JP2014118463A - Polyimide resin molded body and film - Google Patents

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Jiro Sugiyama
二郎 杉山
Tomoko Koga
智子 古賀
Goji Kato
剛司 加藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide resin useful in applications such as a flexible device.SOLUTION: The problem is resolved by providing a polyimide resin molded body obtained by molding a polyimide resin, being colorless and transparent, and having the generation amount of volatile gas having the boiling point of 150°C or more generated when heated from 30°C to 340°C under nitrogen atmosphere of 0.5% or less based on the polyimide resin mass.

Description

本発明は、フレキシブルデバイスなどに使用されるポリイミド樹脂成型体であって、無色透明であり、且つ揮発ガスの少ない成型体に関する。   The present invention relates to a polyimide resin molded body used for a flexible device and the like, which is colorless and transparent and relates to a molded body with less volatile gas.

現在、フラットパネルディスプレイ、電子ペーパーなどの電子デバイスの分野では、主としてガラス基板が用いられているが、ガラス基板には重く壊れやすいという問題があるため、必ずしも理想的な基板と言えない。そこで、基板をガラスからポリマー材料へと置き換えたフレキシブルデバイスを実現しようとする検討が盛んに行われてきた。しかしながら、これらの技術の多くは新しい生産技術や装置を必要とするため、大量生産されるには至っていない。   At present, glass substrates are mainly used in the field of electronic devices such as flat panel displays and electronic paper. However, glass substrates are heavy and easily broken, so they are not necessarily ideal substrates. Therefore, studies have been actively conducted to realize a flexible device in which the substrate is replaced with glass from a polymer material. However, since many of these technologies require new production technologies and equipment, they have not been mass-produced.

近年、フレキシブルデバイス向けの樹脂基板としてポリイミド樹脂が提案されており、ポリイミド樹脂表面上に薄膜トランジスタ(以下、TFT)や透明電極、発光層などを形成し、フレキシブルデバイス部材として用いることが検討されている。これらで用いられるポリイミド樹脂成型体は、フレキシブルデバイス用途としての十分な透明性や製造時の高温プロセスに耐えうる耐熱性が求められる。
一方、フレキシブルデバイスとしては、基板表面上に形成するTFTや透明電極、発光層等に影響を与えるため、揮発ガスが少ないことが求められている。
In recent years, a polyimide resin has been proposed as a resin substrate for a flexible device, and it has been studied to form a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT), a transparent electrode, a light emitting layer, etc. on a polyimide resin surface and use it as a flexible device member. . Polyimide resin moldings used in these are required to have sufficient transparency for flexible device applications and heat resistance that can withstand high-temperature processes during production.
On the other hand, flexible devices are required to have a small amount of volatile gas because they affect TFTs, transparent electrodes, light emitting layers, and the like formed on the substrate surface.

ポリイミド樹脂成型体を得る方法としては、特許文献1に示されるようなポリアミック酸の溶液を溶液キャスティング法などの溶液流延法により成形する方法、特許文献2に示されるような、熱可塑性ポリイミド樹脂の無溶媒で成型する方法が開示されている。   As a method for obtaining a polyimide resin molded body, a method of forming a polyamic acid solution as shown in Patent Document 1 by a solution casting method such as a solution casting method, a thermoplastic polyimide resin as shown in Patent Document 2 A method of molding without solvent is disclosed.

特開平8−104750 号公報JP-A-8-104750 特開平4−331231 号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-331231

しかしながら本願発明者らの検討によれば、特許文献1に記載の方法は、製造時に高沸点の溶媒を用いるため、溶媒の乾燥に時間を要し、製造コストなどに問題がある。また、特許文献1では、得られた樹脂成型体からの揮発ガスの発生量については何ら検討されていないが、本発明者らの検討によれば、特許文献1のような流延法で製造されたポリイミド樹脂成型体は、樹脂成型体中に溶媒が多く残留し、揮発ガスが多く、フレキシブルデバイス用途としての性能は不十分であることが判明した。
一方、特許文献2の熱可塑性ポリイミド樹脂は、茶色く着色しており、さらに非常に高い成型温度で成型されると着色が進行するため、無色透明性を求められるフレキシブルデバイス用途としては、その性能は不十分であった。また、特許文献2では、得られた樹脂成型体からの揮発ガスの発生量については何ら検討されていない。
本発明の目的は、フレキシブルデバイスの基板等、ポリイミド成型体上に形成されたTFTや透明電極、発光層等に影響が少ないポリイミド樹脂成型体を提供することである。
However, according to the study by the inventors of the present application, the method described in Patent Document 1 uses a high boiling point solvent at the time of production, so that it takes time to dry the solvent, and there is a problem in production cost. Moreover, in patent document 1, although it is not examined at all about the generation amount of the volatile gas from the obtained resin molding, according to examination of the present inventors, it manufactures by the casting method like patent document 1. It was found that the resulting polyimide resin molded body has a large amount of solvent remaining in the resin molded body, a large amount of volatile gas, and insufficient performance as a flexible device.
On the other hand, the thermoplastic polyimide resin of Patent Document 2 is colored brown, and when it is molded at a very high molding temperature, the coloration progresses. Therefore, as a flexible device application requiring colorless transparency, its performance is It was insufficient. Moreover, in patent document 2, it is not examined at all about the generation amount of the volatile gas from the obtained resin molding.
An object of the present invention is to provide a polyimide resin molded body having little influence on TFTs, transparent electrodes, light emitting layers and the like formed on a polyimide molded body such as a substrate of a flexible device.

本発明者などは上記実情に鑑み、フレキシブルデバイス等の用途に有用なポリイミド樹脂について鋭意検討した。この結果、ポリイミド樹脂を用いた成型体が無色透明であり、
且つ、特定の揮発ガスの発生量が、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下であることで本発明の目的が達成されることを見出し、本発明を完成した。
In view of the above circumstances, the present inventors have intensively studied polyimide resins useful for applications such as flexible devices. As a result, the molded body using the polyimide resin is colorless and transparent,
And it discovered that the objective of this invention was achieved because the generation amount of specific volatile gas was 0.5% or less with respect to this polyimide resin mass, and completed this invention.

本発明は次の各項に関する。
[1] ポリイミド樹脂を成型して得られる成型体であって、該成型体は無色透明であり、
且つ、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量が、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下であることを特徴とするポリイミド樹脂成型体。
[2]上記ポリイミド樹脂成型体において、厚み50μmにおける400nmの全光線透過率が60%以上であることを特徴とする前記[1]に記載のポリイミド樹脂成型体。
[3]上記ポリイミド樹脂成形体が、上記ポリイミド樹脂を熱可塑成型して得られたものであることを特徴とする前記[1]または[2]に記載のポリイミド樹脂成形体。
[4]上記ポリイミド樹脂の溶媒含有量が、該ポリイミド樹脂中0.1質量%以上、12質量%以下であることを特徴とする前記[1]〜[3]の何れか1に記載のポリイミド樹脂成形体。
[5] 前記[1]〜[4]の何れか1に記載のポリイミド樹脂成型体を含むフィルム。
The present invention relates to the following items.
[1] A molded body obtained by molding a polyimide resin, the molded body being colorless and transparent,
In addition, the amount of volatile gas generated when heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere is not more than 0.5% with respect to the mass of the polyimide resin. Polyimide resin molding.
[2] The polyimide resin molded body according to [1], wherein the total light transmittance at 400 nm at a thickness of 50 μm is 60% or more.
[3] The polyimide resin molded body according to [1] or [2], wherein the polyimide resin molded body is obtained by thermoplastic molding of the polyimide resin.
[4] The polyimide according to any one of [1] to [3], wherein a solvent content of the polyimide resin is 0.1% by mass to 12% by mass in the polyimide resin. Resin molded body.
[5] A film comprising the polyimide resin molded body according to any one of [1] to [4].

ポリイミド樹脂成型体を用いた積層デバイスの初期性能の低下や経時的な性能の低下を起こさないフレキシブルデバイス等の用途に有用なポリイミド樹脂成型体を提供することができる。   It is possible to provide a polyimide resin molded body useful for applications such as a flexible device that does not cause deterioration in initial performance or temporal performance of a laminated device using the polyimide resin molded body.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。以下で説明されるのは本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施形態に限定はされない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. What is described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment unless it exceeds the gist.

<1.ポリイミド樹脂成型体>
本発明のポリイミド樹脂成型体は、ポリイミド樹脂を成型して得られる成型体であって、該成型体は無色透明であり、且つ、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量が、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下であることを特徴とするポリイミド樹脂成型体である。
<1. Polyimide resin molding>
The polyimide resin molded body of the present invention is a molded body obtained by molding a polyimide resin, the molded body is colorless and transparent, and is generated when heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere. A polyimide resin molded body characterized in that the amount of volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or more is 0.5% or less with respect to the mass of the polyimide resin.

本発明のポリイミド樹脂成型体は、一般的キャスト法では成形不可能な膜厚1mm以上のシートや、レンズ、ライトカバーなど立体的な成型体も含まれる。
ゆえに、本発明により得られるポリイミド樹脂成型体は既存のキャスト法で得られたポリイミド樹脂成型体では達成できなかった透明性、機械特性に優れ、かつ3次元的に複雑な形状を兼ね備える。また、一般的な溶液キャスト法でフィルムを製造した場合、フィルムの表と裏で、支持体との接触の有無によりフィルム表面のポリマー鎖や官能基の配列が異なり、フィルムの表裏で物性(液体の接触角や、接着性、表面平滑性など)が異なる場合がある。しかし、本発明のポリイミド樹脂成型体は成型中に加熱状態で支持体などと接する時間が全くない、又は短時間であるため、フィルムの表と裏で性能の差が生じにくい特徴を有する点で好ましい。
The polyimide resin molded body of the present invention includes a three-dimensional molded body such as a sheet having a thickness of 1 mm or more, a lens, and a light cover that cannot be molded by a general casting method.
Therefore, the polyimide resin molding obtained by the present invention is excellent in transparency and mechanical properties that cannot be achieved by the polyimide resin molding obtained by the existing casting method, and has a three-dimensionally complicated shape. In addition, when a film is produced by a general solution casting method, the arrangement of polymer chains and functional groups on the surface of the film differs depending on the presence or absence of contact with the support on the front and back of the film. Contact angle, adhesiveness, surface smoothness, etc.) may be different. However, since the polyimide resin molded body of the present invention has no or no time for contact with the support in the heated state during molding, it has a characteristic that a difference in performance hardly occurs between the front and back of the film. preferable.

本発明のポリイミド樹脂成型体は、無色透明である。本明細書において、無色透明であることは、該ポリイミド樹脂成型体の厚さ50μmにおいて、400nmにおける全光線透過率が60%以上であるものを指す。全光線透過率の測定方法はJIS K 7361−1による。
また、上記400nmにおける全光線透過率は70%以上であることが好ましく、80%以上であるものがさらに好ましい。無色透明であることで、透光性を必要とするデバイ
ス、例えば光電変換素子などにおいて好適に用いることが可能となる。
The polyimide resin molding of the present invention is colorless and transparent. In this specification, being colorless and transparent means that the total light transmittance at 400 nm is 60% or more when the thickness of the polyimide resin molded body is 50 μm. The measuring method of the total light transmittance is based on JIS K7361-1.
The total light transmittance at 400 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. By being colorless and transparent, it can be suitably used in a device requiring translucency, such as a photoelectric conversion element.

また、本発明に係るポリイミド樹脂成型体の、膜厚が50±5μmである際の黄色度[イエローインデックス(YI)]は、通常−10以上、好ましくは、−5以上、より好ましくは、−1以上である。一方、通常20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。黄色度がこのような範囲にあることにより、本発明において得られるポリイミド樹脂成型体を用いた電子デバイスなどにおいて発光、吸光の妨げとならない傾向にある。   The yellowness [yellow index (YI)] of the polyimide resin molding according to the present invention when the film thickness is 50 ± 5 μm is usually −10 or more, preferably −5 or more, more preferably − 1 or more. On the other hand, it is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less. When the yellowness is in such a range, there is a tendency that light emission and light absorption are not hindered in an electronic device using the polyimide resin molding obtained in the present invention.

本発明のポリイミド樹脂成型体は、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量が、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下である。
ポリイミド樹脂成型体から発生する揮発ガスは、ポリイミド樹脂、あるいは前駆体のポリアミック酸樹脂の製造時に用いる溶媒(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒;ジメチルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒など)、ポリイミド樹脂製造時に水を系外に取り出すために用いる溶媒(キシレン、トルエンなど)、ポリイミド樹脂製造時に用いるイミド化触媒、もしくは脱水剤(トリエチルアミン、ピリヂン、無水酢酸、酢酸、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジアザビシクロオクタンなど)、ポリイミド樹脂を粉体化する際に用いる溶媒(イソプロピルアルコール、メタノール、エタノールなど)、反応によって生じる低分子量体、あるいは未反応モノマー、水などが挙げられる。ポリイミド樹脂成型体をフレキシブルデバイスの基板等に用いる際には、該成型体から発生する揮発ガスは積層デバイスの初期性能の低下、経時的な性能の低下、動作不良などの原因となり、デバイスとして積層された各層の白濁、変色、変形(収縮、膨張、うねり、発泡など)、接着の不安定性の原因となり、さらには各種電気配線・電極の腐食やデバイス製造装置を汚染する原因となるため低いほうが好ましい。該成型体から発生する揮発ガスにおいて、たとえば沸点100℃である水は各層の接着力や、層の白濁に影響を及ぼすことが考えられる。しかし、該成型体から発生する揮発ガスの中でも、沸点が150℃以上の揮発ガスが特定量以上であることで、特に積層デバイスの初期性能の低下や経時的な性能の低下が起こることが判明した。沸点が150℃以上の揮発ガスが特に積層デバイスの初期性能の低下や経時的な性能の低下を起こす理由については定かではないが、積層デバイスの各層に浸透することで局所的な変質や、層間の剥離を生じているためであると考えられる。
The polyimide resin molding of the present invention has a generation amount of a volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or higher generated when heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere, and 0.5% or less of the polyimide resin mass. It is.
Volatile gas generated from the polyimide resin molding is a solvent used in the production of the polyimide resin or precursor polyamic acid resin (such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone). Amide solvents; aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide; lactone solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, and δ-valerolactone, etc.), a solvent used for taking water out of the system during polyimide resin production ( Xylene, toluene, etc.), imidization catalyst used in polyimide resin production, or dehydrating agents (triethylamine, pyridine, acetic anhydride, acetic acid, dicyclohexylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, diazabicyclooctane, etc.), when polyimide resin is powdered for That solvent (isopropyl alcohol, methanol, ethanol, etc.), low molecular weight material produced by the reaction or unreacted monomer, water and the like. When a polyimide resin molding is used for a flexible device substrate, etc., the volatile gas generated from the molding causes deterioration of the initial performance of the laminated device, degradation of performance over time, malfunction, etc. Lower layers are the cause of white turbidity, discoloration, deformation (shrinkage, expansion, waviness, foaming, etc.) and instability of adhesion, as well as corrosion of various electrical wiring / electrodes and contamination of device manufacturing equipment. preferable. In the volatile gas generated from the molded body, for example, water having a boiling point of 100 ° C. may affect the adhesive strength of each layer and the cloudiness of the layer. However, among the volatile gases generated from the molded product, it has been found that the initial performance of the laminated device and the performance over time are particularly deteriorated when the volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or more is a specific amount or more. did. The reason why a volatile gas with a boiling point of 150 ° C or higher causes deterioration of the initial performance of the multilayer device or deterioration of the performance over time is not clear, but local alteration or penetration between layers of the multilayer device may occur. This is thought to be due to the occurrence of peeling.

本発明のポリイミド樹脂成型体を、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量は、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下であり、0.3%以下であることが好ましく、0.1%以下であることが好ましい。また、下限は特に無く、低いほうが好ましいが、0.0001%以上であることで、ポリイミド樹脂成型体の可塑性が向上する場合がある。
沸点が150℃以上の揮発ガスとしては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒;ジメチルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒等が挙げられる。この中でもN,N−ジメチルアセトアミドの発生量を低減することが積層デバイスの初期性能の低下や経時的な性能の低下を抑制できるため好ましい。
なお、本発明のポリイミド樹脂成型体から揮発ガスの発生量を測定する方法は、通常用いられている方法であれば特に限定されず、示差熱熱重量同時測定(TG/DTA)、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、示差熱天秤―質量分析装置 (TG-DTA/MS)、赤外分光法(IR)、元素分析や核磁気共鳴法(NMR)、質量分析、またはこれらを組み見合
わせた方法が挙げられる。
When the polyimide resin molding of the present invention is heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere, the amount of volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or more is 0.5% or less with respect to the polyimide resin mass. It is preferably 0.3% or less, and preferably 0.1% or less. Moreover, there is no lower limit in particular, and the lower one is preferable, but when it is 0.0001% or more, the plasticity of the polyimide resin molded body may be improved.
Examples of the volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or higher include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide; Examples include lactone solvents such as butyrolactone, γ-valerolactone, and δ-valerolactone. Among these, it is preferable to reduce the amount of N, N-dimethylacetamide generated, since the deterioration of the initial performance of the laminated device and the deterioration of performance over time can be suppressed.
The method for measuring the amount of volatile gas generated from the polyimide resin molded body of the present invention is not particularly limited as long as it is a commonly used method, and differential thermothermal weight simultaneous measurement (TG / DTA), gas chromatography , Liquid chromatography, differential thermobalance-mass spectrometer (TG-DTA / MS), infrared spectroscopy (IR), elemental analysis, nuclear magnetic resonance (NMR), mass spectrometry, or a combination of these Can be mentioned.

