JP2014176903A - Shot treatment device - Google Patents

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Kazutoshi Yamamoto
万俊 山本
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Sintokogio Ltd
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C3/00Abrasive blasting machines or devices; Plants
    • B24C3/18Abrasive blasting machines or devices; Plants essentially provided with means for moving workpieces into different working positions
    • B24C3/20Abrasive blasting machines or devices; Plants essentially provided with means for moving workpieces into different working positions the work being supported by turntables
    • B24C3/24Apparatus using impellers

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Load-Engaging Elements For Cranes (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a shot treatment device by which a total time for treatment can be shortened.SOLUTION: A rotating shaft member 46 provided at a ceiling portion 14U of a rotary 14 suspends and supports objects W to be treated in treatment chambers R1, and can revolve by rotation of the rotary 14 around a shaft line in a vertical direction of a device by a rotation drive mechanism 60 and rotate in a projection area 40B. The rotary 14 is halted by the rotation drive mechanism 60 at three positions of the projection area 40B as a position at which revolving of the objects W to be treated is stopped. Further, in the treatment chambers R1 are arranged side by side three chambers in the circumferential direction of the rotary 14. When the rotary 14 is halted at the position to stop the revolving, where projection is applied to the objects W to be treated, one chamber of the treatment chambers R1 is arranged in a carry-in area 40A and another chamber of the treatment chambers R1 is arranged in a carry-out area 40C.

Description

ロータリーによって被処理対象物を回転変位させると共に当該被処理対象物に対して投射材を投射するショット処理装置に関する。   The present invention relates to a shot processing apparatus that rotates and displaces an object to be processed by a rotary and projects a projection material onto the object to be processed.

ショット処理装置においては、ハンガーに掛け止めされた被処理対象物に投射機で投射材を投射すると共に、ハンガーが公転しながら投射エリアで自転する構成の装置がある。   In the shot processing apparatus, there is an apparatus having a configuration in which a projection material is projected onto an object to be processed that is hung on a hanger, and the hanger rotates and rotates in a projection area.

特開平9−76157号公報JP-A-9-76157

しかしながら、このような装置で被処理対象物を全面に亘って精度良くショット処理するにはある程度の時間を要するため、トータルの処理時間を短縮する点で改善の余地がある。   However, since it takes a certain amount of time to accurately perform shot processing on the entire object to be processed with such an apparatus, there is room for improvement in terms of reducing the total processing time.

本発明は、上記事実を考慮して、トータルの処理時間を短縮することができるショット処理装置を得ることが目的である。   An object of the present invention is to obtain a shot processing apparatus capable of reducing the total processing time in consideration of the above facts.

請求項1に記載する本発明のショット処理装置は、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、を有する。   The shot processing apparatus according to the first aspect of the present invention is rotatably provided around an axis in the vertical direction of the apparatus, and a plurality of processing chambers are arranged in the circumferential direction by partitioning a space around the axis into partitions. In addition to being arranged in parallel, the processing chamber is formed with an opening that opens toward the outer peripheral side and is used to carry in the object to be processed, to carry out the object to be processed, and to pass the projection material. A rotary, a projector for projecting a projection material into the processing chamber through the opening in the processing chamber, and a ceiling provided on the rotary to support the object to be processed suspended in the processing chamber A suspension support part capable of rotating in a projection area where the object to be processed is projected by the projector, and the suspension support part revolves by rotating the rotary around the axis, and the projection area Double Position; and a rotary drive mechanism for stopping the primary the rotary as revolving stop position of the object to be processed.

請求項1に記載する本発明のショット処理装置によれば、ロータリーは、装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されている。これに対して、投射機は、処理室における開口部を通して処理室の内部に投射材を投射する。また、吊下支持部は、ロータリーの天井部に設けられて被処理対象物を処理室内に吊り下げ支持する共に、被処理対象物が投射機により投射される投射エリアで自転可能となっている。このため、被処理対象物が全周に亘って投射される。また、回転駆動機構は、ロータリーを装置上下方向の軸線の周りに回転させることで吊下支持部を公転させると共に、投射エリアの複数位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させる。このため、被処理対象物は、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。   According to the shot processing apparatus of the present invention described in claim 1, the rotary is provided so as to be rotatable around an axis in the vertical direction of the apparatus, and a plurality of processes are performed by partitioning a space around the axis into partitions. The chambers are arranged side by side in the circumferential direction, and the processing chamber is opened toward the outer peripheral side, and an opening is formed for loading the object to be processed, for discharging the object to be processed, and for passing the projection material. Has been. On the other hand, a projector projects a projection material into the inside of a process chamber through the opening part in a process chamber. In addition, the suspension support unit is provided on the ceiling of the rotary to support the object to be processed in a processing chamber, and is capable of rotating in a projection area where the object to be processed is projected by the projector. . For this reason, a to-be-processed target object is projected over the perimeter. The rotation drive mechanism revolves the suspension support part by rotating the rotary around the vertical axis of the apparatus, and temporarily stops the rotary with a plurality of positions in the projection area as the revolution stop positions of the object to be processed. . For this reason, since the method of hitting the projection material is relatively changed at a plurality of revolution stop positions, the object to be processed is projected more uniformly and accurately.

請求項2に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1記載の構成において、前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。   A shot processing apparatus according to a second aspect of the present invention is the shot processing apparatus according to the first aspect, wherein the revolving stop position of the object to be processed in the projection area is the rotation axis of the suspension support portion in plan view of the apparatus. Is a second position that is a position disposed on the center line in the projection direction of the projection material in the projector, a first position that is a position upstream of the second rotation direction with respect to the second position, and the first position And a third position which is a position downstream of the rotary in the rotational direction with respect to the two positions.

請求項2に記載する本発明のショット処理装置によれば、投射エリアに入った被処理対象物は、第一位置、第二位置、及び第三位置の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、第二位置は、装置平面視で吊下支持部の自転軸心が投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となっており、第一位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向上流側の位置であり、第三位置は、第二位置に対してロータリーの回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物は、投射材が効率良く当たる第二位置とその前後の第一、第三位置で、効率的にかつ均一に投射される。   According to the shot processing apparatus of the present invention described in claim 2, the object to be processed that has entered the projection area is revolved and stopped in the order of the first position, the second position, and the third position. Projected while spinning. Here, the second position is a position where the axis of rotation of the suspension support part is arranged on the center line in the projection direction of the projection material in the projector in plan view of the apparatus, and the first position is the second position The third position is a position on the downstream side in the rotational direction of the rotary with respect to the second position. For this reason, a to-be-processed target object is efficiently and uniformly projected by the 2nd position where a projection material hits efficiently, and the 1st, 3rd position before and behind that.

請求項3に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1又は請求項2に記載の構成において、前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、が設けられると共に、前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている。   A shot processing apparatus according to a third aspect of the present invention is the shot processing apparatus according to the first or second aspect, wherein the carry-in area for hanging and supporting the object to be treated on the suspension support portion, An unloading area for lowering the object to be processed from the suspension support part, and three or more processing chambers are arranged in the circumferential direction of the rotary, and the revolution stop position of the object to be processed When the rotary is temporarily stopped, at least one of the processing chambers is disposed in the carry-in area and at least one other of the processing chambers is disposed in the carry-out area. Has been.

請求項3に記載する本発明のショット処理装置によれば、搬入エリアは、被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリアは、被処理対象物を吊下支持部から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室がロータリーの周方向に三室以上並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの少なくとも一室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの他の少なくとも一室は搬出エリアに配置される。このため、投射エリアで被処理対象物に投射がなされている間に、搬入エリアで被処理対象物を吊下支持部に吊り下げ支持させると同時に、搬出エリアで被処理対象物を吊下支持部から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、1箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。   According to the shot processing apparatus of the present invention as set forth in claim 3, the carry-in area is an area for hanging and supporting the object to be processed on the suspension support part, and the carry-out area is the object to be processed. It is an area for lowering from the suspension support part. Three or more processing chambers are arranged in the circumferential direction of the rotary, and at least one of the processing chambers is arranged in the carry-in area when the rotary is temporarily stopped at the revolution stop position of the object to be processed. At least one other of the processing chambers is disposed in the carry-out area. For this reason, while the projection is performed on the object to be processed in the projection area, the object to be processed is suspended and supported by the suspension support portion in the carry-in area, and at the same time, the object to be treated is suspended and supported in the carry-out area. Can be taken off from the department. In this way, since the carry-out and carry-in can be performed simultaneously in different areas during projection, the time required for carry-in / out is reduced compared to a configuration in which carry-out and carry-in are performed in one area, for example. The

請求項4に記載する本発明のショット処理装置は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の構成において、前記投射機は、前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、を備えている。   A shot processing apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the shot processing apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the projector is disposed on a side of the upper part of the rotary, The first projector is set so that the center line of the projection direction is inclined to the lower side of the apparatus toward the inside of the processing chamber, and is arranged on the side of the lower part of the rotary, and the projection direction of the projection material The center line is set to incline toward the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chamber, and the projection amount per unit time of the projection material is set to be larger than that of the first projector. And a projector.

請求項4に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、ロータリーの上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機は、ロータリーの下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物に対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物の全面に効率良く投射される。また、第二投射機は、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機に比べて多量に設定されているので、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機の斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。   According to the shot processing apparatus of the present invention described in claim 4, the first projector is disposed on the upper side of the rotary, and the center line in the projection direction of the projection material is directed toward the inner side of the processing chamber. It is set to incline to the side. On the other hand, the second projector is arranged on the lower side of the rotary, and is set so that the center line in the projection direction of the projection material is inclined toward the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chamber. As described above, the projection material is projected from both the obliquely upper side and the obliquely lower side to the object to be processed, so that the object is efficiently projected on the entire surface of the object to be processed. Moreover, since the projection amount of the projection material per unit time of the second projector is set to be larger than that of the first projector, even if the projection material is decelerated by the oblique upward projection, the first projector Shot processing equivalent to shot processing by obliquely downward projection is performed.

請求項5に記載する本発明のショット処理装置は、請求項4記載の構成において、前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the shot processing apparatus according to the fourth aspect of the invention, wherein a center line of the projection direction of the projection material in the first projector and a projection direction of the projection material in the second projector. The center line is set so as not to intersect at least in the space on each projection position side with respect to the lower extension line of the rotation axis of the suspension support portion.

請求項5に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機から投射された投射材と第二投射機から投射された投射材とが被処理対象物に達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。   According to the shot processing device of the present invention described in claim 5, at least the center line of the projection direction of the projection material in the first projector and the center line of the projection direction of the projection material in the second projector are suspended. The projection material projected from the first projector and the projection material projected from the second projector are set so as not to intersect in the space on each projection position side from the lower extension line of the support shaft. Can be prevented from interfering with each other before reaching the object to be processed. For this reason, the projection efficiency is improved.

以上説明したように、本発明に係るショット処理装置によれば、トータルの処理時間を短縮することができるという優れた効果を有する。   As described above, the shot processing apparatus according to the present invention has an excellent effect that the total processing time can be shortened.

本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。1 is a front view showing an overall configuration of a shot blasting apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す左側面図である。1 is a left side view showing an overall configuration of a shot blasting apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。1 is a plan view showing an overall configuration of a shot blasting apparatus according to a first embodiment of the present invention. 投射エリアにおける被処理対象物の公転停止位置を示す模式的な平面図である。図4(A)は第一位置を示し、図4(B)は第二位置を示し、図4(C)は第三位置を示している。It is a typical top view which shows the revolution stop position of the to-be-processed target object in a projection area. 4A shows the first position, FIG. 4B shows the second position, and FIG. 4C shows the third position. 本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置の制御等を説明するための装置平面視の概略構成図である。It is a schematic block diagram of apparatus plan view for demonstrating control etc. of the shot blasting apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置のロータリー及びその周辺部の概略構成を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows schematic structure of the rotary of the shot blasting apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention, and its peripheral part. 本発明の第2の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。It is a front view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。It is a right view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態における処理室の構成を示す平面視の断面図である。It is sectional drawing of planar view which shows the structure of the process chamber in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の変形例の構成を示す平面図である。図11(A)は第1の変形例、図11(B)は第2の変形例、図11(C)は第3の変形例、図11(D)は第4の変形例、図11(E)は第5の変形例、図11(F)は第6の変形例をそれぞれ示す。It is a top view which shows the structure of the modification of the 2nd Embodiment of this invention. 11A is the first modification, FIG. 11B is the second modification, FIG. 11C is the third modification, FIG. 11D is the fourth modification, and FIG. (E) shows a fifth modification, and FIG. 11 (F) shows a sixth modification. 本発明の第3の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。It is a front view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。It is a right view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す正面図である。It is a front view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す右側面図である。It is a right view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係るショットブラスト装置の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the shot blasting apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention.

[第1実施形態]
本発明の第1の実施形態に係るショット処理装置としてのロータリーハンガー式のショットブラスト装置10について図1〜図6を用いて説明する。なお、これらの図において適宜示される矢印FRは図1の装置正面視の手前側を示しており、矢印UPは装置上方側を示しており、矢印LHは図1の装置正面視の左側を示している。また、矢印Xは被処理対象物Wの搬送方向を示している。
[First Embodiment]
A rotary hanger type shot blasting apparatus 10 as a shot processing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that an arrow FR shown as appropriate in these drawings indicates the front side of the apparatus front view of FIG. 1, an arrow UP indicates the upper side of the apparatus, and an arrow LH indicates the left side of the apparatus front view of FIG. ing. An arrow X indicates the conveyance direction of the workpiece W.

図1には、本発明の第1の実施形態に係るショットブラスト装置10の全体構成が正面図にて示され、図2には、ショットブラスト装置10の全体構成が左側面図にて示され、図3には、ショットブラスト装置10の全体構成が平面図にて示されている。   FIG. 1 is a front view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a left side view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 10. FIG. 3 is a plan view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 10.

本実施形態に係るショットブラスト装置10は、例えば、鍛造品のスケール落とし等に適用される装置である。被処理対象物Wには、鍛造品、プレス品、溶接構造物、及び熱処理部品(例えば、ギア等)等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。   The shot blasting apparatus 10 according to the present embodiment is an apparatus that is applied, for example, to scale down a forged product. More specifically, for example, automobile-related parts such as forged products, pressed products, welded structures, and heat treated parts (for example, gears) are applied to the object to be processed W.

図1〜図3に示されるように、ショットブラスト装置10は、キャビネット12を備えている。キャビネット12は、中空の略七角柱状に形成されている。また、図3に示されるように、キャビネット12には、被処理対象物Wを搬入する(矢印A方向参照)ための搬入口12A、及び被処理対象物Wを搬出する(矢印B方向参照)ための搬出口12Bが形成されている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the shot blasting apparatus 10 includes a cabinet 12. The cabinet 12 is formed in a hollow substantially heptagonal prism shape. Further, as shown in FIG. 3, the cabinet 12 carries the workpiece W into the workpiece 12 (see arrow A direction) and the workpiece W (see arrow B direction). For this purpose, a carry-out port 12B is formed.

キャビネット12の内部における中央部には、略円筒状のロータリー14が配置されている。ロータリー14は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構60に接続されている。   A substantially cylindrical rotary 14 is arranged at the center in the cabinet 12. As will be described in detail later, the rotary 14 is connected to a rotational drive mechanism 60 so as to be rotationally driven around an axis in the vertical direction of the apparatus.

