JP2014169988A - Defect inspection device of transparent body or reflection body - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透過体(例えば、ガラスや樹脂や蒸着形成した鏡などの透過性を示すことができる物)または反射体(例えば、ミラー面や艶面などの反射面を有し透過性を有しない物)の欠陥検査装置に関し、特に「異物」「汚れ」「キズ」などの遮光性(光の進行が遮えぎられてしまう)または光拡散性(光の進行が多方向に変えられてしまう)の欠陥と、「気泡」「ヘコミ」「ヒケ」などの屈折性(光の進行が曲げられてしまう)の欠陥を光学的に検出する欠陥検査装置に関する。 The present invention provides a transparent body (for example, an object that can exhibit transparency such as glass, resin, or a deposited mirror) or a reflective body (for example, a reflective surface such as a mirror surface or a glossy surface). In particular, it is related to defect inspection equipment, such as “foreign matter”, “dirt”, “scratches”, etc., with light-shielding properties (light travel is blocked) or light-diffusing properties (light travel is changed in multiple directions) The present invention relates to a defect inspection apparatus that optically detects defects such as “bubbles”, “dents”, “sink marks”, and the like, and refractive defects (the light travels bends).
板状などの透過体または反射体に存在する遮光性および光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥の検出方法に関する技術としては、欠陥を光の陰影としてとらえるものや、欠陥の反射光を利用するもの、また欠陥における光の屈折の違いを利用して背景の線の歪みをとらえるものなどが挙げられる。以下、従来の透過体または反射体に存在する遮光性および光拡散性および屈折性の欠陥の検出方法に関する技術について説明する。 Techniques for detecting light-blocking and light-diffusing defects and refractive defects present in a plate-like transmissive body or reflector, such as detecting defects as light shadows, or using reflected light from defects And those that capture the distortion of the background lines by utilizing the difference in light refraction at the defect. Hereinafter, a technique relating to a conventional method for detecting a light-blocking property, a light diffusing property, and a refractive property existing in a transmissive body or a reflective body will be described.
屈折性の欠陥を検出するための従来の手段として、透明部と不透明部を交互に繰り返すストライプ状のマスクやスリット等を通して照明する提案がいくつかある。特許文献1や特許文献3で提案されている欠陥に対して欠陥点のレンズ効果(屈折異常)を利用して、特定の欠陥を抽出する技術では、歪みという特定の欠陥を発見する用途には優れるが、焦点が被検査体に合っていないため汚れや鋭利なキズ等の欠陥検出は困難である。 As a conventional means for detecting a refractive defect, there are some proposals that illuminate through a striped mask or slit that alternately repeats a transparent portion and an opaque portion. In the technique of extracting a specific defect by utilizing the lens effect (refractive abnormality) of the defect point with respect to the defect proposed in
特許文献2で提案されている技術では、焦点は被検査体に合っているが、明領域では欠陥の検出ができるが、暗領域では検出力を持たない。このため、全領域を検査するためには複数回の撮像が必要となる。 In the technique proposed in
特許文献6で提案されている格子状チャートのチャート線歪みを検出して欠陥を検出する技術では、歪みに対しては高い効果を発揮するが、レンズ作用の発生しない、もしくはチャートに掛からない埃や異物の混入による欠陥は検出困難である。 The technique for detecting the defect by detecting the chart line distortion of the grid chart proposed in Patent Document 6 exhibits a high effect on the distortion, but does not generate a lens action or dust that does not hang on the chart. It is difficult to detect defects due to contamination with foreign matter.
特許文献4で提案されている技術はスレッドラインと呼ばれる微細な筋状の欠陥を効率よく抽出するものだが、帯光源の幅と間隔が5〜50mmと広くスレッドラインの欠陥検出に限定されたものである。 The technique proposed in
特許文献5で提案されている技術はガラス基板上に発生する線状のクレーターと呼ばれる微細な突起物の欠陥を効率よく検出でき、屈折や散乱を伴う欠陥の検出は出来るが、スリットによる暗領域での遮光性欠陥の検出は困難である。 The technique proposed in Patent Document 5 can efficiently detect a defect of a fine projection called a linear crater generated on a glass substrate and can detect a defect accompanied by refraction or scattering, but a dark region due to a slit. It is difficult to detect a light-shielding defect at.