本発明のポリイミド樹脂成型体中の残留溶媒の濃度には、特段の制限は無いが、好ましくは12質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下、より好ましくは1質量%以下、さらに好ましくは0.5質量%以下、特に好ましくは0.1質量%以下である。一方、下限に制限はなく低いほうが好ましい。ポリイミド樹脂成型体中の溶媒の濃度をこの範囲内に調整することで、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量を低下させることができ、本発明のポリイミド樹脂成型体を基板に用いた場合、続く電子デバイスなどの製造プロセスなどにおいて揮発する溶媒による悪影響を抑制できるため望ましい。   Although there is no special restriction | limiting in the density | concentration of the residual solvent in the polyimide resin molding of this invention, Preferably it is 12 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less, More preferably, it is 5 mass% or less, More preferably, it is 1 It is not more than mass%, more preferably not more than 0.5 mass%, particularly preferably not more than 0.1 mass%. On the other hand, the lower limit is not limited and is preferably low. By adjusting the concentration of the solvent in the polyimide resin molded body within this range, the generation amount of volatile gas having a boiling point of 150 ° C. or higher when heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere is reduced. When the polyimide resin molding of the present invention is used for a substrate, it is preferable because adverse effects due to a solvent that volatilizes in subsequent manufacturing processes of electronic devices and the like can be suppressed.

本発明に係るポリイミド樹脂成型体の示差走査熱量測定法(DSC法)によるガラス転移温度(Tg)は、好ましくは170℃以上であり、さらに好ましくは200℃以上、より好ましくは250℃以上である。ガラス転移温度が特定の範囲であることにより、続く各種電子デバイス製造の高温プロセスに対応できるため好ましい。   The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin molding according to the present invention by differential scanning calorimetry (DSC method) is preferably 170 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher. . It is preferable for the glass transition temperature to be in a specific range because it can be used for the subsequent high-temperature processes for manufacturing various electronic devices.

本発明のポリイミド樹脂成型体の熱膨張率は、100〜200℃の範囲において通常70ppm/K以下、好ましくは50ppm/K以下、さらに好ましくは30ppm以下、特に好ましくは20ppm以下である。熱膨張率がこのような範囲にあることにより、本発明のポリイミド樹脂成型体を基板に用いた場合、続く電子デバイスなどの製造プロセスなどにおいて、位置ずれ、反りなどを抑制できる傾向にある。   The thermal expansion coefficient of the polyimide resin molding of the present invention is usually 70 ppm / K or less, preferably 50 ppm / K or less, more preferably 30 ppm or less, and particularly preferably 20 ppm or less in the range of 100 to 200 ° C. When the thermal expansion coefficient is in such a range, when the polyimide resin molding of the present invention is used for a substrate, there is a tendency that positional deviation, warpage, and the like can be suppressed in subsequent manufacturing processes of electronic devices and the like.

本発明に係るポリイミド樹脂成型体中に含まれる未反応物であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は特に制限されないが、好ましくは15質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、特に好ましくは5質量%以下である。また、下限は無く低いほうが好ましい。
ポリイミド樹脂中に30%以上のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を含有すると、ポリイミド樹脂成型体を用いた電子デバイス等の製造プロセス中に、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂から水が発生して、プロセスの進行を妨げたり、ポリイミド樹脂成型体の機械物性や透明性に変化が生じたりする可能性がある。
Although the ratio with respect to the polyimide resin of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin which is the unreacted substance contained in the polyimide resin molding which concerns on this invention is not restrict | limited, Preferably it is 15 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less. Especially preferably, it is 5 mass% or less. Moreover, there is no lower limit and the lower one is preferable.
When 30% or more of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin is contained in the polyimide resin, water is generated from the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin during the manufacturing process of the electronic device using the polyimide resin molding. The progress of the process may be hindered, and the mechanical properties and transparency of the polyimide resin molded body may be changed.

ポリイミド樹脂成型体の示差走査熱量測定法(DSC法)によるガラス転移温度(Tg)は、好ましくは150℃以上であり、さらに好ましくは200℃以上、特に好ましくは250℃以上である。ガラス転移温度が150℃以上であることにより、ポリイミド樹脂成型体を用いた様々な高温プロセスに対応可能となる傾向にある。
ポリイミド樹脂成型体の熱膨張率は、100〜200℃の範囲において100ppm/K以下であることが好ましく、70ppm/K以下であることがより好ましい。熱膨張率がこのような範囲にあることにより、寸法精度の求められる製造プロセスに対応可能となる傾向にある。
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin molding by differential scanning calorimetry (DSC method) is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, and particularly preferably 250 ° C. or higher. When the glass transition temperature is 150 ° C. or higher, it tends to be compatible with various high-temperature processes using a polyimide resin molded body.
The thermal expansion coefficient of the polyimide resin molded body is preferably 100 ppm / K or less, more preferably 70 ppm / K or less in the range of 100 to 200 ° C. When the thermal expansion coefficient is in such a range, it tends to be compatible with a manufacturing process that requires dimensional accuracy.

本発明において得られるポリイミド樹脂成型体の機械的強度(引張強度、引張伸度等)は、溶融成形する成形方法や、成型体の形状に依存するが、以下のような機械的強度を有することが好ましい。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張強度は、特段の制限はないが、通常50MPa以上
、好ましくは70MPa以上であり、一方、通常400MPa以下、好ましくは300MP
a以下である。
本発明に係るポリイミド樹脂成型体の引張弾性率は、特段の制限はないが、通常1000MPa以上、好ましくは1500MPaであり、一方、通常20Gpa以下、好ましくは10Gpa以下である。
The mechanical strength (tensile strength, tensile elongation, etc.) of the polyimide resin molded body obtained in the present invention depends on the molding method for melt molding and the shape of the molded body, but has the following mechanical strength. Is preferred.
The tensile strength of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 50 MPa or more, preferably 70 MPa or more, while usually 400 MPa or less, preferably 300 MPa.
a or less.
Although there is no special restriction | limiting, the tensile elasticity modulus of the polyimide resin molding which concerns on this invention is 1000 MPa or more normally, Preferably it is 1500 MPa, On the other hand, it is 20 Gpa or less normally, Preferably it is 10 Gpa or less.

本発明に係るポリイミド樹脂成型体の引張伸度は、特段の制限はないが、好ましくは10%GL以上、より好ましくは20%GL以上であり、一方、好ましくは300%GL以下、より好ましくは200%GL以下である。ポリイミド樹脂成型体がこのような機械的強度を有することにより、より耐久性の高い電子デバイスなどが得られる傾向にある。   The tensile elongation of the polyimide resin molding according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 10% GL or more, more preferably 20% GL or more, while preferably 300% GL or less, more preferably 200% GL or less. When the polyimide resin molding has such a mechanical strength, a more durable electronic device or the like tends to be obtained.

本発明に係るポリイミド樹脂成型体の溶融粘度は、特段の制限は無いが、330℃において、通常1.0×10 Pa・s以上、好ましくは1.0×10 Pa・s以上である。一方、通常1.0×10 Pa・s以下、好ましくは1.0×10 Pa・s以下、より好ましくは1.0×10 Pa・s以下、さらに好ましくは5.0×10
Pa・s以下、特に好ましくは3.0×10 Pa・s以下である。このような範囲にあることにより、ポリイミド樹脂成型体の2次加工が容易であるため好ましい。
本発明において得られるポリイミド樹脂の溶融粘度は、公知の方法、例えば特開平1−297427号公報に記載の方法等で測定することができる。
The melt viscosity of the polyimide resin molding according to the present invention is not particularly limited, but is usually 1.0 × 10 1 Pa · s or more, preferably 1.0 × 10 2 Pa · s or more at 330 ° C. . On the other hand, it is usually 1.0 × 10 7 Pa · s or less, preferably 1.0 × 10 5 Pa · s or less, more preferably 1.0 × 10 4 Pa · s or less, and further preferably 5.0 × 10 3.
Pa · s or less, particularly preferably 3.0 × 10 3 Pa · s or less. By being in such a range, it is preferable because secondary processing of the polyimide resin molded body is easy.
The melt viscosity of the polyimide resin obtained in the present invention can be measured by a known method, for example, the method described in JP-A-1-297427.

本発明に係るポリイミド樹脂成型体は成型中、乾燥中、及びポリイミド樹脂成型体を使用した各種プロセス中の着色を抑制するため、酸化防止剤を含有しても良い。   The polyimide resin molding according to the present invention may contain an antioxidant in order to suppress coloring during molding, drying, and various processes using the polyimide resin molding.

酸化防止剤はポリイミド樹脂の製造工程及びポリイミド樹脂成型体を製造する工程のどの段階で添加してもよいが、ポリイミド樹脂成型体を製造する工程において、ポリイミド樹脂粉体に酸化防止剤を混合する方法を好適に用いることができる。酸化防止剤をポリイミド樹脂粉体に混合する場合、ポリイミド粉体の成型中の変色と得られたポリイミド樹脂成型体の経時着色を共に抑制できる点で好ましい。   The antioxidant may be added at any stage of the polyimide resin manufacturing process and the polyimide resin molded body manufacturing process. In the process of manufacturing the polyimide resin molded body, the antioxidant is mixed with the polyimide resin powder. The method can be suitably used. When mixing antioxidant with polyimide resin powder, it is preferable at the point which can suppress both discoloration in shaping | molding of polyimide powder and coloring with time of the obtained polyimide resin molding.

酸化防止剤の添加量は特に限定しないが、ポリイミド樹脂に対して0.001質量%以上が
好ましく、0.005質量%以上が更に好ましく、0.01質量%以上が更に好ましく、0.05質量
%以上が特に好ましい。一方、10質量%以下が好ましく、5質量%以下が更に好ましく、3質量%以下が更に好ましく、1質量%以下が特に好ましい。これらの範囲であることで、酸化防止剤の劣化に起因する着色が抑制され、液状樹脂組成物中での凝集や沈降が抑制されることや、塗布作業中のハンドリング性に優れることから、表面平滑性や色味が良好な成型体となる傾向がある。
The addition amount of the antioxidant is not particularly limited, but is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, further preferably 0.01% by mass or more, and particularly preferably 0.05% by mass or more based on the polyimide resin. On the other hand, it is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, further preferably 3% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less. By being in these ranges, coloring due to deterioration of the antioxidant is suppressed, aggregation and sedimentation in the liquid resin composition is suppressed, and handling properties during coating work are excellent. There exists a tendency for it to become a molding with good smoothness and color.

酸化防止剤は、具体的には、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤などが挙げられる。   Specific examples of the antioxidant include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, and hydroxylamine-based antioxidants.

上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N'-ヘキサメチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンア
ミド]、1,2-ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシシンナモイル)ヒドラジン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、2,4,−ビス
[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、1,3,5-トリス[[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシフェニル]メチル]-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン、3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸ステアリル、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、3−(1,1−ジメチルエチル)-4-ヒドロキシ-5-メチル-ベンゼンプロパン酸-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン-3,9-ジイルビス(2,2-ジメチル-2,1-エタンジイル)エステル、2,4,6-トリス(3',5'-ジ-tert-ブチル-4'-ヒドロキシベンジル)メシチレン等が挙げられる。
Examples of the hindered phenol antioxidant include pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N′-hexamethylene bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], 1,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxycinnamoyl) hydrazine, triethylene glycol-bis [ 3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, thiodiethylenebis [3- (3,5- J-t-Buchi 4-hydroxyphenyl) propionate], 2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 2,4, -bis [(octylthio) methyl] -o-cresol, isooctyl-3- (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- ( 2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate, 2,2′-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 4 , 4′-butylidenebis (6-t-butyl-3-methylphenol), 4,4′-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol), 3,9-bis [2- [3- (3 -T-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 1,3,5- Tris [[3,5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,1,3-tris (2 -Methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, stearyl 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, bis [3- (3-tert-butyl-4 -Hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylenebis (oxyethylene)], 3- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-5-methyl-benzenepropanoic acid-2,4,8,10 -Tetraoxaspiro [5,5] undecane-3,9-diylbis (2,2-dimethyl-2,1-ethanediyl) ester, 2,4,6-tris (3 ', 5'-di-tert-butyl -4'-hydroxybenzyl) mesitylene and the like.

上記ヒンダードフェノール系化合物の中でも、ポリイミド樹脂に対して相溶性に優れるヒンダードフェノール系酸化防止剤がポリイミド樹脂成型体中での凝集や表面へのブリードアウトが抑制され、透明性や表面平滑性が良好な成型体が得られる点で好ましい。特にN,N'-ヘキサメチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンアミ
ド](BASF社製 商品名IRGANOX1098)、ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](BASF社製 商品名IRGANOX1010)、1,2-ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシシンナモイル)ヒドラジン(BASF社製 商品名IRGANOX MD1024)、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)] (BASF社製 商品名IRGANOX 245)がポリイミド樹脂組成物への相溶性に優れ、着色を効果的に抑制できる
点で好ましい。
Among the above hindered phenolic compounds, hindered phenolic antioxidants that are highly compatible with polyimide resins are prevented from coagulating in the polyimide resin molding and bleeding out to the surface, and transparency and surface smoothness Is preferable in that a good molded product can be obtained. In particular, N, N′-hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide] (trade name IRGANOX1098 manufactured by BASF), pentaerythritol tetrakis [3- (3, 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (trade name IRGANOX 1010 manufactured by BASF), 1,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxycinnamoyl) hydrazine (BASF) Product name IRGANOX MD1024), bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylenebis (oxyethylene)] (BASF product name IRGANOX 245) is a polyimide resin It is preferable in that the compatibility with the composition is excellent and coloring can be effectively suppressed.

前記リン系酸化防止剤は、無機化合物でも有機化合物でもよく、特に制限はない。好ましいリン系化合物としては、リン酸一ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カルシウム、亜リン酸マグネシウム、亜リン酸マンガンなどの無機リン酸塩、トリフェニルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル−4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、トリス(イソデシル)フォスファイト、トリス(トリデシル)フォスファイト、フェニルジイソオクチルフォスファイト、フェニルジイソデシルフォスファイト、フェニルジ(トリデシル)フォスファイト、ジフェニルイソオクチルフォスファイト、ジフェニルイソデシルフォスファイト、ジフェニルトリデシルフォスファイト、フォスフォン酸[1,1−ジフェニル−4,4´−ジイルビステトラキス−2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)フェニル]エステル、トリフェニルフォスファイト、トリス(ノニルフェニル)フォスファイト、4,4´−イソプロピリデンジフェノールアルキルフォスファイト、トリス(ビフェニル)フォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジフォスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4´−ブチリデンビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)ジフォスファイト、ヘキサ(トリデシル)−1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタントリフォスファイト、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフェートジエチルエステル、ソディウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ソディウム−2,2´−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、1,3−ビス(ジフェノキシフォスフォニルオキシ)ベンゼン、3,9-ビス(2,4-ジ-tert-ブチルフェ
ノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、2,4,8,10-テトラキス(1,1-ジメチルエチル)-6-[(2-エチルヘキシル)オキシ]-12H-ジベンゾ[1,3,2]ジオ
キサホスホシン、亜りん酸トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)、トリス(モノおよび/あるいはジノニルフェニル)ホスファイト、亜リン酸トリス(4−ノニルフェニル)、亜り
ん酸(1-メチルエチリデン)ジ-4,1-フェニレンテトラ-c12-15-アルキルエステル、亜りん酸ジフェニル(2-エチルヘキシル)、等の有機系リン系二次酸化防止剤が挙げられる。
The phosphorus-based antioxidant may be an inorganic compound or an organic compound, and is not particularly limited. Preferred phosphorus compounds include inorganic phosphates such as monosodium phosphate, disodium phosphate, trisodium phosphate, sodium phosphite, calcium phosphite, magnesium phosphite, manganese phosphite, and triphenyl phosphite. , Trioctadecyl phosphite, tridecyl phosphite, trinonylphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, tetra (tridecyl- 4,4′-isopropylidene diphenyl diphosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) octyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (Isodecyl) Phosphi , Tris (tridecyl) phosphite, phenyl diisooctyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, phenyl di (tridecyl) phosphite, diphenyl isooctyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, diphenyl tridecyl phosphite, phosphonic acid [ 1,1-diphenyl-4,4′-diylbistetrakis-2,4-bis (1,1-dimethylethyl) phenyl] ester, triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, 4,4′- Isopropylidene diphenol alkyl phosphite, tris (biphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite Sulphite, di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphite, tetra (tridecyl) -4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol) diphosphite, hexa ( Tridecyl) -1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane triphosphite, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate diethyl ester, Sodium-bis (4-t-butylphenyl) phosphate, sodium-2,2'-methylene-bis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphate, 1,3-bis (diphenoxyphosphoryl) Oxy) benzene, 3,9-bis (2,4-di-tert-butylphenoxy) ) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, 2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) -6-[(2-ethylhexyl) oxy] -12H-dibenzo [1,3,2] dioxaphosphocin, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (mono and / or dinonylphenyl) phosphite, tris phosphite Organic phosphorus secondary such as (4-nonylphenyl), phosphorous acid (1-methylethylidene) di-4,1-phenylenetetra-c12-15-alkyl ester, diphenyl phosphite (2-ethylhexyl), etc. An antioxidant is mentioned.

