JP2014221811A - 植物病害防除組成物およびその用途 - Google Patents

Abstract

【課題】植物病害に対する優れた防除効果を示す組成物を提供する。【解決手段】式（１）で示されるテトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物とを含有する植物病害防除組成物、好ましくは、該テトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物との重量比が、テトラゾリノン化合物／ＱｏＩ化合物＝０．１／１〜１０／１である植物病害防除組成物は、植物病害に対して優れた防除効果を示す。〔ｎは０〜５の整数；Ｒ1はハロゲン原子等；Ｒ2はＣ１−Ｃ３アルキル基等；前記Ｒ1及びＲ2において、アルキル部位にハロゲン原子を有することができ、但し、ｎが２以上の整数を表すとき、２以上のＲ1は互いに相異なっていてもよい〕【選択図】なし

Description

本発明は植物病害防除組成物およびその用途に関するものである。

従来、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、実用に供されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。

国際公開第９９／０５１３９号 国際公開第２０１３／０９２２２４号

本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する組成物を提供することを課題とする。

本発明者は、植物病害に対して優れた防除効力を有する組成物を見出すべく検討した結果、下記式（１）で示されるテトラゾリノン化合物と下記群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物とを含有する植物病害防除組成物が、植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下の通りである
〔１〕 式（１）

〔式中、
ｎは０〜５の整数を表し、
Ｒ¹は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基を表し、
Ｒ²は、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基を表し、
前記Ｒ¹およびＲ²において、アルキル部位にハロゲン原子を有することができる。
但し、ｎが２以上の整数を表すとき、２以上のＲ¹は互いに相異なっていてもよい。〕
で示されるテトラゾリノン化合物と、
群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物とを含有する植物病害防除組成物。
群（Ａ）：
アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）及びフェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）からなる群。
〔２〕 テトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物との重量比が、テトラゾリノン化合物／ＱｏＩ化合物＝０．１／１〜１０／１である［１］記載の植物病害防除組成物。
〔３〕 式（１）

〔式中、
ｎは０〜５の整数を表し、
Ｒ¹は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基を表し、
Ｒ²は、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基を表し、
前記Ｒ¹およびＲ²において、アルキル部位にハロゲン原子を有することができる。
但し、ｎが２以上の整数を表すとき、２以上のＲ¹は互いに相異なっていてもよい。〕
で示されるテトラゾリノン化合物と、群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物との有効量を、植物又は植物を栽培する土壌に処理する工程を含む植物病害防除方法。
群（Ａ）：
アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）及びフェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）からなる群。
［４］ テトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物との重量比が、テトラゾリノン化合物／ＱｏＩ化合物＝０．１／１〜１０／１である［３］記載の植物病害防除方法。
［５］ 植物又は植物を栽培する土壌が、コムギ又はコムギを栽培する土壌である［３］
又は［４］記載の植物病害防除方法。

本発明により、植物病害を防除することができる。

本発明の植物病害防除組成物（以下、本発明組成物と記す。）は、式（１）

〔式中、Ｒ¹およびＲ²は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるテトラゾリノン化合物（以下、本テトラゾリノン化合物と記す。）と群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物（以下、本ＱｏＩ化合物と記す。）とを含有する。
群（Ａ）：
アゾキシストロビン、ピラクロストロビン、ピコキシストロビン、トリフロキシストロビン、マンデストロビン、フルオキサストロビン、クレソキシムメチル、ジモキシストロビン、オリサストロビン、メトミノストロビン、クモキシストロビン、エノキサストロビン、フルフェノキシストロビン、トリクロピリカルブ、フェナミンストロビン、ピリベンカルブ、ファモキサドン及びフェナミドンからなる群。

まず、本テトラゾリノン化合物について説明する。

本明細書における置換基について、下記に詳細に記す。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげられる。
Ｃ１−Ｃ６アルキル基とは直鎖状もしくは分枝状の炭素数１−６のアルキル基を表し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基があげられる。

Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基としては、直鎖状もしくは分枝状のいずれであってもよく、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基およびヘキシルオキシ基があげられる。

Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基としては、直鎖状もしくは分枝状のいずれであってもよく、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基およびヘキシルチオ基があげられる。

Ｃ１−Ｃ３アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基があげられる。

Ｃ２−Ｃ３アルケニル基としてはビニル基、１−プロペニル基および２−プロペニル基があげられる。
Ｃ２−Ｃ３アルキニル基としてはエチニル基、１−プロピニル基および２−プロピニル基があげられる。
Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基としてはシクロプロピル基およびシクロブチル基があげられる。

Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基およびイソプロピルオキシ基があげられる。
Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基としてはメチルチオ基、およびエチルチオ基があげられる。

「アルキル部位にハロゲン原子を有することができる」とは、Ｒ¹およびＲ²における、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、およびＣ３−Ｃ４シクロアルキル基がハロゲン原子を有することができることを意味する。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ６アルキル基としては、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジブロモメチル基、クロロフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、１−（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基および５−フルオロヘキシル基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ３アルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジブロモメチル基、クロロフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、、３−フルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基および１−（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ６アルコキシ基としては、例えば、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、ジブロモメトキシ基、クロロフルオロメトキシ基、ジクロロフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２，２−ジクロロエトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、３−フルオロプロピルオキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、１−（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチルオキシ基、３−フルオロプロピルオキシ基、４−フルオロブチルオキシ基および５−フルオロヘキシルオキシ基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ３アルコキシ基としては、例えば、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、ジブロモメトキシ基、クロロフルオロメトキシ基、ジクロロフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２，２−ジクロロエトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、３−フルオロプロピルオキシ基、３，３，３−トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、１−（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチルオキシ基、および３−フルオロプロピルオキシ基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ６アルキルチオ基としては、例えば、モノフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、モノクロロメチルチオ基、ジクロロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ基、ジブロモメチルチオ基、クロロフルオロメチルチオ基、ジクロロフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、２−フルオロエチルチオ基、２，２−ジフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、３−フルオロプロピルチオ基、２，２−ジフルオロプロピルチオ基、３，３，３−トリフルオロプロピルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、ヘプタフルオロイソプロピルチオ基、１−（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、３−フルオロプロピルチオ基、４−フルオロブチルチオ基および５−フルオロヘキシルチオ基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ１−Ｃ２アルキルチオ基としては、例えば、モノフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、モノクロロメチルチオ基、ジクロロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ基、ジブロモメチルチオ基、クロロフルオロメチルチオ基、ジクロロフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、２−フルオロエチルチオ基、２，２−ジフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基およびペンタフルオロエチルチオ基があげられる。
ハロゲン原子を有するＣ３−Ｃ４シクロアルキル基としては、例えば、２−フルオロシクロプロピル基、２，２−ジフルオロシクロプロピル基、２−クロロ−２−フルオロシクロプロピル基、２，２−ジクロロシクロプロピル基、２，２−ジブロモシクロプロピル基、および２，２，３，３−テトラフルオロシクロブチル基があげられる。

