JP2014224635A - 真空処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】焼戻し処理や真空焼結時効処理等において異なる温度での加熱冷却処理が必要になった場合にも効率的な操業を維持できる。
【解決手段】複数の真空加熱室3A,2Bと、単一のガス冷却チャンバー5と、これら真空加熱室3A,3Bとガス冷却チャンバー5との間でワークを搬送する垂直リフト4とを備える真空処理設備における真空処理方法であって、真空加熱室3A,3Bをそれぞれ異なる一定温度に設定して、ワークの加熱処理に適した温度の真空加熱室3A,3Bを選択して当該真空加熱室へワークを搬送する。
【選択図】 図1
【解決手段】複数の真空加熱室3A,2Bと、単一のガス冷却チャンバー5と、これら真空加熱室3A,3Bとガス冷却チャンバー5との間でワークを搬送する垂直リフト4とを備える真空処理設備における真空処理方法であって、真空加熱室3A,3Bをそれぞれ異なる一定温度に設定して、ワークの加熱処理に適した温度の真空加熱室3A,3Bを選択して当該真空加熱室へワークを搬送する。
【選択図】 図1
Description
本発明は真空処理方法に関し、特に効率的な操業を可能にした真空焼入れ方法又は真空焼結方法に関する。
特許文献1には上下方向に配設された複数の浸炭室(真空加熱室)とこれら浸炭室に処理品を搬送する上下動可能な垂直リフト装置、および浸炭後の処理品を冷却する冷却室を一体的に備えた真空浸炭焼入れ処理設備が示されている。
ところで、上記従来の真空浸炭焼入れ処理設備では、同様の処理を複数の浸炭室で時間をずらして行うことによって、処理時間の大幅な短縮を図り、生産効率を高めている。しかし、単一の温度を維持すれば良い浸炭処理に対して、加熱を段階的に行う浸炭処理や、脱ワックス・脱ガス・焼結等を行う焼結処理等においては真空加熱室の温度を多段的に上昇させてワークを加熱する必要があり、また焼入れ後に焼戻しを行う処理、磁石の製造で焼結後に時効を行う処理等においては真空加熱室の温度を低下させてワークを再加熱する必要があって、このような真空加熱室の温度変更に時間を要するため焼戻し処理や時効処理等における生産効率が大きく低下してしまうという問題があった。
そこで、本発明はこのような課題を解決するもので、焼戻し処理や焼結時効処理等において異なる温度での加熱処理が必要になった場合にも効率的な操業を維持できる真空処理方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、複数の真空加熱室(3A,3B)と、単一又は複数の冷却室(5)と、前記真空加熱室(3A,3B)と前記冷却室(5)との間でワークを搬送する搬送装置(4)とを備える真空処理設備における真空処理方法であって、前記真空加熱室(3A,3B)をそれぞれ異なる一定温度に設定して、ワークの加熱処理に適した温度の真空加熱室(3A,3B)を選択して当該真空加熱室へワークを搬送するようにした。
本発明においては、焼戻し処理や焼結時効処理等において異なる温度での加熱処理が必要になった場合にも、真空加熱室の温度を変更することなく、ワークの加熱処理に適した温度の真空加熱室を選択して当該真空加熱室へワークを搬送するようにしているから、真空加熱室の温度変更に時間を要さず、生産効率の低下が防止される。
上記カッコ内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
以上のように、本発明の真空処理方法によれば、焼戻し処理や焼結処理等において異なる温度での加熱処理が必要になった場合にも効率的な操業を維持することができる。
なお、以下に説明する実施形態はあくまで一例であり、本発明の要旨を逸脱しない範囲で当業者が行う種々の設計的改良も本発明の範囲に含まれる。
(第1実施形態)
以下、ワークの焼入れ・焼戻し処理を行う本発明の第1実施形態を示す。図1において、真空焼入れ処理設備の筐体1内は加熱チャンバー2と、冷却室たるガス冷却チャンバー5に区画されている。加熱チャンバー2内には、その半部に上下方向へ二基の真空加熱室(以下、単に加熱室という)3A,3Bが設けられているとともに、残る半部には搬送装置としての垂直リフト4が設置されている。
