JP2014187576A - 分光カメラ、及びアライメント調整方法 - Google Patents
分光カメラ、及びアライメント調整方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の理想中心軸が一致した分光カメラ、及びアライメント調整方法を提供する。
【解決手段】分光カメラは、入射角制限手段と第一アライメントマーク121Mが設けられた光入射部121と、第二アライメントマーク5Mが設けられた波長可変干渉フィルター5と、撮像素子123と第三アライメントマーク124Mが設けられる回路基板124と、を備え、各構成における機械的中心軸と理想中心軸とのずれ量及び回転角が測定されており、各理想中心軸が一致するように、第一アライメントマーク121M及び第二アライメントマーク5Mの相対位置が調整され、第二アライメントマーク5M及び第三アライメントマーク124Mの相対位置が調整されている。
【選択図】図6
【解決手段】分光カメラは、入射角制限手段と第一アライメントマーク121Mが設けられた光入射部121と、第二アライメントマーク5Mが設けられた波長可変干渉フィルター5と、撮像素子123と第三アライメントマーク124Mが設けられる回路基板124と、を備え、各構成における機械的中心軸と理想中心軸とのずれ量及び回転角が測定されており、各理想中心軸が一致するように、第一アライメントマーク121M及び第二アライメントマーク5Mの相対位置が調整され、第二アライメントマーク5M及び第三アライメントマーク124Mの相対位置が調整されている。
【選択図】図6
Description
本発明は分光カメラ、及びアライメント調整方法に関する。
従来、撮像対象の分光画像を撮像する分光カメラが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の分光カメラは、レンズユニットから入射した光をCCD(Charge Coupled Device)に入射させて画像を撮像する。また、レンズユニットは、対物レンズ、結像レンズ、及びこれらのレンズ間に配置される波長可変干渉フィルターを備えている。そして、波長可変干渉フィルターの反射膜間の寸法を、アクチュエーターを用いて変化させることで、透過波長を選択し、選択された波長の分光画像をCCDにより撮像する。
ところで、波長可変干渉フィルターのような分光素子を用いて入射光から所定の目標波長の光を選択して透過させる場合、厳密に目標波長の光のみを透過させることは困難であり、実際には、目標波長を測定中心波長とした所定帯域の光が透過される。ここで、分光素子において、目標波長(測定中心波長)の光が通過する理想中心軸と、分光素子の実際の機械的な中心軸とが異なる場合がある。
また、波長可変干渉フィルターのように入射光を垂直に入射させる必要がある分光素子を用いる場合、例えばテレセントリック光学系や、LCF(ライトコントロールフィルム)等の入射角を制限する入射角制限手段を備えることが好ましい。ここで、このような入射角制限手段においても、面内ばらつきがあり、入射角制限特性(例えば、入射角を制限可能な角度)にばらつきが生じる場合があり、入射角制限手段の機械的中心軸と、入射光を所望の角度で制限可能な理想中心軸とが異なる場合がある。
また、波長可変干渉フィルターのように入射光を垂直に入射させる必要がある分光素子を用いる場合、例えばテレセントリック光学系や、LCF(ライトコントロールフィルム)等の入射角を制限する入射角制限手段を備えることが好ましい。ここで、このような入射角制限手段においても、面内ばらつきがあり、入射角制限特性(例えば、入射角を制限可能な角度)にばらつきが生じる場合があり、入射角制限手段の機械的中心軸と、入射光を所望の角度で制限可能な理想中心軸とが異なる場合がある。
一方、上記特許文献1に記載のような分光カメラでは、通常、入射角制限手段の機械的中心軸と、CCD等の撮像素子の機械的中心軸と、分光素子の機械的中心軸とを合わせるようにアライメント調整を実施し、当該分光カメラが組み立てられる。しかしながら、上述のように、入射角制限手段や分光素子において、機械的中心軸と理想中心軸とにずれがある場合、分光カメラにおいて、高精度な分光画像を取得することができないという課題がある。
本発明は、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の理想中心軸が一致した分光カメラ、及びアライメント調整方法を提供することを目的とする。
本発明の分光カメラは、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、を備え、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、前記入射角制限手段における前記機械的中心軸から、当該入射角制限手段の機械的中心軸と当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子の機械的中心軸と当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸とが一致していることを特徴とする。
本発明において、入射角制限手段の機械的中心軸とは、当該入射角制限手段を光入射方向から見た平面視における当該光通過領域の中心点を通る仮想軸である。同様に、分光素子の機械的中心とは、当該分光素子を光入射方向から見た平面視において、入射光を分光する分光領域の中心点を通る仮想軸である。
本発明では、入射角制限手段の機械的中心軸と第一理想中心軸とのずれ量及び回転角を第一調整量として、分光素子の機械的中心軸と第二理想中心軸とのずれ量及び回転角を第二調整量として測定しておく。
ここで、第一アライメントマークと第二アライメントマークとを一致させると、入射角制限手段の機械的中心軸と、分光素子の機械的中心軸とを一致させることになる。これに対して本発明では、第一アライメントマークから第一調整量のずれ量及び回転角だけずれた軸と、第二アライメントマークから第二調整量のずれ量及び回転角だけずれた軸を合わせてアライメント調整を行う。これにより、本発明では、第一理想中心軸と第二理想中心軸とが一致している。
したがって、本発明の分光カメラでは、入射角制限手段、及び分光素子の各理想中心軸が揃うことになり、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
本発明では、入射角制限手段の機械的中心軸と第一理想中心軸とのずれ量及び回転角を第一調整量として、分光素子の機械的中心軸と第二理想中心軸とのずれ量及び回転角を第二調整量として測定しておく。
ここで、第一アライメントマークと第二アライメントマークとを一致させると、入射角制限手段の機械的中心軸と、分光素子の機械的中心軸とを一致させることになる。これに対して本発明では、第一アライメントマークから第一調整量のずれ量及び回転角だけずれた軸と、第二アライメントマークから第二調整量のずれ量及び回転角だけずれた軸を合わせてアライメント調整を行う。これにより、本発明では、第一理想中心軸と第二理想中心軸とが一致している。
したがって、本発明の分光カメラでは、入射角制限手段、及び分光素子の各理想中心軸が揃うことになり、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
本発明の分光カメラは、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子と、を備え、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、前記入射角制限手段における前記機械的中心軸から、当該入射角制限手段の前記機械的中心軸と当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子の前記機械的中心軸と当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸とが一致し、前記撮像素子における前記機械的中心軸から、当該撮像素子における前記機械的中心軸と当該撮像素子において所定の理想感度で入射光を受光する位置を通る所定の第三理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子における前記機械的中心軸と前記第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、が一致していることを特徴とする。
本発明において、撮像素子の機械的中心軸とは、撮像された画像の中心画素に対応する点を通る仮想軸である。
本発明では、上記発明に加え、さらに、撮像素子の機械的中心軸と第三理想中心軸とのずれ量及び回転角を第三調整量として測定しておく。
そして、分光素子及び撮像素子のアライメント調整においても、上記入射角制限手段及び分光素子のアライメント調整と同様に、第二調整量及び第三調整量を用いて、第二アライメントマークと第三アライメントマークとの相対位置を調整することで、第二理想中心軸と第三理想中心軸とが一致している。
したがって、本発明の分光カメラでは、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸が揃うことになり、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度をさらに向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
本発明では、上記発明に加え、さらに、撮像素子の機械的中心軸と第三理想中心軸とのずれ量及び回転角を第三調整量として測定しておく。
そして、分光素子及び撮像素子のアライメント調整においても、上記入射角制限手段及び分光素子のアライメント調整と同様に、第二調整量及び第三調整量を用いて、第二アライメントマークと第三アライメントマークとの相対位置を調整することで、第二理想中心軸と第三理想中心軸とが一致している。
したがって、本発明の分光カメラでは、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸が揃うことになり、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度をさらに向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
本発明の分光カメラにおいて、前記分光素子は、入射した光の一部を反射し少なくとも一部を透過する第一反射膜と、前記第一反射膜に対向し、入射した光の一部を反射し少なくとも一部を透過する第二反射膜と、前記第一反射膜及び前記第二反射膜間のギャップ寸法を変更するギャップ変更部とを備えていることが好ましい。
本発明では、分光素子として一対の反射膜間に入射光を入射させ、多重干渉により選択された波長を透過させる波長可変型のファブリーペローエタロンが用いられる。
このようなファブリーペローエタロンでは、反射膜間のギャップ寸法を変化させることで、複数の波長に対応した分光画像を取得することができる。また、ファブリーペローエタロンでは、透過波長域の中心波長の光が主に透過する点を、設定点とし、当該設定点を理想中心軸として設定する。これにより、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
また、ファブリーペローエタロンを用いる場合、例えばAOTF(音響光学チューナブルフィルター)やLCTF(液晶チューナブルフィルター)等のような大型の分光素子を用いる場合に比べて、小型化が可能となり、分光カメラの小型化を促進できる。
本発明では、分光素子として一対の反射膜間に入射光を入射させ、多重干渉により選択された波長を透過させる波長可変型のファブリーペローエタロンが用いられる。
このようなファブリーペローエタロンでは、反射膜間のギャップ寸法を変化させることで、複数の波長に対応した分光画像を取得することができる。また、ファブリーペローエタロンでは、透過波長域の中心波長の光が主に透過する点を、設定点とし、当該設定点を理想中心軸として設定する。これにより、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
また、ファブリーペローエタロンを用いる場合、例えばAOTF(音響光学チューナブルフィルター)やLCTF(液晶チューナブルフィルター)等のような大型の分光素子を用いる場合に比べて、小型化が可能となり、分光カメラの小型化を促進できる。
本発明の分光カメラにおいて、前記入射角制限手段を保持する第一マウント部と、前記第一マウント部が固定される第二マウント部とを備え、前記第一マウント部には、凹球面を有する第一係合部が設けられ、前記第二マウント部には、前記第一係合部の前記凹球面に当接する凸球面を有する第二係止部が設けられ、前記凸球面及び前記凹球面の曲率中心点は、前記撮像素子と前記第三理想中心軸との交点であることが好ましい。
本発明では、第一係合部の凹球面の曲率中心点及び、第二係合部の凸球面の曲率中心点が、それぞれ撮像素子の理想中心点(撮像素子の第三理想中心軸上の点)に一致している。このような構成では、第二係合部に対する第一係合部の係合位置を変化させることで、第一マウント部に保持される入射角制限手段の光軸方向を調整することができ、当該入射角制限手段の光軸上に撮像素子の理想中心点に位置するように調整することで、入射角制限手段から入射した光を精度よく撮像素子で結像させることができる。
本発明では、第一係合部の凹球面の曲率中心点及び、第二係合部の凸球面の曲率中心点が、それぞれ撮像素子の理想中心点(撮像素子の第三理想中心軸上の点)に一致している。このような構成では、第二係合部に対する第一係合部の係合位置を変化させることで、第一マウント部に保持される入射角制限手段の光軸方向を調整することができ、当該入射角制限手段の光軸上に撮像素子の理想中心点に位置するように調整することで、入射角制限手段から入射した光を精度よく撮像素子で結像させることができる。