まず、本テトラゾリノン化合物の合成法について説明する。

本テトラゾリノン化合物は、例えば以下の合成法により合成することができる。

（合成法Ａ）
本テトラゾリノン化合物は、式（２）で示される化合物（以下、化合物（２）と記す。）と式（３）で示される化合物（以下、化合物（３）と記す。）とを塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。

〔式中、ｎ、Ｒ¹、およびＲ²は前記と同じ意味を表し、Ｚ¹は塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子等の脱離基を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
該反応には化合物（２）１モルに対して、化合物（３）が通常１〜１０モルの割合、塩基が通常０．５〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は、必要に応じてヨウ化ナトリウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウムなどを加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物（２）１モルに対して、０．００１〜１．２モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本テトラゾリノン化合物を単離することができる。単離されたテトラゾリノン化合物は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（合成法Ｂ）
本テトラゾリノン化合物は、式（４）で示される化合物（以下、化合物（４）と記す。）と式（５）で示される化合物（以下、化合物（５）と記す。）とを触媒と塩基の存在下で反応させることにより合成することもできる。

〔式中、ｎ、Ｒ¹、およびＲ²は前記と同じ意味を表し、Ｚ²は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基およびｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基、Ｂ（ＯＨ）₂、アルコキシボリル基またはトリフルオロボレート塩（ＢＦ₃ ^-Ｋ⁺）を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる化合物（５）は、通常市販のものを用いることができる。具体的には、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、パラジクロルベンゼン、４−クロロブロモベンゼン、４−クロロヨードベンゼン、パラジブロモベンゼン、４−クロロブロモベンゼン、４−クロロヨードベンゼン、４−ブロモヨードベンゼン、フェニルボロン酸、４−フルオロフェニルボロン酸、４−クロロフェニルボロン酸、４−メチルフェニルボロン酸、４−メトキシフェニルボロン酸等を挙げることができる。
該反応に用いられる触媒は、例えば、ヨウ化銅（Ｉ）、酢酸銅（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、パラジウム（ＩＩ）アセテート／トリスシクロヘキシルホスフィン、ビス（ジフェニルホスファンフェロセニル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウムダイマー、アリル（クロロ）（１，３−ジメシチル−１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン）パラジウムまたはパラジウム（ＩＩ）アセテート／ジシクロヘキシル（２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル−２−イル）ホスフィン、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム等が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、リン酸三カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
該反応には化合物（４）１モルに対して、化合物（５）が通常１〜１０モルの割合、触媒が通常０．００１〜５モルの割合、塩基が通常０．５〜１０モルの割合で用いられる。
該反応は、必要に応じて、１，１０−フェナントロリン、テトラメチルエチレンジアミン等の配位子を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物（４）１モルに対して、０．００１〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本テトラゾリノン化合物を単離することができる。単離されたテトラゾリノン化合物は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（合成法Ｃ）
本テトラゾリノン化合物は、合成法Ａと同様の方法で合成できる式（６）で示される化合物（以下、化合物（６）と記す。）と式（７）で示される化合物（以下、化合物（７）と記す。）とを、塩基及び触媒存在下カップリング反応することにより合成することもできる。

〔式中、ｎ、Ｒ¹、およびＲ²は前記と同じ意味を表し、Ｚ³は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、Ｚ⁴はＢ（ＯＨ）₂、アルコキシボリル基、またはトリフルオロボレート塩（ＢＦ₃ ^-Ｋ⁺）を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる有機ホウ素化合物（７）は、通常市販のものを用いるか、Ｎ． Ｍｉｙａｕｒａ ａｎｄ Ａ． Ｓｕｚｕｋｉ， Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ．，１９９５，９５，２４５７等の総説に記載された公知の方法により合成したものを用いることもできる。該反応に用いられる有機ホウ素化合物（７）は、例えば、Ｒ²のヨウ素化合物（Ｒ²−Ｉ）またはブロモ化合物（Ｒ²-Ｂｒ）とブチルリチウムなどのアルキルリチウムとを反応させた後、ホウ酸エステルと反応させることによりボロン酸エステル誘導体を合成することができる。また、前述の反応で得られたボロン酸エステル誘導体を、必要に応じて加水分解することによりボロン酸誘導体を合成することができる。さらに、Ｍｏｌａｎｄｅｒ ｅｔ ａｌ．Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，２００７，４０，２７５などの総説に記載された公知の方法に従い、前記ボロン酸エステルをフッ化水素カリウム等でフッ素化することにより、トリフルオロボレート塩ＢＦ₃ ^-Ｋ⁺を得ることもできる。
該反応に用いられる触媒としては、酢酸パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、パラジウム（ＩＩ）アセテート／トリスシクロヘキシルホスフィン、ビス（ジフェニルホスファンフェロセニル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウムダイマー、アリル（クロロ）（１，３−ジメシチル−１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン）パラジウムまたはパラジウム（ＩＩ）アセテート／ジシクロヘキシル（２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル−２−イル）ホスフィン、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム等が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、リン酸三カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
該反応には化合物（６）１モルに対して、化合物（７）が通常１〜１０モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合、触媒が通常０．０００１〜１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本テトラゾリノン化合物を単離することができる。単離されたテトラゾリノン化合物は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

次に本テトラゾリノン化合物の合成中間体化合物の合成方法について詳細に記載する。

（参考合成法Ａ）
式（９）で示される化合物（以下、化合物（９）と記す。）は、化合物（２）と式（８）で示される化合物（以下、化合物（８）と記す。）とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ²およびＺ¹は前記と同じ意味を表し、Ｒ³はアセチル基、ホルミル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基およびｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の保護基を表す。〕
該反応は、前記合成法Ａに準じて実施することができる。

（参考合成法Ｂ）
式（４）で示される化合物は、化合物（９）を脱保護剤で処理することにより合成することができる。

〔式中、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常、溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエ−テル類、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱保護剤としては、塩基または酸を用いることができる。塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、ピペリジン等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。酸としては、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸等が挙げられる。
該反応には化合物（９）１モルに対して、脱保護剤が通常１〜１００モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４）を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。

（参考合成法Ｃ）
式（１１）で示される化合物（以下、化合物（１１）と記す。）は、式（１０）で示される化合物（以下、化合物（１０）と記す。）をアジド化剤と反応させることにより合成することができる。

