JP2014197734A - Quantum interference device, atomic oscillator, magnetic sensor, and method for manufacturing quantum interference device - Google Patents

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  • Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a quantum interference device in which the long-term stability can be enhanced more than conventional, an atomic oscillator, a magnetic sensor, and a method for manufacturing the quantum interference device.SOLUTION: An atomic oscillator 1 comprises: metal atoms; a gas cell 13 for encapsulating metal atoms; a semiconductor laser 10 for irradiating the gas cell 13 with light containing a pair of resonance light generating electromagnetic induction transmission phenomenon in the metal atoms; a photodetector 14 for detecting the light transmitted through the gas cell 13; and a magnetic field generating part 15 for generating the magnetic field in the gas cell 13. When the intensity of the pair of resonance light irradiated from the semiconductor laser 10 changes, the magnetic field in the gas cell 13 is set so that a frequency difference at which the output signal of the photodetector 14 becomes a maximum value, shifts to the direction in which Stark shift is offset.

Description

本発明は、量子干渉装置、原子発振器、磁気センサー及び量子干渉装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a quantum interference device, an atomic oscillator, a magnetic sensor, and a method for manufacturing the quantum interference device.

アルカリ金属原子の一種であるセシウム原子は、図15に示すように、6S1/2の基底準位と、6P1/2、6P3/2の2つの励起準位とを有することが知られている。さらに、6S1/2、6P1/2、6P3/2の各準位は、複数のエネルギー準位に分裂した超微細構造を有している。具体的には、6S1/2はF=3,4の2つの基底準位を持ち、6P1/2はF’=3,4の2つの励起準位を持ち、6P3/2はF’=2,3,4,5の4つの励起準位を持っている。 As shown in FIG. 15, a cesium atom which is a kind of alkali metal atom is known to have a ground level of 6S 1/2 and two excited levels of 6P 1/2 and 6P 3/2. ing. Furthermore, each level of 6S 1/2 , 6P 1/2 , 6P 3/2 has a hyperfine structure divided into a plurality of energy levels. Specifically, 6S 1/2 has two ground levels of F = 3 and 4, 6P 1/2 has two excitation levels of F ′ = 3 and 4, and 6P 3/2 has F It has four excitation levels' = 2, 3, 4, and 5.

例えば、6S1/2のF=3の基底準位にあるセシウム原子は、D2線を吸収することで、6P3/2のF’=2,3,4のいずれかの励起準位に遷移することができるが、F’=5の励起準位に遷移することはできない。6S1/2のF=4の基底準位にあるセシウム原子は、D2線を吸収することで、6P3/2のF’=3,4,5のいずれかの励起準位に遷移することができるが、F’=2の励起準位に遷移することはできない。これらは、電気双極子遷移を仮定した場合の遷移選択則による。逆に、6P3/2のF’=3,4のいずれかの励起準位にあるセシウム原子は、D2線を放出して6S1/2のF=3又はF=4の基底準位(元の基底準位又は他方の基底準位のいずれか)に遷移することができる。ここで、6S1/2のF=3,4の2つの基底準位と6P3/2のF’=3,4のいずれかの励起準位からなる3準位(2つの基底準位と1つの励起準位からなる)は、D2線の吸収・発光によるΛ型の遷移が可能であることからΛ型3準位と呼ばれる。同様に、6S1/2のF=3,4の2つの基底準位と6P1/2のF’=3,4のいずれかの励起準位からなる3準位は、D1線の吸収・発光によるΛ型の遷移が可能であるからΛ型3準位を形成する。 For example, a cesium atom in the ground level of F = 3 of 6S 1/2 transitions to the excited level of either F ′ = 2, 3 or 4 of 6P 3/2 by absorbing the D2 line. However, it is not possible to transition to the excitation level of F ′ = 5. The cesium atom in the ground level of F = 4 of 6S 1/2 must transition to the excited level of F ′ = 3, 4, 5 of 6P 3/2 by absorbing the D2 line. However, it is not possible to transition to the excitation level of F ′ = 2. These are based on the transition selection rule when electric dipole transition is assumed. Conversely, a cesium atom in the excited level of either F ′ = 3, 4 of 6P 3/2 emits a D2 line, and the ground level of F = 3 or F = 4 of 6S 1/2 ( Transition to either the original ground level or the other ground level. Here, three levels (two base levels and two ground levels of F = 3, 4 of 6S 1/2 and excitation levels of F ′ = 3, 4 of 6P 3/2 ) (Consisting of one excitation level) is called a Λ-type three-level because it can make a Λ-type transition by absorption and emission of the D2 line. Similarly, three levels consisting of two ground levels of F = 3, 4 of 6S 1/2 and an excited level of F ′ = 3, 4 of 6P 1/2 are the absorption level of the D1 line. Since a Λ-type transition by light emission is possible, a Λ-type three level is formed.

これに対して、6P3/2のF’=2の励起準位にあるセシウム原子は、D2線を放出して必ず6S1/2のF=3の基底準位(元の基底準位)に遷移し、同様に、6P3/2のF’=5の励起準位にあるセシウム原子は、D2線を放出して必ず6S1/2のF=4の基底準位(元の基底準位)に遷移する。すなわち、6S1/2のF=3,4の2つの基底準位と6P3/2のF’=2又はF’=5の励起準位からなる3準位は、D2線の吸収・放出によるΛ型の遷移が不可能であることからΛ型3準位を形成しない。なお、セシウム原子以外のアルカリ金属原子も、同様に、Λ型3準位を形成する2つの基底準位と励起準位を有することが知られている。 On the other hand, the cesium atom in the excitation level of F ′ = 2 of 6P 3/2 emits the D2 line, and the ground level of F = 3 of 6S 1/2 is always (original ground level). Similarly, the cesium atom in the excitation level of F ′ = 5 of 6P 3/2 emits the D2 line, and the ground level of F = 4 of 6S 1/2 (the original ground level) ). That is, three levels consisting of two ground levels of F = 3, 4 of 6S 1/2 and an excited level of F ′ = 2 or F ′ = 5 of 6P 3/2 are the absorption and emission of the D2 line. The Λ-type three-level is not formed because Λ-type transition by is impossible. It is known that alkali metal atoms other than cesium atoms also have two ground levels and excited levels that form Λ-type three levels.

ところで、気体状のアルカリ金属原子に、Λ型3準位を形成する第1の基底準位(セシウム原子の場合、6S1/2のF=3の基底準位)と励起準位(セシウム原子の場合、例えば6P3/2のF’=4の励起準位)とのエネルギー差に相当する周波数(振動数)を有する共鳴光(共鳴光1とする)と、第2の基底準位(セシウム原子の場合、6S1/2のF=4の基底準位)と励起準位とのエネルギー差に相当する周波数(振動数)を有する共鳴光(共鳴光2とする)とを同時に照射すると、2つの基底準位の重ね合わせ状態、即ち量子コヒーレンス状態(暗状態)になり、励起準位への励起が停止する電磁誘起透過(EIT:Electromagnetically Induced Transparency)現象(CPT(Coherent Population Trapping)と呼ばれることもある)が起こることが知られている。このEIT現象を起こす共鳴光対(共鳴光1と共鳴光2)の周波数差はアルカリ金属原子の2つの基底準位のエネルギー差ΔE12に相当する周波数と正確に一致する。例えば、セシウム原子は、2つの基底準位のエネルギー差に相当する周波数は9.192631770GHzであるので、セ
シウム原子に、周波数差が9.192631770GHzの2種類のD1線又はD2線のレーザー光を同時に照射すると、EIT現象が起こる。
By the way, the first ground level (in the case of a cesium atom, F = 3 ground level of 6S 1/2 ) and the excited level (cesium atom in a gaseous alkali metal atom). In this case, for example, resonant light (resonant light 1) having a frequency (frequency) corresponding to an energy difference from 6P 3/2 F ′ = 4 excitation level) and a second ground level ( In the case of a cesium atom, when simultaneously irradiating resonance light (resonance light 2) having a frequency (frequency) corresponding to an energy difference between 6S 1/2 F = 4 ground level and an excitation level. An electromagnetically induced transmission (EIT) phenomenon (CPT (Coherent Population Trapping) phenomenon) in which two ground levels are superposed, that is, a quantum coherence state (dark state), and excitation to the excited level stops. Sometimes called)) is known to happen The frequency difference between the resonance light pair (resonance light 1 and resonance light 2) that causes this EIT phenomenon exactly coincides with the frequency corresponding to the energy difference ΔE 12 between the two ground levels of the alkali metal atom. For example, since the frequency corresponding to the energy difference between the two ground levels of cesium atoms is 9.192631770 GHz, two kinds of D1 line or D2 line laser light having a frequency difference of 9.192631770 GHz are simultaneously applied to the cesium atoms. When irradiated, the EIT phenomenon occurs.

従って、図16に示すように、周波数がω1の光と周波数がω2の光を気体状のアルカリ金属原子に同時に照射したとき、この2光波が共鳴光対となってアルカリ金属原子がEIT現象を起こすか否かでアルカリ金属原子を透過する光の強度が急峻に変化する。この急峻に変化する透過光の強度を示す信号はEIT信号(共鳴信号)と呼ばれ、共鳴光対の周波数差ω1−ω2がΔE12に相当する周波数ω12と正確に一致するときにEIT信号のレベルがピーク値を示す。そこで、気体状のアルカリ金属原子を封入した原子セル(ガスセル)に2光波を照射し、光検出器によりEIT信号のピークトップを検出するように、すなわち、2光波の周波数差ω1−ω2がΔE12に相当する周波数ω12と正確に一致するように制御することで、高精度な発振器を実現することができる。このような原子発振器に関する技術は、例えば、特許文献1に開示されている。 Accordingly, as shown in FIG. 16, when light having a frequency of ω 1 and light having a frequency of ω 2 are simultaneously irradiated onto a gaseous alkali metal atom, the two light waves become a resonance light pair, and the alkali metal atom becomes EIT. The intensity of the light transmitted through the alkali metal atom changes sharply depending on whether or not the phenomenon occurs. The signal indicating the intensity of the transmitted light that changes sharply is called an EIT signal (resonance signal), and when the frequency difference ω 1 −ω 2 of the resonance light pair exactly matches the frequency ω 12 corresponding to ΔE 12. The level of the EIT signal shows a peak value. Therefore, the atomic cell (gas cell) in which gaseous alkali metal atoms are sealed is irradiated with two light waves, and the peak top of the EIT signal is detected by the photodetector, that is, the frequency difference ω 1 −ω 2 between the two light waves. Is controlled so as to exactly match the frequency ω 12 corresponding to ΔE 12 , a highly accurate oscillator can be realized. A technique related to such an atomic oscillator is disclosed in Patent Document 1, for example.

米国特許第6320472号明細書US Pat. No. 6,320,472

ところで、光源やガスセルの経年劣化などでアルカリ金属原子に照射される光の強度が低下すると、シュタルクシフトにより原子発振器の周波数がf1→f2→f3のように低い方向にシフトしてしまう(図17)。シュタルクシフトは原子と光が相互作用をしていれば必ず起こる。しかしながら、従来の原子発振器では、シュタルクシフトによる周波数変動のキャンセルが行われていない、もしくは十分でないため、高い長期安定度を実現することが難しいという問題があった。 By the way, when the intensity of light irradiated to alkali metal atoms decreases due to aging deterioration of the light source or the gas cell, the frequency of the atomic oscillator shifts in a low direction such as f 1 → f 2 → f 3 due to the Stark shift. (FIG. 17). The Stark shift occurs whenever atoms and light interact. However, the conventional atomic oscillator has a problem that it is difficult to achieve high long-term stability because frequency fluctuations due to Stark shift are not canceled or insufficient.

