JP2014165264A - Substrate manufacturing apparatus and maintenance method of substrate manufacturing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ノズルヘッドからインクの液滴を吐出して、基板にインクを付着させる基板製造装置、及びこの基板製造装置のメンテナンス方法に関する。 The present invention relates to a substrate manufacturing apparatus that ejects ink droplets from a nozzle head to attach ink to a substrate, and a maintenance method for the substrate manufacturing apparatus.
ソルダーレジストを液滴化して、プリント基板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。ソルダーレジストの液滴は、複数のノズル孔からプリント基板に向けて吐出される。プリント基板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる(特許文献1)。 Attention has been focused on a technique for forming a solder resist pattern by forming a solder resist into droplets, attaching the droplets only to a desired region of a printed circuit board, and curing the solder resist. Solder resist droplets are ejected from a plurality of nozzle holes toward the printed circuit board. By irradiating the droplets attached to the surface of the printed circuit board with ultraviolet rays, the droplets can be cured (Patent Document 1).
ソルダーレジスト等の液状材料によって、ノズル孔に詰まり等の不良が発生する場合がある。特許文献2に、ノズルヘッドの検査を行うことができる製膜装置が開示されている。この製膜装置においては、製膜すべき媒体を保持する媒体保持台と、検査用媒体を保持する検査台とが、1つのガイドに案内されて一方向に移動する。媒体保持台または検査台をガイドに沿って移動させながら、ノズルヘッドからインクの液滴を吐出させることにより、製膜すべき媒体または検査用媒体にインクを付着させることができる。
A liquid material such as a solder resist may cause defects such as clogging in the nozzle holes.
検査台に保持された検査用媒体に検査パターンが形成され、この検査パターンが撮像装置で撮像される。撮像結果から、ノズルヘッドの良不良を判定することができる。 An inspection pattern is formed on the inspection medium held on the inspection table, and this inspection pattern is imaged by the imaging device. The quality of the nozzle head can be determined from the imaging result.
保持台に保持された媒体に製膜を行っている期間に、検査台が保持台の移動の妨げにならない退避場所に退避させておかなければならい。このため、検査台及び保持台のストローク内に、検査台の退避場所を確保しなければならない。この退避場所を確保することにより、装置の専有面積が大きくなってしまう。 While the film is formed on the medium held on the holding table, the inspection table must be retreated to a retreat location that does not hinder the movement of the holding table. For this reason, it is necessary to secure a retreat place for the inspection table within the stroke of the inspection table and the holding table. By securing this evacuation place, the area occupied by the apparatus increases.
本発明の目的は、装置の専有面積を大きくすることなく、ノズルヘッドのメンテナンス機能を付与した基板製造装置を提供することである。本発明の他の目的は、この基板製造装置のメンテナンス方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a substrate manufacturing apparatus provided with a nozzle head maintenance function without increasing the area occupied by the apparatus. Another object of the present invention is to provide a maintenance method for the substrate manufacturing apparatus.
本発明の一観点によると、
基板を保持し、保持した基板を移動させるステージと、
メンテナンスシートを保持するシート保持装置と、
前記ステージに保持された基板に向けてインクの液滴を吐出するノズルヘッドと、
前記メンテナンスシート及び前記ノズルヘッドの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートが前記ノズルヘッドの下のメンテナンス位置に配置された状態と、前記メンテナンスシートが平面視において前記ノズルヘッドと重ならない退避位置に配置された状態とを実現する移動機構と
を有し、
前記ステージは、保持した基板を移動させて、前記退避位置に配置された前記メンテナンスシートの下方、及び前記ノズルヘッドの下方を通過させる基板製造装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
A stage for holding the substrate and moving the held substrate;
A sheet holding device for holding the maintenance sheet;
A nozzle head that ejects ink droplets toward the substrate held on the stage;
At least one of the maintenance sheet and the nozzle head is moved so that the maintenance sheet is disposed at a maintenance position below the nozzle head, and the maintenance sheet is at a retracted position so as not to overlap the nozzle head in plan view. And a moving mechanism that realizes the arranged state,
A substrate manufacturing apparatus is provided in which the stage moves the held substrate to pass under the maintenance sheet and the nozzle head, which are disposed at the retracted position.