〔式中、Ｒ²は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるアジド化剤としては例えばアジ化ナトリウム、アジ化バリウムまたはアジ化リチウム等の無機アジド類、アジ化トリメチルシリル、アジ化ジフェニルホスホリル等の有機アジド類が挙げられる。
該反応には化合物（１０）１モルに対して、アジド化剤が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、塩化アルミニウムもしくは塩化亜鉛等のルイス酸を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物（１０）１モルに対して、０．０５〜５モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１１）を単離することができる。単離された化合物（１１）は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考合成法Ｄ）
式（１３）で示される化合物（以下、化合物（１３）と記す。）は、化合物（１１）と式（１２）で示される化合物（以下、化合物（１２）と記す。）とを塩基の存在下反応させることにより合成することができる。

〔式中、Ｒ²は前記と同じ意味を表し、Ｚ⁵は臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基およびｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる化合物（１２）は、通常市販のものを用いることができる。具体的には、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル等の硫酸ジアルキル類、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸メチル等のアルキルまたはアリール硫酸エステル類等を挙げることができる。
該反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
該反応には化合物（１１）１モルに対して、化合物（１２）が通常１〜１０モルの割合、塩基が通常０．５〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１３）を単離することができる。単離された化合物（１３）は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考合成法Ｅ）
化合物（２）は、化合物（１３）をハロゲン化剤とを反応させることにより合成することができる。

〔式中、Ｒ²およびＺ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、α，α，α−トリフルオロトルエン、α，α，α−トリクロロトルエン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いることができるハロゲン化剤としては、塩素化剤、臭素化剤もしくはヨウ素化剤、例えば塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、ヨードスクシンイミド、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル、Ｎ−クロログルタルイミド、Ｎ−ブロモグルタルイミド、Ｎ−クロロ−Ｎ−シクロヘキシル−ベンゼンスルホンイミド、Ｎ−ブロモフタルイミド等を挙げることができる。
該反応にはラジカル開始剤を用いることも出来る。
該反応に用いられるラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、ジアシルペルオキシド、ジアルキルペルオキシジカルボネート、ｔｅｒｔ−アルキルペルオキシエステル、モノペルオキシカルボネート、ジ（ｔｅｒｔ−アルキルペルオキシ）ケタールおよびケトンペルオキシド等を挙げることができる。
該反応には化合物（１３）１モルに対して、ハロゲン化剤が通常１〜１０モルの割合、ラジカル開始剤は通常０．０１〜１モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−１）を単離することができる。単離された化合物（２−１）は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考合成法Ｆ）
式（１５）で示される化合物（以下、化合物（１５）と記す。）は、化合物（２）のうち、Ｒ²がＺ¹である式（２−１）で示される化合物（以下、化合物（２−１）と記す。）と、式（１４）で示される化合物（以下、化合物（１５）と記す。）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｚ¹は前記と同じ意味を表し、Ｒ⁴はＣ１−Ｃ１２アルキル基またはフェニル基を表し、Ｍはナトリウム、カリウム、またはリチウムを表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、アニソール、メチルｔｅｒｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエ−テル類、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類およびこれらの混合物が挙げられる。
化合物（１４）としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｎ−プロポキシド、ナトリウムｎ−ブトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムｓｅｃ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムｎ−プロポキシド、カリウムｎ−ブトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｓｅｃ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムフェノキシド等が挙げられる。
該反応には化合物（２−２）１モルに対して、化合物（１４）が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１５）を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。

（参考合成法Ｇ）
式（１６）で示される化合物（以下、化合物（１６）と記す。）は、化合物（１５）と化合物（７）とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｚ⁴およびＺ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記合成法Ｃに準じて実施することができる。

（参考合成法Ｉ）
化合物（２）は、化合物（１６）とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｒ²、Ｒ⁴およびＺ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸が挙げられる。
該反応には化合物（１６）１モルに対して、ハロゲン化剤が通常１モル以上の割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−１）を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。

本ＱｏＩ化合物は、いずれも公知の化合物であり、例えば「ＴＨＥ ＰＥＳＴＩＣＩＤＥ ＭＡＮＵＡＬ − １６ｔｈ ＥＤＩＴＩＯＮ（ＢＣＰＣ刊）ＩＳＢＮ ９７８１９０１３９６８６７」、国際公開第９５２７６９３、Ｔｈｅ ＢＣＰＣ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ：Ｃｒｏｐ Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ２００３,Ｃｏｎｇｒｅｓｓ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ Ｖｏｌｕｍｅ １、国際公開第２００７／００００９８、国際公開第２００６／０８１７５９、または国際公開第２００２／０１２１７２に記載されている。これらの化合物は市販の製剤から得るか、公知の方法により合成することができる。

以下、本ＱｏＩ化合物を［表１］〜［表２］に示す。

本発明組成物における、本テトラゾリノン化合物と本ＱｏＩ化合物との重量比は、例えば、本テトラゾリノン化合物／本ＱｏＩ化合物＝０．０１／１〜５００／１、０．１／１〜１０／１及び０．１／１〜３／１が挙げられ、中でも０．３／１〜３／１が好ましい。

本発明組成物は、本テトラゾリノン化合物と本ＱｏＩ化合物との混合物そのものでもよいが、本発明組成物は、通常、本テトラゾリノン化合物、本ＱｏＩ化合物及び不活性担体を混合し、必要に応じて界面活性剤やその他の製剤用補助剤を添加したものである。
本発明組成物は、油剤、乳剤、フロアブル剤、水和剤、顆粒水和剤、粉剤、粒剤等に製剤化されていてもよい。かかる製剤は、そのまま又はその他の不活性成分を添加して植物病害防除剤として使用することができる。
本発明組成物には、本テトラゾリノン化合物及び本ＱｏＩ化合物が合計で、通常０．１〜９９重量％、好ましくは０．２〜９０重量％、より好ましくは１〜８０重量％含有される。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレ−、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコ−ル類（例えば、メタノ−ル、エタノ−ル）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチロニトリル）、エ−テル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエ−テル）、酸アミド類（例えば、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）が挙げられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルエ−テル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコ−ルエ−テル類、多価アルコ−ルエステル類、糖アルコ−ル誘導体が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤、分散剤、安定剤があげられ、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロ−ス誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコ−ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ−ル）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノ−ルと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノ−ルとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸またはそのエステル等が挙げられる。

