption layer may be provided on the surface of the other substrate 16 opposite to the surface on the display medium side. Alternatively, the other substrate 16 itself may have an ultraviolet absorbing function.

他方の基板16も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。   The other substrate 16 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

ここで、他方の基板16に形成された対向電極161について、図2乃至図5を参照して、より詳細に説明する。   Here, the counter electrode 161 formed on the other substrate 16 will be described in more detail with reference to FIGS.

本実施の形態では、対向電極161は、図3に示すようなTFT(Thin Film Transistor)電極構造163を有する画素電極であり、画素電極161は、反射型表示装置において所望の表示に利用される領域(表示領域)を網羅するように、マトリックス状に配置されている(図2参照)。そして、各画素電極161には、図3に示すように、画素電極161と、当該画素電極161及び他方の基板16の間に設けられたTFT電極構造163と、を電気的に接続するためのスルーホール162が形成されている。   In the present embodiment, the counter electrode 161 is a pixel electrode having a TFT (Thin Film Transistor) electrode structure 163 as shown in FIG. 3, and the pixel electrode 161 is used for a desired display in a reflective display device. They are arranged in a matrix so as to cover the area (display area) (see FIG. 2). As shown in FIG. 3, each pixel electrode 161 is electrically connected to the pixel electrode 161 and a TFT electrode structure 163 provided between the pixel electrode 161 and the other substrate 16. A through hole 162 is formed.

なお、他方の基板16上に図4に示すようなセグメント電極が形成される場合には、対向電極161は表示パターン電極であり、表示パターン電極161には、表示パターン電極161と、当該表示パターン電極161及び他方の基板16の間に設けられた配線電極164と、を電気的に接続するためのスルーホール162が形成されている。   When the segment electrode as shown in FIG. 4 is formed on the other substrate 16, the counter electrode 161 is a display pattern electrode, and the display pattern electrode 161 includes the display pattern electrode 161 and the display pattern. A through hole 162 for electrically connecting the electrode 161 and the wiring electrode 164 provided between the other substrate 16 is formed.

スルーホール162の隔壁12側の開口の幅は、10μm〜100μm、好ましくは10μm〜50μmである。   The width of the opening on the partition wall 12 side of the through hole 162 is 10 μm to 100 μm, preferably 10 μm to 50 μm.

ここで、スルーホール162の隔壁12側の開口の幅の定義を、図5に示す。本実施の形態では、当該開口は、図5(a)に示すような円形であり、当該開口の幅は、その直径の長さとして定義される。しかし、開口が円形以外の形状である場合には、開口の幅は、その最大の幅として定義される。例えば、開口が図5(b)に示すような矩形である場合には、その対角線の長さとして理解され、開口が図5(c)に示すような楕円形である場合には、その長径の長さとして理解される。   Here, the definition of the width of the opening of the through hole 162 on the partition wall 12 side is shown in FIG. In the present embodiment, the opening is circular as shown in FIG. 5A, and the width of the opening is defined as the length of the diameter. However, if the opening has a shape other than a circle, the width of the opening is defined as its maximum width. For example, when the opening is a rectangle as shown in FIG. 5B, it is understood as the length of the diagonal line, and when the opening is an ellipse as shown in FIG. Is understood as the length of.

なお、スルーホール162の隔壁12側の開口の幅は、例えば、非接触3次元表面形状・粗さ測定器(Zygo株式会社製NewView7100)を用いて測定し得る。   The width of the opening on the partition wall 12 side of the through hole 162 can be measured using, for example, a non-contact three-dimensional surface shape / roughness measuring instrument (NewView 7100 manufactured by Zygo Corporation).

<反射型表示装置の製造方法>
図6は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
<Method for manufacturing reflective display device>
FIG. 6 is a flowchart schematically showing a manufacturing method of the reflective display device according to the embodiment of the present invention.

図7は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図7に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板11の上面に、例えばフォトリソグラフィ法(紫外線(UV)照射による露光→現像→焼成)によって、隔壁12が形成される。隔壁12は、後述する複数のセルを規定する部材である。   FIG. 7 is a diagram schematically showing an example of the partition wall forming step. As shown in FIG. 7, first, partition walls 12 are formed on the upper surface of one substrate 11 generally placed in the horizontal direction by, for example, photolithography (exposure by ultraviolet (UV) irradiation → development → firing). The The partition wall 12 is a member that defines a plurality of cells to be described later.

なお、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「セル」とは、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して表示の不良、特にコントラストの低下を防止するべく上下の電極基板11,16間に形成された隔壁12によって分割された、電気泳動する粒子や粉体の微小な泳動空間、すなわち移動空間を意味する。   In the specification and claims of the present application, the “cell” means the upper and lower electrode substrates 11, 11 to prevent display defects due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder, in particular, reduction in contrast. This means a minute migration space of particles or powder to be electrophoresed, that is, a movement space, divided by partition walls 12 formed between 16.