以下、ワークの焼入れ・焼戻し処理を行う本発明の第1実施形態を示す。図1において、真空焼入れ処理設備の筐体1内は加熱チャンバー2と、冷却室たるガス冷却チャンバー5に区画されている。加熱チャンバー2内には、その半部に上下方向へ二基の真空加熱室(以下、単に加熱室という)3A,3Bが設けられているとともに、残る半部には搬送装置としての垂直リフト4が設置されている。
各加熱室3A,3Bにはヒータが設けられて当該加熱室内を所定温度へ昇温できるようになっており、また各加熱室3A,3Bには真空排気管が連結されて当該加熱室内を所定の真空度に維持できるようになっている。なお、各加熱室3A,3Bは図略のゲート弁によって垂直リフト4に面する側が開閉できるようになっている。本実施形態では加熱室3Aは1000℃、加熱室3Bは600℃と異なる温度に保持されている。
垂直リフト4は上記特許文献1(特表2013−504686)に記載されたものと同様の構造である。すなわち、図2に示すように垂直リフトは上下方向へ架設された左右一対のチェーン41,42を備え、チェーン42には水平なプラットホーム43が装着されている。プラットホーム43上にはギア機構44が設けられて当該ギア機構44の入力側はチェーン41に連結されている。また、プラットホーム43上には側方へ二段で伸縮可能なフォーク体45,46が配設されており、これらフォーク体45,46は上記ギア機構44の出力側に連結されて伸縮駆動されるようになっている。
ワークは例えば格子状のトレイ上に複数が平面状に配置されてフォーク体46上に載置される。ワークを上下方向へ搬送する場合には両チェーン41,42を同時に作動させて、プラットホーム43を所定の加熱室2A、2Bに対向する位置へ昇降させる。この後、チェーン42を停止してチェーン41のみを作動させ、ギア機構44を介してフォーク45,46を側方へ伸長させて、加熱室2A,2B内へワークを載せたトレイを挿入し、ないし処理後のワークを載せたトレイを加熱室2A,2B内から取り出す。なお、垂直リフト4は上記構造に限られず、公知の他の構造を採用することができる。
ガス冷却チャンバー5には真空排気管が連結されるとともに窒素等の冷却ガス供給管が連結されている。ガス冷却チャンバー5の室内天井部には撹拌扇51が設けられ、また、ガス冷却チャンバー5の加熱チャンバー2との仕切壁およびこれと反対側の室壁にはそれぞれ真空扉52,53が設けられている。なお、垂直リフト4のフォーク45,46(図2)は加熱チャンバー2とは反対側にあるガス冷却チャンバー5内へも伸長進入可能である。
このような真空焼入れ処理設備を使用して焼入れ・焼戻し処理をする場合を、図1に加えて図3、表1を参照しつつ以下に説明する。ワークはaの矢印経路でガス冷却チャンバー5を素通りして垂直リフト4によって加熱室3A内へ装入される。そして、20分間で1100℃まで昇温され、その後30分間1100℃に維持されて加熱浸炭処理される。その後、ワークは加熱室3Aから取り出されて、bの矢印経路でガス冷却チャンバー5内へ搬送されて5分間で100℃まで急冷されて、焼入れ処理がなされる。この後、cの矢印経路で加熱室3B内へ装入され、10分間で600℃まで昇温され、その後20分間600℃に維持されて焼戻し処理される。そして、加熱室3Bから取り出されて、dの矢印経路でワークはガス冷却チャンバー5内へ搬送されて5分間で100℃まで冷却されて、処理が終了する。以上の1サイクルは90分間で行なわれる。
(第1従来例)
これに対して、各加熱室毎に焼入れ・焼戻し処理を行う従来の装置の場合を図6、図7、表2で以下に説明する。
これに対して、各加熱室毎に焼入れ・焼戻し処理を行う従来の装置の場合を図6、図7、表2で以下に説明する。
ワークはaの矢印経路でガス冷却チャンバー5を素通りして垂直リフト4によって1100℃に維持されている加熱室3A内へ装入される。そして、20分間で1100℃まで昇温され、続いて30分間1100℃に維持されて加熱浸炭処理される。その後、ワークは加熱室3Aから取り出されて、bの矢印経路でガス冷却チャンバー5内へ搬送されて5分間で100℃まで急冷されて、焼入れ処理がなされる。
