JP2014187301A - 基板検査装置及び基板受け渡し方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供する。
【解決手段】ウエハ検査装置1は、ウエハWを吸着させるための複数の真空吸着パッド61を有するウエハ載置台4aと、ウエハWを吸着させるための複数の真空吸着パッド71を有する裏面アーム10と、ウエハWとの間に負圧を発生させる吸着パッド81を有し、ウエハ載置台4aから裏面アーム10へのウエハWの受け渡しを行うための吸着補助部材11とを有し、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面は、真空吸着パッド61の上面よりも低い待避位置と、待避位置よりも高く、かつ真空吸着パッド61の上面よりも低い矯正位置の2つの位置に移動可動である。
【選択図】図3

Description

本発明は、基板検査装置及び基板受け渡し方法に関し、特に、半導体ウエハなどの基板を検査する基板検査装置及び基板受け渡し方法に関する。
従来より、半導体製造工程では、製造装置において基板に対して、各種加工処理が施され、基板の検査が行われる。近年は、ウエハなどの基板の大型化及び薄型化が進んでおり、製造工程において、反りや撓みが生じる基板を、確実に搬送するための工夫もいろいろ提案されている。
例えば、特開2010−135381号公報に開示のように、ウエハをアームの載置面に吸着させて保持するようにした基板検査装置がある。その基板検査装置では、ウエハカセットからウエハが取り出されて、目視によるマクロ検査と、顕微鏡によるミクロ検査が行われる。ウエハは、搬送手段としてのアームに載置されて、ウエハカセットから検査用の載置台へ、載置台から別の載置台へ、さらに載置台からウエハカセットへ搬送される。
また、ウエハは、表面だけでなく、裏面についても検査が行われる場合がある。その場合、ウエハの裏面が上方を向くようにウエハは反転されて、検査が行われる。
特開2002−123345号公報
しかし、ウエハ検査装置においてウエハの受け渡しが行われるとき、ウエハに反りや撓みがあると、ウエハの受け渡しを確実に行うことができない。例えば、ウエハの裏面を検査するためにウエハを反転するときに、ウエハ保持部材によりウエハをしっかりと保持していないと、ウエハが落下したり、破損したりしてしまう虞がある。
そこで、本発明は、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、第1の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動である基板検査装置を提供することができる。
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、第1の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部と、を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第1の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動である、前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面を前記第2の位置に移動し、前記第1の負圧発生部による吸着動作がオンの状態で、前記受け渡し用補助部材に前記基板を吸着させ、前記検査用保持部材の前記第2の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法を提供することができる。
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部と、を有し、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、前記第2の吸引部の吸着動作がオンされて、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部と前記載置台の前記第1の吸引部の吸着動作をオンにして前記開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動である、検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面が前記第2の位置にあるときに、前記第1の吸引部と前記負圧発生部による吸着動作をオンにして、前記載置台に前記基板を吸着させ、前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第1の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法を提供することができる。
本発明によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
本発明の実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。 本発明の実施の形態に係わる、アーム支持部9に接続されたアーム8a、8bの斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、アーム8の斜め下方向からの斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、アームの保持面上に設けられた吸着パッド41、摩擦部材42及び真空吸着パッド42aの斜視図である。 本発明の実施の形態に係わるアーム8の側面図である。 本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を示す平面図である。 本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための他の斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台4aと吸着補助部材11の構成を説明するための他の斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。 本発明の実施の形態に係わる、吸着補助部材11が待避位置BPに位置するときの、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面とウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の上面の位置関係を説明するための図である。 本発明の実施の形態に係わる、吸着補助部材11が矯正補助位置CPに位置するときの、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面とウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の上面の位置関係を説明するための図である。 本発明の実施の形態に係わる、矯正補助部材11とアーム8が矯正補助位置CPにあるときの、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる、矯正補助部材11とアーム8が矯正補助位置CPにあり、と裏面アーム10が上方へ移動したときの、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。 本発明の実施の形態に係わる吸着補助部材11の変形例を示す図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
(全体構成)
図1は、本実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。ウエハ検査装置1は、ウエハ搬送装置2と、ウエハカセット3と、ウエハ搬送装置2により搬送される検査対象であるウエハW(二点鎖線で示す)のマクロ検査を行うマクロ検査部4と、ウエハWのミクロ検査を行うミクロ検査部5と、操作部6と、裏面アーム10と、吸着補助部材11を含む基板検査装置である。
