JP2014203654A - Organic el device and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device in which dielectric breakdown between a second electrode and a first electrode does not occur even when subjected to local stresses due to the deformation of a hygroscopic material inside an organic filler layer, the material having a moisture absorption function.SOLUTION: Provided is an organic EL device configured by layering, on a flat substrate 21, at least a first electrode layer 22, an organic luminescent medium layer 23 including an organic luminescent layer, a second electrode layer 24, an organic filler layer 27 including a hygroscopic material 29 having a moisture absorption function, an adhesive layer 28, and a sealing substrate 32, the organic EL device being provided, between the second electrode layer 24 and the organic filler layer 27, with a cushion layer 26 for relieving local stresses in the hygroscopic material 29. The second electrode layer 24 is provided with the adhesive layer 28 covered with the cushion layer and enclosing the periphery of the organic filler layer 27 and the cushion layer 26. The material of the organic filer layer 27 includes the hygroscopic material 29 having at least a thermosetting material or a photocurable material mixed thereto and having hygroscopic properties.

Description

本発明は、有機EL(Electroluminescence:エレクトロルミネッセンス)装置及びその製造方法に関し、より詳細には、テレビ、パソコンモニタ、携帯電話等の携帯端末等に使用されるフラットパネルディスプレイ等を始めとする電子デバイスのほか、面発光光源、照明、発光型広告体等にも採用される可能性のある有機EL素子を用いた有機EL装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL (Electroluminescence) device and a method for manufacturing the same, and more specifically, an electronic device such as a flat panel display used for a portable terminal such as a television, a personal computer monitor, and a cellular phone. In addition to the above, the present invention relates to an organic EL device using an organic EL element that may be employed in a surface-emitting light source, illumination, a light-emitting advertising body, and the like, and a manufacturing method thereof.

有機EL素子は、広視野角、応答速度が速い、低消費電力等の利点から、ブラウン管や液晶ディスプレイに替わるフラットパネルディスプレイ(以下、有機EL装置に含めて総称する)として期待されている。
図1は、従来の有機EL装置を示す断面図である。図1に示すように、従来の有機EL素子は、EL素子基板(以下、単に基板ともいう)11の上に、第1電極層12と、有機発光媒体層13と、第2電極層14と、接着15層と、乾燥剤16と、封止基板17と、隔壁18とを備えて構成されている。この有機EL素子の主要部は、少なくともどちらか一方が透光性を有する二枚の電極層(陽極層と陰極層であり、単に電極ともいう)、すなわち、第1電極層12と、第2電極層14との間に、有機発光媒体層13を挟持した構造である。そして、両電極12,14間に電圧を印加して電流を流すことにより、有機発光媒体層13が発光する。つまり、有機EL素子は、自発光型の表示素子である。
An organic EL element is expected as a flat panel display (hereinafter collectively referred to as an organic EL device) that replaces a cathode ray tube or a liquid crystal display because of advantages such as a wide viewing angle, a high response speed, and low power consumption.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional organic EL device. As shown in FIG. 1, a conventional organic EL element includes a first electrode layer 12, an organic light emitting medium layer 13, and a second electrode layer 14 on an EL element substrate (hereinafter also simply referred to as a substrate) 11. The adhesive 15 layer, the desiccant 16, the sealing substrate 17, and the partition 18 are comprised. The main part of the organic EL element is at least one of two electrode layers having translucency (an anode layer and a cathode layer, also simply referred to as an electrode), that is, a first electrode layer 12 and a second electrode layer. The organic light emitting medium layer 13 is sandwiched between the electrode layer 14 and the electrode layer 14. The organic light emitting medium layer 13 emits light by applying a voltage between both the electrodes 12 and 14 and passing a current. That is, the organic EL element is a self-luminous display element.

しかし、この有機EL素子は、大気中の水分や酸素の影響を受けると劣化するという問題がある。そこで、有機EL素子の主要部に、吸湿層を内包させることによって、大気中の水分や酸素の影響による劣化を防止するようにした有機EL素子が知られている。より詳しくは、この有機EL素子において、金属やガラスで構成された主要部の適切な位置に、掘り込み部によるスペースを設け、その掘り込み部に吸湿層を形成するようにしたものである。
上述したような、有機EL素子の主要部に内包するように設けられた吸湿層に関し、次に示す技術が開示されている。
例えば、特許文献1に記載のものは、吸湿機能を持った粒子をバインダー樹脂に練り込み、シート状に加工したものが、有機EL素子の主要部に貼り付けられている。
However, this organic EL element has a problem that it deteriorates when affected by moisture and oxygen in the atmosphere. In view of this, an organic EL element is known in which a moisture absorption layer is included in the main part of the organic EL element to prevent deterioration due to the influence of moisture and oxygen in the atmosphere. More specifically, in this organic EL element, a space by a digging portion is provided at an appropriate position of a main portion made of metal or glass, and a moisture absorption layer is formed in the digging portion.
The following technique is disclosed regarding the moisture absorption layer provided so that it may be included in the principal part of an organic EL element as mentioned above.
For example, the thing of patent document 1 knead | mixes the particle | grains which have a moisture absorption function in binder resin, and the thing processed into the sheet form is affixed on the principal part of an organic EL element.

また、例えば、特許文献2に記載のものは、透光性の電極等による積層体との対向面に、その積層体に接触しない状態で、吸湿部材が配設されている。その吸湿部材は、粘性を有する不活性液体又は不活性ゲル状部材に吸着材を含有したものである。しかし、いずれの方法においても、吸湿剤の表面が、第2電極と接しないような中空構造にするため、掘り込み部を形成し、その中に吸湿剤が収容されるようにする必要がある。その結果、掘り込み部の加工工程及びそのコストが余計に発生するほか、中空構造にしたことによって熱伝導性が低下するという問題も生じた。さらに、この熱伝導性の低下は、有機EL素子の大型化を困難にする原因にもなるという問題があった。   For example, the thing of patent document 2 has arrange | positioned the moisture absorption member in the state which does not contact the laminated body on the opposing surface with the laminated body by a translucent electrode. The hygroscopic member is a viscous inert liquid or inert gel-like member containing an adsorbent. However, in any of the methods, in order to make the surface of the hygroscopic agent a hollow structure that does not contact the second electrode, it is necessary to form a digging portion so that the hygroscopic agent is accommodated therein. . As a result, the processing process and the cost of the dug portion are excessively generated, and there is a problem that the thermal conductivity is lowered due to the hollow structure. Furthermore, this decrease in thermal conductivity has a problem that it is difficult to increase the size of the organic EL element.

また、例えば、特許文献3に記載のものは、上述した特許文献1,2に開示された吸湿剤が収容された掘り込み部が中空構造であることに起因する問題を解決するため、平板上に有機充填層を設け、その中に吸湿機能を持たせた粒子を分散して配合した吸湿層を形成し、第2陰極を形成したEL素子基板と貼り合せて固体封止構造にしたものである。   In addition, for example, the one described in Patent Document 3 is provided on a flat plate in order to solve the problem caused by the dug portion in which the hygroscopic agent disclosed in Patent Documents 1 and 2 described above has a hollow structure. An organic filling layer is provided, a hygroscopic layer is formed by dispersing and blending particles having a hygroscopic function therein, and bonded to the EL element substrate on which the second cathode is formed to form a solid sealing structure. is there.

特開2002−280166号公報JP 2002-280166 A 特開2003−163076号公報JP 2003-163076 A 特開2009−037808号公報JP 2009-037808 A

しかしながら、上述した特許文献3の有機EL装置及びその製造方法に示すような、吸湿剤を形成した基板と第2電極まで形成したEL素子基板とを貼り合せた封止構造にすると、吸湿機能を持った粒子が吸湿して変形、あるいは減圧雰囲気下で貼り合せた時の上下基板の圧力で、第2電極が局所的な応力を受けることにより不具合が生ずる。その不具合とは、第1電極と第2電極との間で局所的な応力により発生する絶縁破壊(ショート)が原因となって、有機EL(表示)装置が表示不良を起こすという問題がある。   However, as shown in the organic EL device and the manufacturing method of Patent Document 3 described above, when the sealing structure is formed by bonding the substrate formed with the hygroscopic agent and the EL element substrate formed up to the second electrode, the moisture absorbing function is achieved. The second electrode receives a local stress due to the pressure of the upper and lower substrates when the held particles absorb moisture and deform or are bonded together in a reduced pressure atmosphere, causing a problem. The problem is that the organic EL (display) device causes a display defect due to a dielectric breakdown (short) caused by local stress between the first electrode and the second electrode.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、有機EL素子の固体封止構造において、有機充填層内に配設された吸湿性物質が吸湿して変形、あるいは減圧雰囲気下で貼り合せた時の上下基板の圧力で、第2電極が局所的な応力を受けても、第1電極と第2電極との間で絶縁破壊が生じない有機EL装置及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems. The object of the present invention is to absorb moisture from a hygroscopic substance disposed in an organic filling layer in a solid sealing structure of an organic EL element. An organic EL device in which dielectric breakdown does not occur between the first electrode and the second electrode even when the second electrode is subjected to local stress due to deformation or pressure of the upper and lower substrates when bonded in a reduced pressure atmosphere And a manufacturing method thereof.