図6には、ロータリー14及びその周辺部の概略構成が模式的な斜視図にて示されている。図6に示されるように、ロータリー14は、天板部材15Aと底板部材15Bとが複数の柱部材15C、15D、15Eによって装置上下方向に連結されている。また、複数の柱部材15C、15D、15Eは、ロータリー14の回転中心の周りに配置されている。すなわち、外周側に開放された屈曲板状の柱部材15Cが周方向に間隔を開けて三本配置されると共に、隣り合う柱部材15Cの内周側のコーナ部同士が連結用の柱部材15Dにより連結され、さらに、隣り合う柱部材15Cの外周側の端部同士が外壁用の柱部材15Eにより連結されている。   FIG. 6 is a schematic perspective view showing a schematic configuration of the rotary 14 and its peripheral part. As shown in FIG. 6, in the rotary 14, the top plate member 15 </ b> A and the bottom plate member 15 </ b> B are connected in the vertical direction of the apparatus by a plurality of column members 15 </ b> C, 15 </ b> D, 15 </ b> E. The plurality of column members 15 </ b> C, 15 </ b> D, and 15 </ b> E are arranged around the rotation center of the rotary 14. That is, three bent plate-like column members 15C opened to the outer peripheral side are arranged at intervals in the circumferential direction, and corner portions on the inner peripheral side of adjacent column members 15C are connected to each other. Further, end portions on the outer peripheral side of adjacent column members 15C are connected by a column member 15E for an outer wall.

柱部材15Eは、装置平面視で公転軸部62の軸心を円弧中心とした外周壁14Wを備えている。そして、外周壁14Wは、ロータリー14の回転中心となる装置上下方向の軸線の周りの空間を取り囲む位置に配置されている。また、外周壁14Wの内側の空間には、仕切部16(前述した屈曲板状の柱部材15C(仕切部材)で構成された部位)に仕切られることで複数(本実施形態では三室)の処理室R1が周方向に並設されている。処理室R1は、被処理対象物Wの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室R1には、外周側に向けて開口した開口部14Aが、前述した屈曲板状の柱部材15C、天板部材15A、及び底板部材15Bによって形成されている。開口部14Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。なお、前述の説明及び図6から明らかなように、仕切部16は、ロータリー14における天井部14Uの下方側に設けられているが、図3では、図を見易くするために、仕切部16を隠れ線ではなく実線で図示している。   The column member 15E includes an outer peripheral wall 14W having the axis of the revolution shaft portion 62 as the center of the arc in the apparatus plan view. The outer peripheral wall 14 </ b> W is disposed at a position surrounding a space around an axis in the vertical direction of the apparatus that is the rotation center of the rotary 14. Moreover, in the space inside the outer peripheral wall 14W, a plurality of (three chambers in this embodiment) processing is performed by partitioning into the partitioning portion 16 (the portion formed by the bent plate-like column member 15C (partition member) described above). Chamber R1 is arranged in the circumferential direction. The processing chamber R1 is a room for carrying in / out the workpiece W and projecting the projection material. In these processing chambers R1, an opening 14A that opens toward the outer peripheral side is formed by the bent plate-like column member 15C, the top plate member 15A, and the bottom plate member 15B described above. The opening 14A is used for carrying in the workpiece W, carrying out the workpiece W, and passing the projection material. As is clear from the above description and FIG. 6, the partitioning portion 16 is provided on the lower side of the ceiling portion 14 </ b> U in the rotary 14. However, in FIG. It is shown as a solid line, not a hidden line.

ここで、処理室R1について補足説明すると、図6に示される処理室R1は、キャビネット12の内部空間に配置され、ロータリー14の回転変位によって、搬入室18、投射室20、及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入室18は、ショットブラスト装置10の搬入エリア40Aに配置されて被処理対象物Wの搬入を行うための部屋であり、投射室20は、ショットブラスト装置10の投射エリア40Bに配置されて被処理対象物Wへの投射材の投射によって被処理対象物Wの表面加工をなす部屋であり、搬出室22は、ショットブラスト装置10の搬出エリア40Cに配置されて被処理対象物Wの搬出を行うための部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入室18であった処理室R1は、ロータリー14がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室20になり、さらに、ロータリー14がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬出室22になる。   Here, a supplementary explanation of the processing chamber R1 will be described. The processing chamber R1 shown in FIG. 6 is disposed in the internal space of the cabinet 12, and the rotation displacement of the rotary 14 causes the loading chamber 18, the projection chamber 20, and the unloading chamber 22 to move. It can be any room. Here, the carry-in chamber 18 is a room that is arranged in the carry-in area 40A of the shot blasting apparatus 10 and carries in the workpiece W, and the projection chamber 20 is arranged in the projection area 40B of the shot blasting apparatus 10. Is a room where surface treatment of the object to be processed W is performed by projecting a projection material onto the object to be processed W, and the unloading chamber 22 is arranged in the unloading area 40C of the shot blasting apparatus 10 and is processed. It is a room for carrying out. In other words, for example, the processing chamber R1 that was initially the carry-in chamber 18 becomes the projection chamber 20 when the rotary 14 is rotationally displaced about its axis by a predetermined angle, and further, the rotary 14 is about its axis. The carry-out chamber 22 is formed by rotational displacement by a predetermined angle.

なお、搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としての自転軸部材46に吊り下げ支持させるためのエリアである。また、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wを自転軸部材46から降ろすためのエリアである。   The carry-in area 40A is an area for suspending and supporting the object to be processed W on a rotation shaft member 46 as a suspending support portion described later. Further, the carry-out area 40 </ b> C is an area for lowering the workpiece W from the rotation shaft member 46.

一方、ロータリー14の上部の側方には第一投射機30Aが配置されており、この第一投射機30Aは、キャビネット12の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー14の下部の側方には第二投射機30Bが配置されており、この第二投射機30Bは、キャビネット12の側壁の下部側に取り付けられている。また、本実施形態では、第一投射機30Aが取り付けられる取付面と第二投射機30Bが取り付けられる取付面とは、隣り合った異なる面に設定されている。なお、図1に示される第一投射機30Aが取り付けられる取付部12D及び第二投射機30Bが取り付けられる取付部12Eは、点検時に開閉可能な点検扉を兼ねている。   On the other hand, a first projector 30 </ b> A is disposed on the side of the upper portion of the rotary 14, and the first projector 30 </ b> A is attached to the upper side of the side wall of the cabinet 12. On the other hand, a second projector 30 </ b> B is disposed on the lower side of the rotary 14, and the second projector 30 </ b> B is attached to the lower side of the side wall of the cabinet 12. In the present embodiment, the attachment surface to which the first projector 30A is attached and the attachment surface to which the second projector 30B is attached are set to different adjacent surfaces. In addition, the attachment part 12D to which the first projector 30A shown in FIG. 1 is attached and the attachment part 12E to which the second projector 30B is attached also serve as an inspection door that can be opened and closed during inspection.

第一投射機30A及び第二投射機30Bは、羽根車(インペラ)の回転により投射材(ショット、本実施形態では一例として鋼球)に遠心力を付与することが可能な遠心式投射機とされている。そして、図6に示されるように、第一投射機30A及び第二投射機30Bは、遠心力で加速させた投射材を処理室R1における開口部14Aを通して処理室R1の内部に投射するようになっている。   The first projector 30 </ b> A and the second projector 30 </ b> B are a centrifugal projector that can apply a centrifugal force to a projection material (shot, a steel ball as an example in the present embodiment) by rotation of an impeller (impeller). Has been. Then, as shown in FIG. 6, the first projector 30A and the second projector 30B project the projection material accelerated by centrifugal force into the processing chamber R1 through the opening 14A in the processing chamber R1. It has become.

第一投射機30Aは、投射材の投射方向の中心線L1が処理室R1の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機30Bは、投射材の投射方向の中心線L2が処理室R1の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機30Aにおける投射材の投射方向の中心線L1と、第二投射機30Bにおける投射材の投射方向の中心線L2とが、自転軸部材46の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。なお、図中では、第一、第二投射機30A、30Bからの投射軌跡の範囲が中心線L1、L2を挟む二点鎖線で示されている。   30 A of 1st projectors are set so that the centerline L1 of the projection direction of a projection material may incline to the apparatus downward side toward the inner side of process chamber R1. On the other hand, the second projector 30B is set so that the center line L2 in the projection direction of the projection material is inclined toward the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chamber R1. Further, the center line L1 in the projection direction of the projection material in the first projector 30A and the center line L2 in the projection direction of the projection material in the second projector 30B are from the lower extension line of the rotation shaft of the rotation shaft member 46. Is set so as not to intersect in the space on the projection position side. In the figure, the range of the projection trajectory from the first and second projectors 30A and 30B is indicated by a two-dot chain line sandwiching the center lines L1 and L2.

さらに、第二投射機30Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aに比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機30Aにおける投射材の単位時間当たりの投射量が300kg/min、下側の第二投射機30Bにおける投射材の単位時間当たりの投射量が400kg/minに設定されている。なお、この投射材の単位時間当たりの投射量の調整については後述する。   Furthermore, the 2nd projector 30B is set so that the projection amount per unit time of a projection material may become large compared with 30 A of 1st projectors. In this embodiment, as an example, the projection amount per unit time of the projection material in the upper first projector 30A is 300 kg / min, and the projection amount per unit time of the projection material in the lower second projector 30B is 400 kg. / Min. The adjustment of the projection amount per unit time of the projection material will be described later.

一方、処理室R1内に投射された投射材を装置下方側へ落下させるために、処理室R1の底床部14Zには複数の孔部14Z1が形成されている。また、図6では図示を省略しているが、図3に示されるように、外周壁14Wの外側には取付板を介してシール部材42が取り付けられている。シール部材42は、ゴム製とされて外周壁14Wの上下方向の全長に亘って設けられると共に装置平面視で周方向に沿って複数配置されており、外周壁14Wとキャビネット12の内周面との間をシールしている。さらに、ロータリー14の外周側に対向するキャビネット12の内周側には、円柱状の丸棒(図示省略)が装置上下方向を軸方向として取り付けられている。前記丸棒は、キャビネット12の内周の周方向に沿って複数配置されており、キャビネット12の内周に沿って流れようとする投射材の進行を阻止して落下させるようになっている。   On the other hand, a plurality of holes 14Z1 are formed in the bottom floor portion 14Z of the processing chamber R1 in order to drop the projection material projected into the processing chamber R1 to the apparatus lower side. Moreover, although illustration is abbreviate | omitted in FIG. 6, as shown in FIG. 3, the sealing member 42 is attached to the outer side of the outer peripheral wall 14W via the attachment plate. The seal member 42 is made of rubber and is provided over the entire length in the vertical direction of the outer peripheral wall 14W, and a plurality of the seal members 42 are disposed along the circumferential direction in a plan view of the apparatus, and the outer peripheral wall 14W and the inner peripheral surface of the cabinet 12 The space between them is sealed. Further, a columnar round bar (not shown) is attached to the inner peripheral side of the cabinet 12 facing the outer peripheral side of the rotary 14 with the vertical direction of the apparatus as the axial direction. A plurality of the round bars are arranged along the circumferential direction of the inner periphery of the cabinet 12, and the projecting material that is going to flow along the inner periphery of the cabinet 12 is prevented from traveling and dropped.

図1に示されるように、第一投射機30Aには、導入筒28Aを介して投射材供給用の導入管26Aの下端が連結され、導入管26Aの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置24Aが設けられている。同様に、第二投射機30Bには、導入筒28Bを介して投射材供給用の導入管26Bの下端が連結され、導入管26Bの上端には投射材の流量を調整するための流量調整装置24Bが設けられている。   As shown in FIG. 1, the first projector 30A is connected to the lower end of an introduction pipe 26A for supplying a projection material via an introduction cylinder 28A, and the flow rate of the projection material is adjusted to the upper end of the introduction pipe 26A. A flow rate adjusting device 24A is provided. Similarly, the lower end of the introduction pipe 26B for supplying the projection material is connected to the second projector 30B via the introduction cylinder 28B, and the flow rate adjusting device for adjusting the flow rate of the projection material at the upper end of the introduction pipe 26B. 24B is provided.

流量調整装置24A、24Bは、開閉ゲートを備えており、この開閉ゲートの開度は調整可能とされている。そして、本実施形態では、流量調整装置24A、24Bの開閉ゲートを開く場合には、流量調整装置24Aの開閉ゲートのゲート開度よりも流量調整装置24Bの開閉ゲートのゲート開度のほうが大きくなるように設定されている。これにより、第二投射機30Bによる投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aによる投射材の単位時間当たりの投射量に比べて多量に設定される。図5に示されるように、流量調整装置24A、24Bは、制御部38に接続されており、開閉ゲートの作動(開閉及び開閉量の調整)が制御部38によって制御されている。   The flow rate adjusting devices 24A and 24B are provided with an open / close gate, and the opening degree of the open / close gate can be adjusted. In this embodiment, when opening the opening / closing gates of the flow rate adjusting devices 24A, 24B, the gate opening degree of the opening / closing gate of the flow rate adjusting device 24B is larger than the gate opening degree of the opening / closing gate of the flow rate adjusting device 24A. Is set to Thereby, the projection amount per unit time of the projection material by the second projector 30B is set larger than the projection amount per unit time of the projection material by the first projector 30A. As shown in FIG. 5, the flow rate adjusting devices 24 </ b> A and 24 </ b> B are connected to the control unit 38, and the operation of the open / close gate (open / close and adjustment of the open / close amount) is controlled by the control unit 38.

また、図1に示されるように、第一投射機30Aは、導入筒28A、導入管26A、及び流量調整装置24Aを介して循環装置34に連結され、第二投射機30Bは、導入筒28B、導入管26B、及び流量調整装置24Bを介して循環装置34に連結されている。循環装置34は、第一投射機30A及び第二投射機30Bによって投射された投射材を搬送して第一投射機30A及び第二投射機30Bへ循環させるための装置である。   Further, as shown in FIG. 1, the first projector 30A is connected to the circulation device 34 via the introduction tube 28A, the introduction tube 26A, and the flow rate adjusting device 24A, and the second projector 30B is connected to the introduction tube 28B. , And the circulation device 34 through the introduction pipe 26B and the flow rate adjustment device 24B. The circulation device 34 is a device for conveying the projection material projected by the first projector 30A and the second projector 30B and circulating it to the first projector 30A and the second projector 30B.

循環装置34は、キャビネット12の下部にスクリュウコンベヤ34Aを備えている。スクリュウコンベヤ34Aは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、投射室20(図6参照)から落下する投射材を回収して当該投射材をスクリュウコンベヤ34Aの長手方向に沿った所定方向(本実施形態では装置右側)へ向けて搬送するようになっている。スクリュウコンベヤ34Aの搬送方向下流側(図1の装置右側)には、装置上下方向に延びるバケットエレベータ34Bの下端部側が配置されている。   The circulation device 34 includes a screw conveyor 34 </ b> A at the lower portion of the cabinet 12. The screw conveyor 34A is horizontally arranged with the apparatus left-right direction as the longitudinal direction, collects the projection material falling from the projection chamber 20 (see FIG. 6), and supplies the projection material to the predetermined direction along the longitudinal direction of the screw conveyor 34A. It is transported in the direction (right side of the apparatus in this embodiment). A lower end portion side of a bucket elevator 34B extending in the vertical direction of the apparatus is disposed on the downstream side in the conveying direction of the screw conveyor 34A (the apparatus right side in FIG. 1).

図2に示されるように、バケットエレベータ34Bは、公知構造であるため詳細説明を省略するが、ショットブラスト装置10の上部及び下部に配置されたプーリ34B1に無端ベルト34B2が巻き掛けられると共に、無端ベルト34B2に多数のバケット34B3が取り付けられている。またプーリ34B1は駆動用モータ34C(図1参照)に接続されて回転駆動可能とされている。これにより、バケットエレベータ34Bは、スクリュウコンベヤ34Aで回収した投射材をバケット34B3で掬い上げると共に、プーリ34B1を駆動用モータ34C(図1参照)で回転させることによって、バケット34B3内の投射材をキャビネット12の上方側へ向けて搬送するようになっている。   As shown in FIG. 2, the bucket elevator 34B has a known structure, and thus a detailed description thereof is omitted. However, an endless belt 34B2 is wound around a pulley 34B1 disposed at the upper part and the lower part of the shot blasting apparatus 10, and the endless belt 34B1 is also endless. A number of buckets 34B3 are attached to the belt 34B2. The pulley 34B1 is connected to a driving motor 34C (see FIG. 1) and can be driven to rotate. As a result, the bucket elevator 34B scoops up the projection material collected by the screw conveyor 34A with the bucket 34B3 and rotates the pulley 34B1 with the drive motor 34C (see FIG. 1), thereby removing the projection material in the bucket 34B3 from the cabinet. 12 is conveyed toward the upper side.