基板搬送装置であるウエハ搬送装置2は、アーム駆動部7と、2本のアーム8a,8b(以下、2本のアームの全て若しくは1つを指すときは、アーム8という)と、2本のアーム8を支持するアーム支持部9とを有している。2本のアーム8a,8bは、アーム支持部9の一側面から延出するようにアーム支持部9に設けられている。
操作部6は、キーボード等の入力装置6aと、液晶表示装置等の表示装置6bを有している。検査者は、表示装置6bに表示される画面を見ながら、入力装置6aから各種指示コマンドを入力することにより、ウエハ搬送装置2、マクロ検査部4及びミクロ検査部5の各種動作を指示することができる。
アーム駆動部7は、2本のアーム8a,8bが所定の回動軸(Z軸方向の軸)を中心に回動可能に、かつ上下方向(Z軸方向)に移動可能に、アーム支持部9を上方から支持している。
すなわち、アーム駆動部7は、アーム支持部9を、回動軸回りに回動させ、かつ上下方向(Z軸方向)に移動するように、駆動する。アーム支持部9の回動により、2本のアーム8も、矢印A1で示す方向に回動し、ウエハWをミクロ検査部5へ搬送する。さらに、アーム支持部9の上下方向の移動により、2本のアーム8を上下移動させることによって、マクロ検査部4及びミクロ検査部5へのウエハWの載置あるいは取り出しが行われる。アーム駆動部7は、アーム8の位置を検出する機能を有し、後述する制御部25がアーム8の位置情報を得ることができるようになっている。後述するように、制御部25は、CPU及びメモリを有し、ウエハ検査装置1の各部の動作を制御する。
ウエハカセット3内には、検査対象である複数のウエハWが高さ方向に積層されている。基板である各ウエハWは、ウエハWの周縁部が、ウエハカセット3内の周縁支持部により支持されている。
ウエハカセット3内から、各ウエハWがウエハ搬送装置2により取り出され、マクロ検査部4とミクロ検査部5において、所定の検査が行われ、検査が終了したウエハWは、ウエハカセット3内にウエハ搬送装置2により収容される。そのため、アーム駆動部7は、図示しないレールに沿って矢印A2方向(X軸方向)に、移動可能となっている。
さらに、ウエハ検査装置1には、ウエハWの裏面検査をするための検査用保持部材としての裏面アーム10と、吸着補助部材11とが設けられている。吸着補助部材11は、ウエハWの裏面を検査するために、ウエハWの反りなどを水平矯正して、ウエハWを裏面アーム10に吸着させて保持させてウエハWの受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材である。
さらに、基板検査装置1には、送気ポンプ21と吸引ポンプ22が設けられている。本実施の形態では、送気ポンプ21は、基板検査装置1のコネクタを介して、内部の管路23a〜23c内へ圧縮空気を送気し、吸引ポンプ22は、基板検査装置1のコネクタを介して、基板検査装置1内に配設された管路24a〜24d内の空気を吸引する。管路24a〜24dのそれぞれには、真空センサが設けられており、各管路内の真空状態が検出可能となっている。
なお、送気ポンプ21の送気機能と吸引ポンプ22の吸引機能は、1つのポンプを利用して実現するようにしてもよい。
基板検査装置1は、基板であるウエハWの搬送を制御する制御部25を有し、制御部25は、中央処理装置(CPU)と、ROM,RAM等の記憶装置を有する。制御部25は、ウエハ搬送装置2、マクロ検査部4、ミクロ検査部5に接続されており、制御部25は、操作部6に入力された検査指示に応じて、所定のプログラムを実行させることにより、ウエハ搬送装置2、マクロ検査部4、ミクロ検査部5、裏面アーム10、及び吸着補助部材11の制御を実行する。さらに、制御部25には、各真空センサの出力も接続されている。制御部25は、後述するように、ウエハWの搬送及び検査時に、ウエハ搬送装置2、送気ポンプ21、吸引ポンプ22、裏面アーム10及び吸着補助部材11の動作制御を行いながら、ウエハWが矯正された状態で、アーム8上、載置台4b、5c上に載置されているか否かを検出する。特に、制御部25は、各管路を介する送気、及び各管路を介する吸引を、互いに独立に制御することができる。
(搬送アーム)
図2から図5は、ウエハ搬送装置2のアーム8の構成を説明するための図である。図2は、アーム支持部9に接続されたアーム8a、8bの斜視図である。図3は、アーム8の斜め下方向からの斜視図である。図4は、アームの保持面上に設けられた吸着パッド41、摩擦部材42及び真空吸着パッド42aの斜視図である。図5は、アーム8の側面図である。
基板搬送用アームであるアーム8は、先端部の幅が狭い板形状を有している。図5に示すように、アーム8は、2枚の板部材31と32を貼り合わせて構成されている。板部材31は、幅が狭いアーム先端部31aと、アーム先端部31aの幅よりも広い幅を有するアーム基端部31bを有している。板部材32は、アーム基端部31bと略同じ形状の矩形形状を有している。各アーム8は、後述する2つの流路(43a、44a)を有し、基板であるウエハWを、ウエハWの下面で保持するアームである。
図2に示すように、アーム基端部31bの先端部側には、負圧発生部としての吸着パッド41と、複数の摩擦部材42とを有している。複数の摩擦部材42の1つは、吸引機能を有する真空吸着パッド42aである。
図4に示すように、吸着パッド41は、円形の凹部に設けられた開口部である一対の噴射口41aを有し、一対の噴射口41aは、アーム8内の流路43aと連通している。吸着パッド41は、流路43aを介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口41aから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド41の表面に負圧を発生させることにより、ウエハWを吸着させる。
すなわち、吸着パッド41は、アーム8におけるウエハWを保持する保持面である上面8sに設けられ、かつ開口部である一対の噴射口41aを有し、流路43aを介する所定の気体の送気を行って、一対の噴射口41aから所定の気体を吹き出すことにより、ウエハWを上面に吸着させるように、アーム8の上面8sとウエハWの間に負圧を発生させる負圧発生部を構成する。このような負圧発生部としての吸着パッド41の構成は、例えば特許第4299104号公報に開示されており、公知である。
摩擦部材42は、円柱形状を有する部材であり、ゴム部材である。すなわち、摩擦部材42は、アーム8の保持面である上面8sに設けられ、ウエハWと接触したときの摩擦により、上面8sに吸着されたウエハWを上面8sの平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材である。
真空吸着パッド42aは、図4に示すように、円筒形状を有し、先端すなわち上面部には、円環状の摩擦部材42a1が設けられている。真空吸着パッド42aの中央部に形成された開口部42a2は、アーム8内に形成された流路44aと連通している。
すなわち、真空吸着パッド42aは、アーム8の保持面である上面8sに設けられ、かつ開口部42a2を有し、流路44a内を真空にすることにより開口部42a2からの吸引を行ってウエハWの下面を開口部42a2に吸着させて、ウエハWが開口部42a2に吸着しているかを検知するための吸着パッドである。
また、真空吸着パッド42a上の摩擦部材42a1と2つの摩擦部材42は、吸着パッド41の周囲に配置されているので、吸着パッド41によりウエハWが吸着されたときに、ウエハWを3点で支持することができる。すなわち、摩擦部材は、アーム8の上面8s上に、複数設けられ、かつ、負圧発生部である吸着パッド41の周囲に設けられている。