本発明は、このような目的を達成するためになされたもので、請求項1に係る発明は、平板基板(21)上に、少なくとも、第1電極層(22)と、有機発光層を含む有機発光媒体層(23)と、第2電極層(24)と、吸湿性能を有する吸湿性物質(29)を含有した有機充填層(27)と、接着層(28)と、封止基板(32)とを積層して構成された有機EL装置であって、前記吸湿性物質(29)の局所的応力を緩和するためのクッション層(26)を、前記第2電極層(24)と前記有機充填層(27)との間に備えたことを特徴とする有機EL装置である。   The present invention has been made to achieve such an object. The invention according to claim 1 includes at least a first electrode layer (22) and an organic light emitting layer on a flat substrate (21). An organic light emitting medium layer (23), a second electrode layer (24), an organic filling layer (27) containing a hygroscopic substance (29) having hygroscopic performance, an adhesive layer (28), a sealing substrate ( 32) and a cushion layer (26) for relieving local stress of the hygroscopic substance (29), the second electrode layer (24) and the organic EL device An organic EL device provided between the organic filling layer (27).

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記第2電極層(24)は、前記クッション層(26)で覆われており、該クッション層(26)及び前記有機充填層(27)の周囲は接着層(28)で取り囲まれていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置である。
また、本発明の請求項3に係る発明は、前記有機充填層(27)は、少なくとも、熱硬化性の材料又は光硬化性の材料と、吸湿性を有する吸湿性物質(29)とを有して構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL装置である。
In the invention according to claim 2 of the present invention, the second electrode layer (24) is covered with the cushion layer (26), and the cushion layer (26) and the organic filling layer (27) The organic EL device according to claim 1, wherein the periphery is surrounded by an adhesive layer (28).
In the invention according to claim 3 of the present invention, the organic filling layer (27) has at least a thermosetting material or a photocurable material and a hygroscopic substance (29) having a hygroscopic property. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is configured as described above.

また、本発明の請求項4に係る発明は、前記クッション層(26)の硬度は、測定限界以下の柔らかさまで含むショアE90以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の有機EL装置である。
また、本発明の請求項5に係る発明は、前記クッション層(26)の水蒸気透過率(Moisture vapor transmission rate)は、50g/m・day以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の有機EL装置である。
Further, in the invention according to claim 4 of the present invention, the hardness of the cushion layer (26) is Shore E90 or less including softness below a measurement limit. It is an organic electroluminescent apparatus as described in above.
The invention according to claim 5 of the present invention is characterized in that the moisture vapor transmission rate of the cushion layer (26) is 50 g / m 2 · day or more. The organic EL device according to any one of the above.

また、本発明の請求項6に係る発明は、前記クッション層(26)は、撥水性あるいは疎水性の材料で構成されていることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の有機EL装置である。
また、本発明の請求項7に係る発明は、前記クッション層(26)は、ゲル状あるいはゴム状の材料で構成されていることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の有機EL装置である。
In the invention according to claim 6 of the present invention, the cushion layer (26) is made of a water-repellent or hydrophobic material, according to any one of claims 1 to 5. This is an organic EL device.
The invention according to claim 7 of the present invention is characterized in that the cushion layer (26) is made of a gel-like or rubber-like material. This is an organic EL device.

また、本発明の請求項8に係る発明は、平板基板上に、機能別の層を順次積層する工程を有する有機EL装置の製造方法であって、少なくとも、第1電極層(22)を形成する工程(S10)と、有機発光層を含む有機発光媒体層(27)を形成する工程(S20)と、第2電極層(24)を形成する工程(S30)と、吸湿性能を有する吸湿性物質(29)を含有した有機充填層(27)を形成する工程(S40)と、前記第2電極層(24)と前記有機充填層(27)との間に、前記第2電極(24)を覆うクッション層(26)を形成する工程(S50)と、前記有機充填層(27)及び前記クッション層(26)の周囲を取り囲む接着層(28)を形成することで前記吸湿性物質(29)の局所的応力を緩和可能にする工程(S60)と、封止基板(32)を形成する工程(S70)と、を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法である。   The invention according to claim 8 of the present invention is a method of manufacturing an organic EL device having a step of sequentially laminating functional layers on a flat substrate, and at least the first electrode layer (22) is formed. A step (S10), a step (S20) of forming an organic light emitting medium layer (27) including an organic light emitting layer, a step (S30) of forming a second electrode layer (24), and a hygroscopic property having a hygroscopic performance. Between the step (S40) of forming the organic filling layer (27) containing the substance (29) and the second electrode layer (24) and the organic filling layer (27), the second electrode (24) Forming a cushion layer (26) covering the substrate, and forming an adhesive layer (28) surrounding the organic filling layer (27) and the cushion layer (26) to form the hygroscopic substance (29 ) That can relieve local stress of () When a method of manufacturing an organic EL device characterized by having a step (S70) of forming a sealing substrate (32).

本発明によれば、有機EL素子の固体封止構造において、有機充填層内に配設された吸湿性物質が吸湿して変形、あるいは減圧雰囲気下で貼り合せた時の上下基板の圧力で、第2電極が局所的な応力を受けても、第1電極と第2電極との間で絶縁破壊が生じない有機EL装置及びその製造方法を提供することが可能である。   According to the present invention, in the solid sealing structure of the organic EL element, the hygroscopic substance disposed in the organic filling layer absorbs moisture and deforms, or the pressure of the upper and lower substrates when bonded in a reduced pressure atmosphere, It is possible to provide an organic EL device that does not cause dielectric breakdown between the first electrode and the second electrode even when the second electrode receives local stress, and a method for manufacturing the same.

従来の有機EL装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conventional organic EL apparatus. 本発明の実施例1〜5に係る有機EL装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the organic EL apparatus which concerns on Examples 1-5 of this invention. 本発明の有機EL装置が複数レイアウトされた母基板を示す平面図である。It is a top view which shows the mother substrate by which multiple organic EL devices of this invention were laid out. 本実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus concerning this embodiment. 有機EL装置の比較例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the comparative example of an organic electroluminescent apparatus.

以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する。なお、本実施例1においては、トップエミッション型の有機ELディスプレイを例示して説明するが、これに限定するものではない。つまり、有機EL装置としてトップエミッション構造を例示するが、両面発光構造、又はボトムエミッション構造の有機EL装置にも適用できる。
図2は、本発明の実施例1〜5に係る有機EL装置を示す断面図である。本実施形態の有機EL装置は、EL素子基板(以下、単に基板ともいう)21上に少なくとも第1電極層(以下、単に、第1電極ともいう)22と有機発光媒体層23と第2電極層(以下、単に、第2電極ともいう)24からなる有機EL素子を複数備えている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the first embodiment, a top emission type organic EL display is described as an example. However, the present invention is not limited to this. That is, the top emission structure is exemplified as the organic EL device, but the organic EL device can also be applied to an organic EL device having a double emission structure or a bottom emission structure.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the organic EL devices according to the first to fifth embodiments of the present invention. The organic EL device of this embodiment includes at least a first electrode layer (hereinafter also simply referred to as a first electrode) 22, an organic light emitting medium layer 23, and a second electrode on an EL element substrate (hereinafter also simply referred to as a substrate) 21. A plurality of organic EL elements each including a layer (hereinafter also simply referred to as a second electrode) 24 are provided.

より詳細には、基板21上にパターン形成された複数の第1電極層22と、複数の第1電極層22上に形成された複数の有機発光媒体層23と、複数の有機発光媒体層23を覆うように形成された第2電極層24と、第2電極層24を覆うように形成されたクッション層26と、クッション層26と接するように配置された吸湿性物質29を含有する有機充填層27と、基板21と封止基板32とを貼り合わせるために形成された接着層28と、封止基板32とより構成されている。また、有機充填層27は、有機発光媒体層23を水蒸気、その他ガスを吸収する機能を発揮する。なお、吸湿性物質29は吸湿性を有する。   More specifically, a plurality of first electrode layers 22 patterned on the substrate 21, a plurality of organic light emitting medium layers 23 formed on the plurality of first electrode layers 22, and a plurality of organic light emitting medium layers 23. Organic filling containing a second electrode layer 24 formed so as to cover the surface, a cushion layer 26 formed so as to cover the second electrode layer 24, and a hygroscopic material 29 disposed so as to contact the cushion layer 26 The layer 27, the adhesive layer 28 formed for bonding the substrate 21 and the sealing substrate 32 together, and the sealing substrate 32 are configured. Further, the organic filling layer 27 exhibits a function of absorbing the organic light emitting medium layer 23 with water vapor and other gases. The hygroscopic substance 29 has a hygroscopic property.