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様によれば、従来よりも長期安定度を向上させることが可能な量子干渉装置、原子発振器、磁気センサー及び量子干渉装置の製造方法を提供することができる。   The present invention has been made in view of the above problems, and according to some aspects of the present invention, a quantum interference device, an atomic oscillator, A method of manufacturing a magnetic sensor and a quantum interference device can be provided.

本発明は前述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
本適用例に係る量子干渉装置は、金属原子と、前記金属原子を封入しているセルと、前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を前記セルに照射する光源と、前記セルを透過した光を検出する光検出部と、前記セル内部に磁場を発生させる磁場発生部と、を有し、前記光源が照射する共鳴光対の強度が変化した時、前記光検出部の出力信号が極大値となる時の前記共鳴光対の周波数差が、シュタルクシフトを打ち消す方向にシフトするように、前記セル内部の磁場が設定されている。
[Application Example 1]
The quantum interference device according to this application example includes a metal atom, a cell enclosing the metal atom, a light source that irradiates the cell with a resonant light pair that generates an electromagnetically induced transmission phenomenon in the metal atom, and the cell A light detection unit that detects light transmitted through the cell, and a magnetic field generation unit that generates a magnetic field inside the cell, and the output of the light detection unit when the intensity of the resonant light pair irradiated by the light source changes The magnetic field inside the cell is set so that the frequency difference of the resonant light pair when the signal reaches a maximum value shifts in a direction that cancels the Stark shift.

本適用例に係る量子干渉装置によれば、時間の経過とともに共鳴光対の強度が低下するとEIT信号のピーク位置が変動し、原子発振器の周波数がシフトするが、このシフトの方向がシュタルクシフトを打ち消す方向になるようにセル内部の磁場が設定されているので、結果的に、周波数シフトを小さくすることができる。従って、原子発振器の長期安定度を向上させることができる。   According to the quantum interference device according to this application example, when the intensity of the resonant light pair decreases with time, the peak position of the EIT signal fluctuates and the frequency of the atomic oscillator shifts. Since the magnetic field inside the cell is set so as to cancel, the frequency shift can be reduced as a result. Therefore, the long-term stability of the atomic oscillator can be improved.

[適用例2]
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記セル内部の磁場は、前記光源が発生させる共鳴光対の前記セルへの照射方向に偏差を有していてもよい。
[Application Example 2]
In the quantum interference device according to the application example described above, the magnetic field inside the cell may have a deviation in the irradiation direction of the resonant light pair generated by the light source to the cell.

[適用例3]
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記セル内部の磁場が最も強い位置と前記セルの中心とが異なっていてもよい。
[Application Example 3]
In the quantum interference device according to the application example described above, the position where the magnetic field inside the cell is strongest may be different from the center of the cell.

[適用例4]
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記セル内部の磁場は、前記光源が発生させる光が前記セルに入射する位置と前記セルから出射する位置とで強度が異なっていてもよい。
[Application Example 4]
In the quantum interference device according to the application example described above, the intensity of the magnetic field inside the cell may be different between a position where light generated by the light source is incident on the cell and a position where the light is emitted from the cell.

[適用例5]
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記磁場発生部は、前記金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段が兼用されていてもよい。
[Application Example 5]
In the quantum interference device according to the application example described above, the magnetic field generation unit may also be used as a means for Zeeman splitting energy levels of the metal atoms.

例えば、金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段は、c-fieldコイルであってもよい。   For example, the means for Zeeman splitting the energy level of a metal atom may be a c-field coil.

本適用例に係る量子干渉装置によれば、シュタルクシフトを低減させるための磁場を発生させる専用の手段を設ける必要がないので原子発振の小型化に有利である。   According to the quantum interference device according to this application example, it is not necessary to provide a dedicated means for generating a magnetic field for reducing the Stark shift, which is advantageous for miniaturization of atomic oscillation.

[適用例6]
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記磁場偏差発生部は、前記金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段とは別に設けられていてもよい。
[Application Example 6]
In the quantum interference device according to the application example described above, the magnetic field deviation generation unit may be provided separately from a means for causing Zeeman splitting of the energy level of the metal atom.

本適用例に係る量子干渉装置によれば、シュタルクシフトを低減させるための磁場を発生させる手段と金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための磁場を発生させる手段とを別個に設けることで、それぞれの磁場の調整自由度が高いため、シュタルクシフトを精度よくキャンセルすることが可能となる。   According to the quantum interference device according to this application example, by separately providing a means for generating a magnetic field for reducing the Stark shift and a means for generating a magnetic field for causing Zeeman splitting of the energy level of the metal atom, Since the degree of freedom of adjustment of each magnetic field is high, the Stark shift can be canceled with high accuracy.

[適用例7]
本適用例に係る原子発振器は、上記のいずれかの量子干渉装置を含む。
[Application Example 7]
The atomic oscillator according to this application example includes any of the quantum interference devices described above.

[適用例8]
本適用例に係る磁気センサーは、上記のいずれかの量子干渉装置を含む。
[Application Example 8]
The magnetic sensor according to this application example includes any of the quantum interference devices described above.

[適用例9]
本適用例に係る量子干渉装置の製造方法は、金属原子と、前記金属原子を封入しているセルと、2光波を含む光を発生させて前記セルに照射する光源と、前記セルを透過した光を検出する光検出部と、前記セル内部に磁場を発生させる磁場発生部と、を含む物理パッケージを準備する物理パッケージ準備工程と、前記2光波の強度が変化した時、前記光検出部の出力信号が極大値となる時の前記2光波の周波数差が、シュタルクシフトを打ち消す方向にシフトするように、前記磁場発生部が発生させる磁場を設定する磁場設定工程と、を含む。
[Application Example 9]
A method of manufacturing a quantum interference device according to this application example includes a metal atom, a cell enclosing the metal atom, a light source that generates light including two light waves and irradiates the cell, and transmits the cell. A physical package preparation step of preparing a physical package including a light detection unit that detects light, and a magnetic field generation unit that generates a magnetic field inside the cell; and when the intensity of the two light waves changes, And a magnetic field setting step of setting a magnetic field generated by the magnetic field generator so that the frequency difference between the two light waves when the output signal reaches a maximum value shifts in a direction to cancel the Stark shift.

第1実施形態の原子発振器の具体的な構成例を示す図。The figure which shows the specific structural example of the atomic oscillator of 1st Embodiment. 図2(A)はゼーマン分裂したエネルギー準位を示す図であり、図2(B)は分裂したEIT信号の一例を示す図。FIG. 2A is a diagram showing energy levels obtained by Zeeman splitting, and FIG. 2B is a diagram showing an example of split EIT signals. 半導体レーザーの出射光の周波数スペクトラムの一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the frequency spectrum of the emitted light of a semiconductor laser. 検波回路による検波原理の説明図。Explanatory drawing of the detection principle by a detection circuit. 検波回路による検波原理の説明図。Explanatory drawing of the detection principle by a detection circuit. 光の透過率(EIT信号強度)とロック周波数との関係についての説明図。Explanatory drawing about the relationship between the light transmittance (EIT signal intensity) and a lock frequency. 光の透過率(EIT信号強度)とロック周波数との関係についての説明図。Explanatory drawing about the relationship between the light transmittance (EIT signal intensity) and a lock frequency. EIT信号を左右非対称にする方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the method of making an EIT signal left-right asymmetric. 図9(A)は偏差を有する磁場の強度と周波数感度との関係についての実験結果の図であり、図9(B)は一様な磁場の強度と周波数感度との関係についての実験結果の図。FIG. 9A is a diagram of experimental results regarding the relationship between the intensity of magnetic fields having deviations and frequency sensitivity, and FIG. 9B is a diagram of experimental results regarding the relationship between uniform magnetic field strengths and frequency sensitivity. Figure. 本実施形態の原子発振器の製造方法の一例を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows an example of the manufacturing method of the atomic oscillator of this embodiment. 第2実施形態の原子発振器の具体的な構成例を示す図。The figure which shows the specific structural example of the atomic oscillator of 2nd Embodiment. EIT信号を左右非対称にする方法の一例を示す図。The figure which shows an example of the method of making an EIT signal left-right asymmetric. 本実施形態の磁気センサーの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the magnetic sensor of this embodiment. 変形例における半導体レーザーの出射光の周波数スペクトルを示す概略図。Schematic which shows the frequency spectrum of the emitted light of the semiconductor laser in a modification. セシウム原子のエネルギー準位を模式的に示す図。The figure which shows the energy level of a cesium atom typically. EIT信号の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of an EIT signal. シュタルクシフトの説明図。Explanatory drawing of a Stark shift.

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. Also, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.

1.原子発振器
1−1.第1実施形態
[原子発振器の構成]
図1は、第1実施形態の原子発振器の構成例を示す図である。図1に示すように、第1実施形態の原子発振器1は、半導体レーザー10、減光フィルター(NDフィルター)11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14、磁場発生部15、検波回路16、電圧制御水晶発振器(VCXO)17、変調回路18、低周波発振器19、周波数変換回路20、検波回路21、変調回路22、低周波発振器23、駆動回路24、磁場設定回路25、バイアス設定回路26、メモリー27及び周波数変換回路28を含んで構成されている。なお、本実施形態の原子発振器1は、適宜、図1の構成要素(各部)の一部を省略又は変更し、あるいは、他の構成要素を付加した構成としてもよい。
1. Atomic oscillator 1-1. First Embodiment [Configuration of Atomic Oscillator]
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of the atomic oscillator according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the atomic oscillator 1 of the first embodiment includes a semiconductor laser 10, a neutral density filter (ND filter) 11, a quarter wavelength plate 12, a gas cell 13, a photodetector 14, a magnetic field generator 15, Detection circuit 16, voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17, modulation circuit 18, low frequency oscillator 19, frequency conversion circuit 20, detection circuit 21, modulation circuit 22, low frequency oscillator 23, drive circuit 24, magnetic field setting circuit 25, bias A setting circuit 26, a memory 27, and a frequency conversion circuit 28 are included. Note that the atomic oscillator 1 of the present embodiment may have a configuration in which some of the components (parts) in FIG. 1 are omitted or changed as appropriate, or other components are added.

半導体レーザー10(光源の一例)は、例えば、垂直共振器面発光レーザー(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)等の面発光レーザーや端面発光レーザー(Edge Emitting Laser)などであり、半導体レーザー10が発生させた光は、減光フィルター11に入射する。   The semiconductor laser 10 (an example of a light source) is, for example, a surface emitting laser such as a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) or an edge emitting laser, and the semiconductor laser 10 is generated. The light thus made is incident on the neutral density filter 11.

減光フィルター11は、半導体レーザー10の出射光の一部のみを透過させ、減光フィルター11を透過した光は1/4波長板12に入射する。   The neutral density filter 11 transmits only part of the light emitted from the semiconductor laser 10, and the light transmitted through the neutral density filter 11 enters the quarter-wave plate 12.

1/4波長板12は、入射した光をσ+円偏光にして透過させ、1/4波長板12を透過した光はガスセル13に入射する。   The quarter-wave plate 12 transmits incident light as σ + circularly polarized light, and the light transmitted through the quarter-wave plate 12 enters the gas cell 13.

ガスセル13(セルの一例)は、ガラス等の透明部材でできた容器中に気体状のアルカリ金属原子(ナトリウム(Na)原子、ルビジウム(Rb)原子、セシウム(Cs)原子等)とともにネオン(Ne)やアルゴン(Ar)等のバッファーガスが封入されたもので
ある。ガスセル13に入射した光の一部はガスセル13を透過し、光検出器14に入射する。
The gas cell 13 (an example of a cell) includes neon (Ne) together with gaseous alkali metal atoms (sodium (Na) atoms, rubidium (Rb) atoms, cesium (Cs) atoms, etc.) in a container made of a transparent member such as glass. ) And argon (Ar) or other buffer gas is enclosed. A part of the light incident on the gas cell 13 passes through the gas cell 13 and enters the photodetector 14.

