JP2014219636A - Uv-curable sheet material, uv-curable dry film and insulation material for uv-curable buildup - Google Patents

Uv-curable sheet material, uv-curable dry film and insulation material for uv-curable buildup Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a UV-curable sheet material which has good patterning properties and a small thermal expansion coefficient.SOLUTION: A UV-curable sheet material 1 is composed of a UV-curable resin composition, and the resin composition contains a UV-curable resin and a filler. The content of the filler is 45 vol.% or more of the whole resin composition. The UV-curable sheet material 1 has a UV transmissivity at the 365-nm wavelength of 50% or higher.

Description

本発明は、紫外線硬化性樹脂組成物で形成された紫外線硬化性シート材料、プリント配線板のはんだ付けの際に用いられる紫外線硬化性ドライフィルム、ビルドアップ法によりプリント配線板を製造する場合に用いられるビルドアップ用絶縁材料に関するものである。   The present invention is used when producing a printed wiring board by an ultraviolet curable sheet material formed from an ultraviolet curable resin composition, an ultraviolet curable dry film used for soldering a printed wiring board, and a build-up method. The present invention relates to an insulating material for buildup.

電子部品の高性能化や小型・薄型化の要求に伴って、それに対応する絶縁材料として様々な樹脂組成物が提案されている。樹脂組成物はその硬化システムによって熱硬化性と紫外線硬化性とに大別される。   With the demand for higher performance, smaller size and thinner electronic parts, various resin compositions have been proposed as insulating materials corresponding to the demand. Resin compositions are roughly classified into thermosetting and ultraviolet curable depending on the curing system.

熱硬化性の樹脂組成物は、形状や光学物性(透明性)に関わらず硬化が可能なことから広く利用されている。そして、熱硬化性樹脂組成物はフィラーを複合化しやすいことから、高耐熱性、低熱膨張率性又は高弾性等を有する高機能な熱硬化性樹脂組成物が古くから提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Thermosetting resin compositions are widely used because they can be cured regardless of the shape and optical properties (transparency). And since a thermosetting resin composition is easy to combine a filler, a highly functional thermosetting resin composition having high heat resistance, low coefficient of thermal expansion or high elasticity has long been proposed (for example, Patent Document 1).

しかし、上記の熱硬化性樹脂組成物は、ソルダーレジスト、電気回路用絶縁材料、部品内蔵用埋め込み材料等に用いようとする場合、パターン形成や穴あけ加工のためにドリル、レーザー等による加工が必要であり、プロセスが煩雑になったり、プロセス時間やプロセスコストがかかったりするという問題があった。   However, when using the above thermosetting resin composition for solder resists, insulating materials for electric circuits, embedded materials for embedded parts, etc., processing with a drill, laser, etc. is required for pattern formation and drilling. However, there are problems that the process becomes complicated and that process time and process cost are increased.

一方、紫外線硬化性の樹脂組成物は、フォトマスクを用いた露光現像工程を用いて、上記の熱硬化性樹脂組成物よりも格段に容易にパターン形成が可能である。   On the other hand, the ultraviolet curable resin composition can be formed with a pattern much more easily than the above thermosetting resin composition by using an exposure and development process using a photomask.

しかし、紫外線硬化性樹脂は、高耐熱性又は低熱膨張率性をもたせるためにフィラーを複合化すると、紫外線が散乱して、樹脂組成物内部、特に底部まで硬化しにくい。また、紫外線硬化性樹脂組成物に含有される紫外線硬化性樹脂及びフィラーとの界面で紫外線が散乱して高い感光性が得られにくいため、パターニング性が低下するという課題があった。そのため、高耐熱性又は低熱膨張率性を有する紫外線硬化性樹脂組成物を得ることは難しかった。   However, when the ultraviolet curable resin is combined with a filler in order to have high heat resistance or low thermal expansion coefficient, the ultraviolet ray is scattered and hardly hardens to the inside of the resin composition, particularly to the bottom. Moreover, since ultraviolet rays are scattered at the interface between the ultraviolet curable resin and the filler contained in the ultraviolet curable resin composition and high photosensitivity is difficult to obtain, there is a problem that patterning properties are lowered. Therefore, it has been difficult to obtain an ultraviolet curable resin composition having high heat resistance or low thermal expansion coefficient.

これらを克服する技術として、例えば特許文献2及び特許文献3に記載された発明が挙げられる。特許文献2では、フィラーを含有した露光現像可能なソルダーレジストに関する発明が提案されており、特許文献3では、フィラーを含有した露光現像可能なプリント配線板に関する発明が提案されている。この2つの発明では、紫外線硬化性樹脂組成物に含有される紫外線硬化性樹脂及びフィラーの屈折率を近づけることで、紫外線硬化性樹脂組成物の紫外線の散乱性を下げ、パターン形成が可能な紫外線硬化性樹脂組成物を提案している。   As a technique for overcoming these problems, for example, the inventions described in Patent Document 2 and Patent Document 3 can be cited. Patent Document 2 proposes an invention related to a solder resist that can be exposed and developed containing a filler, and Patent Document 3 proposes an invention related to a printed wiring board that contains a filler and can be exposed and developed. In these two inventions, by making the refractive index of the ultraviolet curable resin and filler contained in the ultraviolet curable resin composition close to each other, the ultraviolet light scattering property of the ultraviolet curable resin composition is lowered and the pattern can be formed. A curable resin composition is proposed.

しかし、特許文献2に記載された発明では、紫外線が散乱することから、フィラーの平均粒径は0.5μm以下に制限されており、このような粒径の小さいフィラーではその充填量は制限される。また、特許文献3に記載された発明では、感光性が低下することから、フィラー含有量が樹脂組成物全体の50質量%以下に制限されている。よって、この2つの紫外線硬化性樹脂組成物の高耐熱性又は低熱膨張率性は十分とはいえない。   However, in the invention described in Patent Document 2, since the ultraviolet rays are scattered, the average particle size of the filler is limited to 0.5 μm or less, and the filler amount is limited in such a small particle size filler. The In addition, in the invention described in Patent Document 3, since the photosensitivity is lowered, the filler content is limited to 50% by mass or less of the entire resin composition. Therefore, it cannot be said that the high heat resistance or the low coefficient of thermal expansion of these two ultraviolet curable resin compositions is sufficient.

また、特許文献4では、屈折率を制限したフィラーを含有した露光現像可能なドライフィルムに関する発明が提案されている。   Patent Document 4 proposes an invention relating to a dry film that can be exposed and developed and contains a filler with a refractive index limited.

しかし、この発明では、フィラー含有量が多くなると、成形性が低下したり吸水性が増加したりするため、フィラー含有量は樹脂組成物全体の40容量%以下に制限されている。よって、この紫外線硬化性樹脂組成物も高耐熱性又は低熱膨張率性は十分とはいえない。   However, in the present invention, when the filler content increases, the moldability decreases and the water absorption increases, so the filler content is limited to 40% by volume or less of the entire resin composition. Therefore, it cannot be said that this ultraviolet curable resin composition has sufficient high heat resistance or low thermal expansion coefficient.

特許第4224907号公報Japanese Patent No. 4224907 国際公開第2006/004158号International Publication No. 2006/004158 特開2004−126159号公報JP 2004-126159 A 特開2011−75923号公報JP 2011-75923 A

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、パターニング性が良好であり、熱膨張率が低い紫外線硬化性シート材料、紫外線硬化性ドライフィルム、紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and provides an ultraviolet curable sheet material, an ultraviolet curable dry film, and an ultraviolet curable build-up insulating material having good patternability and a low coefficient of thermal expansion. It is for the purpose.