上述したように、本発明の実施形態に係る有機EL装置は、平板基板21上に、少なくとも、第1電極層22と、有機発光層を含む有機発光媒体層23と、第2電極層24と、吸湿性能を有する吸湿性物質29を含有した有機充填層27と、接着層28と、封止基板32とを積層して構成された有機EL装置であって、吸湿性物質29の局所的応力を緩和するためのクッション層26を、第2電極層24と有機充填層27との間に備えた。第2電極層24は、クッション層に覆われ、有機充填層27及びクッション層26の周囲を取り囲む接着層28を備えた。有機充填層27の材料は、少なくとも熱硬化性の材料又は光硬化性の材料を配合されるとともに、吸湿性を有する吸湿性物質29を含有する。   As described above, the organic EL device according to the embodiment of the present invention includes at least the first electrode layer 22, the organic light emitting medium layer 23 including the organic light emitting layer, and the second electrode layer 24 on the flat substrate 21. The organic EL device is formed by laminating an organic filling layer 27 containing a hygroscopic substance 29 having hygroscopic performance, an adhesive layer 28, and a sealing substrate 32, and is a local stress of the hygroscopic substance 29. A cushion layer 26 for relaxing the above is provided between the second electrode layer 24 and the organic filling layer 27. The second electrode layer 24 was covered with a cushion layer and provided with an adhesive layer 28 surrounding the organic filling layer 27 and the cushion layer 26. The material of the organic filling layer 27 contains at least a thermosetting material or a photocurable material, and contains a hygroscopic substance 29 having hygroscopicity.

本発明に係る基板21としては、例えば、ガラスやプラスチックフィルム等の絶縁性を有する基板が使用できる。特に、基板側から発光を取り出すボトムエミッション型の場合には基板の材料として透光性のある材料を用いる。透光性のある基材の材料としては、ガラスや石英、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート等のプラスチックフィルムに、少なくとも、後述する第1電極層22が形成されていれば良い。   As the board | substrate 21 which concerns on this invention, the board | substrate which has insulation, such as glass and a plastic film, can be used, for example. In particular, in the case of a bottom emission type in which light emission is extracted from the substrate side, a light-transmitting material is used as the material of the substrate. As a material for the translucent base material, it is only necessary that at least a first electrode layer 22 described later is formed on a plastic film such as glass, quartz, polyethersulfone, or polycarbonate.

アクティブマトリックス方式の有機EL素子を形成する場合には、基板としては薄膜トランジスタ(TFT)が形成された駆動用基板とし、用いる薄膜トランジスタとしては、公知の薄膜トランジスタを用いることができる。
具体的には、主として、ソース/ドレイン領域及びチャネル領域が形成される活性層、ゲート絶縁膜及びゲート電極から構成される薄膜トランジスタが挙げられる。薄膜トランジスタの構造としては、特に限定されるものではなく、例えば、スタガ型、逆スタガ型、ボトムゲート型、トップゲート型、コプレーナ型等が挙げられる。
In the case of forming an active matrix organic EL element, a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is formed is used as a substrate, and a known thin film transistor can be used as a thin film transistor to be used.
Specifically, a thin film transistor mainly including an active layer in which a source / drain region and a channel region are formed, a gate insulating film, and a gate electrode can be given. The structure of the thin film transistor is not particularly limited, and examples thereof include a staggered type, an inverted staggered type, a bottom gate type, a top gate type, and a coplanar type.

薄膜トランジスタの半導体層の材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の材料を用いても良い。あるいは、その半導体層の材料として、アモルファスシリコンやポリシリコン、金属酸化物を用いても良い。さらに、上述した薄膜トランジスタ(TFT)が形成された駆動用基板のどちらかの面に、カラーフィルタ層や光散乱層、光偏光層等を設けても良い。
これらの基板21は、あらかじめ加熱処理を行って、基板21の内部、あるいは表面の水分を極力低減させてから用いることが好ましい。また、基板21上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、又はUVオゾン処理等の表面処理を施してから用いることが好ましい。
As a material for the semiconductor layer of the thin film transistor, a material such as polythiophene, polyaniline, copper phthalocyanine, or perylene derivative may be used. Alternatively, amorphous silicon, polysilicon, or metal oxide may be used as the material of the semiconductor layer. Further, a color filter layer, a light scattering layer, a light polarizing layer, or the like may be provided on either surface of the driving substrate on which the above-described thin film transistor (TFT) is formed.
These substrates 21 are preferably used after heat treatment is performed in advance to reduce moisture inside or on the surface of the substrate 21 as much as possible. Further, in order to improve the adhesion depending on the material laminated on the substrate 21, it is preferable to use after performing surface treatment such as ultrasonic cleaning treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, or UV ozone treatment. .

次に、この基板上に第1電極層22を形成する。
薄膜トランジスタは、有機ELディスプレイのスイッチング素子として機能するように接続される。そのために、薄膜トランジスタのドレイン電極と、有機ELディスプレイの各画素を構成する有機EL素子の第1電極層22とが電気的に接続される。薄膜トランジスタとドレイン電極と有機ELディスプレイの第1電極層22との接続は、平坦化膜を貫通してコンタクトホール内に形成された接続配線を介して行われる(図示せず)。
Next, the first electrode layer 22 is formed on the substrate.
The thin film transistor is connected so as to function as a switching element of the organic EL display. For this purpose, the drain electrode of the thin film transistor and the first electrode layer 22 of the organic EL element constituting each pixel of the organic EL display are electrically connected. The thin film transistor, the drain electrode, and the first electrode layer 22 of the organic EL display are connected through a connection wiring formed in the contact hole through the planarization film (not shown).

また、第1電極層22は隔壁25によって区画され、各画素に対応した画素電極となる。第1電極層22の材料としては、ITO等仕事関数の高い材料を選択することが好ましい。その第1電極層12の材料として、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の金属複合酸化物、金、白金等の金属材料を、そのまま使用することができる。あるいは、これら金属酸化物や金属材料の微粒子を、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等に分散した微粒子分散膜を、単層もしくは積層したものも、第1電極層22の材料として使用することもができる。   The first electrode layer 22 is partitioned by the partition walls 25 and serves as a pixel electrode corresponding to each pixel. As a material of the first electrode layer 22, it is preferable to select a material having a high work function such as ITO. As the material of the first electrode layer 12, a metal composite oxide such as ITO (indium tin composite oxide), indium zinc composite oxide, zinc aluminum composite oxide, or a metal material such as gold or platinum is used as it is. Can do. Alternatively, a material in which a fine particle dispersion film in which fine particles of these metal oxides or metal materials are dispersed in an epoxy resin, an acrylic resin, or the like can be used as a material for the first electrode layer 22.

上述したように、本実施形態に係る有機EL装置は、トップエミッション型の有機ELディスプレイである。そのため、第1電極層22は、正孔注入性と反射性が必要なAgやAlのような金属材料の上に、ITO膜を積層すれことによって形成される。この第1電極層22の膜厚は、有機ELディスプレイの素子構成により最適値が異なる。また、第1電極層22の膜厚は、単層、積層にかかわらず、10nm以上1000nm以下であり、より好ましくは、300nm以下である。   As described above, the organic EL device according to this embodiment is a top emission type organic EL display. Therefore, the first electrode layer 22 is formed by laminating an ITO film on a metal material such as Ag or Al that requires hole injection and reflectivity. The film thickness of the first electrode layer 22 varies depending on the element configuration of the organic EL display. The film thickness of the first electrode layer 22 is 10 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 300 nm or less, regardless of whether it is a single layer or a stacked layer.

第1電極層22の形成方法としては、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の乾式成膜法や、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の湿式成膜法等を用いることができる。
第1電極層22を形成した後、隣接する陽極パターンの間に、フォトリソグラフィ法により隔壁28が形成される。さらに詳しくは、感光性樹脂組成物を基板21に塗布する工程と、パターン露光、現像、焼成して隔壁パターンを形成する工程を少なくとも有する。
As a method for forming the first electrode layer 22, depending on the material, a dry film forming method such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a gravure printing method, A wet film forming method such as a screen printing method can be used.
After the first electrode layer 22 is formed, partition walls 28 are formed between adjacent anode patterns by photolithography. More specifically, it includes at least a step of applying the photosensitive resin composition to the substrate 21 and a step of forming a partition pattern by pattern exposure, development, and baking.

隔壁25は、画素に対応した発光領域を区画するように形成する。一般的に、アクティブマトリクス駆動型の表示装置は各画素に対して第1電極層22が形成される。第1電極層22による各画素が、できるだけ広い面積を確保できるように、第1電極層22の端部を覆うように隔壁25が形成される。その隔壁25は、格子状の形状であることが、最も基本的で好ましい形状である。   The partition wall 25 is formed so as to partition the light emitting region corresponding to the pixel. In general, in an active matrix drive display device, a first electrode layer 22 is formed for each pixel. A partition wall 25 is formed so as to cover an end of the first electrode layer 22 so that each pixel of the first electrode layer 22 can secure as large an area as possible. It is the most basic and preferable shape that the partition wall 25 has a lattice shape.

また、隔壁25は多段状に構成することもできる。その場合には、基板21上の全面にSiOやSiNで形成された絶縁性の無機膜が、フォトリソグラフィ工程により、画素を区切る格子状に形成されて1段目の隔壁になる。その1段目の隔壁の上に、感光性樹脂からなる2段目の隔壁を、フォトリソグラフィで形成する。
隔壁25を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁25が十分な絶縁性を有さない場合、隔壁25を通じて隣り合う画素電極に電流が流れてしまい(リーク電流)、表示不良が発生してしまう。また、TFTの誤作動により適正な表示ができないことがある。
Moreover, the partition 25 can also be comprised in multistage shape. In that case, an insulating inorganic film formed of SiO 2 or SiN on the entire surface of the substrate 21 is formed in a lattice shape separating pixels by a photolithography process, and becomes a first-stage partition wall. A second-stage partition made of a photosensitive resin is formed on the first-stage partition by photolithography.
The photosensitive material for forming the partition wall 25 may be either a positive type resist or a negative type resist, and may be a commercially available one, but it needs to have insulating properties. When the partition wall 25 does not have sufficient insulation, a current flows to the adjacent pixel electrode through the partition wall 25 (leakage current), and a display defect occurs. Also, proper display may not be possible due to TFT malfunction.