上記リン系酸化防止剤の中でもポリイミド樹脂に対して相溶性が優れるリン系酸化防止剤がポリイミド樹脂成型体中での凝集や表面へのブリードアウトが抑制され、透明性や表面平滑性が良好な成型体が得られる点で好ましい。特にトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト(BASF社製 商品名IRGAFOS 168)がポリイミド樹脂組成
物や液状ポリイミド樹脂組成物、液状ポリアミック酸樹脂組成物への相溶性に優れ、着色を効果的に抑制できる点で好ましい。
Among the above-mentioned phosphorus-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants with excellent compatibility with polyimide resins suppress aggregation and bleed-out to the surface of the polyimide resin molded body, and have excellent transparency and surface smoothness. It is preferable at the point from which a molded object is obtained. In particular, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite (trade name IRGAFOS 168 manufactured by BASF) has excellent compatibility with polyimide resin compositions, liquid polyimide resin compositions, and liquid polyamic acid resin compositions. It is preferable at the point which can suppress coloring effectively.

前記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、3,3'-チオジプロピオン酸 ジオクタデシル3,3'-チオジプロピオン酸ジドデシル、ジラウリル−3,3´−チオジプロピオネート、
ラウジリルチオジチオネート、ジトリデシル−3,3´−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3´−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3´−チオジプロピオネート、テトラキス−メチレン−3−ラウリルチオプロピオネートメタン、ジステアリル−3,3´−メチル−3,3´−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル−3,3´−チオジプロピオネート、ビス[2−メチル−4−(3−n−アルキルチオプロピオニルオキシ)−5−t−ブチルフェニル]スルフィド、β−ラウリルチオプロピオネート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−5−メチルベンゾイミダゾール、ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオン酸]2,2-ビス[[3-(ドデシルチオ)-1-オキソプロピルオキシ]メチル]-1,3-プロパンジイル、ビス[3-(ドデシルチオ)プロパン酸]チオビス[2-(1,1-ジメチルエチル)-5-メチル-4,1-フェニレン]等が挙げられる。
上記イオウ系酸化防止剤の中でもポリイミド樹脂に対して相溶性が優れるイオウ系酸化防止剤がポリイミド樹脂成型体中での凝集や表面へのブリードアウトが抑制され、透明性や表面平滑性が良好な成型体が得られる点で好ましい。
Examples of the sulfur-based antioxidant include dioctadecyl 3,3′-thiodipropionate 3,3′-thiodipropionate didodecyl, dilauryl-3,3′-thiodipropionate,
Laudylyl thiodithionate, ditridecyl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, tetrakis-methylene-3-lauryl Thiopropionate methane, distearyl-3,3′-methyl-3,3′-thiodipropionate, laurylstearyl-3,3′-thiodipropionate, bis [2-methyl-4- (3- n-alkylthiopropionyloxy) -5-t-butylphenyl] sulfide, β-laurylthiopropionate, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, bis [3- (dodecylthio) propionic acid] 2,2-bis [[3- (dodecylthio) -1-oxopropyloxy] methyl] -1,3-propanediyl, bis [3- (dode Thio) propanoic acid] thiobis [2- (1,1-dimethylethyl) -5-methyl-4,1-phenylene], and the like.
Among the above-mentioned sulfur-based antioxidants, sulfur-based antioxidants with excellent compatibility with polyimide resins suppress aggregation and bleed-out to the surface of the polyimide resin molding, and have good transparency and surface smoothness. It is preferable at the point from which a molded object is obtained.

前記ヒドロキシルアミン系酸化防止剤としては、例えば、ジオクタデシルヒドロキシルアミン等のジアルキルアミン、N,O―ジアルキルヒドロキシルアミン、1−ナフトヒドロキサム酸、4,5−ジブロモ−N−メトキシ−N−メチル−2−フランカルボキサミド、4−(ヒドロキシアミノ)キノリンN−オキシド、アセトヒドロキサム酸、ベンゼンスルホヒドロキサム酸、ベンゾヒドロキサム酸、ヒドロキシ尿素、L−カナバニン硫酸塩水和物、N,N´−ジメトキシ−N,N´−ジメチルオキサミド、N,N,O−トリアセチルヒドロキシルアミン、N,N,O−トリス(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン、N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N,O−ビス(トリフルオロアセチル)ヒドロキシルアミン、N,O−ビス(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩、N−(ジエチルカルバモイル)−N−メトキシホルムアミド、N−(tert−ブチル)ヒドロキシルアミン塩酸塩、N−ベンゾイル−N−フェニルヒドロキシルアミン、N−カルボベンゾキシヒドロキシルアミン、N−シンナモイル−N−(2,3−キシリル)ヒドロキシルアミン、N−ヒドロキシウレタン、N−メトキシ−N,O−ビス(トリメチルシリル)カルバマー
ト、N−メトキシ−N−メチル−2−フランカルボキサミド、N−メトキシ−N−メチルアセトアミド、N−メトキシジアセトアミド、N−メチル−2−ジメチルアミノアセトヒドロキサム酸、N−メチル−N,O−ビス(トリメチルシリル)ビドロキシルアミン、N−メチルフロヒドロキサム酸、N−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩、オクタノヒドロキサム酸、サリチルヒドロキサム酸、ベンゾヒドロキサム酸ナトリウム水和物、オクタノヒドロキサム酸ナトリウム水和物、N−(ベンジルオキシ)カルバミン酸tert−ブチル、N−ヒドロキシカルバミン酸tert−ブチル、[ビス(4−メトキシフェニル)ホスフィニルオキシ]カルバミン酸tert−ブチル、4,5−ジブロモ−N−メトキシ−N−メチル−2−フランカルボキサミド、カルボキシメトキシルアミンヘミ塩酸塩、ヒドロキシルアミン−O−スルホン酸、L−カナバニン硫酸塩水和物、N,N´−ジメトキシ−N,N´−ジメチルオキサミド、N,N,O−トリアセチルヒドロキシルアミン、N,N,O−トリス(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン、N,O−ビス(トリフルオロアセチル)ヒドロキシルアミン、N,O−ビス(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩、N−(ジエチルカルバモイル)−N−メトキシホルムアミド、N−メトキシ−N,O−ビス(トリメチルシリル)カルバマート、N−メトキシ−N−メチル−2−フランカルボキサミド、N−メトキシ−N−メチルアセトアミド、N−メトキシジアセトアミド、N−メチル−N,O−ビス(トリメチルシリル)ビドロキシルアミン、O−(2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンジル)ヒドロキシルアミン塩酸塩、O−(2−トリメチルシリルエチル)ヒドロキシルアミン塩酸塩、O−(トリメチルシリル)ヒドロキシルアミン、O−4−ニトロベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩、O−アリルヒドロキシルアミン塩酸塩、O−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩、O−イソブチルヒドロキシルアミン塩酸塩、O−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩、N−(ベンジルオキシ)カルバミン酸tert−ブチル、[ビス(4−メトキシフェニル)ホスフィニルオキシ]カルバミン酸tert−ブチル等が挙げられる。
上記ヒドロキシルアミン系酸化防止剤の中でもポリイミド樹脂に対して相溶性が優れるヒドロキシルアミン系酸化防止剤がポリイミド樹脂成型体中での凝集や表面へのブリードアウトが抑制され、透明性や表面平滑性が良好な成型体が得られる点で好ましい。
Examples of the hydroxylamine-based antioxidant include dialkylamines such as dioctadecylhydroxylamine, N, O-dialkylhydroxylamine, 1-naphthohydroxamic acid, 4,5-dibromo-N-methoxy-N-methyl-2 -Francarboxamide, 4- (hydroxyamino) quinoline N-oxide, acetohydroxamic acid, benzenesulfohydroxamic acid, benzohydroxamic acid, hydroxyurea, L-canavanine sulfate hydrate, N, N'-dimethoxy-N, N ' -Dimethyloxamide, N, N, O-triacetylhydroxylamine, N, N, O-tris (trimethylsilyl) hydroxylamine, N, N-dibenzylhydroxylamine, N, N-diethylhydroxylamine, N, O- Bis (trifluoroacetyl) Hydroxylamine, N, O-bis (trimethylsilyl) hydroxylamine, N, O-dimethylhydroxylamine hydrochloride, N- (diethylcarbamoyl) -N-methoxyformamide, N- (tert-butyl) hydroxylamine hydrochloride, N- Benzoyl-N-phenylhydroxylamine, N-carbobenzoxyhydroxylamine, N-cinnamoyl-N- (2,3-xylyl) hydroxylamine, N-hydroxyurethane, N-methoxy-N, O-bis (trimethylsilyl) carbamate N-methoxy-N-methyl-2-furancarboxamide, N-methoxy-N-methylacetamide, N-methoxydiacetamide, N-methyl-2-dimethylaminoacetohydroxamic acid, N-methyl-N, O-bis (Trimethylsilyl Vidroxylamine, N-methyl furohydroxamic acid, N-methylhydroxylamine hydrochloride, octanohydroxamic acid, salicylhydroxamic acid, sodium benzohydroxamic acid hydrate, sodium octanohydroxamic acid hydrate, N- (benzyloxy ) Tert-butyl carbamate, tert-butyl N-hydroxycarbamate, tert-butyl [bis (4-methoxyphenyl) phosphinyloxy] carbamate, 4,5-dibromo-N-methoxy-N-methyl-2 -Furancarboxamide, carboxymethoxylamine hemihydrochloride, hydroxylamine-O-sulfonic acid, L-canavanine sulfate hydrate, N, N'-dimethoxy-N, N'-dimethyloxamide, N, N, O-tri Acetylhydroxylamine, N, N, O Tris (trimethylsilyl) hydroxylamine, N, O-bis (trifluoroacetyl) hydroxylamine, N, O-bis (trimethylsilyl) hydroxylamine, N, O-dimethylhydroxylamine hydrochloride, N- (diethylcarbamoyl) -N- Methoxyformamide, N-methoxy-N, O-bis (trimethylsilyl) carbamate, N-methoxy-N-methyl-2-furancarboxamide, N-methoxy-N-methylacetamide, N-methoxydiacetamide, N-methyl-N , O-bis (trimethylsilyl) bidoxylamine, O- (2,3,4,5,6-pentafluorobenzyl) hydroxylamine hydrochloride, O- (2-trimethylsilylethyl) hydroxylamine hydrochloride, O- (trimethylsilyl) ) Hydroxy Amine, O-4-nitrobenzylhydroxylamine hydrochloride, O-allylhydroxylamine hydrochloride, O-benzylhydroxylamine hydrochloride, O-isobutylhydroxylamine hydrochloride, O-methylhydroxylamine hydrochloride, N- (benzyloxy) ) Tert-butyl carbamate, [bis (4-methoxyphenyl) phosphinyloxy] carbamate tert-butyl and the like.
Among the hydroxylamine-based antioxidants, the hydroxylamine-based antioxidant, which has excellent compatibility with polyimide resins, suppresses aggregation and bleed-out to the surface of the polyimide resin molded body, resulting in transparency and surface smoothness. This is preferable in that a good molded body can be obtained.

上記酸化防止剤は単独で用いても2種類以上を混合して用いてもよいが、混合する場合
はヒンダードフェノール系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤の混合物や、ヒンダードフェノール系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤の混合物が好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤およびリン系酸化防止剤の混合物を用いる場合、中でもN,N'-ヘキサメ
チレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンアミド](BASF
社製 商品名IRGANOX1098)とトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイ
ト(BASF社製 商品名IRGAFOS 168)との混合物、ペンタエリスリトール・テトラキ
ス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](BASF社製 商品名IRGANOX1010)とトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフ
ァイト(BASF社製 商品名IRGAFOS 168)との混合物、1,2-ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシシンナモイル)ヒドラジン(BASF社製 商品名IRGANOX MD1024)とトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト(BASF社製 商品名IRGAFOS 168)との混合物、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン
酸][エチレンビス(オキシエチレン)] (BASF社製 商品名IRGANOX 245)とトリス(
2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト(BASF社製 商品名IRGAFOS 168
)との混合物がポリイミド樹脂への相溶性に優れ、着色を効果的に抑制できる点で好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤の混合物を用いる場合、中でもN,N'-ヘキサメチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロ
パンアミド](BASF社製 商品名IRGANOX1098)と3,3'-チオジプロピオン酸 ジオクタデシル(BASF社製 商品名IRGANOX PS 802)との混合物、ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](BASF社製 商品名IRGANOX1010)と3,3'-チオジプロピオン酸 ジオクタデシル(B
ASF社製 商品名IRGANOX PS 802)との混合物、1,2-ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシシンナモイル)ヒドラジン(BASF社製 商品名IRGANOX MD1024)と3,3'-チオジプロピオン酸 ジオクタデシル(BASF社製 商品名IRGANOX PS 802)との混合物、ビ
ス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オ
キシエチレン)] (BASF社製 商品名IRGANOX 245)と3,3'-チオジプロピオン酸 ジオクタデシル(BASF社製 商品名IRGANOX PS 802)との混合物がポリイミド樹脂への相溶性に優れ、着色を効果的に抑制できる点で好ましい。また、混合する際の混合比は特に限定しない。
さらに所望に応じ、上記酸化防止剤に加えて樹脂組成物に通常用いられている各種添加剤、例えば滑剤、着色剤、安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤又は離型剤などを、本実施形態に係るポリイミド樹脂成型体に配合してもよい。これら各種充填剤及び添加成分は、ポリイミド樹脂成型体を製造するどの工程のどの段階で添加してもよい。
The above antioxidants may be used alone or in combination of two or more, but when they are mixed, a mixture of hindered phenolic antioxidants and phosphorus antioxidants or hindered phenolic antioxidants A mixture of an agent and a sulfur-based antioxidant is preferred. N, N'-hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], especially when using a mixture of hindered phenolic antioxidants and phosphorus antioxidants (BASF
Product name IRGANOX 1098) and tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite (BASF product name IRGAFOS 168), pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (trade name IRGANOX 1010 manufactured by BASF) and tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite (trade name IRGAFOS 168 manufactured by BASF), 1,2 -Bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxycinnamoyl) hydrazine (trade name IRGANOX MD1024, manufactured by BASF) and tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite (product, manufactured by BASF) Name IRGAFOS 168), bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylene bis (oxyethylene)] (trade name IRGANOX 245, manufactured by BASF AG) and Tris (
2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite (trade name IRGAFOS 168, manufactured by BASF)
And a mixture thereof with a polyimide resin are preferable, and coloring can be effectively suppressed. N, N'-hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propanamide], especially when using a mixture of hindered phenolic and sulfur antioxidants (Trade name IRGANOX 1098 manufactured by BASF) and dioctadecyl 3,3′-thiodipropionate (trade name IRGANOX PS 802 manufactured by BASF), pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (trade name IRGANOX 1010 manufactured by BASF) and dioctadecyl 3,3′-thiodipropionate (B
Mixture with ASF brand name IRGANOX PS 802), 1,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxycinnamoyl) hydrazine (BASF brand name IRGANOX MD1024) and 3,3 ' -Both [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylenebis (oxyethylene), a mixture with dioctadecyl thiodipropionate (trade name IRGANOX PS 802, manufactured by BASF) )] (BASF brand name IRGANOX 245) and 3,3'-dioctadecyl thiodipropionate (BASF brand name IRGANOX PS 802) are excellent in compatibility with polyimide resin and effective in coloring. It is preferable at the point which can be suppressed to. Moreover, the mixing ratio at the time of mixing is not specifically limited.
Further, in addition to the above antioxidants, various additives usually used in resin compositions, for example, lubricants, colorants, stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, flame retardants, plasticizers or mold release, as desired. You may mix | blend an agent etc. with the polyimide resin molding which concerns on this embodiment. These various fillers and additive components may be added at any stage of any process for producing a polyimide resin molded body.

<2.本発明のポリイミド樹脂成型体に用いるポリイミド樹脂>
本発明のポリイミド樹脂成型体に用いるポリイミド樹脂は、以下の一般式(1)で表される構造を有する。
<2. Polyimide resin used for polyimide resin molding of the present invention>
The polyimide resin used for the polyimide resin molding of the present invention has a structure represented by the following general formula (1).

Figure 2014118463
Figure 2014118463

[一般式(1)中
は4価の有機基を示し、
は2価の有機基を示し、
nは1以上の整数を示し、nが2以上の場合、一般式(1)で示される構造1分子中に複数存在するR及びRは、それぞれ同一であっても異なっていても良い。]
[In the general formula (1), R 1 represents a tetravalent organic group,
R 2 represents a divalent organic group,
n represents an integer of 1 or more, and when n is 2 or more, a plurality of R 1 and R 2 present in one molecule of the structure represented by the general formula (1) may be the same or different. . ]

nは1以上の整数であり、本発明の効果を損なわない範囲であれば、上限は特に無いが、一般式(1)で示されるポリイミド樹脂の質量平均分子量が好ましくは40000以上、更に好ましくは50000以上となるようにnを定めることが、得られるポリイミド樹脂成型体の靭性の点から好ましい。   n is an integer of 1 or more, and the upper limit is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, but the weight average molecular weight of the polyimide resin represented by the general formula (1) is preferably 40000 or more, and more preferably. It is preferable from the viewpoint of toughness of the obtained polyimide resin molding that n be set to 50000 or more.

なお、本発明のポリイミド樹脂は一般式(1)で表される構造を複数含むため、複数の4価の有機基Rと複数の2価の有機基Rが含まれる。ここで、複数の4価の有機基Rと複数の2価の有機基Rはそれぞれ、全て同じ構造を有してもよいし、異なる構造を有してもよい。 In addition, since the polyimide resin of the present invention includes a plurality of structures represented by the general formula (1), a plurality of tetravalent organic groups R 1 and a plurality of divalent organic groups R 2 are included. Here, each of the plurality of tetravalent organic groups R 1 and the plurality of divalent organic groups R 2 may have the same structure or different structures.

