JP2013014759A - Polyimide resin molding and method of producing the same - Google Patents

Polyimide resin molding and method of producing the same Download PDF

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Jiro Sugiyama
二郎 杉山
Tomoko Shirai
智子 白井
Akira Ishikubo
章 石窪
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide resin molding excellent in processability, and a method of producing the same.SOLUTION: The method of producing the polyimide resin molding includes: a process for obtaining a polyimide resin solution by imidizing a polyamic acid resin and/or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent; a process for obtaining a polyimide resin by removing the solvent from the polyimide resin solution; and a process for melt-molding the polyimide resin. The polyimide resin includes a repeating unit represented by general formula (1) (wherein Rrepresents a divalent organic group).

Description

本発明は、特定骨格を有する透明ポリイミド樹脂を成形して得られる、透明性及び耐熱性に優れたポリイミド樹脂成形体とその製造方法に関する。   The present invention relates to a polyimide resin molded article excellent in transparency and heat resistance obtained by molding a transparent polyimide resin having a specific skeleton, and a method for producing the same.

ポリイミド樹脂は、耐熱性や機械物性、耐薬品性、電気特性等の点において優れた特性を有しているために、自動車、航空宇宙産業、電気、電子、電池分野において、幅広く使用されている。
しかしながら、ポリイミド樹脂は耐熱性に優れていても明瞭なガラス転移温度を有さない熱硬化性樹脂であり、成形材料として用いる場合には、焼結成形などの特殊な手法を用いねばならない。焼結成形法で複雑な形状を有する加工品を得るには、NC旋盤等の切削機械を使用してポリイミドのブロックから目的の形状を削り出すなど複雑・煩雑な加工工程を要し、高コストとなる問題があった。
Polyimide resins have excellent properties in terms of heat resistance, mechanical properties, chemical resistance, electrical properties, etc., so they are widely used in the automotive, aerospace industry, electrical, electronic, and battery fields. .
However, a polyimide resin is a thermosetting resin that does not have a clear glass transition temperature even though it has excellent heat resistance. When used as a molding material, a special technique such as sintering must be used. In order to obtain a processed product having a complicated shape by the sintering method, a complicated and complicated processing process such as cutting the desired shape from the polyimide block using a cutting machine such as an NC lathe is required. There was a problem.

そこで、成形加工性を改善するため、汎用な熱可塑性樹脂と同様に一定温度以上で溶融成形可能な熱可塑性ポリイミド樹脂が開発されている。例えば特許文献1には3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸骨格を基本骨格とする熱可塑性ポリイミド樹脂が記載されている。また、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸樹脂溶液を溶液中でイミド化し、ポリイミド樹脂を得る方法が記載されている。   Therefore, in order to improve the moldability, a thermoplastic polyimide resin that can be melt-molded at a certain temperature or higher has been developed in the same manner as general-purpose thermoplastic resins. For example, Patent Document 1 describes a thermoplastic polyimide resin having a 3,3 ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid skeleton as a basic skeleton. Moreover, the method of imidating the polyamic acid resin solution which is a polyimide precursor in a solution, and obtaining a polyimide resin is described.

特許文献2にはジシクロヘキシル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物骨格を用いた透明ポリイミド樹脂が記載され、また、ポリアミック酸溶液の溶液流延法による成形及び加熱イミド化によって透明ポリイミド樹脂成形体を得る方法が記載されている。
特許文献3には脂肪族テトラカルボン酸骨格を有するポリアミック酸樹脂を溶液中でイミド化し、ポリイミド樹脂を得る方法が記載されている。
Patent Document 2 describes a transparent polyimide resin using a dicyclohexyl-3,4,3 ′, 4′-tetracarboxylic dianhydride skeleton, and molding and heating imidization of a polyamic acid solution by a solution casting method. Describes a method for obtaining a transparent polyimide resin molding.
Patent Document 3 describes a method of obtaining a polyimide resin by imidizing a polyamic acid resin having an aliphatic tetracarboxylic acid skeleton in a solution.

特開平4−331231号公報JP-A-4-331231 特開平8−104750号公報JP-A-8-104750 特開2005−15629号公報JP 2005-15629 A

しかしながら、特許文献1に記載されたポリイミド樹脂はガラス転移温度が高く、しかも結晶性を有するため、溶融状態とするには450℃以上という高温が必要であり、プロセス上の負荷が大きいという課題があった。また、全芳香族骨格を有するため得られるポリイミド樹脂は着色したものであり、透明性が要求される部材には不向きであるという課題もあった。   However, since the polyimide resin described in Patent Document 1 has a high glass transition temperature and crystallinity, a high temperature of 450 ° C. or higher is necessary to obtain a molten state, and there is a problem that a large process load is required. there were. In addition, since the polyimide resin obtained because it has a wholly aromatic skeleton is colored, there is a problem that it is not suitable for a member that requires transparency.

また、特許文献2に開示された技術は、ポリイミド樹脂のフィルムを得るためにポリアミック酸の溶液を溶液キャスティング法などの溶液流延法により成形する技術であるが、薄膜状の構造しか作れず用途が限られること、溶媒の乾燥に時間を要すること、及びそのためのコストなどの課題があった。
さらに、本発明者等の検討によれば、ポリアミック酸樹脂を固体状態でイミド化して製造したポリイミド樹脂は、溶融時の流動性が低く、ゲル成分が多く存在するなどの課題も
あり、この点も改善を要する。
In addition, the technique disclosed in Patent Document 2 is a technique for forming a polyamic acid solution by a solution casting method such as a solution casting method in order to obtain a polyimide resin film. There are problems such as being limited, the time required for drying the solvent, and the cost.
Furthermore, according to the study by the present inventors, a polyimide resin produced by imidizing a polyamic acid resin in a solid state has problems such as low fluidity when melted and a large amount of gel components. Needs improvement.

一方、特許文献3にはポリイミド樹脂を溶媒と混合した溶液状態で用いる溶液流延法が記載されているが、これも特許文献2と同様に、薄膜状の構造しか作れず用途が限られること、溶媒の乾燥に時間を要すること、及びそのためのコストなどの課題がある。
また、溶媒と混合したポリイミド樹脂溶液を溶融成形してポリイミド樹脂成形体を得る方法においても、ポリイミド樹脂に溶媒が含まれるため溶融時に著しい発泡が見られたり、可燃性ガスが発生する等の問題が生じる可能性が高く、この点も改善を要する。
On the other hand, Patent Document 3 describes a solution casting method in which a polyimide resin is mixed with a solvent in a solution state. However, as in Patent Document 2, only a thin-film structure can be made and its application is limited. However, there are problems such as the time required for drying the solvent and the cost for the drying.
Also, in the method of obtaining a polyimide resin molded body by melt-molding a polyimide resin solution mixed with a solvent, the polyimide resin contains a solvent, so that problems such as significant foaming at the time of melting and generation of flammable gas are caused. Is likely to occur, and this point also needs improvement.

以上に鑑み、本発明は、溶融状態で成形しやすいポリイミド樹脂を用いて、優れた性質を有するポリイミド樹脂成形体を得ることを目的とする。
本発明者等は鋭意検討した結果、特定構造のポリアミック酸樹脂を溶媒中でイミド化して得られるポリイミド樹脂が溶融成形に適することを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明の要旨は、以下に存する。
[1]ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程と、前記ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程と、前記ポリイミド樹脂を溶融成形する工程とを含む、ポリイミド樹脂成形体の製造方法であって、前記ポリイミド樹脂が下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とするポリイミド樹脂成形体の製造方法。
In view of the above, an object of the present invention is to obtain a polyimide resin molded body having excellent properties by using a polyimide resin that can be easily molded in a molten state.
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a polyimide resin obtained by imidizing a polyamic acid resin having a specific structure in a solvent is suitable for melt molding, leading to the present invention.
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A step of imidizing a polyamic acid resin and / or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent to obtain a polyimide resin solution, a step of removing the solvent from the polyimide resin solution to obtain a polyimide resin, and the polyimide resin A method for producing a polyimide resin molded body, comprising a step of melt molding, wherein the polyimide resin includes a repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

(式(1)中、Rは2価の有機基を示す。)
[2]Rが下記式(2)で表される、[1]に記載のポリイミド樹脂成形体の製造方法。
(In formula (1), R 1 represents a divalent organic group.)
[2] The method for producing a polyimide resin molded article according to [1], wherein R 1 is represented by the following formula (2).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

(式(2)中、環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示し、p、qは各々独立して、0〜10の整数を示す。Xは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整
数)を示す。ただし、p及びqがともに0になることはない。Y及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。複数のY、Y、環A及び環Bは各々互いに異なっていてもよい。)
[3]Xが直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)である、請求項[2]に記載のポリイミド樹脂成形体の製造方法。
[4]下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含むポリイミド樹脂を溶融成形して得られることを特徴とするポリイミド樹脂成形体。
(In Formula (2), each of ring A and ring B independently represents an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and p and q are Each independently represents an integer of 0 to 10. X represents a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or a substituent. aromatic group which may have a, -NH-C (= O) -, -. NH-, or -O-C n H 2n -O- ( n is an integer of from 1 to 5) shows the proviso, p and q are not both 0. Y 1 and Y 2 are each independently a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, Represents a sulfide group or a carbonyl group, and a plurality of Y 1 , Y 2 , ring A and ring B are May be different.)
[3] X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group that may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or an aromatic group that may have a substituent , -NH-, or (n 1 to 5 integer) -O-C n H 2n -O- is, the production method of the polyimide resin molded article according to claim [2].
[4] A polyimide resin molded article obtained by melt-molding a polyimide resin containing a repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

(式(1)中、Rは2価の有機基を示す。)
[5]Rが下記式(2)で表される、[4]に記載のポリイミド樹脂成形体。
(In formula (1), R 1 represents a divalent organic group.)
[5] The polyimide resin molded article according to [4], wherein R 1 is represented by the following formula (2).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

(式(2)中、環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示し、p、qは各々独立して、0〜10の整数を示す。Xは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)を示す。ただし、p及びqがともに0になることはない。Y及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。p又はqが2以上である場合、複数のY、Y、環A及び環Bは各々互いに異なっていてもよい。)
[6]Xが直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)である、[5]に記載のポリイミド樹脂成形体。
(In Formula (2), each of ring A and ring B independently represents an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and p and q are Each independently represents an integer of 0 to 10. X represents a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or a substituent. aromatic group which may have a, -NH-C (= O) -, -. NH-, or -O-C n H 2n -O- ( n is an integer of from 1 to 5) shows the proviso, p and q are not both 0. Y 1 and Y 2 are each independently a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, when a sulfide group, or .p or q indicates a carbonyl group is two or more, a plurality of Y 1, 2, ring A and ring B each may be different from one another.)
[6] X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group or an aromatic group which may have a substituent , —NH—, or —O—C n H 2n —O— (n is an integer of 1 to 5), [5].

本発明によれば、溶融時の流動性が高いポリイミド樹脂を経ることから、溶融成形時の
プロセス性が向上する。また本発明に係わるポリイミド樹脂は全芳香族骨格の熱可塑ポリイミド樹脂と比較して低温で成形できるため、よりプロセス負荷が少ない。更に、本発明のポリイミド樹脂は溶媒の含有量が少ないので、溶融成形時に発泡及び可燃性ガスの発生が少ない点でも優れる。このように本発明によれば実用性の高いポリイミド成形体の製造方法を提供しうる。また、本発明によれば、ボイドや凹凸等の物理的不均一性や光学特性の不均一性が少ないポリイミド樹脂成形体が得られる。
According to the present invention, since a polyimide resin having high fluidity at the time of melting is passed, the processability at the time of melt molding is improved. Moreover, since the polyimide resin according to the present invention can be molded at a lower temperature than a thermoplastic polyimide resin having a wholly aromatic skeleton, the process load is less. Furthermore, since the polyimide resin of the present invention has a low solvent content, the polyimide resin of the present invention is also excellent in that it does not generate foaming or flammable gas during melt molding. Thus, according to this invention, the manufacturing method of a highly practical polyimide molded object can be provided. In addition, according to the present invention, a polyimide resin molded body with less physical non-uniformity such as voids and unevenness and non-uniformity of optical characteristics can be obtained.