本発明に係る紫外線硬化性シート材料は、紫外線で硬化する樹脂組成物で形成された紫外線硬化性シート材料において、前記樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂及びフィラーを含有し、前記フィラーの含有量が前記樹脂組成物全体の45体積%以上であり、前記紫外線硬化性シート材料の波長365nmの紫外線の透過率が50%以上であることを特徴とするものである。   The ultraviolet curable sheet material according to the present invention is an ultraviolet curable sheet material formed of an ultraviolet curable resin composition, wherein the resin composition contains an ultraviolet curable resin and a filler, and the filler content is It is 45 volume% or more of the whole resin composition, and the ultraviolet-ray transmittance of the said ultraviolet curable sheet material of wavelength 365nm is 50% or more, It is characterized by the above-mentioned.

前記紫外線硬化性シート材料において、線膨張率が45ppm/K以下であることが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the linear expansion coefficient is preferably 45 ppm / K or less.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記フィラーの平均粒径が1〜50μmであることが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the filler preferably has an average particle diameter of 1 to 50 μm.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記フィラーが、結晶シリカを含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the filler preferably contains crystalline silica.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記紫外線硬化性樹脂が、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を50〜70質量%含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the ultraviolet curable resin preferably contains at least 50 to 70% by mass of a resin having an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl structure.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記フィラーが、球状のEガラスを含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the filler preferably contains spherical E glass.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記紫外線硬化性樹脂が、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を20〜50質量%含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the ultraviolet curable resin preferably contains 20 to 50% by mass of a resin having at least an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl structure.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記フィラーが、球状のアルミナを含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the filler preferably contains spherical alumina.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記紫外線硬化性樹脂が、フルオレン系樹脂を含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the ultraviolet curable resin preferably contains a fluorene resin.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記紫外線硬化性樹脂が、フルオレン系樹脂を50〜100質量%含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the ultraviolet curable resin preferably contains 50 to 100% by mass of a fluorene resin.

前記紫外線硬化性シート材料において、前記フィラーが、屈折率が1.52〜1.65の球状のガラスフリットを含有することが好ましい。   In the ultraviolet curable sheet material, the filler preferably contains a spherical glass frit having a refractive index of 1.52 to 1.65.

本発明に係る紫外線硬化性ドライフィルムは、前記紫外線硬化性シート材料をキャリア基材に積層して形成されていることを特徴とするものである。   The ultraviolet curable dry film according to the present invention is formed by laminating the ultraviolet curable sheet material on a carrier substrate.

本発明に係る紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料は、前記紫外線硬化性シート材料をキャリア基材に積層して形成されていることを特徴とするものである。   The ultraviolet curable build-up insulating material according to the present invention is formed by laminating the ultraviolet curable sheet material on a carrier substrate.

本発明によれば、紫外線硬化性シート材料の紫外線の透過率が高いことによって、紫外線硬化性樹脂とフィラーとの界面での紫外線の散乱及び反射が抑制され、パターニング性が良好となる。また紫外線硬化性シート材料におけるフィラーの含有量が多いことによって、熱膨張率を低くすることができるものである。   According to the present invention, since the ultraviolet ray transmittance of the ultraviolet curable sheet material is high, scattering and reflection of ultraviolet rays at the interface between the ultraviolet curable resin and the filler are suppressed, and the patterning property is improved. Further, since the content of the filler in the ultraviolet curable sheet material is large, the coefficient of thermal expansion can be lowered.

本発明に係る紫外線硬化性シート材料の一例を示すものであり、(a)(b)は断面図である。An example of the ultraviolet curable sheet material which concerns on this invention is shown, (a) (b) is sectional drawing. 本発明に係る紫外線硬化性シート材料を使用した半導体パッケージの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the semiconductor package using the ultraviolet curable sheet material which concerns on this invention. 本発明に係る紫外線硬化性シート材料を使用したプリント回路板の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the printed circuit board using the ultraviolet curable sheet material which concerns on this invention. パターニング性の評価方法の一例を示すものであり、(a)は露光時の断面図、(b)は現像後の断面図である。An example of the evaluation method of patterning property is shown, (a) is sectional drawing at the time of exposure, (b) is sectional drawing after image development.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明に係る紫外線硬化性シート材料は、紫外線で硬化する樹脂組成物で形成されている。そしてこの樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂及びフィラーを複合して含有する。   The ultraviolet curable sheet material according to the present invention is formed of a resin composition that is cured by ultraviolet rays. This resin composition contains a composite of an ultraviolet curable resin and a filler.

まず紫外線硬化性樹脂について説明する。紫外線硬化性樹脂は、光重合開始剤の作用により硬化する化合物であれば、特に限定されるものではなく、モノマー、オリゴマー、プレポリマー、樹脂のいずれの形態であってもよい。   First, the ultraviolet curable resin will be described. The ultraviolet curable resin is not particularly limited as long as it is a compound that is cured by the action of a photopolymerization initiator, and may be in any form of a monomer, an oligomer, a prepolymer, and a resin.

例えば、紫外線硬化性樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等の1種のみを用いたり、2種以上を組み合わせて用いたりすることができる。特に光で硬化すると共に熱でも硬化する樹脂が、露光現像の際に硬化度を制御しやすいために好ましい。このような樹脂としては、エポキシ系樹脂が好適である。エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、アラルキルエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化合物、トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂など公知慣用のものを1種のみ用いたり、2種以上を組み合わせて用いたりすることができる。   For example, as the ultraviolet curable resin, only one kind such as an acrylic resin, an epoxy resin, and a silicone resin can be used, or two or more kinds can be used in combination. In particular, a resin that is cured by light and cured by heat is preferable because the degree of curing can be easily controlled during exposure and development. As such a resin, an epoxy resin is suitable. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, aralkyl epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, alkylphenol novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, and naphthalene type epoxy. Resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxy compound of condensate of phenol and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group, triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin, etc. Two or more types can be used in combination.

また、エポキシ系樹脂は、以下のように液状エポキシ化合物と固体エポキシ化合物とに分けることができ、これらも用いることができる。   Moreover, an epoxy resin can be divided into a liquid epoxy compound and a solid epoxy compound as follows, and these can also be used.

液状エポキシ化合物の具体例としては、液状ビスフェノールA型エポキシ化合物(例えばDIC(株)製「エピクロン850S」)、液状ビスフェノールF型エポキシ化合物(例えばDIC(株)製「エピクロン830S」)、液状ビスフェノールE型エポキシ化合物、液状ビスフェノールS型エポキシ化合物等の液状ビスフェノール型エポキシ化合物、液状水添ビスフェノールA型エポキシ化合物(例えばジャパンエポキシレジン(株)製「YX8000」)、液状水添ビスフェノールF型エポキシ化合物、液状水添ビスフェノールE型エポキシ化合物、液状水添ビスフェノールS型エポキシ化合物等の液状水添ビスフェノール型エポキシ化合物、液状3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(例えばダイセル化学工業(株)製「セロキサイド2021P」)、液状ε−カプロラクトン変性3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(例えばダイセル化学工業(株)製「セロキサイド2081」)等の液状3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル骨格を有するエポキシ化合物(3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂)等が挙げられる。特に上記の液状エポキシ化合物のうち、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を用いることが好ましい。これにより、紫外線硬化性樹脂とフィラーとの界面において、紫外線の散乱を低減しやすく、高い感光性が得られるため、硬化速度を速めることができる。   Specific examples of the liquid epoxy compound include a liquid bisphenol A type epoxy compound (for example, “Epiclon 850S” manufactured by DIC Corporation), a liquid bisphenol F type epoxy compound (for example, “Epiclon 830S” manufactured by DIC Corporation), and liquid bisphenol E. Type epoxy compound, liquid bisphenol type epoxy compound such as liquid bisphenol S type epoxy compound, liquid hydrogenated bisphenol A type epoxy compound (for example, “YX8000” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), liquid hydrogenated bisphenol F type epoxy compound, liquid type Liquid hydrogenated bisphenol type epoxy compounds such as hydrogenated bisphenol E type epoxy compounds, liquid hydrogenated bisphenol S type epoxy compounds, liquid 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxyl Rate (for example, “Celoxide 2021P” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), liquid ε-caprolactone-modified 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (for example, “Celoxide 2081 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) )) Or the like, and an epoxy compound having a liquid 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl skeleton (resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure). In particular, among the above liquid epoxy compounds, it is preferable to use a resin having a 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl structure. Thereby, scattering of ultraviolet rays can be easily reduced at the interface between the ultraviolet curable resin and the filler, and high photosensitivity can be obtained, so that the curing rate can be increased.