隔壁12は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁12の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板11に貼り付けるという方法も採用され得る。開口率は、70%以上が好ましく、特に90%以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。   The partition wall 12 can be composed of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, or the like. As a method for forming the partition wall 12, a mold transfer method such as embossing can be adopted in addition to the photolithography method. Further, a method of manufacturing a structure having a desired pattern as a partition and sticking the structure to one substrate 11 may be employed. The aperture ratio is preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. The higher the aperture ratio, the wider the displayable area, so that high contrast can be obtained.

隔壁12の単位パターンの形状は、円、格子、六角形、その他の多角形など、基本的に任意である。また、セルのサイズ(ピッチ)は、表示パネルの大きさにもよるが、0.05mm〜1mmピッチ、好ましくは0.1mm〜0.5mmピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点の距離を意味している。   The shape of the unit pattern of the partition wall 12 is basically arbitrary, such as a circle, a lattice, a hexagon, and other polygons. The cell size (pitch) is 0.05 mm to 1 mm, preferably 0.1 mm to 0.5 mm, although it depends on the size of the display panel. Here, the pitch means the distance between the center points of adjacent cells.

隔壁12の頂面の幅は、9μm〜50μm、好ましくは9μm〜20μmである。9μmというのは、隔壁12が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁12の頂面の幅が9μm未満である場合、隔壁12の長さが60μm以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁12の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁12が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁12による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である50μmというのは、目視したときに隔壁12が目立ち過ぎない上限である。   The width of the top surface of the partition wall 12 is 9 μm to 50 μm, preferably 9 μm to 20 μm. 9 μm is the lower limit of the line width at which the partition wall 12 can be patterned without falling down. When the width of the top surface of the partition wall 12 is less than 9 μm, in a pattern in which the length of the partition wall 12 is 60 μm or more, at least a part of the partition wall 12 falls, peels off, or the separated partition wall 12 moves over the substrate. Or move. In that case, the function of preventing the movement of particles by the partition wall 12 is lost, and the display quality is deteriorated. On the other hand, the upper limit of 50 μm, which is the upper limit of the preferred range, is an upper limit at which the partition wall 12 is not too conspicuous when visually observed.

ここで、隔壁12の頂面の幅の定義を、図8に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図8(a)や図8(b)に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図8(c)や図8(d)に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁12が形成された一方の基板11を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム(大和光機工業株式会社製:FX−801)により隔壁12の断面を切り出し、走査電子顕微鏡(SEM)によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。   Here, the definition of the width of the top surface of the partition 12 is shown in FIG. If the corners of the top surface are not rounded, the width of the top surface is defined as it is, as shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b). On the other hand, when the corner of the top surface is rounded, it is understood as the width between the intersecting lines of the extended surface of the top surface and the extended surface of the wall surface as shown in FIG. 8 (c) and FIG. 8 (d). The As a measuring method for evaluation, one substrate 11 on which the partition wall 12 was formed was embedded in a curable resin, and a cross section of the partition wall 12 was cut out by a microtome (Daiwa Kogyo Kogyo Co., Ltd .: FX-801). Each width can be measured based on an image taken by a scanning electron microscope (SEM).

隔壁12の厚みは、5〜50μm、好ましくは10〜50μmである。5μm以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、50μm以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、10〜50μmの範囲の厚みが好適である。   The thickness of the partition wall 12 is 5 to 50 μm, preferably 10 to 50 μm. If the thickness is 5 μm or less, the amount of ink to be filled is small and sufficient display characteristics, particularly contrast, cannot be obtained. From the viewpoint that good display characteristics can be obtained at a low driving voltage, a thickness in the range of 10 to 50 μm is preferable.

次に、隔壁12上に接着層22が形成される(接着層形成工程:図6の工程(2))。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、1μm〜100μmの厚みで形成される。好ましくは、1μm〜50μmの厚みで形成され、特に好ましくは、1μm〜20μmの厚みで形成される。   Next, the adhesive layer 22 is formed on the partition wall 12 (adhesive layer forming step: step (2) in FIG. 6). In this adhesive layer forming step, a thermoplastic resin such as a polyester-based thermoplastic adhesive is formed with a thickness of 1 μm to 100 μm by, for example, a transfer method or a printing method. Preferably, it is formed with a thickness of 1 μm to 50 μm, particularly preferably with a thickness of 1 μm to 20 μm.

転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図9に示すように、例えば基材21としてのPETフィルム上に20μmの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のような接着剤221を形成した転写シート20を用意する。次に、この転写シート20を、接着剤221の面が一方の基板11の隔壁12の頂面上に配置されるように、一方の基板11と対向して配置する。この状態で、一方の基板11と転写シート20とを、常温で1kPaの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、これを接着剤221の軟化温度以上の温度である例えば120℃に保たれたホットプレート上において1分間加熱し、その後転写シート20を剥離する。これにより、隔壁12上に例えば10μm程度の接着層22が形成される。   Supplementing a specific description of an example of a typical thermal transfer method as a transfer method, as shown in FIG. 9, for example, a polyester-based thermoplastic adhesive having a thickness of 20 μm on a PET film as a substrate 21. A transfer sheet 20 on which an adhesive 221 is formed is prepared. Next, the transfer sheet 20 is arranged to face the one substrate 11 so that the surface of the adhesive 221 is arranged on the top surface of the partition wall 12 of the one substrate 11. In this state, one substrate 11 and the transfer sheet 20 are laminated at a normal temperature and a pressure of 1 kPa. After lamination, this is heated for 1 minute on a hot plate maintained at 120 ° C., which is a temperature higher than the softening temperature of the adhesive 221, and then the transfer sheet 20 is peeled off. As a result, an adhesive layer 22 of about 10 μm, for example, is formed on the partition wall 12.