<Rについて>
は、4価の有機基を示し、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されない。Rとしては、具体的には、テトラカルボン酸二無水物類が挙げられる。テトラカルボン酸二無水物類としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物類、フッ素基を含有する芳香族テトラカルボン酸二無水物及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
さらに具体的には、以下のものが挙げられる。
<For R 1>
R 1 represents a tetravalent organic group and is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention. Specific examples of R 1 include tetracarboxylic dianhydrides. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include aromatic tetracarboxylic dianhydrides, fluorine-containing aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and aliphatic tetracarboxylic dianhydrides.
More specifically, the following are mentioned.

(芳香族テトラカルボン酸二無水物類)
ピロメリット酸二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンジカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンジカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,6,6’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(4-フェノキシフェニル)プロパンテトラカルボン酸二無水物、4,4‘−(4,4’-イソプロピリデン
ジフェノキシ)ビス(無水フタル酸)等
(Aromatic tetracarboxylic dianhydrides)
Pyromellitic dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Methane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2 , 3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxy) Phenyl) ether dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4,4- (p- Phenylene Oxy) diphthalic dianhydride, 4,4- (m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenedicarboxylic Acid dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 6,6′-biphenyltetracarboxylic acid Dianhydrides, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, and 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic acid Anhydride, 2,2-bis (4-phenoxyphenyl) propanetetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-(4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis (phthalic anhydride), etc.

(フッ素基を含有する芳香族テトラカルボン酸二無水物)
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物等
(Aromatic tetracarboxylic dianhydrides containing fluorine groups)
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1 , 1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, etc.

(脂肪族テトラカルボン酸二無水物)
エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、4-(2,5-ジオキ
ソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸無水物、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフリル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン
酸無水物、1,2,3,4-テトラメチル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ト
リシクロ[6.4.0.02,7]ドデカン-1,8:2,7-テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、meso-ブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物等
(Aliphatic tetracarboxylic dianhydride)
Ethylenetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1 , 2,4,5-Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4- Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, tricyclo [6.4.0.0 2,7 ] dodecane-1,8: 2,7-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, etc.

<Rについて>
は2価の有機基であれば特段の制限はないが、具体的な例としては、ジイソシアネート化合物;芳香族ジアミン化合物、フッ素基を含有する芳香族ジアミン化合物、脂肪族ジアミン化合物等のジアミン化合物の構成単位 等が挙げられる。さらに具体的な例としては、以下のものが挙げられる。
<For R 2>
R 2 is not particularly limited as long as R 2 is a divalent organic group. Specific examples thereof include diisocyanate compounds; diamines such as aromatic diamine compounds, aromatic diamine compounds containing fluorine groups, and aliphatic diamine compounds. Examples of the structural unit of the compound. More specific examples include the following.

(ジイソシアネート)
4,4'-ジイソシアナト-3,3'-ジメチルビフェニル、2,2-ビス(4-イソシアナトフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、4,4'-ジイソシアナト-3,3'-ジメチルジフェニルメタン、1,5-
ジイソシアナトナフタレン、4,4'-ジイソシアン酸メチレンジフェニル、ジイソシアン酸1,3-フェニレン、1,4-フェニレンジイソシアナート等
(Diisocyanate)
4,4'-Diisocyanato-3,3'-dimethylbiphenyl, 2,2-bis (4-isocyanatophenyl)
Hexafluoropropane, 4,4'-diisocyanato-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 1,5-
Diisocyanato naphthalene, methylene diphenyl 4,4'-diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, etc.

(ジアミン化合物)
(芳香族ジアミン化合物)
4,4'-(9-フルオレニリデン)ジアニリン、2,7-ジアミノフルオレン、1,5-ジアミノナフ
タレン、3,7-ジアミノ-2,8-ジメチルジベンゾチオフェン5,5-ジオキシド、4,4'-(ビフェ
ニル-2,5-ジイルビスオキシ)ビスアニリン、1,4−フェニレンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ネオペンタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、N−(4−アミノフェノキシ)−4−アミノベンズアミン、2,2‘−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ノルボルナンジアミン等
(フッ素基を含有する芳香族ジアミン化合物)
4,4‘−ジアミノー2−(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテル、5-トリフルオロメチル-1,3-ベンゼンジアミン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,2−ビス[4−{4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェノ
キシ}フェニル]ヘキサフルオロプロパン等
(脂肪族ジアミン化合物)
1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)等
(Diamine compound)
(Aromatic diamine compound)
4,4 '-(9-fluorenylidene) dianiline, 2,7-diaminofluorene, 1,5-diaminonaphthalene, 3,7-diamino-2,8-dimethyldibenzothiophene 5,5-dioxide, 4,4'- (Biphenyl-2,5-diylbisoxy) bisaniline, 1,4-phenylenediamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, bis (4- (4 -Aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) neopentane, 4,4'-diamy -3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diamino-3,3'- Dihydroxybiphenyl, bis (4-amino-3-carboxyphenyl) methane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, N- (4-aminophenoxy) -4-aminobenzamine, 2 , 2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, bis (3-aminophenyl) sulfone, norbornanediamine, etc. (aromatic diamine compound containing a fluorine group)
4,4′-diamino-2- (trifluoromethyl) diphenyl ether, 5-trifluoromethyl-1,3-benzenediamine, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 4, 4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,2-bis [4- {4-amino-2- (trifluoromethyl) phenoxy} phenyl] hexafluoropropane, etc. (aliphatic diamine Compound)
1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2-methyl) (Cyclohexylamine) etc.

がジアミン化合物である場合、Rは一般式(2)で表される2価の有機基であることが、有機溶剤への溶解性が向上するだけでなく、熱可塑性も向上するため好ましい。また、耐熱性、強靭な樹脂成型体が得られ、無色透明性が高くなり、経時劣化による着色を低減できる点で好ましい。 When R 2 is a diamine compound, R 2 is a divalent organic group represented by the general formula (2) because not only the solubility in an organic solvent is improved but also the thermoplasticity is improved. preferable. Moreover, it is preferable at the point from which the heat-resistant and tough resin molding is obtained, colorless transparency becomes high, and coloring by time-dependent deterioration can be reduced.

Figure 2014118463
Figure 2014118463

[一般式(2)中、環A及び環Aは各々独立して、置換基を有していてもよい脂環炭
化水素基、又は、置換基を有していてもよい芳香族基を示し、
p、qは各々独立して、0以上、10以下の整数を示す。
は直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−基、−NH−基、又は−O−C2z−O−基(zは1〜5の整数)を示す。ただし、p及びqがともに0になることはない。
及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。p又はqが2以上である場合、複数のY、Y、環A及び環Aは、各々異なっていてもよい。)
[In General Formula (2), Ring A 1 and Ring A 2 are each independently an alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic group which may have a substituent. Indicate
p and q each independently represent an integer of 0 or more and 10 or less.
X 1 is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, an aromatic group which may have a substituent,- NH-C (= O) - group shown, -NH- group, or -O-C z H 2z -O- based (z is an integer of from 1 to 5). However, neither p nor q is 0.
Y 1 and Y 2 each independently represent a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, or a carbonyl group. When p or q is 2 or more, the plurality of Y 1 , Y 2 , ring A 1 and ring A 2 may be different from each other. )

環A及び環Aの脂肪族環としては、特段の制限はないが、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ノルボルナン環
、ノルボルネン環、ヒドリンダン環、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環などの、炭素数3〜30のものが挙げられる。これらの中でもシクロヘキサン環、シクロペンタン環、及びノルボルナン環が、ポリイミド樹脂成型体の透明性、機械物性及び耐熱性の点から好ましい。
The aliphatic ring of ring A 1 and ring A 2 is not particularly limited, but is a cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, norbornane ring, norbornene ring, hydrindane ring, decahydro ring The thing of 3-30 carbon atoms, such as a naphthalene ring and an adamantane ring, is mentioned. Among these, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, and a norbornane ring are preferable from the viewpoints of transparency, mechanical properties, and heat resistance of the polyimide resin molded body.

環A及び環Aの芳香族環としては、特段の制限はないが、それぞれ独立に、例えば芳香族炭化水素環及び芳香族複素環が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、フェナントレン基、トリフェニレン基、ターフェニレン基、ピニレン基及びフルオレン基等が挙げられる。環A及び環Aの芳香族炭化水素基は、炭素数6以上が好ましく、また、30以下、さらに25以下であることが好ましい。炭素数がこの範囲であることで、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性が向上する傾向にある。
芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基、キノリレン基等が挙げられる。環A及び環Aの芳香族炭化水素基は、炭素数2以上が好ましく、また、30以下、更には25以下であることが好ましい。炭素数がこの範囲であることで、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性が向上する傾向にある。
環A及び環Aの芳香族環の中でも、ベンゼン環、ビフェニレン環、及びターフェニル環が好ましい。また、環A及び環Aである芳香族環又は脂肪族環について、Y、Y、又はXに結合する位置は特に限定されない。
The aromatic rings of the ring A 1 and the ring A 2 are not particularly limited, but examples thereof include an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring, independently.
Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a phenanthrene group, a triphenylene group, a terphenylene group, a pinylene group, and a fluorene group. The aromatic hydrocarbon group for ring A 1 and ring A 2 preferably has 6 or more carbon atoms, preferably 30 or less, and more preferably 25 or less. When the carbon number is within this range, the mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded product tend to be improved.
Specific examples of the aromatic heterocyclic group include a pyridylene group and a quinolylene group. The aromatic hydrocarbon group for ring A 1 and ring A 2 preferably has 2 or more carbon atoms, preferably 30 or less, and more preferably 25 or less. When the carbon number is within this range, the mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded product tend to be improved.
Among the aromatic rings of ring A 1 and ring A 2 , a benzene ring, a biphenylene ring, and a terphenyl ring are preferable. Further, the aromatic ring or aliphatic ring which is ring A 1 and ring A 2, Y 2, Y 3 , or point of attachment to the X 2 is not particularly limited.

環A及び環Aの芳香族環又は脂肪族環が有していてもよい置換基としては例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、及びヒドロキシル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、及び塩素原子などが挙げられる。アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャリーブチル基などの、炭素数1〜20のものが挙げられる。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ターシャリーブトキシ基などの、炭素数1〜20のものが挙げられる。 Examples of the substituent that the aromatic ring or the aliphatic ring of ring A 1 and ring A 2 may have include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a hydroxyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, and a chlorine atom. Examples of the alkyl group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a tertiary butyl group. Examples of the alkoxy group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, and a tertiary butoxy group.

一般式(2)においてp、qは各々独立して、0以上、好ましくは1以上の整数であり、一方、10以下、好ましくは5以下の整数である。   In the general formula (2), p and q are each independently an integer of 0 or more, preferably 1 or more, and on the other hand, an integer of 10 or less, preferably 5 or less.

式(2)においてXは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2z−O−を示す。但し、zは1〜5の整数を示す。
これらの中でも、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から、直接結合、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルフィニル基、又はスルホニル基であることが好ましく、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、又はスルフィニル基であることが特に好ましい。
In Formula (2), X 1 may have a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or a substituent. An aromatic group, —NH—C (═O) —, —NH—, or —O—C z H 2z —O— is shown. However, z shows the integer of 1-5.
Among these, from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded body, a direct bond, an oxygen atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfinyl group, or a sulfonyl group is preferable, and an oxygen atom In particular, an alkylene group which may have a substituent or a sulfinyl group is particularly preferable.

のアルキレン基としては、特段の制限はないが、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から、炭素数1〜20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜10のアルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基の具体的な例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、及び2,2−プロパンジイル基などが挙げられる。 The alkylene group for X 1 is not particularly limited, but is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded body. More preferably, it is a group. Specific examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, and a 2,2-propanediyl group.

の芳香族基とは、特段の制限はないが、例えば芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が挙げられる。具体的には環Aで挙げたものと同義である。Xの芳香族炭化水素基は、炭素数6以上が好ましく、また、30以下であることが好ましく、25以下であることが、ポリイミドフィルムの機械物性及び耐熱性の点から好ましい。また、Xの芳香族
複素環基は、炭素数2以上が好ましく、30以下であることが好ましく、25以下であることが、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から好ましい。Xの芳香族環の中でも、フェニレン基、ナフチレン基、及びピリジレン基が特に好ましい。
The aromatic group for X 1 is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon group and an aromatic heterocyclic group. Specifically the same meanings as those mentioned ring A 1. The aromatic hydrocarbon group for X 1 preferably has 6 or more carbon atoms, preferably 30 or less, and preferably 25 or less from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide film. Further, the aromatic heterocyclic group of X 1 preferably has 2 or more carbon atoms, preferably 30 or less, and preferably 25 or less from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded body. Among the aromatic ring of X 1, a phenylene group, a naphthylene group and a pyridylene group, it is particularly preferred.

のアルキレン基又は芳香族基が有していてもよい置換基としては、例えば炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基などが挙げられる。これらの置換基にさらにフッ素原子、塩素原子などのハロゲン原子などが置換していてもよい。 Examples of the substituent that the alkylene group or aromatic group of X 1 may have include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a carboxyl group, and an epoxy group. These substituents may be further substituted with a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.

及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。その中でも、直接結合又は酸素原子が好ましい。なお、p又はqが2以上である場合、複数のY及びYが存在するが、これら複数のY及びYは同じ構造であってもよいし、互いに異なる構造であってもよい。ここで、置換基を有していてもよいアルキレン基としては、Xについて挙げたものと同様のものを用いることができる。 Y 1 and Y 2 each independently represent a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, or a carbonyl group. Among these, a direct bond or an oxygen atom is preferable. In addition, when p or q is 2 or more, there are a plurality of Y 1 and Y 2, but the plurality of Y 1 and Y 2 may have the same structure or may have different structures. . Here, as the alkylene group which may have a substituent, the same groups as those mentioned for X 1 can be used.

一般式(1)のRのより好ましい例としては、以下の一般式(3)又は(4)に示されるものが挙げられる。 More preferable examples of R 2 in the general formula (1) include those represented by the following general formula (3) or (4).

Figure 2014118463
Figure 2014118463

一般式(3)は、一般式(2)においてp=2かつq=2の場合に相当する。一般式(3)において、環A22及び環A23は、一般式(2)における環Aと同義であり、環A24及び環A25は、一般式(2)における環Aと同義である。また、Y12及びY13は、一般式(2)におけるYと同義であり、Y14及びY15は、一般式(2)におけるYと同義である。また、Xは、一般式(2)におけるXと同義である。それぞれ、有していていても良い置換基も同義である。
式(2)と同様に、環A22、環A23、環A24及び環A25、Y12〜Y15はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
The general formula (3) corresponds to the case where p = 2 and q = 2 in the general formula (2). In general formula (3), ring A 22 and ring A 23 are synonymous with ring A 1 in general formula (2), and ring A 24 and ring A 25 are synonymous with ring A 2 in general formula (2). It is. Y 12 and Y 13 are synonymous with Y 1 in the general formula (2), and Y 14 and Y 15 are synonymous with Y 2 in the general formula (2). Further, X 5 has the same meaning as X 1 in the general formula (2). The substituents that each may have are also synonymous.
Similarly to formula (2), ring A 22 , ring A 23 , ring A 24 and rings A 25 , Y 12 to Y 15 may be the same or different.

式(3)において、環A22、環A23、環A24及び環A25はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族環であることが、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から好ましい。この中でも、フェニレン基であることがより好ましく、有していても良い置換基としては塩素原子等のハロゲン原子であることが好ましい。
また、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から、Y12及びY13は、直接結合、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましく、Y14及びY15は、直接結合であることが好ましい。
In the formula (3), the ring A 22 , the ring A 23 , the ring A 24 and the ring A 25 are each independently an aromatic ring which may have a substituent. From the viewpoint of heat resistance. Among these, a phenylene group is more preferable, and a substituent that may be present is preferably a halogen atom such as a chlorine atom.
Further, from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded body, Y 12 and Y 13 are preferably a direct bond, an oxygen atom or a sulfur atom, and Y 14 and Y 15 may be a direct bond. preferable.

式(4)は、式(2)においてp=1かつq=1の場合に相当する。式(4)において、環A26及び環A27は、式(2)における環A及び環Aと同義であり、有していても良い置換基も同義である。また、Y16及びY17は、式(2)におけるY及びYと同義であり、有していても良い置換基も同義である。ここで、環A26と環A27とが同じ構造であることも好ましく、Y16とY17とが同じ構造であることもまた好ましい。 Equation (4) corresponds to the case where p = 1 and q = 1 in Equation (2). In the formula (4), the ring A 26 and the ring A 27 are synonymous with the ring A 1 and the ring A 2 in the formula (2), and the substituents that may be present are also synonymous. Y 16 and Y 17 are synonymous with Y 1 and Y 2 in Formula (2), and the substituents that may be present are also synonymous. Here, it is also preferable that the ring A 26 and the ring A 27 have the same structure, and it is also preferable that Y 16 and Y 17 have the same structure.

