JP2014201825A - 次亜塩素酸水の生成用電解槽 - Google Patents

次亜塩素酸水の生成用電解槽 Download PDF

Info

Publication number
JP2014201825A
JP2014201825A JP2013081793A JP2013081793A JP2014201825A JP 2014201825 A JP2014201825 A JP 2014201825A JP 2013081793 A JP2013081793 A JP 2013081793A JP 2013081793 A JP2013081793 A JP 2013081793A JP 2014201825 A JP2014201825 A JP 2014201825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
electrolytic cell
chlorine gas
casing
water supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013081793A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6121221B2 (ja
JP2014201825A5 (ja
Inventor
冨田 守
Mamoru Tomita
守 冨田
幸裕 冨田
Yukihiro Tomita
幸裕 冨田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dairy Techno Inc
Original Assignee
Dairy Techno Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dairy Techno Inc filed Critical Dairy Techno Inc
Priority to JP2013081793A priority Critical patent/JP6121221B2/ja
Priority to PCT/JP2014/059113 priority patent/WO2014168024A1/ja
Publication of JP2014201825A publication Critical patent/JP2014201825A/ja
Publication of JP2014201825A5 publication Critical patent/JP2014201825A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6121221B2 publication Critical patent/JP6121221B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • B01F23/2323Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles by circulating the flow in guiding constructions or conduits
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/50Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle
    • B01F25/53Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle in which the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle through a recirculation tube, into which an additional component is introduced
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01Products
    • C25B1/24Halogens or compounds thereof
    • C25B1/26Chlorine; Compounds thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B15/00Operating or servicing cells
    • C25B15/08Supplying or removing reactants or electrolytes; Regeneration of electrolytes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

【課題】塩素ガスの漏れが無い長期安定な効率の良い次亜塩素酸水の生成用電解槽を提供する。【解決手段】塩素ガスが絶対漏れない十分な厚みを持った塩化ビニールで形成されたケーシング2内に、希塩酸が供給され塩素ガスと水素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室3及びその電極板5a、5bの上部にガス溜まり4を設けた電解槽1を形成すると共に、電解槽1内を貫通する送水通路6を形成し、前記電解室3で生成された塩素ガスを前記送水通路6内を流動する水に混入させ、前記塩素ガスを前記送水通路内で安全を保つのに十分になるように溶かすようにし、水素ガスは水に殆ど溶解しないのでガス状のまま送水通路6に入り、貯留タンク14に戻り、その上部より水素ガスとして空気中に散出するようにした。【選択図】図1