本発明に係るポリイミド樹脂成形体の製造方法は、
1.ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程と、
2.前記ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程と、
3.前記ポリイミド樹脂を溶融成形する工程とを含む。
前記ポリイミド樹脂は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含むものである。
The method for producing a polyimide resin molded body according to the present invention includes:
1. A step of imidizing a polyamic acid resin and / or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent to obtain a polyimide resin solution;
2. Removing the solvent from the polyimide resin solution to obtain a polyimide resin;
3. Melt-molding the polyimide resin.
The polyimide resin contains a repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

(式(1)において、Rは2価の有機基を示す。)
この方法によれば、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化することで、溶融時の流動性が高いポリイミド樹脂を調製できるため、溶融成形時のプロセス性が向上する。
また、ポリイミド樹脂の成形時に、ポリアミック酸樹脂がポリイミド樹脂に変化する際の脱水閉環に伴う水の発生を低減できるため、ポリイミド樹脂成形体の欠陥の発生を抑制しうる。そして、溶媒の含有量が少ないポリイミド樹脂を溶融成形するため成形時の発泡を抑制でき、ボイドや凹凸等の物理的不均一性や光学特性の不均一性が少ないポリイミド樹脂成形体が得られる。
(In Formula (1), R 1 represents a divalent organic group.)
According to this method, a polyimide resin having high fluidity at the time of melting can be prepared by imidizing the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin in the presence of a solvent, so that the processability at the time of melt molding is improved.
Moreover, since generation | occurrence | production of the water accompanying the spin-drying | dehydration ring closure at the time of shaping | molding a polyimide resin can change polyamic acid resin to a polyimide resin, generation | occurrence | production of the defect of a polyimide resin molded object can be suppressed. And since the polyimide resin with low solvent content is melt-molded, foaming at the time of molding can be suppressed, and a polyimide resin molded body with less physical non-uniformity such as voids and irregularities and non-uniformity of optical properties can be obtained.

[1.ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程]
以下に、ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程について説明する。
<1.1 ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂>
ポリアミック酸樹脂は、溶媒中で、一般式(E1)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、一般式(E2)で表されるジアミン化合物とを反応させる事により得られる。
[1. Step of obtaining a polyimide resin solution by imidizing a polyamic acid resin and / or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent]
Hereinafter, a process of obtaining a polyimide resin solution by imidizing a polyamic acid resin and / or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent will be described.
<1.1 Polyamic acid resin and / or polyamic acid ester resin>
The polyamic acid resin is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (E1) with a diamine compound represented by the general formula (E2) in a solvent.

Figure 2013014759
Figure 2013014759

一般式(E2)におけるRは、2価の有機基であれば特段の制限はないが、下記一般式(2)で示される基が好ましい。 R 1 in the general formula (E2) is not particularly limited as long as it is a divalent organic group, but a group represented by the following general formula (2) is preferable.

Figure 2013014759
Figure 2013014759

式(2)において環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。なお、環A及び環Bは、単環であってもよいし、縮合環であってもよい。また、p又はqが2以上である場合、Rには複数の環A又は環Bが存在するが、これら複数の環A又は環Bは同じ構造の環であってもよいし、互いに異なる構造の環であってもよい。 In formula (2), ring A and ring B each independently represent an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent. Ring A and ring B may be a single ring or a condensed ring. In addition, when p or q is 2 or more, R 1 has a plurality of rings A or B, but these rings A or B may be rings having the same structure or different from each other. It may be a ring of structure.

芳香族環としては、特段の制限はないが、例えば芳香族炭化水素環及び芳香族複素環が挙げられる。芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アズレン環、ビフェニル環、アセナフチレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、フルオランセン環、トリフェニル環、ターフェニル環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、ペリレン環、及びペンタセン環などの、炭素数6〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは6〜25、より好ましくは6〜20である。芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、及びイソキノリン環などの、炭素数2〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは2〜25、より好ましくは2〜20である。これらの中でも、ベンゼン環、ビフェニレン環、及びターフェニル環が好ましい。   The aromatic ring is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include benzene ring, naphthalene ring, azulene ring, biphenyl ring, acenaphthylene ring, fluorene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, fluoranthene ring, triphenyl ring, terphenyl ring, pyrene ring, chrysene ring. , Naphthacene ring, perylene ring, and pentacene ring, and those having 6 to 30 carbon atoms. Carbon number becomes like this. Preferably it is 6-25, More preferably, it is 6-20. Examples of the aromatic heterocyclic ring include those having 2 to 30 carbon atoms such as a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, and an isoquinoline ring. Carbon number becomes like this. Preferably it is 2-25, More preferably, it is 2-20. Among these, a benzene ring, a biphenylene ring, and a terphenyl ring are preferable.

脂肪族環としては、特段の制限はないが、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ノルボルナン環、ノルボルネン環、ヒドリンダン環、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環などの、炭素数3〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは3〜25である。これらの中でもシクロヘキサン環、シクロペンタン環、及びノルボルナン環が好ましい。
環A又は環Bである芳香族環又は脂肪族環について、Y、Y、又はXに結合する位置は特に限定されない。
The aliphatic ring is not particularly limited, but includes a cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, norbornane ring, norbornene ring, hydrindane ring, decahydronaphthalene ring, adamantane ring, etc. The thing of carbon numbers 3-30 is mentioned. Preferably carbon number is 3-25. Among these, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, and a norbornane ring are preferable.
Regarding the aromatic ring or aliphatic ring that is ring A or ring B, the position of bonding to Y 1 , Y 2 , or X is not particularly limited.

芳香族環又は脂肪族環が有していてもよい置換基としては例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、及びヒドロキシル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、及び塩素原子などが挙げられる。アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャリーブチル基など
の、炭素数1〜20のものが挙げられる。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ターシャリーブトキシ基などの、炭素数1〜20のものが挙げられる。
Examples of the substituent that the aromatic ring or the aliphatic ring may have include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a hydroxyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, and a chlorine atom. Examples of the alkyl group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a tertiary butyl group. Examples of the alkoxy group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, and a tertiary butoxy group.

式(2)においてp、qは各々独立して、0以上、好ましくは1以上の整数であり、一方、10以下、好ましくは5以下の整数である。
式(2)においてXは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−を示す。但し、nは1〜5の整数を示し、p及びqがともに0になることはない。
これらの中でも、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−が好ましく、直接結合、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルフィニル基、又はスルホニル基であることがより好ましく、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、又はスルフィニル基であることが特に好ましい。
In the formula (2), p and q are each independently an integer of 0 or more, preferably 1 or more, and on the other hand, an integer of 10 or less, preferably 5 or less.
In the formula (2), X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, and an aromatic which may have a substituent. Represents a group, —NH—C (═O) —, —NH—, or —O—C n H 2n —O—. However, n represents an integer of 1 to 5, and neither p nor q is 0.
Among these, a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, an aromatic group which may have a substituent, —NH— or —O—C n H 2n —O— is preferable, and a direct bond, an oxygen atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfinyl group, or a sulfonyl group is more preferable. Particularly preferred is an atom, an alkylene group which may have a substituent, or a sulfinyl group.

アルキレン基としては、特段の制限はないが、炭素数1〜20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜10のアルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基の具体的な例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、及び2,2−プロパンジイル基などが挙げられる。
芳香族基とは、特段の制限はないが、例えば芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、フェナントレン基、トリフェニレン基、ターフェニレン基、ピレニレン基、及びフルオレン基のような、炭素数6〜30のものが挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジレン基、及びキノリレン基のような、炭素数2〜30のものが挙げられる。これらの中でも、フェニレン基、ナフチレン基、及びピリジレン基が好ましい。
Although there is no special restriction | limiting as an alkylene group, It is preferable that it is a C1-C20 alkylene group, and it is more preferable that it is a C1-C10 alkylene group. Specific examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, and a 2,2-propanediyl group.
The aromatic group is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon group and an aromatic heterocyclic group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include those having 6 to 30 carbon atoms such as a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a phenanthrene group, a triphenylene group, a terphenylene group, a pyrenylene group, and a fluorene group. Examples of the aromatic heterocyclic group include those having 2 to 30 carbon atoms such as a pyridylene group and a quinolylene group. Among these, a phenylene group, a naphthylene group, and a pyridylene group are preferable.

アルキレン基又は芳香族基が有していてもよい置換基としては、例えば炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基などが挙げられる。これらの置換基にさらにフッ素原子、塩素原子などのハロゲン原子などが置換していてもよい。
及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。その中でも、直接結合又は酸素原子が好ましい。なお、p又はqが2以上である場合、Rには複数のY及びYが存在するが、これら複数のY及びYは同じ構造であってもよいし、互いに異なる構造であってもよい。ここで、置換基を有していてもよいアルキレン基としては、Xについて挙げたものと同様のものを用いることができる。
Examples of the substituent that the alkylene group or aromatic group may have include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a carboxyl group, and an epoxy group. These substituents may be further substituted with a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
Y 1 and Y 2 each independently represent a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, or a carbonyl group. Among these, a direct bond or an oxygen atom is preferable. When p or q is 2 or more, R 1 includes a plurality of Y 1 and Y 2, and the plurality of Y 1 and Y 2 may have the same structure or different structures. There may be. Here, as the alkylene group which may have a substituent, the same groups as those mentioned for X can be used.

環Aと環Bとが同じ構造であることは好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。
のより好ましい例としては、以下の一般式(3)又は(4)に示されるものが挙げられる。
It is preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure.
More preferable examples of R 1 include those represented by the following general formula (3) or (4).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

式(3)は、式(2)においてp=2かつq=2の場合に相当する。式(3)において、環A、環B、環C及び環Dは、式(2)における環A及び環Bと同様の構造を表す。また、Y、Y、Y、及びYは、式(2)におけるY及びYと同様の構造を表す。式(2)と同様に、環A、環B、環C及び環Dは互いに異なっていてもよいし、Y、Y、Y、及びYは互いに異なっていてもよい。環Aと環Bとが同じ構造であることも好ましく、環Cと環Dとが同じ構造であることもまた好ましい。YとYとが同じ構造であることも好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。
式(3)において、環A、環B、環C及び環Dは置換基を有していてもよい芳香族環であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが特に好ましい。また、Y及びYは直接結合、酸素原子、又は硫黄原子であることが好ましい。Y及びYの好ましい例としては、直接結合が挙げられる。
Equation (3) corresponds to the case where p = 2 and q = 2 in Equation (2). In Formula (3), Ring A, Ring B, Ring C, and Ring D represent the same structure as Ring A and Ring B in Formula (2). Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 represent the same structure as Y 1 and Y 2 in Formula (2). Similarly to formula (2), ring A, ring B, ring C and ring D may be different from each other, and Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 may be different from each other. It is also preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that the ring C and the ring D have the same structure. It is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure, and it is also preferable that Y 3 and Y 4 have the same structure.
In formula (3), ring A, ring B, ring C and ring D are preferably aromatic rings which may have a substituent, and are phenylene groups which may be substituted with a halogen atom. Is more preferable, and a phenylene group is particularly preferable. Y 1 and Y 2 are preferably a direct bond, an oxygen atom, or a sulfur atom. Preferable examples of Y 3 and Y 4 include direct bonding.

式(4)は、式(2)においてp=1かつq=1の場合に相当する。式(4)において、環A及び環Bは、式(2)における環A及び環Bと同様の構造を表す。また、Y及びYは、式(2)におけるY及びYと同様の構造を表す。ここで、環Aと環Bとが同じ構造であることも好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。
式(4)において、環A及び環Bは置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが特に好ましい。また、Y及びYの好ましい例としては、直接結合が挙げられる。
Equation (4) corresponds to the case where p = 1 and q = 1 in Equation (2). In Formula (4), Ring A and Ring B represent the same structure as Ring A and Ring B in Formula (2). Y 1 and Y 2 represent the same structure as Y 1 and Y 2 in Formula (2). Here, it is also preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure.
In the formula (4), the ring A and the ring B are preferably an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and is substituted with a halogen atom. More preferred is a phenylene group, and particularly preferred is a phenylene group. Preferred examples of Y 1 and Y 2 is a direct bond.

一般式(E2)で表されるジアミン化合物(HN−R−NH)の具体的な例としては、以下に示すジアミン化合物が挙げられる。すなわち、以下に示すジアミン化合物から2つの第一級アミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基を、Rとして用いることができる。このようなジアミン化合物の具体例としては、1,4−フェニレンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ネオペンタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、
ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、N−(4−アミノフェノキシ)−4−アミノベンズアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)、N−(4−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド、N,N’−ビス(4−アミノファニル)テレフタルアミドなどが挙げられる。この中でも、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル又は4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)からアミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基をRとして有することが、後述するポリイミド樹脂の透明性、耐熱性、及び機械強度が同時に達成されうる点で好ましく、より好ましくは、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン又は4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)からアミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基である。
Specific examples of the diamine compound (H 2 N—R 1 —NH 2 ) represented by the general formula (E2) include the diamine compounds shown below. That is, a divalent substituent obtained by removing two primary amino groups from the diamine compound shown below can be used as R 1 . Specific examples of such diamine compounds include 1,4-phenylenediamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) ) Neopentane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-dimethyl Rubiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxy Biphenyl,
Bis (4-amino-3-carboxyphenyl) methane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, N- (4- Aminophenoxy) -4-aminobenzamine, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4'-methylenebis (2-methylcyclohexylamine), N- (4-aminophenyl) Examples include -4-aminobenzamide and N, N′-bis (4-aminophanyl) terephthalamide. Among these, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diamino-3,3′-dimethylbiphenyl or 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) Having a divalent substituent obtained by removing an amino group from R) as R 1 is preferable in that the transparency, heat resistance, and mechanical strength of the polyimide resin described later can be achieved simultaneously, and more preferably, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2, Obtained by removing the amino group from -bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone or 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) It is a divalent substituent.