隔壁25を形成する感光性材料として、具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系の材料が挙げられる。ただし、これに限定するものではない。
また、有機ELディスプレイの表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。さらに、必要に応じて、光遮光性の材料に、撥水剤を添加しても構わない。また、光遮光性の材料については、プラズマやUV(ultraviolet)を照射して形成された後、インクに対する撥液性を付与したりすることもできる。
Specific examples of the photosensitive material for forming the partition wall 25 include polyimide, acrylic resin, novolac resin, and fluorene materials. However, the present invention is not limited to this.
Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL display, a light shielding material may be included in the photosensitive material. Furthermore, you may add a water repellent to the light-shielding material as needed. In addition, the light-shielding material may be formed by irradiating with plasma or UV (ultraviolet) and then imparting liquid repellency to the ink.

隔壁25を形成する工程において、感光性樹脂が、スピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の公知の塗布方法により塗布される。次に、パターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程では、従来公知の露光、現像方法により隔壁部のパターンを形成する。また焼成に関しては、オーブン、ホットプレート等を用いる従来公知の方法により焼成を行うことができる。   In the step of forming the partition walls 25, the photosensitive resin is applied by a known application method such as a spin coater, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a gravure coater. Next, in a step of forming a partition wall pattern by pattern exposure and development, a partition wall pattern is formed by a conventionally known exposure and development method. Regarding firing, firing can be performed by a conventionally known method using an oven, a hot plate or the like.

隔壁25の厚みは、0.5μmから5.0μmの範囲にあることが好ましい。そうすることにより、異なる発光色を有する有機発光材料を、溶媒に溶解又は分散させた有機発光インクを用いて画素ごとに塗り分けをおこなう場合であっても、隣接する画素との混色を防止することが可能となる。また、隔壁25が低すぎると、隣接画素間において、絶縁破壊、リーク電流、及び有機発光インクの混色等の不具合が発生する危険性が高くなる。
続いて有機発光媒体層23は、電圧の印加によって発光する有機発光層を含む。この有機発光層から成る単独の層によって構成されていても良いが、この発光層に加えて、発光効率を向上させる発光補助層を積層した積層構造から構成されたものであっても良い。発光補助層としては、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。
The thickness of the partition wall 25 is preferably in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. By doing so, even when organic light-emitting materials having different emission colors are separately applied to each pixel using an organic light-emitting ink dissolved or dispersed in a solvent, color mixing with adjacent pixels is prevented. It becomes possible. On the other hand, if the partition wall 25 is too low, there is a high risk that problems such as dielectric breakdown, leakage current, and color mixing of the organic light-emitting ink will occur between adjacent pixels.
Subsequently, the organic light emitting medium layer 23 includes an organic light emitting layer that emits light upon application of a voltage. Although it may be constituted by a single layer composed of the organic light emitting layer, it may be constituted by a laminated structure in which a light emitting auxiliary layer for improving luminous efficiency is laminated in addition to the light emitting layer. Examples of the light emission auxiliary layer include a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

正孔輸送材料の例としては、銅フタロシアニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、CuO,Cr,Mn,FeOx(x〜0.1),NiO,CoO,Pr,AgO,MoO,Bi,ZnO,TiO,SnO,ThO,V,Nb,Ta,MoO,WO,MnO等の無機材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。 Examples of hole transport materials include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine and tetra (t-butyl) copper phthalocyanine, and metal-free phthalocyanines, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) Cyclohexane, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine, N, N′-di (1-naphthyl) -N, Aromatic amine low molecular hole injection and transport materials such as N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine, polyaniline, polythiophene, polyvinylcarbazole, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) ) a polymer hole transport material such as a mixture of polystyrene sulfonic acid, polythiophene oligomer materials, Cu 2 O, Cr 2 O 3, Mn 2 O 3 FeOx (x~0.1), NiO, CoO , Pr 2 O 3, Ag 2 O, MoO 2, Bi 2 O 3, ZnO, TiO 2, SnO 2, ThO 2, V 2 O 5, Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , MoO 3 , WO 3 , MnO 2 and other inorganic materials, and other existing hole transport materials.

高分子ELディスプレイの場合には、正孔輸送材料に、インターレイヤ層を形成することが好ましい。インターレイヤ層に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の芳香族アミンを含むポリマー等が挙げられる。これらの材料は、溶媒に溶解又は分散させ、スピンコート法等を用いた各種塗布方法や凸版印刷方法を用いて形成することができる。   In the case of a polymer EL display, an interlayer layer is preferably formed on the hole transport material. Examples of the material used for the interlayer layer include polymers containing aromatic amines such as polyvinyl carbazole or derivatives thereof, polyarylene derivatives having an aromatic amine in the side chain or main chain, arylamine derivatives, and triphenyldiamine derivatives. These materials can be dissolved or dispersed in a solvent and formed using various coating methods such as spin coating or letterpress printing.

発光材料としては、9,10−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジエン、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、トリス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−キノリノラート)スカンジウム錯体、ビス〔8−(パラ−トシル)アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ir錯体等の燐光性発光体等の低分子系発光材料や、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロ等の高分子材料や、これら高分子材料に前記低分子材料の分散又は共重合した材料や、その他既存の蛍光発光材料や燐光発光材料を用いることができる。   As the light-emitting material, 9,10-diarylanthracene derivatives, pyrene, coronene, perylene, rubrene, 1,1,4,4-tetraphenylbutadiene, tris (8-quinolinolato) aluminum complex, tris (4-methyl-8-) Quinolinolato) aluminum complex, bis (8-quinolinolato) zinc complex, tris (4-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum complex, tris (4-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) aluminum complex, Bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) [4- (4- Cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, tri (8-quinolinolato) scandium complex, bis [8- (para-tosyl) aminoquinoline] zinc complex and cadmium complex, 1,2,3,4-tetraphenylcyclopentadiene, pentaphenylcyclopentadiene, poly-2,5- Diheptyloxy-para-phenylene vinylene, coumarin phosphor, perylene phosphor, pyran phosphor, anthrone phosphor, porphyrin phosphor, quinacridone phosphor, N, N'-dialkyl-substituted quinacridone phosphor , Naphthalimide-based phosphors, N, N′-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based phosphors, phosphorescent phosphors such as Ir complexes, and other low-molecular light-emitting materials, polyfluorene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene, polyspiro High molecular weight materials, and dispersion or low molecular weight materials in these high molecular weight materials. Copolymerized materials and can be used other conventional fluorescent light emitting material or phosphorescent material.

電子輸送材料の例としては、2−(4−ビフェニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体やビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム錯体、トリアゾール化合物等を用いることができる。また、これらの電子輸送材料に、ナトリウムやバリウム、リチウムといった仕事関数が低いアルカリ金属、アルカリ土類金属を、少量ドープすることにより、電子注入層としても良い。なお、有機発光媒体層23に、仕事関数が低いLi,Ca等の金属を少量ドーピングして、ITO等の金属酸化物を積層しても良い。   Examples of electron transport materials include 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1 , 3,4-oxadiazole, oxadiazole derivatives, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium complexes, triazole compounds, and the like can be used. Alternatively, an electron injection layer may be formed by doping a small amount of an alkali metal or alkaline earth metal having a low work function such as sodium, barium, or lithium into these electron transport materials. The organic light emitting medium layer 23 may be laminated with a metal oxide such as ITO by doping a small amount of a metal such as Li or Ca having a low work function.

有機発光媒体層23の膜厚は、単層又は積層により形成する場合においても、1000nm以下であり、好ましくは50〜200nm程度である。有機発光媒体層23の形成方法としては、材料に応じて、真空蒸着法や、スリットコート、スピンコート、スプレーコート、ノズルコート、フレキソ印刷、グラビア印刷、凹版オフセット印刷、凸版オフセット印刷等のコーティング法や印刷法、インクジェット法等を用いることができる。   The film thickness of the organic light emitting medium layer 23 is 1000 nm or less, preferably about 50 to 200 nm, even when formed by a single layer or a stacked layer. As a method for forming the organic light emitting medium layer 23, depending on the material, a vacuum deposition method, a coating method such as slit coating, spin coating, spray coating, nozzle coating, flexographic printing, gravure printing, intaglio offset printing, letterpress offset printing, etc. Or a printing method, an inkjet method, or the like can be used.