本発明組成物はまた、本テトラゾリノン化合物と本ＱｏＩ化合物とを各々前記した方法により製剤化した上で、必要に応じて水で希釈して、本テトラゾリノン化合物を含有する製剤及び本ＱｏＩ化合物を含有する製剤、あるいはそれらの希釈液を混合することにより調製することもできる。

本発明組成物は、植物病害から植物を保護するために用いることができる。

本発明の防除方法は、本発明組成物を植物又は植物を栽培する土壌に処理するか、本テトラゾリノン化合物と本ＱｏＩ化合物とを別々に植物又は植物を栽培する土壌に処理することにより、植物病害を防除することができる

本発明組成物を施用する方法としては、実質的に本発明組成物が施用され得る形態であればその方法は特に限定されないが、例えば茎葉散布等の植物体への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理、種子消毒等の種子への処理が挙げられる。

本発明組成物の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、１０００ｍ²あたり、通常１〜５００ｇ、好ましくは２〜２００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明組成物濃度は、通常０．０００５〜２重量％、好ましくは０．００５〜１重量％であり、粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、種子１Ｋｇに対しての本発明組成物量は、通常０．００１〜１００ｇ、好ましくは０．０１〜５０ｇの範囲で施用される。

本発明における植物病害の生息場所としては、水田、畑、茶園、果樹園、非農耕地、家屋、育苗トレイや育苗箱、育苗培土及び育苗マット等が挙げられる。

本発明組成物は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明組成物は、以下に挙げられる「植物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。

農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピ−ナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピ−マン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキ−ニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コ−ルラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリ−、カリフラワ−等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、ア−ティチョ−ク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プル−ン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレ−プフル−ツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、ア−モンド、ピスタチオ、カシュ−ナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブル−ベリ−、クランベリ−、ブラックベリ−、ラズベリ−等）、ブドウ、カキ、オリ−ブ、ビワ、バナナ、コ−ヒ−、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユ−カリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。

上記「植物」には遺伝子組換え作物も含まれる。

本発明組成物により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌等の植物病原菌が挙げられ、より詳しくは以下のものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

イネの病害：いもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ ｇｒｉｓｅａ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｍｉｙａｂｅａｎｕｓ）、紋枯病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）、馬鹿苗病（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ ｆｕｊｉｋｕｒｏｉ）。
コムギの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ）、赤かび病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ、Ｆ． ａｖｅｎａｃｅｒｕｍ、Ｆ． ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｄｏｃｈｉｕｍ ｎｉｖａｌｅ）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓ、Ｐ． ｇｒａｍｉｎｉｓ、Ｐ． ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）、紅色雪腐病（Ｍｉｃｒｏｎｅｃｔｒｉｅｌｌａ ｎｉｖａｌｅ）、雪腐小粒菌核病（Ｔｙｐｈｕｌａ ｓｐ．）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ ｔｒｉｔｉｃｉ）、なまぐさ黒穂病（Ｔｉｌｌｅｔｉａ ｃａｒｉｅｓ）、眼紋病（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ）、葉枯病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）、ふ枯病（Ｓｔａｇｏｎｏｓｐｏｒａ ｎｏｄｏｒｕｍ）、黄斑病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｒｉｔｉｃｉ−ｒｅｐｅｎｔｉｓ）。
オオムギの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ）、赤かび病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ、Ｆ． ａｖｅｎａｃｅｒｕｍ、Ｆ． ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｍｉｃｒｏｄｏｃｈｉｕｍ ｎｉｖａｌｅ）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓ、Ｐ．ｇｒａｍｉｎｉｓ、Ｐ．ｈｏｒｄｅｉ）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ ｎｕｄａ）、雲形病（Ｒｈｙｎｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｅｃａｌｉｓ）、網斑病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓ）、斑点病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｓａｔｉｖｕｓ）、斑葉病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｇｒａｍｉｎｅａ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）。
トウモロコシの病害：黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ ｍａｙｄｉｓ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｈｅｔｅｒｏｓｔｒｏｐｈｕｓ）、ひょう紋病（Ｇｌｏｅｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｓｏｒｇｈｉ）、南方さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｐｏｌｙｓｏｒａ）、グレイリーフスポット病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｚｅａｅ−ｍａｙｄｉｓ） 、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）。

カンキツ類の病害：黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ ｃｉｔｒｉ）、そうか病（Ｅｌｓｉｎｏｅ ｆａｗｃｅｔｔｉ）、果実腐敗病（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｄｉｇｉｔａｔｕｍ， Ｐ． ｉｔａｌｉｃｕｍ）、フィトフトラ病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｐａｒａｓｉｔｉｃａ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｃｉｔｒｏｐｈｔｈｏｒａ）。
リンゴの病害：モニリア病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ ｍａｌｉ）、腐らん病（Ｖａｌｓａ ｃｅｒａｔｏｓｐｅｒｍａ）、うどんこ病（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ）、斑点落葉病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ａｌｔｅｒｎａｔａ ａｐｐｌｅ ｐａｔｈｏｔｙｐｅ）、黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ａｃｕｔａｔｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｏｒａ ｃａｃｔｏｒｕｍ）。
ナシの病害：黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｎａｓｈｉｃｏｌａ， Ｖ． ｐｉｒｉｎａ）、黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ａｌｔｅｒｎａｔａ Ｊａｐａｎｅｓｅ ｐｅａｒ ｐａｔｈｏｔｙｐｅ）、赤星病（Ｇｙｍｎｏｓｐｏｒａｎｇｉｕｍ ｈａｒａｅａｎｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｏｒａ ｃａｃｔｏｒｕｍ）；
モモの病害：灰星病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ ｆｒｕｃｔｉｃｏｌａ）、黒星病（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃａｒｐｏｐｈｉｌｕｍ）、フォモプシス腐敗病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ ｓｐ．）。
ブドウの病害：黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ ａｍｐｅｌｉｎａ）、晩腐病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、うどんこ病（Ｕｎｃｉｎｕｌａ ｎｅｃａｔｏｒ）、さび病（Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ ａｍｐｅｌｏｐｓｉｄｉｓ）、ブラックロット病（Ｇｕｉｇｎａｒｄｉａ ｂｉｄｗｅｌｌｉｉ）、べと病（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ ｖｉｔｉｃｏｌａ）。
カキの病害：炭そ病（Ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｕｍ ｋａｋｉ）、落葉病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｋａｋｉ， Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ ｎａｗａｅ）。
ウリ類の病害：炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｌａｇｅｎａｒｉｕｍ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）、つる枯病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ ｍｅｌｏｎｉｓ）、つる割病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、べと病（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｃｕｂｅｎｓｉｓ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｓｐ．）、苗立枯病（Ｐｙｔｈｉｕｍ ｓｐ．）；
トマトの病害：輪紋病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｓｏｌａｎｉ）、葉かび病（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｆｕｌｖｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）。
ナスの病害：褐紋病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ ｖｅｘａｎｓ）、うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）。
アブラナ科野菜の病害：黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、白斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、根こぶ病（Ｐｌａｓｍｏｄｉｏｐｈｏｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｐａｒａｓｉｔｉｃａ）。
ネギの病害：さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ａｌｌｉｉ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｄｅｓｔｒｕｃｔｏｒ）。