バケットエレベータ34Bの上部は、シュート34Dを介してスクリュウコンベヤ34Eに接続されている。なお、図1に示される装置右側の架台36は、バケットエレベータ34Bの上部及びスクリュウコンベヤ34Eの点検を行う際に作業者の足場となる台である。図1に示されるように、スクリュウコンベヤ34Eは、水平に配置されて装置左右方向を長手方向としており、バケットエレベータ34Bの上部からシュート34Dを介して投入された投射材をスクリュウコンベヤ34Eの長手方向に沿った所定方向(本実施形態では装置左側)へ搬送するようになっている。   The upper part of the bucket elevator 34B is connected to a screw conveyor 34E via a chute 34D. The stand 36 on the right side of the apparatus shown in FIG. 1 is a stand that serves as a scaffold for the operator when checking the upper portion of the bucket elevator 34B and the screw conveyor 34E. As shown in FIG. 1, the screw conveyor 34E is arranged horizontally and has the left-right direction of the apparatus as the longitudinal direction, and the projection material thrown from the upper part of the bucket elevator 34B through the chute 34D is longitudinal direction of the screw conveyor 34E. Is conveyed in a predetermined direction (in this embodiment, the left side of the apparatus).

スクリュウコンベヤ34Eの長手方向中間部の下方側には、スクリュウコンベヤ34Eからの投射材が流通可能な位置に投射材タンク34F、34Gが設けられている。投射材タンク34F、34Gは、スクリュウコンベヤ34Eで搬送された投射材を流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、投射材タンク34Fは流量調整装置24Aの上方側に配置され、投射材タンク34Gは流量調整装置24Bの上方側に配置されている。   Projection material tanks 34F and 34G are provided below the intermediate portion in the longitudinal direction of the screw conveyor 34E at positions where the projection material from the screw conveyor 34E can flow. The projecting material tanks 34F and 34G are tanks for supplying the projecting material conveyed by the screw conveyor 34E to the flow rate adjusting devices 24A and 24B. The projecting material tank 34F is disposed on the upper side of the flow rate adjusting device 24A. The material tank 34G is disposed above the flow rate adjusting device 24B.

一方、スクリュウコンベヤ34Eの搬送方向下流側の端部には、オーバーフローパイプ34Hの上端部が設けられている。また、オーバーフローパイプ34Hの下端部には、風選式のセパレータ34Iが取り付けられている。セパレータ34Iは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっている。   On the other hand, the upper end of the overflow pipe 34H is provided at the end of the screw conveyor 34E on the downstream side in the transport direction. A wind-selective separator 34I is attached to the lower end of the overflow pipe 34H. Separator 34I classifies the foreign matter from the projection material by sorting the powder material containing the injected projection material into an air current by applying it to the light weight and the falling heavy material.

セパレータ34Iの側面部には、セパレータ34Iに連通するセトリングチャンバ34Jが取り付けられている。セトリングチャンバ34Jは、ダクト34Kを介して図示しない集塵機に接続されると共に、セトリングチャンバ34Jの内部(セパレータ34I側とダクト34K側と間)の通路にチャンバ上壁側から垂れ下がる案内板34J1を備えている。これにより、セトリングチャンバ34Jは、前記集塵機の吸入手段(ブロワ)の吸入力で吸入された空気へ案内板34J1によって迂回流を生じさせると共に、吸入されたエア中の粒子(異物)を前記迂回流によって分離するようになっている。   A settling chamber 34J communicating with the separator 34I is attached to a side surface portion of the separator 34I. The settling chamber 34J is connected to a dust collector (not shown) through a duct 34K, and includes a guide plate 34J1 that hangs down from the upper wall side of the chamber in a passage inside the settling chamber 34J (between the separator 34I side and the duct 34K side). Yes. Thus, the settling chamber 34J causes the guide plate 34J1 to generate a detour flow by the guide plate 34J1 to the air sucked by the suction means (blower) of the dust collector, and also causes the particles (foreign matter) in the sucked air to flow by the detour flow. It comes to be separated by.

ダクト34Kは、微粉を含むエアを流通させるようになっており、ダクト34Kに連結された前記集塵機は、微粉を含むエアを濾過してエアのみを大気中へ排気すると共に、微粉を前記集塵機の下方側の微粉受箱(図示省略)に堆積させるようになっている。   The duct 34K is configured to circulate air containing fine powder. The dust collector connected to the duct 34K filters the air containing fine powder and exhausts only the air into the atmosphere. It accumulates in a fine powder receiving box (not shown) on the lower side.

セトリングチャンバ34Jの下部は、傾斜篩34Lに連通しており、セトリングチャンバ34Jで前記異物から分離された粗粉が傾斜篩34Lで篩い分けられる(分級される)ようになっている。また、傾斜篩34Lは、投射材戻りシュート34Mを介してキャビネット12の内部(スクリュウコンベヤ34Aの上流側近傍)に連通している。傾斜篩34Lで篩い分けられて使用可能な投射材は、投射材戻りシュート34Mを通ってキャビネット12の内部に戻り、循環使用されるようになっている。   The lower part of the settling chamber 34J communicates with the inclined sieve 34L, and the coarse powder separated from the foreign matter in the settling chamber 34J is sieved (classified) by the inclined sieve 34L. Further, the inclined sieve 34L communicates with the inside of the cabinet 12 (near the upstream side of the screw conveyor 34A) via the projection material return chute 34M. The projection material that can be used after being screened by the inclined screen 34L returns to the inside of the cabinet 12 through the projection material return chute 34M and is used in a circulating manner.

また、セトリングチャンバ34Jの下部は微粉排出シュート34Nに連通し、微粉排出シュート34Nの下方側には、微粉受け箱34Pが配置されている。これにより、セトリングチャンバ34Jにて分離された微粉が微粉排出シュート34Nを通って微粉受け箱34Pへ排出されるようになっている。   The lower portion of the settling chamber 34J communicates with the fine powder discharge chute 34N, and a fine powder receiving box 34P is disposed below the fine powder discharge chute 34N. Thereby, the fine powder separated in the settling chamber 34J is discharged to the fine powder receiving box 34P through the fine powder discharge chute 34N.

次に、図2に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図2に示されるように、ロータリー14の天井部14Uには、自転軸部材46が設けられている。自転軸部材46は、その下部が処理室R1内に配置され、ケージ44を介して被処理対象物Wを処理室R1内に吊り下げ支持する。被処理対象物Wがケージ44内に配置されることで被処理対象物Wの落下防止と被処理対象物Wの傷付き防止が図られている。ケージ44を自転させる自転軸部材46の自転軸線と平面視でのケージ44の回転中心とは、装置平面視で同心になるように設定されている(図示省略)。なお、図2の図中左側のケージ44は、自転軸部材46から取り外された状態を示している。   Next, a mechanism for revolving and rotating the workpiece W shown in FIG. 2 will be described. As shown in FIG. 2, a rotation shaft member 46 is provided on the ceiling portion 14 </ b> U of the rotary 14. The lower portion of the rotation shaft member 46 is disposed in the processing chamber R1 and supports the workpiece W to be suspended in the processing chamber R1 via the cage 44. By arranging the workpiece W in the cage 44, the fall of the workpiece W and the scratch of the workpiece W are prevented. The rotation axis of the rotation shaft member 46 that rotates the cage 44 and the rotation center of the cage 44 in plan view are set so as to be concentric in plan view of the apparatus (not shown). 2 shows a state where the cage 44 on the left side is removed from the rotation shaft member 46.

また、キャビネット12には、回転駆動機構60が設けられている。回転駆動機構60は、公転軸部62、公転車輪64、及び公転駆動モータ66を含んで構成され、ロータリー14を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材46を公転させるようになっている。   The cabinet 12 is provided with a rotation drive mechanism 60. The rotation drive mechanism 60 includes a revolution shaft portion 62, a revolution wheel 64, and a revolution drive motor 66, and revolves the rotation shaft member 46 by rotating the rotary 14 about the vertical axis of the apparatus. It has become.

公転軸部62は、ロータリー14の天井部14Uの中央部に取り付けられ、装置上下方向を軸方向としてロータリー14の上方側に配置されており、その上下方向中間部は軸受部68を介してフレーム部70を貫通している。公転車輪64は、公転軸部62の上端部に同軸的に連結されており、公転駆動モータ66によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、公転軸部62は、公転駆動モータ66の作動によって装置上下方向の軸周りに回転するようになっている。図5に示されるように、公転駆動モータ66(図5ではブロック化して図示)は、制御部38に接続されており、制御部38によって作動が制御されている。   The revolving shaft portion 62 is attached to the center portion of the ceiling portion 14U of the rotary 14 and is disposed on the upper side of the rotary 14 with the device vertical direction as the axial direction. The part 70 is penetrated. The revolution wheel 64 is coaxially connected to the upper end portion of the revolution shaft portion 62 and is driven to rotate by a revolution drive motor 66. In other words, the revolution shaft portion 62 is configured to rotate around an axis in the vertical direction of the apparatus by the operation of the revolution drive motor 66. As shown in FIG. 5, the revolution drive motor 66 (illustrated in block form in FIG. 5) is connected to the control unit 38, and the operation is controlled by the control unit 38.

また、回転駆動機構60は、公転ロック用として、ロータリー14の外周面の所定位置に形成された凹部14Xと、ロータリー14の外周面に対向して配置されたロックシリンダ72A(図中では模式化して図示)と、を備えている。本実施形態では、凹部14Xは、ロータリー14の周方向の近接位置に三個連続して形成されて凹部群を形成すると共に、この凹部群がロータリー14の周方向に等間隔で計三箇所に形成されている。また、ロックシリンダ72Aは、公知のエアシリンダとされ、ロッド72A1が凹部14Xの内部に嵌る位置とロータリー14の外周面から離れた位置との間で伸縮可能とされている。   Further, the rotation drive mechanism 60 is used for revolving lock, a recess 14X formed at a predetermined position on the outer peripheral surface of the rotary 14, and a lock cylinder 72A (schematically shown in the drawing) disposed to face the outer peripheral surface of the rotary 14. Are shown). In the present embodiment, three recesses 14X are continuously formed at adjacent positions in the circumferential direction of the rotary 14 to form a recess group, and the recess groups are arranged at a total of three locations at equal intervals in the circumferential direction of the rotary 14. Is formed. The lock cylinder 72A is a known air cylinder, and is extendable between a position where the rod 72A1 fits inside the recess 14X and a position away from the outer peripheral surface of the rotary 14.

ロックシリンダ72Aは、いずれもブロック化して図示するエア方向制御機器(電磁弁等)72Bを介してエア供給源72Cと接続されており、エア方向制御機器72Bは、制御部38に接続されている。制御部38は、後述する所定の条件に従って、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1の伸縮を方向制御している。   The lock cylinder 72A is connected to an air supply source 72C via an air direction control device (electromagnetic valve or the like) 72B shown as a block, and the air direction control device 72B is connected to the control unit 38. . The control unit 38 controls the direction of expansion and contraction of the rod 72A1 of the lock cylinder 72A by controlling the air direction control device 72B according to a predetermined condition described later.

また、回転駆動機構60は、ロータリー14の外周面に120°間隔で金属74Zが取り付けられると共に、ロータリー14の外周面から若干離れてかつ互いに近接配置された計三個の近接スイッチ74A、74B、74Cを備えている。近接スイッチ74A、74B、74Cは、金属74Zが所定範囲内まで接近した際に近接スイッチ74A、74B、74Cを含む電気回路(制御回路部)を導通状態にする構成とされている。すなわち、ロータリー14が所定の回転角度位置に達した状態では、金属74Zが近接スイッチ74A、74B、74Cに近接することにより、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出、換言すれば、ロータリー14が所定の回転角度位置にあることを検出するようになっている。   The rotary drive mechanism 60 has a total of three proximity switches 74A, 74B, which are attached to the outer peripheral surface of the rotary 14 at intervals of 120 °, and are arranged slightly apart from the outer peripheral surface of the rotary 14 and close to each other. 74C is provided. The proximity switches 74A, 74B, and 74C are configured to turn on the electrical circuit (control circuit unit) including the proximity switches 74A, 74B, and 74C when the metal 74Z approaches the predetermined range. That is, in a state where the rotary 14 has reached a predetermined rotation angle position, the proximity switch 74A, 74B, 74C detects the proximity of the metal 74Z by the proximity of the metal 74Z to the proximity switches 74A, 74B, 74C. The rotary 14 is detected to be at a predetermined rotational angle position.

近接スイッチ74A、74B、74Cは、制御部38に接続されている。制御部38は、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出した場合には、その検出結果に基づいて、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1がロータリー14の外周面の凹部14Xに嵌る位置に伸びるように方向制御している。また、制御部38は、近接スイッチ74A、74B、74Cが金属74Zの近接を検出しない場合には、エア方向制御機器72Bを制御することで、ロックシリンダ72Aのロッド72A1がロータリー14の外周面から離れた位置に縮むように方向制御している。   The proximity switches 74A, 74B, and 74C are connected to the control unit 38. When the proximity switches 74A, 74B, and 74C detect the proximity of the metal 74Z, the control unit 38 controls the air direction control device 72B based on the detection result, so that the rod 72A1 of the lock cylinder 72A is rotated. The direction is controlled so as to extend to a position that fits into the recess 14X on the outer peripheral surface of the 14. Further, when the proximity switches 74A, 74B, and 74C do not detect the proximity of the metal 74Z, the control unit 38 controls the air direction control device 72B so that the rod 72A1 of the lock cylinder 72A is moved from the outer peripheral surface of the rotary 14. The direction is controlled so as to shrink to a distant position.

これにより、回転駆動機構60は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー14を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ(研掃ムラ)の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、図4に示されるように、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材46の自転軸心が第一、第二投射機30A、30Bにおける投射材の投射方向の中心線L1、L2の上に配置される位置となる第二位置(図4(B)参照)と、図4(B)に示される第二位置に対してロータリー14の回転方向上流側の位置(いわば偏心した位置)である第一位置(図4(A)参照)と、図4(B)に示される第二位置に対してロータリー14の回転方向下流側の位置(いわば偏心した位置)である第三位置(図4(C)参照)と、に設定されている。   As a result, the rotation drive mechanism 60 is configured to temporarily stop the rotary 14 with a plurality of positions in the projection area 40B as the revolution stop positions of the object W to be processed. Effective suppression is planned. Here, as shown in FIG. 4, the revolution stop position of the object W to be processed in the projection area 40 </ b> B is such that the rotation axis of the rotation shaft member 46 is the first and second projectors 30 </ b> A and 30 </ b> B in the apparatus plan view. The second position (see FIG. 4 (B)), which is the position disposed on the center lines L1, L2 in the projection direction of the projection material, and the second position shown in FIG. A first position (see FIG. 4A) which is a position upstream of the rotational direction (so-called eccentric position), and a position downstream of the rotary 14 in the rotational direction with respect to the second position shown in FIG. 4B. It is set to a third position (see FIG. 4C) which is an eccentric position.

なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー14を一次停止させた場合には図6に示されるように、処理室R1のうちの一室が搬入エリア40Aに配置される(換言すれば、搬入室18になる)と共に処理室R1のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される(換言すれば、搬出室22になる)ように設定されている。   When the rotary 14 is temporarily stopped at the revolution stop position of the workpiece W, as shown in FIG. 6, one of the processing chambers R1 is arranged in the carry-in area 40A (in other words, The other chamber of the processing chamber R1 is set in the carry-out area 40C (in other words, the carry-out chamber 22).