続いて、第2電極層24を成膜する。第2電極層24の材料としては、有機発光媒体層23への電子注入効率の高い、仕事関数の低い物質を用いる。具体的には、Mg,Al,Yb等の金属単体が使用できる。また、第2電極層24の材料としては、発光媒体と接する界面に、Ba、Ca、Liや、その酸化物、フッ化物等の化合物を、1nm程度挟んで、安定性・導電性を高くしたAlやCuを積層して用いることができる。あるいは、第2電極層24を成膜する際に、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数が低いLi,Mg,Ca,Sr,La,Ce,Er,Eu,Sc,Y,Yb等の金属1種以上と、安定なAg,Al,Cu等の金属元素との合金系を用いても良い。より具体的には、MgAg,AlLi,CuLi等の合金が使用できる。   Subsequently, the second electrode layer 24 is formed. As the material for the second electrode layer 24, a substance having a high electron injection efficiency into the organic light emitting medium layer 23 and a low work function is used. Specifically, a single metal such as Mg, Al, Yb can be used. Further, as the material of the second electrode layer 24, about 1 nm of compounds such as Ba, Ca, Li, oxides thereof, and fluorides are sandwiched at the interface in contact with the light emitting medium, thereby improving the stability and conductivity. Al and Cu can be laminated and used. Alternatively, when the second electrode layer 24 is formed, Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, Yb having a low work function are used in order to achieve both electron injection efficiency and stability. An alloy system of one or more metals such as Ag and a stable metal element such as Ag, Al, or Cu may be used. More specifically, alloys such as MgAg, AlLi, and CuLi can be used.

第2電極側から光を取り出す、いわゆるトップエミッション構造とする場合には、透光性を有する材料を選択することが必要である。この場合、仕事関数が低いLi,Caを薄く設けた後に、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の金属複合酸化物を積層しても良い。   In the case of a so-called top emission structure in which light is extracted from the second electrode side, it is necessary to select a material having translucency. In this case, after thinly providing Li and Ca having a low work function, a metal composite oxide such as ITO (indium tin composite oxide), indium zinc composite oxide, or zinc aluminum composite oxide may be laminated.

なお、上述したように、有機発光媒体層23に、仕事関数が低いLi,Ca等の金属を少量ドーピングして、ITO等の金属酸化物を積層しても良い。第2電極24の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。第2電極24の厚さに特に制限はないが、10nm〜1000nm程度が好ましい。また、第2電極24を透光性電極層として利用する場合、CaやLi等の金属材料を用いる場合の膜厚は0.1〜10nm程度が好ましい。   As described above, the organic light emitting medium layer 23 may be laminated with a metal oxide such as ITO by doping a small amount of a metal such as Li or Ca having a low work function. As a method for forming the second electrode 24, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method can be used depending on the material. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the 2nd electrode 24, About 10 nm-1000 nm are preferable. Moreover, when using the 2nd electrode 24 as a translucent electrode layer, when using metal materials, such as Ca and Li, about 0.1-10 nm is preferable.

続いて、第2電極24の全面をクッション層26で覆う。このクッション層26よって、第2電極24は、吸湿性物質29による局所的応力から守られる。また、クッション層26は、シート状のものを、第2電極24の全面に貼付ける。あるいは、液状のクッション層26をディスペンサー塗布方式、又はスクリーン印刷方式等で塗布しても良い。液状のものはゲル状あるいはゴム状であることが好ましく、シート状又は液状のものを塗布した硬化物の硬度は吸湿性物質29から第2電極24を保護するため、軟らかいことが好ましく、日本ゴム協会標準規格(SRIS)のショアE90以下であることが好ましい。なお、ショアE90以下の硬度については、測定限界以下の柔らかさまで含むものとする。つまり、クッション層26の硬度は、測定限界以下の柔らかさまで含むショアE90以下であることが好ましい。   Subsequently, the entire surface of the second electrode 24 is covered with the cushion layer 26. The cushion layer 26 protects the second electrode 24 from local stress due to the hygroscopic material 29. Further, the cushion layer 26 is pasted on the entire surface of the second electrode 24 in the form of a sheet. Alternatively, the liquid cushion layer 26 may be applied by a dispenser application method, a screen printing method, or the like. The liquid material is preferably in the form of a gel or rubber, and the hardness of the cured product coated with a sheet or liquid is preferably soft in order to protect the second electrode 24 from the hygroscopic material 29, It is preferable that it is less than Shore E90 of Association Standard (SRIS). In addition, about the hardness below Shore E90, even the softness below a measurement limit shall be included. That is, it is preferable that the hardness of the cushion layer 26 is not more than Shore E90 including softness below the measurement limit.

クッション層26を硬化させる場合、熱硬化型の材料を使用することも可能であるが、光硬化型の材料も使用することができる。
また、クッション層26は、その上の吸湿性を有した吸湿性物質29を含有する有機充填層27へ水蒸気を素早く到達させるために水蒸気透過率が高いことが好ましい。このクッション層26の水蒸気透過率(Moisture vapor transmission rate)は、50g/m・day以上であることが好ましい。
When the cushion layer 26 is cured, a thermosetting material can be used, but a photocurable material can also be used.
Further, the cushion layer 26 preferably has a high water vapor transmission rate so that water vapor can quickly reach the organic filling layer 27 containing the hygroscopic material 29 having hygroscopicity thereon. It is preferable that the moisture vapor transmission rate of the cushion layer 26 is 50 g / m 2 · day or more.

また、そのクッション層26自体が保水しないように、クッション層26には、撥水性あるいは疎水性を有する材料が使用される。したがってクッション層26の材料として、例えば、シリコーン系樹脂やフッ素系樹脂が好ましい。また、クッション層26の厚さは、クッション性を確保するために、吸湿性物質29の粒径より2倍程度の厚さであることが好ましい。ただし、その厚さに限定するものではない。
上述したように、クッション層26の材料は、撥水性あるいは疎水性の材料であることが好ましい。また、クッション層26は、ゲル状あるいはゴム状であることが好ましい。
In addition, a material having water repellency or hydrophobicity is used for the cushion layer 26 so that the cushion layer 26 itself does not retain water. Therefore, as a material of the cushion layer 26, for example, a silicone resin or a fluorine resin is preferable. Further, the thickness of the cushion layer 26 is preferably about twice as large as the particle diameter of the hygroscopic substance 29 in order to ensure cushioning properties. However, the thickness is not limited.
As described above, the material of the cushion layer 26 is preferably a water repellent or hydrophobic material. The cushion layer 26 is preferably in the form of a gel or rubber.

続いて、有機EL素子を空気や水分から守るため、吸湿性を有した吸湿性物質29を含有した有機充填層27をクッション26上に形成する。有機充填層27中に含有される吸湿性物質29として、化学吸湿性物質又は物理吸湿性物質がある。化学吸湿性物質としては、例えば、五酸化二リン(P)、酸化カルシウム(CaO)等が挙げられる。物理吸湿性物質としては、例えば、酸化アルミニウム(Al)、ゼオライト(アルミナ珪酸塩)等が挙げられる。また、粒径としては0.01〜1000um、好ましくは、0.1〜100umである。また、有機充填層27中に吸湿性物質29を含有する含有量は、1重量%〜90重量%、好ましくは15重量%〜65重量%である。化学吸湿性物質は、1種類又は数種類を用いても良く、物理吸湿性物質についても同様である。 Subsequently, an organic filling layer 27 containing a hygroscopic material 29 having a hygroscopic property is formed on the cushion 26 in order to protect the organic EL element from air and moisture. The hygroscopic substance 29 contained in the organic filling layer 27 includes a chemical hygroscopic substance or a physical hygroscopic substance. Examples of the chemical hygroscopic substance include diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ) and calcium oxide (CaO). Examples of the physical hygroscopic substance include aluminum oxide (Al 2 O 3 ) and zeolite (alumina silicate). Moreover, as a particle size, it is 0.01-1000um, Preferably, it is 0.1-100um. The content of the hygroscopic substance 29 in the organic filling layer 27 is 1% to 90% by weight, preferably 15% to 65% by weight. One or several types of chemical hygroscopic substances may be used, and the same applies to physical hygroscopic substances.

有機充填剤としては、化学的、熱的に安定で、撥水性あるいは疎水性を有することが好ましく、例えば、シリコーン系樹脂等が挙げられる。吸湿性を有した吸湿性物質29を含有した有機充填層27は、パネル全面を覆うように形成されることが好ましく、形成方法としてはディスペンサー塗布方式、スクリーン印刷方式等が挙げられる。形成されたものは液状で使用することもできるが、硬化していることが好ましい。そのため、有機充填層27を形成する有機充填剤は、熱硬化型あるいは光硬化型が好ましい。   The organic filler is preferably chemically and thermally stable and preferably has water repellency or hydrophobicity, and examples thereof include silicone resins. The organic filling layer 27 containing the hygroscopic substance 29 having hygroscopicity is preferably formed so as to cover the entire surface of the panel, and examples of the forming method include a dispenser coating method and a screen printing method. The formed can be used in liquid form, but it is preferably cured. Therefore, the organic filler forming the organic filler layer 27 is preferably a thermosetting type or a photocurable type.