ポリアミック酸エステル樹脂は、一般式(E1)で表されるテトラカルボン酸二無水物を、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノール、イソブタノール又はn−ブタノールなどのアルコールを用いて開環することによりジエステル化し、得られたジエステルを溶媒中にて一般式(E2)で表されるジアミン化合物と反応させることにより得ることができる。   The polyamic acid ester resin is formed by ring-opening the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (E1) using an alcohol such as methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, isobutanol or n-butanol. Diesterification can be performed by reacting the obtained diester with a diamine compound represented by the general formula (E2) in a solvent.

該ジエステル化に用いるアルコールは特に限定されないが、通常、アルキルアルコールを用いる。該アルコールの炭素数は通常1以上であり、一方、通常14以下、好ましくは10以下、より好ましくは4以下、さらに好ましくは2以下である。
さらにポリアミック酸エステル樹脂は、上記のように得られたポリアミック酸樹脂のカルボン酸基を、上記のようなアルコールと反応することによりエステル化することによっても得ることができる。
The alcohol used for the diesterification is not particularly limited, but usually an alkyl alcohol is used. The alcohol usually has 1 or more carbon atoms, and is usually 14 or less, preferably 10 or less, more preferably 4 or less, and even more preferably 2 or less.
Furthermore, the polyamic acid ester resin can also be obtained by esterifying the carboxylic acid group of the polyamic acid resin obtained as described above by reacting with the alcohol as described above.

該エステル化に用いるアルコールは、上記ジエステル化に用いるアルコールと同様のものを用いることができる。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を得るための反応においては、1種のみのジアミン化合物を用いてもよいし、2種以上のジアミン化合物の混合物を用いてもよい。
一般式(E1)で表されるテトラカルボン酸二無水物には、本発明に係るポリイミド樹脂の無色性、透明性及び各種物性を損なわない程度に、他のテトラカルボン酸二無水物を混合してもよい。混合されるテトラカルボン酸二無水物は1種でもよいし、2種以上であってもよい。
As the alcohol used for the esterification, the same alcohol as used for the diesterification can be used.
In the reaction for obtaining a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin, only one diamine compound may be used, or a mixture of two or more diamine compounds may be used.
The tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (E1) is mixed with other tetracarboxylic dianhydrides to such an extent that the colorlessness, transparency and various physical properties of the polyimide resin according to the present invention are not impaired. May be. 1 type may be sufficient as the tetracarboxylic dianhydride mixed, and 2 or more types may be sufficient as it.

混合してもよいテトラカルボン酸二無水物は、本発明の目的を損なわない限り制限は無い。例えば、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンジカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンジカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,6,6’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。
The tetracarboxylic dianhydride that may be mixed is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. For example, ethylenetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4 -Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexene Fluoropropane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) Sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid Anhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4- (p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 4,4- (m-phenylenedioxy) diphthal Acid dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic dianhydride, 1, 2, , 4-Benzenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 6,6′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6 , 7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, and the like.

なお、ピロメリット酸二無水物などの芳香環を含むテトラカルボン酸二無水物や、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物などの剛直な骨格を有するテトラカルボン酸二無水物を過剰に用いると、得られるポリイミド樹脂の溶媒への溶解性、無色性、透明性、及び各種物性が損なわれることがある。
一般式(E1)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、一般式(E2)で表されるジアミン化合物との反応は、従来から知られている条件で行うことができる。テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の添加順序や添加方法には特に限定はない。例えば、溶媒にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを順に投入し、適切な温度で攪拌することにより、ポリアミック酸樹脂は得られうる。
In addition, tetracarboxylic dianhydrides having an aromatic ring such as pyromellitic dianhydride and tetracarboxylic dianhydrides having a rigid skeleton such as 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride If excessively used, solubility of the resulting polyimide resin in a solvent, colorlessness, transparency, and various physical properties may be impaired.
The reaction of the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (E1) and the diamine compound represented by the general formula (E2) can be carried out under conventionally known conditions. There are no particular limitations on the order of addition or addition method of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound. For example, a polyamic acid resin can be obtained by sequentially adding a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound to a solvent and stirring at an appropriate temperature.

ジアミン化合物の量は、テトラカルボン酸二無水物1モルに対して、通常0.8モル以上、好ましくは1モル以上である。一方、通常1.2モル以下、好ましくは1.1モル以下である。ジアミン化合物の量をこのような範囲とすることにより、得られるポリアミック酸樹脂の収率が向上しうる。
溶媒中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の濃度は、反応条件やポリアミック酸樹脂溶液の粘度に応じて適宜設定しうる。例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との合計の重量は、特段の制限は無いが、全溶液量に対し、通常1重量%以上、好ましくは5重量%以上であり、一方、通常70重量%以下、好ましくは30重量%以下である。反応基質の量をこのような範囲とすることにより、低コストで収率良くポリアミック酸樹脂が得られうる。
The amount of the diamine compound is usually 0.8 mol or more, preferably 1 mol or more with respect to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride. On the other hand, it is 1.2 mol or less normally, Preferably it is 1.1 mol or less. By making the quantity of a diamine compound into such a range, the yield of the polyamic acid resin obtained can be improved.
The concentration of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound in the solvent can be appropriately set according to the reaction conditions and the viscosity of the polyamic acid resin solution. For example, the total weight of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound is not particularly limited, but is usually 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more with respect to the total amount of solution, while usually 70%. % By weight or less, preferably 30% by weight or less. By setting the amount of the reaction substrate in such a range, a polyamic acid resin can be obtained at a low cost and in a high yield.

反応温度は、特段の制限は無いが、通常0℃以上、好ましくは20℃以上であり、一方、通常100℃以下、好ましくは80℃以下である。反応時間は、特段の制限は無いが、通常1時間以上、好ましくは2時間以上であり、一方、通常100時間以下、好ましくは24時間以下である。このような条件で反応を行うことにより、低コストで収率良くポリアミック酸樹脂が得られうる。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。   The reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0 ° C. or higher, preferably 20 ° C. or higher, and is usually 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower. The reaction time is not particularly limited, but is usually 1 hour or more, preferably 2 hours or more, while it is usually 100 hours or less, preferably 24 hours or less. By performing the reaction under such conditions, a polyamic acid resin can be obtained at a low cost and in a high yield. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

この反応で用いる溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンなどの炭化水素系溶媒;四塩化炭素、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びフルオロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン及びメトキシベンゼンなどのエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなど
のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶媒;ピリジン、ピコリン、ルチジン、キノリン及びイソキノリンなどの複素環系溶媒;フェノール及びクレゾールのようなフェノール系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒、などが挙げられるが、特に限定されるものではない。溶媒としては1種の物質を用いることもできるし、2種類以上の物質を混合して用いることもできる。
Solvents used in this reaction include hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene and mesitylene; carbon tetrachloride, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene and fluorobenzene. Halogenated hydrocarbon solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and methoxybenzene; ether solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; N, N-dimethylformamide, N Amide solvents such as N, dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide; pyridine, picoline, lutidine, quinoline and i Heterocyclic solvents such as quinoline; phenol solvents such as phenol and cresol; lactone solvents such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, and δ-valerolactone, etc., but are not particularly limited. . As the solvent, one kind of substance can be used, or two or more kinds of substances can be mixed and used.

一般式(E1)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、一般式(E2)で表されるジアミン化合物とを反応させる事により得られるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂は、主に下記一般式(B1)、(B2)、又は(B3)で示される繰り返し単位を含む。   The polyamic acid resin or polyamic acid ester resin obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (E1) with the diamine compound represented by the general formula (E2) mainly includes the following general A repeating unit represented by the formula (B1), (B2), or (B3) is included.

Figure 2013014759
Figure 2013014759

一般式(B1)、(B2)及び(B3)において、Rは後述するポリイミド樹脂化が行われる限り限定されないが、通常、水素原子又は前記エステル化に用いるアルコールから水酸基を除いた部分である。具体的には、置換基を有していてもよい炭素数1〜14のアルキル基を示す。アルキル基としては特段の制限は無いが、通常炭素数1〜14のアルキル基であり、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基又はイソブチル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子などが挙げられる。 In the general formulas (B1), (B2), and (B3), R 2 is not limited as long as the polyimide resinization described later is performed, but is usually a portion obtained by removing a hydroxyl group from a hydrogen atom or an alcohol used for the esterification. . Specifically, the C1-C14 alkyl group which may have a substituent is shown. Although there is no special restriction | limiting as an alkyl group, Usually, it is a C1-C14 alkyl group, A C1-C10 alkyl group is preferable, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n- A butyl group or an isobutyl group is more preferable, and a methyl group or an ethyl group is still more preferable. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom.

本発明で得られるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂において、一般式(B1)、(B2)、及び(B3)で示される繰り返し構造の存在比は特に限定されな
い。
本発明に係るポリイミド樹脂は、このようにして得られたポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を、後述の方法でイミド化することにより得られる。
In the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin obtained in the present invention, the abundance ratio of the repeating structure represented by the general formulas (B1), (B2), and (B3) is not particularly limited.
The polyimide resin according to the present invention can be obtained by imidizing the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin thus obtained by the method described later.

<1.2 イミド化>
上述のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を、溶媒存在下で脱水環化又は脱アルコール環化(以下、まとめてイミド化と称する)することにより、ポリイミド樹脂が生成する。本方法は、溶融時の流動性の高いポリイミド樹脂が得られる点で好ましい。
イミド化は、従来から知られている任意の方法を用いて行うことができるが、例えば、熱的に環化させる加熱イミド化、及び化学的に環化させる化学イミド化が挙げられる。これらのイミド化反応は単独で使用しても両者を組み合わせて用いても良い。
<1.2 Imidization>
The polyamic acid resin or polyamic acid ester resin described above is subjected to dehydration cyclization or dealcoholization cyclization (hereinafter collectively referred to as imidization) in the presence of a solvent to produce a polyimide resin. This method is preferable in that a polyimide resin having high fluidity upon melting can be obtained.
The imidization can be performed using any conventionally known method, and examples thereof include thermal imidization by thermal cyclization and chemical imidization by chemical cyclization. These imidization reactions may be used alone or in combination.

(1.2.1 加熱イミド化)
以下に溶液中における加熱イミド化の方法について説明する。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下で加熱することにより、ポリイミド樹脂溶液を得ることができる。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂をイミド化する際に使用する溶媒は、前記ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を得る反応時に使用する溶媒が挙げられる。その中でも、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒がポリアミック酸樹脂、ポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂の溶解性が高く、且つ沸点が高くイミド化反応が効率よく進行するため好ましい。
(1.2.1 Heat imidization)
Below, the method of the heat imidation in a solution is demonstrated.
A polyimide resin solution can be obtained by heating a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used when imidizing the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin include the solvents used in the reaction for obtaining the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin. Among them, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are highly soluble in polyamic acid resin, polyamic acid ester resin and polyimide resin, and have a boiling point. This is preferable because the imidization reaction proceeds efficiently.

この場合、イミド化反応によって生じた水(又はアルコール)は閉環反応を阻害するため、反応系外に排出されることが好ましい。例えば、トルエン、キシレンなどの共沸溶媒を混合して水と共沸させることにより、水を系外に排出する方法を用いてもよい。
イミド化反応溶液のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の濃度に特に制限は無いが、通常5重量%以上、好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは20重量%以上、また通常80重量%以下、好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下である。20重量%以上であることで生産効率が高い点で好ましく、また40重量%以下であることで通常の製造設備で取り扱いやすい溶液粘度となる点で好ましい。
In this case, water (or alcohol) generated by the imidization reaction inhibits the ring closure reaction, and thus is preferably discharged out of the reaction system. For example, a method may be used in which water is discharged out of the system by mixing an azeotropic solvent such as toluene or xylene and azeotroping with water.
The concentration of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the imidization reaction solution is not particularly limited, but is usually 5% by weight or more, preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and usually 80% by weight or less. Preferably it is 60 weight% or less, More preferably, it is 40 weight% or less. 20% by weight or more is preferable in terms of high production efficiency, and 40% by weight or less is preferable in that the solution viscosity is easy to handle in ordinary manufacturing equipment.