流路43aと44aは、2枚の板部材31と32の密着面の少なくとも一方に形成された溝により、形成される。流路43aの一端は、開口部である一対の噴射口41aに連通し、流路43aの他端は、アーム8の基端側の下部に設けられた開口部45に連通している。図2及び図3に示すように、流路43aと流路44aは、アーム8内に並走するように配設されている。
流路44aの一端は、開口部42a2に連通し、流路44aの他端は、アーム8の基端側の下部に設けられた開口部46に連通している。そして、流路43aは、開口部45を介して、送気ポンプ21に接続された管路23aと接続されている。流路44aは、開口部46を介して、吸引ポンプ22に接続された管路24aと接続されている。また、管路24aには真空センサ(図示せず)が設けられ、流路44a内の真空状態を検知する。
なお、図3に示すように、アーム8の基端部には、アーム支持部9にネジ止めにより、固定するためのネジ孔47が複数設けられている。
また、図5に示すように、吸着パッド41のアーム8の表面8sからの高さd1は、摩擦部材42と真空吸着パッド42aの高さd2よりも低い。これは、吸着パッド41によりウエハWが吸引されたときに、摩擦部材42,42a1がウエハWにしっかりと接触して、摩擦力によりウエハWが動かないようにウエハWを支持するためである。
なお、本実施の形態では、真空吸着パッド42a上に摩擦部材42a1が設けられているが、真空吸着パッド42a上に摩擦部材42a1を設けなくてもよい。その場合、真空吸着パッド42aの保持面8sからの高さは、吸着パッド41の高さd1よりも高い。
アーム8の上面8sにウエハWが密着すると、真空センサにより管路24a内の真空状態が検知されて、ウエハWがアーム8に吸引保持されていることが検知される。
上述した吸着パッド41と真空吸着パッド42aを有するアーム8を用いて、制御部25が送気ポンプ21と吸引ポンプ22を制御して、ウエハWを吸着して保持しながら、ウエハWのウエハカセット3内からの取り出し、ウエハ載置台4aへの搬送、ウエハWのウエハ載置台4aからの取り出し、ミクロ検査部5への搬送等が行われる。
以上のように、アーム8は、開口部である一対の噴射口41aのから所定の気体としての圧縮空気を吹き出すことにより、ウエハWを吸着させるように、ウエハWとの間に負圧を発生させる負圧発生部としての2つの吸着パッド41を有し、ウエハWを搬送する搬送用補助部材である。
(ミクロ検査部)
図1に戻り、ミクロ検査部5は、ウエハWを拡大観察するための顕微鏡5aと、2軸方向に移動可能なXYステージ5bと、XYステージ5b上に設置され、ウエハWをXYZの各軸方向に移動させると共に回動させ、更にウエハWの受け渡しに用いられるウエハ載置台5cと、を有する。
ウエハ載置台5cの上面側には、図1に示すように、複数の吸着パッド51と、複数の真空吸着パッド52が設けられている。各吸着パッド51は、上述した吸着パッド41と同じ構成であり、各真空吸着パッド52は、真空吸着パッド42aと同じ構成である。
吸着パッド51は、ウエハ載置台5c内、及び送気ポンプ21に接続された管路23bと接続され、真空吸着パッド52は、ウエハ載置台5c内、及び吸引ポンプ22に接続された管路24bと接続されている。また、管路24bには真空センサ(図示せず)が設けられ、管路24b内の真空状態を検知する。
ウエハ載置台5cの上面にウエハWが密着すると、真空センサにより管路24b内の真空状態が検知されて、ウエハWがウエハ載置台5cの上面に吸引保持されていることが検知される。
ミクロ検査時、ウエハWは、ウエハ載置台5c上に載置され、複数の吸着パッド51と複数の真空吸着パッド52により、ウエハ載置台5c上に吸引されて保持されて、ミクロ検査部5の顕微鏡5aによりミクロ検査が行われる。
(マクロ検査部)
マクロ検査部4は、ウエハWの受け渡しとマクロ検査のための円板状のウエハ載置台4aを有する。マクロ検査部4は、ウエハ載置台4aをZ方向に上昇させてウエハWを揺動させる揺動機構と、ウエハWの平面に直交する軸周りにウエハWを回動する回動機構とを有する。
上述したアーム8によりウエハWがウエハカセット3内から取り出されてウエハ載置台4a上に搭載されると、ウエハWは、ウエハ載置台4aに吸着固定される。
ウエハ検査装置1の装置本体には、ウエハWのオリフラ(ノッチ)の位置を検出するセンサ(図示せず)が設けられており、ウエハWを回動機構により回動させて、オリフラの位置合わせが行われる。
制御部25は、マクロ検査(すなわち検査者によるウエハWの目視検査)を行うときは、ウエハ載置台4aをZ方向に所定量だけ上昇させて、所定の検査位置にウエハWを上方へ移動し、所定の揺動ができるようにする。例えば、検査者は、ウエハ載置台4a上のウエハWを所定の角度(例えば30度)だけ傾けて、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台4aを回動させてマクロ検査を行う。
よって、ウエハ載置台4aは、オリフラ位置検出機能付きで、かつウエハ載置面4a1を傾斜させ回動させることにより、ウエハWを揺動可能な回動テーブルである。
ウエハ検査装置1の装置本体の上部には、ウエハWに照明光を照射するための照明装置(図示せず)が設けられており、検査者は、ウエハWからの反射光をみて、マクロ検査を行う。
さらに、ウエハWの表面だけでなく、裏面のマクロ検査も行われる。
ウエハWの裏面を検査する場合、裏面アーム10にウエハWが吸着されて保持される。裏面アーム10が所定の距離だけ上方に移動して、ウエハWを保持した状態で、裏面アーム10を、所定の軸(後述する軸J2)周りに180度回動することによって、ウエハWの裏面を上方に向けて、検査者により、ウエハWの裏面のマクロ検査が行われる。ウエハ検査装置1の制御部25は、ウエハWの表面と裏面のマクロ検査ができるように、各部の動作を制御する。
図6から図9は、マクロ検査部4における、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の構成を説明するための図である。図6は、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を示す平面図である。図7は、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。図7は、アーム8、裏面アーム10及び吸着補助部材11が、それぞれの待避位置にあるときの状態を示す。図8は、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための他の斜視図である。図9は、ウエハ載置台4aと吸着補助部材11の構成を説明するための他の斜視図である。
(ウエハ載置台4a)
ウエハ載置台4aは、円板状の形状を有し、上面に複数の真空吸着パッド61が設けられている。ウエハ載置台4aの一部には、複数の孔62が形成されている。吸引部としての複数の真空吸着パッド61のそれぞれの構成は、上述した真空吸着パッド42aと同じ構成である。すなわち、ウエハ載置台4aは、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する載置台である。
上述したように、ウエハ載置台4aは、円板の中心を通る軸J1(図7)の軸周りに回動可能となっている。さらに、ウエハ載置台4aは、ウエハ載置台4aの上面が、軸J1に直交する平面に対して、所定の角度だけ傾斜可能に構成されている。
真空吸着パッド61は、ウエハ載置台4a内、及び吸引ポンプ22に接続された管路24cと接続されている。また、管路24cには真空センサ26aが設けられ、管路24c内の真空状態を検知する。
ウエハ載置台4aの上面にウエハWが吸着すると、真空センサ26aの出力により管路24c内の真空状態が検知されて、制御部25において、ウエハWがウエハ載置台4aの上面に吸着して保持されていることが検知される。