本発明のアライメント調整方法は、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、当該アライメント調整方法は、前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、前記第一調整量及び前記第二調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第二理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第二アライメントマークの相対位置を調整し、前記第二調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第二理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第二アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整することを特徴とする。
本発明では、入射角制限手段の機械的中心軸と理想中心軸(第一理想中心軸)とのずれ量及び回転角である第一調整量、分光素子の機械的中心軸と理想中心軸(第二理想中心軸)とのずれ量及び回転角である第二調整量、及び、撮像素子の機械的中心軸と理想中心軸(第三理想中心軸)とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定する。そして、第一調整量及び第二調整量を用いて、第一理想中心軸と第二理想中心軸とが一致するように、入射角制限手段の第一アライメントマークと、分光素子の第二アライメントマークとの位置を調整する。また、第二調整量及び第三調整量を用いて、第二理想中心軸と第三理想中心軸とが一致するように、分光素子の第二アライメントマークと、撮像素子の第三アライメントマークとの位置を調整する。
これにより、上述した発明と同様、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸を揃えることができ、高精度な分光画像を撮像可能な分光カメラを組み立てることができる。
これにより、上述した発明と同様、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸を揃えることができ、高精度な分光画像を撮像可能な分光カメラを組み立てることができる。
本発明のアライメント調整方法は、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、当該アライメント調整方法は、前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、前記第一調整量及び前記第二調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第二理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第二アライメントマークの相対位置を調整し、前記第一調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整することを特徴とする。
本発明では、上記発明と同様、第一調整量及び第二調整量を用いて、第一理想中心軸と第二理想中心軸とが一致するように、入射角制限手段の第一アライメントマークと、分光素子の第二アライメントマークとの位置を調整する。一方、第一調整量及び第三調整量を用いて、第一理想中心軸と第三理想中心軸とが一致するように、入射角制限手段の第一アライメントマークと、撮像素子の第三アライメントマークとの位置を調整する。この場合でも、上記発明と同様に、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸が揃えることができ、高精度な分光画像を撮像可能な分光カメラを組み立てることができる。
本発明のアライメント調整方法は、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、当該アライメント調整方法は、前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、前記第一調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整し、前記第二調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第二理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第二アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整することを特徴とする。
本発明では、第一調整量及び第三調整量を用いて、第一理想中心軸と第三理想中心軸とが一致するように、入射角制限手段の第一アライメントマークと、撮像素子の第三アライメントマークとの位置を調整する。また、第二調整量及び第三調整量を用いて、第二理想中心軸と第三理想中心軸とが一致するように、分光素子の第二アライメントマークと、撮像素子の第三アライメントマークとの位置を調整する。この場合でも、上記発明と同様に、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸が揃えることができ、高精度な分光画像を撮像可能な分光カメラを組み立てることができる。
本発明の分光カメラは、入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子と、を備え、前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸と前記入射角制限手段との位置関係を規定する第一アライメントマークを有し、前記第一理想中心軸と前記入射角制限手段との位置関係は、前記入射角制限手段の個体によって異なり、前記分光素子は、当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸と前記分光素子との位置関係を規定する第二アライメントマークを有し、前記第二理想中心軸と前記分光素子の位置関係は、前記分光素子の個体によって異なり、前記撮像素子は、当該撮像素子において所定の理想感度で入射光を受光する位置を通る第三理想中心軸と前記撮像素子との相対的位置関係を規定する第三アライメントマークを有し、前記第三理想中心軸と前記撮像素子の位置関係は、前記撮像素子の個体によって異なり、前記第一理想中心軸、前記理想第二中心軸、及第三理想中心軸が重なっていることを特徴とする。
本発明では、上記発明と同様に、入射角制限手段における第一理想中心軸と、分光素子における第二理想中心軸と、撮像素子における第三理想中心軸とが重なり一致している。このため、本発明の分光カメラでは、入射角制限手段、分光素子、及び撮像素子の各理想中心軸が揃うことになり、取得された分光画像の中心座標近傍における測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を撮像することが可能となる。
なお、本発明では、第一アライメントマークにより、入射角制限手段と第一理想中心軸との位置関係が規定されていればよく、第二アライメントマークにより、分光素子と第二理想中心軸との位置関係が規定されていればよく、第三アライメントマークにより、撮像素子と第三理想中心軸との位置関係が規定されていればよい。つまり、第一アライメントマークが入射角制限手段における機械的中心軸を示すマークでなくともよく、第二アライメントマークが分光素子における機械的中心軸を示すマークでなくともよく、第三アライメントマークが撮像素子における機械的中心軸を示すマークでなくともよい。
なお、本発明では、第一アライメントマークにより、入射角制限手段と第一理想中心軸との位置関係が規定されていればよく、第二アライメントマークにより、分光素子と第二理想中心軸との位置関係が規定されていればよく、第三アライメントマークにより、撮像素子と第三理想中心軸との位置関係が規定されていればよい。つまり、第一アライメントマークが入射角制限手段における機械的中心軸を示すマークでなくともよく、第二アライメントマークが分光素子における機械的中心軸を示すマークでなくともよく、第三アライメントマークが撮像素子における機械的中心軸を示すマークでなくともよい。
[第一実施形態]
以下、本発明に係る第一実施形態に係る分光カメラについて、図面に基づいて説明する。
[分光カメラの概略構成]
図1は、第一実施形態の分光カメラの正面構成を示す斜視図である。図2は、分光カメラの内部の概略構成を示す概略図である。
分光カメラ10は、本発明の分光カメラであり、撮像対象の複数波長に対する分光画像を撮像する装置である。
本実施形態の分光カメラ10は、図1及び図2に示すように、筐体11と、撮像モジュール12と、ディスプレイ(図示略)と、操作部13と、を含んで構成されている。
以下、本発明に係る第一実施形態に係る分光カメラについて、図面に基づいて説明する。
[分光カメラの概略構成]
図1は、第一実施形態の分光カメラの正面構成を示す斜視図である。図2は、分光カメラの内部の概略構成を示す概略図である。
分光カメラ10は、本発明の分光カメラであり、撮像対象の複数波長に対する分光画像を撮像する装置である。
本実施形態の分光カメラ10は、図1及び図2に示すように、筐体11と、撮像モジュール12と、ディスプレイ(図示略)と、操作部13と、を含んで構成されている。
[筐体の構成]
筐体11は、例えば厚み寸法が1〜2cm程度で、衣服のポケット等により容易に収納可能な薄型箱状に形成されている。この筐体11は、撮像モジュール12が配置される撮像窓111を備えている。また、筐体11の一部には、操作部13(例えばシャッターボタン等)が設けられている。
筐体11は、例えば厚み寸法が1〜2cm程度で、衣服のポケット等により容易に収納可能な薄型箱状に形成されている。この筐体11は、撮像モジュール12が配置される撮像窓111を備えている。また、筐体11の一部には、操作部13(例えばシャッターボタン等)が設けられている。
(操作部の構成)
操作部13は、上述のように、筐体11に設けられるシャッターボタンや、ディスプレイに設けられるタッチパネル等により構成される。ユーザーにより入力操作が行われると、操作部13は、入力操作に応じた操作信号を回路基板124に出力する。
操作部13は、上述のように、筐体11に設けられるシャッターボタンや、ディスプレイに設けられるタッチパネル等により構成される。ユーザーにより入力操作が行われると、操作部13は、入力操作に応じた操作信号を回路基板124に出力する。
[撮像モジュールの構成]
撮像モジュール12は、撮像窓111に臨んで設けられる光入射部121と、撮像窓111に臨んで設けられる光源部122と、波長可変干渉フィルター5(分光素子)と、入射光を受光する撮像素子123が設けられた回路基板124とを備えている。
撮像モジュール12は、撮像窓111に臨んで設けられる光入射部121と、撮像窓111に臨んで設けられる光源部122と、波長可変干渉フィルター5(分光素子)と、入射光を受光する撮像素子123が設けられた回路基板124とを備えている。
(光入射部の構成)
光入射部121は、図2に示すように、複数のレンズにより構成されている。この光入射部121は、複数のレンズ121Lnにより構成されたテレセントリック光学系を有し、視野角を所定角度以下に制限し、視野角内の検査対象物の像を、撮像素子123に結像する。すなわち、光入射部121は、本発明における視野角制限手段を構成する。このようなテレセントリック光学系では、入射光の光軸を主光線に対して平行な方向に揃えることができ、後述する波長可変干渉フィルター5の固定反射膜54や可動反射膜55に対して垂直に入射させることが可能となる。また、テレセントリック光学系を構成するレンズ121Lnの焦点位置には、絞りが設けられ、例えばユーザー操作に応じて絞り径が制御されることで、視野角を制御することが可能となる。なお、テレセントリック光学系の各レンズ121Lnや絞り等によって制限する入射光の入射角度は、レンズ設計等により異なるが、光学軸から20度以下に制限されることが好ましい。
光入射部121は、図2に示すように、複数のレンズにより構成されている。この光入射部121は、複数のレンズ121Lnにより構成されたテレセントリック光学系を有し、視野角を所定角度以下に制限し、視野角内の検査対象物の像を、撮像素子123に結像する。すなわち、光入射部121は、本発明における視野角制限手段を構成する。このようなテレセントリック光学系では、入射光の光軸を主光線に対して平行な方向に揃えることができ、後述する波長可変干渉フィルター5の固定反射膜54や可動反射膜55に対して垂直に入射させることが可能となる。また、テレセントリック光学系を構成するレンズ121Lnの焦点位置には、絞りが設けられ、例えばユーザー操作に応じて絞り径が制御されることで、視野角を制御することが可能となる。なお、テレセントリック光学系の各レンズ121Lnや絞り等によって制限する入射光の入射角度は、レンズ設計等により異なるが、光学軸から20度以下に制限されることが好ましい。
また、光入射部121には、その他、拡大縮小光学系が設けられることが好ましい。拡大縮小光学系が設けられることで、例えばユーザー操作に応じてレンズ間隔を調整することで、取得する画像の拡大縮小が可能となる。
なお、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123が設けられた回路基板124の固定位置に関する詳細な説明は後述する。
なお、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123が設けられた回路基板124の固定位置に関する詳細な説明は後述する。
(光源部の構成)
