JP2014164043A - パターン形成方法、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法 - Google Patents
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Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013033678A JP2014164043A (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | パターン形成方法、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法 |
KR1020140019765A KR20140105399A (ko) | 2013-02-22 | 2014-02-20 | 패턴 형성 방법, 및 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013033678A JP2014164043A (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | パターン形成方法、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014164043A true JP2014164043A (ja) | 2014-09-08 |
Family
ID=51614708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013033678A Pending JP2014164043A (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | パターン形成方法、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014164043A (ko) |
KR (1) | KR20140105399A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016060864A1 (en) * | 2014-10-14 | 2016-04-21 | Tokyo Electron Limited | Self-aligned patterning using directed self-assembly of block copolymers |
JP6458174B1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-01-23 | デクセリアルズ株式会社 | パターン形成方法及び偏光板の製造方法 |
JP2020527860A (ja) * | 2017-07-21 | 2020-09-10 | アルケマ フランス | ブロックコポリマーのナノドメインの配向を制御するための方法 |
-
2013
- 2013-02-22 JP JP2013033678A patent/JP2014164043A/ja active Pending
-
2014
- 2014-02-20 KR KR1020140019765A patent/KR20140105399A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9396958B2 (en) | 2014-10-14 | 2016-07-19 | Tokyo Electron Limited | Self-aligned patterning using directed self-assembly of block copolymers |
CN107112207A (zh) * | 2014-10-14 | 2017-08-29 | 东京毅力科创株式会社 | 使用嵌段共聚物的定向自组装的自对准图案化 |
JP2020527860A (ja) * | 2017-07-21 | 2020-09-10 | アルケマ フランス | ブロックコポリマーのナノドメインの配向を制御するための方法 |
JP6458174B1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-01-23 | デクセリアルズ株式会社 | パターン形成方法及び偏光板の製造方法 |
WO2019139116A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | デクセリアルズ株式会社 | パターン形成方法及び偏光板の製造方法 |
JP2019124738A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | デクセリアルズ株式会社 | パターン形成方法及び偏光板の製造方法 |
CN111512199A (zh) * | 2018-01-12 | 2020-08-07 | 迪睿合株式会社 | 图案形成方法和偏光板的制造方法 |
US11009789B2 (en) | 2018-01-12 | 2021-05-18 | Dexerials Corporation | Pattern formation method and method for manufacturing polarizing plate |
CN111512199B (zh) * | 2018-01-12 | 2021-08-06 | 迪睿合株式会社 | 图案形成方法和偏光板的制造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140105399A (ko) | 2014-09-01 |
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