光検出器14(光検出部の一例)は、ガスセル13を透過した光を検出し、検出した光の強度に応じた検出信号を出力する。光検出部14は、例えば、受光した光の強度に応じた検出信号を出力するフォトダイオード(PD:Photo Diode)を用いて実現することができる。光検出器14の出力信号は検波回路16と検波回路21に入力される。   The light detector 14 (an example of a light detection unit) detects light transmitted through the gas cell 13 and outputs a detection signal corresponding to the detected light intensity. The light detection unit 14 can be realized using, for example, a photodiode (PD) that outputs a detection signal corresponding to the intensity of received light. The output signal of the photodetector 14 is input to the detection circuit 16 and the detection circuit 21.

磁場発生部15は、ガスセル13の内部の少なくとも一部に磁場を発生させるものである。磁場発生部15は、例えば、コイルで実現することができ、コイルの位置、形状(例えば、コイルを巻く方向、巻き数、直径等)、電流の大きさや向き等を調整することで所望の磁場を発生させることができる。   The magnetic field generator 15 generates a magnetic field in at least a part of the gas cell 13. The magnetic field generator 15 can be realized by, for example, a coil, and a desired magnetic field can be achieved by adjusting the position and shape of the coil (for example, the direction in which the coil is wound, the number of turns, the diameter, etc.), the current magnitude and direction, and the like. Can be generated.

磁場がかかると、アルカリ金属原子の各エネルギー準位が2F+1個に分裂(ゼーマン分裂)する。例えば、セシウム原子の場合、図2(A)に示すように、6S1/2,F=3の基底準位や6P3/2,F’=3の励起準位は、磁気量子数mF=0,±1,±2,±3に対応する7つの準位に分裂し、6S1/2,F’=4の基底準位や6P3/2,F=4の励起準位は、磁気量子数mF=0,±1,±2,±3,±4に対応する9つの準位に分裂する。セシウム原子にσ+円偏光が入射すると、ΔmF=+1の選択則に従って励起するため、例えば、6S1/2,F=3,4の基底準位と6P3/2,F’=4の励起準位の間で、7つのΛ型3準位が形成される。従って、この状態では、2光波の周波数差をスイープすると、図4(B)に示すように7つのEIT信号が観測される。特に、6S1/2,F=3,4のmF=0の基底準位と6P3/2,F’=4のmF=+1の励起準位の間で形成されるΛ型3準位に対応するEIT信号の強度が最も高いので、このEIT信号を発生させるように、共鳴光対の周波数差を制御するのが有効である。 When a magnetic field is applied, each energy level of the alkali metal atom splits into 2F + 1 pieces (Zeeman splitting). For example, in the case of a cesium atom, as shown in FIG. 2A, the ground level of 6S 1/2 and F = 3 and the excited level of 6P 3/2 and F ′ = 3 are represented by the magnetic quantum number mF = It splits into seven levels corresponding to 0, ± 1, ± 2, ± 3, and the 6S 1/2 , F ′ = 4 ground level and 6P 3/2 , F = 4 excited level are magnetic The quantum number is divided into nine levels corresponding to mF = 0, ± 1, ± 2, ± 3, ± 4. When σ + circularly polarized light is incident on the cesium atom, excitation is performed according to the selection rule of ΔmF = + 1. For example, the ground level of 6S 1/2 , F = 3, 4 and the excitation level of 6P 3/2 , F ′ = 4 Seven Λ-type three levels are formed between the positions. Therefore, in this state, when the frequency difference between the two light waves is swept, seven EIT signals are observed as shown in FIG. In particular, the Λ-type 3 level formed between the ground level of mF = 0 of 6S 1/2 , F = 3, 4 and the excitation level of mF = + 1 of 6P 3/2 , F ′ = 4 Since the intensity of the corresponding EIT signal is the highest, it is effective to control the frequency difference of the resonant light pair so as to generate this EIT signal.

半導体レーザー10、減光フィルター11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14及び磁場発生部15は、1つの筐体に収容されており、物理パッケージ100を構成している。   The semiconductor laser 10, the neutral density filter 11, the quarter-wave plate 12, the gas cell 13, the photodetector 14, and the magnetic field generator 15 are housed in one housing and constitute a physical package 100.

検波回路16は、数Hz〜数百Hz程度の低い周波数で発振する低周波発振器19の発振信号を用いて光検出器14の出力信号を検波する。そして、検波回路16の出力信号の大きさに応じて、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数が微調整される。電圧制御水晶発振器(VCXO)17は、例えば、数MHz〜数10MHz程度で発振する。   The detection circuit 16 detects the output signal of the photodetector 14 using the oscillation signal of the low frequency oscillator 19 that oscillates at a low frequency of about several Hz to several hundred Hz. Then, the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 is finely adjusted according to the magnitude of the output signal of the detection circuit 16. The voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 oscillates at about several MHz to several tens of MHz, for example.

変調回路18は、検波回路16による検波を可能とするために、低周波発振器19の発振信号(検波回路16に供給される発振信号と同じ信号)を変調信号として電圧制御水晶発振器(VCXO)17の出力信号を変調する。変調回路18は、周波数混合器(ミキサー)、周波数変調(FM:Frequency Modulation)回路、振幅変調(AM:Amplitude Modulation)回路等により実現することができる。   The modulation circuit 18 uses the oscillation signal of the low frequency oscillator 19 (the same signal as the oscillation signal supplied to the detection circuit 16) as a modulation signal in order to enable detection by the detection circuit 16, and a voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 Modulate the output signal. The modulation circuit 18 can be realized by a frequency mixer (mixer), a frequency modulation (FM) circuit, an amplitude modulation (AM) circuit, or the like.

周波数変換回路20は、一定の周波数変換率で変調回路18の出力信号を周波数変換して駆動回路24に出力する。周波数変換回路20は、例えば、PLL(Phase Locked Loop)回路により実現することができる。   The frequency conversion circuit 20 converts the frequency of the output signal of the modulation circuit 18 at a constant frequency conversion rate and outputs the converted signal to the drive circuit 24. The frequency conversion circuit 20 can be realized by, for example, a PLL (Phase Locked Loop) circuit.

検波回路21は、数Hz〜数百Hz程度の低い周波数で発振する低周波発振器23の発振信号を用いて光検出器14の出力信号を検波する。   The detection circuit 21 detects the output signal of the photodetector 14 using the oscillation signal of the low frequency oscillator 23 that oscillates at a low frequency of about several Hz to several hundred Hz.

変調回路22は、検波回路21による検波を可能とするために、低周波発振器23の発
振信号(検波回路21に供給される発振信号と同じ信号)を変調信号として検波回路21の出力信号を変調して駆動回路24に出力する。変調回路22は、周波数混合器(ミキサー)、周波数変調(FM)回路、振幅変調(AM)回路等により実現することができる。
The modulation circuit 22 modulates the output signal of the detection circuit 21 using the oscillation signal of the low frequency oscillator 23 (the same signal as the oscillation signal supplied to the detection circuit 21) as a modulation signal in order to enable detection by the detection circuit 21. And output to the drive circuit 24. The modulation circuit 22 can be realized by a frequency mixer (mixer), a frequency modulation (FM) circuit, an amplitude modulation (AM) circuit, or the like.

磁場設定回路25は、メモリー27に記憶されている設定情報に応じて磁場発生部15が発生させる磁場の強度を設定する処理を行う。例えば、磁場発生部15をコイルで実現し、磁場設定回路25は、メモリー27に記憶されている設定情報に応じて当該コイルに流す電流量を設定するようにしてもよい。   The magnetic field setting circuit 25 performs processing for setting the strength of the magnetic field generated by the magnetic field generator 15 according to the setting information stored in the memory 27. For example, the magnetic field generation unit 15 may be realized by a coil, and the magnetic field setting circuit 25 may set the amount of current flowing through the coil according to setting information stored in the memory 27.

バイアス設定回路26は、駆動回路24を介して、メモリー27に記憶されている設定情報に応じて半導体レーザー10にバイアス電流を設定する処理(半導体レーザー10が発生させる光の中心波長を設定する処理)を行う。   The bias setting circuit 26 sets a bias current in the semiconductor laser 10 according to the setting information stored in the memory 27 via the drive circuit 24 (processing for setting the center wavelength of light generated by the semiconductor laser 10). )I do.

メモリー27は、不揮発性のメモリーであり、磁場発生部15が発生させる磁場の強度の設定情報や半導体レーザー10のバイアス電流の設定情報が記憶されている。メモリー27は、例えば、MONOS(Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon)メモリー等のフラッシュメモリーやEEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)等で実現することができる。   The memory 27 is a non-volatile memory, and stores setting information for the intensity of the magnetic field generated by the magnetic field generator 15 and setting information for the bias current of the semiconductor laser 10. The memory 27 can be realized by, for example, a flash memory such as a MONOS (Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon) memory, an EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory), or the like.

駆動回路24は、半導体レーザー10のバイアス電流を設定するとともに、変調回路22の出力信号に応じて当該バイアス電流を微調整して半導体レーザー10に供給する。すなわち、半導体レーザー10、減光フィルター11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14、検波回路21、変調回路22、駆動回路24を通るフィードバックループ(第1のフィードバックループ)により、半導体レーザー10が発生させる光の中心波長λ0(中心周波数f0)が微調整される。 The drive circuit 24 sets the bias current of the semiconductor laser 10 and finely adjusts the bias current according to the output signal of the modulation circuit 22 and supplies the bias current to the semiconductor laser 10. That is, by a feedback loop (first feedback loop) passing through the semiconductor laser 10, the neutral density filter 11, the quarter wavelength plate 12, the gas cell 13, the photodetector 14, the detection circuit 21, the modulation circuit 22, and the drive circuit 24, The center wavelength λ 0 (center frequency f 0 ) of the light generated by the semiconductor laser 10 is finely adjusted.