接着層22を形成するための接着剤221としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。   As the adhesive 221 for forming the adhesive layer 22, an adhesive using a thermoplastic material is preferable. It has a property of softening by heating and solidifying when cooled, and is plastic when repeated cooling and heating. Is a material that is reversibly maintained.

熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材上の固化している接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁上面のみに確実に接着剤を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体が接着剤と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁頂面の接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板に確実に接着される。他方の基板との接着後の接着剤は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体が接着剤と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。   When an adhesive made of a thermoplastic material is used as the adhesive layer, the adhesive solidified on the transfer sheet substrate is softened by heating to a temperature exceeding the softening temperature, and only on the upper surface of the partition wall. The adhesive can be reliably thermally transferred. Moreover, since the adhesive after thermal transfer is cooled to room temperature and solidified again, tackiness, that is, stickiness, is eliminated. Further, since there is no tack or stickiness, the display medium filled in the cell does not adhere to the adhesive. Then, the adhesive on the top surface of the partition wall is heated again to a temperature exceeding the softening temperature to be softened, so that it has tackiness, that is, stickiness, so that it is securely bonded to the other substrate. Since the adhesive after being bonded to the other substrate does not have tack or stickiness at normal temperature again, the display medium will not adhere to the adhesive and display quality may not be deteriorated.

具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。   Specifically, thermoplastic base polymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, polyamide, polyolefin, polyurethane, natural rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene. A resin mainly composed of a thermoplastic elastomer such as a butylene-styrene block copolymer or a styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer, and a tackifier resin or a plasticizer is mainly used.

隔壁12と接着剤221との密着性を上げるために、隔壁12に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤221の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。   In order to improve the adhesion between the partition wall 12 and the adhesive 221, the partition wall 12 may be subjected to a surface treatment by ultraviolet irradiation, plasma treatment, or the like, or a primer may be formed. Alternatively, a silane coupling agent may be added to the adhesive 221.

本実施の形態では、図10に示すように、接着層22は、後述する対向基板配置工程後において、対向電極161平面上での隔壁12頂面の幅方向における接着層22の幅Dが、スルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも大きくなるように形成される。   In the present embodiment, as shown in FIG. 10, the adhesive layer 22 has a width D of the adhesive layer 22 in the width direction of the top surface of the partition wall 12 on the plane of the counter electrode 161 after the counter substrate placement step described later. The through hole 162 is formed to be larger than the width of the opening on the partition wall 12 side.

もっとも、図11に示すように、隔壁12の頂面上に接着層22が形成されない場合には、隔壁22が、その頂面の幅がスルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも大きくなるように形成されればよい。   However, as shown in FIG. 11, when the adhesive layer 22 is not formed on the top surface of the partition wall 12, the top surface of the partition wall 22 is larger than the opening width of the through hole 162 on the partition wall 12 side. What is necessary is just to form so that it may become.

すなわち、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「隔壁の対向電極側の頂部の幅」とは、隔壁12の頂面上に接着層22が形成される場合には、対向基板配置工程後における対向電極16上での隔壁12頂面の幅方向における接着層22の幅を意味する。一方、隔壁12の頂面上に接着層22が形成されない場合には、隔壁12の頂面自体の幅として定義される。すなわち、隔壁12の頂面の角が丸まっていなければ図8(a)や図8(b)を参照して前述のように定義された隔壁12の頂面の幅を意味し、隔壁12の頂面の角が丸まっていれば、図8(c)や図8(d)を参照して前述のように定義された隔壁12の頂面の幅、すなわち隔壁12の頂面の延長面と壁面の延長面との交線の間の幅ではなく、当該延長面を含まない隔壁12の頂面そのものの幅を意味する。もっとも、隔壁12の頂面上に接着層22が形成される場合であっても、当該接着層22の対向基板配置工程後における対向電極161上での隔壁12頂面の幅方向における接着層22の幅が隔壁12の頂面自体の幅よりも狭く、隔壁12の頂面が対向電極161と接触している場合には、「隔壁の対向電極側の頂部の幅」とは、隔壁12の頂面自体の幅を意味する。   That is, in the specification and claims of the present application, “the width of the top of the partition wall on the counter electrode side” refers to the counter substrate placement step when the adhesive layer 22 is formed on the top surface of the partition wall 12. It means the width of the adhesive layer 22 in the width direction of the top surface of the partition wall 12 on the counter electrode 16 later. On the other hand, when the adhesive layer 22 is not formed on the top surface of the partition wall 12, it is defined as the width of the top surface of the partition wall 12 itself. That is, if the corner of the top surface of the partition wall 12 is not rounded, it means the width of the top surface of the partition wall 12 defined as described above with reference to FIG. 8A and FIG. If the corners of the top surface are rounded, the width of the top surface of the partition wall 12 defined as described above with reference to FIGS. 8C and 8D, that is, the extended surface of the top surface of the partition wall 12 It means the width of the top surface of the partition wall 12 not including the extended surface, not the width between the intersecting lines with the extended surface of the wall surface. However, even when the adhesive layer 22 is formed on the top surface of the partition wall 12, the adhesive layer 22 in the width direction of the top surface of the partition wall 12 on the counter electrode 161 after the counter substrate placement step of the adhesive layer 22. Is narrower than the width of the top surface of the partition wall 12 and the top surface of the partition wall 12 is in contact with the counter electrode 161, the “width of the top of the partition wall on the counter electrode side” It means the width of the top surface itself.