式(4)において、環A26及び環A27は、それぞれ独立に、ポリイミド樹脂成型体の機械物性及び耐熱性の点から、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環であることが好ましい。この中でも置換基を有していてもよい芳香族環であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましく、有していても良い置換基としては塩素原子等のハロゲン原子であることが好ましい。また、Y16は、直接結合、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましく、Y17は、直接結合であることが好ましい。 In formula (4), ring A 26 and ring A 27 each independently have an aromatic ring or substituent which may have a substituent from the viewpoint of mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin molded article. It is preferably an aliphatic ring which may be used. Among these, an aromatic ring which may have a substituent is preferable, a phenylene group is more preferable, and a substituent which may have a halogen atom such as a chlorine atom is preferable. . Y 16 is preferably a direct bond, an oxygen atom or a sulfur atom, and Y 17 is preferably a direct bond.

一般式(1)のRの具体的な例としては、以下に示すジアミン化合物の構成単位が挙げられる。すなわち、以下に示すジアミン化合物から2つの第一級アミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基を、Rとして用いることができる。
このようなジアミン化合物の具体例としては、1,4−フェニレンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ネオペンタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、N−(4−アミノフェノキシ)−4−アミノベンズアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,2−ビス[4−{4−アミノ−2−(トリフルオロメチル)フェノキシ}フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2‘−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ノルボルナンジアミンなどが挙げられる。この中でも、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、N-(4-アミノフェノキシ)-4-アミノベンズアミド又は4,
4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)からアミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基をRとして有することが、耐熱性、機械強度及び無色透明性が同時に達成されうる点で好ましい。
Specific examples of R 2 in the general formula (1) include structural units of diamine compounds shown below. That is, the divalent groups derived by removing two primary amino groups from a diamine compound shown below, can be used as R 2.
Specific examples of such diamine compounds include 1,4-phenylenediamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, bis (4- (4-amino) Phenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) neopentane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethylbiphenyl, 4, 4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-di Mino-3,3′-dihydroxybiphenyl, bis (4-amino-3-carboxyphenyl) methane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, N- (4-aminophenoxy)- 4-aminobenzamine, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2-methylcyclohexylamine), 2,2-bis (4- (4-amino Phenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,2-bis [4- {4-amino-2- (trifluoromethyl) phenoxy} Phenyl] hexafluoropropane, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, bis 3-aminophenyl) sulfone, etc. norbornane diamine. Among these, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 4 , 4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl, N- (4-aminophenoxy) -4-aminobenzamide or 4,
Having a divalent substituent obtained by removing an amino group from 4′-methylenebis (cyclohexylamine) as R 2 is preferable in that heat resistance, mechanical strength, and colorless transparency can be achieved simultaneously.

本発明のポリイミド樹脂成型体に用いられるポリイミド樹脂の中でも、一般式(5)で表されるビシクロヘキサン骨格を有するテトラカルボン酸残基によって構成される1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物を用いることが好ましい。このようにビシクロヘキサン骨格を有するテトラカルボン酸残基によって構成されるポリイミド樹脂成型体は、ビフェニルのような芳香族環、又は単環の脂肪族環を骨格として有するテトラカルボン酸残基によって構成されるポリイミド樹脂成型体と比較して、着色の減少、及び溶解性の向上という効果が得られうる。また、これらポリイミド樹脂成型体は耐熱性及び無色透明性に優れている。   Among the polyimide resins used in the polyimide resin molding of the present invention, 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′ constituted by a tetracarboxylic acid residue having a bicyclohexane skeleton represented by the general formula (5) 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4,4′-dianhydride is preferably used. Thus, a polyimide resin molded article constituted by a tetracarboxylic acid residue having a bicyclohexane skeleton is constituted by an aromatic ring such as biphenyl or a tetracarboxylic acid residue having a monocyclic aliphatic ring as a skeleton. Compared with the polyimide resin molded body, the effect of reducing coloring and improving solubility can be obtained. Moreover, these polyimide resin moldings are excellent in heat resistance and colorless transparency.

Figure 2014118463
Figure 2014118463

[一般式(5)中
は2価の有機基を示し、
aは1以上の整数を示し、aが2以上の場合、一般式(5)で示される構造1分子中に複数存在するRは同一であっても異なっていても良い。]
[In the general formula (5), R 3 represents a divalent organic group,
a represents an integer of 1 or more, and when a is 2 or more, a plurality of R 3 present in one molecule of the structure represented by the general formula (5) may be the same or different. ]

の2価の有機基は、一般式(1)のRと同義であり、有していても良い置換基も同義である。
aは、1以上の整数であり、本発明の効果を損なわない範囲であれば、上限は特に無いが、一般式(5)で示されるポリイミド樹脂成型体に用いられるポリイミド樹脂の質量平均分子量が好ましくは40000以上、更に好ましくは50000以上となるようにaを
定めることが、ポリイミドフィルムの強度の点から好ましい。
The divalent organic group of R 3 has the same meaning as R 2 in the general formula (1), and the substituent that may be present is also the same.
a is an integer of 1 or more, and there is no particular upper limit as long as the effect of the present invention is not impaired, but the mass average molecular weight of the polyimide resin used for the polyimide resin molded body represented by the general formula (5) is It is preferable from the viewpoint of the strength of the polyimide film that a is preferably set to 40000 or more, more preferably 50000 or more.

式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物には、1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物の他に、本実施形態に係るポリイミド樹脂成型体の耐熱性、無色透明性などの各種物性を損なわない程度に、他のテトラカルボン酸二無水物を混合しても良い。混合されるテトラカルボン酸二無水物は1種でも良いし、2種以上であっても良い。   The tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (5) includes 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4,4′-2. In addition to the anhydride, other tetracarboxylic dianhydrides may be mixed to such an extent that various physical properties such as heat resistance and colorless transparency of the polyimide resin molding according to this embodiment are not impaired. The tetracarboxylic dianhydride to be mixed may be one type or two or more types.

本発明のポリイミド樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、通常1.0×10以上、好ましくは5.0×10以上、より好ましくは1.0×10以上である。一方、通常1.0×10以下、好ましくは8.0×10以下、より好ましくは5.0×10以下である。溶解性、溶液粘度、溶融粘度などが通常の製造設備で扱いやすい範囲となる点でこの範囲が好ましい。ポリイミド樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)等により求めることができる。 The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of the polyimide resin of the present invention is usually 1.0 × 10 3 or more, preferably 5.0 × 10 3 or more, more preferably 1.0 × 10 4 or more. On the other hand, it is usually 1.0 × 10 6 or less, preferably 8.0 × 10 5 or less, more preferably 5.0 × 10 5 or less. This range is preferable in that solubility, solution viscosity, melt viscosity, and the like are in a range that can be easily handled by ordinary production equipment. The polystyrene-reduced weight average molecular weight of the polyimide resin can be determined by gel permeation chromatography (GPC) or the like.

本発明のポリイミド樹脂の数平均分子量(Mn)は、通常5.0×10以上、好ましくは2.5×10以上、より好ましくは5.0×10以上である。一方、通常5.0×10以下、好ましくは4.0×10以下、より好ましくは2.5×10以下である。溶解性、溶液粘度、溶融粘度などが通常の製造設備で扱いやすい範囲となる点でこの範囲が好ましい。ポリイミド樹脂の数平均分子量は、上記重量平均分子量と同様の方法で測定することができる。 The number average molecular weight (Mn) of the polyimide resin of the present invention is usually 5.0 × 10 2 or more, preferably 2.5 × 10 3 or more, more preferably 5.0 × 10 3 or more. On the other hand, it is usually 5.0 × 10 4 or less, preferably 4.0 × 10 4 or less, and more preferably 2.5 × 10 4 or less. This range is preferable in that solubility, solution viscosity, melt viscosity, and the like are in a range that can be easily handled by ordinary production equipment. The number average molecular weight of the polyimide resin can be measured by the same method as the weight average molecular weight.

本発明のポリイミド樹脂の分子量分布(PDI、(重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)))は、通常1以上、好ましくは1.1以上、より好ましくは1.2以上である。一方、通常3以下、好ましくは2.8以下、より好ましくは2.5以下である。
均一性の高いポリイミド成型体が得られるという点で、分子量分布がこの範囲にあることが好ましい。ポリイミド樹脂の分子量分布は、上記重量平均分子量と同様の方法で測定することができる。
The molecular weight distribution (PDI, (weight average molecular weight / number average molecular weight (Mw / Mn))) of the polyimide resin of the present invention is usually 1 or more, preferably 1.1 or more, more preferably 1.2 or more. On the other hand, it is usually 3 or less, preferably 2.8 or less, more preferably 2.5 or less.
The molecular weight distribution is preferably within this range in that a highly uniform polyimide molded body can be obtained. The molecular weight distribution of the polyimide resin can be measured by the same method as the weight average molecular weight.

本発明のポリイミド樹脂の熱機械分析(TMA)(測定条件:測定温度270℃、引張
り加重10g、保持時間60分間、サンプル形状4mm×5mm。厚さ45μm)による溶融伸度(μm)は、好ましくは1.0×10以上、さらに好ましくは1.0×10以上、特に好ましくは1.8×10以上である。一方、好ましくは1.0×10以下、さらに好ましくは5.0×10以下、特に好ましくは1.0×10以下である。1.0×10以上であることにより、溶融成形が容易となる傾向にある。また、1.0×10以下であることにより成形時の垂れなどが抑制される傾向にある。ポリイミド樹脂の熱機械分析(TMA)は、公知の方法、例えば特開2003−155341号公報に記載の方法等で測定することができる。
The melt elongation (μm) by thermomechanical analysis (TMA) of the polyimide resin of the present invention (measurement condition: measurement temperature 270 ° C., tensile load 10 g, holding time 60 minutes, sample shape 4 mm × 5 mm, thickness 45 μm) is preferably Is 1.0 × 10 2 or more, more preferably 1.0 × 10 3 or more, and particularly preferably 1.8 × 10 3 or more. On the other hand, it is preferably 1.0 × 10 5 or less, more preferably 5.0 × 10 4 or less, and particularly preferably 1.0 × 10 4 or less. By being 1.0 × 10 2 or more, melt molding tends to be easy. Further, there is a tendency that such sagging during molding is suppressed by at 1.0 × 10 5 or less. The thermomechanical analysis (TMA) of the polyimide resin can be measured by a known method, for example, the method described in JP-A No. 2003-155341.

本発明のポリイミド樹脂の残留溶媒の濃度には、特段の制限は無いが、20質量%以下が好ましく、さらに好ましくは10質量%以下である。一方、下限に制限はない。ポリイミド樹脂中の溶媒の濃度をこの範囲内に調整することで、ポリイミド樹脂成型体の含有する揮発ガスの低下や、後述する成型体を得る工程(溶融時)において、著しい発泡が見られたり、可燃性ガスが発生したりする問題が生じない傾向にある。
ポリイミド樹脂における溶媒の濃度は、公知の方法、例えば特開2006−70130号公報に記載の方法等で測定することができる。
Although there is no special restriction | limiting in the density | concentration of the residual solvent of the polyimide resin of this invention, 20 mass% or less is preferable, More preferably, it is 10 mass% or less. On the other hand, there is no limit on the lower limit. By adjusting the concentration of the solvent in the polyimide resin within this range, in the process of lowering the volatile gas contained in the polyimide resin molded body and obtaining the molded body described later (at the time of melting), significant foaming is seen, There tends to be no problem of combustible gas generation.
The concentration of the solvent in the polyimide resin can be measured by a known method, for example, the method described in JP-A-2006-70130.

本発明のポリイミド樹脂の示差走査熱量測定法(DSC法)によるガラス転移温度(Tg)は、150℃以上が好ましく、さらに好ましくは200℃以上、より好ましくは250℃以上である。ガラス転移温度が150℃以上であることで、本発明のポリイミド樹脂成型体の耐熱性が向上する傾向にある。
本発明のポリイミド樹脂の熱膨張率は、100〜200℃の範囲において100ppm/K以下であることが好ましく、70ppm/K以下であることがより好ましい。熱膨張率がこのような範囲にあることにより、寸法精度の高い成型体が製造できる傾向にある。
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin of the present invention by differential scanning calorimetry (DSC method) is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher. It exists in the tendency for the heat resistance of the polyimide resin molding of this invention to improve because a glass transition temperature is 150 degreeC or more.
The thermal expansion coefficient of the polyimide resin of the present invention is preferably 100 ppm / K or less, more preferably 70 ppm / K or less in the range of 100 to 200 ° C. When the thermal expansion coefficient is in such a range, a molded body with high dimensional accuracy tends to be manufactured.

本発明のポリイミド樹脂の、膜厚が50±5μmである際の黄色度[イエローインデックス(YI)]は、通常−10以上、好ましくは、−5以上、より好ましくは、−1以上である。一方、通常20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。
本発明のポリイミド樹脂は、溶融成形する成形方法に依存するが、以下のような機械的強度を有することが好ましい。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張強度は、特段の制限はないが、好ましくは50MP
a以上、さらに好ましくは70MPa以上であり、一方、好ましくは400MPa以下、さらに好ましくは300MPa以下である。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張弾性率は、特段の制限はないが、好ましくは1000MPa以上、特に好ましくは1500MPa以上であり、一方、好ましくは20Gpa以下、特に好ましくは10Gpa以下である。
The yellowness [yellow index (YI)] of the polyimide resin of the present invention when the film thickness is 50 ± 5 μm is usually −10 or more, preferably −5 or more, more preferably −1 or more. On the other hand, it is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less.
Although the polyimide resin of the present invention depends on a molding method for melt molding, it preferably has the following mechanical strength.
The tensile strength of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but preferably 50 MP.
a or more, more preferably 70 MPa or more, on the other hand, preferably 400 MPa or less, more preferably 300 MPa or less.
The tensile elastic modulus of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 1000 MPa or more, particularly preferably 1500 MPa or more, and preferably 20 Gpa or less, particularly preferably 10 Gpa or less.

本発明のポリイミド樹脂の溶融粘度は、特段の制限は無いが、330℃において、好ましくは1.0×10 Pa・s以上、より好ましくは1.0×10 Pa・s以上である。一方、好ましくは1.0×10 Pa・s以下、より好ましくは1.0×10
Pa・s以下、さらに好ましくは1.0×10 Pa・s以下、さらに好ましくは5.0×10 Pa・s以下、特に好ましくは3.0×10 Pa・s以下である。1.0×10Pa・s以上の溶融粘度を有するポリイミドは、靭性が高くなり、成型品としての使用に適する点で好ましい。また1.0×10 Pa・s以下の溶融粘度を有するポリイミドは流動性が良好となり、熱可塑成型に適している点で好ましい。
本発明において得られるポリイミド樹脂の溶融粘度は、公知の方法、例えば特開平1−297427号公報に記載の方法等で測定することができる。
The melt viscosity of the polyimide resin of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.0 × 10 1 Pa · s or more, more preferably 1.0 × 10 2 Pa · s or more at 330 ° C. On the other hand, preferably 1.0 × 10 7 Pa · s or less, more preferably 1.0 × 10 5.
Pa · s or less, more preferably 1.0 × 10 4 Pa · s or less, further preferably 5.0 × 10 3 Pa · s or less, and particularly preferably 3.0 × 10 3 Pa · s or less. Polyimide having a melt viscosity of 1.0 × 10 1 Pa · s or higher is preferable in that it has high toughness and is suitable for use as a molded product. Further, a polyimide having a melt viscosity of 1.0 × 10 7 Pa · s or less is preferable in that it has good fluidity and is suitable for thermoplastic molding.
The melt viscosity of the polyimide resin obtained in the present invention can be measured by a known method, for example, the method described in JP-A-1-297427.

本発明のポリイミド樹脂は、特段の制限は無いが、ポリイミド樹脂を得る際に生じた未
反応物や他の添加剤等のポリイミド以外の成分を含んでいても良い。本発明のポリイミド樹脂中に含まれるポリイミドの含有量は、通常50質量%以上、好ましくは80質量%以上であり、一方、上限に制限は無い。ポリイミド樹脂の濃度をこの範囲内に調製することで溶融時の発泡や着色などを抑制でき、良好な作業性を達成しうる傾向にある。
ポリイミド樹脂中の、未反応物であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は特に制限されないが、20質量%以下が好ましく、さらに好ましくは15質量%以下、特に好ましくは10質量%以下であることが好ましい。ポリイミド樹脂中に30%以上のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂が含有すると、ポリイミド樹脂と、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂とが相分離することにより、ポリイミド樹脂に白濁が生じる可能性がある。また、不均一に相分離したポリイミド樹脂を溶融成形に用いた場合、成型体も不均一になって成型体に凹凸や白濁などが生じる可能性がある。
The polyimide resin of the present invention is not particularly limited, but may contain components other than polyimide such as unreacted substances and other additives generated when the polyimide resin is obtained. Content of the polyimide contained in the polyimide resin of this invention is 50 mass% or more normally, Preferably it is 80 mass% or more, on the other hand, there is no restriction | limiting in an upper limit. By adjusting the concentration of the polyimide resin within this range, foaming and coloring at the time of melting can be suppressed, and good workability tends to be achieved.
The ratio of the unreacted polyamic acid resin or polyamic acid ester resin to the polyimide resin in the polyimide resin is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass. The following is preferable. When 30% or more of the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin is contained in the polyimide resin, the polyimide resin and the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin may be phase-separated to cause white turbidity in the polyimide resin. . Moreover, when the polyimide resin phase-separated inhomogeneously is used for melt molding, the molded body may also be non-uniform, and irregularities or cloudiness may occur in the molded body.