Description

本発明は次亜塩素酸水の生成用電解槽に関する。
本願発明者は、次亜塩素酸水の生成装置として、図4に示すように、希塩酸タンクaから陰陽両極間に隔膜が存在しない電解槽bに希塩酸送水管cを接続すると共に、水が貯留されている貯留タンクdから水を流入循環して該貯留タンクd内に戻す循環管路eを設け、該循環管路eの混入箇所Aと前記電解槽bとを混入管路fで連結し、該電解槽bからの塩素ガスを前記混入管路fを介して前記循環管路e中の水に混入して、該貯留タンクd内の水を前記循環管路eを循環させることにより、所望の濃度の次亜塩素酸水を生成させるものを提案している(特許文献1参照。)。
尚、図4において、gは前記希塩酸送水管cに介在した希塩酸ポンプ、hは前記循環管路eに介在した循環ポンプ、iは前記貯留タンクdに設けた次亜塩素酸水の排出口を示す。
特開2012−67356号公報
前記次亜塩素水酸生成装置の運転操作に際し、特に重要な点は次の2点があげられる。
即ち、次亜塩素酸水生成装置の運転操作に際し、安全性の確保の点から、その希塩酸水を電気分解する電解槽及び連結するパイプ類から発生する塩素ガスを一切外部に漏らさないようにすること、同時に、電解槽の内部の電解室の陰陽の電極板の間に発生する水素ガス及び塩素ガスが電解室の内部に溜まるとそのガス溜まりの部分の電解の効率を落とし、かつ、電極板に直接長時間触れる塩素ガスにより電極板の損耗をもたらし寿命を短縮することを可能なかぎり阻止することであり、安全性と経済性を確保する事である。
そこで、本願発明者は、種々実験検討の結果、前記次亜塩素酸水の生成装置を改良し、前記電解槽bで生成した10,000ppm〜20,000ppmという高い濃度の塩素ガスが前記混入管路fから循環管路eまで流動中に、該混入管路fや、電解槽bと混入管路fとの継ぎ目及び該混入管路fと該循環管路eとの継ぎ目から外部に完全に漏れ出ないようにし、また、該循環管路e中で、塩素ガスが循環する水に完全に溶け込むまでに、該循環管路eから外部に漏れ出ないようにして、該塩素ガスにより生成装置内部の金属類や、生成装置の設置場所付近の機器類の金属類のサビを防止するために、更には塩素ガス漏れによる健康被害を防止するために、密封性を確実にする付加的な工夫、装置を必要とした。
また、本願発明者は、種々実験検討の結果、前記電解槽b内で塩酸を分解して生成した塩素ガスと水素ガスが、電解槽bに通電する電圧、電流及び送入する希塩酸の濃度により変動するが、該電解槽bの電極板面積の約5%〜15%に相当する電解槽bの内部の電解室の上部電極板空間部分に溜まり、前記電極板の上部を覆い、電解効率を落とすと同時に、その部分の電極板の耐久性を落とし、電解槽の寿命を短くしている場合があることを見出し、前記次亜塩素酸水の生成装置を改良し、電解槽の効率と寿命を長くし、経済性を従来以上に上げることが必要であった。
以上より、本発明は、電解槽の内部で生成する塩素ガスの外部への漏れを完全に防止し、安全性を確保すると共に、生成装置内の金属類のサビ及び生成装置の設置場所近辺の機器類の金属類のサビを防止し、また、電解槽の効率を上げ、安定した稼働による寿命の長い、経済的な電解槽を提供することを目的とする。
前記の目的を達成すべく、本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽は、塩素ガスが完全に漏れないだけの厚みをもった樹脂製、望ましくは塩化ビニール製のケーシング内に、希塩酸が供給され塩素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室を形成すると共に、該ケーシング内を貫通する循環水の送水通路を形成し、前記電解室で生成された塩素ガスを前記送水通路を流動する循環水内に直接混入させて前記塩素ガスを前記送水通路内で十分溶かすようにした、送水通路に塩素ガスを直接混入させる部位と電気分解をする電解槽とを一体とした電解槽を開発した。
また、同時に、この塩素ガス混入部位と電解室とを一体とした電解槽の内部の電解室の電極板部位に電気分解により発生した水素ガス及び塩素ガスが直接溜まらないように、電極板の上に位置した部位に電極板の総面積の5%以上、望ましくは15%以上のガス溜まり部分を設け、電極板に接した部位にガスが溜まらないようにした、ガス溜まりを設けた電解槽を開発した。
本発明によれば、電解槽で生成した塩素ガスの外部への漏れを防止でき、その結果として、生成装置内及び生成装置の設置場所付近の機器類の金属類のサビを防止し、人的被害をなくし、さらに、電解槽内に電解室の上部にガス溜まりを設けたことによって塩素ガスの電極板への影響を少なくして、長期に安定した、安全な電解槽を提供することができる。
本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽の縦断正面図である。 本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽の縦断側面図である。 本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽の管路図である。 従来の次亜塩素酸水の生成用電解槽の管路図である。
本発明を実施するための形態の実施例を以下に示す。
本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽の実施例1を図1〜図3により説明する。