続いて、クッション層26と吸湿性物質29を含有した有機充填層27を取り囲むように接着層28を形成し、その上に封止基板32を積層して封止する。接着層28の材料として、熱硬化型の材料を使用することができる。ただし、有機EL装置への熱の影響を考慮すると、接着層28は、光硬化型の材料により形成される方が好ましい。光硬化型の材料で形成される接着層28として、例えば、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、アクリル樹脂アクリレート等の各種アクリレート等の各種アクリレート、ウレタンポリエステル等の樹脂を用いたラジカル系接着層や、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン系接着層、チオール・エン付加型樹脂系接着層等が挙げられる。中でも酸素による阻害がなく、光照射後も重合反応が進行するカチオン系接着層が好ましい。カチオン硬化型タイプとしては、紫外線硬化型エポキシ樹脂接着層が好ましい。より好ましくは、100mW/cm以上の紫外線を照射した際に、10秒〜90秒以内に硬化する紫外線硬化型接着層である。この時間範囲内で硬化させることにより、紫外線照射による他の構成要素への悪影響をもたらすことなく、紫外線硬化型接着層が充分に硬化して適切な接着強さを備えることができる。また、生産工程の効率の観点からも、上述した10秒〜90秒以内の時間範囲に紫外線硬化型接着層を硬化することが好ましい。また、接着層28の種類に関わらず、低透湿性かつ高接着性のものが好ましい。接着層28を封止基板32の上に形成する方法の一例として、ディスペンサー塗布方式、スクリーン印刷方式等を挙げることができる。 Subsequently, an adhesive layer 28 is formed so as to surround the cushion layer 26 and the organic filling layer 27 containing the hygroscopic substance 29, and a sealing substrate 32 is laminated thereon and sealed. A thermosetting material can be used as the material of the adhesive layer 28. However, considering the influence of heat on the organic EL device, the adhesive layer 28 is preferably formed of a photo-curing material. As the adhesive layer 28 formed of a photocurable material, for example, radical systems using various acrylates such as ester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, acrylic resin acrylate, and the like, and resins such as urethane polyester Examples thereof include an adhesive layer, a cationic adhesive layer using a resin such as epoxy and vinyl ether, and a thiol / ene-added resin adhesive layer. Among these, a cationic adhesive layer that is not inhibited by oxygen and that undergoes a polymerization reaction even after light irradiation is preferable. As the cationic curable type, an ultraviolet curable epoxy resin adhesive layer is preferable. More preferably, it is an ultraviolet curable adhesive layer that cures within 10 seconds to 90 seconds when irradiated with ultraviolet rays of 100 mW / cm 2 or more. By curing within this time range, the ultraviolet curable adhesive layer can be sufficiently cured and provided with appropriate adhesive strength without causing adverse effects on other components due to ultraviolet irradiation. Also, from the viewpoint of the efficiency of the production process, it is preferable to cure the ultraviolet curable adhesive layer in the above-described time range within 10 seconds to 90 seconds. Regardless of the type of the adhesive layer 28, a material having low moisture permeability and high adhesion is preferable. As an example of a method for forming the adhesive layer 28 on the sealing substrate 32, a dispenser coating method, a screen printing method, and the like can be given.

接着層28には封止基板32とEL素子基板21との間の距離(ギャップとも言う)を制御するためのスペーサ30を混入させることが好ましい。スペーサ30を接着層28に混入させておくことで、封止基板32とEL素子基板21との間の距離を均一にすることができる。なおかつ、スペーサ30を接着層28に混入させておくことで、基板同士を貼り合わせた時の押圧により有機充填層27やクッション層26がスクライブ領域外まで押し出されるのを防ぐこともできる。スペーサ30の形状としては、球状のものを用いることが可能である。ただし、基板間のギャップを制御することができれば、スペーサ30の形状は、球状に限定されるものではない。なお、球状のスペーサ30であれば、直径が1.0μm以上100μm以下のものを用いることができる。ただし、球状のスペーサ30は、クッション層26と有機充填層27とを合せた厚み以下の直径であることが好ましい。クッション層26と有機充填層27を合せた厚さよりも大きいと、基板同士を貼り合わせた時のギャップ形成に支障をきたすので好ましくない。スペーサ30の材料としては、樹脂やガラス等を用いることができるが、貼り合わせ時の押圧に耐えうる材料であれば特に限定されるものではない。   It is preferable to mix a spacer 30 for controlling the distance (also referred to as a gap) between the sealing substrate 32 and the EL element substrate 21 into the adhesive layer 28. By mixing the spacer 30 in the adhesive layer 28, the distance between the sealing substrate 32 and the EL element substrate 21 can be made uniform. In addition, by mixing the spacer 30 in the adhesive layer 28, it is possible to prevent the organic filling layer 27 and the cushion layer 26 from being pushed out of the scribe region by pressing when the substrates are bonded together. As the shape of the spacer 30, a spherical shape can be used. However, if the gap between the substrates can be controlled, the shape of the spacer 30 is not limited to a spherical shape. In addition, if it is the spherical spacer 30, a thing with a diameter of 1.0 micrometer or more and 100 micrometers or less can be used. However, the spherical spacer 30 preferably has a diameter equal to or less than the thickness of the cushion layer 26 and the organic filling layer 27 combined. When the thickness is larger than the total thickness of the cushion layer 26 and the organic filling layer 27, it is not preferable because a gap is hindered when the substrates are bonded to each other. As the material of the spacer 30, resin, glass, or the like can be used, but it is not particularly limited as long as the material can withstand pressing during bonding.

封止基材32としては、透明性が必要なトップエミッション型の有機EL素子の場合にはガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のプラスチックフィルムを用いることができる。特に透明性が必要ないボトムエミッション型の有機EL素子の場合には、封止基材32として、上記の材料に加えて、ステンレスやアルミ等の金属材料や不透明なガラス、プラスチック材料を用いることができる。   As the sealing substrate 32, a plastic film such as glass, polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN) is used in the case of a top emission type organic EL element that requires transparency. Can be used. In the case of a bottom emission type organic EL element that does not particularly require transparency, a metal material such as stainless steel or aluminum, an opaque glass, or a plastic material may be used as the sealing substrate 32 in addition to the above materials. it can.

続いて、吸湿性を有する吸湿性物質29を含有した有機充填層26とクッション層26とそれらを取り囲むように形成される接着層28の塗布移行の工程について一例を説明する。
まず初めに、封止基板32の上に吸湿性を有する吸湿性物質29を含有した有機充填層27を形成し、その上に有機充填層27を覆うようにクッション層26形成する。その後、接着層28が1つ以上の有機充填層27とクッション層26を取り囲むように形成する。形成する手法としてはディスペンサー塗布方式、スクリーン印刷方式等があげられる。また、接着層28を形成するのは第2電極24を形成後のEL素子基板側でも良い。
Next, an example of the application transfer process of the organic filling layer 26 containing the hygroscopic substance 29 having the hygroscopic property, the cushion layer 26 and the adhesive layer 28 formed so as to surround them will be described.
First, an organic filling layer 27 containing a hygroscopic substance 29 having a hygroscopic property is formed on the sealing substrate 32, and a cushion layer 26 is formed thereon so as to cover the organic filling layer 27. Thereafter, the adhesive layer 28 is formed so as to surround the one or more organic filling layers 27 and the cushion layer 26. Examples of the forming method include a dispenser coating method and a screen printing method. Further, the adhesive layer 28 may be formed on the EL element substrate side after the second electrode 24 is formed.

クッション層26と有機充填層27との積層体と接着層28との間に空間を有するように形成しても良い。接着層28とクッション層26と有機充填層27との積層体との間に空間があることで、貼り合わせ後、大気圧で押された状態のため、加熱によりクッション層26あるいは有機充填層27が濡れ広がることができる。一方、接着層28がクッション層26と有機充填層27との積層体と接するように形成しても良く、接着層28とクッション層26と有機充填層27との積層体が接することで空気が侵入する空間を無くし、封止性をより向上することが可能である。   You may form so that it may have a space between the laminated body of the cushion layer 26 and the organic filling layer 27, and the contact bonding layer 28. FIG. Since there is a space between the laminate of the adhesive layer 28, the cushion layer 26, and the organic filling layer 27, the cushion layer 26 or the organic filling layer 27 is heated by heating because it is pressed at atmospheric pressure after bonding. Can spread wet. On the other hand, the adhesive layer 28 may be formed so as to be in contact with the laminated body of the cushion layer 26 and the organic filling layer 27, and the laminated body of the adhesive layer 28, the cushion layer 26 and the organic filling layer 27 is in contact with the air. It is possible to eliminate the space to enter and improve the sealing performance.

図3は、本発明の有機EL装置が複数レイアウトされた母基板を示す平面図である。
減圧雰囲気下で封止基板32とEL素子基板21とを貼り合わせた後、貼り合わされた基板が大気中に取り出されるとクッション層26と有機充填層27との積層体と接着層28は、図3の外周シール31の内側にあるため、封止基板32、EL素子基板21を介して外部から均一な圧力を受け、封止基板32と基板21が均一な厚さで貼り合わされ、貼り合わせユニットとなる。
FIG. 3 is a plan view showing a mother substrate on which a plurality of organic EL devices of the present invention are laid out.
After the sealing substrate 32 and the EL element substrate 21 are bonded together in a reduced pressure atmosphere, when the bonded substrate is taken out into the atmosphere, the laminate of the cushion layer 26 and the organic filling layer 27 and the adhesive layer 28 are 3, the sealing substrate 32 and the substrate 21 are bonded to each other with a uniform thickness by receiving a uniform pressure from the outside via the sealing substrate 32 and the EL element substrate 21. It becomes.