駆動回路24は、さらに、バイアス電流に、周波数変換回路20の出力周波数成分(変調周波数fm)の電流(変調電流)を重畳して半導体レーザー10に供給する。この変調電流により、半導体レーザー10に周波数変調がかかり、中心周波数f0(中心波長λ0)の光とともに、その両側にそれぞれ周波数がfmだけずれた周波数f0±fm、f0±2fm、・・・の光を発生させる。そして、半導体レーザー10、減光フィルター11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14、検波回路16、電圧制御水晶発振器(VCXO)17、変調回路18、周波数変換回路20、駆動回路24を通るフィードバックループ(第2のフィードバックループ)により、周波数f0+fmの光と周波数f0−fmの光がガスセル13に封入されているアルカリ金属原子にEIT現象を発生させる共鳴光対となるように微調整される。 Further, the drive circuit 24 superimposes the current (modulation current) of the output frequency component (modulation frequency f m ) of the frequency conversion circuit 20 on the bias current, and supplies it to the semiconductor laser 10. With this modulation current, the semiconductor laser 10 is frequency-modulated, and with the light having the center frequency f 0 (center wavelength λ 0 ), the frequencies f 0 ± f m and f 0 ± 2f are shifted from each other by f m on both sides. m ,... light is generated. The semiconductor laser 10, the neutral density filter 11, the quarter wave plate 12, the gas cell 13, the photodetector 14, the detection circuit 16, the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17, the modulation circuit 18, the frequency conversion circuit 20, and the drive circuit the feedback loop through 24 (second feedback loop), the frequency f 0 + f m of the light and the frequency f 0 -f light resonant light pair for generating EIT phenomenon in the alkali metal atom enclosed in the gas cell 13 of the m It is finely adjusted so that

例えば、第2のフィードバックループにより、磁気量子数mF=0の基底準位を有するアルカリ金属原子がEIT現象を起こすように、変調周波数fmがフィードバック制御される。具体的には、第2のフィードバックループにより、1次のサイドバンドである周波数f0+fmの光と周波数f0−fmの光の周波数差(=2fm)が、アルカリ金属原子の磁気量子数mf=0の2つの基底準位間のエネルギー差ΔE12に相当する周波数ω12と正確に一致するようにフィードバック制御がかかる。例えば、アルカリ金属原子がセシウム原子であれば、ω12が9.192631770GHz+ΔHz(Δは磁界強度の2次関数で表される周波数)なので、変調周波数fmは4.596315885GHz+Δ/2Hzと正確に一致する。図3に、半導体レーザー10の出射光の周波数スペクトラムの一例を示す。図3において、横軸は光の周波数であり、縦軸は光の強度である。 For example, the second feedback loop, an alkali metal atom with a ground level of the magnetic quantum number mF = 0 is to undergo EIT phenomenon, the modulation frequency f m is feedback controlled. Specifically, the second feedback loop, the frequency difference of the light of the light and the frequency f 0 -f m of frequency f 0 + f m is a first-order sideband (= 2f m) is magnetic alkali metal atom Feedback control is applied so as to accurately match the frequency ω 12 corresponding to the energy difference ΔE 12 between the two ground levels of the quantum number mf = 0. For example, if the alkali metal atom is a cesium atom, ω 12 is 9.192631770 GHz + ΔHz (Δ is a frequency expressed by a quadratic function of the magnetic field strength), so the modulation frequency f m exactly matches 4.59631585 GHz + Δ / 2 Hz. . FIG. 3 shows an example of the frequency spectrum of the emitted light from the semiconductor laser 10. In FIG. 3, the horizontal axis represents the light frequency, and the vertical axis represents the light intensity.

このように、アルカリ金属原子のEIT現象を利用することで、第2のフィードバックループに含まれる、周波数変換回路20の出力信号や電圧制御水晶発振器(VCXO)1
7の出力信号は、それぞれ所定の周波数で安定する。
In this way, by using the EIT phenomenon of alkali metal atoms, the output signal of the frequency conversion circuit 20 and the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 1 included in the second feedback loop.
7 output signals are stabilized at a predetermined frequency.

周波数変換回路28は、一定の周波数変換率で電圧制御水晶発振器(VCXO)17の出力信号を周波数変換し、所望の周波数(例えば、10.00・・・MHz)のクロック信号を生成する。このクロック信号が外部出力される。周波数変換回路20は、例えば、DDS(Direct Digital Synthesizer)により実現することができる。   The frequency conversion circuit 28 converts the output signal of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 at a constant frequency conversion rate, and generates a clock signal having a desired frequency (for example, 10.00... MHz). This clock signal is output externally. The frequency conversion circuit 20 can be realized by, for example, DDS (Direct Digital Synthesizer).

図1において、物理パッケージ100を除く構成要素(回路)は、例えば、1チップの集積回路(IC)で実現することができる。   In FIG. 1, the components (circuits) excluding the physical package 100 can be realized by, for example, a one-chip integrated circuit (IC).

なお、図1では、半導体レーザー10、減光フィルター(NDフィルター)11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14、磁場発生部15、検波回路16、電圧制御水晶発振器(VCXO)17、変調回路18、低周波発振器19、周波数変換回路20、検波回路21、変調回路22、低周波発振器23、駆動回路24、磁場設定回路25、バイアス設定回路26及びメモリー27により、量子干渉装置200が構成されている。ただし、本実施形態の量子干渉装置200は、適宜、図1の構成要素(各部)の一部を省略又は変更し、あるいは、他の構成要素を付加した構成としてもよい。   In FIG. 1, the semiconductor laser 10, the neutral density filter (ND filter) 11, the quarter wavelength plate 12, the gas cell 13, the photodetector 14, the magnetic field generator 15, the detection circuit 16, and the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17, a modulation circuit 18, a low-frequency oscillator 19, a frequency conversion circuit 20, a detection circuit 21, a modulation circuit 22, a low-frequency oscillator 23, a drive circuit 24, a magnetic field setting circuit 25, a bias setting circuit 26, and a memory 27. 200 is configured. However, the quantum interference device 200 of the present embodiment may be configured such that some of the components (each unit) in FIG. 1 are omitted or changed as appropriate, or other components are added.

[検波原理]
次に、検波回路16による検波原理について説明する。前述のように、本実施形態では、変調回路18が、低周波発振器19が発生させる数十Hz〜数百Hz程度の正弦波を変調信号として電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振信号を周波数変調し、周波数変換回路20に入力している。これにより、半導体レーザー10が発生させる2光波の周波数差を正弦波の振幅によって決まる数百Hz〜数kHz程度の範囲で掃引し、検波回路16により光検出器14の出力信号をこの正弦波で同期検波することで、光検出器14の出力に現れるEIT信号の左右の面積が等しいところをピークとみなして検出している。EIT信号が左右対称の場合、図4(A)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波(掃引信号)のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップと一致している状態では、光検出器14の出力信号には、直流成分と周波数が2fs(周期が1/2fs)の一定振幅の低周波数成分が含まれるが、周波数がfs(周期が1/fs)の低周波数成分は極めて小さい。従って、検波回路16によってfsの周波数成分はほとんど検波されない。一方、図4(B)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも低い方向にずれた状態では、光検出器14の出力信号は、周波数が2fs(周期が1/2fs)で1/fs周期毎に振幅が変化する。つまり、光検出器14の出力信号には、直流成分と2fsの周波数成分以外に、fsの周波数成分も含まれる。そのため、検波回路16によってfsの周波数成分が検波され、検波回路16の出力信号の電圧値は、図4(A)の場合の電圧値(基準電圧値)よりも高い電圧値となる。この検波回路16の出力信号が電圧制御水晶発振器(VCXO)17に入力されるので、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数は高い方向(2光波の周波数差がω12に近づく方向)に変化する。一方、図示を省略するが、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも高い方向にずれた状態では、光検出器14の出力信号は、図4(B)の信号に対して位相が180度異なる信号となる。従って、検波回路16の出力信号の電圧値は負(基準電圧値よりも低い電圧値)となり、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数は低い方向(2光波の周波数差がω12に近づく方向)に変化する。
[Detection principle]
Next, the principle of detection by the detection circuit 16 will be described. As described above, in the present embodiment, the modulation circuit 18 uses the sine wave of about several tens Hz to several hundreds Hz generated by the low frequency oscillator 19 as the modulation signal, and uses the oscillation signal of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 as the frequency. Modulated and input to the frequency conversion circuit 20. As a result, the frequency difference between the two light waves generated by the semiconductor laser 10 is swept within a range of about several hundred Hz to several kHz determined by the amplitude of the sine wave, and the output signal of the photodetector 14 is detected by the sine wave by the detection circuit 16. By performing synchronous detection, the area where the left and right areas of the EIT signal appearing in the output of the photodetector 14 are equal is detected as a peak. When the EIT signal is symmetric, as shown in FIG. 4A, zero cross points a, c, e of a sine wave (sweep signal) having a frequency of f s (period is 1 / f s ) are peaks of the EIT signal. In the state where it coincides with the top, the output signal of the photodetector 14 includes a DC component and a low frequency component having a constant amplitude of 2 f s (period is 1/2 f s ), but the frequency is f s. The low-frequency component with a period of 1 / f s is extremely small. Therefore, the frequency component of f s is hardly detected by the detection circuit 16. On the other hand, as shown in FIG. 4B, when the zero cross points a, c, e of the sine wave having the frequency f s (period is 1 / f s ) are shifted in a direction lower than the peak top of the EIT signal. , the output signal of the photodetector 14, the frequency (the period 1 / 2f s) is 2f s amplitude changes every 1 / f s period in. That is, the output signal of the photodetector 14, in addition to the frequency component of the DC component and 2f s, the frequency component of f s are also included. Therefore, the frequency component of f s is detected by the detection circuit 16, and the voltage value of the output signal of the detection circuit 16 is higher than the voltage value (reference voltage value) in the case of FIG. Since the output signal of the detection circuit 16 is input to the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17, the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 is higher (the direction in which the frequency difference between the two light waves approaches ω 12 ). Change. On the other hand, although not shown, in the state where the zero cross points a, c, e of the sine wave having the frequency f s (period is 1 / f s ) are shifted in a direction higher than the peak top of the EIT signal, the photodetector The output signal 14 is a signal that is 180 degrees out of phase with the signal in FIG. Therefore, the voltage value of the output signal of the detection circuit 16 becomes negative (voltage value lower than the reference voltage value), and the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 is low (the frequency difference between the two light waves approaches ω 12) . Direction).

このような検波原理により、EIT信号が左右対称の場合には、EIT信号のピークトップにロックがかかる。一方、EIT信号が左右非対称の場合は、図5(A)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波(掃引信号)のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップと一致している状態では、光検出器14の出力信号には、直流成
分と2fsの周波数成分以外に、fsの周波数成分も含まれる。そのため、検波回路16によってfsの周波数成分が検波され、検波回路16の出力信号の電圧値は、図5(B)の場合の電圧値(基準電圧値)よりも低い電圧値となる。また、図5(B)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも低い方向に所定量だけずれた状態では、光検出器14の出力信号には、直流成分と周波数が2fs(周期が1/2fs)の一定振幅の低周波数成分が含まれるが、周波数がfs(周期が1/fs)の低周波数成分は極めて小さい。従って、検波回路16によってfsの周波数成分はほとんど検波されず、この状態で安定する。すなわち、EIT信号が左右非対称の場合には、EIT信号のピークトップからずれた位置にロックがかかる。
Due to such a detection principle, when the EIT signal is symmetrical, the peak top of the EIT signal is locked. On the other hand, when the EIT signal is asymmetrical, as shown in FIG. 5A, zero cross points a, c, e of a sine wave (sweep signal) having a frequency of f s (period is 1 / f s ) are EIT. in the state to match the signal of the peak top, the output signal of the photodetector 14, in addition to the frequency component of the DC component and 2f s, the frequency component of f s are also included. Therefore, the frequency component of f s is detected by the detection circuit 16, and the voltage value of the output signal of the detection circuit 16 becomes a voltage value lower than the voltage value (reference voltage value) in the case of FIG. Further, as shown in FIG. 5B, the zero cross points a, c, e of the sine wave having a frequency of f s (period is 1 / f s ) are shifted by a predetermined amount in a direction lower than the peak top of the EIT signal. In this state, the output signal of the photodetector 14 includes a DC component and a low-frequency component having a constant amplitude with a frequency of 2 f s (cycle is 1/2 f s ), but the frequency is f s (cycle is 1 / cycle). The low frequency component of f s ) is very small. Therefore, the frequency component of f s is hardly detected by the detection circuit 16 and is stabilized in this state. That is, when the EIT signal is asymmetrical, the position is shifted from the peak top of the EIT signal.

[周波数の長期安定度の向上]
検波回路16がEIT信号の左右の面積が等しいところをピークとみなして周波数をロックする性質を持つため、EIT信号が左右対称であれば、EIT信号の強度が下がってもロックする周波数はずれないはずである。しかしながら、ガスセル13に照射される光の強度が低下すると、シュタルクシフトにより実際にはロックする周波数が低くなる方向に変動することになる。従って、EIT信号が左右対称であれば、高い長期安定度を実現することが難しい。
[Improved long-term stability of frequency]
Since the detection circuit 16 has a property of locking the frequency by regarding the area where the left and right areas of the EIT signal are equal as a peak, if the EIT signal is symmetrical, the frequency that locks should not be shifted even if the strength of the EIT signal is reduced. It is. However, when the intensity of the light applied to the gas cell 13 is reduced, the actual locking frequency changes due to the Stark shift. Therefore, if the EIT signal is symmetrical, it is difficult to achieve high long-term stability.