本発明の他の観点によると、
平面視において、ノズルヘッドと重ならない退避位置に、メンテナンスシートを配置し、前記退避位置に配置された前記メンテナンスシートの下方、及び前記ノズルヘッドの下方を基板が通過する期間に、前記ノズルヘッドから前記基板に向けてインクの液滴を吐出することにより、前記基板に薄膜パターンを形成する工程と、
前記ノズルヘッド及び前記メンテナンスシートの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートを前記ノズルヘッドの下に配置する工程と、
前記ノズルヘッドから前記メンテナンスシートに向けてインクの液滴を吐出させることにより、前記メンテナンスシートに検査パターンを形成する工程と、
前記検査パターンを検査することにより、前記ノズルヘッドの良不良を判定する工程とを有する基板製造装置のメンテナンス方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
In a plan view, a maintenance sheet is disposed at a retracted position that does not overlap with the nozzle head, and from the nozzle head during a period when the substrate passes below the maintenance sheet disposed at the retracted position and below the nozzle head. Forming a thin film pattern on the substrate by ejecting ink droplets toward the substrate;
Moving at least one of the nozzle head and the maintenance sheet and disposing the maintenance sheet under the nozzle head;
Forming a test pattern on the maintenance sheet by discharging ink droplets from the nozzle head toward the maintenance sheet;
By inspecting the inspection pattern, there is provided a maintenance method for a substrate manufacturing apparatus including a step of determining whether the nozzle head is good or defective.
本発明のさらに他の観点によると、
平面視において、ノズルヘッドと重ならない退避位置にメンテナンスシートを配置し、前記退避位置に配置された前記メンテナンスシートの下方、及び前記ノズルヘッドの下方を基板が通過する期間に、前記ノズルヘッドから前記基板に向けてインクの液滴を吐出することにより、前記基板に薄膜パターンを形成する工程と、
前記ノズルヘッド及び前記メンテナンスシートの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートを前記ノズルヘッドの底面に接触させることにより、前記ノズルヘッドの底面に残留しているインクを取り除く工程と
を有する基板製造装置のメンテナンス方法が提供される。
According to yet another aspect of the invention,
In a plan view, a maintenance sheet is disposed at a retracted position that does not overlap with the nozzle head, and the nozzle head moves from the nozzle head during a period in which the substrate passes below the maintenance sheet disposed at the retracted position and below the nozzle head. Forming a thin film pattern on the substrate by discharging ink droplets toward the substrate;
And a step of removing ink remaining on the bottom surface of the nozzle head by moving at least one of the nozzle head and the maintenance sheet and bringing the maintenance sheet into contact with the bottom surface of the nozzle head. A maintenance method is provided.
退避位置に配置されたメンテナンスシートの下方を基板が通過するため、メンテナンスシートの退避位置確保による装置の大型化を抑制することができる。 Since the substrate passes under the maintenance sheet disposed at the retracted position, it is possible to suppress an increase in the size of the apparatus due to securing the retracted position of the maintenance sheet.
[実施例1]
図1に、実施例1による基板製造装置の斜視図を示す。定盤(図示せず)の上に、浮上ステージ20が支持されている。浮上ステージ20の水平な上面をxy面とし、鉛直上方をx軸の正方向とするxyz直交座標系を定義する。薄膜を形成すべき基板30が浮上ステージ20の上面に、浮上した状態で保持される。搬送ハンド21が、浮上ステージ20の上面に保持された基板30を把持し、浮上ステージ20の保持面上において、基板30の上面と平行なy方向に移動させる。
[Example 1]
FIG. 1 is a perspective view of a substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment. A