本実施の形態においては、隔壁12の対向電極161側の頂部の幅は、スルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも大きいが、表示パネルにおいて望ましいコントラストを実現するために、好ましくは、当該開口の幅の2倍以下である。   In the present embodiment, the width of the top portion of the partition wall 12 on the counter electrode 161 side is larger than the width of the opening of the through hole 162 on the partition wall 12 side, but in order to achieve a desirable contrast in the display panel, It is not more than twice the width of the opening.

また、全ての隔壁12が、隔壁12の対向電極161側の頂部の幅がスルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも大きくなるように形成されていなくてもよく、少なくとも対向電極161のスルーホール162に対向して配置されることとなる隔壁12が、その頂部の幅が当該開口の幅よりも大きくなるように形成されていればよい。   Further, not all of the partition walls 12 may be formed so that the width of the top of the partition wall 12 on the counter electrode 161 side is larger than the width of the opening of the through hole 162 on the partition wall 12 side. The partition wall 12 to be disposed to face the through hole 162 may be formed so that the width of the top portion is larger than the width of the opening.

次に、一方の基板11上に表示媒体としてのインキ13が配置される(表示媒体配置工程:図6の工程(3))。図12は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、(1)ディスペンサ31あるいはインクジェット、ダイコートからインキ13が滴下され(インキ滴下工程)、(2)アプリケータ32あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ13が塗布される(インキ塗布工程)。なお、インキ13は、他方の基板16上に配置されてもよい。   Next, the ink 13 as a display medium is arranged on one substrate 11 (display medium arranging step: step (3) in FIG. 6). FIG. 12 is a diagram schematically showing an example of the display medium arranging step. Here, (1) the ink 13 is dropped from the dispenser 31 or inkjet or die coat (ink dropping step), and (2) the ink 13 is made uniform in the surface by the applicator 32 or doctor blade, doctor knife, and central squeegee. It is applied (ink application process). The ink 13 may be disposed on the other substrate 16.

表示媒体13としては、少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。   As the display medium 13, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials can be used. Examples of the electroresponsive material include a charged particle material and a liquid crystal material, and the charged particle material includes a so-called electrophoretic material in which colored particles such as white, black, and color move in response to an electric field, or two particles. There are materials typified by twist balls that are color-coded and rotated by an electric field, or nanoparticle materials that move by an electric field. On the other hand, the liquid crystal material includes a material for electrically controlling transmission and scattering known as PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal), a material in which a liquid crystal is mixed with a dye, a cholesteric liquid crystal material, and the like. These materials that have electrical responsiveness and change optical characteristics need to be isolated into cells regardless of the type, and are subject to application of the present invention.

一般的に表示媒体13の平均粒子径は、例えば特許文献3(特許第4516481号公報)及び特許文献4(特許第4579768号公報)に記載されているように、0.05μm以上であり、好ましくは0.08μm以上であり、さらに好ましくは0.1μm以上である。さらに、一般的に表示媒体13の平均粒子径は、例えば特許文献3(特許第4516481号公報)及び特許文献4(特許第4579768号公報)に記載されているように、5μm以下であり、好ましくは3μm以下であり、さらに好ましくは1.5μm以下である。   In general, the average particle size of the display medium 13 is 0.05 μm or more as described in, for example, Patent Document 3 (Patent No. 4516481) and Patent Document 4 (Patent No. 4579768), and preferably Is 0.08 μm or more, more preferably 0.1 μm or more. Further, the average particle diameter of the display medium 13 is generally 5 μm or less, as described in, for example, Patent Document 3 (Patent No. 45164481) and Patent Document 4 (Patent No. 4579768), and preferably Is 3 μm or less, more preferably 1.5 μm or less.