また、後述の工程のポリイミド樹脂溶融時の流動性を制御するために、本発明に係るポリイミド樹脂には添加剤が添加されていてもよい。例えば本発明に係るポリイミド樹脂には、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤などのカップリング剤を添加することができる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノエチルトリメトキシシラン、γ−アミノエチルトリプロポキシシラン、γ−アミノエチルトリブトキシシラン、γ−アミノブチルトリエトキシシラン、γ−アミノブチルトリメトキシシラン、γ−アミノブチルトリプロポキシシラン、及びγ−アミノブチルトリブトキシシランなどが挙げられる。
Moreover, in order to control the fluidity | liquidity at the time of the polyimide resin melting of the below-mentioned process, the additive may be added to the polyimide resin which concerns on this invention. For example, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent can be added to the polyimide resin according to the present invention.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltripropoxysilane, γ-aminopropyltributoxysilane, γ-aminoethyltriethoxysilane, γ -Aminoethyltrimethoxysilane, γ-aminoethyltripropoxysilane, γ-aminoethyltributoxysilane, γ-aminobutyltriethoxysilane, γ-aminobutyltrimethoxysilane, γ-aminobutyltripropoxysilane, and γ- Examples include aminobutyl tributoxysilane.

チタンカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−アミノプロピルトリメトキシチタン、γ−アミノプロピルトリプロポキシチタン、γ−アミノプロピルトリブトキシチタン、γ−アミノエチルトリエトキシチタン、γ−アミノエチルトリメトキシチタン、γ−アミノエチルトリプロポキシチタン、γ−アミノエチルトリブトキシチタン、γ−アミノブチルトリエトキシチタン、γ−アミノブチルトリメトキシチタン、γ−アミノブチルトリプロポキシチタン、及びγ−アミノブチルトリブトキシチタンなどが挙げられる。   Examples of the titanium coupling agent include γ-aminopropyltriethoxytitanium, γ-aminopropyltrimethoxytitanium, γ-aminopropyltripropoxytitanium, γ-aminopropyltributoxytitanium, γ-aminoethyltriethoxytitanium, γ -Aminoethyltrimethoxytitanium, gamma-aminoethyltripropoxytitanium, gamma-aminoethyltributoxytitanium, gamma-aminobutyltriethoxytitanium, gamma-aminobutyltrimethoxytitanium, gamma-aminobutyltripropoxytitanium, and gamma- Examples include aminobutyl tributoxy titanium.

本発明に係るポリイミド樹脂は、1種のカップリング剤を含んでいてもよいし、2種以上のカップリング剤を含んでいてもよい。本発明に係るポリイミド樹脂が含有するカップリング剤の量は、得られる膜の物性を向上させる観点から、ポリイミド樹脂に対して、0.1質量%以上、3質量%以下が好ましい。
その他、必要に応じて、例えば、発明の目的を損なわない範囲で、粉末状、粒状、板状、又は繊維状などの、無機系充填剤又は有機系充填剤を配合することができる。
The polyimide resin according to the present invention may contain one type of coupling agent or may contain two or more types of coupling agents. The amount of the coupling agent contained in the polyimide resin according to the present invention is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less with respect to the polyimide resin from the viewpoint of improving the physical properties of the obtained film.
In addition, if necessary, for example, an inorganic filler or an organic filler such as powder, granule, plate, or fiber can be blended within a range that does not impair the object of the invention.

無機系充填剤としては、例えばシリカ、ケイ藻土、バリウムフェライト、酸化ベリリウム、軽石又は軽石バルーンなどの酸化物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム又は塩基性炭酸マグネシウムなどの水酸化物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ドロマイト又はドーソナイトなどの炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸アンモニウム又は亜硫酸カルシウムなどの硫酸塩及び亜硫酸塩;タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスバルーン、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト又はベントナイトなどのケイ酸塩;炭素繊維、カーボンブラック、グラファイト又は炭素中空球などの炭素類;硫化モリブデン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム又はボロン繊維などの粉末状、粒状、板状又は、繊維状の無機質充填剤;金属元素、金属化合物、合金などの粉末状、粒状、繊維状、又はウイスカー状の金属
充填剤;炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア、窒化アルミニウム、炭化チタン、チタン酸カリウムなどの粉末状、粒状、繊維状、又はウイスカー状のセラミックス充填剤などが挙げられる。
Examples of inorganic fillers include oxides such as silica, diatomaceous earth, barium ferrite, beryllium oxide, pumice or pumice balloon; hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide or basic magnesium carbonate; calcium carbonate, Carbonates such as magnesium carbonate, dolomite or dosonite; sulfates and sulfites such as calcium sulfate, barium sulfate, ammonium sulfate or calcium sulfite; talc, clay, mica, asbestos, glass fiber, glass balloon, glass beads, calcium silicate, Silicates such as montmorillonite or bentonite; carbons such as carbon fiber, carbon black, graphite or carbon hollow sphere; molybdenum sulfide, zinc borate, barium metaborate, calcium borate, sodium borate or boron Powder-like, granular, plate-like, or fibrous inorganic fillers such as fibers; Powder-like, granular, fibrous, or whisker-like metal fillers such as metal elements, metal compounds, and alloys; silicon carbide, silicon nitride, Examples thereof include powder fillers such as zirconia, aluminum nitride, titanium carbide, and potassium titanate, granular, fibrous, or whisker-like ceramic fillers.

一方、有機系充填剤としては、例えばモミ殻などの殻繊維、カーボンナノチューブ、フラーレン、木粉、木綿、ジュート、紙細片、セロハン片、芳香族ポリアミド繊維、セルロース繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維、ポリプロピレン繊維、熱硬化性樹脂粉末、及びゴムなどを挙げることができる。
充填剤としては、不織布など平板状に加工したものを用いてもよいし、複数の材料を混ぜて用いてもよい。さらに所望に応じ、樹脂に通常用いられている各種添加剤、例えば滑剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤又は離型剤などを、本発明に係るポリイミド樹脂に配合してもよい。これら各種充填剤及び添加成分は、ポリイミド樹脂を製造するどの工程のどの段階で添加してもよい。
On the other hand, examples of the organic filler include shell fibers such as fir shells, carbon nanotubes, fullerenes, wood flour, cotton, jute, paper strips, cellophane pieces, aromatic polyamide fibers, cellulose fibers, nylon fibers, polyester fibers, Examples thereof include polypropylene fiber, thermosetting resin powder, and rubber.
As a filler, what was processed into flat form, such as a nonwoven fabric, may be used, and a plurality of materials may be mixed and used. Furthermore, if desired, various additives commonly used for resins, such as lubricants, colorants, stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, flame retardants, plasticizers or release agents, You may mix | blend with the polyimide resin which concerns on invention. These various fillers and additive components may be added at any stage of any process for producing the polyimide resin.

<3.ポリイミド樹脂の製造方法>
本発明のポリイミド樹脂の製造方法に、特段の制限は無い。ポリイミド樹脂の製造方法の一例として、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を製造し、得られた前駆体をポリイミド樹脂に変換する方法について説明する。
<3. Manufacturing method of polyimide resin>
There is no special restriction | limiting in the manufacturing method of the polyimide resin of this invention. As an example of a method for producing a polyimide resin, a method for producing a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin, which is a polyimide resin precursor, and converting the obtained precursor into a polyimide resin will be described.

テトラカルボン酸二無水物と、ジアミン化合物からポリアミック酸を得る反応は、従来から知られている条件で行うことができる。テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の添加順序や添加方法には特に限定はない。例えば、溶媒にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを順に投入し、適切な温度で攪拌することにより、ポリアミック酸樹脂は得られうる。   The reaction for obtaining a polyamic acid from tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound can be carried out under conventionally known conditions. There are no particular limitations on the order of addition or addition method of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound. For example, a polyamic acid resin can be obtained by sequentially adding a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound to a solvent and stirring at an appropriate temperature.

ジアミン化合物の量は、テトラカルボン酸二無水物1モルに対して、通常0.8モル以上、好ましくは1モル以上である。一方、通常1.2モル以下、好ましくは1.1モル以下である。ジアミン化合物の量をこのような範囲とすることにより、得られるポリアミック酸樹脂の収率が向上する傾向にある。
溶媒中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の濃度は、反応条件やポリアミック酸樹脂溶液の粘度に応じて適宜設定できる。例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との合計の重量は、特段の制限は無いが、全溶液量に対し、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上であり、一方、通常70質量%以下、好ましくは30質量%以下である。反応基質の量をこのような範囲とすることにより、低コストで収率良くポリアミック酸樹脂が得られる傾向にある。
The amount of the diamine compound is usually 0.8 mol or more, preferably 1 mol or more with respect to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride. On the other hand, it is 1.2 mol or less normally, Preferably it is 1.1 mol or less. By making the quantity of a diamine compound into such a range, it exists in the tendency for the yield of the polyamic acid resin obtained to improve.
The concentration of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound in the solvent can be appropriately set according to the reaction conditions and the viscosity of the polyamic acid resin solution. For example, the total weight of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more with respect to the total amount of the solution, while usually 70%. It is not more than mass%, preferably not more than 30 mass%. By setting the amount of the reaction substrate in such a range, a polyamic acid resin tends to be obtained at a low cost and in a high yield.

反応温度は、特段の制限は無いが、通常0℃以上、好ましくは20℃以上であり、一方、通常100℃以下、好ましくは80℃以下である。反応時間は、特段の制限は無いが、通常1時間以上、好ましくは2時間以上であり、一方、通常100時間以下、好ましくは24時間以下である。このような条件で反応を行うことにより、低コストで収率良くポリアミック酸樹脂が得られる傾向にある。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。   The reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0 ° C. or higher, preferably 20 ° C. or higher, and is usually 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower. The reaction time is not particularly limited, but is usually 1 hour or more, preferably 2 hours or more, while it is usually 100 hours or less, preferably 24 hours or less. By performing the reaction under such conditions, a polyamic acid resin tends to be obtained at a low cost and in a high yield. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

この反応で用いる溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンなどの炭化水素系溶媒;四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びフルオロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン及びメトキシベンゼンなどのエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒;ジメチルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶媒;ピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン及びイソキノリンなどの複素環系溶媒;フェノール及びクレゾールのようなフェノール系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒、などが挙げられるが、特に限定されるものではない。溶媒としては1種の物質を用いることもできるし、2種類以上の物質を混合して用いることもできる。
Solvents used in this reaction include hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene and mesitylene; carbon tetrachloride, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene and fluorobenzene. Halogenated hydrocarbon solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and methoxybenzene; ether solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; N, N-dimethylformamide, N Amide solvents such as N, dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide; pyridine, picoline, lutidine, quinoline and i Heterocyclic solvents such as quinoline; phenol solvents such as phenol and cresol; lactone solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, and δ-valerolactone, etc., but are not particularly limited. . As the solvent, one kind of substance can be used, or two or more kinds of substances can be mixed and used.

前記テトラカルボン酸二無水物と、前記ジアミン化合物とを反応させる事により得られるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂は、主に下記一般式(6)、(7)及び(8)から選ばれる繰り返し単位を少なくとも一つ含む。   The polyamic acid resin or polyamic acid ester resin obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride with the diamine compound is mainly selected from the following general formulas (6), (7) and (8) Contains at least one unit.

Figure 2014118463
Figure 2014118463

一般式(6)、(7)及び(8)において、R10、R14及びR18は、それぞれ独立に、一般式(1)のRと同義であり、有していても良い置換基も同義である。
11、R15及びR19は、それぞれ独立に、一般式(1)のRと同義であり、有していても良い置換基も同義である。
12、R13、R16、R17、R20及びR21は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜14のアルキル基を示す。アルキル基としては特段の制限は無いが、通常炭素数1〜14のアルキル基であり、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基又はイソブチル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子などが挙げられる。
In the general formulas (6), (7) and (8), R 10 , R 14 and R 18 are each independently synonymous with R 1 in the general formula (1) and may have a substituent. Is also synonymous.
R 11 , R 15 and R 19 are each independently synonymous with R 2 in the general formula (1), and the substituents which may be present are also synonymous.
R 12 , R 13 , R 16 , R 17 , R 20 and R 21 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms which may have a substituent. Although there is no special restriction | limiting as an alkyl group, Usually, it is a C1-C14 alkyl group, A C1-C10 alkyl group is preferable, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n- A butyl group or an isobutyl group is more preferable, and a methyl group or an ethyl group is still more preferable. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom.

本実施形態で得られるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂において、一般式(6)〜一般式(8)の存在比は特に限定されない。本実施形態に係るポリイミド樹脂は、このようにして得られたポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を
、後述の方法でポリイミド樹脂化することにより得られる。
In the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin obtained in the present embodiment, the abundance ratio of the general formulas (6) to (8) is not particularly limited. The polyimide resin according to the present embodiment is obtained by converting the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin thus obtained into a polyimide resin by a method described later.

本発明に係るポリイミド樹脂は、このようにして得られたポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を、後述の方法でイミド化することにより得られる。   The polyimide resin according to the present invention can be obtained by imidizing the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin thus obtained by the method described later.

<イミド化>
上述のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を、溶媒存在下で脱水環化又は脱アルコール環化(以下、まとめてイミド化と称する)することにより、ポリイミド樹脂が生成する。本方法は、溶融時の流動性の高いポリイミド樹脂が得られる点で好ましい。
<Imidization>
The polyamic acid resin or polyamic acid ester resin described above is subjected to dehydration cyclization or dealcoholization cyclization (hereinafter collectively referred to as imidization) in the presence of a solvent to produce a polyimide resin. This method is preferable in that a polyimide resin having high fluidity upon melting can be obtained.

イミド化は、従来から知られている任意の方法を用いて行うことができるが、例えば、熱的に環化させる加熱イミド化、及び化学的に環化させる化学イミド化が挙げられる。これらのイミド化反応は単独で使用しても両者を組み合わせて用いても良い。   The imidization can be performed using any conventionally known method, and examples thereof include thermal imidization by thermal cyclization and chemical imidization by chemical cyclization. These imidization reactions may be used alone or in combination.

(加熱イミド化)
以下に溶液中における加熱イミド化の方法について説明する。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下で加熱することにより、ポリイミド樹脂溶液を得ることができる。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂をイミド化する際に使用する溶媒は、前記ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を得る反応時に使用する溶媒が挙げられる。その中でも、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒がポリアミック酸樹脂、ポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂の溶解性が高く、且つ沸点が高くイミド化反応が効率よく進行するため好ましい。
(Heat imidization)
Below, the method of the heat imidation in a solution is demonstrated.
A polyimide resin solution can be obtained by heating a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used when imidizing the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin include the solvents used in the reaction for obtaining the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin. Among them, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are highly soluble in polyamic acid resin, polyamic acid ester resin and polyimide resin, and have a boiling point. This is preferable because the imidization reaction proceeds efficiently.

この場合、イミド化反応によって生じた水(又はアルコール)は閉環反応を阻害するため、反応系外に排出されることが好ましい。例えば、トルエン、キシレンなどの共沸溶媒を混合して水と共沸させることにより、水を系外に排出する方法を用いてもよい。
イミド化反応溶液のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の濃度に特に制限は無いが、通常5質量%以上、好ましくは10質量%以上、さらに好ましくは20質量%以上、また通常80質量%以下、好ましくは60質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下である。5質量%以上であることで生産効率が高い点で好ましく、また80質量%以下であることで通常の製造設備で取り扱いやすい溶液粘度となる点で好ましい。
In this case, water (or alcohol) generated by the imidization reaction inhibits the ring closure reaction, and thus is preferably discharged out of the reaction system. For example, a method may be used in which water is discharged out of the system by mixing an azeotropic solvent such as toluene or xylene and azeotroping with water.
The concentration of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the imidization reaction solution is not particularly limited, but is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and usually 80% by mass or less. Preferably it is 60 mass% or less, More preferably, it is 40 mass% or less. 5 mass% or more is preferable in terms of high production efficiency, and 80 mass% or less is preferable in that the solution viscosity is easy to handle with ordinary manufacturing equipment.

イミド化反応温度は、特に制限は無いが、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、さらに好ましくは120℃以上、また通常300℃以下、好ましくは280℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。50℃以上であることでイミド化反応が効率よく進行する点で好ましく、300℃以下であることでイミド化反応以外の副反応が抑制される点で好ましい。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。   The imidation reaction temperature is not particularly limited, but is usually 50 ° C or higher, preferably 80 ° C or higher, more preferably 120 ° C or higher, and usually 300 ° C or lower, preferably 280 ° C or lower, more preferably 250 ° C or lower. . It is preferable in that the imidization reaction proceeds efficiently when it is 50 ° C. or higher, and it is preferable in that the side reaction other than the imidization reaction is suppressed when it is 300 ° C. or lower. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

また、イミド化を促進する触媒として三級アミン類などを加えることもできる。具体的にはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、イミダゾール、ピリジン、キノリン、及びイソキノリンなどを、触媒として用いることができる。触媒の使用量は、カルボキシル基又はエステル基に対して0.1〜100モル%であること好ましく、1〜10モル%であることがより好ましい。触媒の使用量がこのような範囲にあることにより、低コストで収率良
く反応を行うことができる。
Moreover, tertiary amines etc. can also be added as a catalyst which accelerates | stimulates imidation. Specifically, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tritanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, triethylenediamine, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, N- Methylpiperidine, N-ethylpiperidine, imidazole, pyridine, quinoline, isoquinoline, and the like can be used as a catalyst. The amount of the catalyst used is preferably from 0.1 to 100 mol%, more preferably from 1 to 10 mol%, based on the carboxyl group or ester group. When the amount of the catalyst used is in such a range, the reaction can be performed at a low cost and with a high yield.

