JP2014157764A - Precision printing method and precision printed product - Google Patents

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正浩 横尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a uniform printing pattern having no cissing of a printed film and no nonuniformity due to deviation when forming a light emitting layer of an organic EL element on an inorganic film surface in a pixel as a precision printing pattern.SOLUTION: The precision printing method for forming a precision printing pattern on an inorganic film surface on a substrate includes: coating the inorganic film surface with a printing auxiliary organic layer 20; forming a precision organic light emitting layer 5 on the printing auxiliary organic layer by a flexographic printing method; and letting the ink film absorb the printing auxiliary organic layer.

Description

本発明は、フレキソ印刷法を用いた、微細なパターンを高精度に形成する製造方法に関し、液晶ディスプレイ(LCD)用カラーフィルターにおけるパターン、有機エレクトロルミネセンス(EL)素子の発光層や電荷輸送層、有機薄膜トランジスタ(TFT)基板における電極パターン、電磁波シールドにおけるシールドパターン等を高精細度に形成する精密印刷方法及び精密印刷製造物に関する。   The present invention relates to a manufacturing method for forming a fine pattern with high accuracy using a flexographic printing method, a pattern in a color filter for a liquid crystal display (LCD), a light emitting layer or a charge transport layer of an organic electroluminescence (EL) element. The present invention relates to a precision printing method and a precision printing product for forming an electrode pattern on an organic thin film transistor (TFT) substrate, a shield pattern on an electromagnetic wave shield, and the like with high definition.

従来、微細なパターンを被印刷体に面内均一かつ高位置精度で形成し、さらに連続的に安定して形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が主に使用されている。しかし、このフォトリソグラフィー法はプロセスが複雑で、パターン形成に必要な製造設備等が高価であるため、製造コストが高くなるという問題がある。   Conventionally, a photolithography method has been mainly used as a method for forming a fine pattern on a substrate to be printed with uniform in-plane and high positional accuracy, and continuously and stably. However, this photolithography method has a problem that the process is complicated and the manufacturing equipment necessary for pattern formation is expensive, resulting in an increase in manufacturing cost.

また、フォトリソグラフィー法に代わって、印刷用ブランケットとしてシリコーン系ゴムを用いたものを使用し、印刷用ブランケットから被印刷体として硝子等の基板へ印刷インキを転写させる凸版反転オフセット印刷法が知られている。しかし、この方式は、パターン形成されていない非画線部分のインキは刷版で除去され廃棄されてしまう欠点がある。   Also, instead of the photolithography method, there is known a letterpress reverse offset printing method in which a printing blanket using silicone rubber is used, and printing ink is transferred from a printing blanket to a substrate such as glass as a substrate to be printed. ing. However, this method has a drawback that the ink in the non-image area where the pattern is not formed is removed by the printing plate and discarded.

そこで、近年では、このような方法に代えて材料利用効率の高い凸版印刷方式が注目されつつある。なお、凸版印刷法とは、画線部が凸形状をしている版すなわち凸版を印刷版として用い、この凸部にインキを保持し、被印刷基板に転写するという印刷法である。   Therefore, in recent years, a relief printing method with high material utilization efficiency has been attracting attention in place of such a method. Note that the relief printing method is a printing method in which a plate having an image line portion having a convex shape, that is, a relief plate, is used as a printing plate, ink is held on the projection and transferred to a substrate to be printed.

高分子有機発光体を溶剤に溶解し分散させてインキ化し、公知の印刷方式にて発光層を形成する試みが提案されている。この印刷法は、量産性に優れ、製造コストを低く抑えることが可能であり、具体的な印刷方式としては、オフセット印刷やグラビア印刷等が挙げられている(特許文献1、2)。   There has been proposed an attempt to form a light emitting layer by a known printing method by dissolving a polymer organic light emitter in a solvent and dispersing it into an ink. This printing method is excellent in mass productivity and can reduce the manufacturing cost. Specific printing methods include offset printing and gravure printing (Patent Documents 1 and 2).

フレキソ印刷は、ゴム又は樹脂からなるフレキシブルな凸版と、アニロックスロールと呼ばれる表面に細かい凹部が彫刻されたインキ付けロールと、溶剤乾燥型のインキとを用いた印刷方式であり、従来から包装紙等の簡単な印刷物の印刷に広く使用されている。このフレキソ印刷は、特に膜厚が0.01〜0.2μm程度の薄くて安定した印刷層を形成するのに適している。   Flexographic printing is a printing method using a flexible relief printing plate made of rubber or resin, an inking roll called a anilox roll with engraved fine recesses on the surface, and solvent-drying ink. Widely used for printing simple prints. This flexographic printing is particularly suitable for forming a thin and stable printing layer having a film thickness of about 0.01 to 0.2 μm.

また、フレキソ印刷は印圧がかかる凸版部に柔軟性があり、さらに、キスタッチと呼ばれるごく低印圧での印刷であることから、ガラス基板や高圧をかけることによって特性が破壊される透明電極等が成膜された基板に対する印刷にも適している。このため、有機EL素子の発光層の形成に特に適した印刷方法である。しかしながら無機膜上に形成するフレキソ印刷法では、無機膜に対してインキの濡れ性が低いことが原因であった。   In addition, flexographic printing is flexible on the relief printing plate part, and it is printing at a very low printing pressure called kiss touch, so a glass substrate or a transparent electrode whose characteristics are destroyed by applying high pressure, etc. It is also suitable for printing on a substrate on which is formed. For this reason, it is a printing method especially suitable for formation of the light emitting layer of an organic EL element. However, the flexographic printing method formed on the inorganic film is caused by low ink wettability with respect to the inorganic film.