前記のように、従来の手段では、特定(歪み、スレッドライン、クレーターなど)の屈折異常を有する欠陥しか検出できなかったり、遮光性または光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥の両方を検出するために、光学系を変更して複数回の撮像が必要であったりした。すなわち、従来の方法では、「異物」「汚れ」「キズ」などの遮光性または光拡散性の欠陥と、「気泡」「ヘコミ」「ヒケ」などの屈折性(光の進行が曲げられてしまう)の欠陥を同一光学条件で検出することは困難であった。 As described above, the conventional means can detect only defects having specific refractive anomalies (distortion, thread line, crater, etc.), or detect both light-shielding or light-diffusing defects and refractive defects. Therefore, it was necessary to change the optical system and perform multiple imaging. That is, in the conventional method, defects such as “foreign matter”, “dirt”, and “scratch”, and light-reflective or light-diffusing defects, and refractive properties such as “bubbles”, “dents”, and “sinks” (the progression of light is bent). It was difficult to detect the defect (1) under the same optical conditions.
本発明では、従来困難であった「異物」「汚れ」「キズ」などの遮光性または光拡散性の欠陥と、屈折異常を含む「気泡」「ヘコミ」「ヒケ」などの屈折性の欠陥などの各種欠陥を同一光学条件で被検査物を一度撮像することで検出できるようにした透過体または反射体の欠陥検査装置の提供を目的とする。 In the present invention, light-blocking or light-diffusing defects such as “foreign matter”, “dirt”, and “scratches” that have been difficult in the past, and refractive defects such as “bubbles”, “dents”, and “sinks” that include refractive errors It is an object of the present invention to provide a defect inspection apparatus for a transmissive body or a reflector that can detect various defects of the above by imaging the inspection object once under the same optical conditions.
本発明は、前記目的を達成するために、請求項1の発明では、照明装置から照射される光を、交互に繰り返す遮光部と透光部をもつマスク体を介して被検査物に照射し、被検査物を挟んで前記照明装置とは対向する位置に配置した撮像装置により被検査物を撮像し、画像処理装置により欠陥を検出する欠陥検査装置において、被検査体に撮像装置の焦点を合わせた状態で、撮像される輝度波形が濃淡レベルの中心であるグレーの状態に対して、その近傍の濃いグレーと薄いグレーが連続的に起きる背景像とすることにより、透過体に存在する遮光性および光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥を検査する様にしたことを特徴とする。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, in the invention of
請求項2の発明では、請求項1の発明において、前記マスク体を被検査物と照明装置との間で光軸方向に進退移動可能に設けたことを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the mask body is provided so as to be movable back and forth in the optical axis direction between the inspection object and the illumination device.
請求項3の発明では、照明装置から照射される光を、交互に繰り返す遮光部と透光部をもつマスク体を介して被検査物に照射し、被検査物からの反射光を撮像する撮像装置を有し、画像処理装置により欠陥を検出する欠陥検査装置において、被検査体に撮像装置の焦点を合わせた状態で、撮像される輝度波形が濃淡レベルの中心であるグレーの状態に対して、その近傍の濃いグレーと薄いグレーが連続的に起きる背景像とすることにより、反射体に存在する遮光性および光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥を検査する様にしたことを特徴とする。 According to the third aspect of the present invention, imaging is performed by irradiating the object to be inspected with the light irradiated from the illumination device through a mask body having alternately light-shielding portions and light-transmitting portions, and imaging reflected light from the object to be inspected. In a defect inspection apparatus having an apparatus and detecting a defect by an image processing apparatus, with respect to a gray state where a luminance waveform to be imaged is in the center of a gray level in a state where the imaging apparatus is focused on an object to be inspected The background image in which the dark gray and the light gray in the vicinity continuously occur is used to inspect the light shielding and light diffusing defects and the refractive defects existing in the reflector. .
請求項4の発明では、請求項3の発明において、前記マスク体を被検査物と照明装置との間で光軸方向に進退移動可能に設けたことを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the mask body is provided so as to be movable back and forth in the optical axis direction between the object to be inspected and the illumination device.
請求項1の発明によれば、同一光学条件で、被検査物である透過体を一度撮像することで、遮光性または光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥などの各種欠陥を撮像領域の全域で検出可能となるので、欠陥の種類に限定されることなく、透過体に含まれる各種欠陥を短時間で検出できる欠陥検査装置を提供できる。 According to the first aspect of the present invention, various defects such as a light-blocking or light-diffusing defect and a refractive defect are captured in the entire imaging region by once imaging a transmission body as an inspection object under the same optical conditions. Therefore, it is possible to provide a defect inspection apparatus that can detect various types of defects contained in the transmission body in a short time without being limited to the types of defects.