ダイズの病害：紫斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｋｉｋｕｃｈｉｉ）、黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ ｐｈａｓｅｏｌｏｒｕｍ ｖａｒ． ｓｏｊａｅ）、褐紋病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、斑点病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｓｏｊｉｎａ）、さび病（ Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ ｐａｃｈｙｒｈｉｚｉ）、茎疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｓｏｊａｅ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）褐色輪紋病（Ｃｏｒｙｎｅｓｐｏｒａ ｃａｓｉｉｃｏｌａ）、菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）。
インゲンの病害：炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｌｉｎｄｅｍｔｈｉａｎｕｍ）。
ラッカセイの病害：黒渋病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｐｅｒｓｏｎａｔａ）、褐斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ａｒａｃｈｉｄｉｃｏｌａ）、白絹病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ ｒｏｌｆｓｉｉ）。
エンドウの病害：うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｐｉｓｉ）。
ジャガイモの病害：夏疫病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｓｏｌａｎｉ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、緋色腐敗病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｅｒｙｔｈｒｏｓｅｐｔｉｃａ）、粉状そうか病（Ｓｐｏｎｇｏｓｐｏｒａ ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａｎ ｆ． ｓｐ． ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａ）。
イチゴの病害：うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ ｈｕｍｕｌｉ）、炭そ病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ ｃｉｎｇｕｌａｔａ）。
チャの病害：網もち病（Ｅｘｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｒｅｔｉｃｕｌａｔｕｍ）、白星病（Ｅｌｓｉｎｏｅ ｌｅｕｃｏｓｐｉｌａ）、輪斑病（Ｐｅｓｔａｌｏｔｉｏｐｓｉｓ ｓｐ．）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｔｈｅａｅ−ｓｉｎｅｎｓｉｓ）。
タバコの病害：赤星病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｌｏｎｇｉｐｅｓ）、うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）、炭そ病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｔａｂａｃｕｍ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｔａｂａｃｉｎａ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ）。
ナタネの病害：菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）、リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）。
ワタの病害；リゾクトニア属菌による苗立枯れ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）。
テンサイの病害：褐斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｂｅｔｉｃｏｌａ）、葉腐病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、根腐病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、黒根病（Ａｐｈａｎｏｍｙｃｅｓ ｃｏｃｈｌｉｏｉｄｅｓ）。
バラの病害：黒星病（Ｄｉｐｌｏｃａｒｐｏｎ ｒｏｓａｅ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ ｐａｎｎｏｓａ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｓｐａｒｓａ）。
キクおよびキク科野菜の病害：べと病（Ｂｒｅｍｉａ ｌａｃｔｕｃａｅ）、褐斑病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ−ｉｎｄｉｃｉ）、白さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｈｏｒｉａｎａ）。
種々の作物の病害：ピシウム属菌によって引き起こされる病害（Ｐｙｔｈｉｕｍ ａｐｈａｎｉｄｅｒｍａｔｕｍ， Ｐｙｔｈｉｕｍ ｄｅｂａｒｉａｎｕｍ， Ｐｙｔｈｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ， Ｐｙｔｈｉｕｍ ｉｒｒｅｇｕｌａｒｅ， Ｐｙｔｈｉｕｍ ｕｌｔｉｍｕｍ）、灰色かび病（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）、菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）。
ダイコンの病害：黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｂｒａｓｓｉｃｉｃｏｌａ）。
シバの病害：ダラースポット病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｈｏｍｅｏｃａｒｐａ）、ブラウンパッチ病およびラージパッチ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）。
バナナの病害：シガトカ病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ ｆｉｊｉｅｎｓｉｓ、Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ ｍｕｓｉｃｏｌａ）。
ヒマワリの病害：べと病（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ ｈａｌｓｔｅｄｉｉ）。
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ属、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ属、Ｆｕｓａｒｉｕｍ属、Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ属、Ｔｒｉｃｏｄｅｒｍａ属、Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ属、Ｒｈｉｚｏｐｕｓ属、Ｍｕｃｏｒ属、Ｃｏｒｔｉｃｉｕｍ属、Ｐｈｏｍａ属、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ属、およびＤｉｐｌｏｄｉａ属菌等によって引き起こされる、各種作物の種子病害または生育初期の病害。
Ｐｏｌｙｍｉｘａ属またはＯｌｐｉｄｉｕｍ属等によって媒介される各種作物のウイルス病。

次に、本テトラゾリノン化合物の合成法と、本発明組成物の製剤例、試験例等の実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
まず、本テトラゾリノン化合物の合成例を示す。

合成例１
参考合成例３に記載の１−（２−ブロモメチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．２１ｇ、１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．７８ｇ、炭酸カリウム０．６６ｇおよびアセトニトリル３０ｍＬの混合物を加熱還流下４時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物１と記す。）０．６１ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物１

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.64 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.62-7.60 (1H, m), 7.53-7.49 (2H, m), 7.45 (1H, t, J = 8.0 Hz), 7.39-7.35 (3H, m), 5.80 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.54 (2H, s), 3.61 (3 H, s).

合成例２
参考合成例６に記載の１−（２−ブロモメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１８．５ｇ、１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール１０．４ｇ、炭酸カリウム８．８ｇおよびアセトニトリル４００ｍＬの混合物を加熱還流下４時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物２と記す。）２４．６ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物２

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.81-7.79 (1H, m), 7.65 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.54-7.50 (2H, m), 7.42-7.35 (4H, m), 5.81 (1H, d, J = 2.4 Hz), 5.53 (2H, s), 3.60 (3H, s).

合成例３
合成例２に記載の本テトラゾリノン化合物２を０．９２ｇ、メチルボロン酸０．１８ｇ、リン酸三カリウム１．２７ｇ、水０．１１ｍｌ、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド ジクロロメタン付加物０．１６ｇおよびジオキサン７ｍＬの混合物を加熱還流下１．５時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物３と記す。）０．２７ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物３

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.64 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.52-7.49 (2H, m), 7.42-7.35 (4H, m), 7.27-7.24 (1H, m), 5.82 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.33 (2H, s), 3.63 (3H, s), 2.56 (3H, s).