固体エポキシ化合物の具体例としては、固体ビスフェノールA型エポキシ化合物(例えばジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1006FS」)、固体ビスフェノールF型エポキシ化合物(例えばジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート4007」)、固体ビスフェノールE型エポキシ化合物、固体ビスフェノールS型エポキシ化合物等の固体ビスフェノール型エポキシ化合物、固体水添ビスフェノールA型エポキシ化合物(例えばジャパンエポキシレジン(株)製「YL7170」)、固体水添ビスフェノールF型エポキシ化合物、固体水添ビスフェノールE型エポキシ化合物、固体水添ビスフェノールS型エポキシ化合物等の固体水添ビスフェノール型エポキシ化合物、固体2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物(例えばダイセル化学工業(株)製「EHPE3150」)等のオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂、フルオレン系エポキシ樹脂(例えば大阪ガスケミカル(株)製「CG−500」)等のフルオレン系樹脂等が挙げられる。上記の固体エポキシ化合物のうち、オキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂を用いたり、又はフルオレン系樹脂を用いたりすることが好ましい。これにより、紫外線硬化性樹脂とフィラーとの界面において、紫外線の散乱を低減しやすくなる。   Specific examples of the solid epoxy compound include a solid bisphenol A type epoxy compound (for example, “Epicoat 1006FS” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and a solid bisphenol F type epoxy compound (for example, “Epicoat 4007” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). , Solid bisphenol E type epoxy compound, solid bisphenol type epoxy compound such as solid bisphenol S type epoxy compound, solid hydrogenated bisphenol A type epoxy compound (for example, “YL7170” manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), solid hydrogenated bisphenol F type Solid hydrogenated bisphenol type epoxy compounds such as epoxy compounds, solid hydrogenated bisphenol E type epoxy compounds, solid hydrogenated bisphenol S type epoxy compounds, solid 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butane 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct (eg, “EHPE3150” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), a fluorene-based epoxy resin (for example, Osaka) And fluorene-based resins such as “CG-500” manufactured by Gas Chemical Co., Ltd. Of the above solid epoxy compounds, it is preferable to use a resin having an oxiranylcyclohexane structure or a fluorene-based resin. Thereby, it becomes easy to reduce scattering of ultraviolet rays at the interface between the ultraviolet curable resin and the filler.

次に光重合開始剤について説明する。光重合開始剤は、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。例えば、上記のエポキシ系樹脂は、光カチオン重合開始剤と共に用いることにより紫外線硬化性樹脂として機能する。光カチオン重合開始剤は、光によってエポキシ化合物のエポキシ基を開環自重合させる重合開始剤である。このような光カチオン重合開始剤は、光によってのみ硬化を開始できる光カチオン重合開始剤だけでなく、光によっても熱によっても硬化を開始できる光・熱カチオン重合開始剤も含む。これらの開始剤と共にであれば、熱によってのみ硬化を開始できる熱カチオン重合開始剤を用いてもよい。光カチオン重合開始剤の具体例としては、(株)アデカ製「SP−170」(SbF 系スルホニウム塩)が挙げられる。光重合開始剤は、1種のみを用いたり、2種以上を組み合わせて用いたりすることができる。光重合開始剤は、樹脂組成物中の紫外線硬化性樹脂100質量部に対して0.5〜2質量部の範囲で配合することが好ましい。 Next, the photopolymerization initiator will be described. Examples of the photopolymerization initiator include a cationic photopolymerization initiator and a radical photopolymerization initiator. For example, the above epoxy resin functions as an ultraviolet curable resin when used together with a cationic photopolymerization initiator. The photocationic polymerization initiator is a polymerization initiator that causes ring-opening self-polymerization of an epoxy group of an epoxy compound by light. Such a cationic photopolymerization initiator includes not only a cationic photopolymerization initiator that can be cured only by light, but also a cationic photopolymerization initiator that can initiate curing by light or heat. If it is with these initiators, you may use the thermal cationic polymerization initiator which can start hardening only by a heat | fever. Specific examples of the cationic photopolymerization initiator, Ltd. ADEKA "SP-170" - include (SbF 6 sulfonium salt). A photoinitiator can use only 1 type, or can be used in combination of 2 or more type. The photopolymerization initiator is preferably blended in the range of 0.5 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin in the resin composition.

次にフィラーについて説明する。フィラーは、紫外線硬化性シート材料の波長365nm(好ましくは波長350〜400nm)の紫外線の透過率を50%以上(上限は99%)とすることができるものであれば、特に限定されるものではない。   Next, the filler will be described. The filler is not particularly limited as long as it can make the transmittance of ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm (preferably a wavelength of 350 to 400 nm) of the ultraviolet curable sheet material 50% or more (upper limit is 99%). Absent.

フィラーの平均粒径は0.03〜100μmであることが好ましい。平均粒径が0.03μm以上であることにより、フィラーの製造が困難となることを回避することができ、平均粒径が100μm以下であることにより、電子部品の小型化や薄型化に対して阻害する要素となりにくい。特にフィラーの平均粒径は1〜50μmであることがより好ましい。平均粒径が1μm以上であることにより、紫外線硬化性シート材料中にフィラーを高充填しやすくなり、平均粒径が50μm以下であることにより、容易に電子部品の小型化や薄型化を図ることができる。なお、本明細書において、平均粒径は、走査型電子顕微鏡観察によって求めた粒度分布における積算値50%での粒径を意味する。   The average particle size of the filler is preferably 0.03 to 100 μm. When the average particle size is 0.03 μm or more, it can be avoided that the manufacture of the filler is difficult, and when the average particle size is 100 μm or less, the electronic component is reduced in size and thickness. It is difficult to become an impeding factor. In particular, the average particle size of the filler is more preferably 1 to 50 μm. When the average particle size is 1 μm or more, it becomes easy to highly fill the UV curable sheet material with filler, and when the average particle size is 50 μm or less, electronic components can be easily downsized and thinned. Can do. In the present specification, the average particle diameter means a particle diameter at an integrated value of 50% in a particle size distribution obtained by observation with a scanning electron microscope.

フィラーの形状としては、例えば、球状、破砕状、鱗片状等を挙げることができるが、充填量を高めることができることから、球状が好ましい。   Examples of the shape of the filler include a spherical shape, a crushed shape, and a scaly shape, but a spherical shape is preferable because the filling amount can be increased.

フィラーの屈折率は、JIS K 7142(波長550nm)に基づいて測定した場合に1.52〜1.65であることが好ましい。この場合、波長350〜400nmの紫外線領域において、フィラーの屈折率と紫外線硬化性樹脂の屈折率とを近づけやすくなり、フィラーと紫外線硬化性樹脂との界面において紫外線が散乱及び反射しにくくなる。そのため、紫外線硬化性シート材料の紫外線(特に波長365nm)の透過率が50%以上となりやすくなり、パターニング性が向上しやすい。例えば、厚さ50μmの紫外線硬化性シート材料の波長365nmの紫外線透過率が50%以上となりやすい。なお、本明細書において、屈折率は、JIS K 7142(波長550nm)に基づいて測定されるものを意味する。   The refractive index of the filler is preferably 1.52 to 1.65 when measured based on JIS K 7142 (wavelength 550 nm). In this case, in the ultraviolet region having a wavelength of 350 to 400 nm, the refractive index of the filler and the refractive index of the ultraviolet curable resin are easily brought close to each other, and ultraviolet rays are hardly scattered and reflected at the interface between the filler and the ultraviolet curable resin. Therefore, the transmittance of ultraviolet rays (particularly, wavelength 365 nm) of the ultraviolet curable sheet material tends to be 50% or more, and the patterning property is easily improved. For example, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm of an ultraviolet curable sheet material having a thickness of 50 μm tends to be 50% or more. In addition, in this specification, a refractive index means what is measured based on JISK7142 (wavelength 550nm).