(化学イミド化)
以下にイミド化の方法として化学イミド化を用いる場合を説明する。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下で化学的にイミド化することにより、ポリイミド樹脂溶液を得ることができる。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂をイミド化する際に使用する溶媒は、前記加熱イミド化の溶媒が挙げられる。
(Chemical imidization)
The case where chemical imidation is used as the imidation method will be described below.
A polyimide resin solution can be obtained by chemically imidizing a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used when imidizing the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin include the solvent for the heating imidization.

イミド化反応溶液のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の濃度に特に制限は無いが、好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上、特に好ましくは20質量%以上であり、また好ましくは80質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下、特に好ましくは40質量%以下である。5質量%以上であることで生産効率が高い点で好ましく、また80%以下であることで通常の製造設備で取り扱いやすい溶液粘度となる点で好ましい。イミド化反応温度は、特に制限は無いが、好ましくは50℃以上、さらに好ましくは80℃以上、特に好ましくは120℃以上、また好ましくは300℃以下、さらに好ましくは280℃以下、特に好ましくは250℃以下である。50℃以上であることでイミド化反応が効率よく進行する点で好ましく、300℃以下であることでイミド化反応以外の副反応が抑制される点で好ましい。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。   The concentration of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the imidization reaction solution is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, particularly preferably 20% by mass or more, and preferably It is 80 mass% or less, More preferably, it is 60 mass% or less, Most preferably, it is 40 mass% or less. 5% by mass or more is preferable in terms of high production efficiency, and 80% or less is preferable in that the solution viscosity is easy to handle with ordinary production equipment. The imidation reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or lower, more preferably 280 ° C. or lower, particularly preferably 250. It is below ℃. It is preferable in that the imidization reaction proceeds efficiently when it is 50 ° C. or higher, and it is preferable in that the side reaction other than the imidization reaction is suppressed when it is 300 ° C. or lower. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

また、イミド化を促進する触媒として三級アミン類などを加熱イミド化と同様に加えることもできる。
脱水縮合剤として、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド又はN,N−ジフェニルカルボジイミド等のN,N−2置換カルボジイミド;無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物;塩化チオニル又は塩化トシルのような塩化物;アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、アセチルフルオライド、プロピオニルクロライド、プロピオニルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、プロピオニルフルオライド、イソブチリルクロライド、イソブチリルブロマイド、イソブチリルアイオダイド、イソブチリルフルオライド、n−ブチリルクロライド、n−ブチリルブロマイド、n−ブチリルアイオダイド、n−ブチリルフルオライド、モノ−,ジ−,トリ−クロロアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−ブロモアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−アイオドアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−フルオロアセチルクロライド、無水クロロ酢酸、フェニルホスフォニックジクロライド、チオニルクロライド、チオニルブロマイド、チオニルアイオダイド又はチオニルフルオライド等のハロゲン化化合物;三塩化リン、亜リン酸トリフェニル又はジエチルリン酸シアニドのようなリン化合物等を加えることができる。これらの脱水縮合剤の使用量は、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂骨格1molに対して、通常0.5mol、好ましくは1mol以上、一方、通常20mol以下、好ましくは10mol以下である。これらは単独で使用する事ができ、2種類以上を併用する事もできる。
また、本発明で用いられるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂、本発明により得られる及びポリイミド樹脂は、必要に応じて末端封止されていても良い。末端封止することで、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂末端の重合性が低下し、ポリイミド樹脂溶液の粘度又はポリイミド樹脂の溶融粘度が安定する点で好ましい。
Further, a tertiary amine or the like can be added as a catalyst for promoting imidization in the same manner as in the heating imidization.
N, N-2-substituted carbodiimide such as N, N-dicyclohexylcarbodiimide or N, N-diphenylcarbodiimide; acid anhydride such as acetic anhydride or trifluoroacetic anhydride; chloride such as thionyl chloride or tosyl chloride Acetyl chloride, acetyl bromide, propionyl iodide, acetyl fluoride, propionyl chloride, propionyl bromide, propionyl iodide, propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, isobutyryl iodide, isobutyryl fluoride Ride, n-butyryl chloride, n-butyryl bromide, n-butyryl iodide, n-butyryl fluoride, mono-, di-, tri-chloroacetyl chloride, mono-, di-, tri- Lomoacetyl chloride, mono-, di-, tri-iodoacetyl chloride, mono-, di-, tri-fluoroacetyl chloride, chloroacetic anhydride, phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl iodide or thionyl fluoride Halide compounds such as rides; phosphorus compounds such as phosphorus trichloride, triphenyl phosphite, or cyanide diethyl phosphate can be added. The amount of these dehydrating condensing agents to be used is usually 0.5 mol, preferably 1 mol or more, and usually 20 mol or less, preferably 10 mol or less, relative to 1 mol of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin skeleton. These can be used alone or in combination of two or more.
Further, the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin used in the present invention, the polyimide resin obtained by the present invention and the polyimide resin may be end-capped as necessary. By end-capping, the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin and polyimide resin terminal polymerizability are lowered, and this is preferable in that the viscosity of the polyimide resin solution or the melt viscosity of the polyimide resin is stabilized.

末端封止方法は、限定されるものではなく、従来公知のいずれの方法を用いても良い。ポリアミック酸樹脂、ポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂を調製するどの段階で封止しても良い。好ましい方法としては、末端封止剤を用いる方法が挙げられる。例えば末端封止剤を用いて封止する場合、その末端封止剤としては、従来公知の何れのもの
を用いても構わないが、例えば、末端アミノ基を封止する際の末端封止剤としては、無水フタル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4−メチルシクロヘキサンー1,2−ジカルボン酸無水物又は(2−メチル−2−プロペニル)コハク酸無水物等の酸無水物;安息香酸クロリド等のような有機酸クロリドがあげられる。また、末端酸無水物基を封止する際の末端封止剤としては、3−アミノフェニルアセチレン、アニリン又はシクロヘキシルアミン等のようなアミン化合物が挙げられる。
The terminal sealing method is not limited, and any conventionally known method may be used. You may seal in any step which prepares a polyamic acid resin, a polyamic acid ester resin, and a polyimide resin. A preferable method includes a method using a terminal blocking agent. For example, when sealing with a terminal blocking agent, as the terminal blocking agent, any conventionally known blocking agent may be used. For example, the terminal blocking agent used when sealing a terminal amino group is used. As acid anhydrides such as phthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride or (2-methyl-2-propenyl) succinic anhydride; And organic acid chlorides such as benzoic acid chloride. In addition, examples of the terminal blocking agent for sealing the terminal acid anhydride group include amine compounds such as 3-aminophenylacetylene, aniline, and cyclohexylamine.

<ポリイミド樹脂溶液の組成>
本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の濃度は、特段の制限は無いが、好ましくは1質量%以上、さらに好ましくは5質量%以上であり、一方、好ましくは80質量%以下、さらに好ましくは50質量%以下である。溶液中のポリイミド樹脂の濃度をこの範囲内に調整することで、反応中の極端な粘度上昇を抑制でき、つづく固体化のプロセスにおいて良好な作業性を達成しうる。
<Composition of polyimide resin solution>
The concentration of the polyimide resin in the polyimide resin solution obtained by imidation of the polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, On the other hand, it is preferably 80% by mass or less, more preferably 50% by mass or less. By adjusting the concentration of the polyimide resin in the solution within this range, an extreme increase in viscosity during the reaction can be suppressed, and good workability can be achieved in the subsequent solidification process.

本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液の粘度には、特段の制限は無いが、好ましくは10mPa・s以上、さらに好ましくは1.0×10mPa・s以上であり、一方、好ましくは5.0×10mPa・s以下、さらに好ましくは2.0×10mPa・s以下である。ポリイミド樹脂溶液の粘度を上記範囲内に調整することで、後述するポリイミド樹脂溶液からの溶媒除去が容易になる点で好ましい。 The viscosity of the polyimide resin solution obtained by imidation of polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 mPa · s or more, more preferably 1.0 × 10 2 mPa · s or more. On the other hand, it is preferably 5.0 × 10 4 mPa · s or less, more preferably 2.0 × 10 4 mPa · s or less. By adjusting the viscosity of the polyimide resin solution within the above range, it is preferable in that the solvent can be easily removed from the polyimide resin solution described later.

ポリイミド樹脂溶液の粘度はE型粘度計を用いて25℃で測定するものとする。粘度の測定は公知の方法によって行うことができ、例えば国際公報第99/60622号に記載されている方法に従って行うことができる。
このように、ポリイミド樹脂溶液中の物質組成比を調節することによって、溶融成形に好ましいポリイミド樹脂を調製することができる。
The viscosity of the polyimide resin solution is measured at 25 ° C. using an E-type viscometer. The viscosity can be measured by a known method, for example, according to the method described in International Publication No. 99/60622.
Thus, the polyimide resin preferable for melt molding can be prepared by adjusting the substance composition ratio in the polyimide resin solution.

本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液中の、未反応物であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は特に制限されないが、好ましくは30質量%以下、さらに好ましくは20質量%以下、特に好ましくは10質量%以下であり、下限は特に無く低いほうが好ましい。ポリイミド樹脂溶液中に30質量%より多くのポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂が含有すると、ポリイミド樹脂と、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂とが相分離することにより、白濁が生じる場合がある。また、不均一に相分離したポリイミド樹脂溶液から得られたポリイミド樹脂を溶融成形に用いた場合、成形体も不均一になって成形体に凹凸や白濁などが生じる可能性がある。   In the polyimide resin solution obtained by imidation of polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention, the ratio of the unreacted polyamic acid resin or polyamic acid ester resin to the polyimide resin is not particularly limited, but is preferably 30% by mass. Hereinafter, it is further preferably 20% by mass or less, particularly preferably 10% by mass or less, and there is no particular lower limit, and a lower value is preferable. When more than 30% by mass of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin is contained in the polyimide resin solution, white turbidity may occur due to phase separation of the polyimide resin and the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin. Moreover, when the polyimide resin obtained from the polyimide resin solution which phase-separated nonuniformly is used for melt molding, a molded object also becomes non-uniform | heterogenous and an unevenness | corrugation, white turbidity, etc. may arise in a molded object.

ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は、以下の式で表される。
ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合=(ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量)/(ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量+ポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の物質量)×100
ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量とは、ポリイミド樹脂溶液中に含まれるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂成分の重量を、一般式(6)、(7)及び(8)で表されるそれぞれの繰り返し単位の平均分子量で割ることにより求められる。
The ratio of the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin to the polyimide resin in the polyimide resin solution is represented by the following formula.
Ratio of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution to polyimide resin = (substance amount of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution) / (polyamic acid resin or polyamic acid in polyimide resin solution) Substance amount of ester resin + substance amount of polyimide resin in polyimide resin solution) × 100
The substance amount of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the polyimide resin solution is the weight of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin component contained in the polyimide resin solution, represented by the general formulas (6), (7) and ( It is obtained by dividing by the average molecular weight of each repeating unit represented by 8).

ポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の物質量とは、ポリイミド樹脂溶液中に含まれるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂成分の重量を一般式(1)で表される繰り返し単位の分子量で割ることにより求められる。ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量の測定手法は種々知られており、核磁気共鳴分光法(NMR)、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR法)、イミド閉環に伴う水分を定量する方法、ポリアミック酸に含まれるカルボン酸を中和滴定して求める方法(特開2009−269958号公報参照)、特定の官能基をラベル化して、発光強度または吸収強度を測定することにより求める方法(特許第4529760号公報参照)が挙げられる。   The substance amount of the polyimide resin in the polyimide resin solution is obtained by dividing the weight of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin component contained in the polyimide resin solution by the molecular weight of the repeating unit represented by the general formula (1). It is done. Various methods for measuring the amount of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution are known, including nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR method), and imide ring closure. Quantitative determination of water content, method of neutralization titration of carboxylic acid contained in polyamic acid (see JP 2009-269958 A), measurement of luminescence intensity or absorption intensity by labeling specific functional groups (See Japanese Patent No. 4529760).

[ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程]
ポリイミド樹脂溶液からポリイミド樹脂を得る工程は、ポリイミド樹脂溶液に含まれる有機溶媒や水等の溶媒を除去することができれば特段の制限はないが、例えばポリイミド樹脂溶液から、ポリイミド樹脂の溶解度が低い溶媒中に溶液を加えることによりポリイミド樹脂を析出させ、析出した本発明に係るポリイミド樹脂を分離し、ポリイミド樹脂溶液を加熱及び/又は減圧することにより、有機溶媒や水等の溶媒を除去する方法が挙げられる。
[Step of removing polyimide from polyimide resin solution to obtain polyimide resin]
The process of obtaining the polyimide resin from the polyimide resin solution is not particularly limited as long as the organic solvent or water contained in the polyimide resin solution can be removed. For example, the polyimide resin solution has a low solubility of the polyimide resin. A method for removing a solvent such as an organic solvent and water by precipitating a polyimide resin by adding a solution therein, separating the deposited polyimide resin according to the present invention, and heating and / or depressurizing the polyimide resin solution. Can be mentioned.

ポリイミド樹脂を析出させる溶媒としては、ポリイミド樹脂の種類によって適宜選択しうるが、ジエチルエーテル又はジイソプロピルエーテル等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン;メタノール、エタノール又はイソプロピルアルコール等のアルコール等が挙げられる。中でも、イソプロピルアルコール等のアルコールが効率よく析出物がえられ、沸点が低く乾燥が容易である点で好ましい。   The solvent for precipitating the polyimide resin can be appropriately selected depending on the type of the polyimide resin, but ethers such as diethyl ether or diisopropyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone or methyl isobutyl ketone; methanol, ethanol or isopropyl alcohol And alcohol. Of these, alcohols such as isopropyl alcohol are preferable in that precipitates can be obtained efficiently, the boiling point is low, and drying is easy.

ポリイミド樹脂析出時の温度は、適宜好適な温度を用いることができるが、通常5℃以上、好ましくは10℃以上であり、一方通常80℃以下、好ましくは60℃以下、より好ましくは50℃以下である。ポリイミド樹脂析出時の時間は、特に限定されないが、通常30分以上、好ましくは1時間以上であり、一方、通常3時間以下、好ましくは2時間以下である。   The temperature at which the polyimide resin is deposited can be suitably selected as appropriate, but is usually 5 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher, and usually 80 ° C. or lower, preferably 60 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower. It is. The time at which the polyimide resin is deposited is not particularly limited, but is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, and is usually 3 hours or shorter, preferably 2 hours or shorter.

ポリイミド樹脂析出時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
析出時のポリイミド樹脂を溶媒と分離する方法としては、ろ過、遠心分離又は沈降など挙げられる。中でも、ろ過が効率よくポリイミド樹脂を回収できる点で好ましい。溶媒と分離後のポリイミド樹脂に対して、ポリイミド樹脂に残存している溶媒を除去することが好ましい。溶媒除去の方法は、溶媒が除去すれば特段の制限はないが、具体的には、熱風加熱、減圧乾燥、赤外線加熱、マイクロ波加熱、又は熱板若しくはホットロール等を用いた接触による加熱等の処理方法が挙げられる。中でも、減圧乾燥が効率よく短時間でポリイミド樹脂を乾燥できる点で好ましい。
The pressure at the time of polyimide resin deposition may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.
Examples of the method for separating the polyimide resin during precipitation from the solvent include filtration, centrifugation, and sedimentation. Especially, filtration is preferable at the point which can collect | recover polyimide resins efficiently. It is preferable to remove the solvent remaining in the polyimide resin with respect to the solvent and the separated polyimide resin. The method for removing the solvent is not particularly limited as long as the solvent is removed, and specifically, hot air heating, vacuum drying, infrared heating, microwave heating, heating by contact using a hot plate or a hot roll, etc. The processing method is mentioned. Among these, vacuum drying is preferable because the polyimide resin can be efficiently dried in a short time.

溶媒除去時の温度は、適宜好適な温度を用いることができるが、通常40℃以上、好ましくは60℃以上であり、一方通常300℃以下、好ましくは250℃以下、より好ましくは200℃以下である。溶媒除去時の時間は、特に限定されないが、通常30分以上、好ましくは1時間以上であり、一方、通常4時間以下、好ましくは3時間以下、さらに好ましくは2時間以下である。
溶媒除去時の圧力は、特に限定されないが減圧乾燥時には、通常0.01MPa以上、一方、通常大気圧未満、好ましくは0.09MPa以下、より好ましくは0.08MPa以下である。
A suitable temperature can be appropriately used for removing the solvent, but it is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, and usually 300 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower. is there. The time for removing the solvent is not particularly limited, but is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, and is usually 4 hours or shorter, preferably 3 hours or shorter, more preferably 2 hours or shorter.
The pressure at the time of removing the solvent is not particularly limited, but is usually 0.01 MPa or more, and usually less than atmospheric pressure, preferably 0.09 MPa or less, more preferably 0.08 MPa or less when drying under reduced pressure.

溶媒量が少ない場合には、上記ポリイミド樹脂の抽出操作をせずに、得られたポリイミド樹脂溶液を加熱及び/又は減圧することにより、有機溶媒や水等の溶媒を除去してもよい。   When the amount of the solvent is small, the solvent such as an organic solvent or water may be removed by heating and / or reducing the pressure of the obtained polyimide resin solution without performing the operation of extracting the polyimide resin.