有機EL素子の発光層を印刷する印刷機のインキ供給装置では、インキ溶剤の揮発を抑えるためにインキの供給を密閉系で行い、かつアニロックスロール表面でのインキの乾燥を防ぐためにアニロックスロールの下部周面をインキ壷のインキ溜りに浸漬しつつ回転させ、常にアニロックスロール表面を濡らしておく必要がある。このために、クローズドチャンバーと呼ばれる密閉構造のインキ壷にインキを供給して、その中にアニロックスロールの下部周面を浸漬しつつ回転させ、かつクローズドチャンバーから露出したアニロックスロールの上部周面において、余分なインキをドクターにて掻き取ってフレキソ版上にインキを塗布する方式が用いられていた。しかしながら、フレキソ印刷によって無機膜上に形成されたインキ膜は、画素内で印刷膜はじきや偏りのある膜形状といった問題が生じていた。   In the ink supply device of a printing press that prints the light emitting layer of the organic EL element, the ink is supplied in a closed system to suppress volatilization of the ink solvent, and the lower part of the anilox roll is used to prevent the ink from drying on the anilox roll surface. It is necessary to always wet the anilox roll surface by rotating the peripheral surface while dipping it in the ink reservoir of the ink fountain. For this purpose, the ink is supplied to an ink fountain with a closed structure called a closed chamber, rotated while immersing the lower peripheral surface of the anilox roll therein, and on the upper peripheral surface of the anilox roll exposed from the closed chamber, A method of scraping excess ink with a doctor and applying the ink onto the flexographic plate has been used. However, the ink film formed on the inorganic film by flexographic printing has a problem that the printed film is repelled or uneven in the pixel shape.

特開2001‐185352号公報JP 2001-185352 A 特開2005‐59348号公報JP 2005-59348 A

上記のような問題を解決するためになされたもので、有機EL素子の発光層を、画素内の無機膜表面に、高精細な印刷インキパターンとして形成する際に、印刷膜のはじきや、偏りによるムラのない、均一な印刷パターンを形成することにある。   In order to solve the above problems, when forming a light-emitting layer of an organic EL element as a high-definition printing ink pattern on the surface of an inorganic film in a pixel, printing film repelling or biasing It is to form a uniform print pattern without unevenness.

上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、基板上の無機膜表面に、高精細な印刷インキパターンを形成するための精密印刷方法であって、
前記無機膜表面を印刷補助有機層にて被覆し、前記印刷補助有機層上に高精細なインキ膜パターンをフレキソ印刷法にて形成し、
印刷補助有機層を前記インキ膜に吸収させると共に、インキ膜のない部分の印刷補助有機層を除去することを特徴とする精密印刷方法である。
As means for solving the above problems, the invention according to claim 1 is a precision printing method for forming a high-definition printing ink pattern on the surface of an inorganic film on a substrate,
The inorganic film surface is coated with a printing auxiliary organic layer, and a high-definition ink film pattern is formed on the printing auxiliary organic layer by a flexographic printing method.
The printing auxiliary organic layer is absorbed by the ink film, and the printing auxiliary organic layer is removed from a portion without the ink film.

また、請求項2に記載の発明は、前記印刷補助有機層が、フッ素系あるいはシリコーン系界面活性剤であることを特徴とする請求項1に記載の精密印刷方法である。   The invention according to claim 2 is the precision printing method according to claim 1, wherein the printing auxiliary organic layer is a fluorine-based or silicone-based surfactant.

また、請求項3に記載の発明は、前記印刷補助有機層を除去する方法が、50℃から250℃の熱処理であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の精密印刷方法である。   According to a third aspect of the present invention, in the precision printing method according to the first or second aspect, the method for removing the printing auxiliary organic layer is a heat treatment at 50 ° C. to 250 ° C. is there.

また、請求項4に記載の発明は、印刷インキパターンが形成されていない印刷補助有機層を、溶媒を掛け流すことによって除去することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の精密印刷方法である。   The invention according to claim 4 is characterized in that the printing auxiliary organic layer in which the printing ink pattern is not formed is removed by pouring a solvent. This is a precision printing method.

また、請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれか一項に記載の精密印刷方法を用いて製造したことを特徴とする精密印刷製造物である。   The invention according to claim 5 is a precision printing product manufactured using the precision printing method according to any one of claims 1 to 4.

本発明の精密印刷方法により、無機膜に対してもインキの濡れ性の問題がなく、画素内における、印刷膜のはじきや、偏りのない精密印刷製造物を提供することができる。   According to the precision printing method of the present invention, there is no problem of ink wettability even with respect to an inorganic film, and a precision printing product free from repelling or biasing of the printed film within the pixel can be provided.

本発明の精密印刷法のフローを示した概念図である。It is the conceptual diagram which showed the flow of the precision printing method of this invention. 本発明にかかる有機EL素子構成を示した概略図である。It is the schematic which showed the organic EL element structure concerning this invention. 本発明にかかる有機EL用印刷機を有機EL表示素子の発光層印刷に好適なフレキソ印刷機に適用した場合のフレキソ印刷機の全体構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the whole structure of a flexographic printing machine at the time of applying the printing machine for organic EL concerning this invention to the flexographic printing machine suitable for the light emitting layer printing of an organic electroluminescent display element. 本実施の形態における印刷機のインキ転写時の動作を示す概略図である。It is the schematic which shows the operation | movement at the time of the ink transfer of the printing machine in this Embodiment.

以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。なお、本発明にか
かる有機EL用印刷機は、以下に説明する実施の形態に限定されるものではない。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The organic EL printer according to the present invention is not limited to the embodiments described below.

図1は、本発明の精密印刷法のフローを示しており、基板1上に、画素電極2がパターニングされ、絶縁層3により区画化された画素が設けられる。一般的には、画素上に正孔輸送層4、有機発光層5が積層されるが、本発明では、正孔輸送層4を設けた後に、印刷補助有機層20を積層し、さらには有機発光層5を積層する。   FIG. 1 shows the flow of the precision printing method of the present invention. A pixel electrode 2 is patterned on a substrate 1 and pixels partitioned by an insulating layer 3 are provided. In general, the hole transport layer 4 and the organic light emitting layer 5 are laminated on the pixel. However, in the present invention, after providing the hole transport layer 4, the printing auxiliary organic layer 20 is laminated, and further organic The light emitting layer 5 is laminated.