フィラーとしては、例えば、結晶シリカ、溶融シリカ、Eガラス、アルミナ、ガラスフリット、Tガラス等の1種のみを用いたり、2種以上を含有して用いたりすることが好ましい。結晶シリカとしては、例えば、(株)龍森製「C−BASE−1」(破砕状、平均粒径5.0μm、屈折率1.55)、(株)龍森製「5X」(破砕状、平均粒径1.5μm、屈折率1.55)、(株)龍森製「クリスタライト3K−S」(平均粒径35μm)等を挙げることができる。Eガラスとしては、例えば、旭シュエーベル(株)製「球状Eガラス」(平均粒径5.0μm、屈折率1.56)等を挙げることができる。アルミナとしては、例えば、電気化学工業(株)製「DAW−45」(球状、平均粒径43μm)、電気化学工業(株)製「DAW−05」(球状、平均粒径5.0μm、屈折率1.65)、電気化学工業(株)製「ASFP−20」(平均粒径0.3μm)等を挙げることができる。ガラスフリットとしては、例えば、日本フリット(株)製「CF0111」(平均粒径15μm、屈折率1.524)等を挙げることができる。   As the filler, for example, it is preferable to use only one kind of crystalline silica, fused silica, E glass, alumina, glass frit, T glass or the like, or to contain two or more kinds. Examples of the crystalline silica include “C-BASE-1” (crushed, average particle size 5.0 μm, refractive index 1.55) manufactured by Tatsumori, and “5X” (crushed, manufactured by Tatsumori). And an average particle size of 1.5 μm, a refractive index of 1.55), “Crystalite 3K-S” (average particle size of 35 μm) manufactured by Tatsumori Co., Ltd., and the like. Examples of the E glass include “spherical E glass” (average particle size: 5.0 μm, refractive index: 1.56) manufactured by Asahi Schwer Co., Ltd. As the alumina, for example, “DAW-45” (spherical, average particle size 43 μm) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., “DAW-05” (spherical, average particle size 5.0 μm, refracted) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. 1.65), “ASFP-20” (average particle size 0.3 μm) manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., and the like. Examples of the glass frit include “CF0111” (average particle size 15 μm, refractive index 1.524) manufactured by Nippon Frit Co., Ltd.

フィラーの表面は、必要に応じて紫外線硬化性樹脂との濡れ性を向上させるため、あらかじめシランカップリング剤などの表面処理剤で処理しておくことが好ましい。特に表面処理剤として、エポキシシラン系、ビニルシラン系、メルカプトシラン系、アミノシラン系、スチリルシラン系、メタクリロキシシラン系、アクリロキシシラン系、チタネート系等のカップリング剤を用いると、樹脂組成物におけるフィラーの分散性を向上させることができる。上記のカップリング剤のうち、特にエポキシシラン系、ビニルシラン系のカップリング剤は光重合を阻害しにくいため好ましい。   The surface of the filler is preferably pretreated with a surface treatment agent such as a silane coupling agent in order to improve wettability with the ultraviolet curable resin as necessary. Especially when a coupling agent such as epoxy silane, vinyl silane, mercapto silane, amino silane, styryl silane, methacryloxy silane, acryloxy silane, titanate or the like is used as a surface treatment agent, the filler in the resin composition The dispersibility of can be improved. Of the above coupling agents, epoxy silane-based and vinyl silane-based coupling agents are particularly preferable because they hardly inhibit photopolymerization.

フィラーの含有量は、樹脂組成物全体の45体積%以上であり、60体積%以上(上限は90体積%)であることが好ましい。フィラーの含有量が45体積%以上であることによって、紫外線硬化性シート材料の線膨張率を45ppm/K以下としやすく、熱膨張率を低くすることができると共に、耐熱性も高めることができるものである。   The filler content is 45% by volume or more of the entire resin composition, and preferably 60% by volume or more (the upper limit is 90% by volume). When the filler content is 45% by volume or more, the linear expansion coefficient of the ultraviolet curable sheet material can be easily reduced to 45 ppm / K or less, the thermal expansion coefficient can be lowered, and the heat resistance can be increased. It is.

樹脂組成物は、上記の紫外線硬化性樹脂及びフィラーを含有するが、特に以下の組み合わせが好ましい。   The resin composition contains the ultraviolet curable resin and filler described above, and the following combinations are particularly preferable.

フィラーが、結晶シリカを含有する場合には、紫外線硬化性樹脂が、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を紫外線硬化性樹脂全体の50〜70質量%含有することが好ましい。このことは、オキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂のみを50〜70質量%含有することと、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂のみを50〜70質量%含有することと、オキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂及び3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を合計して50〜70質量%含有することとを意味する。これにより、波長350〜400nmの紫外線領域において、フィラーの屈折率と紫外線硬化性樹脂の屈折率とを近づけやすくなり、フィラーと紫外線硬化性樹脂との界面において、紫外線の散乱及び反射を低減しやすくなる。   When the filler contains crystalline silica, the UV curable resin may be a resin having at least an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure in an amount of 50 to 50% of the entire UV curable resin. It is preferable to contain 70 mass%. This means that only 50 to 70% by mass of a resin having an oxiranylcyclohexane structure, 50 to 70% by mass of only a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure, This means that the total content of the resin having a ranylcyclohexane structure and the resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure is 50 to 70% by mass. This makes it easy to bring the refractive index of the filler close to the refractive index of the ultraviolet curable resin in the ultraviolet region of a wavelength of 350 to 400 nm, and easily reduces the scattering and reflection of ultraviolet rays at the interface between the filler and the ultraviolet curable resin. Become.

フィラーが、球状のEガラスを含有する場合には、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を紫外線硬化性樹脂全体の20〜50質量%含有することが好ましい。このことは、オキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂のみを20〜50質量%含有することと、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂のみを20〜50質量%含有することと、オキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂及び3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を合計して20〜50質量%含有することとを意味する。これにより、波長350〜400nmの紫外線領域において、フィラーの屈折率と紫外線硬化性樹脂の屈折率とを近づけやすくなり、フィラーと紫外線硬化性樹脂との界面において、紫外線の散乱及び反射を低減しやすくなる。   When the filler contains spherical E glass, at least 20 to 50% by mass of the resin having an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure is contained in the entire ultraviolet curable resin. It is preferable to do. This means that only 20-50% by mass of a resin having an oxiranylcyclohexane structure, 20-50% by mass of only a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure, This means that the total content of the resin having a ranylcyclohexane structure and the resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure is 20 to 50% by mass. This makes it easy to bring the refractive index of the filler close to the refractive index of the ultraviolet curable resin in the ultraviolet region of a wavelength of 350 to 400 nm, and easily reduces the scattering and reflection of ultraviolet rays at the interface between the filler and the ultraviolet curable resin. Become.

フィラーが、球状のアルミナを含有する場合には、フルオレン系樹脂を含有することが好ましく、さらにフルオレン系樹脂を紫外線硬化性樹脂全体の50〜100質量%含有することがより好ましい。これにより、波長350〜400nmの紫外線領域において、フィラーの屈折率と紫外線硬化性樹脂の屈折率とを近づけやすくなり、フィラーと紫外線硬化性樹脂との界面において、紫外線の散乱及び反射を低減しやすくなる。   When the filler contains spherical alumina, it is preferable to contain a fluorene-based resin, and it is more preferable to contain the fluorene-based resin in an amount of 50 to 100% by mass of the entire ultraviolet curable resin. This makes it easy to bring the refractive index of the filler close to the refractive index of the ultraviolet curable resin in the ultraviolet region of a wavelength of 350 to 400 nm, and easily reduces the scattering and reflection of ultraviolet rays at the interface between the filler and the ultraviolet curable resin. Become.

本発明に係る紫外線硬化性シート材料は、次のようにして製造することができる。   The ultraviolet curable sheet material according to the present invention can be manufactured as follows.