これに対して、EIT信号が非対称にゆがんでいた場合、EIT信号の強度が下がったときにロックする周波数もずれる。図6(A)及び図6(B)は、EIT信号(光検出器14の出力信号))とロック周波数(共鳴光対の周波数差)とをプロットしたグラフの一例である。図6(A)及び図6(B)において、縦軸はガスセル13を透過する光の透過率(検出器14の出力信号強度)であり、横軸は周波数(共鳴光対の周波数差)である。例えば、図6(A)に示すように、EIT信号が左側(低周波側)に傾いていた場合、EIT信号の強度が下がるにつれて、ロック周波数がf1→f2→f3のように下がっていく。逆に、図6(B)に示すように、EIT信号が右側(高周波側)に傾いていた場合、EIT信号の強度が下がるにつれて、ロック周波数がf1→f2→f3のように上がっていく。 On the other hand, when the EIT signal is distorted asymmetrically, the frequency that is locked when the intensity of the EIT signal decreases is also shifted. FIGS. 6A and 6B are examples of graphs in which the EIT signal (output signal of the photodetector 14)) and the lock frequency (frequency difference between the resonant light pairs) are plotted. 6 (A) and 6 (B), the vertical axis represents the transmittance of light transmitted through the gas cell 13 (the output signal intensity of the detector 14), and the horizontal axis represents the frequency (frequency difference between the resonant light pair). is there. For example, as shown in FIG. 6A, when the EIT signal is tilted to the left side (low frequency side), the lock frequency decreases as f 1 → f 2 → f 3 as the intensity of the EIT signal decreases. To go. Conversely, as shown in FIG. 6B, when the EIT signal is tilted to the right side (high frequency side), the lock frequency increases as f 1 → f 2 → f 3 as the intensity of the EIT signal decreases. To go.

しかしながら、ガスセル13に照射される光の強度が低下するとシュタルクシフトによる周波数の低下も生じるため、図6(A)に示したように、EIT信号が左側(低周波側)に傾いて非対称であれば、周波数のずれがシュタルクシフト分だけさらに大きくなるが、図6(B)に示したように、EIT信号が右側(高周波側)に傾いて非対称であれば、周波数のずれがシュタルクシフト分だけ小さくなる。逆に言えば、EIT信号を右側(高周波側)に傾いて非対称にすることで、シュタルクシフトをキャンセルすることが可能である。結果的に、図7に示すように、光源13の出射光の強度の低下によりEIT信号が低下しても、ロック周波数を初期の周波数f1のまま変動しないようにすることができる。これにより、高い長期安定度を実現することが可能となる。 However, if the intensity of the light applied to the gas cell 13 is reduced, the frequency is also reduced due to the Stark shift. Therefore, as shown in FIG. 6 (A), the EIT signal may be inclined to the left side (low frequency side). For example, the frequency shift is further increased by the Stark shift, but as shown in FIG. 6B, if the EIT signal is tilted to the right side (high frequency side) and is asymmetrical, the frequency shift is the Stark shift. Get smaller. In other words, the Stark shift can be canceled by tilting the EIT signal to the right side (high frequency side) to be asymmetric. As a result, as shown in FIG. 7, even EIT signal is reduced due to a decrease in the intensity of the light emitted from the light source 13, the lock frequency can be prevented from being varied while the initial frequency f 1. Thereby, high long-term stability can be realized.

そこで、本実施形態では、EIT信号を左右非対称にするために、磁場発生部15は、ガスセル13の内部に偏差を有する磁場を発生させる。すなわち、本実施形態では、磁界発生部15は、ガスセル13に収容されているアルカリ金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段(例えばc-fieldコイル)を、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせる用途にも兼用される。磁場に偏差を持たせることで、ガスセル13の内部には磁場が大きいところと小さいところができる。磁場がかかるとアルカリ金属原子のエネルギー準位はゼーマン分裂を起こすが、分裂幅は磁場の大きさに依存するため、磁場が偏差を持っていれば、それぞれの原子がEIT現象を起こす共鳴光対の周波数差が磁場の強度に応じて異なる(磁場強度の2乗に比例する)。EIT信号は、各原子のEIT現象による信号の重ね合わせとなるので、結果的に左右非対称となる。特に、相対的に強い磁場を受ける原子が相対的に弱い磁場を受ける原子よりも多くなるように磁場の分布を設定す
れば、EIT信号が右側(高周波側)に傾いて非対称になるので、シュタルクシフトをキャンセルすることが可能になる。
Therefore, in the present embodiment, the magnetic field generator 15 generates a magnetic field having a deviation inside the gas cell 13 in order to make the EIT signal asymmetrical. That is, in the present embodiment, the magnetic field generation unit 15 uses a means (for example, a c-field coil) for splitting the energy level of alkali metal atoms accommodated in the gas cell 13 as a magnetic field inside the gas cell 13. It is also used for giving deviation. By giving a deviation to the magnetic field, the gas cell 13 can have a large magnetic field and a small magnetic field. When a magnetic field is applied, the energy level of the alkali metal atom causes Zeeman splitting, but the splitting width depends on the magnitude of the magnetic field. Therefore, if the magnetic field has a deviation, each atom causes an EIT phenomenon. Is different depending on the strength of the magnetic field (proportional to the square of the magnetic field strength). Since the EIT signal is a superposition of signals due to the EIT phenomenon of each atom, the result is left-right asymmetry. In particular, if the distribution of the magnetic field is set so that the number of atoms receiving a relatively strong magnetic field is larger than the number of atoms receiving a relatively weak magnetic field, the EIT signal tilts to the right (high frequency side) and becomes asymmetric. It becomes possible to cancel the shift.

EIT信号を左右非対称にする方法としては、例えば、図8(A)〜図8(E)に示す方法が考えられる。図8(A)〜図8(E)は、ガスセル13を光の進行方向(光軸方向)と垂直な方向から視た図である。   As a method of making the EIT signal left-right asymmetric, for example, the methods shown in FIGS. 8A to 8E can be considered. 8A to 8E are views of the gas cell 13 viewed from a direction perpendicular to the light traveling direction (optical axis direction).

例えば、図8(A)に示すように、ガスセル13の一部のみをコイル30で覆い、コイル30に所定の電流を流せば、ガスセル13の内部では、コイル30で覆われた空間は相対的に磁場強度が大きく、コイル30で覆われていない空間はコイル30から離れるほど磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル30に流す電流の大きさ、コイル30の巻き数や直径、コイル30の光軸方向の長さや位置を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図8(A)において、コイル30が図1の磁場発生部15に対応する。   For example, as shown in FIG. 8A, if only a part of the gas cell 13 is covered with the coil 30 and a predetermined current is passed through the coil 30, the space covered with the coil 30 is relatively relative to the inside of the gas cell 13. The magnetic field strength of the space that is not covered by the coil 30 decreases as the distance from the coil 30 increases. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and by adjusting the magnitude of the current flowing through the coil 30, the number of turns and the diameter of the coil 30, and the length and position of the coil 30 in the optical axis direction. It is also possible to have a magnetic field distribution that cancels the Stark shift. In FIG. 8A, the coil 30 corresponds to the magnetic field generator 15 in FIG.

また、例えば、図8(B)に示すように、ガスセル13を巻き数が部分毎に異なる1つのコイル30で覆い、コイル30に所定の電流を流せば、ガスセル13の内部では、コイル30の巻き数が多い空間ほど相対的に磁場強度が大きくなり、コイル30の巻き数が少ない空間ほど相対的に磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル30に流す電流の大きさ、コイル30の巻き数や直径等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図8(B)において、コイル30が図1の磁場発生部15に対応する。   Further, for example, as shown in FIG. 8B, if the gas cell 13 is covered with one coil 30 having a different number of turns and a predetermined current is supplied to the coil 30, the inside of the gas cell 13 A space having a larger number of turns has a relatively higher magnetic field strength, and a space having a smaller number of turns of the coil 30 has a relatively lower magnetic field strength. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and a magnetic field that cancels the Stark shift by adjusting the magnitude of the current flowing through the coil 30, the number of turns and the diameter of the coil 30, and the like. A distribution is also possible. In FIG. 8B, the coil 30 corresponds to the magnetic field generator 15 in FIG.

また、例えば、図8(C)に示すように、ガスセル13を2つのコイル30,31(3つ以上のコイルでもよい)で覆い、例えば、コイル30に流す所定の電流をコイル31に流す所定の電流よりも大きくすれば、ガスセル13の内部では、コイル30で覆われた空間は相対的に磁場強度が大きく、コイル31で覆われた空間は相対的に磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル30,31に流す電流の大きさや向き、コイル30,31の巻き数や直径、コイル30,31の光軸方向の長さや位置等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図8(C)において、コイル30及びコイル31が図1の磁場発生部15に対応する。   Further, for example, as shown in FIG. 8C, the gas cell 13 is covered with two coils 30 and 31 (may be three or more coils), and for example, a predetermined current flowing through the coil 30 is flown through the coil 31. In the gas cell 13, the space covered with the coil 30 has a relatively high magnetic field strength, and the space covered with the coil 31 has a relatively low magnetic field strength. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, the magnitude and direction of the current flowing through the coils 30 and 31, the number of turns and the diameter of the coils 30 and 31, and the length of the coils 30 and 31 in the optical axis direction. By adjusting the sheath position and the like, it is possible to obtain a magnetic field distribution that cancels the Stark shift. In FIG. 8C, the coil 30 and the coil 31 correspond to the magnetic field generator 15 in FIG.

また、例えば、図8(D)に示すように、ガスセル13を直径が部分毎に異なる1つのコイル30で覆い、コイル30に所定の電流を流せば、ガスセル13の内部では、コイル30の直径が短い空間ほど相対的に磁場強度が大きくなり、コイル30の直径が長い空間ほど相対的に磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル30に流す電流の大きさ、コイル30の巻き数や直径等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図8(D)において、コイル30が図1の磁場発生部15に対応する。   Further, for example, as shown in FIG. 8D, if the gas cell 13 is covered with one coil 30 having a different diameter for each part and a predetermined current is passed through the coil 30, the diameter of the coil 30 is within the gas cell 13. The shorter the space, the larger the magnetic field strength, and the longer the coil 30 diameter, the smaller the magnetic field strength. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and a magnetic field that cancels the Stark shift by adjusting the magnitude of the current flowing through the coil 30, the number of turns and the diameter of the coil 30, and the like. A distribution is also possible. In FIG. 8D, the coil 30 corresponds to the magnetic field generator 15 in FIG.

また、例えば、図8(E)に示すように、ガスセル13の光の入射側と出射側に2つのコイル30,31を対向させたヘルムホルツコイルを配置し、コイル30とコイル31とで、電流の大きさ、電流の向き、巻き数、直径、光軸方向の長さ、位置等のパラメーターの一部又は全部を異ならせることにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができる。これらのパラメーターを調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図8(E)において、コイル30及びコイル31が図1の磁場発生部15に対応する。   Further, for example, as shown in FIG. 8E, Helmholtz coils in which two coils 30 and 31 are opposed to each other on the light incident side and the light emitting side of the gas cell 13 are arranged. By varying some or all of the parameters such as the size, the direction of current, the number of turns, the diameter, the length in the optical axis direction, and the position, the magnetic field inside the gas cell 13 can have a deviation. By adjusting these parameters, it is possible to obtain a magnetic field distribution that cancels the Stark shift. In FIG. 8E, the coil 30 and the coil 31 correspond to the magnetic field generator 15 in FIG.