イミド化反応温度は、特に制限は無いが、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、さらに好ましくは120℃以上、また通常300℃以下、好ましくは280℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。120℃以上であることでイミド化反応が効率よく進行する点で好ましく、250℃以下であることでイミド化反応以外の副反応が抑制される点で好ましい。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。   The imidation reaction temperature is not particularly limited, but is usually 50 ° C or higher, preferably 80 ° C or higher, more preferably 120 ° C or higher, and usually 300 ° C or lower, preferably 280 ° C or lower, more preferably 250 ° C or lower. . It is preferable in that the imidization reaction proceeds efficiently when the temperature is 120 ° C or higher, and it is preferable in that the side reaction other than the imidization reaction is suppressed when the temperature is 250 ° C or lower. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

また、イミド化を促進する触媒として三級アミン類などを加えることもできる。具体的にはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルピロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、イミダゾール、ピリジン、キノリン、及びイソキノリンなどを、触媒として用いることができる。触媒の使用量は、カルボキシル基又はエステル基に対して0.1〜100モル%であること好ましく、1〜10モル%であることがより好ましい。触媒の使用量がこのような範囲にあることにより、低コストで収率良く反応を行うことができる。   Moreover, tertiary amines etc. can also be added as a catalyst which accelerates | stimulates imidation. Specifically, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tritanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, triethylenediamine, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, N- Methylpiperidine, N-ethylpiperidine, imidazole, pyridine, quinoline, isoquinoline, and the like can be used as a catalyst. The amount of the catalyst used is preferably from 0.1 to 100 mol%, more preferably from 1 to 10 mol%, based on the carboxyl group or ester group. When the amount of the catalyst used is in such a range, the reaction can be performed at a low cost and with a high yield.

(1.2.2 化学イミド化)
以下にイミド化の方法として化学イミド化を用いる場合を説明する。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下で化学的にイミド化することにより、ポリイミド樹脂溶液を得ることができる。
ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂をイミド化する際に使用する溶媒は、前記加熱イミド化の溶媒が挙げられる。
(1.2.2 Chemical imidization)
The case where chemical imidation is used as the imidation method will be described below.
A polyimide resin solution can be obtained by chemically imidizing a polyamic acid resin or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used when imidizing the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin include the solvent for the heating imidization.

イミド化反応溶液のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の濃度に特に制限は無いが、通常5重量%以上、好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは20重量%以上、また通常80重量%以下、好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下である。20重量%以上であることで生産効率が高い点で好ましく、また40%以下であることで通常の製造設備で取り扱いやすい溶液粘度となる点で好ましい。イミド化反応温度は、特に制限は無いが、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、さらに好ましくは120℃以上、また通常300℃以下、好ましくは280℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。120℃以上であることでイミド化反応が効率よく進行する点で好ましく、250℃以下であることでイミド化反応以外の副反応が抑制される点で好ましい。反応時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は、空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
また、イミド化を促進する触媒として三級アミン類などを加熱イミド化と同様に加えることもできる。
The concentration of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the imidization reaction solution is not particularly limited, but is usually 5% by weight or more, preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and usually 80% by weight or less. Preferably it is 60 weight% or less, More preferably, it is 40 weight% or less. 20% by weight or more is preferable in terms of high production efficiency, and 40% or less is preferable in that the solution viscosity is easy to handle with ordinary manufacturing equipment. The imidation reaction temperature is not particularly limited, but is usually 50 ° C or higher, preferably 80 ° C or higher, more preferably 120 ° C or higher, and usually 300 ° C or lower, preferably 280 ° C or lower, more preferably 250 ° C or lower. . It is preferable in that the imidization reaction proceeds efficiently by being 120 ° C. or higher, and it is preferable in that the side reaction other than the imidization reaction is suppressed by being 250 ° C. or lower. The pressure during the reaction may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.
Further, a tertiary amine or the like can be added as a catalyst for promoting imidization in the same manner as in the heating imidization.

脱水縮合剤として、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド又はN,N−ジフェニルカルボジイミド等のN,N−2置換カルボジイミド;無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物;塩化チオニル又は塩化トシルのような塩化物;アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、アセチルフルオライド、プロピオニルクロライド、プロピオニルブロマイド、プロピオニルアイオダイド、プロピオニルフルオライド、イソブチリルクロライド、イソブチリルブロマイド、イソブチリルアイオダイド、イソブチリルフルオライド、n−ブチリルクロライド、n−ブチリルブロマイド、n−ブチリルアイオダイド、n−ブチリルフルオライド、モノ−,ジ−,トリ−クロロアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−ブロモアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−アイオドアセチルクロライド、モノ−,ジ−,トリ−フルオロアセチルクロライド、無水クロロ酢酸、フェニルホスフォニックジクロライド、チオニルクロライド、チオニルブロマイド、チオニルアイオダイド又はチオニルフルオライド等のハロゲン化化合物;三塩化リン、亜リン酸トリフェニル又はジエチルリン酸・BR>Vアニドのようなリン化合物等を加えることができる。これらの脱水縮合剤の使用量は、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂骨格1molに対して、通常0.5mol、好ましくは1mol以上、一方、通常20mol以下、好ましくは10mol以下である。これらは単独で使用する事ができ、2種類以上を併用する事もできる。   N, N-2-substituted carbodiimide such as N, N-dicyclohexylcarbodiimide or N, N-diphenylcarbodiimide; acid anhydride such as acetic anhydride or trifluoroacetic anhydride; chloride such as thionyl chloride or tosyl chloride Acetyl chloride, acetyl bromide, propionyl iodide, acetyl fluoride, propionyl chloride, propionyl bromide, propionyl iodide, propionyl fluoride, isobutyryl chloride, isobutyryl bromide, isobutyryl iodide, isobutyryl fluoride Ride, n-butyryl chloride, n-butyryl bromide, n-butyryl iodide, n-butyryl fluoride, mono-, di-, tri-chloroacetyl chloride, mono-, di-, tri- Lomoacetyl chloride, mono-, di-, tri-iodoacetyl chloride, mono-, di-, tri-fluoroacetyl chloride, chloroacetic anhydride, phenylphosphonic dichloride, thionyl chloride, thionyl bromide, thionyl iodide or thionyl fluoride Halide compounds such as rides; phosphorus trichloride, triphenyl phosphite, or phosphorous compounds such as diethyl phosphoric acid / BR> V anide can be added. The amount of these dehydrating condensing agents to be used is usually 0.5 mol, preferably 1 mol or more, and usually 20 mol or less, preferably 10 mol or less, relative to 1 mol of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin skeleton. These can be used alone or in combination of two or more.

また、本発明で用いられるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂、本発明により得られる及びポリイミド樹脂は、必要に応じて末端封止されていても良い。末端封止することで、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂末端の重合性が低下し、ポリイミド樹脂溶液の粘度又はポリイミド樹脂の溶融粘度が安定する点で好ましい。   Further, the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin used in the present invention, the polyimide resin obtained by the present invention and the polyimide resin may be end-capped as necessary. By end-capping, the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin and polyimide resin terminal polymerizability are lowered, and this is preferable in that the viscosity of the polyimide resin solution or the melt viscosity of the polyimide resin is stabilized.

末端封止方法は、限定されるものではなく、従来公知のいずれの方法を用いても良い。ポリアミック酸樹脂、ポリアミック酸エステル樹脂及びポリイミド樹脂を調製するどの段階で封止しても良い。好ましい方法としては、末端封止剤を用いる方法が挙げられる。例えば末端封止剤を用いて封止する場合、その末端封止剤としては、従来公知の何れのものを用いても構わないが、例えば、末端アミノ基を封止する際の末端封止剤としては、無水
フタル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4−メチルシクロヘキサンー1,2−ジカルボン酸無水物又は(2−メチル−2−プロペニル)コハク酸無水物等の酸無水物;安息香酸クロリド等のような有機酸クロリドがあげられる。また、末端酸無水物基を封止する際の末端封止剤としては、3−アミノフェニルアセチレン、アニリン又はシクロヘキシルアミン等のようなアミン化合物が挙げられる。
The terminal sealing method is not limited, and any conventionally known method may be used. You may seal in any step which prepares a polyamic acid resin, a polyamic acid ester resin, and a polyimide resin. A preferable method includes a method using a terminal blocking agent. For example, when sealing with a terminal blocking agent, as the terminal blocking agent, any conventionally known blocking agent may be used. For example, the terminal blocking agent used when sealing a terminal amino group is used. As acid anhydrides such as phthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride or (2-methyl-2-propenyl) succinic anhydride; And organic acid chlorides such as benzoic acid chloride. In addition, examples of the terminal blocking agent for sealing the terminal acid anhydride group include amine compounds such as 3-aminophenylacetylene, aniline, and cyclohexylamine.

<1.3 ポリイミド樹脂溶液の組成>
本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の濃度は、特段の制限は無いが、通常1重量%以上、好ましくは5重量%以上であり、一方、通常80重量%以下、好ましくは50重量%以下である。溶液中のポリイミド樹脂の濃度をこの範囲内に調整することで、反応中の極端な粘度上昇を抑制でき、つづく固体化のプロセスにおいて良好な作業性を達成しうる。
<1.3 Composition of polyimide resin solution>
The concentration of the polyimide resin in the polyimide resin solution obtained by imidation of the polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention is not particularly limited, but is usually 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more, Usually, it is 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less. By adjusting the concentration of the polyimide resin in the solution within this range, an extreme increase in viscosity during the reaction can be suppressed, and good workability can be achieved in the subsequent solidification process.

本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液の粘度には、特段の制限は無いが、通常10mPa・s以上、好ましくは1.0×10mPa・s以上であり、一方、通常5.0×10mPa・s以下、好ましくは2.0×10mPa・s以下である。ポリイミド樹脂溶液の粘度を上記範囲内に調整することで、後述するポリイミド樹脂溶液からの溶媒除去が容易になる点で好ましい。 The viscosity of the polyimide resin solution obtained by imidation of the polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention is not particularly limited, but is usually 10 mPa · s or more, preferably 1.0 × 10 2 mPa · s or more. On the other hand, it is usually 5.0 × 10 4 mPa · s or less, preferably 2.0 × 10 4 mPa · s or less. By adjusting the viscosity of the polyimide resin solution within the above range, it is preferable in that the solvent can be easily removed from the polyimide resin solution described later.

ポリイミド樹脂溶液の粘度はE型粘度計を用いて25℃で測定するものとする。粘度の測定は公知の方法によって行うことができ、例えば国際公報第99/60622号に記載されている方法に従って行うことができる。
このように、ポリイミド樹脂溶液中の物質組成比を調節することによって、溶融成形に好ましいポリイミド樹脂を調製することができる。
The viscosity of the polyimide resin solution is measured at 25 ° C. using an E-type viscometer. The viscosity can be measured by a known method, for example, according to the method described in International Publication No. 99/60622.
Thus, the polyimide resin preferable for melt molding can be prepared by adjusting the substance composition ratio in the polyimide resin solution.

本発明によりポリアミック酸又はポリアミック酸エステルのイミド化により得られるポリイミド樹脂溶液中の、未反応物であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は特に制限されないが、通常30重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下である。ポリイミド樹脂溶液中に30重量%より多くのポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂が含有すると、ポリイミド樹脂と、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂とが相分離することにより、白濁が生じる場合がある。また、不均一に相分離したポリイミド樹脂溶液から得られたポリイミド樹脂を溶融成形に用いた場合、成形体も不均一になって成形体に凹凸や白濁などが生じる可能性がある。   In the polyimide resin solution obtained by imidization of polyamic acid or polyamic acid ester according to the present invention, the ratio of the unreacted polyamic acid resin or polyamic acid ester resin to the polyimide resin is not particularly limited, but is usually 30% by weight or less. , Preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. When more than 30% by weight of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin is contained in the polyimide resin solution, white turbidity may occur due to phase separation of the polyimide resin and the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin. Moreover, when the polyimide resin obtained from the polyimide resin solution which phase-separated nonuniformly is used for melt molding, a molded object also becomes non-uniform | heterogenous and an unevenness | corrugation, white turbidity, etc. may arise in a molded object.

ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は、以下の式で表される。ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合=(ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量)/(ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量+ポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の物質量)×100
ポリイミド樹脂溶液中のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量とは、ポリイミド樹脂溶液中に含まれるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂成分の重量を一般式(B1)、(B2)及び(B3)で表されるそれぞれの繰り返し単位の平均分子量で割ることにより求められる。
The ratio of the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin to the polyimide resin in the polyimide resin solution is represented by the following formula. Ratio of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution to polyimide resin = (substance amount of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution) / (polyamic acid resin or polyamic acid in polyimide resin solution) Substance amount of ester resin + substance amount of polyimide resin in polyimide resin solution) × 100
The substance amount of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in the polyimide resin solution is the weight of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin component contained in the polyimide resin solution represented by the general formulas (B1), (B2) and (B3). ) Divided by the average molecular weight of each repeating unit represented by

ポリイミド樹脂溶液中のポリイミド樹脂の物質量とは、ポリイミド樹脂溶液中に含まれるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂成分の重量を一般式(1)で表される繰り返し単位の分子量で割ることにより求められる。ポリイミド樹脂溶液中のポリア
ミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂の物質量の測定手法は種々知られており、核磁気共鳴分光法(NMR)、フーリエ変換赤外分光法(FT−IR法)、イミド閉環に伴う水分を定量する方法、ポリアミック酸に含まれるカルボン酸を中和滴定して求める方法(特開2009−269958号公報参照)、特定の官能基をラベル化して、発光強度または吸収強度を測定することにより求める方法(特許第4529760号公報参照)が挙げられる。
The substance amount of the polyimide resin in the polyimide resin solution is obtained by dividing the weight of the polyamic acid resin or polyamic acid ester resin component contained in the polyimide resin solution by the molecular weight of the repeating unit represented by the general formula (1). It is done. Various methods for measuring the amount of polyamic acid resin or polyamic acid ester resin in polyimide resin solution are known, including nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR method), and imide ring closure. Quantitative determination of water content, method of neutralization titration of carboxylic acid contained in polyamic acid (see JP 2009-269958 A), measurement of luminescence intensity or absorption intensity by labeling specific functional groups (See Japanese Patent No. 4529760).