光源部122は、図1及び図2に示すように、撮像窓111の外周部に沿って、円環状に配列して配置される複数の光源122A(LED)を備えている。なお、本実施形態では、光源122AとしてLEDを例示するが、例えばレーザー光源等が用いられていてもよい。光源122AとしてLEDやレーザー光源が用いられることで、光源部122の小型化、省電力化を図ることができる。
光源部122は、図1及び図2に示すように、撮像窓111の外周部に沿って、円環状に配列して配置される複数の光源122A(LED)を備えている。なお、本実施形態では、光源122AとしてLEDを例示するが、例えばレーザー光源等が用いられていてもよい。光源122AとしてLEDやレーザー光源が用いられることで、光源部122の小型化、省電力化を図ることができる。
(波長可変干渉フィルターの構成)
図3は、波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図である。図4は、図3のIV−IV線を断面した際の波長可変干渉フィルターの断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、ファブリーペローエタロンである。この波長可変干渉フィルター5は、例えば矩形板状の光学部材であり、厚み寸法が例えば500μm程度に形成される固定基板51と、厚み寸法が例えば200μm程度に形成される可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。そして、これらの固定基板51及び可動基板52は、固定基板51の第一接合部513及び可動基板の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜などにより構成された接合膜53(第一接合膜531及び第二接合膜532)により接合されることで、一体的に構成されている。
図3は、波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図である。図4は、図3のIV−IV線を断面した際の波長可変干渉フィルターの断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、ファブリーペローエタロンである。この波長可変干渉フィルター5は、例えば矩形板状の光学部材であり、厚み寸法が例えば500μm程度に形成される固定基板51と、厚み寸法が例えば200μm程度に形成される可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。そして、これらの固定基板51及び可動基板52は、固定基板51の第一接合部513及び可動基板の第二接合部523が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜などにより構成された接合膜53(第一接合膜531及び第二接合膜532)により接合されることで、一体的に構成されている。
固定基板51には、固定反射膜54が設けられ、可動基板52には、可動反射膜55が設けられている。これらの固定反射膜54および可動反射膜55は、反射膜間ギャップG1を介して対向配置されている。そして、波長可変干渉フィルター5には、この反射膜間ギャップG1のギャップ量を調整(変更)するのに用いられる静電アクチュエーター56が設けられている。この静電アクチュエーター56は、固定基板51に設けられた固定電極561と、可動基板52に設けられた可動電極562とにより構成されている。これらの固定電極561,可動電極562は、電極間ギャップG2を介して対向する。ここで、これらの固定電極561,可動電極562は、それぞれ固定基板51及び可動基板52の基板表面に直接設けられる構成であってもよく、他の膜部材を介して設けられる構成であってもよい。ここで、電極間ギャップG2のギャップ量は、反射膜間ギャップG1のギャップ量より大きい。
また、波長可変干渉フィルター5を固定基板51(可動基板52)の基板厚み方向から見た図3に示すようなフィルター平面視において、固定基板51及び可動基板52の平面中心点Oは、固定反射膜54及び可動反射膜55の中心点と一致し、かつ後述する可動部521の中心点と一致する。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51または可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
また、波長可変干渉フィルター5を固定基板51(可動基板52)の基板厚み方向から見た図3に示すようなフィルター平面視において、固定基板51及び可動基板52の平面中心点Oは、固定反射膜54及び可動反射膜55の中心点と一致し、かつ後述する可動部521の中心点と一致する。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51または可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定基板51、接合膜53、及び可動基板52の積層方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。
(固定基板の構成)
固定基板51には、エッチングにより電極配置溝511および反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561および可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
また、固定基板51の頂点C1には、切欠部514が形成されており、波長可変干渉フィルター5の固定基板51側に、後述する可動電極パッド564Pが露出する。
固定基板51には、エッチングにより電極配置溝511および反射膜設置部512が形成されている。この固定基板51は、可動基板52に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極561および可動電極562間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極561の内部応力による固定基板51の撓みはない。
また、固定基板51の頂点C1には、切欠部514が形成されており、波長可変干渉フィルター5の固定基板51側に、後述する可動電極パッド564Pが露出する。
電極配置溝511は、フィルター平面視で、固定基板51の平面中心点Oを中心とした環状に形成されている。反射膜設置部512は、前記平面視において、電極配置溝511の中心部から可動基板52側に突出して形成されている。この電極配置溝511の溝底面は、固定電極561が配置される電極設置面511Aとなる。また、反射膜設置部512の突出先端面は、反射膜設置面512Aとなる。
また、固定基板51には、電極配置溝511から、固定基板51の外周縁の頂点C1,頂点C2に向かって延出する電極引出溝511Bが設けられている。
また、固定基板51には、電極配置溝511から、固定基板51の外周縁の頂点C1,頂点C2に向かって延出する電極引出溝511Bが設けられている。
電極配置溝511の電極設置面511Aには、固定電極561が設けられている。より具体的には、固定電極561は、電極設置面511Aのうち、後述する可動部521の可動電極562に対向する領域に設けられている。また、固定電極561上に、固定電極561及び可動電極562の間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定基板51には、固定電極561の外周縁から、頂点C2方向に延出する固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563の延出先端部(固定基板51の頂点C2に位置する部分)は、回路基板124に接続される固定電極パッド563Pを構成する。
なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。
そして、固定基板51には、固定電極561の外周縁から、頂点C2方向に延出する固定引出電極563が設けられている。この固定引出電極563の延出先端部(固定基板51の頂点C2に位置する部分)は、回路基板124に接続される固定電極パッド563Pを構成する。
なお、本実施形態では、電極設置面511Aに1つの固定電極561が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Oを中心とした同心円となる2つの電極が設けられる構成(二重電極構成)などとしてもよい。
反射膜設置部512は、上述したように、電極配置溝511と同軸上で、電極配置溝511よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、当該反射膜設置部512の可動基板52に対向する反射膜設置面512Aを備えている。
この反射膜設置部512には、図4に示すように、固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をTiO2、低屈折層をSiO2とした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜(又は合金膜)を積層した反射膜や、金属膜(又は合金膜)上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層(TiO2やSiO2等)と金属膜(又は合金膜)とを積層した反射膜などを用いてもよい。
この反射膜設置部512には、図4に示すように、固定反射膜54が設置されている。この固定反射膜54としては、例えばAg等の金属膜や、Ag合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をTiO2、低屈折層をSiO2とした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜(又は合金膜)を積層した反射膜や、金属膜(又は合金膜)上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層(TiO2やSiO2等)と金属膜(又は合金膜)とを積層した反射膜などを用いてもよい。
また、固定基板51の光入射面(固定反射膜54が設けられない面)には、固定反射膜54に対応する位置に反射防止膜を形成してもよい。この反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、固定基板51の表面での光の反射率を低下させ、透過率を増大させる。
そして、固定基板51の可動基板52に対向する面のうち、エッチングにより、電極配置溝511、反射膜設置部512、及び電極引出溝511Bが形成されない面は、第一接合部513を構成する。この第一接合部513には、第一接合膜531が設けられ、この第一接合膜531が、可動基板52に設けられた第二接合膜532に接合されることで、上述したように、固定基板51及び可動基板52が接合される。
(可動基板の構成)
可動基板52は、図3に示すようなフィルター平面視において、平面中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521と同軸であり可動部521を保持する保持部522と、保持部522の外側に設けられた基板外周部525と、を備えている。
また、可動基板52には、図3に示すように、頂点C2に対応して、切欠部524が形成されており、波長可変干渉フィルター5を可動基板52側から見た際に、固定電極パッド563Pが露出する。
可動基板52は、図3に示すようなフィルター平面視において、平面中心点Oを中心とした円形状の可動部521と、可動部521と同軸であり可動部521を保持する保持部522と、保持部522の外側に設けられた基板外周部525と、を備えている。
また、可動基板52には、図3に示すように、頂点C2に対応して、切欠部524が形成されており、波長可変干渉フィルター5を可動基板52側から見た際に、固定電極パッド563Pが露出する。
可動部521は、保持部522よりも厚み寸法が大きく形成され、例えば、本実施形態では、可動基板52の厚み寸法と同一寸法に形成されている。この可動部521は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置面512Aの外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。そして、この可動部521には、可動電極562及び可動反射膜55が設けられている。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
なお、固定基板51と同様に、可動部521の固定基板51とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜および高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板52の表面での光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
可動電極562は、電極間ギャップG2を介して固定電極561に対向し、固定電極561と同一形状となる環状に形成されている。また、可動基板52には、可動電極562の外周縁から可動基板52の頂点C1に向かって延出する可動引出電極564を備えている。この可動引出電極564の延出先端部(可動基板52の頂点C1に位置する部分)は、回路基板124に接続される可動電極パッド564Pを構成する。
可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54と反射膜間ギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、電極間ギャップG2のギャップ量が反射膜間ギャップG1のギャップ量よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、反射膜間ギャップG1のギャップ量が、電極間ギャップG2のギャップ量よりも大きくなる構成としてもよい。