図6に戻って、他方の基板16上の表示領域の外周に、表示領域の外部から表示領域内への水分や酸素の侵入を妨げ、表示領域からその外部への表示媒体13中の溶剤の浸出を防止するシール材62が、当該表示領域を連続的に囲むように配置される(シール材配置工程:図6の工程(4))。他方の基板16が複数の表示領域を含む場合には、シール材62は、複数の表示領域の各々の外周に配置される。   Returning to FIG. 6, the outer periphery of the display area on the other substrate 16 prevents moisture and oxygen from entering the display area from the outside of the display area, and the solvent in the display medium 13 from the display area to the outside of the display area Sealing material 62 for preventing leaching is arranged so as to continuously surround the display area (sealing material arranging step: step (4) in FIG. 6). When the other substrate 16 includes a plurality of display areas, the sealing material 62 is disposed on the outer periphery of each of the plurality of display areas.

シール材62の配置方法の一例について具体的な説明を補足すれば、当該シール材62は、例えば紫外線硬化性樹脂のような接着剤を、ディスペンサを用いて線幅0.6mm、高さ60μmで線状に塗布することによって配置される。   If a specific description is supplemented for an example of an arrangement method of the sealing material 62, the sealing material 62 is made of, for example, an adhesive such as an ultraviolet curable resin with a line width of 0.6 mm and a height of 60 μm using a dispenser. It arrange | positions by apply | coating to linear form.

ここで、紫外線硬化性樹脂は、紫外線で硬化された後はポリマー化して化学的に安定な状態になる。したがって、シール材62として紫外線硬化性樹脂を用い、紫外線で硬化させれば、当該硬化された樹脂と表示媒体とが接触することによる表示性能の劣化が生じる恐れがない。なお、シール材62に使用される紫外線硬化性樹脂は、好ましくは、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートのモノマー、オリゴマーであり、例えば、サートマー製CN966、CN981、CN2003A、CN964、CN9893NS、スリーボンド製3033、3034、3057、3052、3054、3056B、3170D、イー・エッチ・シー(株)製LCB−610などが適用可能である。   Here, after being cured with ultraviolet rays, the ultraviolet curable resin is polymerized and becomes chemically stable. Therefore, when an ultraviolet curable resin is used as the sealing material 62 and cured with ultraviolet rays, there is no possibility that display performance is deteriorated due to contact between the cured resin and the display medium. The ultraviolet curable resin used for the sealing material 62 is preferably a monomer or oligomer of urethane acrylate, polyester acrylate, or epoxy acrylate. , 3034, 3057, 3052, 3054, 3056B, 3170D, LCB-610 manufactured by EACH Sea, etc. are applicable.

さらに、シール材62は、好ましくは接着性を有する。この場合、一方の基板ないし他方の基板に歪みがあることなどによって一方の基板ないし他方の基板の姿勢が平坦に保たれにくい場合であっても、後に一方の基板ないし他方の基板16の基板上に表示媒体が配置された状態で両基板が接着される際に、シール材62と両基板11,16との間に間隙が形成されず、表示領域60に配置された表示媒体13がシール材62で囲まれた領域の外に移動してしまって、表示ムラやセル内における気泡の発生が起こらない。接着性を有するシール材62としては、フィルムやガラスなどの基材表面と反応することができるヒドロキシル基、アルコキシ基、ウレタン基、エポキシ基などの官能基を有するものが好ましい。   Furthermore, the sealing material 62 preferably has adhesiveness. In this case, even if it is difficult to keep the posture of one of the substrates or the other substrate flat due to distortion of one of the substrates or the other substrate, it is later on the substrate of one of the substrates or the other substrate 16. When the two substrates are bonded together in a state where the display medium is disposed on the display medium, no gap is formed between the sealing material 62 and the two substrates 11 and 16, and the display medium 13 disposed in the display region 60 is sealed. It moves outside the area surrounded by 62, and display unevenness and generation of bubbles in the cell do not occur. As the sealing material 62 having adhesiveness, a material having a functional group such as a hydroxyl group, an alkoxy group, a urethane group, or an epoxy group capable of reacting with a substrate surface such as a film or glass is preferable.

シール材62は、紫外線硬化樹脂の他に、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、ヒートシール樹脂等によっても構成可能である。また、シール材62は、ディスペンサの他に、各種の印刷法によって、あるいは、熱圧着によっても配置可能であり、一方の基板11上に配置されてもよい。   The sealing material 62 can be constituted by a thermosetting resin, a room temperature curable resin, a heat seal resin or the like in addition to the ultraviolet curable resin. In addition to the dispenser, the sealing material 62 can be arranged by various printing methods or thermocompression bonding, and may be arranged on one substrate 11.

次に、隔壁12上の接着層22と一方の基板11に対して対向する他方の基板16とが、隔壁12内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら接着される(対向基板配置工程:図6の工程(5))。これにより、表示媒体(インキ13)が各セル内に封止される。   Next, the adhesive layer 22 on the partition wall 12 and the other substrate 16 facing the one substrate 11 are bonded while extruding excess ink exceeding the cell volume in the partition wall 12 (opposing substrate placement step: Step (5) in FIG. Thereby, the display medium (ink 13) is sealed in each cell.