この間に加熱室は1100℃から600℃へ温度が低下させられるが、これには245分を要する。加熱室3Aが600℃になるとcの矢印経路でワークは再び加熱室3A内へ装入され、10分間で600℃まで昇温されて、その後20分間600℃に維持されて焼戻し処理される。そして、加熱室Aからdの矢印経路でワークはガス冷却チャンバー5内へ搬送されて5分間で100℃まで冷却されて、処理が終了する。以上の1サイクルには330分を要する。
この場合、二基の加熱室3A,3Bで並行処理ができるため330分で二個のワークを処理することができるが、ワーク一個当りに換算すると1サイクルは165分であり、第1実施形態のサイクル時間に比して長い。
(第2実施形態)
以下、ワークの多段加熱・焼入れ処理を行う本発明の第2実施形態を示す。図4において、真空焼入れ処理設備の筐体1内は加熱チャンバー2とガス冷却チャンバー5に区画されている。加熱チャンバー2内には、その半部に上下方向へ三基の加熱室3A〜3Cが設けられているとともに、残る半部には搬送装置としての垂直リフト4が設置されている。各加熱室3A〜3Cおよび垂直リフト4の構造は第1実施形態と同様である。ここで、加熱室3Aは300℃、加熱室3Bは600℃、加熱室3Cは1000℃とそれぞれ異なる温度に保持されている。なお、ガス冷却チャンバー5の構造も第1実施形態と同様である。
以下、ワークの多段加熱・焼入れ処理を行う本発明の第2実施形態を示す。図4において、真空焼入れ処理設備の筐体1内は加熱チャンバー2とガス冷却チャンバー5に区画されている。加熱チャンバー2内には、その半部に上下方向へ三基の加熱室3A〜3Cが設けられているとともに、残る半部には搬送装置としての垂直リフト4が設置されている。各加熱室3A〜3Cおよび垂直リフト4の構造は第1実施形態と同様である。ここで、加熱室3Aは300℃、加熱室3Bは600℃、加熱室3Cは1000℃とそれぞれ異なる温度に保持されている。なお、ガス冷却チャンバー5の構造も第1実施形態と同様である。
このような真空焼入れ処理設備を使用して多段階加熱・焼入れ処理をする場合を、図4に加えて図5、表3を参照しつつ以下に説明する。ワーク1はaの矢印経路でガス冷却チャンバー5を素通りして垂直リフト4によって加熱室3A内へ装入される。ここでワーク1は10分間で300℃まで昇温され、その後30分間300℃に維持されて加熱処理される。その後、加熱室3Aから取り出されて、bの矢印経路で垂直リフト4によって加熱室3B内へ装入され、10分間で600℃まで昇温された後、30分間600℃に維持されて加熱処理される。この時垂直リフト4はガス冷却チャンバー5を素通りさせてワーク2を加熱室3A内へ装入し、加熱室3Aと加熱室3Bで加熱処理が並行して行われる。
その後、ワーク1は加熱室3Bから取り出されてcの矢印経路で垂直リフト4によって加熱室3C内へ装入され、15分間で1000℃まで昇温された後、30分間1000℃に維持されて加熱浸炭処理される。この時垂直リフト4は加熱室3Aのワーク2を加熱室3Bへ搬送するとともに、ガス冷却チャンバー5を素通りさせてさらにワーク3を加熱室3A内へ装入する。これにより3基の加熱室3A〜3Cで加熱処理が並行して行われる。加熱室3Cでの加熱処理を終えたワーク1は加熱室3Cから取り出されて、dの矢印経路でガス冷却チャンバー5内へ搬送され、10分間で50℃まで急冷されて焼入れ処理がなされ、処理を終了する。この間に、各加熱室3A,3B内のワーク3,2は垂直リフト4によってそれぞれ加熱室3B,3Cへ搬送されて、それぞれ600℃、1000℃に昇温される。
以後、順送りに同様の処理が繰り返される結果、本実施形態では、220分のサイクルで3個のワークの処理を行うことができる。これはワーク一個当りに換算すると1サイクルは約73分である。
(第2従来例)
これに対して、各加熱室毎に多段加熱・焼入れ処理を行う従来の装置の場合を図8、図9、表4で以下に説明する。
これに対して、各加熱室毎に多段加熱・焼入れ処理を行う従来の装置の場合を図8、図9、表4で以下に説明する。