[2 ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程]
ポリイミド樹脂溶液からポリイミド樹脂を得る工程は、ポリイミド樹脂溶液に含まれる有機溶媒や水等の溶媒を除去することができれば特段の制限はないが、例えばポリイミド樹脂溶液から、ポリイミド樹脂の溶解度が低い溶媒中に溶液を加えることによりポリイミド樹脂を析出させ、析出した本発明に係るポリイミド樹脂を分離し、ポリイミド樹脂溶液を加熱及び/又は減圧することにより、有機溶媒や水等の溶媒を除去する方法が挙げられる。
[Step of removing polyimide from polyimide resin solution to obtain polyimide resin]
The process of obtaining the polyimide resin from the polyimide resin solution is not particularly limited as long as the organic solvent or water contained in the polyimide resin solution can be removed. For example, the polyimide resin solution has a low solubility of the polyimide resin. A method for removing a solvent such as an organic solvent and water by precipitating a polyimide resin by adding a solution therein, separating the deposited polyimide resin according to the present invention, and heating and / or depressurizing the polyimide resin solution. Can be mentioned.

ポリイミド樹脂を析出させる溶媒としては、ポリイミド樹脂の種類によって適宜選択しうるが、ジエチルエーテル又はジイソプロピルエーテル等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、イソブチルケトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン;メタノール、エタノール又はイソプロピルアルコール等のアルコール等が挙げられる。中でも、イソプロピルアルコール等のアルコールが効率よく析出物がえられ、沸点が低く乾燥が容易である点で好ましい。   The solvent for precipitating the polyimide resin can be appropriately selected depending on the type of the polyimide resin, but ethers such as diethyl ether or diisopropyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl ketone or methyl isobutyl ketone; methanol, ethanol or isopropyl alcohol And alcohol. Of these, alcohols such as isopropyl alcohol are preferable in that precipitates can be obtained efficiently, the boiling point is low, and drying is easy.

ポリイミド樹脂析出時の温度は、適宜好適な温度を用いることができるが、通常5℃以上、好ましくは10℃以上であり、一方通常80℃以下、好ましくは60℃以下、より好ましくは50℃以下である。ポリイミド樹脂析出時の時間は、特に限定されないが、通常30分以上、好ましくは1時間以上であり、一方、通常3時間以下、好ましくは2時間以下である。
ポリイミド樹脂析出時の圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。雰囲気は空気下でも不活性雰囲気下でもよい。
The temperature at which the polyimide resin is deposited can be suitably selected as appropriate, but is usually 5 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher, and usually 80 ° C. or lower, preferably 60 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower. It is. The time at which the polyimide resin is deposited is not particularly limited, but is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, and is usually 3 hours or shorter, preferably 2 hours or shorter.
The pressure at the time of polyimide resin deposition may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. The atmosphere may be air or an inert atmosphere.

析出時のポリイミド樹脂を溶媒と分離する方法としては、ろ過、遠心分離又は沈降など挙げられる。中でも、ろ過が効率よくポリイミド樹脂を回収できる点で好ましい。溶媒と分離後のポリイミド樹脂に対して、ポリイミド樹脂に残存している溶媒を除去することが好ましい。溶媒除去の方法は、溶媒が除去すれば特段の制限はないが、具体的には、熱風加熱、減圧乾燥、赤外線加熱、マイクロ波加熱、又は熱板若しくはホットロール等を用いた接触による加熱等の処理方法が挙げられる。中でも、減圧乾燥が効率よく短時間でポリイミド樹脂を乾燥できる点で好ましい。   Examples of the method for separating the polyimide resin during precipitation from the solvent include filtration, centrifugation, and sedimentation. Especially, filtration is preferable at the point which can collect | recover polyimide resins efficiently. It is preferable to remove the solvent remaining in the polyimide resin with respect to the solvent and the separated polyimide resin. The method for removing the solvent is not particularly limited as long as the solvent is removed, and specifically, hot air heating, vacuum drying, infrared heating, microwave heating, heating by contact using a hot plate or a hot roll, etc. The processing method is mentioned. Among these, vacuum drying is preferable because the polyimide resin can be efficiently dried in a short time.

溶媒除去時の温度は、適宜好適な温度を用いることができるが、通常40℃以上、好ましくは60℃以上であり、一方通常300℃以下、好ましくは250℃以下、より好ましくは200℃以下である。溶媒除去時の時間は、特に限定されないが、通常30分以上、好ましくは1時間以上であり、一方、通常3時間以下、好ましくは2時間以下である。
溶媒除去時の圧力は、特に限定されないが減圧乾燥時には、通常0.01MPa以上、一方、通常大気圧未満、好ましくは0.09MPa以下、より好ましくは0.08MPa以下である。
溶媒量が少ない場合には、上記ポリイミド樹脂の抽出操作をせずに、得られたポリイミド樹脂溶液を加熱及び/又は減圧することにより、有機溶媒や水等の溶媒を除去してもよい。
A suitable temperature can be appropriately used for removing the solvent, but it is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, and usually 300 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower. is there. The time for removing the solvent is not particularly limited, but is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, and is usually 3 hours or shorter, preferably 2 hours or shorter.
The pressure at the time of removing the solvent is not particularly limited, but is usually 0.01 MPa or more, and usually less than atmospheric pressure, preferably 0.09 MPa or less, more preferably 0.08 MPa or less when drying under reduced pressure.
When the amount of the solvent is small, the solvent such as an organic solvent or water may be removed by heating and / or reducing the pressure of the obtained polyimide resin solution without performing the operation of extracting the polyimide resin.

<2.1 ポリイミド樹脂>
上記工程で得られる本発明に係るポリイミド樹脂は、以下の一般式(1)で表される繰り返し単位を含む。
<2.1 Polyimide resin>
The polyimide resin according to the present invention obtained in the above step includes a repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

式(1)において、Rは2価の有機基を示す。なお、本発明に係るポリイミド樹脂は一般式(1)で表される繰り返し単位を複数含むため、複数の2価の有機基Rが含まれる。ここで、複数の2価の有機基Rは全て同じ構造を有してもよいし、異なる構造を有してもよい。
このように本発明のポリイミド樹脂は、ビフェニルのような芳香族環、又は単環の脂肪族環を骨格として有するテトラカルボン酸残基によって構成されるポリイミド樹脂と比較して、着色の減少、及び溶解性の向上という効果が得られうる。また、本発明に係るポリイミド樹脂は比較的溶解性が高く、溶液濃度を自由に調整しうる。さらに、本発明に係るポリイミド樹脂は比較的耐熱性及び透明性に優れている。
In the formula (1), R 1 represents a divalent organic group. Incidentally, the polyimide resin according to the present invention have the general formula (1) for containing a plurality of repeating units represented by include organic groups R 1 of a plurality of divalent. Here, the plurality of divalent organic groups R 1 may all have the same structure or different structures.
Thus, the polyimide resin of the present invention is less colored compared to a polyimide resin composed of an aromatic ring such as biphenyl, or a tetracarboxylic acid residue having a monocyclic aliphatic ring as a skeleton, and The effect of improving solubility can be obtained. Moreover, the polyimide resin according to the present invention has relatively high solubility, and the solution concentration can be freely adjusted. Furthermore, the polyimide resin according to the present invention is relatively excellent in heat resistance and transparency.

は、2価の有機基であれば特段の制限はないが、一般式(2)で表される基であることが、透明性、耐熱性の高い樹脂膜を得られるだけでなく、樹脂膜の経時劣化による着色を低減でき、また有機溶媒への溶解性が向上する点で好ましい。これらの効果を得るためには、ポリイミド樹脂に含まれる全ての繰り返し単位に占める、上記一般式(1)で表される繰り返し単位の割合が50重量%以上であることが好ましく、より好ましくは70重量%以上であり、さらに好ましくは90重量%以上、最も好ましくは95重量%以上である。 R 1 is not particularly limited as long as it is a divalent organic group, but not only a group represented by the general formula (2) can obtain a resin film having high transparency and heat resistance, It is preferable in that coloring due to deterioration of the resin film over time can be reduced and solubility in an organic solvent is improved. In order to obtain these effects, the ratio of the repeating unit represented by the general formula (1) to all the repeating units contained in the polyimide resin is preferably 50% by weight or more, more preferably 70%. % By weight or more, more preferably 90% by weight or more, and most preferably 95% by weight or more.

Figure 2013014759
Figure 2013014759

式(2)において環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。なお、環A及び環Bは、単環であってもよいし、縮合環であってもよい。また、p又はqが2以上である場合、Rには複数の環A又は環Bが存在するが、これら複数の環A又は環Bは同じ構造の環であってもよいし、互いに異なる構造の環であってもよい。 In formula (2), ring A and ring B each independently represent an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent. Ring A and ring B may be a single ring or a condensed ring. In addition, when p or q is 2 or more, R 1 has a plurality of rings A or B, but these rings A or B may be rings having the same structure or different from each other. It may be a ring of structure.

芳香族環としては、特段の制限はないが、例えば芳香族炭化水素環及び芳香族複素環が挙げられる。芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アズレン
環、ビフェニル環、アセナフチレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、フルオランセン環、トリフェニル環、ターフェニル環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、ペリレン環、及びペンタセン環などの、炭素数6〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは6〜25、より好ましくは6〜20である。芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、キノリン環、及びイソキノリン環などの、炭素数2〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは2〜25、より好ましくは2〜20である。これらの中でも、ベンゼン環、ビフェニレン環、及びターフェニル環が好ましい。
The aromatic ring is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include benzene ring, naphthalene ring, azulene ring, biphenyl ring, acenaphthylene ring, fluorene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, fluoranthene ring, triphenyl ring, terphenyl ring, pyrene ring, chrysene ring. , Naphthacene ring, perylene ring, and pentacene ring, and those having 6 to 30 carbon atoms. Carbon number becomes like this. Preferably it is 6-25, More preferably, it is 6-20. Examples of the aromatic heterocyclic ring include those having 2 to 30 carbon atoms such as a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, and an isoquinoline ring. Carbon number becomes like this. Preferably it is 2-25, More preferably, it is 2-20. Among these, a benzene ring, a biphenylene ring, and a terphenyl ring are preferable.

脂肪族環としては、特段の制限はないが、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ノルボルナン環、ノルボルネン環、ヒドリンダン環、デカヒドロナフタレン環、アダマンタン環などの、炭素数3〜30のものが挙げられる。炭素数は、好ましくは3〜25である。これらの中でもシクロヘキサン環、シクロペンタン環、及びノルボルナン環が好ましい。
環A又は環Bである芳香族環又は脂肪族環について、Y、Y、又はXに結合する位置は特に限定されない。
The aliphatic ring is not particularly limited, but includes a cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, norbornane ring, norbornene ring, hydrindane ring, decahydronaphthalene ring, adamantane ring, etc. The thing of carbon numbers 3-30 is mentioned. Preferably carbon number is 3-25. Among these, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, and a norbornane ring are preferable.
Regarding the aromatic ring or aliphatic ring that is ring A or ring B, the position of bonding to Y 1 , Y 2 , or X is not particularly limited.

芳香族環又は脂肪族環が有していてもよい置換基としては例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、及びヒドロキシル基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、及び塩素原子などが挙げられる。アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャリーブチル基などの、炭素数1〜20のものが挙げられる。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ターシャリーブトキシ基などの、炭素数1〜20のものが挙げられる。   Examples of the substituent that the aromatic ring or the aliphatic ring may have include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a hydroxyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a bromine atom, and a chlorine atom. Examples of the alkyl group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a tertiary butyl group. Examples of the alkoxy group include those having 1 to 20 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, and a tertiary butoxy group.

式(2)においてp、qは各々独立して、0以上、好ましくは1以上の整数であり、一方、10以下、好ましくは5以下の整数である。
式(2)においてXは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−を示す。但し、nは1〜5の整数を示し、p及びqがともに0になることはない。
これらの中でも、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−が好ましく、直接結合、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルフィニル基、又はスルホニル基であることがより好ましく、酸素原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、又はスルフィニル基であることが特に好ましい。
In the formula (2), p and q are each independently an integer of 0 or more, preferably 1 or more, and on the other hand, an integer of 10 or less, preferably 5 or less.
In the formula (2), X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, and an aromatic which may have a substituent. Represents a group, —NH—C (═O) —, —NH—, or —O—C n H 2n —O—. However, n represents an integer of 1 to 5, and neither p nor q is 0.
Among these, a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, an aromatic group which may have a substituent, —NH— or —O—C n H 2n —O— is preferable, and a direct bond, an oxygen atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfinyl group, or a sulfonyl group is more preferable. Particularly preferred is an atom, an alkylene group which may have a substituent, or a sulfinyl group.