浮上ステージ20と搬送ハンド21とに代えて、ステージ、リニアガイド、及びアクチュエータを用いた移動機構を採用してもよい。この構成においては、基板がステージの上面に、真空チャック等によって保持される。アクチュエータを駆動することにより、ステージがリニアガイドに沿って移動する。
Instead of the
基板30が移動する経路の上方に、ノズルユニット40及びメンテナンスユニット50が、門型フレーム22により支持されている。門型フレーム22は定盤に固定されている。
The
ノズルユニット40の構成について説明する。複数のノズルヘッド41が支持プレート42に取り付けられている。図1では、8個のノズルヘッド41が支持プレート42に取り付けられた例を示している。ノズルヘッド41の各々は、x方向に配列した複数のノズル孔を有する。ノズル孔が形成された面が、下方を向いている。すなわち、ノズル孔が形成された面が、基板30の移動経路に対向している。複数のノズルヘッド41は、全体としてノズル孔がx方向に等間隔で配列するように、位置決めされている。
The configuration of the
ノズルヘッド41は、その下方を通過する基板30に向けて、インクの液滴を吐出する。基板30に着弾したインクを硬化させることにより、薄膜パターンを形成することができる。光硬化性インク(例えば、紫外線硬化性インク)を用いる場合には、基板30に着弾したインクに光(例えば、紫外線)を照射することにより、インクを硬化させることができる。インクを硬化させるための光源は、支持プレート42に取り付けられる。
The
昇降機構43が、ノズルヘッド41及び支持プレート42を、浮上ステージ20に対して昇降させる。
The
次に、メンテナンスユニット50の構成について説明する。メンテナンスシート58が、シート保持装置53によって、基板30の移動経路の上方に支持されている。シート保持装置53は、繰出装置51A、巻取装置51B、及び移動機構52を含む。繰出装置51Aは、メンテナンスシート58のロールを保持している。繰出装置51Aからメンテナンスシート58が繰り出される。繰出装置51Aから繰り出されたメンテナンスシート58は、基板30の移動経路の上方をx方向(基板30の移動方向と直交する方向)に送られた後、巻取装置51Bに巻き取られる。
Next, the configuration of the
移動機構52は、繰出装置51A及び巻取装置51Bをy方向に移動させる。繰出装置51A及び巻取装置51Bの移動によって、メンテナンスシート58は、平面視において、ノズルヘッド41と重なるメンテナンス位置と、ノズルヘッド41と重ならない退避位置との間で移動する。
The moving
メンテナンスユニット50は、さらに撮像装置54を含む。撮像装置54は、ノズルヘッド41が固定されている支持プレート42に取り付けられている。このため、撮像装置54はノズルヘッド41とともに昇降する。また、撮像装置54は、メンテナンスシート58の送り方向(x方向)に関して、ノズルヘッド41よりも下流側に配置されている。
The
制御装置25が、搬送ハンド21、ノズルヘッド41、昇降機構43、繰出装置51A、巻取装置51B、及び移動機構52を制御する。メンテナンスシート58が平面視においてメンテナンス位置に配置されているときは、メンテナンスシート58は、高さ方向に関してノズルヘッド41の下端(ノズル孔が形成されている面)よりも低い位置に配置される。メンテナンスシート58が平面視において退避位置に配置されているときは、メンテナンスシート58は、高さ方向に関してノズルヘッド41の下端よりも高い位置に配置される。このとき、例えば、高さ方向に関して、メンテナンスシート58は、ノズルヘッド41の下端と上端との間に配置される。
The
さらに、制御装置25は、メンテナンスシート58がメンテナンス位置に配置された状態で、ノズルヘッド41及びシート保持装置53を制御して、ノズルヘッド41からメンテナンスシート58にインクの液滴を吐出させる。これにより、メンテナンスシート58に検査パターンが形成される。
Further, the
検査パターンが形成されたメンテナンスシート58を巻取装置51Bに巻き取るとき、検査パターンが送り方向に移動する。メンテナンスシート58をx方向に送ることによって、撮像装置54は、メンテナンスシート58の送り方向に関して、複数の領域において検査パターンを撮像することができる。x方向に連続する複数の領域を撮像することにより、検査パターンの全域を撮像することができる。
When the
図2に、実施例1による基板製造装置の浮上ステージ20、ノズルユニット40、及びメンテナンスユニット50の正面図を示す。図2には、メンテナンスシート58が退避位置に配置されている状態を示す。定盤23の上に浮上ステージ20及び門型フレーム22が固定されている。浮上ステージ20の上に基板30が浮上した状態で保持される。
FIG. 2 shows a front view of the floating
支持プレート42に取り付けられた複数のノズルヘッド41が、基板30の上方に保持される。支持プレート42及びノズルヘッド41は、昇降機構43を介して門型フレーム22に取り付けられている。昇降機構43は、ノズルヘッド41及び支持プレート42を基板30に対して昇降させる。
A plurality of nozzle heads 41 attached to the
シート保持装置53が、基板30の移動経路の上方にメンテナンスシート58を保持している。メンテナンスシート58は、繰出装置51Aと巻取装置51Bとの間に、基板30の移動経路を横切るように架け渡されている。繰出装置51A及び巻取装置51Bは、移動機構52を介して門型フレーム22に取り付けられている。なお、ノズルヘッド41を支持する門型フレーム22とは異なる門型フレームにシート保持装置53を取り付けてもよい。撮像装置54が、支持プレート42に取り付けられている。メンテナンスシート58は、ノズルヘッド41の下端よりも高い位置に配置されている。
The
図3に、実施例1による基板製造装置の浮上ステージ20、ノズルユニット40、及びメンテナンスユニット50の側面図を示す。図3には、メンテナンスシート58が退避位
置に配置されている状態を示す。
FIG. 3 is a side view of the floating