まず上記の紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤、フィラーを混練し、さらに溶剤を配合して、紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤、フィラーを溶剤に溶解及び分散させることによって、スラリー状の樹脂組成物の樹脂ワニスを調製する。溶剤としては、紫外線硬化性樹脂を溶解し、フィラーを分散することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、メチルエチルケトン等のケトン類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、エステル類、アルコール類、脂肪族炭化水素、石油系溶剤、ジメチルスルホキシド等を用いることができる。特に樹脂組成物におけるフィラーの分散性を向上させるため、さらに分散剤を配合してもよい。分散剤としては、例えば、アルキルエーテル系、ソルビタンエステル系、アルキルポリエーテルアミン系、高分子系等の分散剤を用いることができる。上記の分散剤のうち、特にアルキルエーテル系、アルキルポリエーテルアミン系の分散剤は光重合を阻害しにくいため好ましい。   First, the above ultraviolet curable resin, photopolymerization initiator and filler are kneaded, and a solvent is further blended, and then the ultraviolet curable resin, photopolymerization initiator and filler are dissolved and dispersed in the solvent to obtain a slurry-like resin. A resin varnish of the composition is prepared. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the ultraviolet curable resin and disperse the filler. For example, ketones such as methyl ethyl ketone, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycols Ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, petroleum solvents, dimethyl sulfoxide, and the like can be used. In particular, in order to improve the dispersibility of the filler in the resin composition, a dispersant may be further blended. Examples of the dispersant that can be used include alkyl ether-based, sorbitan ester-based, alkyl polyether amine-based, and polymer-based dispersants. Of the above dispersants, alkyl ether-based and alkyl polyether amine-based dispersants are particularly preferable because they hardly inhibit photopolymerization.

次に上記の樹脂ワニスをキャリア基材の片面又は両面に塗布し、これを熱風吹付等により加熱乾燥して溶剤を除去することによって、図1(a)に示すように常温で固形の紫外線硬化性シート材料1をキャリア基材4に積層された状態で得ることができる。図1(b)に示すように紫外線硬化性シート材料1には保護基材5を積層してもよい。これにより取扱性が向上する。通常、保護基材5は、紫外線硬化性シート材料1を他の部材に接着する直前に剥離し、キャリア基材4は、紫外線硬化性シート材料1の露光後に剥離する。   Next, the above resin varnish is applied to one or both sides of a carrier base material, and this is heated and dried by hot air spraying or the like to remove the solvent, and as shown in FIG. The sheet material 1 can be obtained in a state of being laminated on the carrier substrate 4. As shown in FIG. 1 (b), a protective substrate 5 may be laminated on the ultraviolet curable sheet material 1. This improves the handleability. Usually, the protective substrate 5 is peeled off immediately before the ultraviolet curable sheet material 1 is bonded to another member, and the carrier substrate 4 is peeled off after the ultraviolet curable sheet material 1 is exposed.

キャリア基材4及び保護基材5としては、例えば、高分子フィルム、金属シート、離型紙等を用いることができる。高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等のポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。金属シートとしては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔等の金属箔が挙げられる。キャリア基材4及び保護基材5の紫外線硬化性シート材料1が重ねられる面には、あらかじめオルガノポリシロキサン等により離型処理しておくことが好ましい。キャリア基材4及び保護基材5の厚さは10〜150μmが一般的である。キャリア基材4及び保護基材5は、価格、耐熱性の点でポリエステルフィルムが好ましい。   As the carrier substrate 4 and the protective substrate 5, for example, a polymer film, a metal sheet, a release paper or the like can be used. Examples of the polymer film include polyolefin films such as polyethylene film, polypropylene film, and polyvinyl chloride film, polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) film, and polycarbonate films. As a metal sheet, metal foil, such as copper foil, aluminum foil, nickel foil, is mentioned, for example. It is preferable that the surface of the carrier base material 4 and the protective base material 5 on which the ultraviolet curable sheet material 1 is stacked is previously subjected to mold release treatment with organopolysiloxane or the like. As for the thickness of the carrier base material 4 and the protective base material 5, 10-150 micrometers is common. The carrier base material 4 and the protective base material 5 are preferably polyester films in terms of cost and heat resistance.

紫外線硬化性シート材料1の厚さは、紫外線硬化性シート材料の波長365nmの紫外線の透過率が50%以上であれば、特に限定されないが、例えば10〜1000μmである。紫外線硬化性シート材料1の厚さが10μm以上であれば、フィラーが微細化しても充填性に問題が生じにくくなる。紫外線硬化性シート材料1の厚さが1000μm以下であれば、キャリア基材4に塗布された樹脂ワニスの乾燥時間が短くても内部にボイドが発生しにくくなる。厚さが1000μmを超える紫外線硬化性シート材料1が必要であれば、厚さが10〜1000μmの紫外線硬化性シート材料1を必要な枚数だけ重ねて使用することが実用上好ましい。   The thickness of the ultraviolet curable sheet material 1 is not particularly limited as long as the ultraviolet ray transmittance of the ultraviolet curable sheet material at a wavelength of 365 nm is 50% or more, but is, for example, 10 to 1000 μm. If the thickness of the ultraviolet curable sheet material 1 is 10 μm or more, even if the filler is miniaturized, it is difficult to cause a problem in the filling property. If the thickness of the ultraviolet curable sheet material 1 is 1000 μm or less, voids are hardly generated inside even if the drying time of the resin varnish applied to the carrier substrate 4 is short. If the ultraviolet curable sheet material 1 having a thickness exceeding 1000 μm is required, it is practically preferable to use the necessary number of the ultraviolet curable sheet material 1 having a thickness of 10 to 1000 μm.

本発明においては、紫外線硬化性シート材料1の波長365nmの紫外線の透過率は50%以上である。これを満たせば、紫外線硬化性シート材料1の厚さは、例えば、10μm〜50μmの範囲に設定したり、あるいは50μm〜1000μmの範囲に設定したりすることができる。このように、紫外線硬化性シート材料1の紫外線の透過率が高いことによって、紫外線硬化性樹脂とフィラーとの界面での紫外線の散乱及び反射が抑制され、パターニング性が良好となる。   In the present invention, the transmittance of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm of the ultraviolet curable sheet material 1 is 50% or more. If this is satisfied, the thickness of the ultraviolet curable sheet material 1 can be set, for example, in the range of 10 μm to 50 μm, or in the range of 50 μm to 1000 μm. Thus, when the ultraviolet ray transmissive sheet material 1 has a high ultraviolet ray transmittance, scattering and reflection of ultraviolet rays at the interface between the ultraviolet curable resin and the filler are suppressed, and the patterning property is improved.

次に紫外線硬化性シート材料1の使用例について説明する。   Next, a usage example of the ultraviolet curable sheet material 1 will be described.

紫外線硬化性シート材料1をキャリア基材4に積層して形成された図1に示すものは、紫外線硬化性ドライフィルムとして用いることができる。図2は半導体パッケージを示し、この半導体パッケージにおいて上記の紫外線硬化性ドライフィルムをソルダレジスト形成に用いる例を示す。ソルダレジスト形成は、表面に第一パッド7が設けられ、裏面に第二パッド8が設けられたインターポーザ6の両面に紫外線硬化性ドライフィルムの紫外線硬化性シート材料1を接着した後、露光、現像することによって行うことができる。接着は、簡易ラミネータや真空ラミネータによるラミネートにより行ったり、直圧成形等により行ったりすることができる。その後、インターポーザ6の表面に半導体チップ9を搭載し、半導体チップ9と第一パッド7とをボンディングワイア10により電気的に接続した後、半導体チップ9をモールド樹脂11により封止する。一方、第二パッド8にはんだボール12を設けることによって、図2に示すような半導体パッケージを製造することができる。   1 formed by laminating the ultraviolet curable sheet material 1 on the carrier substrate 4 can be used as an ultraviolet curable dry film. FIG. 2 shows a semiconductor package, and an example in which the above-described ultraviolet curable dry film is used for forming a solder resist in the semiconductor package. The solder resist is formed by adhering the ultraviolet curable sheet material 1 of an ultraviolet curable dry film to both surfaces of an interposer 6 provided with a first pad 7 on the front surface and a second pad 8 on the back surface, and then exposing and developing. Can be done. Adhesion can be performed by laminating with a simple laminator or a vacuum laminator, or by direct pressure molding or the like. Thereafter, the semiconductor chip 9 is mounted on the surface of the interposer 6, the semiconductor chip 9 and the first pad 7 are electrically connected by the bonding wire 10, and then the semiconductor chip 9 is sealed with the mold resin 11. On the other hand, by providing the solder balls 12 on the second pad 8, a semiconductor package as shown in FIG. 2 can be manufactured.