可動反射膜55は、可動部521の可動面521Aの中心部に、固定反射膜54と反射膜間ギャップG1を介して対向して設けられる。この可動反射膜55としては、上述した固定反射膜54と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、電極間ギャップG2のギャップ量が反射膜間ギャップG1のギャップ量よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、反射膜間ギャップG1のギャップ量が、電極間ギャップG2のギャップ量よりも大きくなる構成としてもよい。
保持部522は、可動部521の周囲を囲うダイアフラムであり、可動部521よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部522は、可動部521よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。この際、可動部521が保持部522よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部522が静電引力により固定基板51側に引っ張られた場合でも、可動部521の形状変化が起こらない。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも生じず、固定反射膜54及び可動反射膜55を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部522を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Oを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
基板外周部525は、上述したように、フィルター平面視において保持部522の外側に設けられている。この基板外周部525の固定基板51に対向する面は、第一接合部513に対向する第二接合部523を備えている。そして、この第二接合部523には、第二接合膜532が設けられ、上述したように、第二接合膜532が第一接合膜531に接合されることで、固定基板51及び可動基板52が接合されている。
(回路基板の構成)
回路基板124は、撮像素子123を備えている。また、回路基板124には、波長可変干渉フィルター5の各電極パッド563P,564Pに接続される電圧制御回路、光源部122を制御する光源制御回路、操作部13からの入力信号を受け付ける入力回路、ディスプレイを制御する表示制御回路等の各種回路を備える。さらに、回路基板124は、例えばCPU等により構成される演算回路や、メモリー等により構成される記憶回路を備えている。
記憶回路には、例えば、波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に印加する駆動電圧に対する、当該波長可変干渉フィルター5を透過する光の波長の関係を示すV−λデータが記憶される。また、記憶回路には、分光カメラを制御するための各種プログラムが記憶されている。そして、演算回路は、これらの各種プログラムが読み出し、実行することで、分光画像を取得する。
そして、回路基板124には、撮像素子123が一体的に設けられており、回路基板124と、波長可変干渉フィルター5と、光入射部121とをアライメント調整することで、撮像素子123、波長可変干渉フィルター5、及び光入射部121に設けられた入射角制限手段であるテレセントリック光学系のアライメントが調整される。
回路基板124は、撮像素子123を備えている。また、回路基板124には、波長可変干渉フィルター5の各電極パッド563P,564Pに接続される電圧制御回路、光源部122を制御する光源制御回路、操作部13からの入力信号を受け付ける入力回路、ディスプレイを制御する表示制御回路等の各種回路を備える。さらに、回路基板124は、例えばCPU等により構成される演算回路や、メモリー等により構成される記憶回路を備えている。
記憶回路には、例えば、波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に印加する駆動電圧に対する、当該波長可変干渉フィルター5を透過する光の波長の関係を示すV−λデータが記憶される。また、記憶回路には、分光カメラを制御するための各種プログラムが記憶されている。そして、演算回路は、これらの各種プログラムが読み出し、実行することで、分光画像を取得する。
そして、回路基板124には、撮像素子123が一体的に設けられており、回路基板124と、波長可変干渉フィルター5と、光入射部121とをアライメント調整することで、撮像素子123、波長可変干渉フィルター5、及び光入射部121に設けられた入射角制限手段であるテレセントリック光学系のアライメントが調整される。
(光入射部、波長可変干渉フィルター、及び撮像素子のアライメント調整)
図5は、本実施形態におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。
図6は、本実施形態におけるアライメント調整方法を説明するための図である。
本実施形態の分光カメラ10では、上述したように、回路基板124と、波長可変干渉フィルター5と、光入射部121とをアライメント調整し、各構成の理想中心軸を一致させる。
図5は、本実施形態におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。
図6は、本実施形態におけるアライメント調整方法を説明するための図である。
本実施形態の分光カメラ10では、上述したように、回路基板124と、波長可変干渉フィルター5と、光入射部121とをアライメント調整し、各構成の理想中心軸を一致させる。
具体的には、図5に示すように、まず、光入射部121を製造する光入射部製造工程S1、波長可変干渉フィルター5を製造するフィルター製造工程S2、及び回路基板124を製造する回路基板形成工程S3をそれぞれ実施する。
光入射部製造工程S1では、上述したような光入射部121を製造するとともに、図6に示すように、製造された光入射部121に例えば4つの第一アライメントマーク121Mを形成する。この第一アライメントマーク121Mは、例えば、テレセントリック光学系の光軸(各レンズ121Lnの機械的中心軸)を示すためのマークである。これらの第一アライメントマーク121Mが設けられる平面上で、第一アライメントマーク121Mからの距離が等距離となる点は、機械的中心軸を通る機械的中心点121A(図8参照)となる。この第一アライメントマーク121Mは、例えば、光入射部121の製造時において例えば塗装等により設けられてもよく、光入射部121の構成の一部(例えば、固定ネジ穴等)を第一アライメントマーク121Mとしてもよい。なお、4つの第一アライメントマーク121Mを設ける例を示すが、これに限定されない。例えば、3つ以上の第一アライメントマーク121Mにより機械的中心軸が示される構成であってもよく、5つ以上の第一アライメントマーク121Mを設けてもよい。
光入射部製造工程S1では、上述したような光入射部121を製造するとともに、図6に示すように、製造された光入射部121に例えば4つの第一アライメントマーク121Mを形成する。この第一アライメントマーク121Mは、例えば、テレセントリック光学系の光軸(各レンズ121Lnの機械的中心軸)を示すためのマークである。これらの第一アライメントマーク121Mが設けられる平面上で、第一アライメントマーク121Mからの距離が等距離となる点は、機械的中心軸を通る機械的中心点121A(図8参照)となる。この第一アライメントマーク121Mは、例えば、光入射部121の製造時において例えば塗装等により設けられてもよく、光入射部121の構成の一部(例えば、固定ネジ穴等)を第一アライメントマーク121Mとしてもよい。なお、4つの第一アライメントマーク121Mを設ける例を示すが、これに限定されない。例えば、3つ以上の第一アライメントマーク121Mにより機械的中心軸が示される構成であってもよく、5つ以上の第一アライメントマーク121Mを設けてもよい。
また、フィルター製造工程S2では、上述したような波長可変干渉フィルター5を製造するとともに、図6に示すような4つの第二アライメントマーク5Mを形成する。この第二アライメントマーク5Mは、波長可変干渉フィルター5における反射膜54、55の中心点(フィルター中心点O)を通る機械的中心軸を示すマークである。これらの第二アライメントマーク5Mが配置される平面上において、第二アライメントマーク5Mからの距離が等距離となる点は、機械的中心点5A(図7、図8参照)となる。
また、第二アライメントマーク5Mとしては、例えば波長可変干渉フィルター5の固定基板51や可動基板52の4角部であってもよく、電極パッド563P,564P等の電極の一部であってもよく、その他、波長可変干渉フィルター5の他の構成部材であってもよい。また、波長可変干渉フィルター5上に、例えば塗装等によって第二アライメントマーク5Mを設ける構成としてもよい。
なお、本実施形態では、波長可変干渉フィルター5を直接回路基板124に接合する例を示すが、例えば内部が真空に保たれた筐体に波長可変干渉フィルター5を収納してもよい。この場合、第二アライメントマーク5Mを、波長可変干渉フィルター5を収納する筐体上に設けてもよい。
また、上記光入射部121の第一アライメントマーク121Mと同様、3つの第二アライメントマーク5Mが設けられる構成としてもよく、5つ以上の第二アライメントマーク5Mが設けられる構成としてもよい。
また、第二アライメントマーク5Mとしては、例えば波長可変干渉フィルター5の固定基板51や可動基板52の4角部であってもよく、電極パッド563P,564P等の電極の一部であってもよく、その他、波長可変干渉フィルター5の他の構成部材であってもよい。また、波長可変干渉フィルター5上に、例えば塗装等によって第二アライメントマーク5Mを設ける構成としてもよい。
なお、本実施形態では、波長可変干渉フィルター5を直接回路基板124に接合する例を示すが、例えば内部が真空に保たれた筐体に波長可変干渉フィルター5を収納してもよい。この場合、第二アライメントマーク5Mを、波長可変干渉フィルター5を収納する筐体上に設けてもよい。
また、上記光入射部121の第一アライメントマーク121Mと同様、3つの第二アライメントマーク5Mが設けられる構成としてもよく、5つ以上の第二アライメントマーク5Mが設けられる構成としてもよい。
また、回路基板形成工程S3では、上述したような撮像素子123が設けられた回路基板124を形成するとともに、図6に示すような第三アライメントマーク124Mを形成する。この第三アライメントマーク124Mは、撮像素子123の機械的中心軸を示すマークであり、これらの第三アライメントマーク124Mが配置される平面において第三アライメントマーク124Mから等距離となる点が撮像素子123の機械的中心点123A(図7参照)となる。また、第三アライメントマーク124Mとしては、例えば、回路基板124の製造時において例えば塗装等により設けられてもよく、回路基板124を構成する一部(例えば、回路基板124上の固定ネジ穴や、所定の回路チップ等)を第三アライメントマーク124Mとしてもよい。
また、第一アライメントマーク121M、第二アライメントマーク5Mと同様、3つの第三アライメントマーク124Mが設けられる構成としてもよく、5つ以上の第三アライメントマーク124Mが設けられる構成としてもよい。
また、第一アライメントマーク121M、第二アライメントマーク5Mと同様、3つの第三アライメントマーク124Mが設けられる構成としてもよく、5つ以上の第三アライメントマーク124Mが設けられる構成としてもよい。
上記のような各工程S1〜S3の後、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123の理想中心軸を測定し、上記した各機械的中心軸とのずれ量、及びずれの方向を示す回転角を算出する工程(光入射部測定工程S4、フィルター測定工程S5、回路基板測定工程S6)を実施する。
光入射部121は、テレセントリック光学系により導かれる光の入射角度を所定の設定角度(理想角度)以下に制限する理想中心点121B、及び当該理想中心点121B(図8参照)を通る理想中心軸(第一理想中心軸)を有する。ここで、理想中心点121Bは、第一アライメントマーク121Mは配置される平面と第一理想中心軸との交点とする。
光入射部測定工程S4では、光入射部製造工程S1によりされた個々の光入射部121に対して、それぞれ、これらの理想中心点121B及び理想中心軸を測定する。そして、光入射部121の機械的中心点121Aと理想中心点121Bとのずれ量、回転角を第一調整量として測定する。
光入射部測定工程S4では、光入射部製造工程S1によりされた個々の光入射部121に対して、それぞれ、これらの理想中心点121B及び理想中心軸を測定する。そして、光入射部121の機械的中心点121Aと理想中心点121Bとのずれ量、回転角を第一調整量として測定する。
また、波長可変干渉フィルター5は、可動部521を固定基板51側に変位させた際に、透過波長域の中心波長の光が通過する理想中心点5B(図7,図8参照)を有し、この理想中心点5Bを通る理想中心軸(第二理想中心軸)を有する。ここで、理想中心点5Bは、第二アライメントマーク5Mが配置される平面と第二理想中心軸との交点とする。
この理想中心点5Bは、波長可変干渉フィルター5を制御するためのV−λデータを設定する際の測定点となり、静電アクチュエーター56に印加する電圧Vと理想中心点5Bを透過した光の波長との関係が上述したV−λデータに記憶される。