本実施の形態の対向基板配置工程では、一方の基板11と他方の基板16とは、顕微鏡などを用いて精密にアライメントされる必要は無く、例えば、一方の基板11に設けられたアライメント用のマークと、他方の基板16に設けられたアライメント用のマークと、を肉眼で観察して一致させながらアライメントされてもよい。本実施の形態では、一方の基板11と他方の基板16とのアライメントは、隔壁12の対向電極161側の頂部が、一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見て、一部のスルーホール162と重なるように、すなわち部分的にスルーホール162と重なるようになされた。   In the counter substrate placement process of the present embodiment, the one substrate 11 and the other substrate 16 do not need to be precisely aligned using a microscope or the like, for example, for alignment provided on the one substrate 11. You may align, aligning a mark and the mark for alignment provided in the other board | substrate 16 by observing with the naked eye. In the present embodiment, the alignment between one substrate 11 and the other substrate 16 is such that the top of the partition wall 12 on the counter electrode 161 side is partially viewed from the one substrate 11 toward the other substrate 16. It was made to overlap with the through hole 162, that is, partially overlap with the through hole 162.

さらに、本実施の形態の対向基板配置工程では、図13に示すように、接着層22として転写された接着剤221を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ91によって所定の熱圧着圧力(ラミネート圧力)を付与しながら、接着剤221を周辺からその軟化点または融点を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁12と他方の基板16とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。なお、ラミネータ91によって付与される押圧力としては、0.01MPa〜0.7MPaが好ましく、特には0.1MPa〜0.4MPaが好ましい。   Furthermore, in the counter substrate placement step of the present embodiment, as shown in FIG. 13, the adhesive 221 transferred as the adhesive layer 22 is heated to obtain an adhesive force. Specifically, while applying a predetermined thermocompression bonding pressure (laminating pressure) by the laminator 91, the adhesive 221 is heated from the periphery to a temperature exceeding its softening point or melting point to soften the partition wall 12 and the other. The substrate 16 is bonded. However, other thermocompression bonding modes may be employed. The pressing force applied by the laminator 91 is preferably 0.01 MPa to 0.7 MPa, particularly preferably 0.1 MPa to 0.4 MPa.

その後、図4に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置51によって所定のサイズに断裁され(断裁工程:図6の工程(6))、所望の反射型表示装置の製造が完了する。   Thereafter, as shown in FIG. 4, the sheet is cut into a predetermined size by a cutting device 51 such as a guillotine, an upper blade slide device, a laser cutting device, or a laser cutter (cutting step: step (6) in FIG. 6) and desired reflection. The production of the mold display device is completed.

本実施の形態によれば、隔壁12の対向電極161側の頂部の幅が、スルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも大きい。この結果、隔壁12の下にスルーホール162が配置されていても、当該スルーホール162は隔壁12によって塞がれているため、当該隔壁12の下に、セル間を連通する通路が形成されることが抑制される。したがって、表示媒体13中の粒子がスルーホール162を通ってセル間を移動することが抑制される。   According to the present embodiment, the width of the top portion of the partition wall 12 on the counter electrode 161 side is larger than the width of the opening of the through hole 162 on the partition wall 12 side. As a result, even if the through hole 162 is disposed under the partition wall 12, the through hole 162 is blocked by the partition wall 12, and therefore, a passage communicating between the cells is formed under the partition wall 12. It is suppressed. Therefore, the particles in the display medium 13 are prevented from moving between cells through the through holes 162.

次に、実際に行われた実施例について説明する。   Next, practical examples actually performed will be described.

<反射型表示装置の実施例>
<実施例>
一方の基板11として、300mm×400mm×厚さ0.1mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡製A4100)の一方の面の全面に透明電極111として酸化インジウムスズ(ITO)蒸着膜(厚さ0.2μm)が設けられた基板が用意された。透明電極111は、スパッタリング、真空蒸着法、CVD法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ(ITO)の他に、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等によっても形成され得る。
<Example of Reflective Display Device>
<Example>
One substrate 11 is a 300 mm × 400 mm × 0.1 mm thick polyethylene terephthalate (PET) film (A4100, manufactured by Toyobo Co.). .. 2 μm) was prepared. The transparent electrode 111 is formed by a general film formation method such as sputtering, vacuum evaporation, or CVD, and is also formed by zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), etc. in addition to indium tin oxide (ITO). Can be done.

次に、当該一方の基板11に、ネガ型感光性樹脂材料(デュポンMRCドライフィルムレジスト(株)製のドライフィルムレジスト)を30μmの厚さにラミネートして100℃、1分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光(露光量500mJ/cm)し、その後、1%KOH水溶液を用いた現像を30秒行い、120℃、60分間の条件で焼成することで、線幅が20μmの隔壁12が形成された。 Next, a negative photosensitive resin material (DuPont MRC Dry Film Resistry Dry Film Resist) is laminated on the one substrate 11 to a thickness of 30 μm and heated at 100 ° C. for 1 minute. Then, exposure is performed using an exposure mask (exposure amount: 500 mJ / cm 2 ), and thereafter development using a 1% KOH aqueous solution is performed for 30 seconds, and baking is performed at 120 ° C. for 60 minutes. A 20 μm partition wall 12 was formed.