メンテナンスシート58が、基板30の移動方向(y方向)に関して、ノズルヘッド41とは異なる位置(退避位置)に配置されている。このとき、メンテナンスシート58は、ノズルヘッド41の下端よりも高い位置に配置される。このため、基板30は、メンテナンスシート58によって妨げられることなく、メンテナンスシート58の下方を通過して、移動経路に沿って移動することができる。
The
次に、図4〜図7Dを参照して、実施例1による基板製造装置のメンテナンス方法について説明する。図4は、実施例1による基板製造装置のメンテナンス方法のフローチャートを示す。このメンテナンス方法は、制御装置25(図1)の制御の下で実行される。図5は、ノズルユニット40及びメンテナンスユニット50の正面図を示し、図6は、ノズルユニット40及びメンテナンスユニット50の側面図を示す。図7A〜図7Cは、ノズルヘッド41及びメンテナンスシート58の平面図を示し、図7Dは、ノズルヘッド41及びメンテナンスシート58の正面図を示す。
Next, with reference to FIGS. 4-7D, the maintenance method of the board | substrate manufacturing apparatus by Example 1 is demonstrated. FIG. 4 is a flowchart of the maintenance method for the substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment. This maintenance method is executed under the control of the control device 25 (FIG. 1). FIG. 5 shows a front view of the
ステップS1(図4)において、図5に示すように、ノズルヘッド41の下端がメンテナンスシート58よりも高くなるまでノズルヘッド41を上昇させる。ステップS2(図4)において、図6に示すように、メンテナンスシート58を、ノズルヘッド41の下方のメンテナンス位置まで移動させる。
In step S1 (FIG. 4), the
ステップS3(図4)において、図7Aに示すように、メンテナンスシート58をy方向に移動させながら、ノズルヘッド41からインクの液滴を吐出させて、メンテナンスシート58に検査パターンを形成する。図7Bに、検査パターン60が形成されたメンテナンスシート58の平面図を示す。一例として、検査パターン60は、y方向に平行な複数の短い線分で構成される。この線分は、ノズル孔ごとに形成され、ノズル孔と1対1に対応する。
In step S3 (FIG. 4), as shown in FIG. 7A, while the
ステップS4(図4)において、図7C及び図7Dに示すように、メンテナンスシート58を巻取装置51B(図1、図2)で巻き取りながら、撮像装置54で検査パターン60を撮像する。例えば、メンテナンスシート58の巻き取り、メンテナンスシート58の巻き取り停止、及び撮像を、この順番に繰り返すことにより、x方向に関して検査パターン60の全域を撮像することができる。
In step S4 (FIG. 4), as shown in FIGS. 7C and 7D, the
ステップS5(図4)において、検査パターン60の検査を行う。具体的には、撮像装置54で撮像された画像を解析する。解析結果に基づいて、不良ノズル孔の有無を判定する。ステップS6において、メンテナンスシート58をノズルヘッド41の下方から退避場所まで退避させる。その後、ステップS7において、図3に示すように、ノズルヘッド41を、メンテナンスシート58よりも低い位置まで下降させる。この状態で、基板30に対する薄膜パターンの形成が行われる。
In step S5 (FIG. 4), the
実施例1による基板製造装置では、図2、図3に示したように、メンテナンスシート58の退避場所が、基板30の移動経路の上方に確保されている。すなわち、メンテナンスシート58が退避位置に配置されているとき、平面視において、メンテナンスシート58が基板30の移動経路と重なる。基板30に薄膜パターンを形成するときには、基板30がメンテナンスシート58の下方を通過する。このため、メンテナンスシート58を退避させる場所を確保しても、基板製造装置の専有面積はほとんど増大しない。
In the substrate manufacturing apparatus according to the first embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the retreat location of the
メンテナンスシート58として、ロールシートが用いられているため、メンテナンスシート58の使用済の領域を巻き取ることによって、容易に未使用の領域を露出させること
ができる。このため、メンテナンスシート58の交換回数を少なくすることができる。さらに、図7C及び図7Dに示したように、メンテナンスシート58の巻き取り時に、撮像装置54によって検査パターン60を撮像することができる。
Since a roll sheet is used as the
複数のノズルヘッド41のノズル孔は、全体としてx方向に等ピッチで配列している。検査パターン60(図7B)は、ノズル孔の各々に対応して形成された短い線分で構成される。このため、x方向に長く、y方向に短い領域内に、複数の短い線分が分布することになる。検査パターン60をx方向に送りながら、撮像装置54で撮像するため、検査パターン60に比べて狭い撮像範囲を持つ撮像装置54でも、検査パターン60の全域を撮像することができる。また、撮像時に、シート保持装置53及び撮像装置54を移動させることなく、検査パターン60(図7C)を撮像することができる。
The nozzle holes of the plurality of nozzle heads 41 are arranged at an equal pitch in the x direction as a whole. The inspection pattern 60 (FIG. 7B) is composed of short line segments formed corresponding to the respective nozzle holes. For this reason, a plurality of short line segments are distributed in a region that is long in the x direction and short in the y direction. Since the