図8(A)〜図8(E)に示したいずれの方法でも、磁場発生部15が発生させる磁場は、半導体レーザー10が発生させる光のガスセル13(アルカリ金属原子)への照射方向に偏差を有しており、ガスセル13に光が入射する位置とガスセル13から光が出射する位置とで磁場の強度が異なっている。また、磁場発生部15が発生させる磁場が最も強い位置とガスセル13の中心(アルカリ金属原子を収容する容器の中心)とが異なっている。このように、本実施形態では、半導体レーザー10の出射光の強度が変化した時、アルカリ金属原子にEIT現象を起こさせる共鳴光対の周波数差が、シュタルクシフトと逆方向にシフトするように、ガスセル13の内部の磁場(磁場の偏差)が設定されている。   8A to 8E, the magnetic field generated by the magnetic field generator 15 is deviated in the irradiation direction of the light generated by the semiconductor laser 10 to the gas cell 13 (alkali metal atom). The intensity of the magnetic field is different between the position where the light enters the gas cell 13 and the position where the light exits from the gas cell 13. Further, the position where the magnetic field generated by the magnetic field generator 15 is the strongest is different from the center of the gas cell 13 (center of the container containing the alkali metal atoms). Thus, in this embodiment, when the intensity of the emitted light from the semiconductor laser 10 changes, the frequency difference of the resonant light pair that causes the EIT phenomenon in the alkali metal atoms is shifted in the opposite direction to the Stark shift. A magnetic field (magnetic field deviation) inside the gas cell 13 is set.

図9(A)は、図8(A)に示したように、ガスセルの一部のみをコイルで覆い、コイルに流す電流の大きさを5通りに設定して半導体レーザーの出射光(ガスセルの入射光)の強度と原子発振器の周波数偏差との関係を取得した実験結果のグラフである。図9(B)は、比較のため、ガスセルの全部をコイルで覆い、コイルに流す電流の大きさを5通りに設定して半導体レーザーの出射光(ガスセルの入射光)の強度と原子発振器の周波数偏差との関係を取得した実験結果のグラフである。   In FIG. 9A, as shown in FIG. 8A, only a part of the gas cell is covered with a coil, the magnitude of the current flowing through the coil is set in five ways, and the emitted light of the semiconductor laser (of the gas cell) It is a graph of the experimental result which acquired the relationship between the intensity | strength of incident light), and the frequency deviation of an atomic oscillator. In FIG. 9B, for comparison, the entire gas cell is covered with a coil, the magnitude of the current flowing through the coil is set in five ways, the intensity of the emitted light of the semiconductor laser (incident light of the gas cell) and the atomic oscillator It is a graph of the experimental result which acquired the relationship with a frequency deviation.

図9(B)のグラフは、ガスセル内部の磁場が一様の場合、コイルに流す電流(すなわち、ガスセル内部の磁場の強度)を変えても、光強度が変化するとシュタルクシフトにより周波数が変化してしまうことを示している。一方、図9(A)のグラフは、ガスセル内部の磁場に偏差を持たせてその強度を変えれば、光強度の変化に対する周波数の変化量(周波数感度)を小さくすることができることを示している。従って、磁場の偏差と強度を調整すれば、シュタルクシフトをほとんどキャンセルすることも可能であり、原子発振器の長期安定度を従来よりも向上させることができる。   In the graph of FIG. 9B, when the magnetic field inside the gas cell is uniform, the frequency changes due to the Stark shift if the light intensity changes even if the current flowing through the coil (that is, the strength of the magnetic field inside the gas cell) is changed. It shows that it will end. On the other hand, the graph of FIG. 9A shows that the amount of change in frequency (frequency sensitivity) with respect to the change in light intensity can be reduced if the magnetic field inside the gas cell has a deviation and its intensity is changed. . Therefore, if the deviation and strength of the magnetic field are adjusted, the Stark shift can be almost canceled, and the long-term stability of the atomic oscillator can be improved as compared with the conventional case.

[原子発振器の製造方法]
図10は、本実施形態の原子発振器1の製造方法の一例を示すフローチャート図である。
[Method of manufacturing an atomic oscillator]
FIG. 10 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the atomic oscillator 1 of the present embodiment.

まず、図1に示した物理パッケージ100を準備する(S10)。例えば、既存の物理パッケージ100を用意してもよいし、半導体レーザー10、減光フィルター11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14及び磁場発生部15を用意して物理パッケージ100を組み立ててもよい。   First, the physical package 100 shown in FIG. 1 is prepared (S10). For example, an existing physical package 100 may be prepared, or the semiconductor package 10, the neutral density filter 11, the quarter wavelength plate 12, the gas cell 13, the photodetector 14, and the magnetic field generator 15 may be prepared. May be assembled.

次に、磁場発生部15(コイル等)の位置や形状等、ガスセル10の内部の磁場の分布を決定するパラメーターを初期設定する(S20)。   Next, parameters for determining the distribution of the magnetic field inside the gas cell 10 such as the position and shape of the magnetic field generator 15 (coils, etc.) are initialized (S20).

次に、半導体レーザー10の変調周波数fmをω12/2を中心として低周波数で掃引し、半導体レーザー10のバイアス電流を所定範囲で変更してロックする周波数をそれぞれ測定する(S30)。変調周波数fmを掃引する低周波数は、図1の低周波発振器19の周波数と一致させればよい。変調周波数fmをω12/2を中心として低周波数で掃引させる信号は、例えば、シグナルジェネレーターで発生させることができる。 Then swept in a low-frequency modulation frequency f m of the semiconductor laser 10 around the omega 12/2, a bias current of the semiconductor laser 10 is changed in a predetermined range to measure the frequency to be locked, respectively (S30). Low frequencies sweeping the modulation frequency f m may be brought into coincidence with the frequency of the low frequency oscillator 19 in FIG. 1. Signal to sweep at low frequencies the modulation frequency f m around the omega 12/2, for example, can be generated by a signal generator.

次に、ステップS30における各バイアス電流値での周波数の測定結果から、光強度に対する周波数感度を計算する(S40)。   Next, the frequency sensitivity with respect to the light intensity is calculated from the frequency measurement result at each bias current value in step S30 (S40).

周波数感度が閾値よりも大きい場合は(S50のN)、周波数感度が閾値以下となるまで、ガスセル10内部の磁場の分布を決定するパラメーターの設定を変更しながら(S60)、ステップS30以降の処理を繰り返し行う。   If the frequency sensitivity is greater than the threshold value (N in S50), the setting of the parameter that determines the distribution of the magnetic field inside the gas cell 10 is changed until the frequency sensitivity is equal to or less than the threshold value (S60), and the processing after step S30 Repeat.

そして、周波数感度が閾値以下になれば(S50のY)、最後に、物理パッケージ100と回路(IC)を接続し、原子発振器1を組み立てる(S50)。   If the frequency sensitivity is equal to or lower than the threshold value (Y in S50), finally, the physical package 100 and the circuit (IC) are connected, and the atomic oscillator 1 is assembled (S50).

以上に説明したように、第1実施形態の原子発振器によれば、EIT信号が非対称となることで、半導体レーザー100の出射光の強度が低下した時にシュタルクシフトによる周波数の変動をある程度キャンセルすることができるので、長期安定度を向上させることができる。   As described above, according to the atomic oscillator of the first embodiment, the EIT signal is asymmetric, so that the frequency fluctuation due to the Stark shift is canceled to some extent when the intensity of the emitted light from the semiconductor laser 100 is reduced. Therefore, long-term stability can be improved.

1−2.第2実施形態
第1実施形態では、磁場発生部15は、ガスセル13に収容されているアルカリ金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段(例えばc-fieldコイル)を、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせる用途にも兼用されているが、第2実施形態の原子発振器では、アルカリ金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるために一様な磁場を発生させる手段(例えばc-fieldコイル)と、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせる手段が別個に設けられる。
1-2. Second Embodiment In the first embodiment, the magnetic field generator 15 uses a means (for example, a c-field coil) for splitting the energy levels of alkali metal atoms accommodated in the gas cell 13 inside the gas cell 13. In the atomic oscillator of the second embodiment, a means for generating a uniform magnetic field (for example, c−) is used to cause Zeeman splitting of the energy level of the alkali metal atom. field coil) and means for giving a deviation to the magnetic field inside the gas cell 13 are provided separately.

図11は、第2実施形態の原子発振器の構成例を示す図である。図11において、第1実施形態(図1)と同様の構成には同じ符号を付している。図11に示すように、第2実施形態の原子発振器1は、第1実施形態の原子発振器に対して、磁場発生部15が定常磁場発生部40及び磁場偏差発生部41に置き換えられており、その他の構成は同様である。   FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration example of the atomic oscillator according to the second embodiment. In FIG. 11, the same components as those in the first embodiment (FIG. 1) are denoted by the same reference numerals. As shown in FIG. 11, in the atomic oscillator 1 of the second embodiment, the magnetic field generator 15 is replaced with a stationary magnetic field generator 40 and a magnetic field deviation generator 41, compared to the atomic oscillator of the first embodiment. Other configurations are the same.

定常磁場発生部40は、ガスセル13の内部に定常磁場(一様な磁場)を発生させるものである。磁場発生部15は、例えば、コイルで実現することができ、コイルの位置、形状(例えば、コイルを巻く方向、巻き数、直径等)、電流の大きさや向き等を調整することで所望の磁場を発生させることができる。   The stationary magnetic field generator 40 generates a stationary magnetic field (uniform magnetic field) inside the gas cell 13. The magnetic field generator 15 can be realized by, for example, a coil, and a desired magnetic field can be achieved by adjusting the position and shape of the coil (for example, the direction in which the coil is wound, the number of turns, the diameter, etc.), the current magnitude and direction, and the like. Can be generated.

磁場偏差発生部41(磁場発生部の一例)は、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせるためのものである。磁場偏差発生部41は、例えば、磁石やコイルで実現することができ、磁石の位置、形状、強度等、あるいは、コイルの位置、形状(例えば、コイルを巻く方向、巻き数、直径等)、電流の大きさや向き等を調整することで所望の磁場を発生させることができる。   The magnetic field deviation generating unit 41 (an example of a magnetic field generating unit) is for giving a deviation to the magnetic field inside the gas cell 13. The magnetic field deviation generating unit 41 can be realized by, for example, a magnet or a coil, and the position, shape, strength, etc. of the magnet, or the position, shape of the coil (for example, the direction in which the coil is wound, the number of turns, the diameter, etc.) A desired magnetic field can be generated by adjusting the magnitude and direction of the current.

磁場設定回路25は、メモリー27に記憶されている設定情報に応じて定常磁場発生部40及び磁場偏差発生部41がそれぞれ発生させる磁場の強度を設定する処理を行う。例えば、定常磁場発生部40及び磁場偏差発生部41を別個のコイルで実現し、磁場設定回路25は、メモリー27に記憶されている設定情報に応じて各コイルに流す電流量を設定するようにしてもよい。   The magnetic field setting circuit 25 performs processing for setting the strengths of the magnetic fields generated by the stationary magnetic field generation unit 40 and the magnetic field deviation generation unit 41 in accordance with the setting information stored in the memory 27. For example, the stationary magnetic field generation unit 40 and the magnetic field deviation generation unit 41 are realized by separate coils, and the magnetic field setting circuit 25 sets the amount of current that flows through each coil according to the setting information stored in the memory 27. May be.

図11におけるその他の構成は、第1実施形態(図1)と同様であるため、その説明を省略する。   Other configurations in FIG. 11 are the same as those in the first embodiment (FIG. 1), and thus description thereof is omitted.