紫外線硬化性ドライフィルムはパターン形成にも用いることができる。パターニングを行う場合には、紫外線硬化性シート材料1を所定の部材に接着した後、コアパターンのスリットが形成されたマスクを重ね、スリットを通して紫外線を照射して露光する。露光方法としては、マスクを用いて選択露光する方法のほか、パターン形状に沿ってレーザ光線を走査して照射する直接描画方式を採用することもできる。露光の後、紫外線硬化性シート材料1を水性フラックス洗浄剤等の現像液を用いて現像処理することにより、露光されていない未硬化の部分の樹脂を除去する。これにより所定のパターンを形成することができる。   The ultraviolet curable dry film can also be used for pattern formation. When patterning is performed, the ultraviolet curable sheet material 1 is bonded to a predetermined member, and then a mask on which a core pattern slit is formed is overlapped, and exposure is performed by irradiating ultraviolet rays through the slit. As an exposure method, in addition to a selective exposure method using a mask, a direct drawing method of scanning and irradiating a laser beam along a pattern shape can be employed. After the exposure, the ultraviolet curable sheet material 1 is developed using a developer such as an aqueous flux cleaning agent to remove the uncured resin that is not exposed. Thereby, a predetermined pattern can be formed.

また、紫外線硬化性シート材料1をキャリア基材4に積層して形成された図1に示すものは、紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料として用いることもできる。図3は多層プリント配線板にLSI等の電子部品17が搭載されたもの(プリント回路板)を示し、この多層プリント配線板において上記の紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料を絶縁層形成に用いる例を示す。絶縁層形成は、導体層14及びバイアホール15が設けられたコア材13の両面に紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料の紫外線硬化性シート材料1を接着した後、露光、現像することによって行うことができる。このようにしてフォトバイアホール16が設けられた絶縁層を形成することができ、ビルドアップ法を使用してさらに絶縁層を必要なだけ形成した後、最外層に電子部品17を搭載し、はんだ付けによって電気的接続を行うことによって、図3に示すようなプリント回路板を製造することができる。   Moreover, what was formed by laminating | stacking the ultraviolet curable sheet material 1 on the carrier base material 4 can also be used as an insulating material for ultraviolet curable buildup. FIG. 3 shows an example in which an electronic component 17 such as LSI is mounted on a multilayer printed wiring board (printed circuit board). In this multilayer printed wiring board, the above-described ultraviolet curable build-up insulating material is used for forming an insulating layer. Indicates. The insulating layer is formed by adhering the ultraviolet curable sheet material 1 of the ultraviolet curable build-up insulating material to both surfaces of the core material 13 provided with the conductor layer 14 and the via hole 15, and then exposing and developing. Can do. In this way, an insulating layer provided with the photo via hole 16 can be formed. After forming as many insulating layers as necessary using the build-up method, the electronic component 17 is mounted on the outermost layer and soldering is performed. By performing electrical connection by attaching, a printed circuit board as shown in FIG. 3 can be manufactured.

また紫外線硬化性シート材料1は次のように使用してもよい。例えば、紫外線硬化性シート材料1を半導体用ウエハーの表面(アクティブ面又はその反対側の面)に配置し、これを80〜180℃で数秒〜5分間加熱することにより貼り合わせる。そして、キャリア基材を剥離した後、高圧水銀ランプ等により、例えば50〜2000mJ/cmのエネルギーの紫外線を照射し、乾燥機に入れて100〜200℃で1分〜2時間再度加熱して完全硬化させる。以上の工程により、半導体用ウエハーの表面にコーティング膜が形成された基板を得ることができる。 Moreover, you may use the ultraviolet curable sheet material 1 as follows. For example, the ultraviolet curable sheet material 1 is placed on the surface of the semiconductor wafer (the active surface or the opposite surface), and bonded by heating at 80 to 180 ° C. for several seconds to 5 minutes. And after peeling a carrier base material, it irradiates with ultraviolet rays of energy of 50-2000 mJ / cm < 2 >, for example with a high pressure mercury lamp etc., puts into a dryer, and heats again at 100-200 degreeC for 1 minute-2 hours. Harden completely. Through the above steps, a substrate having a coating film formed on the surface of a semiconductor wafer can be obtained.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

(樹脂組成物の構成成分)
紫外線硬化性シート材料を製造するにあたって、樹脂として以下のものを用いた。
(Constituent components of resin composition)
In manufacturing the ultraviolet curable sheet material, the following were used as the resin.

ビスフェノールA型エポキシ化合物(液状):DIC(株)製「エピクロン850S」
ビスフェノールA型エポキシ化合物(固体):ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1006FS」
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物:ダイセル化学工業(株)製「EHPE3150」
3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート:ダイセル化学工業(株)製「セロキサイド2021P」
フルオレン系エポキシ樹脂:大阪ガスケミカル(株)製「CG−500」
またフィラーとして以下のものを用いた。
Bisphenol A type epoxy compound (liquid): “Epiclon 850S” manufactured by DIC Corporation
Bisphenol A type epoxy compound (solid): “Epicoat 1006FS” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol: “EHPE3150” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate: “Celoxide 2021P” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
Fluorene epoxy resin: “CG-500” manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
The following fillers were used.

破砕状結晶シリカ1:龍森(株)製「C−BASE−1」(平均粒径5μm、屈折率1.55)
破砕状結晶シリカ2:龍森(株)製「5X」(平均粒径1.5μm、屈折率1.55)
球状Eガラス:旭シュエーベル(株)製「球状Eガラス」(平均粒径5μm、屈折率1.56)
球状ガラスフリット:日本フリット(株)製「CF0111」(平均粒径15μm、屈折率1.524)
球状アルミナ1:電気化学工業(株)製「DAW−05」(平均粒径5μm、屈折率1.65)
球状アルミナ2:(株)アドマテックス製「AO502」(平均粒径0.7μm、屈折率1.65)
球状溶融シリカ:電気化学工業(株)製「FB3SDX」(平均粒径3μm、屈折率1.47)
また光重合開始剤として以下のものを用いた。
Crushed crystal silica 1: “C-BASE-1” manufactured by Tatsumori Co., Ltd. (average particle size 5 μm, refractive index 1.55)
Crushed crystal silica 2: “5X” manufactured by Tatsumori Co., Ltd. (average particle size 1.5 μm, refractive index 1.55)
Spherical E Glass: “Spherical E Glass” manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd. (average particle size 5 μm, refractive index 1.56)
Spherical glass frit: “CF0111” manufactured by Nippon Frit Co., Ltd. (average particle size 15 μm, refractive index 1.524)
Spherical Alumina 1: “DAW-05” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. (average particle size 5 μm, refractive index 1.65)
Spherical alumina 2: “AO502” manufactured by Admatechs Co., Ltd. (average particle size 0.7 μm, refractive index 1.65)
Spherical fused silica: “FB3SDX” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. (average particle size 3 μm, refractive index 1.47)
Moreover, the following were used as a photoinitiator.