アルキレン基としては、特段の制限はないが、炭素数1〜20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜10のアルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基の具体的な例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、及び2,2−プロパンジイル基などが挙げられる。
芳香族基とは、特段の制限はないが、例えば芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、フェナントレン基、トリフェニレン基、ターフェニレン基、ピレニレン基、及びフルオレン基のような、炭素数6〜30のものが挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジレン基、及びキノリレン基のような、炭素数2〜30のものが挙げられる。これらの中でも、フェニレン基、ナフチレン基、及びピリジレン基が好ましい。
Although there is no special restriction | limiting as an alkylene group, It is preferable that it is a C1-C20 alkylene group, and it is more preferable that it is a C1-C10 alkylene group. Specific examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, and a 2,2-propanediyl group.
The aromatic group is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon group and an aromatic heterocyclic group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include those having 6 to 30 carbon atoms such as a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a phenanthrene group, a triphenylene group, a terphenylene group, a pyrenylene group, and a fluorene group. Examples of the aromatic heterocyclic group include those having 2 to 30 carbon atoms such as a pyridylene group and a quinolylene group. Among these, a phenylene group, a naphthylene group, and a pyridylene group are preferable.

アルキレン基又は芳香族基が有していてもよい置換基としては、例えば炭素数1〜5の
アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基などが挙げられる。これらの置換基にさらにフッ素原子、塩素原子などのハロゲン原子などが置換していてもよい。
及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。その中でも、直接結合又は酸素原子が好ましい。なお、p又はqが2以上である場合、Rには複数のY及びYが存在するが、これら複数のY及びYは同じ構造であってもよいし、互いに異なる構造であってもよい。ここで、置換基を有していてもよいアルキレン基としては、Xについて挙げたものと同様のものを用いることができる。
Examples of the substituent that the alkylene group or aromatic group may have include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a carboxyl group, and an epoxy group. These substituents may be further substituted with a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
Y 1 and Y 2 each independently represent a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, or a carbonyl group. Among these, a direct bond or an oxygen atom is preferable. When p or q is 2 or more, R 1 includes a plurality of Y 1 and Y 2, and the plurality of Y 1 and Y 2 may have the same structure or different structures. There may be. Here, as the alkylene group which may have a substituent, the same groups as those mentioned for X can be used.

環Aと環Bとが同じ構造であることは好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。
のより好ましい例としては、以下の一般式(3)又は(4)に示されるものが挙げられる。
It is preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure.
More preferable examples of R 1 include those represented by the following general formula (3) or (4).

Figure 2013014759
Figure 2013014759

式(3)は、式(2)においてp=2かつq=2の場合に相当する。式(3)において、環A、環B、環C及び環Dは、式(2)における環A及び環Bと同様の構造を表す。また、Y、Y、Y、及びYは、式(2)におけるY及びYと同様の構造を表す。式(2)と同様に、環A、環B、環C及び環Dは互いに異なっていてもよいし、Y、Y、Y、及びYは互いに異なっていてもよい。環Aと環Bとが同じ構造であることも好ましく、環Cと環Dとが同じ構造であることもまた好ましい。YとYとが同じ構造であることも好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。
式(3)において、環A、環B、環C及び環Dは置換基を有していてもよい芳香族環であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが特に好ましい。また、Y及びYは直接結合、酸素原子、又は硫黄原子であることが好ましい。Y及びYの好ましい例としては、直接結合が挙げられる。
Equation (3) corresponds to the case where p = 2 and q = 2 in Equation (2). In Formula (3), Ring A, Ring B, Ring C, and Ring D represent the same structure as Ring A and Ring B in Formula (2). Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 represent the same structure as Y 1 and Y 2 in Formula (2). Similarly to formula (2), ring A, ring B, ring C and ring D may be different from each other, and Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 may be different from each other. It is also preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that the ring C and the ring D have the same structure. It is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure, and it is also preferable that Y 3 and Y 4 have the same structure.
In formula (3), ring A, ring B, ring C and ring D are preferably aromatic rings which may have a substituent, and are phenylene groups which may be substituted with a halogen atom. Is more preferable, and a phenylene group is particularly preferable. Y 1 and Y 2 are preferably a direct bond, an oxygen atom, or a sulfur atom. Preferable examples of Y 3 and Y 4 include direct bonding.

式(4)は、式(2)においてp=1かつq=1の場合に相当する。式(4)において、環A及び環Bは、式(2)における環A及び環Bと同様の構造を表す。また、Y及びYは、式(2)におけるY及びYと同様の構造を表す。ここで、環Aと環Bとが同じ構造であることも好ましく、YとYとが同じ構造であることもまた好ましい。 式(4)において、環A及び環Bは置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニレン基であることがより好ましく、フェニレン基であることが特に好ましい。また、Y及びYの好ましい例としては、直接結合が挙げられる。 Equation (4) corresponds to the case where p = 1 and q = 1 in Equation (2). In Formula (4), Ring A and Ring B represent the same structure as Ring A and Ring B in Formula (2). Y 1 and Y 2 represent the same structure as Y 1 and Y 2 in Formula (2). Here, it is also preferable that the ring A and the ring B have the same structure, and it is also preferable that Y 1 and Y 2 have the same structure. In the formula (4), the ring A and the ring B are preferably an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and is substituted with a halogen atom. More preferred is a phenylene group, and particularly preferred is a phenylene group. Preferred examples of Y 1 and Y 2 is a direct bond.

の具体的な例としては、以下に示すジアミン化合物の構成単位が挙げられる。すなわち、以下に示すジアミン化合物から2つの第一級アミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基を、Rとして用いることができる。このようなジアミン化合物の具体例としては、1,4−フェニレンジアミン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ネオペンタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−アミノ−3−カルボキシフェニル)メタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、N−(4−アミノフェノキシ)−4−アミノベンズアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)、N−(4−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド、N,N’−ビス(4−アミノファニル)テレフタルアミドなどが挙げられる。この中でも、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル又は4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)からアミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基をRとして有することが、ポリイミド樹脂の透明性、耐熱性、及び機械強度が同時に達成されうる点で好ましく、より好ましくは、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン又は4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)からアミノ基を取り除くことによって得られる二価の置換基である。 Specific examples of R 1 include structural units of diamine compounds shown below. That is, a divalent substituent obtained by removing two primary amino groups from the diamine compound shown below can be used as R 1 . Specific examples of such diamine compounds include 1,4-phenylenediamine, 1,2-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) ) Neopentane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-dimethyl Rubiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxy Biphenyl, bis (4-amino-3-carboxyphenyl) methane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfide, N- ( 4-aminophenoxy) -4-aminobenzamine, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4'-methylenebis (2-methylcyclohexylamine), N- (4-amino Phenyl) -4-aminobenzamide, N, N′-bis (4-aminophanyl) terephthalamide and the like. . Among these, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 4,4′-diamino-3,3′-dimethylbiphenyl or 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) It is preferable to have a divalent substituent obtained by removing an amino group from R) as R 1 in that the transparency, heat resistance, and mechanical strength of the polyimide resin can be achieved at the same time, more preferably 4, 4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis Divalent compounds obtained by removing amino groups from 4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone or 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) It is a substituent.

<2.2 ポリイミド樹脂の物性>
本発明に係るポリイミド樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、通常1.0×10以上、好ましくは5.0×10以上、より好ましくは1.0×10以上である。一方、通常1.0×10以下、好ましくは8.0×10以下、より好ましくは5.0×10以下である。溶解性、溶液粘度、溶融粘度などが通常の製造設備で扱いやすい範囲となる点でこの範囲が好ましい。本発明に係るポリイミド樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)により求めることができる。
<2.2 Properties of polyimide resin>
The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of the polyimide resin according to the present invention is usually 1.0 × 10 3 or more, preferably 5.0 × 10 3 or more, more preferably 1.0 × 10 4 or more. On the other hand, it is usually 1.0 × 10 6 or less, preferably 8.0 × 10 5 or less, more preferably 5.0 × 10 5 or less. This range is preferable in that solubility, solution viscosity, melt viscosity, and the like are in a range that can be easily handled by ordinary production equipment. The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the polyimide resin according to the present invention can be determined by gel permeation chromatography (GPC).

本発明に係るポリイミド樹脂の数平均分子量(Mn)は、通常5.0×10以上、好ましくは2.5×10以上、より好ましくは5.0×10以上である。一方、通常5.0×10以下、好ましくは4.0×10以下、より好ましくは2.5×10以下である。溶解性、溶液粘度、溶融粘度などが通常の製造設備で扱いやすい範囲となる点でこの範囲が好ましい。本発明に係るポリイミド樹脂の数平均分子量は、上記重量平均分子量と同様の方法で測定することができる。 The number average molecular weight (Mn) of the polyimide resin according to the present invention is usually 5.0 × 10 2 or more, preferably 2.5 × 10 3 or more, more preferably 5.0 × 10 3 or more. On the other hand, it is usually 5.0 × 10 4 or less, preferably 4.0 × 10 4 or less, and more preferably 2.5 × 10 4 or less. This range is preferable in that solubility, solution viscosity, melt viscosity, and the like are in a range that can be easily handled by ordinary production equipment. The number average molecular weight of the polyimide resin according to the present invention can be measured by the same method as the weight average molecular weight.

本発明に係るポリイミド樹脂の分子量分布(PDI、(重量平均分子量/数平均分子量
(Mw/Mn)))は、通常1以上、好ましくは1.1以上、より好ましくは1.2以上である。一方、通常3以下、好ましくは2.8以下、より好ましくは2.5以下である。
均一性の高い溶液、成形体が得られるという点で、分子量分布がこの範囲にあることが好ましい。本発明に係るポリイミド樹脂の分子量分布は、上記重量平均分子量と同様の方法で測定することができる。
The molecular weight distribution (PDI, (weight average molecular weight / number average molecular weight (Mw / Mn))) of the polyimide resin according to the present invention is usually 1 or more, preferably 1.1 or more, more preferably 1.2 or more. On the other hand, it is usually 3 or less, preferably 2.8 or less, more preferably 2.5 or less.
It is preferable that the molecular weight distribution is in this range in that a highly uniform solution and molded product can be obtained. The molecular weight distribution of the polyimide resin according to the present invention can be measured by the same method as the weight average molecular weight.

本発明に係るポリイミド樹脂の熱機械分析(TMA)(測定条件:測定温度270℃、引張り加重10g、保持時間60分間、サンプル形状4mm×5mm。厚さ45μm)による溶融伸度(μm)は通常1.0×10以上、好ましくは1.0×10以上、より好ましくは1.8×10以上である。一方、通常1.0×10以下、好ましくは5.0×10以下、より好ましくは1.0×10以下である。1.0×10以上であることにより、溶融成形が容易である点で好ましい。1.0×10以下であることにより成形時の垂れなどが抑制される点で好ましい。本発明に係るポリイミド樹脂の熱機械分析(TMA)は、公知文献(特開2003−155341号公報)に記載の方法で測定することができる。 The melt elongation (μm) by thermomechanical analysis (TMA) of the polyimide resin according to the present invention (measurement condition: measurement temperature 270 ° C., tensile load 10 g, holding time 60 minutes, sample shape 4 mm × 5 mm, thickness 45 μm) is usually It is 1.0 × 10 2 or more, preferably 1.0 × 10 3 or more, more preferably 1.8 × 10 3 or more. On the other hand, it is usually 1.0 × 10 5 or less, preferably 5.0 × 10 4 or less, more preferably 1.0 × 10 4 or less. By being 1.0 × 10 2 or more, it is preferable in terms of easy melt molding. 1.0 × 10 5 or less is preferable in that sagging during molding is suppressed. The thermomechanical analysis (TMA) of the polyimide resin according to the present invention can be measured by a method described in a known document (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-155341).

本発明に係るポリイミド樹脂における、残留溶媒の濃度には、特段の制限は無いが、通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、より好ましくは1重量%以下、さらに好ましくは0.5重量%以下、特に好ましくは0.1重量%以下である。一方、下限に制限はない。ポリイミド樹脂中の溶媒の濃度をこの範囲内に調整することで、後述する溶融時に著しい発泡が見られたり、可燃性ガスが発生する等問題点が生じないため好ましい。
ポリイミド樹脂における溶媒の濃度は、公知文献(特開2006−70130号公報)によって測定することができる。
The concentration of the residual solvent in the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and further preferably 0.5% by weight. % Or less, particularly preferably 0.1% by weight or less. On the other hand, there is no limit on the lower limit. It is preferable to adjust the concentration of the solvent in the polyimide resin within this range because problems such as remarkable foaming at the time of melting described later and generation of flammable gas do not occur.
The density | concentration of the solvent in a polyimide resin can be measured by well-known literature (Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-70130).