有機発光層5の設けられなかった印刷補助有機層20は、溶剤処理にて除去され、有機発光層5の設けられた部分の印刷補助有機層20は、加熱処理により、有機発光層5に溶解吸収される。   The printing auxiliary organic layer 20 where the organic light emitting layer 5 is not provided is removed by solvent treatment, and the printing auxiliary organic layer 20 where the organic light emitting layer 5 is provided is dissolved in the organic light emitting layer 5 by heat treatment. Absorbed.

図2は本発明の実施の形態による有機EL素子の構造を示す断面図である。図3は本発明にかかる有機EL用印刷機を有機EL素子の発光層印刷に好適なフレキソ印刷機に適用した場合のフレキソ印刷機の全体構成を示す概略図、図4は本実施の形態における印刷機のインキ転写時の動作を示す概略図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the organic EL element according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram showing an overall configuration of a flexographic printing machine when the organic EL printing machine according to the present invention is applied to a flexographic printing machine suitable for light emitting layer printing of an organic EL element, and FIG. It is the schematic which shows the operation | movement at the time of the ink transfer of a printing machine.

以下、本発明の実施の形態を、パッシブマトリックスタイプの有機EL素子に適用した例について説明する。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ(TFT)基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。   Hereinafter, an example in which the embodiment of the present invention is applied to a passive matrix type organic EL element will be described. The passive matrix method is a method in which stripe-shaped electrodes are opposed to each other so as to be orthogonal to each other, and light is emitted at the intersection, whereas the active matrix method uses a so-called thin film transistor (TFT) substrate in which a transistor is formed for each pixel. Thus, the light is emitted independently for each pixel.

基板1としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻取りにより高分子EL素子の製造が可能となり、安価にディスプレイパネルを提供できる。また、その場合のプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、これらのフィルムは水蒸気バリア性、酸素バリア性を示す酸化ケイ素といった金属酸化物、窒化ケイ素といった酸化窒化物やポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物からなるバリア層が必要に応じて設けられる。   As the substrate 1, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a plastic film is used, a polymer EL element can be produced by winding, and a display panel can be provided at a low cost. In addition, as the plastic in that case, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or the like can be used. Further, these films are barrier layers made of metal oxide such as silicon oxide showing water vapor barrier property and oxygen barrier property, oxynitride such as silicon nitride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer. Is provided as necessary.

また、基板1の上には陽極としてパターニングされた画素電極2が設けられる。画素電極2の材料としては、ITO(インジウム錫複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。   A pixel electrode 2 patterned as an anode is provided on the substrate 1. As the material of the pixel electrode 2, transparent electrode materials such as ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide composite oxide can be used.

なお、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性があることなどからITOが好ましい。ITOはスパッタ法により基板上に形成されフォトリソ法によりパターニングされライン状の画素電極2となる。   ITO is preferred because of its low resistance, solvent resistance, transparency, and the like. ITO is formed on the substrate by a sputtering method and patterned by a photolithography method to form a line-shaped pixel electrode 2.

そして、このライン状の画素電極2を形成後、隣接する画素電極の間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィー法により絶縁層3が形成される。   And after forming this line-shaped pixel electrode 2, the insulating layer 3 is formed by the photolithographic method using a photosensitive material between adjacent pixel electrodes.

絶縁層3は、厚みが0.5μmから5.0μmの範囲にあることが望ましい。また、絶縁層を隣接する画素電極間に設けることによって、各画素電極上に印刷されたインキの広がりを抑え、ディスプレイ化した際に隣接画素にインキが流れ込む混色を防ぐことができる。なお、絶縁層が低すぎるとインキの広がりを防止できずに隣接画素にインキが流れ込み、混色が発生することとなる。   The insulating layer 3 desirably has a thickness in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. In addition, by providing an insulating layer between adjacent pixel electrodes, it is possible to suppress the spread of ink printed on each pixel electrode, and to prevent color mixing in which ink flows into adjacent pixels when a display is formed. If the insulating layer is too low, ink spreading cannot be prevented and ink flows into adjacent pixels, resulting in color mixing.

また、例えばパッシブマトリックスタイプの有機EL素子において、画素電極の間に絶縁層を設けた場合、絶縁層を直行して陰極層を形成することになる。このように絶縁層をまたぐ形で陰極層を形成する場合、絶縁層が高すぎると陰極層の断線が起こってしまい表示不良となる。絶縁層の高さが5.0μmを超えると陰極の断線が起きやすくなってしまう。   For example, in an organic EL element of a passive matrix type, when an insulating layer is provided between pixel electrodes, the cathode layer is formed by directing the insulating layer. When the cathode layer is formed so as to straddle the insulating layer in this way, if the insulating layer is too high, the cathode layer is disconnected, resulting in a display defect. When the height of the insulating layer exceeds 5.0 μm, disconnection of the cathode tends to occur.

また、絶縁層3を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のものでかまわないが、絶縁性を有する必要がある。なお、隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極2に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるが、これに限定するものではない。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。   The photosensitive material for forming the insulating layer 3 may be either a positive type resist or a negative type resist, and may be a commercially available one, but it must have insulating properties. In addition, when the partition does not have sufficient insulation, a current flows to the adjacent pixel electrode 2 through the partition and a display defect occurs. Specific examples thereof include polyimide, acrylic resin, novolac resin, and fluorene, but are not limited thereto. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material may be included in the photosensitive material.

また、絶縁層3を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の塗布方法を用いて塗布され、フォトリソ法によりパターニングされる。また、感光性樹脂を用いずにグラビアオフセット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法等を用いて絶縁層を形成してもよい。   The photosensitive resin forming the insulating layer 3 is applied using a coating method such as a spin coater, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a gravure coater, and is patterned by a photolithography method. Alternatively, the insulating layer may be formed using a gravure offset printing method, a reverse printing method, a flexographic printing method, or the like without using a photosensitive resin.