請求項2の発明によれば、請求項1の発明において、マスク体を被検査物と照明装置との間で光軸方向に進退可能に設けたことにより、屈折率や厚さの違う透過体を同じ欠陥検査装置で検査することができる。 According to the invention of
請求項3の発明によれば、同一光学条件で、被検査物である反射体を一度撮像することで、光拡散性の欠陥と屈折性の欠陥などの各種欠陥を撮像領域の全域で検出可能となるので、欠陥の種類に限定されることなく、反射体に含まれる各種欠陥を短時間で検出できる欠陥検査装置を提供できる。 According to the invention of
請求項4の発明によれば、請求項3の発明において、マスク体を被検査物と照明装置との間で光軸方向に進退可能に設けたことにより、屈折率や厚さの違う反射体を同じ欠陥検査装置で検査することができる。 According to the invention of
以下、本発明に係る欠陥検査装置の一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において参照する各図は、本発明の理解を容易にするために一部の構成要素を誇張して表すなど模式的に表している。このため、各構成要素間の寸法や比率などは異なっていることがある。 Hereinafter, an embodiment of a defect inspection apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. Note that each drawing referred to in the present specification is schematically represented by exaggerating some of the components in order to facilitate understanding of the present invention. For this reason, the dimension, ratio, etc. between each component may differ.
図1は本発明に係る欠陥検査装置の構成図である。図1に示すように欠陥検査装置はライン状光源2、マスク体4および、一次元撮像装置1、欠陥検出処理部10および、制御部11、また、本発明の主旨に直接影響しないため図示しないが、被検査物を把持して搬送する装置を備えている。 FIG. 1 is a block diagram of a defect inspection apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 1, the defect inspection apparatus is not shown because it does not directly affect the gist of the present invention, since the
図2は本発明の実施形態の一つであり、一次元撮像装置1とライン状光源2とを被検査物3を挟んで対向配置した透過光学系の構成例である。 FIG. 2 shows an embodiment of the present invention, which is a configuration example of a transmission optical system in which a one-
ライン状光源2は被検査物3に向けて拡散光を照射するものであり、被検査物3が搬送される方向Aに対して直交する方向に延びる直方体状に形成されている。この場合、ライン状光源2は検査対象物3の検査対象領域の幅方向長さよりも長く形成されている。 The line-
また、ライン状光源2の発光面には拡散板(図示せず)が取り付けられており、これにより照射される光は均一な明るさとなっている。このライン状光源2は白色LEDを内蔵して構成されており、後述する制御部11によって明るさが制御される。なお、ライン状光源2はLED以外の発光体、例えばハロゲンランプやメタルハライドランプなどでもよい。すなわち、このライン状光源2が本発明に係る照明装置に相当する。 Further, a diffusion plate (not shown) is attached to the light emitting surface of the line-
ライン状光源2の上方には発光面を覆うようにマスク体4が光軸方向Bに進退可能な状態で設けられている。マスク体4はライン状光源2から投光された光の一部を透過させるとともに他の一部を遮るものであり、濃いグレーと薄いグレーが連続的に起きる背景像を形成するための板状の部材である。より具体的には、マスク体4は、透明な樹脂製の板材をライン状光源2の発光面に対応する長方形状に形成されている。そしてマスク体4の表面には長手方向に直交する方向(被検査物の搬送方向)に延びた遮光部4aと透光部4bとがマスク体4の長手方向に沿って交互に繰り返し形成されている。 A
遮光部4aはライン状光源2から照射された光を遮って遮光する部分であり、黒色に着色されている。一方透光部4bはライン状光源2から照射された光をそのまま透過させる透明な部分である。本実施形態では遮光部4aは例えば0.75mm、透光部4bは0.25mmに形成されている。なお、マスク体4の遮光部4aと透光部4bの幅は、検出対象となる欠陥や一次元撮像装置1を構成するレンズの開口や配置などの各条件に基づいて種々決定されるものであり、前記のように遮光部4aを0.75mm、透光部4bを0.25mmに限定するものではない。 The
このマスク体4の上方には、一次元撮像装置1が対向配置されている。一次元撮像装置1は、ライン状光源2およびマスク体4の上方に配置されてライン状光源2からマスク体4を介して光を照射された被検査物3を搬送させながら走査することで撮像をおこない撮像画像を表す電気信号を出力する光学機器である。本実施形態においては、一次元撮像装置1はラインCCDまたはCMOSイメージセンサおよびレンズによって構成されている。この一次元撮像装置1は図示しない支持体によってマスク体4の上方に支持されている。 Above the