[実施例2]
図8を参照して、実施例2による基板製造装置について説明する。以下、実施例1との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。
[Example 2]
With reference to FIG. 8, the board | substrate manufacturing apparatus by Example 2 is demonstrated. Hereinafter, differences from the first embodiment will be described, and description of the same configuration will be omitted.
図8に、実施例2による基板製造装置のノズルユニット40及びメンテナンスユニット50の正面図を示す。実施例2においては、メンテナンスシート58の下に支持板55が配置されている。支持板55は、繰出装置51A及び巻取装置51Bに固定されており、メンテナンスシート58を支える平坦な上面を提供する。
FIG. 8 is a front view of the
実施例1では、メンテナンスシート58に加えられる張力により、メンテナンスシート58が平坦に維持されていた。繰出装置51Aから巻取装置51Bまでの距離が長くなると、メンテナンスシート58の中央部が垂れ下がるため、平坦性を維持することが困難になる。実施例2では、メンテナンスシート58が支持板55に支えられることにより、繰出装置51Aから巻取装置51Bまでの距離が長くなっても、メンテナンスシート58を平坦に保つことが可能になる。
In the first embodiment, the
[実施例3]
図9及び図10を参照して、実施例3による基板製造装置について説明する。以下、実施例1との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。
[Example 3]
With reference to FIGS. 9 and 10, a substrate manufacturing apparatus according to
図9に、実施例3による基板製造装置のノズルユニット40及びメンテナンスユニット50の正面図を示す。実施例1では、シート保持装置53の高さが固定されていた。実施例3では、シート保持装置53が、昇降機構56により、浮上ステージ20に対して昇降可能に支持されている。図9は、メンテナンスシート58が退避位置に配置されている状態を示している。このとき、メンテナンスシート58は、ノズルヘッド41の下端より高い位置に配置されている。
FIG. 9 shows a front view of the
メンテナンスを行うときには、昇降機構56を動作させることにより、メンテナンスシート58をノズルヘッド41の下端より低く、かつ浮上ステージ20の上面より高い位置まで下降させる。
When performing maintenance, the elevating
図10に、メンテナンスシート58が、ノズルヘッド41の下端より低く、かつ浮上ステージ20の上面より高い位置まで下降した状態を示す。この状態で、移動機構52を動作させることにより、メンテナンスシート58をノズルヘッド41の下方(メンテナンス位置)まで移動させる。メンテナンスシート58がメンテナンス位置に配置された状態で、メンテナンスシート58に検査パターンを形成することができる。
FIG. 10 shows a state where the
実施例1では、ノズルヘッド41を昇降させたが、実施例3のように、メンテナンスシ
ート58を昇降させる構成を採用してもよい。メンテナンスシート58をメンテナンス位置に配置したとき、メンテナンスシート58が浮上ステージ20によって浮上した状態にしてもよい。メンテナンスシート58を浮上ステージ20によって浮上した状態にする場合、浮上ステージ20が、実施例2の支持板55(図8)と同様に、メンテナンスシート58を平坦化させる役割を担う。浮上ステージ20に代えて真空チャックを用いたステージを採用する場合には、メンテナンスシート58をステージの上面に接触させてもよい。
In the first embodiment, the
[実施例4]
図11に、実施例4による基板製造装置のノズルユニット40及びメンテナンスユニット50の正面図を示す。以下、実施例1との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。
[Example 4]
FIG. 11 is a front view of the
実施例1では、撮像装置54(図2)がノズルユニット40に取り付けられていた。実施例4では、図11に示すように、撮像装置54が、巻取装置51Bに取り付けられている。このため、撮像装置54は、巻取装置51Bとともに移動する。メンテナンスシート58の巻き取りを行っていないとき、撮像装置54はメンテナンスシート58と共に移動する。
In the first embodiment, the imaging device 54 (FIG. 2) is attached to the
実施例4においては、図3に示したように、シート保持装置53を退避位置に退避させた状態で、検査パターンを撮像することができる。
In the fourth embodiment, as illustrated in FIG. 3, the inspection pattern can be imaged with the
[実施例5]
図12及び図13A〜図13Cを参照して、実施例5による基板製造装置のメンテナンス方法について説明する。以下、実施例1との相違点について説明し、同一の構成については説明を省略する。
[Example 5]
With reference to FIG.12 and FIG.13A-FIG.13C, the maintenance method of the board | substrate manufacturing apparatus by Example 5 is demonstrated. Hereinafter, differences from the first embodiment will be described, and description of the same configuration will be omitted.