本実施形態においてEIT信号を左右非対称にする方法としては、例えば、図12(A)〜図12(C)に示す方法が考えられる。図12(A)〜図12(C)は、ガスセル13を光の進行方向(光軸方向)と垂直な方向から視た図である。   In the present embodiment, as a method for making the EIT signal asymmetrical, for example, the methods shown in FIGS. 12A to 12C are conceivable. 12A to 12C are views of the gas cell 13 viewed from a direction perpendicular to the light traveling direction (optical axis direction).

例えば、図12(A)に示すように、ガスセル13をコイル50で覆い、コイル50に所定の電流を流して、ガスセル13の内部に一様な磁場を発生させる。さらに、ガスセル13の近くに磁石60を配置することで、ガスセル13の内部では、磁石60に近い空間ほど相対的に磁場強度が大きくなり、磁石60から遠い空間ほど相対的に磁場強度が小さ
くなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、磁石60の位置、形状、強度、コイル50に流す電流の大きさ、コイル50の巻き数や直径等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図12(A)において、コイル50が図11の定常磁場発生部40に対応し、磁石60が図11の磁場偏差発生部41に対応する。
For example, as shown in FIG. 12A, the gas cell 13 is covered with a coil 50, and a predetermined current is passed through the coil 50 to generate a uniform magnetic field inside the gas cell 13. Furthermore, by arranging the magnet 60 near the gas cell 13, the magnetic field strength is relatively increased in the space closer to the magnet 60 in the gas cell 13, and the magnetic field strength is relatively decreased in the space farther from the magnet 60. . Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and by adjusting the position, shape, strength of the magnet 60, the current flowing through the coil 50, the number of turns and the diameter of the coil 50, etc. It is also possible to have a magnetic field distribution that cancels the Stark shift. In FIG. 12A, the coil 50 corresponds to the stationary magnetic field generation unit 40 in FIG. 11, and the magnet 60 corresponds to the magnetic field deviation generation unit 41 in FIG.

また、例えば、図12(B)に示すように、ガスセル13をコイル50で覆い、コイル50に所定の電流を流して、ガスセル13の内部に一様な磁場を発生させる。さらに、ガスセル13の光の入射側又は出射側(あるいは両方)にコイル52を配置して所定の電流を流すことで、ガスセル13の内部では、コイル52に近い空間ほど相対的に磁場強度が大きくなり、コイル52から遠い空間ほど相対的に磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル50及びコイル52に流す電流の大きさ、コイル30の巻き数や直径等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図12(B)において、コイル50が図11の定常磁場発生部40に対応し、コイル52が図11の磁場偏差発生部41に対応する。   For example, as shown in FIG. 12B, the gas cell 13 is covered with a coil 50, and a predetermined current is passed through the coil 50 to generate a uniform magnetic field inside the gas cell 13. Furthermore, by arranging the coil 52 on the light incident side or the light emission side (or both) of the gas cell 13 and flowing a predetermined current, the magnetic field strength is relatively larger in the space closer to the coil 52 inside the gas cell 13. Thus, the magnetic field strength becomes relatively smaller as the space is farther from the coil 52. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and the Stark shift is canceled by adjusting the magnitude of the current flowing through the coil 50 and the coil 52, the number of turns and the diameter of the coil 30, and the like. It is also possible to have a uniform magnetic field distribution. In FIG. 12B, the coil 50 corresponds to the stationary magnetic field generation unit 40 in FIG. 11, and the coil 52 corresponds to the magnetic field deviation generation unit 41 in FIG.

また、例えば、図12(C)に示すように、ガスセル13の光の入射側と出射側に2つのコイル50,51を対向させたヘルムホルツコイルを配置し、コイル50とコイル51に所定の電流を流して、ガスセル13の内部に一様な磁場を発生させる。さらに、ガスセル13の一部のみをコイル52で覆い、コイル50に所定の電流を流すことで、ガスセル13の内部では、コイル52で覆われた空間は相対的に磁場強度が大きく、コイル52で覆われていない空間は相対的に磁場強度が小さくなる。これにより、ガスセル13の内部の磁場に偏差を持たせることができ、コイル50、コイル51及びコイル52に流す電流の大きさ、コイル50、コイル51及びコイル52の巻き数や直径等を調整することで、シュタルクシフトをキャンセルするような磁場の分布にすることも可能である。なお、図12(C)において、コイル50及びコイル51が図11の定常磁場発生部40に対応し、コイル52が図11の磁場偏差発生部41に対応する。   Further, for example, as shown in FIG. 12C, Helmholtz coils having two coils 50 and 51 facing each other are arranged on the light incident side and the light emitting side of the gas cell 13, and a predetermined current is supplied to the coil 50 and the coil 51. To generate a uniform magnetic field inside the gas cell 13. Furthermore, only a part of the gas cell 13 is covered with the coil 52 and a predetermined current is passed through the coil 50, so that the space covered with the coil 52 has a relatively large magnetic field strength inside the gas cell 13. In the uncovered space, the magnetic field strength is relatively small. Thereby, a deviation can be given to the magnetic field inside the gas cell 13, and the magnitude of the current flowing through the coil 50, the coil 51, and the coil 52, the number of turns and the diameter of the coil 50, the coil 51, and the coil 52 are adjusted. Thus, it is possible to obtain a magnetic field distribution that cancels the Stark shift. In FIG. 12C, the coil 50 and the coil 51 correspond to the stationary magnetic field generation unit 40 in FIG. 11, and the coil 52 corresponds to the magnetic field deviation generation unit 41 in FIG.

図12(A)〜図12(C)に示したいずれの方法でも、磁場偏差発生部41が発生させる磁場は、半導体レーザー10が発生させる光のガスセル13(アルカリ金属原子)への照射方向に偏差を有しており、ガスセル13に光が入射する位置とガスセル13から光が出射する位置とで磁場の強度が異なっている。また、磁場偏差発生部41が発生させる磁場が最も強い位置とガスセル13の中心(アルカリ金属原子を収容する容器の中心)とが異なっている。このように、本実施形態では、半導体レーザー10の出射光の強度が変化した時、アルカリ金属原子にEIT現象を起こさせる共鳴光対の周波数差が、シュタルクシフトと逆方向にシフトするように、ガスセル13の内部の磁場(磁場の偏差)が設定されている。   In any of the methods shown in FIGS. 12A to 12C, the magnetic field generated by the magnetic field deviation generation unit 41 is in the irradiation direction of the light generated by the semiconductor laser 10 to the gas cell 13 (alkali metal atom). There is a deviation, and the intensity of the magnetic field is different between the position where the light is incident on the gas cell 13 and the position where the light is emitted from the gas cell 13. Further, the position where the magnetic field generated by the magnetic field deviation generator 41 is the strongest is different from the center of the gas cell 13 (center of the container containing the alkali metal atoms). Thus, in this embodiment, when the intensity of the emitted light from the semiconductor laser 10 changes, the frequency difference of the resonant light pair that causes the EIT phenomenon in the alkali metal atoms is shifted in the opposite direction to the Stark shift. A magnetic field (magnetic field deviation) inside the gas cell 13 is set.

その他、例えば、図12(C)のコイル50を、図8(B)〜図8(D)と同様に、巻き数や直径が位置によって異なるコイルや電流量の異なる複数のコイルに置き換えてもよい。   In addition, for example, the coil 50 in FIG. 12C may be replaced with a coil having a different number of turns or a diameter depending on a position or a plurality of coils having different amounts of current, similarly to FIGS. 8B to 8D. Good.

なお、第2実施形態の原子発振器の製造方法のフローチャートは、図10のフローチャートと同様であるので、その図示及び説明を省略する。   In addition, since the flowchart of the manufacturing method of the atomic oscillator of 2nd Embodiment is the same as that of the flowchart of FIG. 10, the illustration and description are abbreviate | omitted.

以上に説明したように、第2実施形態の原子発振器によれば、ガスセル13の内部の磁場に偏差を生じさせることでEIT信号が非対称となり、半導体レーザー100の出射光の強度が低下した時にシュタルクシフトによる周波数の変動をある程度キャンセルすることができるので、長期安定度を向上させることができる。   As described above, according to the atomic oscillator of the second embodiment, when the EIT signal becomes asymmetric by causing a deviation in the magnetic field inside the gas cell 13 and the intensity of the emitted light from the semiconductor laser 100 is reduced, Since the fluctuation of the frequency due to the shift can be canceled to some extent, the long-term stability can be improved.

さらに、第2実施形態の原子発振器によれば、ガスセル13の内部に定常磁場を発生させる手段と磁場の偏差を生じさせる手段を別個に設けているので、調整の自由度が向上し、シュタルクシフトによる周波数の変動を精度良よくキャンセルすることが可能である。   Furthermore, according to the atomic oscillator of the second embodiment, the means for generating a stationary magnetic field and the means for generating a magnetic field deviation are separately provided in the gas cell 13, so that the degree of freedom of adjustment is improved and the Stark shift It is possible to cancel the frequency fluctuation due to the above with high accuracy.

2.磁気センサー
図1に示したガスセル13の周辺の磁場の強度が変化すると、ガスセル13に収容されているアルカリ金属原子の基底準位と励起準位におけるゼーマン分裂準位が変化する。このゼーマン分裂準位の変化に応じて、アルカリ金属原子にEIT現象を発生させる共鳴光対の周波数差ω12も変化する。そして、このω12は、磁場の強度Bの2乗に比例することが知られている。電圧制御水晶発振器(VCXO)17の周波数はω12に比例するので、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の周波数から磁場強度を算出することができる。従って、ガスセル13の近傍に磁気測定対象物を配置することで磁気センサーを実現することができる。
2. Magnetic Sensor When the intensity of the magnetic field around the gas cell 13 shown in FIG. 1 changes, the Zeeman splitting level in the ground level and the excited level of the alkali metal atoms accommodated in the gas cell 13 changes. In accordance with the change in the Zeeman splitting level, the frequency difference ω 12 of the resonant light pair that causes the EIT phenomenon in the alkali metal atom also changes. This ω 12 is known to be proportional to the square of the magnetic field strength B. Since the frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 is proportional to ω 12 , the magnetic field strength can be calculated from the frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17. Therefore, a magnetic sensor can be realized by arranging a magnetic measurement object in the vicinity of the gas cell 13.

図13は、本実施形態の磁気センサーの構成例を示す図である。図11において、図1と同じ構成要素には同じ符号を付している。図11に示すように、本実施形態の磁気センサー2は、図1に示した原子発振器1の周波数変換回路28が磁場強度情報生成回路29に置き換わっており、その他の構成は図1に示した原子発振器1と同様である。   FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration example of the magnetic sensor of the present embodiment. In FIG. 11, the same components as those in FIG. As shown in FIG. 11, in the magnetic sensor 2 of the present embodiment, the frequency conversion circuit 28 of the atomic oscillator 1 shown in FIG. 1 is replaced with a magnetic field strength information generation circuit 29, and other configurations are shown in FIG. Similar to the atomic oscillator 1.

磁場強度情報生成回路29は、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数を測定し、測定結果に基づいて外部磁場の強度を示す磁場強度情報を生成する。ガスセル13には磁場発生部15により磁場がかけられているので、例えば、外部磁場が0(定常磁場のみ)の時の電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数の情報をメモリー27にあらかじめ記憶させておき、磁場強度情報生成回路29は、測定した周波数をメモリー27に記憶されている発振周波数と比較して外部磁場の強度を算出するようにしてもよい。あるいは、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数と外部磁場の強度との対応テーブルをメモリー27に記憶させておき、磁場強度情報生成回路29は、この対応テーブルを参照し、測定した周波数に対応する外部磁場の強度を、補完計算等により求めてもよい。   The magnetic field strength information generation circuit 29 measures the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 and generates magnetic field strength information indicating the strength of the external magnetic field based on the measurement result. Since the magnetic field is applied to the gas cell 13 by the magnetic field generator 15, for example, information on the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 when the external magnetic field is 0 (only the stationary magnetic field) is stored in the memory 27 in advance. The magnetic field strength information generation circuit 29 may compare the measured frequency with the oscillation frequency stored in the memory 27 to calculate the strength of the external magnetic field. Alternatively, a correspondence table between the oscillation frequency of the voltage controlled crystal oscillator (VCXO) 17 and the intensity of the external magnetic field is stored in the memory 27, and the magnetic field strength information generation circuit 29 refers to the correspondence table and sets the measured frequency to the measured frequency. You may obtain | require the intensity | strength of a corresponding external magnetic field by complementary calculation etc.