一方、図2に示されるように、自転軸部材46の上部には、ロータリー14の上方側で自転車輪48が同軸的に連結されている。自転車輪48は、ゴムローラで構成され、自転軸部材46に取り付けられたケージ44が投射エリア40B(図6参照、被処理対象物Wが第一、第二投射機30A、30Bにより投射されるエリア)の所定位置、具体的には被処理対象物Wの公転停止位置に達すると、自転駆動車輪50に接するようになっている。また、自転駆動車輪50は、ゴムローラで構成されると共に自転駆動モータ52に駆動可能に接続されており、自転駆動車輪50が自転駆動モータ52によって駆動された状態で自転車輪48に接すると、自転軸部材46がその軸周りに自転するようになっている。   On the other hand, as shown in FIG. 2, a bicycle wheel 48 is coaxially connected to the upper portion of the rotation shaft member 46 on the upper side of the rotary 14. The bicycle wheel 48 is composed of a rubber roller, and the cage 44 attached to the rotating shaft member 46 is projected on the projection area 40B (see FIG. 6, the area where the workpiece W is projected by the first and second projectors 30A and 30B. ), Specifically, when it reaches the revolution stop position of the workpiece W, it comes into contact with the rotation driving wheel 50. The rotation driving wheel 50 is composed of a rubber roller and is connected to the rotation driving motor 52 so as to be driven. When the rotation driving wheel 50 is driven by the rotation driving motor 52 and contacts the bicycle wheel 48, the rotation driving wheel 50 rotates. The shaft member 46 rotates around its axis.

図5に示されるように、自転駆動モータ52(図5ではブロック化して図示)は、制御部38に接続されている。制御部38は、被処理対象物Wへの投射材の投射が行われている場合には自転駆動モータ52を作動させるように制御している。   As shown in FIG. 5, the rotation drive motor 52 (shown as a block in FIG. 5) is connected to the control unit 38. The control unit 38 controls the rotation driving motor 52 to operate when the projection material is projected onto the workpiece W.

自転駆動車輪50は、軸受を介して揺動アーム54Aに取り付けられている。揺動アーム54Aは、装置上下方向の軸54X周りに揺動(回転移動)可能とされて駆動部54B(図5ではブロック化して図示)に接続されており、駆動部54Bの作動によって揺動するようになっている。なお、駆動部54Bはエアシリンダを含んで構成されている。駆動部54Bは制御部38に接続されている。制御部38は、被処理対象物Wが公転停止位置に到達した場合に、駆動部54Bを制御することで、揺動アーム54Aを揺動させ、自転駆動車輪50を自転車輪48に当接させるように制御している。   The rotation driving wheel 50 is attached to the swing arm 54A via a bearing. The swing arm 54A can swing (rotate) about the vertical axis 54X of the apparatus and is connected to the drive unit 54B (shown as a block in FIG. 5). It is supposed to be. The drive unit 54B includes an air cylinder. The drive unit 54B is connected to the control unit 38. When the workpiece W reaches the revolution stop position, the control unit 38 controls the drive unit 54B to swing the swing arm 54A so that the rotation driving wheel 50 is brought into contact with the bicycle wheel 48. So that it is controlled.

また、自転軸部材46の自転ロック用として、自転車輪48と同軸に固着されたロックリング49の外周面には、凹部49Aが形成されると共に、ロックリング49の外周側にはロック用ローラ56Aが設けられている。ロック用ローラ56Aは、駆動部56B(図中ではブロック化して図示)に接続され、駆動部56Bの作動によって、凹部49A内に配置される位置と凹部49Aから離れた位置との間で変位可能とされている。駆動部56Bは制御部38に接続されている。   In addition, a recess 49A is formed on the outer peripheral surface of the lock ring 49 that is fixed coaxially with the bicycle wheel 48, and a locking roller 56A is formed on the outer peripheral side of the lock ring 49 for the purpose of locking the rotation of the rotation shaft member 46. Is provided. The locking roller 56A is connected to a drive unit 56B (illustrated as a block in the drawing), and can be displaced between a position in the recess 49A and a position away from the recess 49A by the operation of the drive unit 56B. It is said that. The drive unit 56B is connected to the control unit 38.

制御部38は、自転駆動モータ52を作動させている場合には、駆動部56Bを制御することでロック用ローラ56Aを凹部49Aから離間した位置に配置し、自転駆動モータ52を停止させた場合には、駆動部56Bを制御することでロック用ローラ56Aを凹部49A内に配置させる。また、制御部38は、ロック用ローラ56Aを凹部49A内に配置させた後、駆動部54Bを制御することで、揺動アーム54Aを揺動させ、自転駆動車輪50を自転車輪48から離間させるように制御している。   When the rotation driving motor 52 is operated, the control unit 38 controls the driving unit 56B to dispose the locking roller 56A at a position separated from the concave portion 49A and stops the rotation driving motor 52. In this case, the locking roller 56A is disposed in the recess 49A by controlling the driving unit 56B. Further, the control unit 38 controls the driving unit 54B after the locking roller 56A is disposed in the recess 49A, thereby swinging the swinging arm 54A and separating the rotation driving wheel 50 from the bicycle wheel 48. So that it is controlled.

なお、図5では、三本の自転軸部材46のうちの一本のみについてその自転及び自転ロックの機構を図示しているが、他の二本の自転軸部材46についても同様の機構が設けられている(図5では図示省略)。   In FIG. 5, only one of the three rotation shaft members 46 is illustrated with its rotation and rotation lock mechanism, but the same mechanism is provided for the other two rotation shaft members 46. (Not shown in FIG. 5).

(作用・効果)
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
(Action / Effect)
Next, the operation and effect of the above embodiment will be described.

本実施形態に係るショットブラスト装置10では、図6に示される自転軸部材46は、ロータリー14の天井部14Uに設けられて被処理対象物Wを処理室R1内に吊り下げ支持する共に被処理対象物Wが第一、第二投射機30A、30Bにより投射される投射エリア40Bで自転可能となっている。このため、被処理対象物Wが全周に亘って投射される。   In the shot blasting apparatus 10 according to the present embodiment, the rotation shaft member 46 shown in FIG. 6 is provided on the ceiling portion 14U of the rotary 14 to suspend and support the object to be processed W in the processing chamber R1 and to be processed. The object W can be rotated in the projection area 40B projected by the first and second projectors 30A and 30B. For this reason, the workpiece W is projected over the entire circumference.

また、本実施形態に係るショットブラスト装置10では、搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを自転軸部材46に吊り下げ支持させるためのエリアとなっており、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wを自転軸部材46から降ろすためのエリアとなっている。そして、処理室R1がロータリー14の周方向に三室並設されており、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー14を一次停止させた場合に処理室R1のうちの一室が搬入エリア40Aに配置されると共に処理室R1のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される。   Further, in the shot blasting apparatus 10 according to the present embodiment, the carry-in area 40A is an area for suspending and supporting the object W to be processed on the rotation shaft member 46, and the carry-out area 40C is an object to be processed. This is an area for lowering W from the rotating shaft member 46. Three processing chambers R1 are arranged side by side in the circumferential direction of the rotary 14, and one of the processing chambers R1 is brought into the carry-in area 40A when the rotary 14 is temporarily stopped at the revolution stop position of the workpiece W. The other chamber of the processing chamber R1 is disposed in the carry-out area 40C.

このため、投射エリア40Bで被処理対象物Wに投射がなされている間に、搬入エリア40Aでケージ44内に一個ないし複数個の被処理対象物Wを挿入することで被処理対象物Wを自転軸部材46に吊り下げ支持させると同時に、ショット処理済みの被処理対象物Wを搬出エリア40Cで自転軸部材46から降ろすことができる。このように、投射中に搬出と搬入とを同時に別々のエリアで行うことができるので、例えば、1箇所のエリアで搬出及び搬入を行うような構成に比べて、搬入出に要する時間が短縮される。   For this reason, while the projection is performed on the target object W in the projection area 40B, one or a plurality of target objects W are inserted into the cage 44 in the carry-in area 40A so that the target object W is inserted. At the same time as being suspended and supported by the rotation shaft member 46, the workpiece W to be processed can be lowered from the rotation shaft member 46 in the carry-out area 40C. In this way, since the carry-out and carry-in can be performed simultaneously in different areas during projection, the time required for carry-in / out is reduced compared to a configuration in which carry-out and carry-in are performed in one area, for example. The

搬入エリア40Aで搬入されると共に搬出エリア40Cで搬出されると、公転駆動モータ66(図2参照)の駆動力によりロータリー14及び仕切部16が公転軸部62を中心軸として120°弱回転され、ケージ44に挿入された状態の被処理対象物Wが搬入エリア40Aから投射エリア40Bに移動される。   When carried in the carry-in area 40A and carried out in the carry-out area 40C, the rotary 14 and the partition 16 are rotated slightly less than 120 ° around the revolution shaft 62 by the driving force of the revolution drive motor 66 (see FIG. 2). The object to be processed W inserted in the cage 44 is moved from the carry-in area 40A to the projection area 40B.

次に、図5に示されるように、投射エリア40Bにおいて、自転駆動モータ52が作動することで自転駆動車輪50が回転し、自転駆動車輪50が自転車輪48に当接することで自転軸部材46が回転される。これにより、投射エリア40Bのケージ44は自転軸部材46を中心にして自転する。そして、流量調整装置24A、24Bの開閉ゲートが開かれ、第一、第二投射機30A、30B(図6参照)の作動により、自転軸部材46を中心にして自転するケージ44内の被処理対象物Wへ投射材が投射される。   Next, as shown in FIG. 5, in the projection area 40 </ b> B, the rotation driving motor 52 is operated to rotate the rotation driving wheel 50, and the rotation driving wheel 50 comes into contact with the bicycle wheel 48 to rotate the rotation shaft member 46. Is rotated. As a result, the cage 44 in the projection area 40 </ b> B rotates about the rotation shaft member 46. Then, the open / close gates of the flow rate adjusting devices 24A and 24B are opened, and the processing in the cage 44 that rotates about the rotation shaft member 46 by the operation of the first and second projectors 30A and 30B (see FIG. 6). A projection material is projected onto the object W.

ここで、図6に示される第一投射機30Aは、ロータリー14の上部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線L1が処理室R1の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されている。これに対して、第二投射機30Bは、ロータリー14の下部側方に配置され、投射材の投射方向の中心線L2が処理室R1の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。このように、被処理対象物Wに対して、斜め上方側と斜め下方側との両方から投射材が投射されることで、被処理対象物Wの全面に効率良く投射される。   Here, the first projector 30A shown in FIG. 6 is arranged on the upper side of the rotary 14, and the center line L1 in the projection direction of the projection material is inclined toward the lower side of the apparatus toward the inside of the processing chamber R1. Is set to On the other hand, the second projector 30B is arranged on the lower side of the rotary 14, and is set so that the center line L2 in the projection direction of the projection material is inclined upward toward the inside of the processing chamber R1. Has been. As described above, the projection material is projected from both the obliquely upper side and the obliquely lower side to the object to be processed W, so that the object is efficiently projected on the entire surface of the object to be processed W.

また、第二投射機30Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機30Aに比べて多量に設定されている。このため、斜め上向き投射によって投射材が減速しても、第一投射機30Aの斜め下向き投射によるショット処理と同程度のショット処理がなされる。また、本実施形態では、投射中に被処理対象物Wがケージ44内で若干浮き上がり、ケージ44の載置部上面と被処理対象物Wの底面との間に隙間ができた状態で投射がなされることになる。このため、ブラスト処理(研掃)しにくい被処理対象物Wの底面(ケージ44に接する面)の未処理部分(未研掃部分)をなくすことができ、被処理対象物Wの全体を確実にブラスト処理することができる。   In addition, the second projector 30B has a larger amount of projection per unit time of the projection material than the first projector 30A. For this reason, even if the projection material is decelerated by the oblique upward projection, the shot processing equivalent to the shot processing by the oblique downward projection of the first projector 30A is performed. In the present embodiment, the object to be processed W is slightly lifted in the cage 44 during the projection, and the projection is performed with a gap between the upper surface of the mounting portion of the cage 44 and the bottom surface of the object to be processed W. Will be made. For this reason, it is possible to eliminate the unprocessed portion (uncleaned portion) of the bottom surface (surface in contact with the cage 44) of the processing target object W which is difficult to be blasted (polished), and to ensure the entire processing target object W. Can be blasted.

また、第一投射機30Aにおける投射材の投射方向の中心線L1と、第二投射機30Bにおける投射材の投射方向の中心線L2とが、少なくとも自転軸部材46の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されているので、第一投射機30Aから投射された投射材と第二投射機30Bから投射された投射材とが被処理対象物Wに達する前に互いに干渉してしまうという不具合が抑えられる。このため、投射効率が向上する。   Further, the center line L1 in the projection direction of the projection material in the first projector 30A and the center line L2 in the projection direction of the projection material in the second projector 30B are at least the lower extension line of the rotation axis of the rotation shaft member 46. The projection material projected from the first projector 30 </ b> A and the projection material projected from the second projector 30 </ b> B on the object to be processed W are set so as not to intersect each other in the space of each projection position. The problem of interfering with each other before reaching is suppressed. For this reason, the projection efficiency is improved.

一方、本実施形態に係るショットブラスト装置10では、図5に示される回転駆動機構60は、ロータリー14を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材46を公転させると共に、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー14を一次停止させる。このため、被処理対象物Wは、複数の公転停止位置で投射材の当たり方が相対的に変えられるので、より均一に精度良く投射される。   On the other hand, in the shot blasting apparatus 10 according to the present embodiment, the rotation drive mechanism 60 shown in FIG. 5 revolves the rotating shaft member 46 by rotating the rotary 14 about the axis in the vertical direction of the apparatus, and the projection area. The rotary 14 is temporarily stopped by using the plurality of positions 40B as the revolution stop positions of the workpiece W. For this reason, since the method of hitting the projection material is relatively changed at a plurality of revolution stop positions, the workpiece W is projected more uniformly and accurately.

より具体的には、図4に示されるように、投射エリア40Bに入った被処理対象物Wは、第一位置(図4(A)参照)、第二位置(図4(B)参照)、及び第三位置(図4(C)参照)の順で公転停止されて、それぞれの位置で自転しながら投射される。ここで、図4(B)に示される第二位置は、装置平面視で自転軸部材46の自転軸心が第一、第二投射機30A、30Bにおける投射材の投射方向の中心線L1、L2の上に配置される位置となっており、図4(A)に示される第一位置は、図4(B)に示される第二位置に対してロータリー14の回転方向上流側の位置であり、図4(C)に示される第三位置は、図4(B)に示される第二位置に対してロータリー14の回転方向下流側の位置である。このため、被処理対象物Wは、投射エリア40Bで三点停止されつつ投射がなされ、投射材が効率良く当たる第二位置(図4(B)参照)とその前後の第一、第三位置(図4(A)及び図4(C)参照)で、効率的にかつ均一に投射される。   More specifically, as shown in FIG. 4, the workpiece W that has entered the projection area 40 </ b> B has a first position (see FIG. 4A) and a second position (see FIG. 4B). , And the third position (see FIG. 4C) are stopped in order and projected while rotating at each position. Here, the second position shown in FIG. 4B is the center line L1 of the projection direction of the projection material in the first and second projectors 30A and 30B when the rotation axis of the rotation shaft member 46 is in the apparatus plan view. The first position shown in FIG. 4 (A) is a position on the upstream side in the rotational direction of the rotary 14 with respect to the second position shown in FIG. 4 (B). In addition, the third position shown in FIG. 4C is a position on the downstream side in the rotational direction of the rotary 14 with respect to the second position shown in FIG. Therefore, the object to be processed W is projected while being stopped at three points in the projection area 40B, and the second position (see FIG. 4 (B)) where the projection material efficiently hits and the first and third positions before and after the second position. In FIG. 4 (A) and FIG. 4 (C), it is projected efficiently and uniformly.