正孔輸送層4は、画素電極2上に形成されており、正孔を輸送する層である。正孔輸送層4の材料としては、例えば、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4‐エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)等が挙げられる。   The hole transport layer 4 is formed on the pixel electrode 2 and is a layer that transports holes. Examples of the material for the hole transport layer 4 include polyaniline derivatives, polythiophene derivatives, polyvinylcarbazole (PVK) derivatives, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), and the like.

これらの材料は、溶媒に溶解または分散させ、スピンコーター等を用いた各種塗布方法や凸版印刷方法を用いることにより、正孔輸送層4を形成する。   These materials are dissolved or dispersed in a solvent, and the hole transport layer 4 is formed by using various coating methods using a spin coater or the like and a relief printing method.

また、正孔輸送層4の材料として無機材料を用いる場合、無機材料としては、例えば、CuO、Cr、Mn、FeO(x〜0.1)、NiO、CoO、Pr、AgO、MoO、Bi、ZnO、TiO、SnO、ThO、V、Nb、Ta、MoO、WO、MnO等の無機材料を用いる。 In the case of using an inorganic material as the material of the hole transport layer 4, as the inorganic material, e.g., Cu 2 O, Cr 2 O 3, Mn 2 O 3, FeO x (x~0.1), NiO, CoO , Pr 2 O 3 , Ag 2 O, MoO 2 , Bi 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ThO 2 , V 2 O 5 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , MoO 3 , WO 3 , An inorganic material such as MnO 2 is used.

なお、正孔輸送層4の材料は、上述した材料に限定するものではない。ここで、正孔輸送層4は、絶縁層3を形成した後に、真空中における抵抗加熱やエレクトロンビーム(EB)によって蒸着する方法、または、ArガスとOガスを用いた反応性スパッタによる方法や、CVD法等の方法にて形成する。 The material of the hole transport layer 4 is not limited to the above-described material. Here, after forming the insulating layer 3, the hole transport layer 4 is deposited by resistance heating or electron beam (EB) in vacuum, or by reactive sputtering using Ar gas and O 2 gas. Alternatively, it is formed by a method such as a CVD method.

次に、正孔輸送層4の材料として無機材料を用いる場合、本発明の形態における印刷補助有機層を成膜する。印刷補助有機層は、有機発光層5を印刷する際、印刷インキの濡れ広がりをサポートする層であり、前記印刷補助有機層を形成する材料としては、有機発光層5を印刷する際の印刷インキに溶解し、印刷インキの表面張力を低下させる界面活性剤であることが望ましい。例えば、フッ素系やシリコーン系の材料が挙げられる。   Next, when an inorganic material is used as the material of the hole transport layer 4, the printing auxiliary organic layer in the embodiment of the present invention is formed. The printing auxiliary organic layer is a layer that supports the wetting and spreading of the printing ink when printing the organic light emitting layer 5. The material for forming the printing auxiliary organic layer is a printing ink for printing the organic light emitting layer 5. It is desirable that the surfactant be dissolved in the ink and reduce the surface tension of the printing ink. For example, a fluorine-type or silicone-type material is mentioned.

次に、印刷補助有機層20材料は、界面活性剤が有効あり、イオン系、非イオン系、両性界面活性剤を使用でき、特にフッ素系界面活性剤が好適で、住友スリーエム社製ノベックHFE7300や、反応性シリコーン系表面調整剤で、水酸基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン溶液であるビックケミー・ジャパン社製BYK‐370を挙げることができる。   Next, as the printing auxiliary organic layer 20 material, a surfactant is effective, and ionic, nonionic, and amphoteric surfactants can be used. In particular, a fluorosurfactant is suitable, such as Novec HFE7300 manufactured by Sumitomo 3M Limited. BYK-370 manufactured by Big Chemie Japan Co., which is a polyester-modified polydimethylsiloxane solution having a hydroxyl group as a reactive silicone-based surface conditioner.

前記印刷補助有機層20を被覆する方法としては、スピンコーター、バーコーター、ロ
ールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の塗布方法を用いて全面に成膜しても、グラビアオフセット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法等を用いて画素領域のみに形成しても良い。
As the method for coating the printing auxiliary organic layer 20, a gravure offset printing method, a reversal printing method may be used, even if a film is formed on the entire surface using a coating method such as a spin coater, bar coater, roll coater, die coater, gravure coater, etc. Alternatively, it may be formed only in the pixel region using a flexographic printing method or the like.

有機発光層5を形成した後、前記印刷補助有機層20のみを除去する方法として、基板に50から250℃の熱をかける方法と基板に溶媒を掛け流す方法が挙げられる。掛け流す溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸メチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、乳酸エチル、エチレングリコールジエチルエーテル、1−プロパノール、メトキシプロパノール、エトキシプロパノール、水等の単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。   Examples of the method for removing only the printing auxiliary organic layer 20 after forming the organic light emitting layer 5 include a method of applying heat at 50 to 250 ° C. to the substrate and a method of applying a solvent to the substrate. Examples of the solvent to be poured include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, and methyl acetate. Examples thereof include cellosolve, ethyl acetate cellosolve, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl lactate, ethylene glycol diethyl ether, 1-propanol, methoxypropanol, ethoxypropanol, and water alone or a mixed solvent thereof.

有機発光層5は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層5を形成する有機発光材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系の高分子材料が挙げられる。   The organic light emitting layer 5 is a layer that emits light by passing an electric current, and the organic light emitting material forming the organic light emitting layer 5 is, for example, a coumarin type, a perylene type, a pyran type, an anthrone type, a porphyrene type, a quinacridone type, N, N'-dialkyl-substituted quinacridone-based, naphthalimide-based, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based, iridium complex-based luminescent dyes dispersed in polymers such as polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, etc. And polyarylene-based, polyarylene vinylene-based, and polyfluorene-based polymer materials.