なお、ウエハ載置台4aの上下方向(Z方向)の移動及び回動などの動作は、制御部25の制御の下、エンコーダ(図示せず)でウエハ載置台4aの高さ及び回動位置を検出しながら、ステッピングモータ等(図示せず)を駆動することによって行われる。ウエハ載置台4aの駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置1の装置本体内のウエハ載置台支持部B0内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、ウエハ載置台支持部B0の最上部に設けられる。
(裏面アーム)
裏面アーム10は、略半分の円弧状の形状を有する円弧部10aと、円弧部10aの内側に延出する複数(ここでは4つ)の延出部10bを有する。円弧部10aの外周側には、突出部10cが設けられている。図1及び図6に示すように、円弧部10aは、円弧の中心に対して180度以上の範囲に亘る長さを有する。すなわち、裏面アーム10は、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する検査用保持部材である。
裏面アーム10の延出部10bの先端部の上面には、複数の(ここでは4つ)の真空吸着パッド71が設けられている。吸引部としての複数の真空吸着パッド71は、ウエハWを裏面アーム10上で吸着できる位置に設けられる。各真空吸着パッド71の構成は、上述した真空吸着パッド42aと同じ構成である。
真空吸着パッド71は、裏面アーム10内、及び吸引ポンプ22に接続された管路24dと接続されている。また、管路24dには真空センサ26bが設けられ、管路24d内の真空状態を検知する。
裏面アーム10の上面にウエハWが密着すると、真空センサ26bにより管路24d内の真空状態が検知されて、制御部25において、ウエハWが裏面アーム10の上面に吸着されて保持されていることが検知される。
また、裏面アーム10の上下方向(Z方向)の移動は、制御部25の制御の下、エンコーダ(図示せず)で裏面アーム10の位置を検出しながら、ステッピングモータ等(図示せず)を駆動することによって行われる。裏面アーム10の駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置1の装置本体内の裏面アーム支持部B1内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、裏面アーム支持部B1の最上部に設けられる。さらに、裏面アーム10を、所定の軸(後述する軸J2)周りに180度回動するための駆動機構も、ステッピングモータ等により行われる。裏面アーム10の回動のためのステッピングモータ等は、裏面アーム10の突出部10cに接続された軸部材に、ギヤ機構などを介して接続されている。
(吸着補助部材11)
吸着補助部材11は、ウエハ載置台4a上に載置されたウエハWの反りや撓みを矯正するための部材である。吸着補助部材11は、ウエハ検査装置1の装置本体内の吸着補助部材支持部B2に取り付けられている。
吸着補助部材11の上面には、複数(ここでは2つ)の吸着パッド81が設けられている。各吸着パッド81の構成は、上述した吸着パッド41と同じ構成である。
吸着パッド81は、吸着補助部材11内、及び送気ポンプ21に接続された管路23cと接続されている。
図9に示すように、吸着補助部材11は、管路23cとの接続のためのコネクタ11aを有し、コネクタ11aは吸着補助部材11の内部に形成された管路(図示せず)を介して吸着パッド81と接続されている。
吸着補助部材11は、略矩形であり、裏面アーム10側の2つの角部が切り取られた6角形の形状を有する。吸着補助部材11の四隅のそれぞれには、孔が設けられ、軸部材11cが挿通されている。吸着補助部材11は、吸着補助部材支持部B2を構成する固定部材11b上で、4つの軸部材11cに沿って上下方向(Z方向)に移動可能に設けられている。各軸部材11cの基端部は、固定部材11bに固定され、上部には、フランジ部であるストッパ部11dが形成されている。
よって、吸着補助部材11は、固定部材11bとストッパ部11dの間で移動可能となっている。
図9に示すように、吸着補助部材11が固定部材11bに接しているときの位置が、吸着補助部材11の待避位置BPである。図9において、点線で示すように、吸着補助部材11が上方に移動して、吸着補助部材11の四隅の段差部の上面11c1がストッパ部11dに接している位置が、吸着補助部材11の矯正補助位置CPである。
固定部材11bには、吸着補助部材11を移動させるためのシリンダ部11eが設けられている。シリンダ11eは、空気の供給により駆動される。シリンダ部11eは、内部にセンサ(図示せず)を有し、駆動状態を検出することができる。上下方向における吸着補助部材11の2位置(待避位置BPと矯正補助位置CP)間の移動は、空気を用いたシリンダ機構を利用して行われる。
なお、吸着補助部材11の上下移動は、モータを用いた他の駆動機構を利用して行うようにしてもよい。
制御部25が、シリンダ部11eへ所定の駆動信号を出力すると、図示しない空気源からシリンダ部11eに空気が供給されて、吸着補助部材11の4つの段差部の上面11c1がストッパ部11dに当接するように駆動され、吸着補助部材11は、待避位置BPから上方に移動し、矯正補助位置CPに位置する。制御部25が、シリンダ部11eへの所定の駆動信号の出力を停止すると、吸着補助部材11は、待避位置BPに戻るように駆動される。
後述するように、ウエハWがウエハ載置台4a上に載置され、吸着補助部材11が待避位置BPにあるとき、ウエハWの下面が吸着補助部材11及び2つの吸着パッド81に全く接触しないように、吸着補助部材11は、ウエハ載置台4aに対して配置される。
ウエハWがウエハ載置台4a上に載置され、吸着補助部材11が矯正位置CPにあるとき、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81の上面は、ウエハWの下面よりも所定の距離(dd2(図12参照))だけ下方に位置した位置にある。
ウエハWをウエハ載置台4aから裏面アーム10に受け渡すときに、ウエハWが裏面アーム10上に確実に吸着されて保持されるようにするために、吸着補助部材11は、待避位置BPから、矯正補助位置CPに移動する。
待避位置BPから矯正補助位置CPに移動した後、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81は、流路23cを介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口41aから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド81の表面に負圧を発生させて、ウエハWを吸着させる。すなわち、吸着補助部材11は、開口部である一対の噴射口41aから圧縮空気を吹き出すことにより、ウエハWを吸着させるように、ウエハWとの間に負圧を発生させる負圧発生部である2つの吸着パッド81を有し、ウエハ載置台4aから検査用保持部材である裏面アーム10へのウエハWの受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材である。
吸着補助部材11が矯正位置CPにあるとき、ウエハWは2つの吸着パッド81に吸着するので、ウエハWの反りや撓みが矯正される。
ウエハWの反りや撓みが矯正された状態で、裏面アーム10が、ウエハWの下方から上昇し、裏面アーム10の複数の真空吸着パッド71の上面が、ウエハ載置台4a上の真空吸着パッド61の上面と略同じ位置まで移動する。
その状態で、真空吸着パッド71による吸引を行うと、ウエハWの反り撓みが矯正されているので、ウエハWは裏面アーム10に吸着し、ウエハ載置台4aから裏面アーム10へのウエハWの受け渡しを確実に行うことができる。
(動作)