以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置10によれば、トータルの処理時間を短縮することができる。   As described above, according to the shot blasting apparatus 10 according to the present embodiment, the total processing time can be shortened.

[第2実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置80について、図7〜図10を用いて説明する。図7には、本実施形態に係るショットブラスト装置80の全体構成が正面図にて示され、図8には、ショットブラスト装置80の全体構成が右側面図にて示され、図9には、ショットブラスト装置80の全体構成が平面図にて示されている。また、図10には本実施形態における処理室R2の構成が平面視の断面図にて示されている。なお、第1の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a shot blasting apparatus 80 as a shot processing apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 is a front view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 80 according to the present embodiment, FIG. 8 is a right side view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 80, and FIG. The overall configuration of the shot blasting apparatus 80 is shown in a plan view. Further, FIG. 10 shows a configuration of the processing chamber R2 in the present embodiment in a sectional view in plan view. Note that components that are substantially the same as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図7〜図9に示されるように、ショットブラスト装置80は、中空柱状のキャビネット82を備えている。図9に示されるように、キャビネット82の内部における中央部には、略円筒状のロータリー84が配置されている。ロータリー84は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構94に接続されている。   As shown in FIGS. 7 to 9, the shot blasting device 80 includes a hollow columnar cabinet 82. As shown in FIG. 9, a substantially cylindrical rotary 84 is disposed at the center inside the cabinet 82. As will be described in detail later, the rotary 84 is connected to a rotational drive mechanism 94 so as to be rotationally driven around an axis in the vertical direction of the apparatus.

ロータリー84には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部86(仕切部材)に仕切られることで複数(本実施形態では計六室)の処理室R2が周方向に並設されている。なお、仕切部86は、ロータリー84における天井部84Uの下方側に設けられているが、図中では、図を見易くするために、仕切部86の大部分を隠れ線ではなく実線で図示している。処理室R2は、被処理対象物Wの搬入出及び投射材の投射をなすための部屋となっている。これらの処理室R2には、外周側に向けて開口した開口部84Aが形成されている。開口部84Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。   In the rotary 84, a plurality of (six chambers in this embodiment) processing chambers R2 are arranged in the circumferential direction by partitioning a space around the axis in the vertical direction of the apparatus, which is the rotation center, into partition portions 86 (partition members). It is installed side by side. In addition, although the partition part 86 is provided in the downward side of the ceiling part 84U in the rotary 84, in order to make a figure legible in the figure, most parts of the partition part 86 are illustrated with the solid line instead of the hidden line. . The processing chamber R2 is a room for carrying in / out the workpiece W and projecting the projection material. In these processing chambers R2, an opening 84A that opens toward the outer peripheral side is formed. The opening 84A is used for carrying in the object to be processed W, for carrying out the object to be processed W, and for passing the projection material.

処理室R2は、第1の実施形態と同様に、キャビネット82の内部空間に配置され、ロータリー84の回転変位によって、搬入室18、投射室20、及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。本実施形態では、投射室20は二室設けられている。   As in the first embodiment, the processing chamber R2 is disposed in the internal space of the cabinet 82, and can be any of the carry-in chamber 18, the projection chamber 20, and the carry-out chamber 22 due to the rotational displacement of the rotary 84. is there. In the present embodiment, two projection chambers 20 are provided.

また、本実施形態では、投射室20と搬出室22との間が吹き落とし室21とされている。ロータリー84の外周側で吹き落とし室21の対向部には、図示しない吹付装置(エアブロー部)が配置されている。前記吹付装置は、被処理対象物W上に残留した投射材の吹き落とし用とされ、開口部84Aを通してロータリー84の内部側に気体(本実施形態では圧縮空気)の吹き付けが可能になっている。   In the present embodiment, the blow-off chamber 21 is defined between the projection chamber 20 and the carry-out chamber 22. A spraying device (air blow unit) (not shown) is disposed on the outer peripheral side of the rotary 84 and in the facing portion of the blow-off chamber 21. The spraying device is used for blowing off the projection material remaining on the workpiece W, and gas (compressed air in this embodiment) can be sprayed to the inside of the rotary 84 through the opening 84A. .

なお、本実施形態における搬入エリア40Aは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としてのハンガーフック92に吊り下げ支持させるためのエリアであり、搬出エリア40Cは、被処理対象物Wをハンガーフック92から降ろすためのエリアである。   Note that the carry-in area 40A in the present embodiment is an area for hanging and supporting the object to be processed W on a hanger hook 92 as a suspension support part described later, and the carry-out area 40C is the area to be processed W. This is an area for lowering from the hanger hook 92.

図10に示されるように、仕切部86には、処理室R2の室内側へ向けられた仕切面にライナ87A、87Bが取り付けられている。ライナ87Aは、平面視でロータリー84の半径方向に延在すると共にロータリー84の外周面側に配置された端部87A1が内向きに湾曲している。ライナ87Aの端部87A1の内側面にはゴムライニングが施されている。このような構成では、投射された投射材がライナ87Aに沿って流れてもライナ87Aの端部87A1で失速してロータリー84の底床部84Zに落下し、底床部84Zの孔部84Z1から後述するホッパ90A(図8参照)に回収されるようになっている。なお、ロータリー84には、底床部84Z及び図示しない天井部にも同様にライナ87Cが取り付けられている。   As shown in FIG. 10, liners 87 </ b> A and 87 </ b> B are attached to the partition portion 86 on partition surfaces directed to the inside of the processing chamber R <b> 2. The liner 87 </ b> A extends in the radial direction of the rotary 84 in a plan view, and an end 87 </ b> A <b> 1 disposed on the outer peripheral surface side of the rotary 84 is curved inward. A rubber lining is applied to the inner side surface of the end portion 87A1 of the liner 87A. In such a configuration, even if the projected blast material flows along the liner 87A, it is stalled at the end portion 87A1 of the liner 87A and falls to the bottom floor portion 84Z of the rotary 84, and from the hole portion 84Z1 of the bottom floor portion 84Z. It is collected in a hopper 90A (see FIG. 8) described later. In addition, the liner 87C is similarly attached to the bottom floor part 84Z and the ceiling part which is not illustrated by the rotary 84.

一方、図7及び図8に示されるように、ロータリー84の上部の側方には第一投射機88Aが配置されており、この第一投射機88Aは、キャビネット82の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー84の下部の側方には第二投射機88Bが配置されており、この第二投射機88Bは、キャビネット82の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機88A、88Bは、第1の実施形態における第一、第二投射機30A、30B(図1及び図2参照)と同様の基本構成を備えており、投射材を図9に示される処理室R2における開口部84Aを通して処理室R2の内部に投射するようになっている。   On the other hand, as shown in FIGS. 7 and 8, a first projector 88 </ b> A is disposed on the side of the upper portion of the rotary 84, and the first projector 88 </ b> A is attached to the upper side of the side wall of the cabinet 82. It has been. On the other hand, a second projector 88B is disposed on the lower side of the rotary 84, and the second projector 88B is attached to the lower side of the side wall of the cabinet 82. The first and second projectors 88A and 88B have the same basic configuration as the first and second projectors 30A and 30B (see FIG. 1 and FIG. 2) in the first embodiment. 9 is projected into the processing chamber R2 through an opening 84A in the processing chamber R2 shown in FIG.

また、図7等に示される第一、第二投射機88A、88Bの投射方向は、第1の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機88Aは、投射材の投射方向の中心線(図示省略)が処理室R2(図9参照)の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機88Bは、投射材の投射方向の中心線(図示省略)が処理室R2(図9参照)の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、第一投射機88Aにおける投射材の投射方向の中心線と、第二投射機88Bにおける投射材の投射方向の中心線とが、ハンガーフック92の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている。さらに、第1の実施形態と同様に、第二投射機88Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機88Aに比べて多量になるように設定されている。   Moreover, the projection directions of the first and second projectors 88A and 88B shown in FIG. 7 and the like are set in the same manner as in the first embodiment. That is, the first projector 88A is set so that the center line (not shown) of the projection direction of the projection material is inclined toward the lower side of the apparatus toward the inside of the processing chamber R2 (see FIG. 9). The machine 88B is set so that the center line (not shown) of the projection direction of the projection material is inclined upward in the apparatus toward the inside of the processing chamber R2 (see FIG. 9). Moreover, the center line of the projection direction of the projection material in the first projector 88 </ b> A and the center line of the projection direction of the projection material in the second projector 88 </ b> B are projected from the lower extension line of the rotation axis of the hanger hook 92. It is set so as not to intersect in the space on the position side. Further, similarly to the first embodiment, the second projector 88B is set so that the projection amount per unit time of the projection material is larger than that of the first projector 88A.

図7及び図8に示されるように、第一、第二投射機88A、88Bは、導入筒28A、28B、及び導入管26A、26Bを介して流量調整装置24A、24Bに接続されている。なお、流量調整装置24A及び流量調整装置24Bは、それぞれ二台設けられており、二本の導入管26Aは、それぞれ流量調整装置24Aと一対一で接続されると共に、二本の導入管26Bは、それぞれ流量調整装置24Bと一対一で接続されている。流量調整装置24A、24Bは、第1実施形態と同様に、制御部(図示省略)に接続されており、開閉ゲートの作動(開閉及び開閉量の調整)が第1実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。   As shown in FIGS. 7 and 8, the first and second projectors 88A and 88B are connected to the flow rate adjusting devices 24A and 24B via the introduction cylinders 28A and 28B and the introduction pipes 26A and 26B. The flow rate adjusting device 24A and the flow rate adjusting device 24B are each provided in two units, and the two introduction pipes 26A are connected to the flow rate adjustment device 24A on a one-to-one basis, and the two introduction pipes 26B are These are connected to the flow rate adjusting device 24B on a one-to-one basis. Similarly to the first embodiment, the flow rate adjusting devices 24A and 24B are connected to a control unit (not shown), and the operation of the opening and closing gate (opening and closing and adjustment of the opening and closing amount) is controlled as in the first embodiment. Controlled by the department.

第一、第二投射機88A、88Bは、導入筒28A、28B、導入管26A、26B、及び流量調整装置24A、24Bを介して循環装置90に連結されている。循環装置90は、第一、第二投射機88A、88Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機88A、88Bへ循環させるための装置であり、第1の実施形態における循環装置34(図1参照)と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第1の実施形態における循環装置34(図1参照)と実質的に同様の構成部については説明を省略する。   The first and second projectors 88A and 88B are connected to the circulation device 90 via the introduction cylinders 28A and 28B, the introduction pipes 26A and 26B, and the flow rate adjustment devices 24A and 24B. The circulation device 90 is a device for conveying the projection material projected by the first and second projectors 88A and 88B to circulate to the first and second projectors 88A and 88B, and in the first embodiment. The configuration is substantially the same as part of the circulation device 34 (see FIG. 1). Therefore, description of components that are substantially the same as those of the circulation device 34 (see FIG. 1) in the first embodiment will be omitted.

循環装置90は、ロータリー84の下方側にホッパ90Aを備えている。ホッパ90Aは、ロータリー84の底床部84Zに形成された孔部84Z1(図10参照)から落下した投射材をスクリュウコンベヤ34Aへ流す。一方、装置上部では、上側のスクリュウコンベヤ34Eの搬送方向下流側に風選式のセパレータ90Bが取り付けられている。   The circulation device 90 includes a hopper 90 </ b> A below the rotary 84. The hopper 90A causes the projection material dropped from the hole 84Z1 (see FIG. 10) formed in the bottom floor portion 84Z of the rotary 84 to flow to the screw conveyor 34A. On the other hand, in the upper part of the apparatus, a wind-selective separator 90B is attached to the downstream side in the transport direction of the upper screw conveyor 34E.

セパレータ90Bは、流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物を分級するようになっており、使用可能な投射材のみを投射材タンク90Cへ流す。投射材タンク90Cは、投射材を流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、流量調整装置24A、24Bの上方側に配置されている。   Separator 90B is adapted to classify foreign substances from the projection material by sorting into light and falling heavy objects placed on the air flow by applying an air flow to the powder material containing the injected projection material, Only the usable projection material is allowed to flow into the projection material tank 90C. The projection material tank 90C is a tank for supplying the projection material to the flow rate adjustment devices 24A and 24B, and is disposed above the flow rate adjustment devices 24A and 24B.

次に、図9に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図9に示されるように、ロータリー84の天井部84Uには、ハンガーフック92が設けられている。ハンガーフック92は、その軸上部にホイール部92Aが同軸的に連結されると共に、その下部が処理室R2内に配置され、被処理対象物Wを処理室R2内に吊り下げ支持する。   Next, a mechanism for revolving and rotating the workpiece W shown in FIG. 9 will be described. As shown in FIG. 9, a hanger hook 92 is provided on the ceiling portion 84 </ b> U of the rotary 84. The hanger hook 92 has a shaft portion coaxially connected to an upper portion of the shaft, and a lower portion thereof is disposed in the processing chamber R2, and supports the workpiece W to be suspended in the processing chamber R2.

また、キャビネット82には、回転駆動機構94が設けられている。回転駆動機構94は、公転軸部96、公転タイヤ98、及び公転駆動モータ100を含んで構成され、ロータリー84を装置上下方向の軸線の周りに回転させることでハンガーフック92を公転させるようになっている。   The cabinet 82 is provided with a rotation drive mechanism 94. The rotation drive mechanism 94 includes a revolution shaft portion 96, a revolution tire 98, and a revolution drive motor 100, and revolves the hanger hook 92 by rotating the rotary 84 around the vertical axis of the apparatus. ing.

図7に示されるように、公転軸部96は、装置上下方向を軸心方向として配置され、上下端部が軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー84の天井部84Uの中央部に固定されている。図9に示されるように、ロータリー84の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転タイヤ98に接している。   As shown in FIG. 7, the revolution shaft portion 96 is arranged with the vertical direction of the device as the axial direction, the upper and lower end portions are supported by the frame portion via the bearing portion, and the center of the ceiling portion 84U of the rotary 84. It is fixed to the part. As shown in FIG. 9, the outer peripheral side surface of the rotary 84 is in contact with a revolving tire 98 arranged with the vertical direction of the device as the axial direction.

公転タイヤ98を回転自在に支持する軸受部は、装置上下方向の軸99X周りに揺動(回転移動)可能な揺動アーム99に取り付けられている。揺動アーム99の先端部(図中の右端部)は、図示しないバネによってロータリー84側へ付勢されている。これにより、公転タイヤ98はロータリー84側へ押し付けられている。   A bearing portion that rotatably supports the revolution tire 98 is attached to a swing arm 99 that can swing (rotate and move) about a shaft 99X in the vertical direction of the apparatus. The tip end portion (right end portion in the figure) of the swing arm 99 is biased toward the rotary 84 by a spring (not shown). Thereby, the revolution tire 98 is pressed to the rotary 84 side.

また、公転タイヤ98は、公転駆動モータ100のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ100によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー84は、公転駆動モータ100の作動によって公転軸部96周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ100は、第1の実施形態と同様に、制御部(図示省略)に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構94は、第1の実施形態の回転駆動機構60(図5参照)と同様に公転ロック用の機能を備えている。   The revolution tire 98 is coaxially connected to the motor shaft of the revolution drive motor 100 and is driven to rotate by the revolution drive motor 100. In other words, the rotary 84 rotates around the revolution shaft portion 96 by the operation of the revolution drive motor 100. In addition, the revolution drive motor 100 is connected to a control unit (not shown) similarly to the first embodiment, and the operation is controlled by the control unit. Further, the rotation drive mechanism 94 has a function for revolving lock similarly to the rotation drive mechanism 60 (see FIG. 5) of the first embodiment.