また、この場合、一次元撮像装置1は、図示しない搬送装置で搬送される被検査物3に焦点が合うように調整され、撮像分解能が例えば20μmとなるように設置されている。なお、一次元撮像装置1の撮像分解能は検出対象となる欠陥や検査対象物3の検査対象範囲の大きさなど各条件に基づいて決定されるもので、前記のように20μmに限定されるものではない。すなわち、この一次元撮像装置1が、本発明に係る撮像装置に相当する。 In this case, the one-
欠陥検出処理部10は一次元撮像装置1から出力される画像信号を処理して欠陥の検出をおこなうものである。また欠陥検出処理部10には、図示しない表示モニタが接続されており、欠陥検出結果の表示や一次元撮像装置1から出力される画像信号を輝度波形として連続的に表示することができる。すなわち、この欠陥検出処理部10が、本発明に係る画像処理装置に相当する。 The defect
被検査物3は図示しない搬送装置により直接または図示しないワークフォルダを介して保持され一次元撮像装置1とマスク体4の間の高さで、ライン状光源2の長手方向に直交する方向Aに搬送される。ワークフォルダは被検査物3を脱着自在に1つまたは複数保持するものであり、樹脂製の板材などに被検査物3の検査対象となる部分に対応した貫通孔が形成されて構成されている。 The object to be inspected 3 is held by a conveying device (not shown) directly or via a work folder (not shown) and is at a height between the one-
図示しない搬送装置は被検査物3を保持して一次元撮像装置1の走査周期と撮像分解能に対応する速度で搬送をおこない、被検査物3の先端から終端まですべてが一次元撮像装置1の下方を通過するように制御部11によって動作が制御される。 A conveyance device (not shown) holds the
制御部11は操作者の指示に従ってあらかじめ記憶された制御プログラムを実行する事により、欠陥検査装置の各種動作を制御する。具体的には、制御部11は図示しない搬送装置、一次元撮像装置1、ライン状光源2、欠陥検出処理部10の各動作を制御する。たとえば、制御部11は図示しない搬送装置を制御して、被検査物3を搬送するとともに欠陥検出処理部10の一次元撮像装置1から出力される画像信号の処理開始や終了の制御をおこなう。 The control unit 11 controls various operations of the defect inspection apparatus by executing a control program stored in advance according to an instruction from the operator. Specifically, the control unit 11 controls each operation of a conveyance device (not shown), the one-
次に本発明に係る欠陥検査装置の検出原理について説明する。まず、被検査物3を撮像して、濃いグレーと薄いグレーが連続的に起きる背景像の調整をおこなう。具体的には被検査物3を搬送装置により移動させて、被検査物3の検査対象領域を一次元撮像装置1の下方に位置決めさせる。次いで、ライン状光源2から光を照射させるとともに、一次元撮像装置1から出力される画像信号の輝度波形を観測する。これにより、ライン状光源2から照射された光が、マスク体4における透光部4bを透過した光と遮光部4aによって光を遮光された影とによって明部と暗部を交互に繰り返す方形波状の輝度波形が観測される。 Next, the detection principle of the defect inspection apparatus according to the present invention will be described. First, the
この場合、輝度波形において、図4の波形のように平均輝度に対して明部と暗部の輝度差が大きな場合には、ライン状光源2の明るさや、一次元撮像装置1のレンズ開口、マスク体4と被検査物3との距離を調整することで、図5の波形のように平均輝度に対して明部Xと暗部Yの輝度差が小さくなるようにする。本実施形態では輝度波形の平均輝度が最大階調の中間になるようにし、かつ明部Xと暗部Yの輝度差が最大輝度階調の約10%程度の範囲に収まるように調整をおこなった。なお、輝度波形の平均輝度と、明部Xと暗部Yの差は欠陥検出処理部10の検出したい欠陥の特性や検出条件などにより適宜調整されるものであり、前記のように平均輝度や明部Xと暗部Yの輝度差は本実施形態の数値に限定されるものではない。 In this case, in the luminance waveform, when the luminance difference between the bright part and the dark part is large with respect to the average luminance as in the waveform of FIG. 4, the brightness of the line
このように、輝度の明部Xと暗部Yの差を小さくすることで埃や異物などの遮光性欠陥のように輝度レベルが暗くなる欠陥から、拡散により輝度レベルが明るくなる欠陥まで、明部X領域、暗部Y領域、中間領域の全領域において感度を保ったまま、マスク体4の効果による屈折異常をもつ欠陥にもコントラストが生じるため、前記欠陥をすべて検出することができる。 Thus, by reducing the difference between the bright part X and the dark part Y of the brightness, the bright part ranges from a defect whose brightness level becomes dark like a light-shielding defect such as dust or foreign matter to a defect whose brightness level becomes brighter due to diffusion. Since the contrast is also generated in the defect having the refractive error due to the effect of the