そして、転写フィルム基材21として厚さ50μmのPETフィルム21(帝人・デュポン社製)が用いられ、これにポリエステル系熱可塑性接着剤221(東洋紡製バイロン630)がダイコーダにて塗布され、乾燥された。これにより、20μmの接着層を有するロール状の転写シート20が作製された。なお、ポリエステル系熱可塑性接着剤221の軟化温度は約110℃であった。   Then, a 50 μm-thick PET film 21 (manufactured by Teijin DuPont) is used as the transfer film substrate 21, and a polyester-based thermoplastic adhesive 221 (Toyobo's Byron 630) is applied by a die coder and dried. It was. Thereby, a roll-shaped transfer sheet 20 having an adhesive layer of 20 μm was produced. The softening temperature of the polyester thermoplastic adhesive 221 was about 110 ° C.

そして、隔壁12の頂面に転写シート20が載せられた状態で、1kPa程度の押圧力をさらに付与しつつ、熱可塑性接着剤221の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば120℃程度にまで加熱され、その結果、熱可塑性接着剤221が隔壁12の頂面の全面に熱転写された。隔壁12の頂面から熱可塑性接着剤221の頭頂部までの高さは、約10μmであった。   Then, with the transfer sheet 20 placed on the top surface of the partition wall 12, the pressure around the thermoplastic adhesive 221 exceeds the softening temperature, for example, about 120 ° C., while further applying a pressing force of about 1 kPa. As a result, the thermoplastic adhesive 221 was thermally transferred to the entire top surface of the partition wall 12. The height from the top surface of the partition wall 12 to the top of the thermoplastic adhesive 221 was about 10 μm.

続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ13が用いられ、ディスペンサ31から滴下されて、アプリケータ32(テスター産業社製)にて、一方の基板11上にインキ13が、膜厚は35μmで塗布された。
<インキ成分>
・電気泳動粒子(二酸化チタン)・・・60重量部
・分散液 ・・・40重量部
Subsequently, an ink 13 having the following components is used as a display medium, dropped from the dispenser 31, and the ink 13 is deposited on one substrate 11 by an applicator 32 (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). It was applied at 35 μm.
<Ink component>
・ Electrophoretic particles (titanium dioxide): 60 parts by weight ・ Dispersion liquid: 40 parts by weight

次いで、他方の基板16として、300mm×400mm×厚さ0.1mmのPEN基材に、対向電極161が形成されたものが用いられた。本実施例の電極161は、アクティブマトリックス駆動の画素電極であり、各画素電極161には、TFTが配置されていた。そして、画素電極161に形成されたスルーホール162の隔壁12側の開口の幅は、15μmであった。   Next, as the other substrate 16, a PEN substrate having a size of 300 mm × 400 mm × thickness 0.1 mm, on which the counter electrode 161 was formed, was used. The electrodes 161 in this embodiment are active matrix drive pixel electrodes, and each pixel electrode 161 has a TFT. The width of the opening on the partition wall 12 side of the through hole 162 formed in the pixel electrode 161 was 15 μm.

続いて、画素電極161が形成された領域の外周に、ディスペンサを用いてアクリル系シール材(スリーボンド社製:3052D)が切れ目なく塗工されて、シール材62が、線幅0.6mm、厚さ60μmで形成された。   Subsequently, an acrylic sealing material (manufactured by ThreeBond Co .: 3052D) is applied to the outer periphery of the region where the pixel electrode 161 is formed using a dispenser, so that the sealing material 62 has a line width of 0.6 mm and a thickness of A thickness of 60 μm was formed.

そして、大気中にて、他方の基板16の上に一方の基板11を重ね合わせ、ラミネータ91で一定の押圧力をさらに付与しつつ90℃に加熱して、一方の基板11の隔壁12上の接着層22と他方の基板16とが密着された(図13参照)。このとき、両基板の間に気泡が残らないように、一方の基板11はカールされた状態で、一方の基板11及び他方の基板16の一方の側から対向する他方の側に向けて、隔壁12内のセル容積を超える余剰のインク13を表示領域の外へ押し出しながら、貼り合わされた。この結果、セル内には規定量のインクのみが充填された。   Then, in the atmosphere, one substrate 11 is overlaid on the other substrate 16 and heated to 90 ° C. while further applying a certain pressing force by a laminator 91, and on the partition wall 12 of one substrate 11. The adhesive layer 22 and the other substrate 16 were in close contact (see FIG. 13). At this time, one of the substrates 11 is curled so that no air bubbles remain between the two substrates, and the partition wall is directed from one side of the one substrate 11 and the other substrate 16 to the opposite side. The excess ink 13 exceeding the cell volume in 12 was pasted while being pushed out of the display area. As a result, only a specified amount of ink was filled in the cell.

その後、一方の基板11側から紫外線を露光(露光量3000mJ/cm)して、シール材62を硬化させた(外周封止処理)。以上により表示パネルが作製された。 Then, the ultraviolet-ray was exposed from the one board | substrate 11 side (exposure amount 3000mJ / cm < 2 >), and the sealing material 62 was hardened (periphery sealing process). Thus, a display panel was produced.