次に、検査対象のウエハWの検査の流れについて説明する。はじめに、検査対象のウエハWはアーム8によりウエハ載置台4aに載置される。検査者は、ウエハWがウエハ載置台4aに載置された状態で、ウエハWの表面のマクロ検査を行う。次に、検査者は、ウエハWの裏面のマクロ検査を行い、マクロ検査部4におけるマクロ検査が終了すると、検査対象のウエハWはアーム8によりウエハ載置台5cに載置され、ミクロ検査部5におけるミクロ検査が行われる。
ここでは、マクロ検査時の動作、特に、ウエハWの裏面を検査するときの、ウエハ検査装置1の動作について説明する。
(ウエハの表面検査)
検査者によるウエハWの目視検査(すなわちマクロ検査)を行うときは、検査者による指示に応じて、制御部25は、ウエハ載置台4a上に搭載されたウエハWを、載置台4a表面に設けられた複数の真空吸着パッド61により吸着させた状態で、軸回りに回動させてオリフラの位置を検出する。
オリフラの位置が検出されると、制御部25は、ウエハWの表面が水平となる所定の初期位置でウエハWを保持する。制御部25は、ウエハWが搭載されたウエハ載置台4aをZ方向に所定量だけ上昇させ、かつウエハWを所定の角度だけ傾ける。その状態で、検査者は、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台4aを回動させてマクロ検査を行う。
マクロ検査は、ウエハWの表面だけでなく、裏面のマクロ検査についても行われる。次に、ウエハWの裏面検査時のウエハ検査装置1の動作について説明する。
(ウエハの裏面検査)
ウエハWの裏面検査は、裏面アーム10にウエハWを吸着させて保持した状態で、ウエハWの裏面が上方を向くように、ウエハWを反転した状態で行われる。
裏面検査の開始時、図7に示すように、アーム8、裏面アーム10及び吸着補助部材11は、それぞれの待避位置に位置している。
まず、検査者が操作部6を操作して、裏面検査の指示を入力すると、制御部25は、次の処理を実行する。なお、裏面検査の指示は、検査者により入力された指示によらずに、制御部25が、表面検査の後に続いて自動的に実行するようにしてもよい。
図10は、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。
制御部25は、ウエハWの反りや撓みを矯正するために、ウエハWの矯正処理を実行する(S1)。
S1の処理は、さらに次のステップを含む。
(S1−1:吸着補助部材11とアーム8の移動)
ウエハWの矯正のために、まず、裏面検査の指示が入力されると、制御部25は、吸着補助部材11を、矯正補助位置CPへ移動させる。
同時に、制御部25は、アーム8も、各吸着パッド41の上面が各吸着補助部材11の吸着パッド81の上面と同じ高さ位置まで上方へ移動させる。
なお、ここでは、裏面アーム10にウエハWを吸着させるときに、吸着補助部材11とアーム8とを用いてウエハWの反りなどを小さくしてウエハW全体が水平すなわち平らになるように矯正を行っているが、吸着補助部材11だけでウエハWの矯正が可能な場合は、アーム8は用いなくてもよい。
表面検査の終了時、吸着補助部材11は、各吸着パッド81の上面がウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面よりも所定量dd1だけZ方向において、下方の位置にある。ウエハWは、ウエハ載置台4aに吸着され固定されている。すなわち、ウエハWの表面検査が終わったとき、ウエハ載置台4aとアーム8は、それぞれの待避位置に戻されている。また、吸着補助部材11も待避位置BPの位置にある。このとき、アーム8の吸着パッド41と吸着補助部材11の吸着パッド81の吸着動作はオフで、圧縮空気を噴出していない。また、裏面アーム10の真空吸着動作もオフである。
図11は、吸着補助部材11が待避位置BPに位置するときの、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面とウエハ載置台4aの複数の真空吸着パッド61の上面の位置関係を説明するための図である。
図11は、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81と、ウエハ載置台4aの真空吸着パッド61を横方向から見たときの状態を示す。図11に示すように、待避位置BPのとき、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面がウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の上面よりも所定量dd1だけZ方向において下方の位置にある。吸着補助部材11が待避位置BPに位置するとき、反りなどを有するウエハWがウエハ載置台4a上に載置されても、ウエハWが吸着補助部材11に一切接触しない。
吸着補助部材11の2つの吸着パッド81の上面が待避位置にあるときに、ウエハWの表面検査が行われる。
図11の状態から、裏面検査の指示が入力されると、制御部25は、シリンダ11eを駆動して、吸着補助部材11を矯正補助位置CPへ移動させる。すなわち、制御部25は、受け渡し用補助部材である吸着補助部材11の吸着パッド81の上面を、矯正補助位置CPに移動する。
また、アーム8も、待避位置では、吸着パッド41の上面がウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の上面よりも所定量dd1よりも長い距離だけZ方向において下方の位置にある。
図12は、吸着補助部材11が矯正補助位置CPに位置するときの、吸着補助部材11の吸着パッド81の上面とウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の上面の位置関係を説明するための図である。
図12は、吸着補助部材11の吸着パッド81と、ウエハ載置台4aの真空吸着パッド61を横方向から見たときの状態を示す。図12に示すように、矯正補助位置CPのとき、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81の上面がウエハ載置台4aの複数の真空吸着パッド61の上面よりも所定量dd2だけZ方向において下方の位置にある。
このとき、アーム8も、吸着パッド41の上面がウエハ載置台4aの複数の真空吸着パッド61の上面よりも所定量dd2だけZ方向において下方の位置にある。なお、dd2は、dd1より小さい。
図13は、矯正補助部材11とアーム8が矯正補助位置CPにあるときの、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。図13において点線の矢印で示すように、矯正補助部材11は、上方へ移動し、矯正補助部材11の矯正補助位置CPに位置し、アーム8も、上方へ移動し、アーム8の矯正補助位置CPに位置している。
(S1−2:吸着による矯正)
次に、ウエハWの反りなどの矯正のために、制御部25は、吸着パッド41と吸着パッド81の吸着動作をオンし、吸着パッド81と41から圧縮空気をその一対の噴射口41aから所定の方向に噴射させる。
複数(ここでは4つ)の吸着パッド81と41が圧縮空気を噴射させるので、ウエハWは、吸着パット81と41に吸引されて、反りや撓みが矯正された状態となる。
以上のように、受け渡し用補助部材である矯正補助部材11の2つの吸着パッド81の上面は、ウエハ載置台4aの複数の真空吸着パッド61の上面よりも低い待避位置と、待避位置よりも高く、かつ複数の真空吸着パッド61の上面よりも低い矯正位置の2つの位置に移動可動である。そして、制御部25は、ウエハWのウエハ載置台4aから裏面アーム10への受け渡しをするときに、矯正補助部材11の2つの吸着パッド81の吸着動作をオンにして一対の噴射口41aから所定の気体である圧縮空気を吹き出すように制御する。
さらに、制御部25は、ウエハWをウエハ載置台4aから裏面アーム10への受け渡しを行うときに、アーム8の2つの吸着パッド41の吸着動作もオンにして一つの噴射口41aから所定の気体としての圧縮空気を吹き出すように制御する。吸着補助部材11が矯正補助位置CPに位置するとき、2つの吸着パッド81と2つの吸着パッド41による吸着動作がオンの状態で、矯正補助部材11にウエハWは吸着される。