合成例４
参考合成例１２に記載の１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．３０ｇ、１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．２１ｇ、炭酸カリウム０．１９ｇおよびアセトニトリル１０ｍＬの混合物を加熱還流下２時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物４と記す。）０．２８ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物４

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.57 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.49-7.44 (2H, m), 7.39-7.36 (2H, m), 7.27-7.23 (1H, m), 6.96-6.91 (2H, m), 5.77 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.32 (2H, s), 3.83 (3H, s), 3.61 (3H, s), 2.56 (3H, s).

合成例５
参考合成例９に記載の１−（２−ブロモメチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．２０ｇ、１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．７８ｇ、炭酸カリウム０．６６ｇおよびアセトニトリル３０ｍＬの混合物を加熱還流下４時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物５と記す。）０．９７ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物５

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.63 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.53-7.49 (2H, m), 7.46 (1H, dd, J = 8.5, 8.0 Hz), 7.38-7.34 (2H, m), 7.08 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.04 (1H, d, J = 8.0 Hz), 5.80 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.43 (2H, s), 3.92 (3H, s), 3.57 (3H, s).

合成例６
合成例２に記載の本テトラゾリノン化合物２を０．９２ｇ、エチルボロン酸０．２２ｇ、リン酸三カリウム１．２７ｇ、水０．１１ｍｌ、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド ジクロロメタン付加物０．１６ｇおよびジオキサン１５ｍＬの混合物を加熱還流下２時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−エチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物６と記す。）０．２４ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物６

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.65 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.53-7.49 (2H, m), 7.47-7.42 (2H, m), 7.39-7.35 (2H, m), 7.27-7.24 (1H, m), 5.81 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.34 (2H, s), 3.61 (3H, s), 2.90 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz).

合成例７
合成例２に記載の本テトラゾリノン化合物２を０．９２ｇ、シクロプロピルボロン酸０．２６ｇ、リン酸三カリウム１．２７ｇ、水０．１１ｍＬ、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド ジクロロメタン付加物０．１６ｇおよびジオキサン７ｍＬの混合物を加熱還流下１．５時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−シクロプロピルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物７と記す。）０．３５ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物７

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.63 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.51-7.46 (2H, m), 7.41-7.37 (1H, m), 7.36-7.32 (2H, m), 7.24-7.21 (2H, m), 5.80 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.53 (2H, s), 3.58 (3H, s), 2.26-2.19 (1H, m), 1.03-0.99 (2H, m), 0.78-0.74 (2H, m).

合成例８
参考合成例１２に記載の１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．３０ｇ、１−（４−ブロモフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．２７ｇ、炭酸カリウム０．１９ｇおよびアセトニトリル１０ｍＬの混合物を加熱還流下４時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−ブロモフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物８と記す。）０．３７ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物８

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.64 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.53-7.49 (2H, m), 7.45-7.37 (4H, m), 7.27-7.24 (1H, m), 5.82 (1H, d, J = 2.4 Hz), 5.33 (2H, s), 3.62 (3H, s), 2.55 (3H, s).

合成例９
参考合成例１４に記載の１−（２−｛［１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを０．４９ｇ、４−クロロ−３−フルオロフェニルボロン酸０．３３ｇ、酢酸銅（ＩＩ）０．５１ｇ、ピリジン０．２８ｇ、モレキュラーシーブ４Ａ １．００ｇおよびアセトニトリル１０ｍＬの混合物を加熱還流下４８時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物９と記す。）を０．１２ｇ得た。
本テトラゾリノン化合物９

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.64 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.44-7.38 (4H, m), 7.28-7.23 (2H, m), 5.84 (1H, d, J = 2.7 Hz), 5.33 (2H, s), 3.65 (3H, s), 2.56 (3H, s).

合成例１０
参考合成例１２に記載の１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．３０ｇ、１−（２−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．２０ｇ、炭酸カリウム０．１９ｇおよびアセトニトリル１０ｍＬの混合物を加熱還流下４時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（２−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物１０と記す。）０．２３ｇを得た。
本テトラゾリノン化合物１０

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 7.89 (1H, d, J = 2.5 Hz), 7.70 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 7.41-7.37 (2H, m), 7.26-7.18 (2H, m), 7.06-6.99 (2H, m), 5.76 (1H, d, J = 2.5 Hz), 5.32 (2H, s), 3.88 (3H, s), 3.61 (3H, s), 2.55 (3H, s).

合成例１１
参考合成例１４に記載の１−（２−｛［１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを１．００ｇ、４−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸０．７８ｇ、酢酸銅（ＩＩ）０．９８ｇ、ピリジン０．５９ｍＬ、モレキュラーシーブ４Ａ １．５０ｇおよびアセトニトリル１５ｍＬの混合物を加熱還流下１５時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−（４−クロロ−２−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン（以下、本テトラゾリノン化合物１１と記す。）を０．１５ｇ得た。
本テトラゾリノン化合物１１

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.87 (1H, d, J = 2.5 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.42-7.37 (2H, m), 7.26-7.24 (1H, m), 7.03 (1H, dd, J = 8.5, 2.3 Hz), 6.99 (1H, d, J = 2.3 Hz), 5.77 (1H, d, J = 2.5 Hz), 5.30 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.63 (3H, s), 2.55 (3H, s).

次に、上記の本テトラゾリノン化合物の合成中間体の合成について参考合成例を示す。

参考合成例１
無水塩化アルミニウム２１．９ｇを氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５０ｍＬに加え、１５分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム１０．７ｇを加え、１５分攪拌した後、１−クロロ−３−イソシアナト−２−メチルベンゼン２５．０ｇを加え、８０℃で５時間加熱した。冷却後、反応液を、亜硝酸ナトリウム３５ｇ、水２Ｌおよび氷５００ｇの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を１０％塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１７．０ｇを得た。
１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.32 (3H, s), 7.28-7.36 (2H, m), 7.57 (1H, dd, J = 6.8, 2.2 Hz), 13.08 (1H, s).

参考合成例２
参考合成例１に記載の１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１０．００ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍＬの混合物に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム２．３０ｇを加えた。混合物を室温に昇温し、１時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル３．２ｍＬを加えた。混合物を室温に昇温し、１４時間攪拌した。反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．５６ｇを得た。
１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.30 (3H, s), 3.73 (3H, s), 7.27 (1H, d, J = 2.7 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 2.7, 6.8 Hz).