光カチオン重合硬化剤:(株)アデカ製「SP−170」(SbF 系スルホニウム塩)
(紫外線硬化性シート材料)
表1に示す配合量(質量部)で樹脂、フィラー、光重合開始剤をプラネタリーミキサーで混練し、さらにメチルエチルケトン配合することによって、粘度が3000cpsである樹脂ワニスを調製した。
Photo-cationic polymerization curing agent: manufactured) ADEKA "SP-170" (SbF 6 - sulfonium salt)
(UV curable sheet material)
A resin varnish having a viscosity of 3000 cps was prepared by kneading the resin, filler and photopolymerization initiator in a blending amount (parts by mass) shown in Table 1 with a planetary mixer and further blending with methyl ethyl ketone.

次に上記の樹脂ワニスを、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなるキャリア基材に、コンマコーターヘッドのマルチコータ((株)ヒラノテクシード製)を用いて塗布した。このキャリア基材は、樹脂ワニスの塗布面にあらかじめオルガノポリシロキサンを塗布して離型処理したものである。そして、130℃で8分間加熱乾燥することにより、キャリア基材の片面に表1に記載の厚さでBステージ状態のエポキシ樹脂組成物からなる紫外線硬化性シート材料を製造した。   Next, the above resin varnish was applied to a carrier substrate made of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 75 μm using a multi coater (manufactured by Hirano Tech Seed Co., Ltd.) of a comma coater head. This carrier base material is obtained by applying an organopolysiloxane in advance to the application surface of the resin varnish and performing a release treatment. And it heat-dried at 130 degreeC for 8 minute (s), and manufactured the ultraviolet curable sheet material which consists of an epoxy resin composition of the B stage state by the thickness of Table 1 on the single side | surface of a carrier base material.

[フィラーの含有量]
各樹脂、フィラー、光重合開始剤の密度から樹脂組成物全体におけるフィラーの含有量(体積%)を求めた。
[Filler content]
The filler content (volume%) in the entire resin composition was determined from the density of each resin, filler, and photopolymerization initiator.

[透過率]
(株)日立製作所製の可視紫外分光光度計「U−4100」を用いて各紫外線硬化性シート材料について波長365nmの紫外線の透過率を、キャリア基材に積層した状態で測定した。
[Transmissivity]
Using a visible ultraviolet spectrophotometer “U-4100” manufactured by Hitachi, Ltd., the transmittance of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm was measured for each ultraviolet curable sheet material in a state of being laminated on a carrier substrate.

[パターニング性]
パターニング性は、図4に示すようにして評価した。まず加圧式真空ラミネータ(ニチゴー・モートン(株)製「V130」)を用いて、100℃及び0.2MPaの条件で、10cm×10cm×厚さ1mmのスライドガラス18に紫外線硬化性シート材料1(紫外線硬化性樹脂2及びフィラー3を含有する)をラミネートした。
[Patternability]
The patterning property was evaluated as shown in FIG. First, using a pressure-type vacuum laminator (“V130” manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd.), an ultraviolet curable sheet material 1 ( (Containing UV curable resin 2 and filler 3).

マスク19として、透光部20及び直径φ=200μmの遮光部21を有するものを用いた。このマスク19を図4(a)に示すようにキャリア基材4に重ねた後、超高圧水銀灯を用いて500mJ/cmの条件で紫外線(図4の白抜き矢印)を照射することによって、紫外線硬化性シート材料1のうちマスク19の透光部20を通して露光された部分を光硬化させた。 As the mask 19, a mask having a light transmitting part 20 and a light shielding part 21 having a diameter φ 1 = 200 μm was used. After this mask 19 is overlaid on the carrier substrate 4 as shown in FIG. 4 (a), ultraviolet rays (open arrows in FIG. 4) are irradiated under the condition of 500 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp. A portion of the ultraviolet curable sheet material 1 exposed through the light transmitting portion 20 of the mask 19 was photocured.

次に、紫外線硬化性シート材料1からマスク19及びキャリア基材4を剥離した後、140℃で2分間熱処理を行った。引き続き、55℃に調整した水系フラックス洗浄剤(荒川化学工業(株)製「パインアルファST−100SX」)を用いて現像処理することにより、紫外線硬化性シート材料1の非露光部分を溶解除去し、水洗した。そして、表面の水分をエアブローした後、100℃で10分間乾燥させると、図4(b)に示すように硬化した紫外線硬化性シート材料1に開口部22が形成された。   Next, after peeling the mask 19 and the carrier substrate 4 from the ultraviolet curable sheet material 1, heat treatment was performed at 140 ° C. for 2 minutes. Subsequently, a non-exposed portion of the ultraviolet curable sheet material 1 is dissolved and removed by developing with an aqueous flux cleaning agent adjusted to 55 ° C. (“Pine Alpha ST-100SX” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.). , Washed with water. Then, after the surface moisture was blown with air and dried at 100 ° C. for 10 minutes, the opening 22 was formed in the cured ultraviolet curable sheet material 1 as shown in FIG.

上記の開口部22のボトム径(φ)を1000倍の走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察し、測長を行い、以下の基準でパターニング性を評価した。 The bottom diameter (φ 2 ) of the opening 22 was observed using a 1000 × scanning electron microscope (SEM), measured, and the patternability was evaluated according to the following criteria.

「◎」:ボトム径が180μm以上200μm以下
「○」:ボトム径が160μm以上180μm未満
「×」:ボトム径が160μm未満
[線膨張率]
超高圧水銀灯を用いて500mJ/cmの条件で紫外線を照射することによって、紫外線硬化性シート材料を光硬化させた後、JIS K7197に従って線膨張率を測定した。
“◎”: Bottom diameter of 180 μm or more and 200 μm or less “◯”: Bottom diameter of 160 μm or more and less than 180 μm “X”: Bottom diameter of less than 160 μm [Linear expansion coefficient]
The ultraviolet curable sheet material was photocured by irradiating with ultraviolet rays using an ultra-high pressure mercury lamp at 500 mJ / cm 2 , and then the linear expansion coefficient was measured according to JIS K7197.

Figure 2014219636
Figure 2014219636

表1から明らかなように、実施例1〜10では、パターニング性が良好であり、かつ線膨張率が45ppm/K以下で熱膨張率が低いことが確認された。   As is clear from Table 1, in Examples 1 to 10, it was confirmed that the patterning property was good, the linear expansion coefficient was 45 ppm / K or less, and the thermal expansion coefficient was low.

これに対して、比較例1では、熱膨張率は低いものの、紫外線の透過率が低いため、パターニング性が良好ではないことが確認された。   On the other hand, in Comparative Example 1, although the coefficient of thermal expansion was low, it was confirmed that the patternability was not good because of the low transmittance of ultraviolet rays.

また比較例2では、紫外線の透過率が低いため、パターニング性が良好ではなく、しかもフィラーの含有量が低いため、熱膨張率が高いことが確認された。   In Comparative Example 2, it was confirmed that the thermal expansion coefficient was high because the transmittance of ultraviolet rays was low, the patterning property was not good, and the filler content was low.