<4.ポリイミド樹脂成型体を得る方法>
本発明のポリイミド樹脂成型体を得る方法について、以下説明する。
本発明のポリイミド樹脂成型体は、上述したポリイミド樹脂を溶融し、成形してポリイミド樹脂成型体を得る。まず、本発明のポリイミド樹脂を溶融する工程について、説明する。
溶融温度は、本発明のポリイミド樹脂の融点以上であれば特に制限されるものではないが、融点以上ポリイミド樹脂の分解温度未満で行うことが好ましい。
<4. Method for obtaining a polyimide resin molding>
The method for obtaining the polyimide resin molded body of the present invention will be described below.
The polyimide resin molding of the present invention is obtained by melting and molding the polyimide resin described above to obtain a polyimide resin molding. First, the process of melting the polyimide resin of the present invention will be described.
The melting temperature is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the melting point of the polyimide resin of the present invention.

また、所望に応じ、本発明の目的を損なわない範囲で、無機系充填剤、有機系充填剤、金属充填剤、滑剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤、離型剤等を配合することができる。上述したポリイミド樹脂を熱可塑性樹脂とし、上記の充填剤及び所望に応じて用いられる各種添加成分を混合して、混練機で混練することにより調製してもよいし、又はあらかじめ熱可塑性樹脂及び所望に応じて用いられる添加成分を押出機に定量供給して混練を行い、樹脂が溶融した部分に、充填剤をサイドフィードして混練することにより調製してもよい。   Further, if desired, inorganic fillers, organic fillers, metal fillers, lubricants, colorants, stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, as long as the object of the present invention is not impaired. A flame retardant, a plasticizer, a mold release agent, etc. can be mix | blended. The above-described polyimide resin may be a thermoplastic resin, and may be prepared by mixing the above filler and various additive components used as desired and kneading in a kneader, or may be prepared in advance with a thermoplastic resin and a desired one. Depending on the conditions, the additive component used may be quantitatively supplied to the extruder and kneaded, and the filler may be prepared by side-feeding and kneading the filler in the melted portion.

さらに充填剤を不織布等平板状に加工したものを軟化した本発明ポリイミド樹脂でラミネートしても良い。混練機については、ポリイミド樹脂と充填剤、添加剤とを混練しうるものであればよく、特に制限されず、例えば単軸押出機、多軸押出機等のスクリュー押出機、エラスチック押出機、ハイドロダイナミック押出機、ラム式連続押出機、ロール式押出機又はギア式押出機等の非スクリュー押出機等を挙げることができる。   Furthermore, you may laminate with the polyimide resin of this invention which softened what processed the filler into flat form, such as a nonwoven fabric. The kneading machine is not particularly limited as long as it can knead the polyimide resin, the filler, and the additive. For example, a screw extruder such as a single-screw extruder or a multi-screw extruder, an elastic extruder, a hydro extruder, or the like. Non-screw extruders such as dynamic extruders, ram-type continuous extruders, roll-type extruders, and gear-type extruders can be exemplified.

次に、ポリイミド樹脂溶融物を成形する工程について、説明する。上記のポリイミド樹脂は、射出成形法、押出成形法、中空成形法、圧縮成形法、積層成形法、ロール加工法、延伸加工法、スタンプ加工法、熱プレス法又はT−ダイ法等の種々の成形法により、所望の成形品に成形される。特に押出成形法、積層成形法、延伸加工法などにより成型したフィルム状のポリイミド樹脂成型体が、無色透明であるため各種電子デバイス向けの透明耐熱フィルムとして好適に用いることができる。また、射出成形法などを用いることにより、レンズや導光板などの各種成形品を製造することができる。その際の反応温度は特に制限されないが、通常ガラス転移温度以上であり、一方、通常分解温度以下である。
押出成形、ロール加工法、延伸加工法等、型を使用しないで成形を行う場合は、雰囲気は空気下でも不活性雰囲気下でもよく、圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。
Next, the process of shaping the polyimide resin melt will be described. The above polyimide resin can be produced by various methods such as injection molding, extrusion molding, hollow molding, compression molding, lamination molding, roll processing, stretching, stamping, hot pressing, or T-die method. By a molding method, it is molded into a desired molded product. In particular, since a film-like polyimide resin molded body molded by an extrusion molding method, a lamination molding method, a stretching method or the like is colorless and transparent, it can be suitably used as a transparent heat-resistant film for various electronic devices. Further, by using an injection molding method or the like, various molded products such as lenses and light guide plates can be manufactured. The reaction temperature at that time is not particularly limited, but is usually not lower than the glass transition temperature, and is usually not higher than the decomposition temperature.
When molding is performed without using a mold, such as extrusion molding, roll processing method, stretching processing method, etc., the atmosphere may be in the air or in an inert atmosphere, and the pressure may be any of normal pressure, pressurized pressure, or reduced pressure. .

<5.ポリイミド樹脂成型体の用途>
本発明のポリイミド樹脂成型体は、上記の多彩な成形方法により様々な形状の無色透明なポリイミド樹脂成型体とすることができる。このことにより、ポリイミド樹脂の代表的な用途であるフィルム用途だけでなく、幅広い用途への応用が可能である。例えばフレキシブル太陽電池用部材、ディスプレイ用部材、IC包装用トレー、IC製造工程用トレー、ICソケット、ウェハーキャリア、コネクター、ソケット、ハードディスクキャリア、液晶ディスプレイキャリア、水晶発振器製造用トレー、コピー機用分離爪、コピー機用断熱軸受け、コピー機用ギア、スラストワッシャー、トランスミッションリング、ピストンリング、オイルシールリング、ベアリングリテーナー、ポンプギア、コンベアチェーン、ストレッチマシン用スライドブッシュ、耐熱絶縁テープ、耐熱粘着テープ、高密度磁気記録ベース、スピーカーコーン、スピーカー振動板、又はコンデンサー若しくはフレキシブルプリント基板用のフィルム等の製造に用いることができる。また、例えばガラス繊維や
炭素繊維等で補強した構造部材、小型コイルのボビン又は端末絶縁用チューブの成形品の製造等にも用いられる。
<5. Applications of polyimide resin moldings>
The polyimide resin molding of the present invention can be made into a colorless and transparent polyimide resin molding of various shapes by the above-mentioned various molding methods. As a result, not only film applications, which are typical uses of polyimide resins, but also a wide range of applications are possible. For example, flexible solar cell member, display member, IC packaging tray, IC manufacturing tray, IC socket, wafer carrier, connector, socket, hard disk carrier, liquid crystal display carrier, crystal oscillator manufacturing tray, copier separation claw , Heat insulating bearings for photocopiers, gears for photocopiers, thrust washers, transmission rings, piston rings, oil seal rings, bearing retainers, pump gears, conveyor chains, slide bushes for stretch machines, heat-resistant insulation tape, heat-resistant adhesive tape, high-density magnetic It can be used for manufacturing a recording base, a speaker cone, a speaker diaphragm, a film for a condenser or a flexible printed circuit board, and the like. Further, for example, it is also used for manufacturing a structural member reinforced with glass fiber or carbon fiber, a small coil bobbin, or a molded product of a terminal insulating tube.

また、絶縁スペーサー、磁気ヘッドスペーサー又はトランスのスペーサー等の積層材の製造に用いることができる。また、電線・ケーブル絶縁被覆材、低温貯蔵タンク、宇宙断熱材又は集積回路等のエナメルコーティング材の製造に用いることができる。さらに耐熱性を有する糸、織物又は不織布等の製造にも用いることができる。   Further, it can be used for the production of laminated materials such as insulating spacers, magnetic head spacers or transformer spacers. Moreover, it can be used for manufacture of enamel coating materials such as electric wire / cable insulation coating materials, low-temperature storage tanks, space insulation materials, and integrated circuits. Furthermore, it can also be used for the production of heat-resistant yarns, woven fabrics or nonwoven fabrics.

以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の例に限定されるものではない。   Examples The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

[揮発ガス種および量の測定]
示差熱‐熱重量測定装置(SII社製TG/DTA6300)を用いてポリイミド樹脂成型体をHe雰囲気下、30℃から340℃まで、昇温速度10℃/分で加温した際の、150℃から340℃までの重量減少を残留溶媒含有量と定義した。発生したガスは質量分析装置(Agilent Technologies社製5973N)に導入し、発生ガス種を特定した。
[全光線透過率の測定]
JIS K 7361-1全光線透過率の試験方法に準じて測定した。島津製作所製分光光度計UV-2500PCを用いて、400nmにおける全光線透過率を測定した。透過率が高いほど、膜の
透明性が良好であることを意味する。測定膜厚は表1に示す。
[Measurement of volatile gas species and amount]
150 ° C. when a polyimide resin molding is heated from 30 ° C. to 340 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in a He atmosphere using a differential thermal-thermogravimetric measuring device (TG / DTA6300 manufactured by SII) The weight loss from 1 to 340 ° C. was defined as the residual solvent content. The generated gas was introduced into a mass spectrometer (5973N manufactured by Agilent Technologies) to identify the generated gas species.
[Measurement of total light transmittance]
It was measured according to the test method for total light transmittance of JIS K 7361-1. The total light transmittance at 400 nm was measured using a spectrophotometer UV-2500PC manufactured by Shimadzu Corporation. The higher the transmittance, the better the transparency of the film. The measured film thickness is shown in Table 1.

<合成例>
(第1工程:1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物(H−BPDA)の合成)
1,1’−ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物(三菱化学社製)150gを、水593gに水酸化ナトリウム83.3gを溶解させた溶液に溶解して、1,1’−ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸四ナトリウム塩の水溶液を作製し、この塩をルテニウム/カーボン触媒を用いて10MPaG、120℃で核水素化した。次いで49%硫酸水溶液429gを滴下し、析出した固体を濾過することにより、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸(H−BTC)157g(収率81%)を得た。
<Synthesis example>
(First Step: Synthesis of 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4,4′-dianhydride (H-BPDA))
150 g of 1,1′-biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was dissolved in a solution obtained by dissolving 83.3 g of sodium hydroxide in 593 g of water. An aqueous solution of 1,1′-biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid tetrasodium salt was prepared, and this salt was nuclear hydrogenated at 10 MPaG and 120 ° C. using a ruthenium / carbon catalyst. Subsequently, 429 g of a 49% sulfuric acid aqueous solution was dropped, and the precipitated solid was filtered to obtain 157 g of dicyclohexyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid (H-BTC) (yield 81%).

温度計、攪拌機、及びジムロート冷却管を備えた300mlの3口フラスコに、得られたH−BTC33.7g(0.98mol)及び無水酢酸90gを窒素下にて加えた。この混合物を攪拌しながら昇温し、還流温度(130℃〜140℃)で3時間反応させた。反応後、反応溶液を10℃まで冷却し、固体を濾過することにより、白色の結晶を得た。得られた結晶をトルエンにて洗浄し、減圧乾燥機にて乾燥することにより、1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物(H−BPDA)含有組成物23.5g(収率78%)を得た。   To a 300 ml three-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a Dimroth condenser, 33.7 g (0.98 mol) of the obtained H-BTC and 90 g of acetic anhydride were added under nitrogen. The mixture was heated with stirring and reacted at reflux temperature (130 ° C. to 140 ° C.) for 3 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled to 10 ° C., and the solid was filtered to obtain white crystals. The obtained crystals were washed with toluene and dried with a vacuum drier to obtain 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4, 23.5 g (yield 78%) of a 4′-dianhydride (H-BPDA) -containing composition was obtained.

(第二行程:ポリアミック酸樹脂溶液の作成)
第1工程で得られたH−BPDA 41.39g(0.135mol)をN,N−ジメチルアセトアミド206g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(和歌山精化社製)を加え、80℃で6時間加熱攪拌し、目的とするポリアミック酸樹脂溶液を得た。
(Second process: Preparation of polyamic acid resin solution)
Add 41.39 g (0.135 mol) of H-BPDA obtained in the first step to 206 g of N, N-dimethylacetamide and 4,4′-diaminodiphenyl ether (manufactured by Wakayama Seika Co., Ltd.), and heat at 80 ° C. for 6 hours. Stirring was performed to obtain the desired polyamic acid resin solution.

(第三行程:ポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂を得る工程)
乾燥窒素ガス導入管、冷却器、トルエンを満たしたDean−Stark凝集器、攪拌機を備えた4口フラスコに、合成例で得られたポリアミック酸エステル樹脂溶液を全量加
え、トルエン41.2gを加えた。次いで三口フラスコ内を窒素雰囲気とし、内温を190℃まで加熱して、イミド化に伴って発生する水をトルエンと共に共沸除去した。13時間加熱、還流、攪拌を続けると、水の発生は認められなくなった。つぎに末端封止剤として無水フタル酸3.24gを加え、引き続き4時間加熱、還流、攪拌し、ポリイミド樹脂
溶液を得た。得られたポリイミド樹脂溶液をイソプロピルアルコール3000mlに滴下し、析出したポリイミド樹脂をろ別回収し、ポリイミド樹脂の白色粉末を得た。得られたポリイミド樹脂粉体中に含まれる残留溶媒量は1.5質量%であった。
(Third step: a step of imidizing a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent to obtain a polyimide resin)
To the four-necked flask equipped with a dry nitrogen gas introduction tube, a cooler, a Dean-Stark aggregator filled with toluene, and a stirrer, the total amount of the polyamic acid ester resin solution obtained in the synthesis example was added, and 41.2 g of toluene was added. . Next, the inside of the three-necked flask was set to a nitrogen atmosphere, the internal temperature was heated to 190 ° C., and water generated accompanying imidization was removed azeotropically with toluene. When heating, refluxing and stirring were continued for 13 hours, generation of water was not observed. Next, 3.24 g of phthalic anhydride was added as a terminal blocking agent, followed by heating, refluxing and stirring for 4 hours to obtain a polyimide resin solution. The obtained polyimide resin solution was dropped into 3000 ml of isopropyl alcohol, and the precipitated polyimide resin was collected by filtration to obtain a white powder of polyimide resin. The amount of residual solvent contained in the obtained polyimide resin powder was 1.5% by mass.

<実施例1>
得られたポリイミド樹脂粉体1.3グラムを島津高架式フローテスター(島津製作所製、CFT−500A)を用いて内径1mm、長さ10mmのオリフィスから310℃、加重40kgで押し出して熱可塑性ポリイミド樹脂の棒状熱可塑成型体を得た。得られたポリイミド樹脂成型体から発生する揮発ガスの測定結果を下表に示す。また、350℃得られ
たポリイミド樹脂の固体0.2gをポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製カプトン)2枚で挟み、加熱プレス(井元製作所製小型加熱プレス180E)で約3分間、300℃でポリイミド樹脂を加熱溶融した。その後、10MPaの圧力で300℃、約1分間加熱圧縮した後に冷却してポリイミド樹脂成形体を得た。得られたポリイミド樹脂成型体の全光線透過率を測定した結果を下表に示す。
<Example 1>
1.3 grams of the resulting polyimide resin powder was extruded from an orifice with an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm using a Shimadzu elevated flow tester (Shimadzu Corporation, CFT-500A) at 310 ° C. and a load of 40 kg to obtain a thermoplastic polyimide resin. A rod-shaped thermoplastic molded article was obtained. The measurement result of the volatile gas generated from the obtained polyimide resin molding is shown in the table below. Moreover, 0.2 g of polyimide resin solid obtained at 350 ° C. is sandwiched between two polyimide films (Kapton manufactured by Toray DuPont), and polyimide is heated at 300 ° C. for about 3 minutes with a heating press (small heating press 180E manufactured by Imoto Seisakusho). The resin was melted by heating. Then, after heating and compressing at 300 ° C. for about 1 minute at a pressure of 10 MPa, cooling was performed to obtain a polyimide resin molded body. The results of measuring the total light transmittance of the obtained polyimide resin molding are shown in the table below.

<比較例1>
三菱ガス化学株式会社製透明ポリイミドフィルム(製品名:ネオプリム L-3430)に対し、実施例と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
The same tests as in Examples were performed on a transparent polyimide film (product name: Neoprim L-3430) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. The results are shown in Table 1.

Figure 2014118463
Figure 2014118463

Claims (5)

ポリイミド樹脂を成型して得られる成型体であって、該成型体は無色透明であり、且つ、窒素雰囲気下で30℃から340℃まで加熱したときに発生する沸点が150℃以上の揮発ガスの発生量が、該ポリイミド樹脂質量に対して0.5%以下であることを特徴とするポリイミド樹脂成型体。   A molded body obtained by molding a polyimide resin, the molded body being colorless and transparent, and having a boiling point of 150 ° C. or more generated when heated from 30 ° C. to 340 ° C. in a nitrogen atmosphere. The amount of generation is 0.5% or less with respect to the polyimide resin mass. 上記ポリイミド樹脂成型体において、厚み50μmにおける400nmの全光線透過率が60%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド樹脂成型体。   2. The polyimide resin molded body according to claim 1, wherein the total light transmittance at 400 nm in a thickness of 50 μm is 60% or more. 上記ポリイミド樹脂成形体が、上記ポリイミド樹脂を熱可塑成型して得られたものであることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミド樹脂成形体。   The polyimide resin molded body according to claim 1 or 2, wherein the polyimide resin molded body is obtained by thermoplastic molding of the polyimide resin. 上記ポリイミド樹脂の溶媒含有量が、該ポリイミド樹脂中0.1質量%以上、12質量%以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のポリイミド樹脂成形体。   The solvent content of the said polyimide resin is 0.1 to 12 mass% in this polyimide resin, The polyimide resin molded object of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4の何れか1項に記載のポリイミド樹脂成型体を含むフィルム。   The film containing the polyimide resin molding of any one of Claims 1-4.
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