S1の後、制御部25は、裏面アーム10による吸着保持を行う(S2)。
S2の処理は、さらに次のステップを含む。
(S2−1:裏面アーム10の移動)
制御部25は、裏面アーム10の各真空吸着パッド71の上面が、Z方向においてウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面(すなわちウエハ固定面)と同じ(又は略同じ)位置になるまで、裏面アーム10を上昇させる。
図14は、矯正補助部材11とアーム8が矯正補助位置CPにあり、と裏面アーム10が上方へ移動したときの、ウエハ載置台4aと、アーム8と、裏面アーム10と、吸着補助部材11の配置を説明するための斜視図である。図14において点線の矢印で示すように、裏面アーム10は、上方へ移動し、各真空吸着パッド71の上面が、Z方向においてウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面と同じ又は略同じ位置になるような位置まで移動している。
(S2−2:裏面アーム10による吸着保持)
制御部25は、裏面アーム10の複数の真空吸着パッド71の吸着動作をオンし、ウエハWの吸着固定を行う。そして、制御部25は、真空センサ26bの出力に基づいて、ウエハWの裏面アーム10への真空吸着を確認する。すなわち、裏面アーム10の複数の真空吸着パッド71による吸着動作をオンにして、裏面アーム10にウエハWが保持される。吸着状態が確認できなければ、制御部25は、真空吸着パッド71による吸着を停止し、裏面アーム10を下方に下げて、再度S2−1から実行する。
以上のように、吸引補助部材11とアーム8により、ウエハWの反りや撓みを矯正してから裏面アーム10へのウエハWの真空吸着が行われる。
裏面アーム10への真空吸着状態の確認後、制御部25は、ウエハ載置台4aの真空吸着パッド61の吸着動作、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81及びアーム8の吸着パッド41の吸着動作を、オフにする。すなわち、裏面アーム10へのウエハWの吸着が確認された後に、ウエハ載置台4aの真空吸着パッド61、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81及びアーム8の吸着パッド41による吸着動作をオフにして、ウエハWをウエハ載置台4aから裏面アーム10への受け渡しが行われる。
その結果、ウエハWは、裏面アーム10のみにより吸着保持された状態となる。
以上のように、ウエハWのウエハ載置台4aから裏面アーム10への受け渡しを行うときに、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81の上面は、矯正位置に位置している。
S2の後、制御部25は、裏面アーム10を所定の高さ位置まで上方移動させる(S3)。すなわち、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81とアーム8の吸着パッド41による吸着動作をオフにして、ウエハWのウエハ載置台4aから裏面アーム10への受け渡しを行った後に、ウエハWの裏面検査のために、ウエハWを裏面アーム10により移動する。
制御部25は、裏面アーム10を180度回動させて、ウエハWの裏面が上方を向くように、裏面アーム10を反転させる(S4)。
ウエハWは所定の高さ位置にあり、ウエハWの裏面が上方に向いているので、検査者は、ウエハWの裏面のマクロ検査を行うことができる(S5)。
S5が終了し、検査者が検査終了の指示を入力すると、制御部25は、裏面アーム10をS4の回動方向とは逆方向に、180度回動させて、ウエハWの表面が上方を向くように、裏面アーム10を反転させる(S6)。
次に、制御部25は、裏面アーム10を元の位置まで下方移動させる(S7)。
S7により、裏面アーム10は、裏面アーム10の各真空吸着パッド71の上面が、Z方向においてウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面と同じ位置になるまで移動する。
そして、制御部25は、ウエハWをウエハ載置台4a上に載置する(S8)。
S8の処理は、さらに次のステップを含む。
(S8−1:真空吸着パッド61などによる吸着)
制御部25は、ウエハ載置台4aの2つの真空吸着パッド61の吸着動作をオンにし、かつ吸着補助部材11の2つの吸着パッド81、及びアーム8の2つの吸着パッド41の吸着動作をオンにする。すなわち、真空吸着パッド71の吸着動作がオンされてウエハWを吸着して保持している裏面アーム10からウエハ載置台4aへのウエハWの受け渡しを行う場合、制御部25は、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81の上面が矯正位置にあるときに、ウエハ載置台4aの複数の真空吸着パッド61、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81及びアーム8の2つの吸着パッド41の各吸着動作をオンにして、ウエハ載置台4aにウエハWを吸着させる。
(S8−2:真空吸着パッド61による吸着の確認)
制御部25は、真空センサ26aの出力に基づいて、真空吸着パッド61により、ウエハWがウエハ載置台4aに吸着されたか否かを確認する。真空吸着状態が確認できなければ、制御部25は、各真空吸着パッド61の吸着動作、各吸着パッド81と各吸着パッド41の吸着動作をオフし、再度S8−1を実行する。
真空吸着状態の確認後、制御部25は、裏面アーム10の複数の真空吸着パッド71の吸着動作をオフし、さらに、2つの吸着パッド81と2つの吸着パッド41の吸着動作をオフする。すなわち、ウエハ載置台4aへのウエハWの吸着が確認された後に、裏面アーム10の複数の真空吸着パッド71、吸着補助部材11の2つの吸着パッド81及びアーム8の2つの吸着パッド41による吸着動作をオフにして、ウエハWの裏面アーム10からウエハ載置台4aへの受け渡しが行われる。
(S8−3:裏面アーム10、アーム8及び吸着補助部材11の下方への移動)
S8−2の後、制御部25は、裏面アーム10、アーム8及び吸着補助部材11を、それぞれの待避位置まで、下方へ移動させる。
S8の後、ウエハ載置台4aを軸J1回りに所定角度だけ回動させる(S9)。
裏面検査が行われているとき、裏面アーム10の4つの延出部10bにより、ウエハWの裏面の一部が覆われて、検査者に見えない部分が存在する。よって、その見えなかった部分が、延出部10bに覆われないように、ウエハWを回動して、再度S1から上述した処理を行う。すなわち、検査者がウエハWの裏面を完全にマクロ検査できるようにするために、S9の処理が実行され、S9の処理の後、S1の処理に戻り、S1からS8までの処理が実行されることによって、前の裏面検査では見えなかった部分も検査者に見えるようになって、検車者はウエハWの裏面を完全にマクロ検査できる。
2回目のS8の処理が実行されて、裏面検査が終了すると、制御部25は、アーム8により、ウエハ載置台4a上のウエハWをミクロ検査部5へ搬送する。なお、裏面検査が終了して、マクロ検査部5へウエハWを搬送するとき、ウエハWをウエハ載置台4a上に載置しないで、裏面アーム10から搬送用のアーム8へ、ウエハWを直接渡すようにしてもよい。
以上のように、上述した基板検査装置によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を実現することができる。
なお、上述した(2−1)と(2−2)において、裏面アーム10は、各真空吸着パッド71の上面が、Z方向においてウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面と同じ(又は略同じ)位置になった後に、真空吸着パッド71の真空吸着動作をオンにしているが、裏面アーム10の移動中に、真空吸着パッド71の真空吸着動作をオンにしてもよい。