これらの有機発光材料は溶媒に溶解又は安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解又は分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。また、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。   These organic light emitting materials are dissolved or stably dispersed in a solvent to form an organic light emitting ink. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the organic light-emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among these, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of solubility of the organic light emitting material. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added to organic luminescent ink as needed.

有機発光層5の形成方法としては、凸版印刷法を用いる場合は、有機発光インキに適した樹脂凸版を使用することができ、中でも水現像タイプの感光性樹脂凸版が好適である。   As a method for forming the organic light emitting layer 5, when using a letterpress printing method, a resin letterpress suitable for an organic light emitting ink can be used, and a water developing type photosensitive resin letterpress is particularly preferable.

また、有機発光インキの粘度としては10〜200mPa/sであることが好ましい。これは、本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスロール151から凸版上へのインキの転写が最初に行われるが、200mPa/s以上の粘度ではアニロックスロール151から凸版上へインキが転写した後、凸版上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、10mPa/s以下では、画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。   The viscosity of the organic light emitting ink is preferably 10 to 200 mPa / s. In the relief printing method used in this embodiment, the ink is first transferred from the anilox roll 151 onto the relief plate, but after the ink is transferred from the anilox roll 151 onto the relief plate at a viscosity of 200 mPa / s or more. Insufficient ink leveling on the letterpress will cause unevenness. Further, if it is 10 mPa / s or less, the non-uniformity is likely to occur in the pixel, resulting in nonuniformity.

次に、以上のような有機発光層5の形成後、陰極層6を画素電極2のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。この陰極層6の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層6の形成方法としてはマスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。   Next, after forming the organic light emitting layer 5 as described above, the cathode layer 6 is formed in a line pattern orthogonal to the line pattern of the pixel electrode 2. As the material of the cathode layer 6, materials according to the light emission characteristics of the organic light emitting layer can be used. For example, simple metals such as lithium, magnesium, calcium, ytterbium and aluminum, and stable metals such as gold and silver can be used. And alloys thereof. Alternatively, a conductive oxide such as indium, zinc, or tin can be used. Examples of the method for forming the cathode layer 6 include a formation method by a vacuum vapor deposition method using a mask.

なお、本実施の形態の有機EL素子は、陽極である画素電極2と陰極層6の間に陽極層側から正孔輸送層4と有機発光層5を積層した構成であるが、陽極層と陰極層6の間において正孔輸送層4、有機発光層5以外に正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層といった層を必要に応じ選択した積層構造をとることができる。また、これらの層を形成する際
にも本発明の形成方法を使用できる。
The organic EL element of the present embodiment has a configuration in which the hole transport layer 4 and the organic light emitting layer 5 are laminated from the anode layer side between the pixel electrode 2 that is an anode and the cathode layer 6. In addition to the hole transport layer 4 and the organic light emitting layer 5, a layered structure in which a layer such as a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer is selected as necessary can be adopted between the cathode layers 6. The formation method of the present invention can also be used when forming these layers.

最後に、これらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ7と接着剤8を用いて密閉封止し、有機EL素子を得ることができる。また、基板1が可撓性を有する場合には、封止剤と可撓性フィルムを用いて封止を行っても良い。   Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, the organic EL element can be obtained by hermetically sealing with a glass cap 7 and an adhesive 8. Moreover, when the board | substrate 1 has flexibility, you may seal using a sealing agent and a flexible film.

以下、本発明の実施の形態におけるフレキソ印刷機の全体構成について説明する。この実施の形態に示すフレキソ印刷機は、図3及び図4に示すように、定位置に回転可能に支持された回転式の版胴10及びこの版胴10の周面に装着された発光パターン形成用の凸版(フレキソ版)11と、版胴10の下方に位置して水平に設置された支持基台12と、この支持基台12上に案内を介して版胴10の回転軸線と直角な水平方向に移動可能に設置された定盤13と、この定盤13上に載置された被印刷基板14と、凸版11の表面に発光層用のインキを供給するインキ供給手段15と、このインキ供給手段15にインキを定期的に供給するインキ補充手段16とを備える。   The overall configuration of the flexographic printing machine in the embodiment of the present invention will be described below. As shown in FIGS. 3 and 4, the flexographic printing machine shown in this embodiment includes a rotary plate cylinder 10 that is rotatably supported at a fixed position, and a light emission pattern that is mounted on the peripheral surface of the plate cylinder 10. A forming relief plate (flexo printing plate) 11, a support base 12 positioned horizontally below the plate cylinder 10, and a rotation axis of the plate cylinder 10 perpendicular to the support base 12 via a guide. A surface plate 13 movably installed in the horizontal direction, a printing substrate 14 placed on the surface plate 13, an ink supply means 15 for supplying ink for the light emitting layer to the surface of the relief plate 11, An ink replenishing unit 16 that periodically supplies ink to the ink supplying unit 15 is provided.

また、前記インキ供給手段15は、凸版11と被印刷基板14との接触点(版胴10の直下)から版胴10の回転方向(矢印Fの方向)と反対の方向へ90°の角度範囲内に位置して版胴10の周面と対向するように配設されている。   The ink supply means 15 has an angle range of 90 ° from the contact point between the relief plate 11 and the printing substrate 14 (directly below the plate cylinder 10) to the direction opposite to the rotation direction of the plate cylinder 10 (direction of arrow F). The plate cylinder 10 is disposed so as to face the peripheral surface of the plate cylinder 10.