以上のようにして得られた表示パネルについて、市松模様のポジネガ画像を交互に3万回書き込んだ後、表示品質を評価したが、セル間の粒子移動に起因する画素焼き付きは観察されず、極めて良好であった。   About the display panel obtained as described above, a checkered pattern negative image was alternately written 30,000 times, and then the display quality was evaluated. However, pixel burn-in due to particle movement between cells was not observed, and extremely high It was good.

<比較例>
前記実施例に対して、スルーホールの隔壁12側の開口の幅を30μmとし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
<Comparative example>
A display panel was fabricated in the same process as in the above example, except that the width of the opening on the partition wall 12 side of the through hole was 30 μm.

以上のようにして得られた表示パネルについて、市松模様のポジネガ画像を交互に3万回書き込んだ後、表示品質を評価したところ、セル間の粒子移動に起因する画素焼き付きが観察された。これは、隔壁12の対向電極161側の頂部の幅がスルーホール162の隔壁12側の開口の幅よりも小さかったため、図14に示すように、隔壁12の下にスルーホールが配置された箇所において、隔壁12の下にスルーホールを通してセル間を連通する通路が形成され、インキ13中の粒子が当該通路を通って他のセルに移動したためであると考えられる。   The display panel obtained as described above was alternately written with checkered positive / negative images 30,000 times, and the display quality was evaluated. As a result, pixel burn-in caused by particle movement between cells was observed. This is because the width of the top portion of the partition wall 12 on the counter electrode 161 side is smaller than the width of the opening of the through hole 162 on the partition wall 12 side, and therefore, as shown in FIG. In this case, it is considered that a passage communicating between the cells through the through hole was formed under the partition wall 12 and particles in the ink 13 moved to another cell through the passage.

11 一方の基板
111 透明電極
12 隔壁
13 インキ(表示媒体)
16 他方の基板
161 対向電極
162 スルーホール
163 TFT
22 接着層
221 接着剤
31 ディスペンサ
32 アプリケータ
51 断裁装置
62 シール材
91 ラミネータ
11 One substrate 111 Transparent electrode 12 Partition wall 13 Ink (display medium)
16 Other substrate 161 Counter electrode 162 Through hole 163 TFT
22 Adhesive layer 221 Adhesive 31 Dispenser 32 Applicator 51 Cutting device 62 Sealing material 91 Laminator

Claims (5)

少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、
前記2枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、
前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、
を備え、
一方の基板には、透明な電極が形成されており、
他方の基板には、対向電極が形成されており、
前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置されており、
前記対向電極には、スルーホールが形成されており、
前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅が、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きい
ことを特徴とする反射型表示装置。
A display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates, at least one of which has a light-transmitting property and on which electrodes are respectively formed, and the two substrates A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the display medium,
A partition partitioning a plurality of regions disposed between the two substrates;
Each region partitioned by the partition as a cell, the display medium disposed in each cell,
With
On one substrate, a transparent electrode is formed,
On the other substrate, a counter electrode is formed,
The transparent electrode and the counter electrode are arranged to face each other,
A through hole is formed in the counter electrode,
The reflective display device, wherein a width of a top portion of the partition wall on the counter electrode side is larger than a width of an opening of the through hole on the partition wall side.
前記隔壁の前記対向電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載の反射型表示装置。
The top of the partition on the counter electrode side is disposed so as to partially overlap the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate. The reflective display device described.
少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、
前記2枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、
前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、
を備え、
一方の基板には、透明な電極が形成されており、
他方の基板には、対向電極が形成されており、
前記透明な電極と前記対向電極とが対向するように配置されており、
前記対向電極には、スルーホールが形成されており、
前記隔壁の前記対向電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、部分的に前記スルーホールと重なるように配置されており、
前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て前記スルーホールと重なるように配置された前記隔壁の前記対向電極側の頂部の幅が、前記スルーホールの前記隔壁側の開口の幅よりも大きい
ことを特徴とする反射型表示装置。
A display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates, at least one of which has a light-transmitting property and on which electrodes are respectively formed, and the two substrates A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the display medium,
A partition partitioning a plurality of regions disposed between the two substrates;
Each region partitioned by the partition as a cell, the display medium disposed in each cell,
With
On one substrate, a transparent electrode is formed,
On the other substrate, a counter electrode is formed,
The transparent electrode and the counter electrode are arranged to face each other,
A through hole is formed in the counter electrode,
The top of the partition on the counter electrode side is arranged so as to partially overlap the through hole when viewed in the direction from the one substrate to the other substrate,
The width of the top portion on the counter electrode side of the partition arranged so as to overlap the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate is larger than the width of the opening on the partition side of the through hole. A reflective display device characterized by being large.
前記対向電極は、TFT電極構造を有する画素電極である
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の反射型表示装置。
4. The reflective display device according to claim 1, wherein the counter electrode is a pixel electrode having a TFT electrode structure.
前記対向電極は、セグメント電極である
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の反射型表示装置。
The reflective display device according to claim 1, wherein the counter electrode is a segment electrode.
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