続いて、図3のように、母基板上にそれぞれが有機EL装置となるEL素子基板21を複数形成する場合について説明する。
母基板の端部又は母基板の端部に対応する大きさの封止基板上に、各EL素子基板を囲うように形成された閉ループ状の外周シール31を形成することが好ましい。減圧雰囲気下で封止基板32とEL素子基板21とを貼り合せるため、外周シール31を形成することにより、外周シール内部は負圧になる。すると接着層28が硬化する前のため、大気圧で均一な圧力で貼り合わすことができ、接着層28のギャップを均一にすることができる。また封止基板32と素子基板21とが剥がれたり、貼り合わせユニット内部に外部から空気が侵入したりすることを防ぐこともできる。
Next, a case where a plurality of EL element substrates 21 each serving as an organic EL device are formed on the mother substrate as shown in FIG. 3 will be described.
A closed loop outer peripheral seal 31 formed so as to surround each EL element substrate is preferably formed on the end portion of the mother substrate or a sealing substrate having a size corresponding to the end portion of the mother substrate. Since the sealing substrate 32 and the EL element substrate 21 are bonded to each other under a reduced pressure atmosphere, the outer peripheral seal 31 has a negative pressure by forming the outer peripheral seal 31. Then, since the adhesive layer 28 is not cured, it can be bonded with a uniform pressure at atmospheric pressure, and the gap of the adhesive layer 28 can be made uniform. Further, it is possible to prevent the sealing substrate 32 and the element substrate 21 from peeling off or air from entering the inside of the bonding unit from the outside.

外周シール剤としては接着層28と同じ材料を用いることができ、接着層28と同ようにスペーサ30を混入させることが好ましい。また、外周シール31の形成方法も接着層28と同ようにディスペンサー塗布方式やスクリーン印刷方式等が挙げられ、接着層28と同時に、同様の方法により形成しても良い。
接着層27、外周シール31の形成後、減圧下で貼り合せたユニットを大気中に取り出し、光照射し、接着層28、外周シール31のギャップ形成及び硬化を行う。接着層28と外周シール31は貼り合わせの際の圧力により封止基板32と素子基板21の両方に接するように形成され、ユニットの完成である。
As the outer peripheral sealant, the same material as that of the adhesive layer 28 can be used, and the spacer 30 is preferably mixed in the same manner as the adhesive layer 28. Further, the outer peripheral seal 31 may be formed by a dispenser coating method, a screen printing method, or the like, similar to the adhesive layer 28, and may be formed at the same time as the adhesive layer 28.
After the adhesive layer 27 and the outer peripheral seal 31 are formed, the unit bonded under reduced pressure is taken out into the atmosphere, irradiated with light, and the gap between the adhesive layer 28 and the outer peripheral seal 31 is formed and cured. The adhesive layer 28 and the outer peripheral seal 31 are formed so as to be in contact with both the sealing substrate 32 and the element substrate 21 by the pressure at the time of bonding, and the unit is completed.

次に、図4を参照して、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明する。
図4は、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。図4に示すように、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法は、工程(S10)〜工程(S70)を有する。すなわち、有機発光層を含む有機発光媒体層(13)を形成する工程(S20)と、第2電極層(24)を形成する工程(S30)と、吸湿性能を有する吸湿性物質(29)を含有した有機充填層(27)を形成する工程(S40)と、第2電極(24)を覆うクッション層(26)を形成する工程(S50)と、接着層(28)を形成する工程(S60)と、封止基板(32)を形成する工程(S70)とを有する。
Next, with reference to FIG. 4, the manufacturing method of the organic EL device according to this embodiment will be described.
FIG. 4 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the organic EL device according to this embodiment. As shown in FIG. 4, the manufacturing method of the organic EL device according to this embodiment includes steps (S10) to (S70). That is, a step (S20) of forming an organic light emitting medium layer (13) including an organic light emitting layer, a step (S30) of forming a second electrode layer (24), and a hygroscopic substance (29) having hygroscopic performance. A step (S40) of forming an organic filling layer (27) containing, a step (S50) of forming a cushion layer (26) covering the second electrode (24), and a step of forming an adhesive layer (28) (S60). And a step (S70) of forming the sealing substrate (32).

そして、接着層(28)を形成する工程(S50)は、有機充填層(27)及びクッション層(26)の周囲を、接着層(28)によって取り囲むように形成することにより、吸湿性物質(29)の局所的応力を緩和することを特徴とする。   Then, in the step (S50) of forming the adhesive layer (28), the organic filler layer (27) and the cushion layer (26) are surrounded by the adhesive layer (28), so that the hygroscopic substance ( 29) It is characterized by relieving local stress.

実施例1の説明に用いた図2を用いて実施例2も説明する。実施例1において、クッション層26は、水蒸気透過率が高く、吸湿性が良好であるべきことを説明した。その理由は、クッション層26の水蒸気透過率が高ければ、その良好な吸湿性によって、外部から進入した水蒸気を素早く吸湿性物質29へ到達させるので、水蒸気から有機EL装置を保護できるからである。また、クッション層26が、シート状あるいはゲル状あるいは硬化物において形成された場合、そのクッション層26は多孔質であり、かつ、クッション性を有する。そのクッション層26があるため、吸湿性を有する吸湿性物質29による第2電極24への局所的応力を受けても、有機EL装置は、第1電極22との上下にわたる絶縁破壊を回避し易くなる。   The second embodiment will also be described with reference to FIG. 2 used for the description of the first embodiment. In Example 1, it was explained that the cushion layer 26 should have high water vapor permeability and good hygroscopicity. The reason is that if the water vapor permeability of the cushion layer 26 is high, the water vapor that has entered from the outside quickly reaches the hygroscopic material 29 due to its good hygroscopicity, so that the organic EL device can be protected from the water vapor. Further, when the cushion layer 26 is formed in a sheet shape, a gel shape, or a cured product, the cushion layer 26 is porous and has cushioning properties. Because of the cushion layer 26, the organic EL device can easily avoid dielectric breakdown over and below the first electrode 22 even when subjected to local stress on the second electrode 24 by the hygroscopic substance 29 having hygroscopicity. Become.

実施例1の説明に用いた図2を用いて実施例3も説明する。実施例2ではクッション層26自体を、多孔質の材料により構成した。その点に関し、実施例3ではクッション層26に、微細な穴加工を施すという製造方法を採用している。その結果、有機EL装置は、外部から進入した水蒸気を素早く吸湿性物質29へ到達させることができる。つまり、ゲッター効果(gettering effect)を低下させることがない。しかも、クッション層26自体にクッション性があるため、吸湿性物質29による第2電極24への局所的応力を受けても、第1電極22との上下にわたる絶縁破壊を回避し易くなる。   A third embodiment will also be described with reference to FIG. 2 used to describe the first embodiment. In Example 2, the cushion layer 26 itself was made of a porous material. In this regard, the third embodiment employs a manufacturing method in which fine hole processing is performed on the cushion layer 26. As a result, the organic EL device can cause water vapor entering from the outside to quickly reach the hygroscopic substance 29. That is, the getter effect is not reduced. In addition, since the cushion layer 26 itself has a cushioning property, it is easy to avoid dielectric breakdown over and below the first electrode 22 even when subjected to local stress on the second electrode 24 by the hygroscopic substance 29.

実施例1の説明に用いた図2を用いて実施例4も説明する。実施例3ではクッション層に微細な穴加工を施すとしたが、実施例4ではクッション層に網目状(メッシュ構造)のものを使用することにより、外部から進入した水蒸気を素早く吸湿性を有する吸湿性物質29へ到達させることができ、ゲッター効果を低下させることなくかつ、クッション性があるため、吸湿性を有する吸湿性物質29による第2電極24への局所的応力に対し、第1電極22との上下にわたる絶縁破壊を抑制させることができる。   Example 4 will also be described with reference to FIG. 2 used to explain Example 1. FIG. In Example 3, a fine hole was formed in the cushion layer. However, in Example 4, by using a mesh (mesh structure) for the cushion layer, moisture entering from the outside is quickly absorbed by moisture. The first electrode 22 against the local stress applied to the second electrode 24 by the hygroscopic substance 29 having hygroscopicity, because it can reach the active substance 29, has no cushioning effect, and has a cushioning property. It is possible to suppress dielectric breakdown across the top and bottom.

実施例1の説明に用いた図2を用いて実施例5も説明する。実施例5は、実施例1において、各要件をより詳細に限定して説明するために設けた別枠である。また、実施例5では、それに対する比較例との比較結果も併せて説明する。なお、本発明はこれらの実施例1〜5に限定されるものではない。
まず、図2に示す実施例5の有機EL装置を作製した。基板21として、既に第1電極層22、取り出し電極、TFT回路を保護するためのSiNx層からなる無機絶縁層及び無機絶縁層上のポリイミドからなる樹脂絶縁層を備え、絶縁層は画素を仕切る隔壁25として形成されているTFT基板21を用いた。なお、実施例1〜5に図2を兼用しているので、図2の符号21を、そのままTFT基板21と呼ぶ。
Example 5 will also be described with reference to FIG. 2 used to explain Example 1. FIG. Example 5 is another frame provided in order to explain each requirement in more detail in Example 1. In Example 5, the comparison result with the comparative example is also described. In addition, this invention is not limited to these Examples 1-5.
First, an organic EL device of Example 5 shown in FIG. 2 was produced. The substrate 21 already includes a first electrode layer 22, an extraction electrode, an inorganic insulating layer made of a SiNx layer for protecting the TFT circuit, and a resin insulating layer made of polyimide on the inorganic insulating layer, and the insulating layer is a partition wall for partitioning pixels. The TFT substrate 21 formed as 25 was used. In addition, since FIG. 2 is shared by Examples 1-5, the code | symbol 21 of FIG. 2 is called the TFT substrate 21 as it is.