ワークはaの矢印経路でガス冷却チャンバー5を素通りして垂直リフト4によって300℃に維持されている加熱室3A内へ装入される。ワークは10分間で300℃まで昇温され、その後30分間300℃に維持されて加熱処理される。その後、加熱室3Aは600℃へ昇温され、これに伴ってワークは10分間で600℃まで昇温される。そして30分間600℃に維持されて加熱処理される。この後、加熱室3Aはさらに1000℃へ昇温され、これに伴ってワークは15分間で1000℃まで昇温される。そして30分間1000℃に維持されて加熱浸炭処理される。加熱処理を終えたワークは加熱室3Aから取り出されて、bの矢印経路でガス冷却チャンバー5内へ搬送され、10分間で50℃まで急冷されて焼入れ処理がなされ、処理を終了する。
加熱終了後の加熱室3Aは1000℃から300℃へ降温させられるが、これには300分を要する。以上の1サイクルには425分を要する。この場合、三基の加熱室3A〜3Cで並行処理ができるため425分で三個のワークの処理を行うことができるが、ワーク一個当りに換算すると1サイクルは約142分であり、第2実施形態のサイクル時間に比して長い。
なお、上記各実施形態において、冷却室を複数設けるようにしても良い。また、上記各実施形態は焼入れ・焼戻し処理について説明したが、本発明方法は真空焼結・時効処理等にも適用することができる。
2…加熱チャンバー、3A,3B,3C…真空加熱室、4…垂直リフト(搬送装置)、5…ガス冷却チャンバー。
Claims (1)
- 複数の真空加熱室と、単一又は複数の冷却室と、前記真空加熱室と前記冷却室との間でワークを搬送する搬送装置とを備える真空処理設備における真空処理方法であって、前記真空加熱室をそれぞれ異なる一定温度に設定して、ワークの加熱処理に適した温度の真空加熱室を選択して当該真空加熱室へワークを搬送するようにした真空処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013103591A JP2014224635A (ja) | 2013-05-16 | 2013-05-16 | 真空処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2013103591A JP2014224635A (ja) | 2013-05-16 | 2013-05-16 | 真空処理方法 |
Publications (1)
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JP2014224635A true JP2014224635A (ja) | 2014-12-04 |
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JP2013103591A Pending JP2014224635A (ja) | 2013-05-16 | 2013-05-16 | 真空処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2014224635A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105292990A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-02-03 | 攀枝花钢城集团有限公司 | 锶铁氧体预烧球料冷却存放系统及工艺 |
-
2013
- 2013-05-16 JP JP2013103591A patent/JP2014224635A/ja active Pending
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CN105292990A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-02-03 | 攀枝花钢城集团有限公司 | 锶铁氧体预烧球料冷却存放系统及工艺 |
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