フィルター測定工程S5では、フィルター製造工程S2によりされた個々の波長可変干渉フィルター5に対して、それぞれ、これらの理想中心点5B及び理想中心軸を測定する。そして、波長可変干渉フィルター5の機械的中心点5Aと理想中心点5Bとのずれ量、回転角を第二調整量として測定する。
この理想中心点5Bは、波長可変干渉フィルター5を制御するためのV−λデータを設定する際の測定点となり、静電アクチュエーター56に印加する電圧Vと理想中心点5Bを透過した光の波長との関係が上述したV−λデータに記憶される。
フィルター測定工程S5では、フィルター製造工程S2によりされた個々の波長可変干渉フィルター5に対して、それぞれ、これらの理想中心点5B及び理想中心軸を測定する。そして、波長可変干渉フィルター5の機械的中心点5Aと理想中心点5Bとのずれ量、回転角を第二調整量として測定する。
撮像素子123においても同様であり、受光時の光量が最大となる理想中心点123B(図7参照)、及び当該理想中心点123Bを通る理想中心軸(第三理想中心軸)を有する。
回路基板測定工程S6では、回路基板形成工程S3によりされた個々の回路基板124に対して、それぞれ、これらの理想中心点123B及び理想中心軸を測定する。そして、光入射部121の機械的中心点121Aと理想中心点121Bとのずれ量、回転角を第三調整量として測定する。
なお、撮像素子123に関しては、機械的中心点123A及び理想中心点123Bを高精度に一致させた素子を製造可能であるため、回路基板測定工程S6を省略してもよい。この場合、第三調整量はずれ量及び回転角ともに「0」となる。
回路基板測定工程S6では、回路基板形成工程S3によりされた個々の回路基板124に対して、それぞれ、これらの理想中心点123B及び理想中心軸を測定する。そして、光入射部121の機械的中心点121Aと理想中心点121Bとのずれ量、回転角を第三調整量として測定する。
なお、撮像素子123に関しては、機械的中心点123A及び理想中心点123Bを高精度に一致させた素子を製造可能であるため、回路基板測定工程S6を省略してもよい。この場合、第三調整量はずれ量及び回転角ともに「0」となる。
この後アライメント調整及び固定工程を実施する。
この工程では、まず、第二アライメントマーク5M,124Mにより、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124をアライメント調整する(第一アライメント工程S7)。
図7は、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124のアライメント調整を示す概略図である。図7において、波長可変干渉フィルター5に対して測定された第二調整量のずれ量をFr、回転角をFθ、回路基板124に対して測定された第三調整量のずれ量をCr、回転角をCθとする。
この第一アライメント工程S7では、波長可変干渉フィルター5の各第二アライメントマーク5Mを回転角Fθ回転させ、ずれ量Frだけ移動した点を位置合せ点Fpとし、回路基板124の各第三アライメントマーク124Mを回転角Cθの方向だけ回転させ、ずれ量Crだけ移動した点を位置合せ点Cpとして、これらの位置合わせ点Fp,Cpを合わせるように、アライメント調整を実施する。
また、回路基板測定工程S6において、理想中心軸にずれがないとした場合(第三調整量が「0」)では、波長可変干渉フィルター5において、各第二アライメントマーク5Mを第二調整量だけ移動させた位置Fpを、回路基板124の第三アライメントマーク124Mに合わせる。
この工程では、まず、第二アライメントマーク5M,124Mにより、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124をアライメント調整する(第一アライメント工程S7)。
図7は、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124のアライメント調整を示す概略図である。図7において、波長可変干渉フィルター5に対して測定された第二調整量のずれ量をFr、回転角をFθ、回路基板124に対して測定された第三調整量のずれ量をCr、回転角をCθとする。
この第一アライメント工程S7では、波長可変干渉フィルター5の各第二アライメントマーク5Mを回転角Fθ回転させ、ずれ量Frだけ移動した点を位置合せ点Fpとし、回路基板124の各第三アライメントマーク124Mを回転角Cθの方向だけ回転させ、ずれ量Crだけ移動した点を位置合せ点Cpとして、これらの位置合わせ点Fp,Cpを合わせるように、アライメント調整を実施する。
また、回路基板測定工程S6において、理想中心軸にずれがないとした場合(第三調整量が「0」)では、波長可変干渉フィルター5において、各第二アライメントマーク5Mを第二調整量だけ移動させた位置Fpを、回路基板124の第三アライメントマーク124Mに合わせる。
この後、回路基板124と波長可変干渉フィルター5を接合する(第一接合工程S8)。
この接合方法としては、例えば、Agペースト等による接合、接着剤を用いた接着等、いかなる手段を用いてもよい。
この接合方法としては、例えば、Agペースト等による接合、接着剤を用いた接着等、いかなる手段を用いてもよい。
次に、第二アライメントマーク5M,121Mにより波長可変干渉フィルター5及び光入射部121(テレセントリック光学系)をアライメント調整する(第二アライメント工程S9)。
図8は、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121のアライメント調整を示す概略図である。図8において、光入射部121に対して測定された第一調整量のずれ量をIr、回転角をIθとする。
第二アライメント工程S9では、図8に示すように、波長可変干渉フィルター5の各第二アライメントマーク5Mを第二調整量だけ移動させた位置合わせ点Fpと、光入射部121の各第一アライメントマーク121Mを回転角Iθ回転させ、ずれ量Irだけ移動した位置合わせ点Ipと、を位置合わせする。
そして、光入射部121に設けられた固定孔121Tを、回路基板124に設けられた固定孔124T1に対して例えばビス止め等により固定する(第一固定工程S10)。
図8は、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121のアライメント調整を示す概略図である。図8において、光入射部121に対して測定された第一調整量のずれ量をIr、回転角をIθとする。
第二アライメント工程S9では、図8に示すように、波長可変干渉フィルター5の各第二アライメントマーク5Mを第二調整量だけ移動させた位置合わせ点Fpと、光入射部121の各第一アライメントマーク121Mを回転角Iθ回転させ、ずれ量Irだけ移動した位置合わせ点Ipと、を位置合わせする。
そして、光入射部121に設けられた固定孔121Tを、回路基板124に設けられた固定孔124T1に対して例えばビス止め等により固定する(第一固定工程S10)。
この後、筐体11に設けられた固定孔11Tに対して、回路基板124に設けられた固定孔124T2を例えばビス止め等により固定する(取付工程S11)。
以上により、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123(回路基板124)のアライメントが調整され、各構成部材が筐体11に対して固定される。
以上により、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123(回路基板124)のアライメントが調整され、各構成部材が筐体11に対して固定される。
[第一実施形態の作用効果]
本実施形態の分光カメラ10では、入射角制限手段であるテレセントリック光学系を構成する複数のレンズ121Lnの機械的中心点121Aと、当該テレセントリック光学系の理想中心点121Bとのずれ量Ir及び回転角Iθである第一調整量を予め測定する。同様に、波長可変干渉フィルター5の機械的中心点5Aと理想中心点5Bとのずれ量Fr及び回転角Fθである第二調整量を予め測定する。同様に、撮像素子123の機械的中心点123Aと理想中心点123Bとのずれ量Cr及び回転角Cθである第三調整量を予め測定する。
また、光入射部121は、機械的中心点121Aを示す第一アライメントマーク121Mを備え、波長可変干渉フィルター5は、機械的中心点5Aを示す第二アライメントマーク5Mを備え、回路基板124は、機械的中心点123Aを示す第三アライメントマーク124Mを備えている。
そして、第一アライメント工程S7において、波長可変干渉フィルター5の第二アライメントマーク5Mから、第二調整量だけ移動させた位置合わせ点Fpと、回路基板124の第三アライメントマーク124Mから第三調整量だけ移動させた位置合わせ点Cpとの位置を合わせてアライメント調整を実施する。第二アライメント工程S9では、波長可変干渉フィルター5の位置合わせ点Fpと、光入射部121の第一アライメントマーク121Mから第一調整量だけ移動させた位置合わせ点Ipとの位置を合わせてアライメント調整を実施する。
以上のような分光カメラでは、光入射部121の入射角制限手段を構成するテレセントリック光学系の理想中心点121Bを通る第一理想中心軸と、波長可変干渉フィルター5の理想中心点5Bを通る第二理想中心軸と、撮像素子123の理想中心点123Bを通る第三理想中心軸とを一致させることができる。したがって、機械的中心点のみにより光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123のアライメントを調整する場合に比べて、取得する分光画像の中心画素近傍において、測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を取得することができる。
本実施形態の分光カメラ10では、入射角制限手段であるテレセントリック光学系を構成する複数のレンズ121Lnの機械的中心点121Aと、当該テレセントリック光学系の理想中心点121Bとのずれ量Ir及び回転角Iθである第一調整量を予め測定する。同様に、波長可変干渉フィルター5の機械的中心点5Aと理想中心点5Bとのずれ量Fr及び回転角Fθである第二調整量を予め測定する。同様に、撮像素子123の機械的中心点123Aと理想中心点123Bとのずれ量Cr及び回転角Cθである第三調整量を予め測定する。
また、光入射部121は、機械的中心点121Aを示す第一アライメントマーク121Mを備え、波長可変干渉フィルター5は、機械的中心点5Aを示す第二アライメントマーク5Mを備え、回路基板124は、機械的中心点123Aを示す第三アライメントマーク124Mを備えている。
そして、第一アライメント工程S7において、波長可変干渉フィルター5の第二アライメントマーク5Mから、第二調整量だけ移動させた位置合わせ点Fpと、回路基板124の第三アライメントマーク124Mから第三調整量だけ移動させた位置合わせ点Cpとの位置を合わせてアライメント調整を実施する。第二アライメント工程S9では、波長可変干渉フィルター5の位置合わせ点Fpと、光入射部121の第一アライメントマーク121Mから第一調整量だけ移動させた位置合わせ点Ipとの位置を合わせてアライメント調整を実施する。
以上のような分光カメラでは、光入射部121の入射角制限手段を構成するテレセントリック光学系の理想中心点121Bを通る第一理想中心軸と、波長可変干渉フィルター5の理想中心点5Bを通る第二理想中心軸と、撮像素子123の理想中心点123Bを通る第三理想中心軸とを一致させることができる。したがって、機械的中心点のみにより光入射部121、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123のアライメントを調整する場合に比べて、取得する分光画像の中心画素近傍において、測定精度を向上させることができ、高精度な分光画像を取得することができる。
本実施形態では、分光素子として波長可変型のファブリーペローエタロンである波長可変干渉フィルター5を用いている。このような波長可変干渉フィルター5は、反射膜54,55間のギャップG1の寸法を静電アクチュエーター56により変化させることで、複数の波長に対応した分光画像を容易に取得することができる。
また、例えばAOTFやLCTF等のような大型の分光素子を用いる場合に比べて、小型化が可能となり、分光カメラ10の小型化を促進できる。
また、例えばAOTFやLCTF等のような大型の分光素子を用いる場合に比べて、小型化が可能となり、分光カメラ10の小型化を促進できる。
[第一実施形態の第一変形例]
上記第一実施形態では、第一アライメント工程S7により、波長可変干渉フィルター5と回路基板124とのアライメント調整及び接合を行った後、第二アライメント工程S9により、波長可変干渉フィルター5と光入射部121とのアライメント調整、光入射部121の回路基板124への固定を行ったが、これに限定されない。
図9は、本変形例におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。なお、以降の説明にあたり、既に説明した構成、及び工程については同一符号を付し、その説明を省略または簡略化する。
本変形例では、工程S1〜S6を実施した後、第一実施形態の第二アライメント工程S9を実施し、波長可変干渉フィルター5と光入射部121のアライメント調整を実施する。
この後、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121を接合する(第二接合工程S12)。接合方法は、第一接合工程S8と同様、接着剤等による接合方法等が例示できる。
上記第一実施形態では、第一アライメント工程S7により、波長可変干渉フィルター5と回路基板124とのアライメント調整及び接合を行った後、第二アライメント工程S9により、波長可変干渉フィルター5と光入射部121とのアライメント調整、光入射部121の回路基板124への固定を行ったが、これに限定されない。