これらにより、回転駆動機構94は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー84を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ(研掃ムラ)の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、第1の実施形態(図4参照)と同様に、装置平面視でハンガーフック92の自転軸心が第一、第二投射機88A、88Bにおける投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー84の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー84の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。   As a result, the rotary drive mechanism 94 primarily stops the rotary 84 with a plurality of positions in the projection area 40B as the revolution stop positions of the object to be processed W, thereby preventing blast processing unevenness (polishing unevenness) or Effective suppression is planned. Here, the revolution stop position of the object W to be processed in the projection area 40B is the first and second projections of the rotation axis of the hanger hook 92 in plan view of the apparatus, as in the first embodiment (see FIG. 4). A second position which is a position arranged on the center line of the projection direction of the projection material in the machines 88A and 88B, a first position which is a position upstream of the rotary 84 in the rotation direction of the rotary 84, and the first The second position is set to the third position, which is the position downstream of the rotary 84 in the rotation direction.

これらは、第1の実施形態と同様に、制御部(図示省略)によって制御される。また、本実施形態では、ハンガーフック92は、投射エリア40Bに入ると低速で公転移動して、第一位置での前停止、第二位置での中央停止、第三位置での後停止の三点で公転停止し、さらに投射エリア40Bから次の投射エリア40Bへ移る際には高速で公転移動するように、制御されている。   These are controlled by a control unit (not shown) as in the first embodiment. Further, in the present embodiment, the hanger hook 92 revolves at a low speed when entering the projection area 40B, and includes a front stop at the first position, a central stop at the second position, and a rear stop at the third position. The revolution is stopped at the point, and when moving from the projection area 40B to the next projection area 40B, the revolution is controlled at a high speed.

なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー84を一次停止させた場合に、処理室R2のうちの一室が搬入エリア40Aに配置される(換言すれば、搬入室18になる)と共に、処理室R2のうちの他の一室は搬出エリア40Cに配置される(換言すれば、搬出室22になる)ように設定されている。   When the rotary 84 is temporarily stopped at the revolution stop position of the workpiece W, one of the processing chambers R2 is disposed in the loading area 40A (in other words, the loading chamber 18). The other one of the processing chambers R2 is set to be placed in the carry-out area 40C (in other words, the carry-out chamber 22).

一方、キャビネット82の天井部82Uには、チェーンホイール付き駆動モータ102が投射室20に対応して計二個配置されている。チェーンホイール付き駆動モータ102のチェーンホイール102Aは、シリンダ104によって、ハンガーフック92のホイール部92A側へ押し付け可能となっている。具体的には、チェーンホイール102Aは、被処理対象物Wが投射エリア40B(被処理対象物Wが第一、第二投射機88A、88Bにより投射されるエリア)の公転停止位置に達すると、ハンガーフック92のホイール部92Aに押し付けられるようになっている。また、チェーンホイール付き駆動モータ102が作動状態で、そのチェーンホイール102Aがハンガーフック92のホイール部92Aに接すると、ハンガーフック92がその軸周りに自転するようになっている。   On the other hand, a total of two drive motors 102 with chain wheels are arranged on the ceiling portion 82 </ b> U of the cabinet 82 corresponding to the projection chamber 20. The chain wheel 102 </ b> A of the drive motor 102 with the chain wheel can be pressed against the wheel portion 92 </ b> A side of the hanger hook 92 by the cylinder 104. Specifically, when the chain wheel 102A reaches the revolution stop position of the projection area 40B (the area where the workpiece W is projected by the first and second projectors 88A and 88B), The hanger hook 92 is pressed against the wheel portion 92A. In addition, when the chain wheel drive motor 102 is in an operating state and the chain wheel 102A comes into contact with the wheel portion 92A of the hanger hook 92, the hanger hook 92 rotates around its axis.

なお、シリンダ104は、伸縮可能なロッドを備えた公知のエアシリンダとされ、図示しないエア方向制御機器(電磁弁等)を介して図示しないエア供給源と接続されており、前記エア方向制御機器は、図示しない制御部に接続されている。前記制御部は、第1の実施形態と同様のタイミングでハンガーフック92を所定時に自転させるように、シリンダ104のロッドの伸縮を方向制御することで、ハンガーフック92のホイール部92Aにチェーンホイール付き駆動モータ102のチェーンホイール102Aを接離させている。   The cylinder 104 is a known air cylinder having an extendable rod, and is connected to an air supply source (not shown) via an air direction control device (such as a solenoid valve) (not shown). Are connected to a control unit (not shown). The controller has a chain wheel attached to the wheel portion 92A of the hanger hook 92 by controlling the direction of the expansion and contraction of the rod of the cylinder 104 so that the hanger hook 92 rotates at a predetermined timing at the same timing as in the first embodiment. The chain wheel 102A of the drive motor 102 is contacted and separated.

また、図9に示される被処理対象物Wを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第1の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。   Further, the conditions for causing the workpiece W shown in FIG. 9 to revolve, stop revolution, rotate, and rotate are the same as those in the first embodiment, and these operations and the like are performed by the control unit (not shown). It is controlled.

以上説明した本実施形態の構成によっても、前述した第1実施形態と同様の作用及び効果が得られる。   Also by the configuration of the present embodiment described above, the same operations and effects as those of the first embodiment described above can be obtained.

[第2実施形態の変形例]
なお、第2の実施形態の変形例として、ロータリー84の内部の仕切構成は、図11に示されるような構成でもよい。なお、上記実施形態と実質的に同様の構成部は同一符号を付して説明を省略する。また、詳細図示を省略するが、仕切部86には、処理室R2の室内側へ向けられた仕切面にライナ(第2の実施形態におけるライナ87A、87B(図10参照)と同様のライナ)が取り付けられ、ロータリー84には、底床部及び天井部に適宜ライナが取り付けられている。
[Modification of Second Embodiment]
As a modification of the second embodiment, the partition configuration inside the rotary 84 may be a configuration as shown in FIG. Note that components that are substantially the same as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Although not shown in detail, the partition 86 has a liner on the partition surface directed toward the interior of the processing chamber R2 (the same liner as the liners 87A and 87B (see FIG. 10) in the second embodiment). Is attached, and a liner is suitably attached to the bottom floor portion and the ceiling portion of the rotary 84.

図11(A)は、処理室R2が二室であり、搬入出室19及び投射室20がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11(B)は、処理室R2が三室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11(C)は、処理室R2が五室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11(D)は、処理室R2が六室であり、投射室20が二室、搬入室18及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11(E)は、処理室R2が四室であり、搬入室18、投射室20、及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。図11(F)は、処理室R2が六室であり、投射室20が二室、搬入室18及び搬出室22がそれぞれ一室ずつ設けられた構成である。   FIG. 11A shows a configuration in which there are two processing chambers R2, and one loading / unloading chamber 19 and one projection chamber 20 are provided. FIG. 11B shows a configuration in which the processing chamber R2 has three chambers, and each of the carry-in chamber 18, the projection chamber 20, and the carry-out chamber 22 is provided. FIG. 11C shows a configuration in which the processing chamber R2 has five chambers, and each of the carry-in chamber 18, the projection chamber 20, and the carry-out chamber 22 is provided. FIG. 11D shows a configuration in which the processing chamber R2 has six chambers, the projection chamber 20 has two chambers, the carry-in chamber 18 and the carry-out chamber 22 each one. FIG. 11E shows a configuration in which the processing chambers R2 are four chambers, and each of the carry-in chamber 18, the projection chamber 20, and the carry-out chamber 22 is provided. FIG. 11F shows a configuration in which the processing chamber R2 has six chambers, the projection chamber 20 has two chambers, the carry-in chamber 18 and the carry-out chamber 22 each one.

[第3実施形態]
次に、本発明の第3の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置110について、図12〜図14を用いて説明する。図12には、本発明の第3の実施形態に係るショットブラスト装置110の全体構成が正面図にて示され、図13には、ショットブラスト装置110の全体構成が右側面図にて示され、図14には、ショットブラスト装置110の全体構成が平面図にて示されている。なお、第1、第2の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。また、本実施形態に係るショットブラスト装置110の被処理対象物Wには、例えば、鋳造品、プレス品、及び溶接構造物等、より具体的には一例として自動車関連部品が適用される。
[Third Embodiment]
Next, a shot blasting apparatus 110 as a shot processing apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a front view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 110 according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a right side view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 110. FIG. 14 is a plan view showing the overall configuration of the shot blasting apparatus 110. In addition, about the component substantially the same as 1st, 2nd embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted. In addition, for example, a casting product, a pressed product, a welded structure, or the like, such as a car-related part, is applied to the workpiece W of the shot blasting apparatus 110 according to the present embodiment.

図12〜図14に示されるように、ショットブラスト装置110は、箱状のキャビネット112を備えている。図14に示されるように、キャビネット112の内部には、略円筒状のロータリー114(「公転ドラム」ともいう。)が配置されている。ロータリー114は、詳細後述するように、装置上下方向の軸線の周りに回転駆動させられるように回転駆動機構126に接続されている。   As shown in FIGS. 12 to 14, the shot blasting device 110 includes a box-shaped cabinet 112. As shown in FIG. 14, a substantially cylindrical rotary 114 (also referred to as “revolving drum”) is arranged inside the cabinet 112. As will be described in detail later, the rotary 114 is connected to a rotation drive mechanism 126 so as to be driven to rotate about an axis in the vertical direction of the apparatus.

ロータリー114には、回転中心である装置上下方向の前記軸線の周りの空間が仕切部116に仕切られることで複数(本実施形態では計二室)の処理室が周方向に並設されている。仕切部116は仕切部材によって構成されている。処理室R3には、外周側に向けて開口し開口部114Aが形成されている。開口部114Aは、被処理対象物Wの搬入用、被処理対象物Wの搬出用、及び投射材の通過用となる。   In the rotary 114, a plurality of (in this embodiment, a total of two chambers) processing chambers are arranged in parallel in the circumferential direction by dividing the space around the axis in the vertical direction of the apparatus, which is the center of rotation, by the partition 116. . The partition part 116 is comprised by the partition member. The processing chamber R3 has an opening 114A that opens toward the outer periphery. The opening 114 </ b> A is used for carrying in the workpiece W, carrying out the workpiece W, and passing the projection material.

処理室R3は、キャビネット12の内部空間に配置され、ロータリー114の回転変位によって、搬入出室19及び搬出室22のいずれにもなり得る部屋である。ここで、搬入出室19は、ショットブラスト装置110の搬入出エリア40Dに配置されて被処理対象物Wの搬入用と搬出用とを兼ねた部屋である。換言すれば、例えば、当初は搬入出室19であった処理室R3は、ロータリー114がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、投射室20になり、さらに、ロータリー114がその軸周りに所定角度だけ回転変位することで、搬入出室19になる。   The processing chamber R <b> 3 is a room that is disposed in the internal space of the cabinet 12 and can be either the loading / unloading chamber 19 or the unloading chamber 22 due to the rotational displacement of the rotary 114. Here, the loading / unloading chamber 19 is a room that is arranged in the loading / unloading area 40D of the shot blasting apparatus 110 and serves both for loading and unloading the workpiece W. In other words, for example, the processing chamber R3 that was initially the loading / unloading chamber 19 becomes the projection chamber 20 when the rotary 114 is rotationally displaced around the axis by a predetermined angle, and further, the rotary 114 is rotated around the axis. It becomes the loading / unloading chamber 19 by being rotationally displaced by a predetermined angle.

なお、搬入出エリア40Dは、被処理対象物Wを後述する吊下支持部としての自転軸部材122から降ろすためのエリアでありかつ被処理対象物Wを自転軸部材122に吊り下げ支持させるためのエリアである。   The carry-in / out area 40 </ b> D is an area for lowering the workpiece W from a rotation shaft member 122 as a suspension support portion described later, and is used to suspend and support the workpiece W on the rotation shaft member 122. Area.

一方、図13に示されるように、ロータリー114の上部の側方には第一投射機118Aが配置されており、この第一投射機118Aは、キャビネット112の側壁の上部側に取り付けられている。これに対して、ロータリー114の下部の側方には第二投射機118Bが配置されており、この第二投射機118Bは、キャビネット112の側壁の下部側に取り付けられている。第一、第二投射機118A、118Bは、第1の実施形態における第一、第二投射機30A、30B(図1及び図2参照)と同様の基本構成を備えており、投射材を図14に示される処理室R3における開口部114Aを通して処理室R3の内部に投射するようになっている。   On the other hand, as shown in FIG. 13, a first projector 118 </ b> A is disposed on the upper side of the rotary 114, and the first projector 118 </ b> A is attached to the upper side of the side wall of the cabinet 112. . In contrast, a second projector 118 </ b> B is disposed on the lower side of the rotary 114, and the second projector 118 </ b> B is attached to the lower side of the side wall of the cabinet 112. The first and second projectors 118A and 118B have the same basic configuration as the first and second projectors 30A and 30B (see FIG. 1 and FIG. 2) in the first embodiment. 14 is projected into the processing chamber R3 through an opening 114A in the processing chamber R3.

また、図13に示される第一、第二投射機118A、118Bの投射方向は、第1の実施形態と同様に設定されている。すなわち、第一投射機118Aは、投射材の投射方向の中心線L3が処理室R3の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定され、第二投射機118Bは、投射材の投射方向の中心線L4が処理室R3の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されている。また、図12に示されるように、第一投射機118Aと第二投射機118Bとは、それぞれの羽根車の回転軸線CL3、CL4が互いに平行とされると共に、互いに羽根車の回転軸線方向にオフセットして配置されている。このオフセットにより、第一投射機118Aにおける投射材の投射方向の中心線L3(図13参照)と、第二投射機118Bにおける投射材の投射方向の中心線L4(図13参照)とは、(自転軸部材122の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間を含め)交差しない関係に設定されている。なお、図13では、第一投射機118Aにおける投射材の投射方向の中心線L3と、第二投射機118Bにおける投射材の投射方向の中心線L4とが二次元的に見ると交差しているように見えるが、中心線L3と中心線L4とは、図中の紙面に垂直な方向にずれており、三次元的には交差していない。   Further, the projection directions of the first and second projectors 118A and 118B shown in FIG. 13 are set in the same manner as in the first embodiment. That is, the first projector 118A is set such that the center line L3 in the projection direction of the projection material is inclined toward the lower side of the apparatus toward the inside of the processing chamber R3, and the second projector 118B is configured to project the projection material. The direction center line L4 is set to incline toward the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chamber R3. In addition, as shown in FIG. 12, the first projector 118A and the second projector 118B are configured such that the rotation axes CL3 and CL4 of the respective impellers are parallel to each other and in the rotation axis direction of the impeller. It is arranged with an offset. Due to this offset, the center line L3 (see FIG. 13) in the projection direction of the projection material in the first projector 118A and the center line L4 (see FIG. 13) in the projection direction of the projection material in the second projector 118B are ( The rotation shaft member 122 is set so as not to intersect (including the space on the projection position side with respect to the lower extension line of the rotation shaft). In FIG. 13, the center line L3 of the projection direction of the projection material in the first projector 118A and the center line L4 of the projection direction of the projection material in the second projector 118B intersect when viewed two-dimensionally. However, the center line L3 and the center line L4 are shifted in a direction perpendicular to the paper surface in the figure and do not intersect three-dimensionally.

さらに、第1の実施形態と同様に、第二投射機118Bは、投射材の単位時間当たりの投射量が第一投射機118Aの投射量に比べて多量になるように設定されている。本実施形態では、一例として、上側の第一投射機118Aにおける投射材の単位時間当たりの投射量が300kg/min、下側の第二投射機118Bにおける投射材の単位時間当たりの投射量が400kg/minに設定されている。   Further, similarly to the first embodiment, the second projector 118B is set so that the projection amount per unit time of the projection material is larger than the projection amount of the first projector 118A. In this embodiment, as an example, the projection amount per unit time of the projection material in the upper first projector 118A is 300 kg / min, and the projection amount per unit time of the projection material in the lower second projector 118B is 400 kg. / Min.