実施例1では、図5に示したように、メンテナンスシート58とノズルヘッド41との間に間隙が設けられた状態で、検査パターン60(図7B)を形成した。実施例5においては、図12に示すように、メンテナンスシート58がノズルヘッド41の底面に接触する。メンテナンスシート58には吸水性のシートが用いられる。
In Example 1, as shown in FIG. 5, the inspection pattern 60 (FIG. 7B) was formed with a gap provided between the
図13Aに、メンテナンスシート58がノズルヘッド41の底面に接触する前のノズルヘッド41及びメンテナンスシート58の断面図を示す。ノズルヘッド41の底面に、複数のノズル孔44が設けられている。ノズル孔44からインクの液滴を吐出すると、一部のインクがノズルヘッド41の底面に付着した状態で、残留インク45が残る。
FIG. 13A shows a cross-sectional view of the
図13Bに示すように、メンテナンスシート58をノズルヘッド41の底面に接触させると、残留インク45(図13A)がメンテナンスシート58に吸い取られる。吸い取られたインク45aが、メンテナンスシート58内に含まれる。
As shown in FIG. 13B, when the
図13Cに示すように、メンテナンスシート58をノズルヘッド41の底面から引き離すと、残留インク45(図13A)が取り除かれる。
When the
メンテナンスシート58をノズルヘッド41の底面に接触させることにより、ノズルヘッド41の底面に残留するインクを吸い取り、除去することができる。メンテナンスシート58でインクを吸い取った後は、メンテナンスシート58を繰出装置51Aから繰り出すとともに、巻取装置51Bで巻き取る。これにより、メンテナンスシート58の新しい領域を露出させることができる。ロールタイプのメンテナンスシート58を用いることにより、メンテナンスシート58の交換頻度を少なくすることができる。
By bringing the
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
20 浮上ステージ
21 搬送ハンド
22 門型フレーム
23 定盤
25 制御装置
30 基板
40 ノズルユニット
41 ノズルヘッド
42 支持プレート
43 昇降機構
44 ノズル孔
45 残留インク
45a 吸い取られたインク
50 メンテナンスユニット
51A 繰出装置
51B 巻取装置
52 移動機構
53 シート保持装置
54 撮像装置
55 支持板
56 昇降機構
58 メンテナンスシート
60 検査パターン
20 Floating
Claims (10)
メンテナンスシートを保持するシート保持装置と、
前記ステージに保持された基板に向けてインクの液滴を吐出するノズルヘッドと、
前記メンテナンスシート及び前記ノズルヘッドの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートが前記ノズルヘッドの下のメンテナンス位置に配置された状態と、前記メンテナンスシートが平面視において前記ノズルヘッドと重ならない退避位置に配置された状態とを実現する移動機構と
を有し、
前記ステージは、保持した基板を移動させて、前記退避位置に配置された前記メンテナンスシートの下方、及び前記ノズルヘッドの下方を通過させる基板製造装置。 A stage for holding the substrate and moving the held substrate;
A sheet holding device for holding the maintenance sheet;
A nozzle head that ejects ink droplets toward the substrate held on the stage;
At least one of the maintenance sheet and the nozzle head is moved so that the maintenance sheet is disposed at a maintenance position below the nozzle head, and the maintenance sheet is at a retracted position so as not to overlap the nozzle head in plan view. And a moving mechanism that realizes the arranged state,
The stage is a substrate manufacturing apparatus that moves a held substrate to pass under the maintenance sheet disposed at the retracted position and below the nozzle head.