すなわち、制御部25は、矯正補助部材11の2つの吸着パッド81の上面を、矯正補助位置CPに移動した後に、2つの吸着パッド81による吸着動作をオンにするのではなく、2つの吸着パッド81の上面が移動して矯正補助位置CPに達する前に、すなわち2つの吸着パッド81の上面が矯正補助位置CPへ移動しているときに、2つの吸着パッド81の吸着動作をオンにしてもよい。
例えば、裏面アーム10を上方へ移動させているとき、制御部25は、各真空吸着パッド71の上面が各真空吸着パッド61の上面よりも、所定量dd3だけ低い位置(例えば真空吸着パッド61の上面より1mmだけ低い位置)に達したときに、裏面アーム10の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で上方への移動を継続する。
制御部25は、裏面アーム10の移動速度が低速になったときに、裏面アーム10の真空吸着パッド71の吸着動作をオンにし、真空センサ26bの出力を監視する。
このようにして裏面アーム10の移動を行い、各真空吸着パッド71の上面が、各真空吸着パッド61の上面の高さ位置を通過するときに、制御部25は、真空センサ26bの出力により真空が検知されると、真空吸着パッド61、吸着パッド41及び吸着パッド81の吸着動作をオフにする。
なお、各真空吸着パッド71の上面が、各真空吸着パッド61の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ26bの出力により真空が検知されなかったときは、制御部25は、裏面アーム10の移動を停止し、真空センサ26bの出力が真空を検知するまで裏面アーム10を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部25は、S1−1から再度実行する。
真空が検知されて、裏面アーム10にのみウエハWが吸着された状態になると、制御部25は、S3では、元の速度(低速にする前の速度)で、裏面アーム10を上方へ移動する。
同様に、(8−1)と(8−2)においても、S7により裏面アーム10が下方に移動して、各真空吸着パッド71の上面が、Z方向においてウエハ載置台4aの各真空吸着パッド61の上面と同じ(又は略同じ)位置になった後に、ウエハ載置台4aの真空吸着動作と、アーム8及び吸着補助部材11の吸着動作をオンにしているが、裏面アーム10の下方への移動中に、ウエハ載置台4aの真空吸着動作と、アーム8及び吸着補助部材11の吸着動作をオンにしてもよい。
例えば、裏面アーム10を下方へ移動させているとき、制御部25は、各真空吸着パッド71の上面が各真空吸着パッド61の上面よりも、所定量dd4だけ高い位置(例えば真空吸着パッド61の上面より1mmだけ高い位置)に達したときに、裏面アーム10の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で下方への移動を継続する。
制御部25は、裏面アーム10の移動速度が低速になったときに、ウエハ載置台4aの真空吸着動作と、アーム8及び吸着補助部材11の吸着動作をオンにし、真空センサ26aの出力を監視する。
このようにして裏面アーム10の移動を行い、各真空吸着パッド71の上面が、各真空吸着パッド61の上面の高さ位置を通過するときに、制御部25は、真空センサ26aの出力により真空が検知されると、裏面アーム10の真空吸着動作をオフにして、S8−3の処理へ移行する。なお、各真空吸着パッド71の上面が、各真空吸着パッド61の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ26aの出力により真空が検知されなかったときは、制御部25は、裏面アーム10の移動を停止し、真空センサ26aの出力が真空を検知するまで裏面アーム10を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部25は、裏面アーム10を一旦上昇させた後、S7から再度実行する。
真空が検知されて、ウエハ載置台4aにのみウエハWが吸着された状態になると、制御部25は、S8−3では、元の速度(低速にする前の速度)で、裏面アーム10を待避位置まで移動する。
以上のように、吸着動作のタイミングを変更してもよい。
さらになお、上述した例では、吸着補助部材11は、6角形であるが、他の形状を有していてもよい。
図15は、吸着補助部材11の変形例を示す図である。図15に示すように、吸着補助部材11Aは、6角形ではなく、矩形の基部11Aaから、3方向に延出するアーム11Abを有する。1つの吸着パッド81は、基部11Aa上に設けられている。1つのアーム11Ab上に1つの吸着パッド81が設けられるように、3つの吸着パッド81は、3つのアーム11Ab上に設けられている。
図15に示すように、吸着補助部材11Aの4つの吸着パッド81は、円形のウエハ載置台4aの周囲に配置され、かつ各吸着パッド81が隣合う2つの真空吸着パッド71に対して略等距離で位置するように、吸着補助部材11Aは、ウエハ載置台4aに対して配置される。さらに、4つの吸着パッド81が円形のウエハ載置台4aの中心から等距離で、かつ互いに等間隔になるように、吸着補助部材11Aは、ウエハ載置台4aに対して配置される。
図15の場合、吸着パッド81が4つあるため、アーム8を利用しないで、吸着補助部材11Aだけで、ウエハWの矯正を行うことができる。しかし、上述したように、アーム8も一緒に利用して、吸着補助部材11Aとアーム8により、ウエハWの矯正を行うようにしてもよい。
また、上述した実施の形態及び図15の例では、吸着補助部材11,11Aは、ウエハ載置台4aに対して取り付けられているが、吸着補助部材を、裏面アーム10のように、ウエハ載置台4aから独立した可動部材上に設けるようにしてもよい。
以上説明したように、上述した基板検査システムによれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
1 ウエハ検査装置、2 ウエハ搬送装置、3 ウエハカセット、4 マクロ検査部、4a ウエハ載置台、5 ミクロ検査部、5a 顕微鏡、5b XYステージ5b、5c ウエハ載置台、6 操作部、6a 入力装置、6b 表示装置、7 アーム駆動部、8(8a,8b) アーム、8s アームの上面、9 アーム支持部、10 裏面アーム、10a 円弧部、10b 延出部、10c 突出部、11 吸着補助部材、11A 吸着補助部材、11Aa 基部、11Ab アーム、11a コネクタ、11b 固定部材、11c 軸部材、11c1 段差部の上面、11d ストッパ部、11e シリンダ部、21 送気ポンプ、22 吸引ポンプ、23a〜23c、24a〜24d 管路、25 制御部、26a、26b 真空センサ、31 板部材、31a アーム先端部、31b アーム基端部、32 板部材、41 吸着パッド、41a 噴射口、42 摩擦部材、42a 真空吸着パッド、42a1 摩擦部材、42a2 開口部、43a、44a 流路、45 、46 開口部、47 ネジ孔、51 吸着パッド、52 真空吸着パッド、61 真空吸着パッド、62 孔、71 真空吸着パッド、81 吸着パッド。

Claims (17)

  1. 基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、
    前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、
    第1の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
    を有し、
    前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動であることを特徴とする基板検査装置。