第一、第二投射機118A、118Bは、導入管26A、26Bを介して流量調整装置24A、24Bに接続されている。流量調整装置24A、24Bは、第1実施形態と同様に、制御部(図示省略)に接続されており、開閉ゲートの作動(開閉及び開閉量の調整)が第1実施形態と同様に前記制御部によって制御されている。   The first and second projectors 118A and 118B are connected to the flow rate adjusting devices 24A and 24B via the introduction pipes 26A and 26B. Similarly to the first embodiment, the flow rate adjusting devices 24A and 24B are connected to a control unit (not shown), and the operation of the opening and closing gate (opening and closing and adjustment of the opening and closing amount) is controlled as in the first embodiment. Controlled by the department.

第一、第二投射機118A、118Bは、導入管26A、26B、及び流量調整装置24A、24Bを介して循環装置120に連結されている。循環装置120は、第一、第二投射機118A、118Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機118A、118Bへ循環させるための装置であり、第1の実施形態における循環装置34(図1参照)と実質的に一部同様の構成とされている。よって、第1の実施形態における循環装置34(図1参照)と実質的に同様の構成部については説明を省略する。   The first and second projectors 118A and 118B are connected to the circulation device 120 via the introduction pipes 26A and 26B and the flow rate adjusting devices 24A and 24B. The circulation device 120 is a device for conveying the projection material projected by the first and second projectors 118A and 118B to circulate to the first and second projectors 118A and 118B, and in the first embodiment. The configuration is substantially the same as part of the circulation device 34 (see FIG. 1). Therefore, description of components that are substantially the same as those of the circulation device 34 (see FIG. 1) in the first embodiment will be omitted.

図12に示されるように、装置上部には、箱体120Aが設置されている。箱体120Aの内部の上部側には、ロータリースクリーン(回転式の篩)120Bが配設され、ロータリースクリーン120Bの内部にはスクリュウコンベヤ34Eが挿入されている。ロータリースクリーン120Bは、図示しない篩本体を備えており、前記篩本体は、網状体を備えて筒状に形成される共に投射材の径よりも大きい径の孔部(網目)が複数形成され、自らの軸周りに回転駆動されるようになっている。そして、ロータリースクリーン120Bは、回収された投射材と粉粒状の異物とを含む混合物がスクリュウコンベヤ34Eから前記篩本体の内部に流入されると共に前記篩本体が軸周りに回転することにより混合物を転動させながら孔部よりも径が大きい異物を除去する。   As shown in FIG. 12, a box 120A is installed on the upper part of the apparatus. A rotary screen (rotary sieve) 120B is disposed on the upper side inside the box 120A, and a screw conveyor 34E is inserted into the rotary screen 120B. The rotary screen 120B includes a sieve body (not shown), and the sieve body is formed in a cylindrical shape with a mesh body, and a plurality of holes (mesh) having a diameter larger than the diameter of the projection material are formed. It is designed to rotate around its own axis. The rotary screen 120B allows the mixture containing the collected projection material and powdered foreign matter to flow into the inside of the sieve body from the screw conveyor 34E and rotate the sieve body around the axis to rotate the mixture. Remove foreign material having a diameter larger than the hole while moving.

また、箱体120Aの内部の下部側には、風選式のセパレータ120Cが配置されている。セパレータ120Cは、ロータリースクリーン120Bの前記孔部を通過して流入された投射材を含む粉粒物に気流を当てることによって前記気流に乗せられる軽量物と落下する重量物とに選別し、投射材から異物(例えば、微粉や砂等の不純物)を分級するようになっている。セパレータ120Cには、ダクト120Fを介して集塵機120G(図13参照)が接続されている。集塵機120Gは、吸入手段(ブロワ)によってセパレータ120C内の空気を吸入しており、この吸入力によってセパレータ120Cの内部に前記気流を発生させる。   A wind-selective separator 120C is disposed on the lower side inside the box 120A. Separator 120C sorts into a light thing and a heavy thing which fall by putting air current on the granular material containing the projection material which flowed in through the hole of rotary screen 120B, and falling on the air current, Foreign substances (for example, impurities such as fine powder and sand) are classified. A dust collector 120G (see FIG. 13) is connected to the separator 120C via a duct 120F. The dust collector 120G sucks air in the separator 120C by suction means (blower), and the air flow is generated inside the separator 120C by this suction input.

箱体120Aの下部には、投射材タンク120D及び異物排出シュート120Eが連通連結されている。投射材タンク120Dには、セパレータ120Cで不純物が分離された投射材が流入して循環使用されるようになっている。投射材タンク120Dは、投射材を図13に示される流量調整装置24A、24Bへ供給するためのタンクであり、流量調整装置24A、24Bの上方側に配置されている。これに対して、異物排出シュート120Eは、ロータリースクリーン120Bの先端部側から排出された大きめの異物(例えば、鋳バリ)を装置外へ排出するための排出用とされている。   A projection material tank 120D and a foreign matter discharge chute 120E are connected in communication with the lower part of the box 120A. A projection material from which impurities are separated by a separator 120C flows into the projection material tank 120D and is circulated for use. The projection material tank 120D is a tank for supplying the projection material to the flow rate adjustment devices 24A and 24B shown in FIG. 13, and is disposed above the flow rate adjustment devices 24A and 24B. On the other hand, the foreign matter discharge chute 120E is used for discharging large foreign matter (for example, cast burr) discharged from the front end side of the rotary screen 120B to the outside of the apparatus.

次に、図13及び図14に示される被処理対象物Wを公転及び自転させるための機構について説明する。図13に示されるように、ロータリー114の天井部114Uには、自転軸部材122が設けられている。自転軸部材122は、その下部が処理室R3内に配置され、ケージ124を介して被処理対象物Wを処理室R3内に吊り下げ支持する。   Next, a mechanism for revolving and rotating the workpiece W shown in FIGS. 13 and 14 will be described. As shown in FIG. 13, a rotation shaft member 122 is provided on the ceiling 114 </ b> U of the rotary 114. The lower part of the rotation shaft member 122 is disposed in the processing chamber R3, and supports the workpiece W to be suspended in the processing chamber R3 via the cage 124.

なお、本実施形態では、図13に示されるケージ124は、自転軸部材122に上端部が係止されることで装置上下方向を長手方向として配置される支柱部124Aを備えると共に、支柱部124Aから水平方向に張り出して被処理対象物Wの挿入配置用とされたアーム部124Bを備えている。被処理対象物Wがケージ124に挿入されることで被処理対象物Wの落下防止と被処理対象物Wの傷付き防止が図られている。また、装置平面視でアーム部124Bにおける被処理対象物Wの配置中心は、自転軸部材122の自転軸線(自転中心)と同心になるように設定されている。ちなみに、図中ではアーム部124Bは一個設けられているが、アーム部124Bは装置上下方向に間隔を開けて複数個(例えば三個)設けられてもよい。また、ケージ124に代えて、籠状のケージ125を適用してもよい。   In the present embodiment, the cage 124 shown in FIG. 13 includes a support column portion 124A that is disposed with the upper end of the rotation shaft member 122 engaged with the upper end portion of the cage 124 as a longitudinal direction, and the support column portion 124A. The arm portion 124 </ b> B is provided so as to be horizontally inserted from the object to be processed and inserted. The object to be processed W is inserted into the cage 124 to prevent the object to be processed W from falling and to prevent the object to be processed W from being damaged. Further, the arrangement center of the object to be processed W in the arm portion 124 </ b> B is set to be concentric with the rotation axis (rotation center) of the rotation shaft member 122 in plan view of the apparatus. Incidentally, although one arm portion 124B is provided in the drawing, a plurality of (for example, three) arm portions 124B may be provided at intervals in the vertical direction of the apparatus. Further, a cage cage 125 may be applied instead of the cage 124.

また、キャビネット112には、回転駆動機構126が設けられている。回転駆動機構126は、公転軸部128、公転車輪130(図14参照)、及び公転駆動モータ132を含んで構成され、図14に示されるロータリー114を装置上下方向の軸線の周りに回転させることで自転軸部材122を公転させるようになっている。なお、図14では、公転軸部128の軸心に符号128を付している。   The cabinet 112 is provided with a rotation drive mechanism 126. The rotation drive mechanism 126 includes a revolution shaft portion 128, a revolution wheel 130 (see FIG. 14), and a revolution drive motor 132, and rotates the rotary 114 shown in FIG. 14 around the vertical axis of the apparatus. Thus, the rotating shaft member 122 is revolved. In FIG. 14, reference numeral 128 is attached to the axis of the revolution shaft portion 128.

図13に示されるように、公転軸部128は、装置上下方向を軸心方向として配置され、軸受部を介してフレーム部に支持されると共に、ロータリー114の天井部114Uの中央部に固定されている。図14に示されるように、ロータリー114の外周側面は、装置上下方向を軸心方向として配置された公転車輪130に接している。   As shown in FIG. 13, the revolving shaft portion 128 is arranged with the vertical direction of the apparatus as the axial direction, is supported by the frame portion via the bearing portion, and is fixed to the center portion of the ceiling portion 114U of the rotary 114. ing. As shown in FIG. 14, the outer peripheral side surface of the rotary 114 is in contact with the revolving wheel 130 arranged with the vertical direction of the device as the axial direction.

また、公転車輪130は、公転駆動モータ132のモータ軸に同軸的に連結されており、公転駆動モータ132によって回転駆動されるようになっている。換言すれば、ロータリー114は、公転駆動モータ132の作動によって公転軸部128周りに回転するようになっている。なお、公転駆動モータ132は、第1の実施形態と同様に、制御部(図示省略)に接続されており、前記制御部によって作動が制御される。また、回転駆動機構126は、第1の実施形態の回転駆動機構60(図5参照)と同様に公転ロック用の機能を備えている。   The revolution wheel 130 is coaxially connected to the motor shaft of the revolution drive motor 132 and is driven to rotate by the revolution drive motor 132. In other words, the rotary 114 rotates around the revolution shaft portion 128 by the operation of the revolution drive motor 132. In addition, the revolution drive motor 132 is connected to a control unit (not shown) similarly to the first embodiment, and the operation is controlled by the control unit. Further, the rotation drive mechanism 126 has a function for revolving lock similarly to the rotation drive mechanism 60 (see FIG. 5) of the first embodiment.

これらにより、回転駆動機構126は、投射エリア40Bの複数位置を被処理対象物Wの公転停止位置としてロータリー114を一次停止させるようになっており、ブラスト処理のムラ(研掃ムラ)の防止又は効果的な抑制を図っている。ここで、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材122の自転軸心が第一投射機118A(図13参照)における投射材の投射方向の中心線L3(図13参照)の上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されている。なお、変形例に係る設定として、投射エリア40Bにおける被処理対象物Wの公転停止位置は、装置平面視で自転軸部材122の自転軸心が第二投射機118B(図13参照)における投射材の投射方向の中心線L4(図13参照)上に配置される位置となる第二位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向上流側の位置である第一位置と、前記第二位置に対してロータリー114の回転方向下流側の位置である第三位置と、に設定されてもよい。これらは、第1の実施形態と同様に、制御部(図示省略)によって制御される。   As a result, the rotation drive mechanism 126 primarily stops the rotary 114 with a plurality of positions in the projection area 40B as the revolution stop positions of the object to be processed W, thereby preventing blast processing unevenness (polishing unevenness) or Effective suppression is planned. Here, the revolution stop position of the workpiece W in the projection area 40B is the center line of the projection direction of the projection material in the first projector 118A (see FIG. 13) when the rotation axis of the rotation shaft member 122 is the apparatus plan view. L2 (see FIG. 13), a second position that is a position to be disposed on, a first position that is a position upstream of the second position in the rotational direction of the rotary 114, and the second position. It is set to a third position which is a position downstream of the rotary 114 in the rotation direction. As a setting according to the modified example, the revolution stop position of the workpiece W in the projection area 40B is such that the rotation axis of the rotation shaft member 122 is the projection material in the second projector 118B (see FIG. 13) in plan view of the apparatus. A second position that is a position disposed on the center line L4 (see FIG. 13) in the projection direction, a first position that is a position on the upstream side in the rotational direction of the rotary 114 with respect to the second position, and the first position You may set to the 3rd position which is a position of the rotation direction downstream of the rotary 114 with respect to 2 positions. These are controlled by a control unit (not shown) as in the first embodiment.

なお、被処理対象物Wの公転停止位置でロータリー114を一次停止させた場合には、処理室R3のうちの一室が投射エリア40Bに配置される(換言すれば、投射室20になる)と共に処理室R3のうちの他の一室は搬入出エリア40Dに配置される(換言すれば、搬入出室19になる)ように設定されている。   When the rotary 114 is primarily stopped at the revolution stop position of the workpiece W, one of the processing chambers R3 is arranged in the projection area 40B (in other words, the projection chamber 20). At the same time, the other one of the processing chambers R3 is set in the carry-in / out area 40D (in other words, the carry-in / out chamber 19).

一方、図13に示されるように、キャビネット112の装置上方側では、自転軸部材122の上端部に自転車輪134が同軸的に固着されている。これに対して、投射室20の上方側には、自転駆動モータ136が設けられると共に、自転駆動モータ136の作動により駆動される駆動ローラ138が設けられている。図14に示されるように、駆動ローラ138は、第1の実施形態の揺動アーム54A(図5参照)と同様の揺動アーム140に取り付けられると共に、第1の実施形態と同様に、被処理対象物Wが投射エリア40B(被処理対象物Wが第一、第二投射機118A、118B(図13参照)により投射されるエリア)の公転停止位置に達すると、自転車輪134に押し付けられるようになっている。また、自転駆動モータ136(図13参照)の作動状態で駆動ローラ138が自転車輪134に接すると、自転軸部材122がその軸周りに自転するようになっている。   On the other hand, as shown in FIG. 13, a bicycle wheel 134 is coaxially fixed to the upper end portion of the rotation shaft member 122 on the upper side of the cabinet 112. On the other hand, a rotation driving motor 136 is provided above the projection chamber 20, and a driving roller 138 driven by the operation of the rotation driving motor 136 is provided. As shown in FIG. 14, the drive roller 138 is attached to the swing arm 140 similar to the swing arm 54A (see FIG. 5) of the first embodiment, and the covered roller is similar to the first embodiment. When the processing object W reaches the revolution stop position of the projection area 40B (the area where the processing object W is projected by the first and second projectors 118A and 118B (see FIG. 13)), it is pressed against the bicycle wheel 134. It is like that. Further, when the driving roller 138 contacts the bicycle wheel 134 in the operating state of the rotation driving motor 136 (see FIG. 13), the rotation shaft member 122 rotates around its axis.

なお、図14に示される被処理対象物Wを公転、公転停止、自転、及び自転停止させるための条件は、第1の実施形態と同様であり、図示しない前記制御部によってこれらの作動等が制御されている。   Note that the conditions for causing the object to be processed W shown in FIG. 14 to revolve, stop revolution, rotate, and stop rotation are the same as those in the first embodiment, and these operations and the like are performed by the control unit (not shown). It is controlled.

上記実施形態の構成によれば、投射エリア40Bで被処理対象物Wに投射がなされている間に、被処理対象物Wの搬入と搬出とを同時にはできないものの、投射中に被処理対象物Wの搬出と搬入が可能であり、また、他の点については、前述した第1実施形態とほぼ同様の作用及び効果が得られる。そして、公転駆動モータ132(図13参照)が作動されて、ロータリー114及び仕切部116が公転軸部128を中心にして180°弱回転されることで、ケージ124に挿入された状態の被処理対象物Wが投射エリア40Bと搬入出エリア40Dとの間で移動される。   According to the configuration of the above embodiment, the object to be processed W cannot be carried in and out at the same time while the object to be processed W is projected in the projection area 40B. W can be carried out and carried in, and the other operations and effects similar to those of the first embodiment described above can be obtained in other respects. Then, the revolution drive motor 132 (see FIG. 13) is operated, and the rotary 114 and the partition 116 are rotated by a little less than 180 degrees around the revolution shaft 128, so that the object to be processed is inserted into the cage 124. The object W is moved between the projection area 40B and the carry-in / out area 40D.