1は、電解槽を示し、2は、該電解槽1のケーシングを示し、該ケーシング2は、例えば、縦横8cm×12cm、厚さ6cmの矩形状の塩化ビニール製などの樹脂製であって、該ケーシング2内の中央に、例えば、直径6cm、幅1cmの円筒状の電解室3を形成すると共に、該ケーシング2内の上部に前記電解室3上に連通したガス溜り室4を形成する。
なお、前記樹脂製のケーシング2の厚さは、前記電解室3、後述するガス溜り室4及び塩素ガスが流動する通路から塩素ガスが外部に漏れない厚さに設計される。
即ち、後述する混入通路7や、前記電解槽1と該混入通路7との継ぎ目や、該混入通路7と後述する送水通路6との継ぎ目などの塩素ガスが流動する箇所とケーシング外表面との距離が、例えば1cm以上となるように、前記ケーシング2の厚さが設計されると共に、前記送水通路6中で、塩素ガスが循環する水に完全に溶け込むまでに、該送水通路6からケーシング外部に塩素ガスが漏れ出ないように、前記ケーシング2の厚さが設計される。
なお、前記ガス溜り室4は、電極板面積の約5%以上、好ましくは15%以上に相当する容積の空間に形成する。
5a、5bは、陽極板、陰極板を示し、該陽極板5aと陰極板5bは、前記電解室3の側面と同形状の円板状に形成され、前記電解室3の互いに対向する側面3a、3bにそれぞれ設けられ、前記陽極板5aと前記陰極板5b間には、隔膜が存在しない。
なお、本実施例において、前記陽極板5a、陰極板5bの形状は円形であるが、円形以外の形状、例えば、ひし形等であってもよい。
6は、送水通路を示し、該送水通路6は、直径約1cmで、前記ケーシング2内上部を貫通して設けられ、後述する循環管路15に介在される。
7は、混入通路を示し、該混入通路7は、前記ケーシング2内に形成され、その一端部は前記ガス溜り室4に連通すると共に、他端部は前記送水通路6の中間部の混入箇所Aに連通し、前記電解室3内で生成した塩素ガスを、前記混入通路7を介して、前記送水通路6内を流動する水に混入し、次亜塩素酸水を生成するようにした。
8a、8bは、電源端子を示し、9は、前記ケーシング2内の下部に、前記電解室3の下に連通して形成した電解専用液流入室、10は、電解専用液用通路を示す。
また、11は希塩酸タンクを示し、該希塩酸タンク11と前記電解槽1の電解専用液通路10との間に送水管12が連結されていると共に該送水管12に希塩酸ポンプ13が介在されており、該希塩酸ポンプ13の駆動により前記希塩酸タンク11内の希塩酸を前記電解槽1に供給するようにした。
また、14は貯留タンク、15は循環管路を示し、該循環管路15の流入管部15aと流出管部15bを前記貯留タンク14に接続すると共に、該循環管路15の中間部に循環ポンプ16を介在し、該循環ポンプ16の駆動により、前記貯留タンク14内の水が前記流入管部15aから流入して前記循環管路15内を流動し前記流出管路15bより前記貯留タンク14内に流出し、前記循環管路15内を水又は次亜塩素酸水が循環するようにした。
また、前記循環管路15に前記電解槽1の送水通路6を介在させ、前記循環管路15の水を前記送水通路6内も流動するようにした。
17は、前記貯留タンク14に設けた次亜塩素酸水の排出管を示す。
また、前記貯留タンク14には、前記電解槽1で発生した水素ガスを外部に排出する排出口(図示せず)を有している。
次に前記実施例装置による次亜塩素酸水の生成方法とその効果について説明する。
希塩酸ポンプ13を駆動して希塩酸タンク11内の希塩酸を電解槽1内に供給する。
そして該電解槽1において、希塩酸に浸漬されている陰陽両極5a、5bに通電して希塩酸を電気分解して、塩素ガスを発生する。
一方、循環ポンプ16を駆動して、貯留タンク14内の水を循環管路15と送水通路6内を循環流動する。
そして、前記電解槽1からの塩素ガスはガス溜り部4から混入通路7を流動して混入個所Aで送水通路6内を流動する水に混入し次亜塩素酸水を生成して前記循環管路15を介して貯留タンク14内に貯留されていく。
そして、初期の時点では、次亜塩素酸水は低濃度であるが、該次亜塩素酸水が循環管路15内の循環を繰り返しながら塩素ガスが混入されて徐々に濃度の高い次亜塩素酸水になってくる。そして貯留タンク14内の次亜塩素酸水が所望の濃度になるまで運転を継続する。
本願発明によれば、前記電解槽1からの塩素ガスは、該送水通路6内を流動する間にほとんどが水に溶け込むので、循環管路15から塩素ガスが漏れるということはなく、また、前記送水通路6中の水に溶け込まれていない塩素ガスが存在していても、前記送水通路6は、ケーシング2に囲まれているので、該送水通路6からケーシング外部に塩素ガスが漏れることはない。また、前記混入通路7や、前記電解槽1と該混入通路7との継ぎ目や、該混入通路7と前記送水通路6との継ぎ目などから塩素ガスが外部に漏れることがなく、塩素ガスが、外部に漏れるという危険性がなくなる。
また、ケーシングの厚さを利用して、塩素ガスが外部に漏れないようにしたので、装置を小型化できる。
また、前記電解槽1で発生した塩素ガスは、前記電解室3上のガス溜り室4に溜り、これにより、両電極は塩素ガスで覆われないので、高濃度にガス化した塩素ガスの電極板への影響をなくして、長期に安定した電解槽とすることができる。
本発明の次亜塩素酸水の生成用電解槽は、家庭や、食品工場、養鶏場、搾乳場、農場、医療や介護施設、レストラン等で利用されるので、その安全性、安定性、経済性が重視される。
1 電解槽
2 ケーシング
3 電解室
4 ガス溜り室
5a 陽極板
5b 陰極板
6 送水通路
7 混入通路
8a 電源端子
8b 電源端子
9 電解専用液流入室
10 電解専用液用通路
11 希塩酸タンク
12 送水管
13 希塩酸ポンプ
14 貯留タンク
15 循環管路
15a 流入管部
15b 流出管部
16 循環ポンプ
17 排出管