参考合成例３
参考合成例２に記載の１−（２−メチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．５６ｇ、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）０．３４ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド１．４２ｇおよびクロロベンゼン３０ｍＬの混合物を加熱還流下５時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−ブロモメチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．９４ｇを得た。
１−（２−ブロモメチル−３−クロロフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 3.76 (3H, s), 4.69 (2H, s), 7.35 (1H, dd, J =1.2, 8.1 Hz), 7.43 (1H, t, J = 8.1 Hz), 7.58 (1H, dd, J = 1.2, 8.1 Hz).

参考合成例４
無水塩化アルミニウム１９．７ｇを氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２２０ｍＬに加え、１５分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム９．６ｇを加え、１５分攪拌した後、１−ブロモ−３−イソシアナト−２−メチルベンゼン３０．３ｇを加え、８０℃で５時間加熱した。冷却後、反応液を亜硝酸ナトリウム３３ｇ、水２Ｌおよび氷５００ｇの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を１０％塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン３１．４ｇを得た。
１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (DMSO-d₆) δ(ppm): 2.22 (3H, s), 7.34 (1H, t, J = 7.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 1.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.0, 1.0 Hz), 14.72 (1H, s).

参考合成例５
参考合成例４に記載の１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン３１．４０ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５０ｍＬの混合物に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム５．９０ｇを加えた。混合物を室温に昇温し、１時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル８．４ｍＬを加えた。混合物を室温に昇温し、１４時間攪拌した。反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン）８．４７ｇを得た。
１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.33 (3H, s), 3.73 (3H, s), 7.21 (1H, dt, J = 0.5, 7.8 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 1.0, 8.0 Hz), 7.71 (1H, dd, J = 1.2, 8.3 Hz).

参考合成例６
参考合成例５に記載の１−（２−メチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン８．４７ｇ、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル)１．５４ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド６．４４ｇおよびクロロベンゼン１２５ｍＬの混合物を加熱還流下５時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−ブロモメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン７．５２ｇを得た。
１−（２−ブロモメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 3.76 (3H, s), 4.71 (2H, s), 7.34 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.38 (1H, dd, J = 8.0, 1.7 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz).

参考合成例７
無水塩化アルミニウム１６．０ｇを氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８０ｍＬに加え、１５分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム７．８ｇを加え、１５分攪拌した後、１−メトキシ−３−イソシアナト−２−メチルベンゼン１７．０ｇを加え、８０℃で４．５時間加熱した。冷却後、反応液を、亜硝酸ナトリウム２５ｇ、水２Ｌおよび氷５００ｇの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を１０％塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１６．２ｇを得た。
１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (DMSO-d₆) δ(ppm): 1.99 (3H, s), 3.87 (3H, s), 7.01 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.17 (1H, d, J = 8.1 Hz). 7.36 (1H, t, J = 8.3 Hz), 14.63 (1H, s).

参考合成例８
参考合成例７に記載の１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１０．００ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍＬの混合物に、氷冷下、６０％水素化ナトリウム２．４７ｇを加えた。混合物を室温に昇温し、１時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル３．５ｍＬを加えた。混合物を室温に昇温し、１４時間攪拌した。反応混合物に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２．１９ｇを得た。
１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.11 (3H, s), 3,72 (3H, s), 3.88 (3H, s), 6.95 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.29 (1H, t, J = 8.2 Hz)

参考合成例９
参考合成例８に記載の１−（２−メチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２．１９ｇ、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル)０．５２ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド２．１６ｇおよびクロロベンゼン４０ｍＬの混合物を加熱還流下５時間攪拌した。冷却後、反応液に水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−ブロモメチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２．３６ｇを得た。
１−（２−ブロモメチル−３−メトキシフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 3.74 (3H, s), 3.96 (3H, s), 4.93 (2H, s), 7.02 (1H, dd, J = 1.0, 8.5 Hz), 7.04 (1H, d, J = 9.0 Hz), 7.43 (1H, t, J = 8.1 Hz).

参考合成例１０
参考合成例６に記載の１−（２−ブロモメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン４５．０ｇ、ナトリウムメトキシド３７．４ｇおよびテトラヒドロフラン６００ｍＬの混合物を室温で３時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、１−（２−メトキシメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン３６．２ｇを得た。
１−（２−メトキシメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 3.23 (3H, s), 3.72 (3H, s), 4.67 (2H, s), 7.33 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.38 (1H, dd, J = 1.2, 8.1 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 1.5, 7.8 Hz).

参考合成例１１
参考合成例１０に記載の１−（２−メトキシメチル−３−ブロモフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン３６．２ｇ、メチルボロン酸２３．２ｇ、フッ化セシウム６６．７ｇ、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド ジクロロメタン付加物１０．６ｇおよびジオキサン５００ｍｌの混合物を９０℃で５．５時間攪拌した。冷却後、反応混合物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２５．６ｇを得た。
１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.48 (3H, s), 3.23 (3H, s), 3.72 (3H, s), 4.42 (2H, s), 7.21 (1H, t, J = 5.1 Hz), 7.35 (2H, d, J = 4.8 Hz).

参考合成例１２
参考合成例１１に記載の１−（２−メトキシメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２５．６ｇ、酢酸５０ｍＬ及び２５％臭化水素−酢酸溶液５０ｍＬの混合物を６５℃で１時間攪拌した。反応混合物に飽和食塩水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを２７．９ｇ得た。
１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 2.51 (3H, s), 3.75 (3H, s), 4.51 (2H, s), 7.22-7.24 (1H, m), 7.36-7.39 (2H, m).

参考合成例１３
参考合成例１２に記載の１−（２−ブロモメチル−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン１．０ｇ、１−アセチル−１Ｈ−ピラゾール−３−オール０．４７ｇ、炭酸カリウム０．６３ｇおよびアセトニトリル２０ｍＬの混合物を加熱還流下２時間攪拌した。放冷した反応混合物をろ過し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１−アセチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン０．５８ｇを得た。

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 8.01 (1H, d, J = 2.9 Hz), 7.43-7.38 (2H, m), 7.26 (1H, dd, J = 6.9, 2.1 Hz), 5.88 (1H, d, J = 2.9 Hz), 5.31 (2H, s), 3.69 (3H, s), 2.55 (3H, s), 2.54 (3H, s).