次に、第1電極層22上にポリ(3,4エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物からなる正孔輸送層をスピンコート法により20nm厚で形成した。
次に、正孔輸送層上に有機発光材料であるポリ[2−メトキシ−5−(2’−エチル−ヘキシロキシ)−1,4−フェニレンビュレン]をトルエンに溶解させ、スピンコート法により有機発光層を形成し、前記正孔輸送層と合わせて有機発光媒体層23を80nm厚で形成した。
Next, a hole transport layer made of a mixture of poly (3,4 ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid was formed on the first electrode layer 22 with a thickness of 20 nm by spin coating.
Next, poly [2-methoxy-5- (2′-ethyl-hexyloxy) -1,4-phenyleneburene], which is an organic light-emitting material, is dissolved in toluene on the hole transport layer, and organic by spin coating. A light emitting layer was formed, and an organic light emitting medium layer 23 having a thickness of 80 nm was formed together with the hole transport layer.

次にBa、Alからなる第2電極層24を、蒸着法により抵抗加熱蒸着法により、それぞれ5nm厚、2nm厚で形成した。
続いて、フラットな封止基板にゼオライトを含有した有機充填層をスクリーン印刷法により塗布し、不活性ガス中にて250℃×2時間アニールし有機充填層27を形成した。
Next, the 2nd electrode layer 24 which consists of Ba and Al was formed with thickness of 5 nm and 2 nm by the resistance heating vapor deposition method by the vapor deposition method, respectively.
Subsequently, an organic filling layer containing zeolite was applied to a flat sealing substrate by a screen printing method, and annealed in an inert gas at 250 ° C. for 2 hours to form an organic filling layer 27.

次に、有機充填層27上に水蒸気透過率が50g/m・dayで厚み100umのクッション層を貼り付け、その周りに接着層28を塗布し、Ba、Alまで形成したTFT基板を貼り合わせ、紫外線を5000mJ照射し、封止した有機EL装置を作成した。
このように得た有機エレクロルミネッセンスパネルを60℃90%放置試験に投入したところ、1000時間経過しても上下にわたる絶縁破壊が原因である黒点とダークエリア、ダークスポットは見られなかった。
Next, a cushion layer having a water vapor transmission rate of 50 g / m 2 · day and a thickness of 100 μm is pasted on the organic filling layer 27, an adhesive layer 28 is applied around the cushion layer, and a TFT substrate formed up to Ba and Al is pasted together. A sealed organic EL device was produced by irradiation with 5000 mJ of ultraviolet rays.
When the organic electroluminescence panel thus obtained was put into a 60 ° C. and 90% standing test, black spots, dark areas, and dark spots due to vertical dielectric breakdown were not seen even after 1000 hours.

(比較例)
図5は、有機EL装置の比較例を示す断面図である。なお、図2に示した各部と同一効果の箇所には同一符号を付して説明を省略する。
実施例5に記載したクッション層を除いた有機EL装置を作製し、同ように60℃90%放置試験を行ったところ、240時間で上下にわたる絶縁破壊が原因である黒点が見られたが、ダークエリア、ダークスポットは見られなかった。
以上の結果から、実施例5は比較例1に比べ、上下にわたる絶縁破壊による不良の無い点で、優れていることが確認できた。
(Comparative example)
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a comparative example of an organic EL device. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the location of the same effect as each part shown in FIG. 2, and description is abbreviate | omitted.
An organic EL device excluding the cushion layer described in Example 5 was produced, and a 60 ° C. and 90% standing test was performed in the same manner. As a result, black spots caused by dielectric breakdown over 240 hours were observed. Dark areas and dark spots were not seen.
From the above results, it was confirmed that Example 5 was superior to Comparative Example 1 in that there was no defect due to dielectric breakdown over the top and bottom.

以上説明したように、本発明によれば、第2電極と吸湿性能を有する吸湿性物質を含有した有機充填槽との間にクッション層を設けることにより、有機EL素子の固体封止構造において、有機充填層内に配設された吸湿性物質が吸湿して変形することにより、第2電極が局所的な応力を受けても、第1電極と第2電極との間で絶縁破壊が生じない有機EL装置及びその製造方法を提供することが可能である。   As described above, according to the present invention, by providing a cushion layer between the second electrode and the organic filling tank containing the hygroscopic substance having hygroscopic performance, in the solid sealing structure of the organic EL element, As the hygroscopic substance disposed in the organic filling layer absorbs moisture and deforms, even if the second electrode receives local stress, dielectric breakdown does not occur between the first electrode and the second electrode. An organic EL device and a manufacturing method thereof can be provided.

11,21…EL素子基板(平板基板、TFT基板)
12,22…第1電極層
13,23…有機発光媒体層
14,24…第2電極層
15,28…接着層
16…乾燥剤
17,32…封止基板
18,25…隔壁
26…クッション層
27…有機充填層
29…吸湿性物質
30…スペーサ
31…外周シール
11, 21 ... EL element substrate (flat substrate, TFT substrate)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12, 22 ... 1st electrode layer 13, 23 ... Organic luminescent medium layer 14, 24 ... 2nd electrode layer 15, 28 ... Adhesive layer 16 ... Desiccant 17, 32 ... Sealing board | substrates 18 and 25 ... Partition 26 ... Cushion layer 27 ... Organic filling layer 29 ... Hygroscopic material 30 ... Spacer 31 ... Outer seal

Claims (8)

平板基板上に、少なくとも、第1電極層と、有機発光層を含む有機発光媒体層と、第2電極層と、吸湿性能を有する吸湿性物質を含有した有機充填層と、接着層と、封止基板とを積層して構成された有機EL装置であって、
前記吸湿性物質の局所的応力を緩和するためのクッション層を、前記第2電極層と前記有機充填層との間に備えたことを特徴とする有機EL装置。
On a flat substrate, at least a first electrode layer, an organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer, a second electrode layer, an organic filling layer containing a hygroscopic material having a hygroscopic performance, an adhesive layer, a sealing layer, An organic EL device configured by laminating a stop substrate,
An organic EL device comprising a cushion layer for relaxing local stress of the hygroscopic substance between the second electrode layer and the organic filling layer.
前記第2電極層は、前記クッション層で覆われており、該クッション層及び前記有機充填層の周囲は接着層で取り囲まれていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。   2. The organic EL device according to claim 1, wherein the second electrode layer is covered with the cushion layer, and a periphery of the cushion layer and the organic filling layer is surrounded by an adhesive layer. 前記有機充填層は、少なくとも、熱硬化性の材料又は光硬化性の材料と、吸湿性を有する吸湿性物質とを有して構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL装置。   The organic filling layer is configured to include at least a thermosetting material or a photocurable material and a hygroscopic substance having hygroscopicity. Organic EL device. 前記クッション層の硬度は、測定限界以下の柔らかさまで含むショアE90以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to any one of claims 1 to 3, wherein the hardness of the cushion layer is Shore E90 or less including softness below a measurement limit. 前記クッション層の水蒸気透過率(Moisture vapor transmission rate)は、50g/m・day以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の有機EL装置。 5. The organic EL device according to claim 1, wherein the cushion layer has a moisture vapor transmission rate of 50 g / m 2 · day or more. 前記クッション層は、撥水性あるいは疎水性の材料で構成されていることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the cushion layer is made of a water repellent or hydrophobic material. 前記クッション層は、ゲル状あるいはゴム状の材料で構成されていることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the cushion layer is made of a gel-like or rubber-like material. 平板基板上に、機能別の層を順次積層する工程を有する有機EL装置の製造方法であって、
少なくとも、第1電極層を形成する工程と、
有機発光層を含む有機発光媒体層を形成する工程と、
第2電極層を形成する工程と、
吸湿性能を有する吸湿性物質を含有した有機充填層を形成する工程と、
前記第2電極層と前記有機充填層との間に、前記第2電極を覆うクッション層を形成する工程と、
前記有機充填層及び前記クッション層の周囲を取り囲む接着層を形成することで前記吸湿性物質の局所的応力を緩和可能にする工程と、
封止基板を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL device having a step of sequentially stacking functional layers on a flat substrate,
At least a step of forming a first electrode layer;
Forming an organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer;
Forming a second electrode layer;
Forming an organic filling layer containing a hygroscopic substance having hygroscopic performance;
Forming a cushion layer covering the second electrode between the second electrode layer and the organic filling layer;
Allowing the local stress of the hygroscopic substance to be relaxed by forming an adhesive layer surrounding the organic filling layer and the cushion layer; and
Forming a sealing substrate;
A method for producing an organic EL device, comprising:
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