本発明に係るポリイミド樹脂における、ポリイミド樹脂の濃度には、特段の制限は無いが、通常50重量%以上、好ましくは80重量%以上であり、一方、上限に制限は無い。ポリイミド樹脂の濃度をこの範囲内に調製することで溶融時の発泡や着色などを抑制でき、良好な作業性を達成しうる。
ポリイミド樹脂中の、未反応物であるポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂のポリイミド樹脂に対する割合は特に制限されないが、通常30重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下である。ポリイミド樹脂中に30%以上のポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂が含有すると、ポリイミド樹脂と、ポリアミック酸樹脂又はポリアミック酸エステル樹脂とが相分離することにより、ポリイミド樹脂に白濁が生じる可能性がある。また、不均一に相分離したポリイミド樹脂を溶融成形に用いた場合、成形体も不均一になって成形体に凹凸や白濁などが生じる可能性がある。
The concentration of the polyimide resin in the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 50% by weight or more, preferably 80% by weight or more, while the upper limit is not limited. By adjusting the concentration of the polyimide resin within this range, foaming and coloring at the time of melting can be suppressed, and good workability can be achieved.
The ratio of the unreacted polyamic acid resin or polyamic acid ester resin to the polyimide resin in the polyimide resin is not particularly limited, but is usually 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. is there. When 30% or more of the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin is contained in the polyimide resin, the polyimide resin and the polyamic acid resin or the polyamic acid ester resin may be phase-separated to cause white turbidity in the polyimide resin. . Moreover, when the polyimide resin phase-separated inhomogeneously is used for melt molding, the molded body may also be non-uniform and unevenness or white turbidity may occur in the molded body.

ポリイミド樹脂の示差走査熱量測定法(DSC法)によるガラス転移温度(Tg)は、通常150℃以上であり、好ましくは200℃以上、より好ましくは250℃以上である。ガラス転移温度が150℃以上であることにより、本発明において得られるポリイミド樹脂成形体の耐熱性が向上しうる点で好ましい。
ポリイミド樹脂の熱膨張率は、100〜200℃の範囲において100ppm/K以下であることが好ましく、70ppm/K以下であることがより好ましい。熱膨張率がこのような範囲にあることにより、寸法精度の高い成形体が製造できる点で好ましい。
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin by differential scanning calorimetry (DSC method) is usually 150 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher. A glass transition temperature of 150 ° C. or higher is preferable in that the heat resistance of the polyimide resin molded article obtained in the present invention can be improved.
The coefficient of thermal expansion of the polyimide resin is preferably 100 ppm / K or less, more preferably 70 ppm / K or less in the range of 100 to 200 ° C. A coefficient of thermal expansion in such a range is preferable in that a molded body with high dimensional accuracy can be manufactured.

本発明において得られるポリイミド樹脂は透明で、着色が少なく耐熱性を有し、高い機械強度を有しうる。本明細書において、無色又は透明であることは、目的とする形状に成形された際に、400nmの光線の透過率が通常60%以上、好適には70%以上、特に好適には80%以上であるものをいう。光線透過率が高い本発明において得られるポリイミド樹脂は、透光性を必要とするデバイス、例えば光電変換素子などにおいて好適に用い
られる。本明細書においては、透過率として、JIS K 7361−1による、400nmにおける全光線透過率を用いる。
The polyimide resin obtained in the present invention is transparent, has little coloration, has heat resistance, and can have high mechanical strength. In the present specification, being colorless or transparent means that the transmittance of a light beam at 400 nm is usually 60% or more, preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more when formed into a target shape. It means what is. The polyimide resin obtained in the present invention having a high light transmittance is suitably used in a device that requires translucency, such as a photoelectric conversion element. In this specification, the total light transmittance at 400 nm according to JIS K 7361-1 is used as the transmittance.

また、本発明において得られるポリイミド樹脂の、膜厚が50±5μmである際の黄色度[イエローインデックス(YI)]は、通常−10以上、好ましくは、−5以上、より好ましくは、−1以上である。一方、通常20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。
本発明において得られるポリイミド樹脂は、溶融成形する成形方法に依存するが、以下のような機械的強度を有することが好ましい。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張強度は、特段の制限はないが、通常50MPa以上、好ましくは70MPa以上であり、一方、通常400MPa以下、好ましくは300MPa以下である。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張弾性率は、特段の制限はないが、通常1000MPa以上、好ましくは1500MPaであり、一方、通常20Gpa以下、好ましくは10Gpa以下である。
The yellowness [yellow index (YI)] of the polyimide resin obtained in the present invention when the film thickness is 50 ± 5 μm is usually −10 or more, preferably −5 or more, more preferably −1. That's it. On the other hand, it is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less.
Although the polyimide resin obtained in the present invention depends on a molding method for melt molding, it preferably has the following mechanical strength.
The tensile strength of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 50 MPa or more, preferably 70 MPa or more, and is usually 400 MPa or less, preferably 300 MPa or less.
The tensile elastic modulus of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 1000 MPa or more, preferably 1500 MPa, while it is usually 20 Gpa or less, preferably 10 Gpa or less.

本発明に係るポリイミド樹脂の引張伸度は、特段の制限はないが、通常10%GL以上、好ましくは20%GLであり、一方、通常300%GL以下、好ましくは200%GL以下である。ポリイミド樹脂がこのような機械的強度を有することにより、より耐久性の高い成形体が得られうる。
本発明に係るポリイミド樹脂は、以下のような溶融物性を有することが好ましい。
ポリイミド樹脂の溶融粘度は、特段の制限は無いが、330℃において、通常1.0×10 Pa・s以上、好ましくは1.0×10 Pa・s以上である。一方、通常1.0×10 Pa・s以下、好ましくは1.0×10 Pa・s以下、より好ましくは1.0×10 Pa・s以下、さらに好ましくは5.0×10 Pa・s以下、特に好ましくは3.0×10 Pa・s以下である。1.0×10Pa・s以上の溶融粘度を有するポリイミドは、靭性が高くなり、成型品としての使用に適する点で好ましい。また1.0×10 Pa・s以下の溶融粘度を有するポリイミドは流動性が良好となり、成型に適している点で好ましい。
本発明において得られるポリイミド樹脂の溶融粘度は、公知文献(特開平1−297427号公報)の方法で測定することができる。
The tensile elongation of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 10% GL or more, preferably 20% GL, and is usually 300% GL or less, preferably 200% GL or less. When the polyimide resin has such mechanical strength, a more durable molded body can be obtained.
The polyimide resin according to the present invention preferably has the following melt properties.
The melt viscosity of the polyimide resin is not particularly limited, but is usually 1.0 × 10 1 Pa · s or more, preferably 1.0 × 10 2 Pa · s or more at 330 ° C. On the other hand, it is usually 1.0 × 10 7 Pa · s or less, preferably 1.0 × 10 5 Pa · s or less, more preferably 1.0 × 10 4 Pa · s or less, and further preferably 5.0 × 10 3. Pa · s or less, particularly preferably 3.0 × 10 3 Pa · s or less. Polyimide having a melt viscosity of 1.0 × 10 1 Pa · s or higher is preferable in that it has high toughness and is suitable for use as a molded product. A polyimide having a melt viscosity of 1.0 × 10 7 Pa · s or less is preferable in that it has good fluidity and is suitable for molding.
The melt viscosity of the polyimide resin obtained in the present invention can be measured by the method of a known document (Japanese Patent Laid-Open No. 1-297427).

また、後述の工程のポリイミド樹脂溶融時の流動性を制御するために、本発明に係るポリイミド樹脂には添加剤が添加されていてもよい。例えば本発明に係るポリイミド樹脂には、シランカップリング剤又はチタンカップリング剤などのカップリング剤を添加することができる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、γ−アミノエチルトリエトキシシラン、γ−アミノエチルトリメトキシシラン、γ−アミノエチルトリプロポキシシラン、γ−アミノエチルトリブトキシシラン、γ−アミノブチルトリエトキシシラン、γ−アミノブチルトリメトキシシラン、γ−アミノブチルトリプロポキシシラン、及びγ−アミノブチルトリブトキシシランなどが挙げられる。
Moreover, in order to control the fluidity | liquidity at the time of the polyimide resin melting of the below-mentioned process, the additive may be added to the polyimide resin which concerns on this invention. For example, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent can be added to the polyimide resin according to the present invention.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltripropoxysilane, γ-aminopropyltributoxysilane, γ-aminoethyltriethoxysilane, γ -Aminoethyltrimethoxysilane, γ-aminoethyltripropoxysilane, γ-aminoethyltributoxysilane, γ-aminobutyltriethoxysilane, γ-aminobutyltrimethoxysilane, γ-aminobutyltripropoxysilane, and γ- Examples include aminobutyl tributoxysilane.

チタンカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシチタン、γ−アミノプロピルトリメトキシチタン、γ−アミノプロピルトリプロポキシチタン、γ−アミノプロピルトリブトキシチタン、γ−アミノエチルトリエトキシチタン、γ−アミノエチルトリメトキシチタン、γ−アミノエチルトリプロポキシチタン、γ−アミノエチルトリブトキシチタン、γ−アミノブチルトリエトキシチタン、γ−アミノブチルトリメトキシチタン、γ−アミノブチルトリプロポキシチタン、及びγ−アミノブチルトリブトキ
シチタンなどが挙げられる。
Examples of the titanium coupling agent include γ-aminopropyltriethoxytitanium, γ-aminopropyltrimethoxytitanium, γ-aminopropyltripropoxytitanium, γ-aminopropyltributoxytitanium, γ-aminoethyltriethoxytitanium, γ -Aminoethyltrimethoxytitanium, gamma-aminoethyltripropoxytitanium, gamma-aminoethyltributoxytitanium, gamma-aminobutyltriethoxytitanium, gamma-aminobutyltrimethoxytitanium, gamma-aminobutyltripropoxytitanium, and gamma- Examples include aminobutyl tributoxy titanium.

本発明に係るポリイミド樹脂は、1種のカップリング剤を含んでいてもよいし、2種以上のカップリング剤を含んでいてもよい。本発明に係るポリイミド樹脂が含有するカップリング剤の量は、得られる膜の物性を向上させる観点から、ポリイミド樹脂に対して、0.1質量%以上、3質量%以下が好ましい。
その他、必要に応じて、例えば、発明の目的を損なわない範囲で、粉末状、粒状、板状、又は繊維状などの、無機系充填剤又は有機系充填剤を配合することができる。
The polyimide resin according to the present invention may contain one type of coupling agent or may contain two or more types of coupling agents. The amount of the coupling agent contained in the polyimide resin according to the present invention is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less with respect to the polyimide resin from the viewpoint of improving the physical properties of the obtained film.
In addition, if necessary, for example, an inorganic filler or an organic filler such as powder, granule, plate, or fiber can be blended within a range that does not impair the object of the invention.

無機系充填剤としては、例えばシリカ、ケイ藻土、バリウムフェライト、酸化ベリリウム、軽石又は軽石バルーンなどの酸化物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム又は塩基性炭酸マグネシウムなどの水酸化物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ドロマイト又はドーソナイトなどの炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸アンモニウム又は亜硫酸カルシウムなどの硫酸塩及び亜硫酸塩;タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスバルーン、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト又はベントナイトなどのケイ酸塩;炭素繊維、カーボンブラック、グラファイト又は炭素中空球などの炭素類;硫化モリブデン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム又はボロン繊維などの粉末状、粒状、板状又は、繊維状の無機質充填剤;金属元素、金属化合物、合金などの粉末状、粒状、繊維状、又はウイスカー状の金属充填剤;炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア、窒化アルミニウム、炭化チタン、チタン酸カリウムなどの粉末状、粒状、繊維状、又はウイスカー状のセラミックス充填剤などが挙げられる。   Examples of inorganic fillers include oxides such as silica, diatomaceous earth, barium ferrite, beryllium oxide, pumice or pumice balloon; hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide or basic magnesium carbonate; calcium carbonate, Carbonates such as magnesium carbonate, dolomite or dosonite; sulfates and sulfites such as calcium sulfate, barium sulfate, ammonium sulfate or calcium sulfite; talc, clay, mica, asbestos, glass fiber, glass balloon, glass beads, calcium silicate, Silicates such as montmorillonite or bentonite; carbons such as carbon fiber, carbon black, graphite or carbon hollow sphere; molybdenum sulfide, zinc borate, barium metaborate, calcium borate, sodium borate or boron Powder-like, granular, plate-like, or fibrous inorganic fillers such as fibers; Powder-like, granular, fibrous, or whisker-like metal fillers such as metal elements, metal compounds, and alloys; silicon carbide, silicon nitride, Examples thereof include powder fillers such as zirconia, aluminum nitride, titanium carbide, and potassium titanate, granular, fibrous, or whisker-like ceramic fillers.