参考合成例１４
参考合成例１３記載の１−（２−｛［１−アセチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オンを３．４ｇ、ナトリウムメトキシド０．５９ｇおよびメタノール３０ｍＬの混合物を室温で２時間攪拌した。反応混合物を飽和重曹水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、１−（２−｛［１Ｈ−ピラゾール−３−イル］オキシメチル｝−３−メチルフェニル）−４−メチル−１，４−ジヒドロテトラゾール−５−オン２．５ｇを得た。

¹H-NMR (CDCl₃) δ(ppm): 9.61 (1H, s), 7.40-7.35 (2H, m), 7.27 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.24 (1H, dd, J = 6.5, 2.8 Hz), 5.63 (1H, d, J = 2.4 Hz), 5.23 (2H, d, J = 11.2 Hz), 3.66 (3H, s), 2.52 (3H, s).

前記合成法Ａから合成法Ｃに準じて製造できる本テトラゾリノン化合物１２から本テトラゾリノン化合物８１を以下に示す。

本発明組成物における本テトラゾリノン化合物の態様としては、例えば式（１）における置換基が以下に示すものである化合物が挙げられる。
式（１）において、ｎが０〜２の整数であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基であり；Ｒ²がメチル基、シクロプロピル基、塩素原子、臭素原子、エチル基またはメトキシ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、ｎが０〜２の整数であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子、メチル基、エチル基またはメトキシ基であり；Ｒ²が、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、ｎが０〜２の整数であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子、メチル基、エチル基またはメトキシ基であり；Ｒ²がメチル基、シクロプロピル基、塩素原子、臭素原子、エチル基またはメトキシ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、ｎが０〜２の整数であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、ｎが０〜２の整数であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子、メチル基、エチル基またはメトキシ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²が、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がメチル基、シクロプロピル基、塩素原子、臭素原子、エチル基またはメトキシ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がメチル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がエチル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がＣ３−Ｃ４シクロアルキル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がシクロプロピル基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がハロゲン原子であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²が塩素原子であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²が臭素原子であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物。
式（１）において、Ｒ²がメトキシ基であるテトラゾリノン化合物。

本発明組成物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。

式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物Ｉ〜ＶＩのいずれか一とを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物Ｉ〜ＶＩのいずれか一とを含有する植物病害防除組成物。

式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物Ｉとを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物ＩＩとを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物ＩＩＩとを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物ＩＶとを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物Ｖとを含有する植物病害防除組成物。
式（１）において、ｎが１または２であり、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基であり、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるテトラゾリノン化合物と、化合物ＶＩとを含有する植物病害防除組成物。

本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｉとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｉとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｉとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＶとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＶとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＶとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｖとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｖとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｖとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＶＩＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＸとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＸとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＩＸとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｘとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｘとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物Ｘとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＶとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＶとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＩＶとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩＩとを、０．１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩＩとを、１：１の割合で含有する植物病害防除組成物；
本テトラゾリノン化合物１から本テトラゾリノン化合物８１までのいずれか一化合物と化合物ＸＶＩＩＩとを、１０：１の割合で含有する植物病害防除組成物；

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。

製剤例１
前記本発明組成物のいずれか１組成物５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。

製剤例２
前記本発明組成物のいずれか１組成物２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し、製剤を得る。

製剤例３
前記本発明組成物のいずれか１組成物２部、カオリンクレ−８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。

製剤例４
前記本発明組成物のいずれか１組成物５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、製剤を得る。

製剤例５
前記本発明組成物のいずれか１組成物２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、製剤を得る。

製剤例６
前記本発明組成物のいずれか１組成物１０部；ポリオキシエチレンアルキルエ−テルサルフェ−トアンモニウム塩５０％を含むホワイトカ−ボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。

次に、本発明組成物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明組成物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積とを比較することにより評価した。

。各試験での「効力」とは以下の「式１」で表される値を意味し、その数値によって［表５］のようにランク付けする。
「式１」
効力＝１００×（Ｘ−Ｙ）／Ｘ
Ｘ：無処理区の菌の生育度
Ｙ：処理区の菌の生育度

試験例１ コムギ葉枯病菌（Ｓｅｐｔｏｒｉａ ｔｒｉｔｉｃｉ）に対する防除試験
それぞれＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）に所定濃度で希釈した供試化合物をタイタープレート（９６ウェル）に１μｌ分注したのち、あらかじめコムギ葉枯病菌の分生胞子を接種したジャガイモ煎汁液体培地（ＰＤＢ培地）を１５０μｌ分注した。このプレートを４日間、１８℃で培養してコムギ葉枯病菌を増殖させたのち、タイタープレートの各ウェルの５５０ｎｍの吸光度にて、コムギ葉枯病菌の生育度を測定した。その生育度をもとに、「式１」を用い効力を算出し、［表６］に従ってランク付けした。
その結果を［表７］から［表１７］に示す。

Claims (5)

1. 式（１）
   

   

   〔式中、
   ｎは０〜５の整数を表し、
   Ｒ¹は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基を表し；
   Ｒ²は、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基を表し、
   前記Ｒ¹およびＲ²において、アルキル部位にハロゲン原子を有することができる。
   但し、ｎが２以上の整数を表すとき、２以上のＲ¹は互いに相異なっていてもよい。〕
   で示されるテトラゾリノン化合物と、
   群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物とを含有する植物病害防除組成物。
   群（Ａ）：
   アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）及びフェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）からなる群。
2. テトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物との重量比が、テトラゾリノン化合物／ＱｏＩ化合物＝０．１／１〜１０／１である請求項１記載の植物病害防除組成物。
3. 式（１）
   

   

   〔式中、
   ｎは０〜５の整数を表し、
   Ｒ¹は、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、ニトロ基またはシアノ基を表し；
   Ｒ²は、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４シクロアルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ２アルキルチオ基、Ｃ２−Ｃ３アルケニル基、またはＣ２−Ｃ３アルキニル基を表し、
   前記Ｒ¹およびＲ²において、アルキル部位にハロゲン原子を有することができる。
   但し、ｎが２以上の整数を表すとき、２以上のＲ¹は互いに相異なっていてもよい。〕
   で示されるテトラゾリノン化合物と、群（Ａ）より選ばれる１種以上のＱｏＩ化合物との有効量を、植物又は植物を栽培する土壌に処理する工程を含む植物病害防除方法。
   群（Ａ）：
   アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）及びフェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）からなる群。
4. テトラゾリノン化合物とＱｏＩ化合物との重量比が、テトラゾリノン化合物／ＱｏＩ化合物＝０．１／１〜１０／１である請求項３記載の植物病害防除方法。
5. 植物又は植物を栽培する土壌が、コムギ又はコムギを栽培する土壌である請求項３又は４記載の植物病害防除方法。