前記メンテナンスシートを、前記ステージに保持された基板の移動方向と平行な方向に移動させるとともに、前記ノズルヘッドを昇降させる請求項1に記載の基板製造装置。 The moving mechanism is
The substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the maintenance sheet is moved in a direction parallel to a moving direction of the substrate held on the stage and the nozzle head is moved up and down.
前記撮像装置は、前記メンテナンスシートの繰り出し巻き取りによる送り方向に関して、前記ノズルヘッドよりも下流側に配置されている請求項4に記載の基板製造装置。 Furthermore, it has an imaging device that images the inspection pattern formed on the maintenance sheet,
The substrate manufacturing apparatus according to claim 4, wherein the imaging device is disposed downstream of the nozzle head with respect to a feeding direction by feeding and winding the maintenance sheet.
前記ノズルヘッド及び前記メンテナンスシートの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートを前記ノズルヘッドの下に配置する工程と、
前記ノズルヘッドから前記メンテナンスシートに向けてインクの液滴を吐出させることにより、前記メンテナンスシートに検査パターンを形成する工程と、
前記検査パターンを検査することにより、前記ノズルヘッドの良不良を判定する工程とを有する基板製造装置のメンテナンス方法。 In a plan view, a maintenance sheet is disposed at a retracted position that does not overlap with the nozzle head, and from the nozzle head during a period when the substrate passes below the maintenance sheet disposed at the retracted position and below the nozzle head. Forming a thin film pattern on the substrate by ejecting ink droplets toward the substrate;
Moving at least one of the nozzle head and the maintenance sheet and disposing the maintenance sheet under the nozzle head;
Forming a test pattern on the maintenance sheet by discharging ink droplets from the nozzle head toward the maintenance sheet;
And a step of determining whether the nozzle head is good or bad by inspecting the inspection pattern.
撮像装置に対して、前記メンテナンスシートを、前記基板が移動する方向と直交する方向に送りながら、前記撮像装置で前記検査パターンを撮像する工程と、
前記撮像装置で撮像された画像を解析することにより、前記ノズルヘッドの良不良を判
定する工程と
を含む請求項7に記載の基板製造装置のメンテナンス方法。 Determining whether the nozzle head is good or bad;
Imaging the inspection pattern with the imaging device while sending the maintenance sheet to the imaging device in a direction perpendicular to the direction in which the substrate moves;
The maintenance method of the board | substrate manufacturing apparatus of Claim 7 including the process of determining the quality of the said nozzle head by analyzing the image imaged with the said imaging device.
前記ノズルヘッド及び前記メンテナンスシートの少なくとも一方を移動させて、前記メンテナンスシートを前記ノズルヘッドの底面に接触させることにより、前記ノズルヘッドの底面に残留しているインクを取り除く工程と
を有する基板製造装置のメンテナンス方法。 In a plan view, a maintenance sheet is disposed at a retracted position that does not overlap with the nozzle head, and the nozzle head moves from the nozzle head during a period in which the substrate passes below the maintenance sheet disposed at the retracted position and below the nozzle head. Forming a thin film pattern on the substrate by discharging ink droplets toward the substrate;
And a step of removing ink remaining on the bottom surface of the nozzle head by moving at least one of the nozzle head and the maintenance sheet and bringing the maintenance sheet into contact with the bottom surface of the nozzle head. Maintenance method.
前記メンテナンスシートの、前記繰り出しロールと前記巻き取りロールとの間の領域で、前記ノズルヘッドの底面に残留しているインクを取り除いた後、前記繰り出しロールから前記メンテナンスシートを、ある長さだけ繰り出すとともに、前記巻き取りロールで巻き取る工程を含む請求項9に記載の基板製造装置のメンテナンス方法。 The maintenance sheet has a roll structure wound around a take-up roll after being fed out from a feed roll,
After removing the ink remaining on the bottom surface of the nozzle head in a region of the maintenance sheet between the feeding roll and the take-up roll, the maintenance sheet is fed out from the feeding roll by a certain length. And the maintenance method of the board | substrate manufacturing apparatus of Claim 9 including the process wound up with the said winding-up roll.
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