図9は、本変形例におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。なお、以降の説明にあたり、既に説明した構成、及び工程については同一符号を付し、その説明を省略または簡略化する。
本変形例では、工程S1〜S6を実施した後、第一実施形態の第二アライメント工程S9を実施し、波長可変干渉フィルター5と光入射部121のアライメント調整を実施する。
この後、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121を接合する(第二接合工程S12)。接合方法は、第一接合工程S8と同様、接着剤等による接合方法等が例示できる。
次に、上記第一実施形態における第一アライメント工程S7を実施し、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124(撮像素子123)のアライメント調整を実施する。
この後、第一固定工程S10を実施して、光入射部121に設けられた固定孔121Tを、回路基板124に設けられた固定孔124T1に対して例えばビス止め等により固定する。
この後、取付工程S11を実施する。
この後、第一固定工程S10を実施して、光入射部121に設けられた固定孔121Tを、回路基板124に設けられた固定孔124T1に対して例えばビス止め等により固定する。
この後、取付工程S11を実施する。
上記のような方法を用いても、第一アライメント工程S7及び第二アライメント工程S9を実施することで、光入射部121の入射角制限手段を構成するテレセントリック光学系、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123の理想中心点が一軸上に揃うことになり、高精度な分光画像を取得することができる。
[第一実施形態の第二変形例]
上記第一実施形態及び第一変形例では、光入射部121及び回路基板124を、光入射部121の固定孔121Tと、回路基板124の固定孔124T1とをビス止め等により固定する例を示した。
これに対して、図10及び図11に示すように、光入射部121を筐体11に設けられた固定孔11T2に固定する構成としてもよい。
図10は、第一実施形態の第二変形例におけるアライメント調整方法を説明するための図である。図11は、本変形例におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。
上記第一実施形態及び第一変形例では、光入射部121及び回路基板124を、光入射部121の固定孔121Tと、回路基板124の固定孔124T1とをビス止め等により固定する例を示した。
これに対して、図10及び図11に示すように、光入射部121を筐体11に設けられた固定孔11T2に固定する構成としてもよい。
図10は、第一実施形態の第二変形例におけるアライメント調整方法を説明するための図である。図11は、本変形例におけるアライメント調整方法を示すフローチャートである。
この場合、第一実施形態と同様に、工程S1〜S6を実施する。この後、第一実施形態と同様に、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8を実施し、アライメントマーク5M,124Mと、第二調整量及び第三調整量を用いて、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124をアライメント調整し、これらを接合する。
この後、図11に示すように、取付工程S11を実施し、回路基板124の固定孔124T1を筐体11の固定孔11T1に対して固定する。
この後、図11に示すように、取付工程S11を実施し、回路基板124の固定孔124T1を筐体11の固定孔11T1に対して固定する。
次に、第二アライメント工程S9を実施して、第一実施形態と同様に、アライメントマーク5M,121Mと、第一調整量及び第二調整量とを用いて、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121をアライメント調整する。
この後、本変形例では、光入射部121の固定孔121Tを筐体11の固定孔11T2に対して固定する(第二固定工程S13)。
この後、本変形例では、光入射部121の固定孔121Tを筐体11の固定孔11T2に対して固定する(第二固定工程S13)。
上記のような方法を用いても、第一アライメント工程S7及び第二アライメント工程S9を実施することで、光入射部121の入射角制限手段を構成するテレセントリック光学系、波長可変干渉フィルター5、及び撮像素子123の理想中心点が一軸上に揃うことになり、高精度な分光画像を取得することができる。
なお、第二変形例において、第一変形例と同様に、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8の代わりに、第二アライメント工程S9及び第二接合工程S12を実施し、波長可変干渉フィルター5と光入射部121とを接合してもよい。
この場合は、第二接合工程S12の後、取付工程S11を実施する。そして、第一アライメント工程S7を実施して、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124のアライメント調整を実施し、その後、第二固定工程S13により光入射部121を筐体11に固定する。
この場合は、第二接合工程S12の後、取付工程S11を実施する。そして、第一アライメント工程S7を実施して、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124のアライメント調整を実施し、その後、第二固定工程S13により光入射部121を筐体11に固定する。
[第一実施形態の第三変形例]
上記第一実施形態、第一変形例、及び第二変形例では、光入射部121の固定孔121Tを回路基板124の固定孔124T1、又は筐体11の固定孔11T2に対してビス止め等により固定する例を示したがこれに限定されない。
図12は、第一実施形態の第三変形例におけるアライメント調整方法を説明するための図である。
図13は、第一実施形態の第三変形例におけるアライメント調整方法のフローチャートである。
上記第一実施形態、第一変形例、及び第二変形例では、光入射部121の固定孔121Tを回路基板124の固定孔124T1、又は筐体11の固定孔11T2に対してビス止め等により固定する例を示したがこれに限定されない。
図12は、第一実施形態の第三変形例におけるアライメント調整方法を説明するための図である。
図13は、第一実施形態の第三変形例におけるアライメント調整方法のフローチャートである。
本変形例では、図12に示すように、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121を、それぞれ、接着剤等により接合する。
この場合、図13に示すように、まず、第一実施形態と同様に、工程S1〜S6を実施する。
この後、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8を実施して、第一実施形態と同様に、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124をアライメント調整し、これらを接合する。
次に、第二アライメント工程S9を実施して、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121をアライメント調整する。
この後、第一変形例における第二接合工程S12を実施し、光入射部121と波長可変干渉フィルター5を接合する。
そして、取付工程S11を実施し、回路基板124を筐体11に固定する。
この場合、図13に示すように、まず、第一実施形態と同様に、工程S1〜S6を実施する。
この後、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8を実施して、第一実施形態と同様に、波長可変干渉フィルター5及び回路基板124をアライメント調整し、これらを接合する。
次に、第二アライメント工程S9を実施して、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121をアライメント調整する。
この後、第一変形例における第二接合工程S12を実施し、光入射部121と波長可変干渉フィルター5を接合する。
そして、取付工程S11を実施し、回路基板124を筐体11に固定する。
なお、図13では、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12、及び取付工程S11の順で各工程を実施する例を示したが、これに限定されない。
例えば、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8、及び取付工程S11の順で各工程を実施してもよい。
また、取付工程S11を実施して、筐体11に回路基板124を固定した後、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8、第二アライメント工程S9、及び第二接合工程S12を順に実施してもよい。あるいは、取付工程S11を実施した後、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12、第一アライメント工程S7、及び第一接合工程S8を順に実施してもよい。
さらに、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8を実施した後、取付工程S11を実施し、その後、第二アライメント工程S9及び第二接合工程S12を実施してもよい。さらには、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12を実施した後、取付工程S11を実施し、その後、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8を実施してもよい。
例えば、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8、及び取付工程S11の順で各工程を実施してもよい。
また、取付工程S11を実施して、筐体11に回路基板124を固定した後、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8、第二アライメント工程S9、及び第二接合工程S12を順に実施してもよい。あるいは、取付工程S11を実施した後、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12、第一アライメント工程S7、及び第一接合工程S8を順に実施してもよい。
さらに、第一アライメント工程S7、第一接合工程S8を実施した後、取付工程S11を実施し、その後、第二アライメント工程S9及び第二接合工程S12を実施してもよい。さらには、第二アライメント工程S9、第二接合工程S12を実施した後、取付工程S11を実施し、その後、第一アライメント工程S7及び第一接合工程S8を実施してもよい。
[第二実施形態]
上述した第一実施形態では、光入射部121の光軸と波長可変干渉フィルター5の光軸とが平行であるとの前提でのアライメント調整方法、及び当該アライメント調整方法を用いて各構成が組み立てられた分光カメラ10について例示した。これに対して、第二実施形態では、さらに光入射部121の光軸と、波長可変干渉フィルター5の光軸とが平行とならない場合でも、これらの光軸を平行にすることが可能となる点で、上記第一実施形態と相違する。
上述した第一実施形態では、光入射部121の光軸と波長可変干渉フィルター5の光軸とが平行であるとの前提でのアライメント調整方法、及び当該アライメント調整方法を用いて各構成が組み立てられた分光カメラ10について例示した。これに対して、第二実施形態では、さらに光入射部121の光軸と、波長可変干渉フィルター5の光軸とが平行とならない場合でも、これらの光軸を平行にすることが可能となる点で、上記第一実施形態と相違する。
図14は、第二実施形態における光入射部の概略を示す平面図である。図15は、当該光入射部の取付構造の概略を示す側面図である。
本実施形態では、図14及び図15に示すように、光入射部121は、入射角制限手段131を保持する第一マウント部132と、第一マウント部132を保持する第二マウント部133とを備えている。
入射角制限手段131は、例えばテレセントリック光学系を構成する複数のレンズ121Lnにより構成されたレンズ群である。なお、入射角制限手段131としては、上述したように、例えばLCF等の視野角制限部材を用いてもよい。
本実施形態では、図14及び図15に示すように、光入射部121は、入射角制限手段131を保持する第一マウント部132と、第一マウント部132を保持する第二マウント部133とを備えている。
入射角制限手段131は、例えばテレセントリック光学系を構成する複数のレンズ121Lnにより構成されたレンズ群である。なお、入射角制限手段131としては、上述したように、例えばLCF等の視野角制限部材を用いてもよい。
第一マウント部132は、図15に示すように、保持枠132Aと、第二マウント部133に対向する面に設けられる第一係合部132Bとを備えている。
保持枠132Aは、入射角制限手段131を保持する枠部材である。この保持枠132Aには、当該保持枠132Aに保持された入射角制限手段131の機械的中心点を示す第一アライメントマーク121Mが設けられている。
第一係合部132Bは、第二マウント部133側に凹形状となる凹球面状に形成されている。第一係合部132Bの球面における曲率中心点は、撮像素子123における理想中心点123Bとなる。また、第一係合部132Bの入射角制限手段131に対向する中心部には、入射角制限手段131を透過した光が通過する光通過孔が設けられる。
保持枠132Aは、入射角制限手段131を保持する枠部材である。この保持枠132Aには、当該保持枠132Aに保持された入射角制限手段131の機械的中心点を示す第一アライメントマーク121Mが設けられている。