インキ供給手段15は、凸版11の印刷開始端から版胴10の回転方向と反対の方向に90°の角度範囲内に位置して版胴10の回転軸線と平行にかつ凸版11の版面と接触するように配置され発光層用のインキ9を凸版11の版面に供給するアニロックスロール151と、このアニロックスロール151の全周面のうちの下方に位置する周面部分を浸漬状態に維持するインキ溜りを有するとともに、アニロックスロール151の表面に付着した余分なインキを掻き落とすドクター153とを備える構成になっている。   The ink supply means 15 is located within an angle range of 90 ° from the printing start end of the relief plate 11 in the direction opposite to the rotation direction of the plate cylinder 10 and is in contact with the plate surface of the relief plate 11 in parallel with the rotation axis of the plate cylinder 10. An anilox roll 151 that is arranged so as to supply ink 9 for the light-emitting layer to the plate surface of the relief plate 11 and an ink reservoir that maintains the peripheral portion located below of the entire peripheral surface of the anilox roll 151 in a dipped state And a doctor 153 that scrapes off excess ink adhering to the surface of the anilox roll 151.

前記アニロックスロール151と凸版11とが当接する位置は、インキ供給手段15が定盤13及び基板14と干渉しない限り、できるだけ版胴10の直下、すなわち版胴10の回転に伴い凸版11と被印刷基板14との接触点に近い方が、凸版14へのインキ供給位置から接触点までの間の距離を短くできると同時に凸版12の版面にインキが塗布されている時間が短くなるため有利である。   As long as the ink supply means 15 does not interfere with the surface plate 13 and the substrate 14, the position where the anilox roll 151 and the relief plate 11 abut is directly below the plate cylinder 10, that is, with the rotation of the plate cylinder 10, the relief plate 11 and the printing target. The one closer to the contact point with the substrate 14 is advantageous because the distance from the ink supply position to the relief plate 14 to the contact point can be shortened and at the same time the time during which the ink is applied to the plate surface of the relief plate 12 is shortened. .

前記アニロックスロール151は版胴10の周速と同一の周速で回転されるものであり、このアニロックスロール151の外周面には、図4に示すように、インキを保持するための細かいレリーフ(凹部)が彫刻されている。   The anilox roll 151 is rotated at the same peripheral speed as that of the plate cylinder 10, and a fine relief (for holding ink) is provided on the outer peripheral surface of the anilox roll 151 as shown in FIG. The recesses are engraved.

アニロックスロール151と版胴10との周速を同一にする理由は、アニロックスロール151の外周面にレリーフが彫刻されているため、版胴11との周速が異なると凸版11の版面にダメージを与えるのを防止するためである。   The reason why the peripheral speeds of the anilox roll 151 and the plate cylinder 10 are the same is that the relief is engraved on the outer peripheral surface of the anilox roll 151, so if the peripheral speed with the plate cylinder 11 is different, the plate surface of the relief plate 11 is damaged. This is to prevent giving.

前記ドクター153は、回転によりインキ溜りから出てきたアニロックスロール151の表面に余分に付着したインキ9を掻き落とし、アニロックスロール151のレリーフ151a内にのみインキを残すためのものである。このドクター153の形状は刃状のものやロール状のものなどがあり、そのいずれでもかまわない。また、ドクター153は、アニロックスロール151の回転方向で、インキ溜りから凸版12との当接点までの間に位置し、特にアニロックスロール151の上方頂部よりもインキ溜り寄りに配置し、掻き取ったインキがインキ溜りに落ちるようにする方式が、最も好ましい。   The doctor 153 scrapes off the ink 9 excessively attached to the surface of the anilox roll 151 that has come out of the ink reservoir due to rotation, and leaves the ink only in the relief 151 a of the anilox roll 151. The doctor 153 has a blade-like shape or a roll-like shape, and any of them may be used. The doctor 153 is positioned between the ink reservoir and the point of contact with the relief plate 12 in the rotational direction of the anilox roll 151, and is disposed closer to the ink reservoir than the top of the anilox roll 151, and scraped ink. A method in which the ink drops into the ink reservoir is most preferable.

前記インキ補充手段16は、インキタンク161及びインキ補充ポンプ162を備え、このインキタンク161とインキ壷152との間はインキ補充ポンプ162を介してイン
キ補充用チューブ163により接続されている。そして、インキ補充ポンプ162を印刷回数に応じて定期的に駆動することによりインキ壷152にインキタンク163からインキを供給し、インキ溜りのインキ量や粘度を一定に維持できるようになっている。また、逆にインキ溜りのインキをインキ壷から吸い出す機構も設けて、インキ溜りのインキを交換できる方式にしてもよい。
The ink replenishing means 16 includes an ink tank 161 and an ink replenishing pump 162, and the ink tank 161 and the ink fountain 152 are connected by an ink replenishing tube 163 via the ink replenishing pump 162. The ink replenishment pump 162 is driven periodically according to the number of printings, whereby ink is supplied from the ink tank 163 to the ink fountain 152, so that the ink amount and viscosity of the ink reservoir can be maintained constant. Conversely, a mechanism for sucking out the ink in the ink reservoir from the ink fountain may be provided so that the ink in the ink reservoir can be replaced.

次に、本実施の形態による有機EL用フレキソ印刷機のインキ転写の動作について図3及び図4を用いて説明する。   Next, the ink transfer operation of the organic EL flexo printing machine according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

被印刷基板14へのインキ転写に際しては、図3に示すように、インキを転写される被印刷基板14は定盤13上に固定され、この定盤13を版胴10の直下に移動する。これと同時に版胴10を定盤13の移動速度と同じ周速で回転する。この時、版胴10に設置された凸版11は、版胴10の回転に伴ってアニロックスロール151と当接し、アニロックスロール151表面のレリーフ内のインキが凸版12の版面に塗布される。その後、凸版12の版面に塗布されたインキは、版胴10の直下まで回転した時点で被印刷基板14上に転写される。これにより、インキ供給手段15から凸版11へのインキ9の転移と凸版11から被印刷基板14へのインキ9の転写を同時に行うことができる。   When the ink is transferred to the printing substrate 14, as shown in FIG. 3, the printing substrate 14 to which the ink is transferred is fixed on the surface plate 13, and the surface plate 13 is moved directly below the plate cylinder 10. At the same time, the plate cylinder 10 is rotated at the same peripheral speed as the moving speed of the surface plate 13. At this time, the relief plate 11 installed on the plate cylinder 10 comes into contact with the anilox roll 151 as the plate cylinder 10 rotates, and the ink in the relief on the surface of the anilox roll 151 is applied to the plate surface of the relief plate 12. Thereafter, the ink applied to the plate surface of the relief plate 12 is transferred onto the substrate 14 to be printed when it is rotated to just below the plate cylinder 10. Thereby, the transfer of the ink 9 from the ink supply means 15 to the relief plate 11 and the transfer of the ink 9 from the relief plate 11 to the printing substrate 14 can be performed simultaneously.