[第4実施形態]
次に、本発明の第4の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置150について、図15〜図17を用いて説明する。図15には、ショットブラスト装置150の全体構成が正面図にて示され、図16には、ショットブラスト装置150の全体構成が右側面図にて示され、図17には、ショットブラスト装置150の全体構成が平面図にて示されている。
[Fourth Embodiment]
Next, a shot blasting apparatus 150 as a shot processing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15 shows the overall configuration of the shot blasting apparatus 150 in a front view, FIG. 16 shows the overall configuration of the shot blasting apparatus 150 in a right side view, and FIG. The overall configuration is shown in a plan view.

これらの図に示されるショットブラスト装置150は、基本的には第3の実施形態に係るショットブラスト装置110(図12〜図14参照)を小型化した装置である。なお、第1〜第3の実施形態に係るショットブラスト装置110と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。   A shot blasting apparatus 150 shown in these drawings is basically an apparatus in which the shot blasting apparatus 110 (see FIGS. 12 to 14) according to the third embodiment is miniaturized. Note that components substantially similar to those of the shot blast device 110 according to the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図16に示されるように、第一、第二投射機118A、118Bによって投射された投射材を搬送して第一、第二投射機118A、118Bへ循環させるための循環装置152は、バケットエレベータ34Bの上部がシュート34Dを介してセパレータ120Cに接続されている。すなわち、循環装置152は、図12等に示される第3の実施形態の循環装置120におけるスクリュウコンベヤ34E及びロータリースクリーン120Bに相当する構成を備えていない。   As shown in FIG. 16, the circulating device 152 for conveying the projection material projected by the first and second projectors 118A and 118B and circulating it to the first and second projectors 118A and 118B is a bucket elevator. The upper part of 34B is connected to separator 120C via chute 34D. That is, the circulation device 152 does not have a configuration corresponding to the screw conveyor 34E and the rotary screen 120B in the circulation device 120 of the third embodiment shown in FIG.

本実施形態の構成によっても、前述した第3実施形態とほぼ同様の作用及び効果得られる。   Also according to the configuration of the present embodiment, substantially the same operations and effects as the third embodiment described above can be obtained.

[実施形態の補足説明]
なお、上記実施形態では、ショット処理装置は、ショットブラスト装置10、80、110とされているが、ショット処理装置は、例えば、ショットピーニング装置に適用されてもよい。
[Supplementary explanation of the embodiment]
In the above embodiment, the shot processing apparatuses are the shot blast apparatuses 10, 80, and 110. However, the shot processing apparatus may be applied to, for example, a shot peening apparatus.

また、上記実施形態では、投射材を遠心力で加速して投射する遠心式の投射機(第一投射機30A、88A、118A、及び第二投射機30B、88B、118B)がショットブラスト装置10、80、110の投射機として用いられているが、投射機は、例えば、圧縮空気とともに投射材を圧送しノズルから噴射するエアノズル式の投射機等のような他の投射機であってもよい。   Moreover, in the said embodiment, the centrifugal type projector (1st projector 30A, 88A, 118A and 2nd projector 30B, 88B, 118B) which accelerates and projects a projection material with a centrifugal force is shot blasting apparatus 10. However, the projector may be another projector such as an air nozzle type projector that pumps a projection material together with compressed air and injects it from a nozzle. .

また、公転軸部62、96、128の駆動ついては、上記実施形態の構成に代えて、例えば、公転軸部(回転軸)に駆動モータの軸部を直接連結させて駆動させたり、駆動モータに直接連結されたテンションゴムローラで公転軸部(回転軸)を駆動させたりしてもよい。   For driving the revolving shaft portions 62, 96, and 128, instead of the configuration of the above embodiment, for example, the shaft portion of the drive motor is directly connected to the revolving shaft portion (rotating shaft) or the drive motor is driven. The revolving shaft portion (rotating shaft) may be driven by a directly connected tension rubber roller.

また、上記実施形態では、被処理対象物Wの公転停止位置が、第一位置、第二位置、及び第三位置に設定されており、より効率的にかつ均一に投射する観点からはこのような設定が好ましいが、被処理対象物Wの公転停止位置は、例えば、第一位置、第二位置、及び第三位置のうちのいずれか二つの位置に設定されてもよい。   Moreover, in the said embodiment, the revolution stop position of the to-be-processed target object W is set to the 1st position, the 2nd position, and the 3rd position, and it is like this from a viewpoint of projecting more efficiently and uniformly. However, the revolution stop position of the workpiece W may be set to any two positions of the first position, the second position, and the third position, for example.

また、上記実施形態では、第一投射機30A、88A、118Aがロータリー14、84、114の上部の側方に配置されてかつ投射する投射材の投射方向の中心線L1、L3が処理室R1、R2、R3の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定されると共に、第二投射機30B、88B、118Bがロータリー14、84、114の下部の側方には配置されてかつその投射する投射材の投射方向の中心線L2、L4が処理室R1、R2、R3の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されているが、例えば、被処理対象物の形状によっては、投射機がロータリーの上下方向中央部の側方にのみ配置される構成も採り得る。   In the above embodiment, the first projectors 30A, 88A, 118A are arranged on the sides of the top of the rotary 14, 84, 114, and the center lines L1, L3 in the projection direction of the projection material to be projected are the processing chamber R1. , R2 and R3 are set so as to incline toward the lower side of the apparatus, and the second projectors 30B, 88B and 118B are disposed on the lower sides of the rotary 14, 84 and 114 and Although the center lines L2 and L4 in the projection direction of the projection material to be projected are set to incline toward the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chambers R1, R2 and R3, for example, the shape of the object to be processed Depending on the case, a configuration may be adopted in which the projector is disposed only on the side of the central portion in the vertical direction of the rotary.

また、上記実施形態では、第一投射機30A、88A、118Aにおける投射材の投射方向の中心線L1、L3と、第二投射機30B、88B、118Bにおける投射材の投射方向の中心線L2、L4とが、少なくとも吊下支持部(自転軸部材46、ハンガーフック92、自転軸部材122)の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されており、被処理対象物Wをより効率的に投射する観点からはこのような構成が好ましいが、このような設定でない形態も採り得る。   Moreover, in the said embodiment, centerline L1, L3 of the projection direction of the projection material in 1st projector 30A, 88A, 118A and center line L2, of the projection direction of the projection material in 2nd projector 30B, 88B, 118B, L4 is set so as not to intersect in the space on each projection position side from the lower extension line of the rotation shaft of the suspension support portion (the rotation shaft member 46, the hanger hook 92, the rotation shaft member 122), Such a configuration is preferable from the viewpoint of more efficiently projecting the object to be processed W, but a mode that is not such a setting can also be adopted.

また、上記実施形態では、吊下支持部(自転軸部材46、ハンガーフック92、自転軸部材122)が所定時に自転停止されるが、吊下支持部が公転時に常時自転するような構成も採り得る。   Moreover, in the said embodiment, although the suspension support part (the rotation shaft member 46, the hanger hook 92, the rotation shaft member 122) is stopped by rotation at a predetermined time, the suspension support part is always rotated at the time of revolution. obtain.

また、上記実施形態の変形例として、ショット処理装置は、例えば、処理室がロータリーの周方向に六室並設されており、被処理対象物の公転停止位置でロータリーを一次停止させた場合に処理室のうちの二室が投射エリアに配置され、処理室のうちの二室が搬入エリアに配置されると共に処理室のうちの二室は搬出エリアに配置されるように設定されているものであってもよい。   Further, as a modification of the above-described embodiment, for example, the shot processing apparatus includes six processing chambers arranged in parallel in the circumferential direction of the rotary, and the rotary is temporarily stopped at the revolution stop position of the object to be processed. Two of the processing chambers are arranged in the projection area, two of the processing chambers are arranged in the carry-in area, and two of the processing chambers are arranged in the carry-out area It may be.

なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。   In addition, the said embodiment and the above-mentioned some modification can be implemented combining suitably.

ちなみに、本発明ではない参考例として、上記実施形態とほぼ同様の装置構成で投射エリアの単一の位置を被処理対象物の公転停止位置としてロータリーを一次停止させるような形態(例えば、公転軸部(回転軸)の駆動用にカム式割出装置(例えば、CKD製のインデックスマン(登録商標))及びトルクリミッタを備えた構成を適用したような形態)が採り得る。   Incidentally, as a reference example that is not the present invention, a configuration in which the rotary is temporarily stopped with a single position of the projection area as the revolution stop position of the object to be processed (for example, the revolution axis) with the apparatus configuration almost the same as the above embodiment. A cam-type indexing device (for example, a configuration in which a configuration including an index man (registered trademark) manufactured by CKD) and a torque limiter is used for driving the portion (rotating shaft) may be employed.

10 ショットブラスト装置(ショット処理装置)
14 ロータリー
14A 開口部
14U 天井部
16 仕切部
30A 第一投射機
30B 第二投射機
40A 搬入エリア
40B 投射エリア
40C 搬出エリア
46 自転軸部材(吊下支持部)
60 回転駆動機構
80 ショットブラスト装置(ショット処理装置)
84 ロータリー
84A 開口部
84U 天井部
88A 第一投射機
88B 第二投射機
86 仕切部
92 ハンガーフック(吊下支持部)
94 回転駆動機構
110 ショットブラスト装置(ショット処理装置)
114 ロータリー
114A 開口部
114U 天井部
116 仕切部
118A 第一投射機
118B 第二投射機
122 自転軸部材(吊下支持部)
126 回転駆動機構
L1 第一投射機における投射材の投射方向の中心線
L2 第二投射機における投射材の投射方向の中心線
L3 第一投射機における投射材の投射方向の中心線
L4 第二投射機における投射材の投射方向の中心線
R1 処理室
R2 処理室
R3 処理室
W 被処理対象物
10 Shot blasting equipment (shot processing equipment)
14 Rotary 14A Opening 14U Ceiling 16 Partition 30A First Projector 30B Second Projector 40A Carry-in Area 40B Projection Area 40C Carry-out Area 46 Rotating Shaft Member (Hanging Support)
60 Rotation drive mechanism 80 Shot blasting device (shot processing device)
84 Rotary 84A Opening 84U Ceiling 88A First projector 88B Second projector 86 Partition 92 Hanger hook (suspending support)
94 Rotation Drive Mechanism 110 Shot Blasting Device (Shot Processing Device)
114 Rotary 114A Opening 114U Ceiling part 116 Partition part 118A First projector 118B Second projector 122 Autorotation shaft member (suspending support part)
126 Rotation drive mechanism L1 Center line in projection direction of projection material in first projector L2 Center line in projection direction of projection material in second projector L3 Center line in projection direction of projection material in first projector L4 Second projection Center line of the projection direction of the projection material in the machine R1 Processing chamber R2 Processing chamber R3 Processing chamber W Object to be processed

Claims (5)

装置上下方向の軸線の周りに回転可能に設けられ、前記軸線の周りの空間が仕切部に仕切られることで複数の処理室が周方向に並設されると共に、前記処理室には外周側に向けて開口し被処理対象物の搬入用、前記被処理対象物の搬出用、及び投射材の通過用となる開口部が形成されているロータリーと、
前記処理室における前記開口部を通して前記処理室の内部に投射材を投射する投射機と、
前記ロータリーの天井部に設けられ、前記被処理対象物を前記処理室内に吊り下げ支持する共に前記被処理対象物が前記投射機により投射される投射エリアで自転可能な吊下支持部と、
前記ロータリーを前記軸線の周りに回転させることで前記吊下支持部を公転させると共に、前記投射エリアの複数位置を前記被処理対象物の公転停止位置として前記ロータリーを一次停止させる回転駆動機構と、
を有するショット処理装置。
A plurality of processing chambers are arranged in the circumferential direction by partitioning the space around the axis line with a partitioning portion, and the processing chambers are arranged on the outer peripheral side. A rotary in which an opening is formed for opening the object to be processed, for carrying in the object to be processed, for carrying out the object to be processed, and for passing the projection material;
A projector that projects a projection material into the processing chamber through the opening in the processing chamber;
A suspension support unit provided on the ceiling of the rotary, and supporting the object to be treated in a suspended manner in the processing chamber and capable of rotating in a projection area in which the object to be treated is projected by the projector;
A rotary drive mechanism that revolves the suspension support by rotating the rotary around the axis, and temporarily stops the rotary with a plurality of positions in the projection area as a revolution stop position of the object to be processed;
A shot processing apparatus.
前記投射エリアにおける前記被処理対象物の公転停止位置は、
装置平面視で前記吊下支持部の自転軸心が前記投射機における投射材の投射方向の中心線上に配置される位置となる第二位置と、
前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向上流側の位置である第一位置と、
前記第二位置に対して前記ロータリーの回転方向下流側の位置である第三位置と、
に設定されている、請求項1記載のショット処理装置。
The revolution stop position of the object to be processed in the projection area is
A second position which is a position where the rotation axis of the suspension support part is arranged on the center line in the projection direction of the projection material in the projector in plan view of the apparatus;
A first position that is a position upstream of the rotary direction in the rotational direction of the rotary;
A third position which is a position on the downstream side in the rotational direction of the rotary with respect to the second position;
The shot processing apparatus according to claim 1, wherein
前記被処理対象物を前記吊下支持部に吊り下げ支持させるための搬入エリアと、
前記被処理対象物を前記吊下支持部から降ろすための搬出エリアと、
が設けられると共に、
前記処理室が前記ロータリーの周方向に三室以上並設されており、前記被処理対象物の公転停止位置で前記ロータリーを一次停止させた場合に前記処理室のうちの少なくとも一室が前記搬入エリアに配置されると共に前記処理室のうちの他の少なくとも一室は前記搬出エリアに配置されるように設定されている、請求項1又は請求項2に記載のショット処理装置。
A carry-in area for hanging and supporting the object to be processed on the suspension support part,
A carry-out area for lowering the object to be treated from the suspension support;
Is provided,
Three or more processing chambers are arranged in parallel in the circumferential direction of the rotary, and when the rotary is temporarily stopped at the revolution stop position of the object to be processed, at least one of the processing chambers is the carry-in area. The shot processing apparatus according to claim 1, wherein at least one other chamber among the processing chambers is set to be disposed in the carry-out area.
前記投射機は、
前記ロータリーの上部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置下方側に傾斜するように設定された第一投射機と、
前記ロータリーの下部の側方に配置され、投射材の投射方向の中心線が前記処理室の内部側へ向けて装置上方側に傾斜するように設定されると共に、投射材の単位時間当たりの投射量が前記第一投射機に比べて多量に設定された第二投射機と、
を備えている、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のショット処理装置。
The projector is
A first projector that is arranged on the side of the upper part of the rotary, and is set so that the center line in the projection direction of the projection material is inclined toward the apparatus lower side toward the inside of the processing chamber;
Projection per unit time of the projection material is arranged on the side of the lower part of the rotary, and is set so that the center line in the projection direction of the projection material is inclined to the upper side of the apparatus toward the inside of the processing chamber. A second projector whose amount is set to be larger than that of the first projector;
The shot processing apparatus of any one of Claims 1-3 provided with these.
前記第一投射機における投射材の投射方向の中心線と、前記第二投射機における投射材の投射方向の中心線とが、少なくとも前記吊下支持部の自転軸の下方側延長線よりも各投射位置側の空間では交差しない関係に設定されている、請求項4記載のショット処理装置。   The center line in the projection direction of the projection material in the first projector and the center line in the projection direction of the projection material in the second projector are at least more than the lower extension line of the rotation shaft of the suspension support part. The shot processing apparatus according to claim 4, wherein the shot processing apparatus is set so as not to intersect in the space on the projection position side.
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