第一係合部132Bは、第二マウント部133側に凹形状となる凹球面状に形成されている。第一係合部132Bの球面における曲率中心点は、撮像素子123における理想中心点123Bとなる。また、第一係合部132Bの入射角制限手段131に対向する中心部には、入射角制限手段131を透過した光が通過する光通過孔が設けられる。
第二マウント部133は、固定部133Aと、第一マウント部132に対向する面に設けられる第二係合部133Bとを備えている。
固定部133Aは、固定孔121Tを備え、例えば回路基板124の固定孔124T1に固定される。なお、第二変形例に示すように筐体11の固定孔11T2に固定されてもよい。
第二係合部133Bは、第一マウント部132側に凸形状となる凸球面状に形成されている。第二係合部133Bの球面における曲率中心点は、第一係合部132Bと同様、撮像素子123における理想中心点123Bとなる。
また、第二マウント部133の入射角制限手段131に対向する中心部には、入射角制限手段131を透過した光が通過する光通過孔が設けられる。
固定部133Aは、固定孔121Tを備え、例えば回路基板124の固定孔124T1に固定される。なお、第二変形例に示すように筐体11の固定孔11T2に固定されてもよい。
第二係合部133Bは、第一マウント部132側に凸形状となる凸球面状に形成されている。第二係合部133Bの球面における曲率中心点は、第一係合部132Bと同様、撮像素子123における理想中心点123Bとなる。
また、第二マウント部133の入射角制限手段131に対向する中心部には、入射角制限手段131を透過した光が通過する光通過孔が設けられる。
(光軸調整方法)
本実施形態では、上記第一実施形態と同様に、各工程S1〜S8を実施して、波長可変干渉フィルター5を回路基板124(撮像素子123)に対して接合する。
この後、第二アライメント工程S9において、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121のアライメント調整を実施するとともに、図14に示すように、第一マウント部132に設けられた第一アライメントマーク121Mと、第二マウント部133に設けられたアライメントマーク133Mとを合わせてアライメント調整を実施する。
この際、予め第一マウント部132に入射角制限手段131を保持させた状態で、当該保持枠132Aの枠平面方向に対する入射角制限手段131の傾斜角度αを測定しておく。
そして、第一係合部132Bの凹球面を、第二係合部133Bの凸球面に当接させるとともに、入射角制限手段131の光軸が第二マウント部133の固定部133Aに対して直交するようにアライメント調整を実施し、第一マウント部132を第二マウント部133に固定する。
この後、上記第一実施形態と同様に、光入射部121(入射角制限手段131)と波長可変干渉フィルター5のアライメント調整を実施して、第二マウント部133を固定する。
本実施形態では、上記第一実施形態と同様に、各工程S1〜S8を実施して、波長可変干渉フィルター5を回路基板124(撮像素子123)に対して接合する。
この後、第二アライメント工程S9において、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121のアライメント調整を実施するとともに、図14に示すように、第一マウント部132に設けられた第一アライメントマーク121Mと、第二マウント部133に設けられたアライメントマーク133Mとを合わせてアライメント調整を実施する。
この際、予め第一マウント部132に入射角制限手段131を保持させた状態で、当該保持枠132Aの枠平面方向に対する入射角制限手段131の傾斜角度αを測定しておく。
そして、第一係合部132Bの凹球面を、第二係合部133Bの凸球面に当接させるとともに、入射角制限手段131の光軸が第二マウント部133の固定部133Aに対して直交するようにアライメント調整を実施し、第一マウント部132を第二マウント部133に固定する。
この後、上記第一実施形態と同様に、光入射部121(入射角制限手段131)と波長可変干渉フィルター5のアライメント調整を実施して、第二マウント部133を固定する。
[第二実施形態の作用効果]
本実施形態では、入射角制限手段131を保持する第一マウント部132に、凹球面形状を有する第一係合部132Bが設けられ、第一マウント部132に対向して第一係合部132Bと係合可能な凸球面形状を有する第二係合部133Bが設けられている。そして、これらの係合部132B,133Bの曲率中心点が、撮像素子123の理想中心点123Bに位置するように、第二アライメント工程S9が実施される。したがって、第一マウント部132に保持された入射角制限手段131の光軸を、第二マウント部133の固定部133Aに直交するように第一係合部132B及び第二係合部133Bの相対位置を調整することで、入射角制限手段131の理想中心点121Bから入射した光が、撮像素子123の理想中心点123Bに結像するように傾斜角αを調整することができる。これにより、本実施形態では、入射光の光軸の傾斜角が調整可能となるように光入射部121が構成されているため、入射光の入射角のずれによる分光画像の精度低下を抑制できる。
本実施形態では、入射角制限手段131を保持する第一マウント部132に、凹球面形状を有する第一係合部132Bが設けられ、第一マウント部132に対向して第一係合部132Bと係合可能な凸球面形状を有する第二係合部133Bが設けられている。そして、これらの係合部132B,133Bの曲率中心点が、撮像素子123の理想中心点123Bに位置するように、第二アライメント工程S9が実施される。したがって、第一マウント部132に保持された入射角制限手段131の光軸を、第二マウント部133の固定部133Aに直交するように第一係合部132B及び第二係合部133Bの相対位置を調整することで、入射角制限手段131の理想中心点121Bから入射した光が、撮像素子123の理想中心点123Bに結像するように傾斜角αを調整することができる。これにより、本実施形態では、入射光の光軸の傾斜角が調整可能となるように光入射部121が構成されているため、入射光の入射角のずれによる分光画像の精度低下を抑制できる。
[他の実施形態]
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、上記実施形態では、分光カメラ10の例を示したが、その他、上述のような分光カメラ10を備えた成分分析装置等に利用できる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、上記実施形態では、分光カメラ10の例を示したが、その他、上述のような分光カメラ10を備えた成分分析装置等に利用できる。
上記実施形態では、入射角制限手段として、テレセントリック光学系を構成するレンズ121Lnを例示したがこれに限定されない。例えばLCF等、所定の入射角内で入射する光を透過させ、前記所定の入射角より大きい入射角の光を遮光する視野角制限フィルム(視野角制限板)を用いてもよい。この場合、視野角制限フィルムの機械的中心点を示すアライメントマークを設け、視野角制限フィルムの理想中心点と機械的中心点とのずれ量及び回転角を予め測定しておき、波長可変干渉フィルター5とのアライメント調整を実施する。
また、上記実施形態では、撮像素子123が回路基板124に組み込まれた状態で波長可変干渉フィルター5とのアライメント調整を実施する例を示したが、これに限定されない。撮像素子123が回路基板124に組み込まれていない状態で、撮像素子123に設けられたアライメントマークと、波長可変干渉フィルター5の第二アライメントマーク5Mを用いてアライメント調整を行い、波長可変干渉フィルター5及び撮像素子123を接合してもよい。この場合、波長可変干渉フィルター5が接合された撮像素子123を回路基板124に組み込めばよい。
上記各実施形態において、波長可変干渉フィルター5が筐体内に収納された状態で分光カメラ10に組み込まれる構成などとしてもよい。この場合、上述したように、筐体にアライメントマークを設ける構成としてもよい。また、筐体内を真空密閉することで、波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に電圧を印加した際の駆動応答性を向上させることができる。
上記実施形態において、第二アライメントマーク5M、第一アライメントマーク121M、第二調整量、及び第一調整量を用いて、波長可変干渉フィルター5と光入射部121とのアライメント調整を実施し、第二アライメントマーク5M、第三アライメントマーク124M、第二調整量、及び第三調整量を用いて、波長可変干渉フィルター5と撮像素子123とのアライメント調整を実施した。すなわち、波長可変干渉フィルター5を基準として、光入射部121及び撮像素子123のアライメント調整を実施した。これに対して、光入射部121や撮像素子123を基準として他の構成のアライメント調整を行ってもよい。
例えば、第一アライメントマーク121M、第二アライメントマーク5M、第一調整量、及び第二調整量を用いて、光入射部121と波長可変干渉フィルター5とのアライメント調整を実施し、第一アライメントマーク121M、第三アライメントマーク124M、第一調整量、及び第三調整量を用いて、光入射部121と撮像素子123とのアライメント調整を実施してもよい。このように、光入射部121を基準として、波長可変干渉フィルター5及び撮像素子123のアライメント調整を実施しても、上記各実施形態と同様に、光入射部121のテレセントリック光学系の理想中心点121Bを通る第一理想中心軸と、波長可変干渉フィルター5の理想中心点5Bを通る第二理想中心軸と、撮像素子123の理想中心点123Bを通る第三理想中心軸とを一致させることができる。
同様に、第三アライメントマーク124M、第二アライメントマーク5M、第三調整量、及び第二調整量を用いて、撮像素子123と波長可変干渉フィルター5とのアライメント調整を実施し、第三アライメントマーク124M、第一アライメントマーク121M、第三調整量、及び第一調整量を用いて、撮像素子123と光入射部121とのアライメント調整を実施してもよい。このように、撮像素子123を基準として、波長可変干渉フィルター5及び光入射部121のアライメント調整を実施しても、上記各実施形態と同様に、光入射部121のテレセントリック光学系の理想中心点121Bを通る第一理想中心軸と、波長可変干渉フィルター5の理想中心点5Bを通る第二理想中心軸と、撮像素子123の理想中心点123Bを通る第三理想中心軸とを一致させることができる。
上記第一実施形態では、波長可変干渉フィルター5を基準として、光入射部121及び撮像素子123の各理想中心軸を、波長可変干渉フィルター5の第二理想中心軸に一致させるようにアライメント調整を実施した。これに対し、さらに、光入射部121及び撮像素子123のアライメント調整をも実施してもよい。つまり、アライメントマーク121M,5M、第一調整量、及び第二調整量を用いた光入射部121と波長可変干渉フィルター5とのアライメント調整、アライメントマーク5M,124M、第二調整量、及び第三調整量を用いた波長可変干渉フィルター5と撮像素子123とのアライメント調整、アライメントマーク121M,124M、第一調整量、及び第三調整量を用いた光入射部121と撮像素子123のアライメント調整、の3つのアライメント調整を実施してもよい。この場合、第一理想中心軸、第二理想中心軸、第三理想中心軸をより高精度に一致させることができる。
上記実施形態では、アライメントマーク121M,5M,124Mは、それぞれ、光入射部121、波長可変干渉フィルター5、撮像素子123の機械的中心点121,5A,123Aを通る機械的中心軸を示すマークとしたが、これに限定されない。
例えば、第一アライメントマーク121Mとして、光入射部121における機械的中心軸とは異なる所定の第一軸(光軸と平行となる軸)を示すマークとしてもよい。この場合、光入射部測定工程S4では、第一軸と第一理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第一調整量として測定すればよい。
同様に、第二アライメントマーク5Mとして、波長可変干渉フィルター5における機械的中心軸とは異なる所定の第二軸を示すマークとしてもよい。この場合、フィルター測定工程S5では、第二軸と第二理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第二調整量として測定すればよい。
同様に、第三アライメントマーク124Mとして、撮像素子123における機械的中心軸とは異なる所定の第三軸(光軸と平行となる軸)を示すマークとしてもよい。この場合、回路基板測定工程S6では、第三軸と第三理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第三調整量として測定すればよい。
例えば、第一アライメントマーク121Mとして、光入射部121における機械的中心軸とは異なる所定の第一軸(光軸と平行となる軸)を示すマークとしてもよい。この場合、光入射部測定工程S4では、第一軸と第一理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第一調整量として測定すればよい。
同様に、第二アライメントマーク5Mとして、波長可変干渉フィルター5における機械的中心軸とは異なる所定の第二軸を示すマークとしてもよい。この場合、フィルター測定工程S5では、第二軸と第二理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第二調整量として測定すればよい。
同様に、第三アライメントマーク124Mとして、撮像素子123における機械的中心軸とは異なる所定の第三軸(光軸と平行となる軸)を示すマークとしてもよい。この場合、回路基板測定工程S6では、第三軸と第三理想的中心軸とのずれ量及び回転角を第三調整量として測定すればよい。