上記フレキソ印刷機の印刷において、インキ溜りから露出したアニロックスロール151の表面は乾燥し易く、レリーフ内のインキが固まると、インキ供給量にムラが生じる。このため、アニロックスロール151の表面を周期的にインキ溜りに浸漬して濡らしておくように、インキ転写時以外の待機時間もアニロックスロール151の回転を続けるのが望ましい。   In the printing by the flexographic printing machine, the surface of the anilox roll 151 exposed from the ink reservoir is easy to dry, and when the ink in the relief is hardened, the ink supply amount becomes uneven. For this reason, it is desirable to continue the rotation of the anilox roll 151 during the standby time other than the time of ink transfer so that the surface of the anilox roll 151 is periodically immersed in the ink reservoir and wetted.

そこで、インキ転写時以外で凸版11の版面にインキを塗布しないように、アニロックスロール151もしくはインキ供給手段15全体が、版胴10から退避する機構を設けると良い。又は、凸版11が設置されていない版胴10の面をアニロックスロール151に当接されない形状に構成し、待機時間中は、この当接されない形状部分をアニロックスロール151に対面させる方式にするか、あるいは版胴10を昇降できる構成にし、インキ転写時以外の待機時間中は版胴10を上昇させて凸版11をアニロックスロール151から離間し、インキ転写時は版胴10を下降して凸版11をアニロックスロール151と当接する方式などであってもよい。   Therefore, it is preferable to provide a mechanism in which the anilox roll 151 or the entire ink supply means 15 is retracted from the plate cylinder 10 so that ink is not applied to the plate surface of the relief plate 11 except during ink transfer. Alternatively, the surface of the plate cylinder 10 on which the relief plate 11 is not installed is configured in a shape that does not come into contact with the anilox roll 151, and during the waiting time, the shape portion that does not come into contact with the anilox roll 151 is used. Alternatively, the plate cylinder 10 can be moved up and down, and during the standby time other than the time of ink transfer, the plate cylinder 10 is raised to separate the relief plate 11 from the anilox roll 151, and at the time of ink transfer, the plate cylinder 10 is lowered to remove the relief plate 11. A method of contacting the anilox roll 151 may be used.

また、本実施の形態では、定盤13が版胴10の下を水平方向に移動する方式について説明したが、本発明はこれに限らず、定盤13が固定され、版胴10とインキ供給手段16が水平方向に移動する方式でも同様にインキの転写ができる。   In the present embodiment, the method in which the surface plate 13 moves in the horizontal direction under the plate cylinder 10 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the surface plate 13 is fixed and the plate cylinder 10 and the ink supply are supplied. Ink transfer can be performed in the same manner even when the means 16 moves in the horizontal direction.

次に、本発明の実施例について説明する。ここでは、以下のような実施例1と比較例1について試作と測定を行った。まず、300mm角のガラス基板1の上に、スパッタ法を用いてITO(インジウム‐錫酸化物)薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をパターニングして、対角5インチサイズのディスプレイが2面取れるように画素電極2を形成した。ディスプレイ1面当たりの画素電極2のラインパターンは、線幅40μm、スペース20μmでラインが1950ライン形成されるパターンとした。   Next, examples of the present invention will be described. Here, trial manufacture and measurement were performed for the following Example 1 and Comparative Example 1. First, an ITO (indium-tin oxide) thin film is formed on a 300 mm square glass substrate 1 by sputtering, and the ITO film is patterned by photolithography and etching with an acid solution to obtain a 5 inch diagonal size. The pixel electrode 2 was formed so that two displays could be taken. The line pattern of the pixel electrode 2 per surface of the display was a pattern in which 1950 lines were formed with a line width of 40 μm and a space of 20 μm.

次に絶縁層3を以下のように形成した。まず、画素電極2を形成したガラス基板1上にポリイミド系のレジスト材料を全面スピンコートした。スピンコートの条件を150rpmで5秒間回転させた後、500rpmで20秒間回転させ1回コーティングとし、絶縁層3の高さを1.5μmとした。全面に塗布したフォトレジスト材料に対し、フォトリソ
法により画素電極2の間にラインパターンを有する絶縁層3を形成した。
Next, the insulating layer 3 was formed as follows. First, a polyimide resist material was spin coated on the entire surface of the glass substrate 1 on which the pixel electrode 2 was formed. The spin coating condition was rotated at 150 rpm for 5 seconds, and then rotated at 500 rpm for 20 seconds to form a single coating, and the height of the insulating layer 3 was 1.5 μm. An insulating layer 3 having a line pattern was formed between the pixel electrodes 2 by photolithography using a photoresist material applied to the entire surface.

次に、正孔輸送層4として無機材料MoOのスパッタ成膜を行い正孔輸送層4を形成した。この結果、膜厚は50nmとなった。 Next, the hole transport layer 4 was formed by sputtering the inorganic material MoO 2 as the hole transport layer 4. As a result, the film thickness was 50 nm.

次に印刷補助有機層20を以下のように形成した。まず、基板上にフッ素系界面活性剤であるスリーエム社製HFE7300を全面スピンコートした。スピンコートの条件を150rpmで5秒間回転させた後、500rpmで20秒間回転させ1回コーティングとした。   Next, the printing auxiliary organic layer 20 was formed as follows. First, HFE7300 manufactured by 3M, which is a fluorosurfactant, was spin coated on the entire surface of the substrate. The spin coating conditions were rotated at 150 rpm for 5 seconds, and then rotated at 500 rpm for 20 seconds to form a single coating.