前記のように輝度波形を調整したのちに、被検査物3を所定の搬送をおこない被検査物3の先端から終端までの撮像をおこない、その画像を欠陥検出処理部10において欠陥検出処理を行う。図6は本実施形態の欠陥検出処理部10における欠陥検出処理のフローを示すチャートである。フローは画像データ取得、フィルタ処理、しきい値処理、欠陥データ処理、分類処理の順でおこなわれる。 After adjusting the luminance waveform as described above, the
フィルタ処理により暗部Yに対応する濃いグレーと明部Xに対応する薄いグレーの背景をキャンセルし、所定以上の異常な画像を検出するしきい値処理をすることで欠陥の検出をおこなう。また、一次元撮像装置1の焦点が被検査物3に合わされているため、欠陥の位置座標や寸法、面積などの特徴量が正確に取得できるため、欠陥データ処理、分類処理にて特徴量を処理することで、欠陥種の識別や分類をおこなうことが可能である。 The defect detection is performed by canceling a dark gray background corresponding to the dark portion Y and a light gray background corresponding to the bright portion X by the filter processing and performing threshold processing for detecting an abnormal image of a predetermined level or more. In addition, since the focus of the one-
図3に示すようにライン状光源2を被検査物3の上方に長手方向を軸に傾けて配置し、マスク体4を介して被検査物3に照射された光の反射光を一次元撮像装置1で撮像するように配置した反射光学系の構成例であり、主旨は実施例1と同じである。この場合、被検査物3が反射体であっても、表面(上面)に付着する遮光性または光拡散性の欠陥や、屈折性の欠陥を実施例1と同様に検出することができる。このように、透過体に限らず反射体にも利用することができる。 As shown in FIG. 3, the linear
前記2つの実施形態においてマスク体4は透明な樹脂製の板材を使用しているが、透明な素材であればガラスなどの他の素材であってもよい。 In the two embodiments, the
また、前記2つの実施形態のマスク体4の遮光部4aは被検査物3の搬送方向と平行に形成されているが、これに限定されるものではなく、被検査物3の搬送方向と所定の角度で交差するものや格子状のものであってもよい。つまり、マスク体4の長手方向に遮光部と透光部が交互に繰り返し形成されたものであればよい。 Further, although the
1・・・一次元撮像装置
2・・・ライン状光源
3・・・被検査物(透過性または鏡面の板状体)
4・・・マスク体
4a・・・遮光部
4b・・・透光部
10・・・欠陥検出処理部
11・・・制御部
A・・・被検査物3が搬送される方向
B・・・光軸方向
X・・・明部(薄いグレー)
Y・・・暗部(濃いグレー)DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
Y ... dark part (dark gray)
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
JP2016080662A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-16 | 株式会社豊田中央研究所 | Surface inspection device |
JP2020051959A (en) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | シチズンファインデバイス株式会社 | Surface inspection device, component manufacturing method, and program |
TWI796103B (en) * | 2021-02-10 | 2023-03-11 | 日商Towa股份有限公司 | Inspection device, resin molding device, cutting device, method of manufacturing resin molded product, and method of manufacturing cut product |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016080662A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-16 | 株式会社豊田中央研究所 | Surface inspection device |
JP2020051959A (en) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | シチズンファインデバイス株式会社 | Surface inspection device, component manufacturing method, and program |
JP7049970B2 (en) | 2018-09-28 | 2022-04-07 | シチズンファインデバイス株式会社 | Surface inspection equipment, parts manufacturing methods and programs |
TWI796103B (en) * | 2021-02-10 | 2023-03-11 | 日商Towa股份有限公司 | Inspection device, resin molding device, cutting device, method of manufacturing resin molded product, and method of manufacturing cut product |
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