  2. 前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
  3. 前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第1の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
    を有することを特徴とする請求項2に記載の基板検査装置。
  4. 前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第2の位置に位置していることを特徴とする請求項3に記載の基板検査装置。
  5. 前記第1の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項4に記載の基板検査装置。
  6. 第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第2の負圧発生部を有し、前記基板を搬送する搬送用補助部材と、
    を有し、
    前記制御部は、前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第2の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載の基板検査装置。
  7. 基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、
    前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、
    第1の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部と、を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
    前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第1の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
    を有し、
    前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動である、
    前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
    前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面を前記第2の位置に移動し、
    前記第1の負圧発生部による吸着動作がオンの状態で、前記受け渡し用補助部材に前記基板を吸着させ、
    前記検査用保持部材の前記第2の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、
    前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う、
    ことを基板受け渡し方法。
  8. 前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項7に記載の基板受け渡し方法。
  9. 前記制御部は、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面が、前記第2の位置に移動した後に、あるいは前記第2の位置へ移動しているときに、前記第1の負圧発生部による吸着動作をオンにすることを特徴とする請求項8に記載の基板受け渡し方法。
  10. 前記第1の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項7から9のいずれか1つに記載の基板受け渡し方法。
  11. 前記制御部は、第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第2の負圧発生部を有する、前記基板を搬送する搬送用補助部材を、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第2の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項7から9のいずれか1つに記載の基板受け渡し方法。
  12. 前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行った後に、前記基板の裏面検査のために、前記基板を前記検査用保持部材により移動することを特徴とする請求項7に記載の基板受け渡し方法。
  13. 前記第1の位置は、前記受け渡し用補助部材の前記負圧発生部の上面が前記第1の位置にあるときに、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項7から9のいずれか1つに記載の基板受け渡し方法。
  14. 基板を吸着させるための第1の吸引部を有する載置台と、
    前記基板を吸着させるための第2の吸引部を有する検査用保持部材と、
    開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第1の負圧発生部と、を有し、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
    前記第2の吸引部の吸着動作がオンされて前記基板を吸着して保持している前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部と前記載置台の前記第1の吸引部の吸着動作をオンにして前記開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
    を有し、
    前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面は、前記第1の吸引部の上面よりも低い第1の位置と、前記第1の位置よりも高く、かつ前記第1の吸引部の上面よりも低い第2の位置の2つの位置に移動可動である、
    検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
    前記受け渡し用補助部材の前記第1の負圧発生部の上面が前記第2の位置にあるときに、前記第1の吸引部と前記負圧発生部による吸着動作をオンにして、前記載置台に前記基板を吸着させ、
    前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第1の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う、
    ことを基板受け渡し方法。
  15. 前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項14に記載の基板受け渡し方法。
  16. 前記第1の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項15に記載の基板受け渡し方法。
  17. 前記制御部は、第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第2の負圧発生部を有する、前記基板を搬送する搬送用補助部材を、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第2の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第2の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項14から16のいずれか1つに記載の基板受け渡し方法。
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