Claims (5)

  1. ケーシング内に、希塩酸が供給され塩素ガスを発生する陰陽両電極を有する電解室を形成すると共に、該ケーシング内を貫通する送水通路を形成し、前記電解室で生成された塩素ガスを前記送水通路内を流動する水に混入して前記塩素ガスを前記送水通路内で溶かすようにした次亜塩素酸水の生成用電解槽。
  2. 前記ケーシング内に、前記電解室と前記送水通路との間にガス溜り室を形成したことを特徴とする請求項1に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
  3. 前記ケーシングの厚さは、前記電解室から前記送水通路まで流動する塩素ガスが該ケーシング外部に漏れ出ない厚さに形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
  4. 前記ケーシング内に、一端部が前記ガス溜り室に連通すると共に他端部が前記送水通路の混入箇所に連通する混入通路を設けたことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
  5. 水が貯留されている貯留タンクと、該貯留タンク内から水を流入循環して該貯留タンク内に戻す循環管路とを更に設け、前記循環管路に、前記送水通路を介在させた請求項1又は請求項2又は請求項3又は請求項4に記載の次亜塩素酸水の生成用電解槽。
JP2013081793A 2013-04-10 2013-04-10 次亜塩素酸水の生成用電解槽 Active JP6121221B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013081793A JP6121221B2 (ja) 2013-04-10 2013-04-10 次亜塩素酸水の生成用電解槽
PCT/JP2014/059113 WO2014168024A1 (ja) 2013-04-10 2014-03-28 次亜塩素酸水の生成用電解槽

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013081793A JP6121221B2 (ja) 2013-04-10 2013-04-10 次亜塩素酸水の生成用電解槽

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014201825A true JP2014201825A (ja) 2014-10-27
JP2014201825A5 JP2014201825A5 (ja) 2016-05-19
JP6121221B2 JP6121221B2 (ja) 2017-04-26

Family

ID=51689435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013081793A Active JP6121221B2 (ja) 2013-04-10 2013-04-10 次亜塩素酸水の生成用電解槽

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6121221B2 (ja)
WO (1) WO2014168024A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10121280A (ja) * 1996-08-29 1998-05-12 Chlorine Eng Corp Ltd 次亜塩素酸塩の製造装置
JP2002102853A (ja) * 2000-09-29 2002-04-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電解水生成装置
JP2004353013A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Masakazu Uzawa 電解装置
JP2005200761A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Hokuetsu:Kk 電気化学反応槽
JP2007160196A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Wakamiya Kogyo Kk 水槽の電解殺菌装置
WO2012043956A1 (ko) * 2010-09-28 2012-04-05 (주)시온텍 살균 전해수 제조 장치, 이를 포함하는 살균 전해수 제조 시스템 및 방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10121280A (ja) * 1996-08-29 1998-05-12 Chlorine Eng Corp Ltd 次亜塩素酸塩の製造装置
JP2002102853A (ja) * 2000-09-29 2002-04-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電解水生成装置
JP2004353013A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Masakazu Uzawa 電解装置
JP2005200761A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Hokuetsu:Kk 電気化学反応槽
JP2007160196A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Wakamiya Kogyo Kk 水槽の電解殺菌装置
WO2012043956A1 (ko) * 2010-09-28 2012-04-05 (주)시온텍 살균 전해수 제조 장치, 이를 포함하는 살균 전해수 제조 시스템 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP6121221B2 (ja) 2017-04-26
WO2014168024A1 (ja) 2014-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4653708B2 (ja) 電解水の生成方法及びそれに用いる電解水生成装置
KR100802361B1 (ko) 전해살균 소독수 공급장치
JP2016029204A (ja) 電解装置
KR101332608B1 (ko) 차아염소산나트륨 발생장치
KR101750494B1 (ko) 공급수 다단유입에 따른 최적효율 유지가 가능한 차아염소산나트륨 발생장치
JP5327264B2 (ja) 活性酸素生成装置及び給湯装置
CN102010035A (zh) 浸没式电解混合装置
JP2018162478A (ja) 電解水生成装置及び電解水生成装置の運転方法
JP2007313489A (ja) 殺菌用水製造装置
KR101352887B1 (ko) 수전해 이온수 발생장치
JP2007301540A (ja) 微酸性電解水生成装置
WO2015122435A1 (ja) 海水電解システム及び電解液注入方法
JP4394941B2 (ja) 電解式オゾナイザ
JP4599487B2 (ja) 水冷式縦型電解槽
JP5758099B2 (ja) 次亜塩素酸水の製造装置及び製造方法
JP6121221B2 (ja) 次亜塩素酸水の生成用電解槽
JP2012013360A (ja) 水還元機能付き給湯機
JP5244038B2 (ja) 電解水混合装置
JP6891894B2 (ja) 二酸化塩素発生装置及び二酸化塩素発生方法
JP5877031B2 (ja) 次亜塩素酸水の製造装置
JP5711945B2 (ja) 次亜塩素酸水生成用電解装置及び次亜塩素酸水の生成方法
JP2002069683A (ja) 次亜塩素酸塩製造装置
JP2016215123A (ja) 電解水生成器
CN206328468U (zh) 电解法二氧化氯发生器
JP6675112B2 (ja) 電解原水貯留式電解装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160322

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170306

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170329

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6121221

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250