1 紫外線硬化性シート材料
2 紫外線硬化性樹脂
3 フィラー
4 キャリア基材
1 UV curable sheet material 2 UV curable resin 3 Filler 4 Carrier base material

Claims (13)

紫外線で硬化する樹脂組成物で形成された紫外線硬化性シート材料において、前記樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂及びフィラーを含有し、前記フィラーの含有量が前記樹脂組成物全体の45体積%以上であり、前記紫外線硬化性シート材料の波長365nmの紫外線の透過率が50%以上であることを特徴とする紫外線硬化性シート材料。   In the ultraviolet curable sheet material formed of the ultraviolet curable resin composition, the resin composition contains an ultraviolet curable resin and a filler, and the filler content is 45% by volume or more of the entire resin composition. An ultraviolet curable sheet material, wherein the ultraviolet curable sheet material has an ultraviolet transmittance of a wavelength of 365 nm of 50% or more. 線膨張率が45ppm/K以下であることを特徴とする請求項1に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 1, wherein the linear expansion coefficient is 45 ppm / K or less. 前記フィラーの平均粒径が1〜50μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 1, wherein the filler has an average particle diameter of 1 to 50 μm. 前記フィラーが、結晶シリカを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 1, wherein the filler contains crystalline silica. 前記紫外線硬化性樹脂が、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を50〜70質量%含有することを特徴とする請求項4に記載の紫外線硬化性シート材料。   5. The ultraviolet ray according to claim 4, wherein the ultraviolet curable resin contains at least 50 to 70% by mass of a resin having an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure. Curable sheet material. 前記フィラーが、球状のEガラスを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 1, wherein the filler contains spherical E glass. 前記紫外線硬化性樹脂が、少なくともオキシラニルシクロヘキサン構造を有する樹脂又は3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル構造を有する樹脂を20〜50質量%含有することを特徴とする請求項6に記載の紫外線硬化性シート材料。   7. The ultraviolet ray according to claim 6, wherein the ultraviolet curable resin contains at least 20 to 50% by mass of a resin having an oxiranylcyclohexane structure or a resin having a 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl structure. Curable sheet material. 前記フィラーが、球状のアルミナを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 1, wherein the filler contains spherical alumina. 前記紫外線硬化性樹脂が、フルオレン系樹脂を含有することを特徴とする請求項8に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 8, wherein the ultraviolet curable resin contains a fluorene resin. 前記紫外線硬化性樹脂が、フルオレン系樹脂を50〜100質量%含有することを特徴とする請求項9に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to claim 9, wherein the ultraviolet curable resin contains 50 to 100% by mass of a fluorene-based resin. 前記フィラーが、屈折率が1.52〜1.65の球状のガラスフリットを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料。   The ultraviolet curable sheet material according to any one of claims 1 to 3, wherein the filler contains a spherical glass frit having a refractive index of 1.52 to 1.65. 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料をキャリア基材に積層して形成されていることを特徴とする紫外線硬化性ドライフィルム。   An ultraviolet curable dry film formed by laminating the ultraviolet curable sheet material according to any one of claims 1 to 11 on a carrier substrate. 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の紫外線硬化性シート材料をキャリア基材に積層して形成されていることを特徴とする紫外線硬化性ビルドアップ用絶縁材料。   An insulating material for ultraviolet curable build-up, wherein the ultraviolet curable sheet material according to any one of claims 1 to 12 is laminated on a carrier substrate.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016179564A (en) * 2015-03-23 2016-10-13 味の素株式会社 Resin sheet
JP2018193481A (en) * 2017-05-17 2018-12-06 東京応化工業株式会社 Curable composition, cured product, cured film, display panel and production method of cured product
CN111406095A (en) * 2018-01-11 2020-07-10 株式会社Lg化学 Epoxy resin composition for molding semiconductor, molding film using the same, and semiconductor package
WO2021070764A1 (en) * 2019-10-08 2021-04-15 東京応化工業株式会社 Negative-working photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern formation method, cured film, cured film production method, and rolled body

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0625386A (en) * 1991-04-26 1994-02-01 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for photo-coupler
JPH107432A (en) * 1996-06-25 1998-01-13 Toray Ind Inc Photosensitive paste
JPH11314937A (en) * 1997-11-27 1999-11-16 Toray Ind Inc Inorganic fine powder, photosensitive paste, member of display panel and its production
JP2002023383A (en) * 2000-07-05 2002-01-23 Toray Ind Inc Photosensitive paste, member for display using the same and method for producing member for display
JP2002148787A (en) * 2000-08-30 2002-05-22 Toray Ind Inc Photosensitive paste for high frequency circuit board, electronic circuit board which uses the same and method for manufacturing the same
JP2004027145A (en) * 2002-06-28 2004-01-29 Tamura Kaken Co Ltd Curable resin composition for coating, multilayer printed circuit board, printed circuit board, and dry film
JP2007191519A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Taiyo Ink Mfg Ltd Heat-radiating insulating resin composition and printed wiring board using the same
JP2007294427A (en) * 2006-03-22 2007-11-08 E I Du Pont De Nemours & Co Dielectric, display possessing dielectric, and method for manufacturing the dielectric
WO2008026397A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Jsr Corporation Radiation-sensitive insulation resin composition, cured article, and electronic device
JP2009194235A (en) * 2008-02-15 2009-08-27 Denki Kagaku Kogyo Kk Alkali development type photocuring-thermosetting solder resist composition and metal-based circuit board using the same
JP2011075787A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Sekisui Chem Co Ltd Photosensitive composition
WO2011096384A1 (en) * 2010-02-08 2011-08-11 太陽ホールディングス株式会社 Layered structure and light-sensitive dry film used in same
WO2012137838A1 (en) * 2011-04-08 2012-10-11 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive composition, hardened coating films therefrom, and printed wiring boards using same
JP2013057755A (en) * 2011-09-07 2013-03-28 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method for forming permanent pattern, and printed board

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0625386A (en) * 1991-04-26 1994-02-01 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition for photo-coupler
JPH107432A (en) * 1996-06-25 1998-01-13 Toray Ind Inc Photosensitive paste
JPH11314937A (en) * 1997-11-27 1999-11-16 Toray Ind Inc Inorganic fine powder, photosensitive paste, member of display panel and its production
JP2002023383A (en) * 2000-07-05 2002-01-23 Toray Ind Inc Photosensitive paste, member for display using the same and method for producing member for display
JP2002148787A (en) * 2000-08-30 2002-05-22 Toray Ind Inc Photosensitive paste for high frequency circuit board, electronic circuit board which uses the same and method for manufacturing the same
JP2004027145A (en) * 2002-06-28 2004-01-29 Tamura Kaken Co Ltd Curable resin composition for coating, multilayer printed circuit board, printed circuit board, and dry film
JP2007191519A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Taiyo Ink Mfg Ltd Heat-radiating insulating resin composition and printed wiring board using the same
JP2007294427A (en) * 2006-03-22 2007-11-08 E I Du Pont De Nemours & Co Dielectric, display possessing dielectric, and method for manufacturing the dielectric
WO2008026397A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Jsr Corporation Radiation-sensitive insulation resin composition, cured article, and electronic device
JP2009194235A (en) * 2008-02-15 2009-08-27 Denki Kagaku Kogyo Kk Alkali development type photocuring-thermosetting solder resist composition and metal-based circuit board using the same
JP2011075787A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Sekisui Chem Co Ltd Photosensitive composition
WO2011096384A1 (en) * 2010-02-08 2011-08-11 太陽ホールディングス株式会社 Layered structure and light-sensitive dry film used in same
WO2012137838A1 (en) * 2011-04-08 2012-10-11 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive composition, hardened coating films therefrom, and printed wiring boards using same
JP2013057755A (en) * 2011-09-07 2013-03-28 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method for forming permanent pattern, and printed board

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016179564A (en) * 2015-03-23 2016-10-13 味の素株式会社 Resin sheet
JP2018193481A (en) * 2017-05-17 2018-12-06 東京応化工業株式会社 Curable composition, cured product, cured film, display panel and production method of cured product
JP7100962B2 (en) 2017-05-17 2022-07-14 東京応化工業株式会社 A method for producing a curable composition, a cured product, a cured film, a display panel, and a cured product.
CN111406095A (en) * 2018-01-11 2020-07-10 株式会社Lg化学 Epoxy resin composition for molding semiconductor, molding film using the same, and semiconductor package
JP2021503033A (en) * 2018-01-11 2021-02-04 エルジー・ケム・リミテッド Epoxy resin composition for semiconductor molding, molding film and semiconductor package using this
CN111406095B (en) * 2018-01-11 2023-06-13 株式会社Lg化学 Epoxy resin composition for molding semiconductor, molding film using the same, and semiconductor package
US11702520B2 (en) 2018-01-11 2023-07-18 Lg Chem, Ltd. Epoxy resin composition for molding semiconductor, molding film and semiconductor package using the same
WO2021070764A1 (en) * 2019-10-08 2021-04-15 東京応化工業株式会社 Negative-working photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern formation method, cured film, cured film production method, and rolled body

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