上記各実施形態において、波長可変干渉フィルター5は、電圧印加により反射膜54,55間のギャップ寸法を変動させる静電アクチュエーター56を備える構成としたが、これに限定されない。
例えば、固定電極561の代わりに、第一誘電コイルを配置し、可動電極562の代わりに第二誘電コイルまたは永久磁石を配置した誘電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。
更に、静電アクチュエーター56の代わりに圧電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。この場合、例えば保持部522に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませることができる。
例えば、固定電極561の代わりに、第一誘電コイルを配置し、可動電極562の代わりに第二誘電コイルまたは永久磁石を配置した誘電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。
更に、静電アクチュエーター56の代わりに圧電アクチュエーターを用いる構成としてもよい。この場合、例えば保持部522に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部522を撓ませることができる。
また、本実施形態では、ファブリーペローエタロンとして、固定基板51及び可動基板52が互いに対向する状態で接合され、固定基板51に固定反射膜54が設けられ、可動基板52に可動反射膜55が設けられる波長可変干渉フィルター5を例示したが、これに限らない。
例えば、固定基板51及び可動基板52が接合されておらず、これらの基板間に圧電素子等の反射膜間ギャップを変更するギャップ変更部が設けられる構成などとしてもよい。
また、2つ基板により構成される構成に限られない。例えば、1つの基板上に犠牲層を介して2つの反射膜を積層し、犠牲層をエッチング等により除去してギャップを形成した波長可変干渉フィルターを用いてもよい。
また、分光素子として、例えばAOTF(Acousto Optic Tunable Filter)やLCTF(Liquid Crystal Tunable Filter)が用いられてもよい。ただし、この場合、分光カメラ10の小型化が困難になる可能性もあるため、ファブリーペローエタロンを用いることが好ましい。
例えば、固定基板51及び可動基板52が接合されておらず、これらの基板間に圧電素子等の反射膜間ギャップを変更するギャップ変更部が設けられる構成などとしてもよい。
また、2つ基板により構成される構成に限られない。例えば、1つの基板上に犠牲層を介して2つの反射膜を積層し、犠牲層をエッチング等により除去してギャップを形成した波長可変干渉フィルターを用いてもよい。
また、分光素子として、例えばAOTF(Acousto Optic Tunable Filter)やLCTF(Liquid Crystal Tunable Filter)が用いられてもよい。ただし、この場合、分光カメラ10の小型化が困難になる可能性もあるため、ファブリーペローエタロンを用いることが好ましい。
さらに、上記各実施形態では、反射膜54,55間のギャップG1を変更することで、透過波長を変更可能な波長可変干渉フィルター5を例示したがこれに限定されない。例えば、波長固定側の干渉フィルター(ファブリーペローエタロン)であってもよい。
その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等に適宜変更できる。
5…波長可変干渉フィルター、5A…機械的中心点、5B…理想中心点、5M…第二アライメントマーク、10…分光カメラ、12…撮像モジュール、121…光入射部、121Ln…レンズ、121A…機械的中心点、121B…理想中心点、121M…第一アライメントマーク、123…撮像素子、123A…機械的中心点、123B…理想中心点、124…回路基板、124M…第三アライメントマーク。
Claims (8)
- 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、
前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、を備え、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、
前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、
前記入射角制限手段における前記機械的中心軸から、当該入射角制限手段の機械的中心軸と当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子の機械的中心軸と当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸とが一致している
ことを特徴とする分光カメラ。 - 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、
前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、
前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子と、を備え、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、
前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、
前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、
前記入射角制限手段における前記機械的中心軸から、当該入射角制限手段の前記機械的中心軸と当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子の前記機械的中心軸と当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸とが一致し、
前記撮像素子における前記機械的中心軸から、当該撮像素子における前記機械的中心軸と当該撮像素子において所定の理想感度で入射光を受光する位置を通る所定の第三理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、前記分光素子における前記機械的中心軸から、当該分光素子における前記機械的中心軸と前記第二理想中心軸とのずれ量及び回転角ずれた軸と、が一致している
ことを特徴とする分光カメラ。 - 請求項1または請求項2に記載の分光カメラにおいて、
前記分光素子は、入射した光の一部を反射し少なくとも一部を透過する第一反射膜と、前記第一反射膜に対向し、入射した光の一部を反射し少なくとも一部を透過する第二反射膜と、前記第一反射膜及び前記第二反射膜間のギャップ寸法を変更するギャップ変更部とを備えている
ことを特徴とする分光カメラ。 - 請求項2または請求項3に記載の分光カメラにおいて、
前記入射角制限手段を保持する第一マウント部と、前記第一マウント部が固定される第二マウント部とを備え、
前記第一マウント部には、凹球面を有する第一係合部が設けられ、
前記第二マウント部には、前記第一係合部の前記凹球面に当接する凸球面を有する第二係止部が設けられ、
前記凸球面及び前記凹球面の曲率中心点は、前記撮像素子と前記第三理想中心軸との交点である
ことを特徴とする分光カメラ。 - 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、
前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、
前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、
当該アライメント調整方法は、
前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、
前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、
前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、
前記第一調整量及び前記第二調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第二理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第二アライメントマークの相対位置を調整し、
前記第二調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第二理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第二アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整する
ことを特徴とするアライメント調整方法。 - 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、
前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、
前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、
当該アライメント調整方法は、
前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、
前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、
前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、
前記第一調整量及び前記第二調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第二理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第二アライメントマークの相対位置を調整し、
前記第一調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整する
ことを特徴とするアライメント調整方法。 - 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子、及び前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段、及び前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子を備えた分光カメラにおける前記分光素子、前記入射角制限手段、及び前記撮像素子のアライメント調整方法であって、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段の機械的中心軸を示す第一アライメントマークを有し、
前記分光素子は、当該分光素子の機械的中心軸を示す第二アライメントマークを有し、
前記撮像素子は、当該撮像素子の機械的中心軸を示す第三アライメントマークを有し、
当該アライメント調整方法は、
前記入射角制限手段の前記機械的中心軸と、当該入射角制限手段において理想角度で入射光を制限する位置を示す第一理想中心軸とのずれ量及び回転角である第一調整量を測定し、
前記分光素子の前記機械的中心軸と、当該分光素子において透過光のうち中心波長の光を透過する位置を示す第二理想中心軸とのずれ量及び回転角である第二調整量を測定し、
前記撮像素子の前記機械的中心軸と、当該撮像素子において所定の設定感度で入射光を受光する位置を示す第三理想中心軸とのずれ量及び回転角である第三調整量を測定し、
前記第一調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第一理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第一アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整し、
前記第二調整量及び前記第三調整量に応じて、前記第二理想中心軸と前記第三理想中心軸とが一致するように前記第二アライメントマーク及び前記第三アライメントマークの相対位置を調整する
ことを特徴とするアライメント調整方法。 - 入射光から所定波長の光を選択して透過させる分光素子と、
前記分光素子に入射する入射光の入射角を所定角度以下に制限する入射角制限手段と、
前記分光素子を透過した光を受光する撮像素子と、を備え、
前記入射角制限手段は、当該入射角制限手段において所定の理想角度で入射光を制限する位置を通る第一理想中心軸と前記入射角制限手段との位置関係を規定する第一アライメントマークを有し、前記第一理想中心軸と前記入射角制限手段との位置関係は、前記入射角制限手段の個体によって異なり、
前記分光素子は、当該分光素子における透過波長域の中心波長の光を透過する位置を通る第二理想中心軸と前記分光素子との位置関係を規定する第二アライメントマークを有し、前記第二理想中心軸と前記分光素子の位置関係は、前記分光素子の個体によって異なり、
前記撮像素子は、当該撮像素子において所定の理想感度で入射光を受光する位置を通る第三理想中心軸と前記撮像素子との相対的位置関係を規定する第三アライメントマークを有し、前記第三理想中心軸と前記撮像素子の位置関係は、前記撮像素子の個体によって異なり、
前記第一理想中心軸、前記理想第二中心軸、及第三理想中心軸が重なっている
ことを特徴とする分光カメラ。
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