次に、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体をトルエンに溶解させて、濃度2%粘度50mPa/sの有機発光インキを、絶縁層3に挟まれた画素電極2の真上にそのラインパターンにあわせて有機発光層5を凸版印刷法で印刷を行った。この時750線/インチのアニロックスロール及び水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。印刷後、200℃のオーブンで30分ベークし、印刷補助有機層20のフッ素系界面活性剤を有機発光層5に一部は吸収、一部気化し、ベーキング後の有機発光層5の膜厚は80nmであった。   Next, a polyphenylene vinylene derivative which is an organic light emitting material is dissolved in toluene, and an organic light emitting ink having a concentration of 2% and a viscosity of 50 mPa / s is aligned with the line pattern directly above the pixel electrode 2 sandwiched between the insulating layers 3. The organic light emitting layer 5 was printed by a relief printing method. At this time, an anilox roll of 750 lines / inch and a photosensitive resin plate of water development type were used. After printing, it is baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes, and the fluorosurfactant of the printing auxiliary organic layer 20 is partially absorbed and partially vaporized in the organic light emitting layer 5, and the film thickness of the organic light emitting layer 5 after baking. Was 80 nm.

一方、有機発光層5を設けていない部分のフッ素系界面活性剤は、200℃のオーブンでのベークで気化し除去される。   On the other hand, the portion of the fluorosurfactant where the organic light emitting layer 5 is not provided is vaporized and removed by baking in an oven at 200 ° C.

その上にCa、Alからなる陰極層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ELディスプレイパネルを作製した。これにより得られた有機ELディスプレイパネルの表示部の周辺部には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ELディスプレイパネルの点灯表示確認を行った。   A cathode layer made of Ca and Al was formed thereon by mask vapor deposition using a resistance heating vapor deposition method in a line pattern orthogonal to the pixel electrode line pattern. Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, they were hermetically sealed using a glass cap and an adhesive to produce an organic EL display panel. In the periphery of the display portion of the organic EL display panel obtained in this way, there are an extraction electrode on the anode side connected to each pixel electrode and an extraction electrode on the cathode side, which are obtained by connecting them to a power source. The lighting display of the obtained organic EL display panel was confirmed.

<比較例1>
印刷補助有機層を成膜しない以外は実施例1と同様とした。
<Comparative Example 1>
The procedure was the same as in Example 1 except that no printing auxiliary organic layer was formed.

以上のような実施例1及び比較例1でのパネル発光状態を比較した評価結果を表1に示している。   Table 1 shows the evaluation results comparing the panel emission states in Example 1 and Comparative Example 1 as described above.

比較例に比べて本発明の実施例で良好な結果が得られることが分かる。 It can be seen that better results are obtained with the examples of the present invention than with the comparative examples.

1・・・基板
2・・・画素電極
3・・・絶縁層
4・・・正孔輸送層
5・・・有機発光層
6・・・陰極層
7・・・ガラスキャップ
8・・・接着剤
9・・・インキ
10・・・版胴
11・・・凸版
12・・・支持基台
13・・・定盤
14・・・被印刷基板
15・・・インキ供給手段
151・・・アニロックスロール
152・・・レリーフ(凹部)
153・・・クローズドチャンバー
16・・・インキ補充手段
161・・・インキタンク
162・・・インキ補充ポンプ
163・・・インキ供給用チューブ
20・・・印刷補助有機層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Pixel electrode 3 ... Insulating layer 4 ... Hole transport layer 5 ... Organic light emitting layer 6 ... Cathode layer 7 ... Glass cap 8 ... Adhesive DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Ink 10 ... Plate cylinder 11 ... Letterpress plate 12 ... Support base 13 ... Surface plate 14 ... Substrate 15 ... Ink supply means 151 ... Anilox roll 152 ... Reliefs (recesses)
153: closed chamber 16: ink replenishing means 161 ... ink tank 162 ... ink replenishing pump 163 ... ink supply tube 20 ... printing auxiliary organic layer

Claims (5)

基板上の無機膜表面に、高精細な印刷インキパターンを形成するための精密印刷方法であって、
前記無機膜表面を印刷補助有機層にて被覆し、前記印刷補助有機層上に高精細なインキ膜パターンをフレキソ印刷法にて形成し、
印刷補助有機層を前記インキ膜に吸収させると共に、インキ膜のない部分の印刷補助有機層を除去することを特徴とする精密印刷方法。
A precision printing method for forming a high-definition printing ink pattern on the surface of an inorganic film on a substrate,
The inorganic film surface is coated with a printing auxiliary organic layer, and a high-definition ink film pattern is formed on the printing auxiliary organic layer by a flexographic printing method.
A precision printing method characterized in that the printing auxiliary organic layer is absorbed by the ink film, and the printing auxiliary organic layer is removed from a portion without the ink film.
前記印刷補助有機層が、フッ素系あるいはシリコーン系界面活性剤であることを特徴とする請求項1に記載の精密印刷方法。   The precision printing method according to claim 1, wherein the printing auxiliary organic layer is a fluorine-based or silicone-based surfactant. 前記印刷補助有機層を除去する方法が、50℃から250℃の熱処理であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の精密印刷方法。   3. The precision printing method according to claim 1, wherein the method for removing the printing auxiliary organic layer is a heat treatment at 50 ° C. to 250 ° C. 4. 印刷インキパターンが形成されていない印刷補助有機層を、溶媒を掛け流すことによって除去することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の精密印刷方法。   The precision printing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the printing auxiliary organic layer on which the printing ink pattern is not formed is removed by pouring a solvent. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の精密印刷方法を用いて製造したことを特徴とする精密印刷製造物。   A precision printing product manufactured using the precision printing method according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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