図13に示す磁気センサー2のその他の構成は、図1に示した原子発振器1と同様であるので、その説明を省略する。   The other configuration of the magnetic sensor 2 shown in FIG. 13 is the same as that of the atomic oscillator 1 shown in FIG.

なお、図11に示した原子発振器1に対して、周波数変換回路28を磁場強度情報生成回路29に置き換えることで、磁気センサーを実現することもできる。   Note that a magnetic sensor can be realized by replacing the frequency conversion circuit 28 with a magnetic field strength information generation circuit 29 in the atomic oscillator 1 shown in FIG.

3.変形例
本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
3. The present invention is not limited to this embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention.

[変形例1]
本実施形態の原子発振器や磁気センサーでは、第1のフィードバックループにより、半導体レーザー10の出射光に含まれる2つの1次サイドバンドの光(周波数f0+fmの光と周波数f0−fmの光)がアルカリ金属原子にEIT現象を発生させる共鳴光対となるように、すなわち変調周波数fmがω12/2に一致するように制御がかかるが、これに限られない。例えば、図14(A)及び図14(B)に示すように、一方の1次サイドバンドの光(周波数f0+fmの光又は周波数f0−fmの光)と中心波長λ0(周波数f0)の光が共鳴光対となるように、すなわち、変調周波数fmがω12に一致するように制御してもよい。
[Modification 1]
The atomic oscillator and the magnetic sensor of the present embodiment, the first feedback loop, the light (frequency f 0 + f m of the two first-order sideband included in the output light of the semiconductor laser 10 light and the frequency f 0 -f m like the light) becomes resonant light pair for generating EIT phenomenon in the alkali metal atom, ie control as the modulation frequency f m is equal to omega 12/2 is applied, not limited to this. For example, FIG. 14 (A) and 14 (B), the light of one primary sideband (frequency f 0 + f m of the light or the frequency f 0 -f light m) and the central wavelength lambda 0 ( Control may be performed so that light of frequency f 0 ) forms a resonant light pair, that is, modulation frequency f m matches ω 12 .

[変形例2]
本実施形態の原子発振器や磁気センサーを、電気光学変調器(EOM:Electro-Optic Modulator)を用いた構成に変形してもよい。すなわち、半導体レーザー10は、周波数変換回路20の出力信号(変調信号)による変調がかけられず、設定されたバイアス電流に応じた単一波長λ0(周波数f0)の光を発生させる。この波長λ0の光は、電気光学変調器(EOM)に入射し、周波数変換回路20の出力信号(変調信号)によって変調がかけられる。その結果、図3と同様の周波数スペクトルを有する光を発生させることができる。そして、この電気光学変調器(EOM)が発生させる光がガスセル13に照射される。この原子発振器や磁気センサーでは、半導体レーザー10と電気光学変調器(EOM)により光源が構成される。なお、電気光学変調器(EOM)の代わりに、音響光学変調器(AOM:Acousto-Optic Modulator)を用いてもよい。
[Modification 2]
The atomic oscillator and the magnetic sensor of the present embodiment may be modified to a configuration using an electro-optic modulator (EOM). That is, the semiconductor laser 10 is not modulated by the output signal (modulation signal) of the frequency conversion circuit 20, and generates light having a single wavelength λ 0 (frequency f 0 ) corresponding to the set bias current. The light having the wavelength λ 0 enters an electro-optic modulator (EOM) and is modulated by an output signal (modulation signal) of the frequency conversion circuit 20. As a result, light having a frequency spectrum similar to that in FIG. 3 can be generated. Then, the gas cell 13 is irradiated with light generated by the electro-optic modulator (EOM). In this atomic oscillator and magnetic sensor, a light source is constituted by the semiconductor laser 10 and an electro-optic modulator (EOM). Note that an acousto-optic modulator (AOM) may be used instead of the electro-optic modulator (EOM).

[変形例3]
本実施形態の原子発振器や磁気センサーでは、1つの半導体レーザー10の出射光に含まれる2つの1次サイドバンドの光を共鳴光対として使用しているが、2つの半導体レーザーに、それぞれ単一波長の光を発生させ、これらを共鳴光対として使用してもよい。この場合も、共鳴光対の中間の波長がλaとλbの間の波長になるように2つの半導体レーザーのバイアス電流をそれぞれ設定すればよい。
[Modification 3]
In the atomic oscillator and the magnetic sensor of the present embodiment, two primary sideband lights included in the light emitted from one semiconductor laser 10 are used as resonance light pairs. Wavelength light may be generated and used as a resonant light pair. Also in this case, the bias currents of the two semiconductor lasers may be set so that the intermediate wavelength of the resonant light pair is a wavelength between λa and λb.

なお、本実施形態の量子干渉装置は、原子発振器や磁気センサー以外にも応用することができる。例えば、本実施形態の量子干渉装置の構成により、極めて安定したアルカリ金属原子の量子干渉状態(量子コヒーレンス状態)を作り出すことができるので、ガスセル13に入射する共鳴光対を取り出すことで、量子コンピュータ、量子メモリー、量子暗号システム等の量子情報機器に用いる光源を実現することもできる。   Note that the quantum interference device of the present embodiment can be applied to applications other than atomic oscillators and magnetic sensors. For example, since the quantum interference state (quantum coherence state) of alkali metal atoms can be created with the configuration of the quantum interference device of this embodiment, a quantum computer can be obtained by extracting the resonant light pair incident on the gas cell 13. It is also possible to realize a light source used for quantum information equipment such as a quantum memory and a quantum cryptography system.

上述した実施形態および変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば、各実施形態および各変形例を適宜組み合わせることも可能である。   The above-described embodiments and modifications are merely examples, and the present invention is not limited to these. For example, it is possible to appropriately combine each embodiment and each modification.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

1 原子発振器、2 磁気センサー、10 半導体レーザー、11 減光フィルター、12 1/4波長板、13 ガスセル、14 光検出器、15 磁場発生部、16 検波回路、17 電圧制御水晶発振器(VCXO)、18 変調回路、19 低周波発振器、20 周波数変換回路、21 検波回路、22 変調回路、23 低周波発振器、24 駆動回路、25 磁場設定回路、26 バイアス設定回路、27 メモリー、28 周波数変換回路、29 磁場強度情報生成回路、30 コイル、31 コイル、40 定常磁場発生部、41 磁場偏差発生部、50 コイル、51 コイル、52 コイル、60 磁石、100 物理パッケージ、200 量子干渉装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Atomic oscillator, 2 Magnetic sensor, 10 Semiconductor laser, 11 Neutral filter, 12 1/4 wavelength plate, 13 Gas cell, 14 Photo detector, 15 Magnetic field generation part, 16 Detection circuit, 17 Voltage control crystal oscillator (VCXO), 18 modulation circuit, 19 low frequency oscillator, 20 frequency conversion circuit, 21 detection circuit, 22 modulation circuit, 23 low frequency oscillator, 24 drive circuit, 25 magnetic field setting circuit, 26 bias setting circuit, 27 memory, 28 frequency conversion circuit, 29 Magnetic field strength information generation circuit, 30 coils, 31 coils, 40 stationary magnetic field generator, 41 magnetic field deviation generator, 50 coils, 51 coils, 52 coils, 60 magnets, 100 physical package, 200 quantum interference device

Claims (9)

金属原子と、
前記金属原子を封入しているセルと、
前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を前記セルに照射する光源と、
前記セルを透過した光を検出する光検出部と、
前記セル内部に磁場を発生させる磁場発生部と、を有し、
前記光源が照射する共鳴光対の強度が変化した時、前記光検出部の出力信号が極大値となる時の前記共鳴光対の周波数差が、シュタルクシフトを打ち消す方向にシフトするように、前記セル内部の磁場が設定されている、量子干渉装置。
Metal atoms,
A cell enclosing the metal atom;
A light source that irradiates the cell with a resonant light pair that generates an electromagnetically induced transmission phenomenon in the metal atom;
A light detection unit for detecting light transmitted through the cell;
A magnetic field generator for generating a magnetic field inside the cell,
When the intensity of the resonant light pair irradiated by the light source is changed, the frequency difference of the resonant light pair when the output signal of the light detection unit reaches a maximum value is shifted in a direction to cancel the Stark shift. A quantum interference device in which the magnetic field inside the cell is set.
前記セル内部の磁場は、前記光源が発生させる共鳴光対の前記セルへの照射方向に偏差を有する、請求項1に記載の量子干渉装置。   The quantum interference device according to claim 1, wherein the magnetic field inside the cell has a deviation in the irradiation direction of the resonance light pair generated by the light source to the cell. 前記セル内部の磁場が最も強い位置と前記セルの中心とが異なっている、請求項1又は2に記載の量子干渉装置。   The quantum interference device according to claim 1, wherein a position where the magnetic field inside the cell is strongest is different from a center of the cell. 前記セル内部の磁場は、前記光源が発生させる光が前記セルに入射する位置と前記セルから出射する位置とで強度が異なっている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の量子干渉装置。   The quantum interference according to any one of claims 1 to 3, wherein the magnetic field in the cell has different intensities between a position where light generated by the light source is incident on the cell and a position where the light is emitted from the cell. apparatus. 前記磁場発生部は、
前記金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段が兼用されている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の量子干渉装置。
The magnetic field generator is
The quantum interference device according to any one of claims 1 to 4, wherein a unit for Zeeman splitting the energy level of the metal atom is also used.
前記磁場発生部は、
前記金属原子のエネルギー準位をゼーマン分裂させるための手段とは別に設けられている、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の量子干渉装置。
The magnetic field generator is
6. The quantum interference device according to claim 1, wherein the quantum interference device is provided separately from means for splitting the energy level of the metal atom with Zeeman splitting.
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の量子干渉装置を含む原子発振器。   An atomic oscillator including the quantum interference device according to claim 1. 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の量子干渉装置を含む磁気センサー。   The magnetic sensor containing the quantum interference apparatus as described in any one of Claims 1 thru | or 6. 金属原子と、前記金属原子を封入しているセルと、2光波を含む光を発生させて前記セルに照射する光源と、前記セルを透過した光を検出する光検出部と、前記セル内部に磁場を発生させる磁場発生部と、を含む物理パッケージを準備する物理パッケージ準備工程と、
前記2光波の強度が変化した時、前記光検出部の出力信号が極大値となる時の前記2光波の周波数差が、シュタルクシフトを打ち消す方向にシフトするように、前記磁場発生部が発生させる磁場を設定する磁場設定工程と、を含む、量子干渉装置の製造方法。
A metal atom, a cell enclosing the metal atom, a light source that generates light including two light waves and irradiates the cell, a light detection unit that detects light transmitted through the cell, and an inside of the cell A physics package preparation step of preparing a physics package including a magnetic field generation unit that generates a magnetic field;
When the intensity of the two light waves changes, the magnetic field generation unit generates the frequency difference between the two light waves when the output signal of the light detection unit reaches a maximum value in a direction that cancels the Stark shift. And a magnetic field setting step for setting a magnetic field.
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