一方、有機系充填剤としては、例えばモミ殻などの殻繊維、カーボンナノチューブ、フラーレン、木粉、木綿、ジュート、紙細片、セロハン片、芳香族ポリアミド繊維、セルロース繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維、ポリプロピレン繊維、熱硬化性樹脂粉末、及びゴムなどを挙げることができる。
充填剤としては、不織布など平板状に加工したものを用いてもよいし、複数の材料を混ぜて用いてもよい。さらに所望に応じ、樹脂に通常用いられている各種添加剤、例えば滑剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤又は離型剤などを、本発明に係るポリイミド樹脂に配合してもよい。これら各種充填剤及び添加成分は、ポリイミド樹脂を製造するどの工程のどの段階で添加してもよい。
On the other hand, examples of the organic filler include shell fibers such as fir shells, carbon nanotubes, fullerenes, wood flour, cotton, jute, paper strips, cellophane pieces, aromatic polyamide fibers, cellulose fibers, nylon fibers, polyester fibers, Examples thereof include polypropylene fiber, thermosetting resin powder, and rubber.
As a filler, what was processed into flat form, such as a nonwoven fabric, may be used, and a plurality of materials may be mixed and used. Furthermore, if desired, various additives commonly used for resins, such as lubricants, colorants, stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, flame retardants, plasticizers or release agents, You may mix | blend with the polyimide resin which concerns on invention. These various fillers and additive components may be added at any stage of any process for producing the polyimide resin.

[3.ポリイミド樹脂を溶融成形する工程]
本発明に係るポリイミド樹脂を溶融し、成形してポリイミド樹脂成形体を得る工程について説明する。
まず、本発明のポリイミド樹脂を溶融する工程について、説明する。
溶融温度は、本発明のポリイミド樹脂の融点以上であれば特に制限されるものではないが、融点以上ポリイミド樹脂の分解温度未満で行うことが好ましい。
[3. Process of melt-molding polyimide resin]
A process for obtaining a polyimide resin molded body by melting and molding the polyimide resin according to the present invention will be described.
First, the process of melting the polyimide resin of the present invention will be described.
The melting temperature is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the melting point of the polyimide resin of the present invention, but is preferably performed at a temperature equal to or higher than the melting point and lower than the decomposition temperature of the polyimide resin.

また、所望に応じ、本発明の目的を損なわない範囲で、無機系充填剤、有機系充填剤、金属充填剤、滑剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤、離型剤等を配合することができる。本発明ポリイミド樹脂を熱可塑性樹脂とし、上記の充填剤及び所望に応じて用いられる各種添加成分を混合して、混練機で混練することにより調製してもよいし、又はあらかじめ熱可塑性樹脂及び所望に応じて用いられる添加成分を押出機に定量供給して混練を行い、樹脂が溶融した部分に、充填剤をサイドフィードして混練することにより調製してもよい。   Further, if desired, inorganic fillers, organic fillers, metal fillers, lubricants, colorants, stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, as long as the object of the present invention is not impaired. A flame retardant, a plasticizer, a mold release agent, etc. can be mix | blended. The polyimide resin of the present invention may be used as a thermoplastic resin, and may be prepared by mixing the above fillers and various additive components used as desired, and kneading with a kneader, or may be prepared in advance with a thermoplastic resin and desired Depending on the conditions, the additive component used may be quantitatively supplied to the extruder and kneaded, and the filler may be prepared by side-feeding and kneading the filler in the melted portion.

さらに充填剤を不織布等平板状に加工したものを軟化した本発明ポリイミド樹脂でラミネートしても良い。混練機については、ポリイミド樹脂と充填剤、添加剤とを混練しうる
ものであればよく、特に制限されず、例えば単軸押出機、多軸押出機等のスクリュー押出機、エラスチック押出機、ハイドロダイナミック押出機、ラム式連続押出機、ロール式押出機又はギア式押出機等の非スクリュー押出機等を挙げることができる。
Furthermore, you may laminate with the polyimide resin of this invention which softened what processed the filler into flat form, such as a nonwoven fabric. The kneading machine is not particularly limited as long as it can knead the polyimide resin, the filler, and the additive. For example, a screw extruder such as a single-screw extruder or a multi-screw extruder, an elastic extruder, a hydro extruder, or the like. Non-screw extruders such as dynamic extruders, ram-type continuous extruders, roll-type extruders, and gear-type extruders can be exemplified.

次に、ポリイミド樹脂溶融物を成形する工程について、説明する。上記で得られた本発明のポリイミド樹脂は、射出成形法、押出成形法、中空成形法、圧縮成形法、積層成形法、ロール加工法、延伸加工法、スタンプ加工法、熱プレス法又はT−ダイ法等の種々の成形法により、所望の成形品に成形される。特に本発明のポリイミドは無色透明であるため、押出成形法、積層成形法、延伸加工法などにより、透明耐熱フィルムを製造することができる。また、射出成形法などを用いることにより、レンズや導光板などの各種成形品を製造することができる。その際の反応温度は特に制限されないが、通常ガラス転移温度以上であり、一方、通常分解温度以下である。
押出成形、ロール加工法、延伸加工法等、型を使用しないで成形を行う場合は、雰囲気は空気下でも不活性雰囲気下でもよく、圧力は、常圧、加圧、又は減圧のいずれでもよい。
Next, the process of shaping the polyimide resin melt will be described. The polyimide resin of the present invention obtained above is an injection molding method, an extrusion molding method, a hollow molding method, a compression molding method, a lamination molding method, a roll processing method, a stretching processing method, a stamp processing method, a hot press method or T-. It is molded into a desired molded product by various molding methods such as a die method. In particular, since the polyimide of the present invention is colorless and transparent, a transparent heat-resistant film can be produced by an extrusion molding method, a lamination molding method, a stretching method, or the like. Further, by using an injection molding method or the like, various molded products such as lenses and light guide plates can be manufactured. The reaction temperature at that time is not particularly limited, but is usually not lower than the glass transition temperature, and is usually not higher than the decomposition temperature.
When molding is performed without using a mold, such as extrusion molding, roll processing method, stretching processing method, etc., the atmosphere may be in the air or in an inert atmosphere, and the pressure may be any of normal pressure, pressurized pressure, or reduced pressure. .

<3.1 ポリイミド樹脂成形体>
本発明で得られるポリイミド樹脂成形体は、一般的なキャスト法では成形不可能な膜厚1mm以上のシートや、レンズ、ライトカバーなど立体的な成形体を製造可能である。
ゆえに、本発明により得られるポリイミド樹脂成形体は既存のポリイミド樹脂では達成できなかった透明性、機械特性に優れ、かつ3次元的に複雑な形状を兼ね備える。また、一般的な溶液キャスト法でフィルムを製造した場合、フィルムの表と裏で、支持体との接触の有無によりフィルム表面のポリマー鎖や官能基の配列が異なり、フィルムの表裏で物性(液体の接触角や、接着性、表面平滑性など)が異なる場合がある。しかし、本発明によれば加熱状態で支持体などと接する時間が全くない、又は短時間であるため、フィルムの表と裏で性能の差が生じにくい特徴を有する点で好ましい。
<3.1 Polyimide resin molding>
The polyimide resin molded body obtained by the present invention can produce a three-dimensional molded body such as a sheet having a film thickness of 1 mm or more, a lens, and a light cover that cannot be molded by a general casting method.
Therefore, the polyimide resin molded body obtained by the present invention is excellent in transparency and mechanical properties that cannot be achieved by existing polyimide resins, and has a three-dimensionally complicated shape. In addition, when a film is produced by a general solution casting method, the arrangement of polymer chains and functional groups on the surface of the film differs depending on the presence or absence of contact with the support on the front and back of the film. Contact angle, adhesiveness, surface smoothness, etc.) may be different. However, according to the present invention, there is no time for contact with the support or the like in the heated state, or the time is short, which is preferable in that the difference in performance between the front side and the back side of the film hardly occurs.

本発明に係るポリイミド樹脂成形体における、残留溶媒の濃度には、特段の制限は無いが、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下、より好ましくは1重量%以下、さらに好ましくは0.5重量%以下、特に好ましくは0.1重量%以下である。一方、下限に制限はない。ポリイミド樹脂成形体中の溶媒の濃度をこの範囲内に調整することで、続く電子デバイスなどの製造プロセスなどにおいて揮発する溶媒による悪影響を抑制できるため望ましい。
本発明に係るポリイミド樹脂成形体の示差走査熱量測定法(DSC法)によるガラス転移温度(Tg)は、通常170℃以上であり、好ましくは200℃以上、より好ましくは250℃以上である。ガラス転移温度が170℃以上であることにより、続く各種電子デバイス製造プロセスなどにおいて、より高温プロセスに対応できるため好ましい。ポリイミド樹脂の熱膨張率は、100〜200℃の範囲において通常70ppm/K以下、好ましくは50ppm/K以下、さらに好ましくは30ppm以下、特に好ましくは20ppm以下である。熱膨張率がこのような範囲にあることにより、続く電子デバイスなどの製造プロセスなどにおいて位置ずれ、反りなどを抑制できるため望ましい。
Although there is no special restriction | limiting in the density | concentration of the residual solvent in the polyimide resin molding which concerns on this invention, Usually, 10 weight% or less, Preferably it is 5 weight% or less, More preferably, it is 1 weight% or less, More preferably, it is 0.00. It is 5% by weight or less, particularly preferably 0.1% by weight or less. On the other hand, there is no limit on the lower limit. By adjusting the concentration of the solvent in the polyimide resin molded product within this range, it is desirable because adverse effects due to the solvent that volatilizes in subsequent manufacturing processes of electronic devices and the like can be suppressed.
The glass transition temperature (Tg) of the polyimide resin molding according to the present invention by differential scanning calorimetry (DSC method) is usually 170 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher. It is preferable for the glass transition temperature to be 170 ° C. or higher because it can cope with higher temperature processes in various subsequent electronic device manufacturing processes. The coefficient of thermal expansion of the polyimide resin is usually 70 ppm / K or less, preferably 50 ppm / K or less, more preferably 30 ppm or less, and particularly preferably 20 ppm or less in the range of 100 to 200 ° C. It is desirable that the coefficient of thermal expansion be in such a range because positional deviation, warpage, and the like can be suppressed in subsequent manufacturing processes such as electronic devices.

本発明に係るポリイミド樹脂成形体は透明で、着色が少なく耐熱性を有し、高い機械強度を有しうる。目的とする形状に成形された際に、400nmの光線の透過率が通常60%以上、好適には70%以上、特に好適には80%以上である。光線透過率がこのような範囲にあることにより、本発明において得られるポリイミド樹脂成形体を用いた電子デバイスなどにおいて発光、吸光の妨げとならないため望ましい。   The polyimide resin molded body according to the present invention is transparent, has little coloration, has heat resistance, and can have high mechanical strength. When formed into the target shape, the transmittance of light of 400 nm is usually 60% or more, preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The light transmittance in such a range is desirable because it does not hinder light emission and absorption in an electronic device using the polyimide resin molded body obtained in the present invention.

また、本発明に係るポリイミド樹脂成形体の、膜厚が50±5μmである際の黄色度[イエローインデックス(YI)]は、通常−10以上、好ましくは、−5以上、より好ま
しくは、−1以上である。一方、通常20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。黄色度がこのような範囲にあることにより、本発明において得られるポリイミド樹脂成形体を用いた電子デバイスなどにおいて発光、吸光の妨げとならないため望ましい。
The yellowness [yellow index (YI)] of the polyimide resin molded product according to the present invention when the film thickness is 50 ± 5 μm is usually −10 or more, preferably −5 or more, more preferably − 1 or more. On the other hand, it is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less. It is desirable that the yellowness is in such a range because it does not hinder light emission and light absorption in an electronic device using the polyimide resin molding obtained in the present invention.

本発明に係るポリイミド樹脂成形体は、溶融成形する成形方法に依存するが、以下のような機械的強度を有することが好ましい。本発明に係るポリイミド樹脂の引張強度は、特段の制限はないが、通常50MPa以上、好ましくは70MPa以上であり、一方、通常400MPa以下、好ましくは300MPa以下である。
本発明に係るポリイミド樹脂の引張弾性率は、特段の制限はないが、通常1000MPa以上、好ましくは1500MPaであり、一方、通常20Gpa以下、好ましくは10Gpa以下である。
The polyimide resin molded body according to the present invention depends on a molding method for melt molding, but preferably has the following mechanical strength. The tensile strength of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 50 MPa or more, preferably 70 MPa or more, and is usually 400 MPa or less, preferably 300 MPa or less.
The tensile elastic modulus of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 1000 MPa or more, preferably 1500 MPa, while it is usually 20 Gpa or less, preferably 10 Gpa or less.

本発明に係るポリイミド樹脂の引張伸度は、特段の制限はないが、通常10%GL以上、好ましくは20%GL以上であり、一方、通常400%GL以下、好ましくは300%GL以下である。ポリイミド樹脂成形体がこのような機械的強度を有することにより、より耐久性の高い電子デバイスなどが得られうる。   The tensile elongation of the polyimide resin according to the present invention is not particularly limited, but is usually 10% GL or more, preferably 20% GL or more, and is usually 400% GL or less, preferably 300% GL or less. . When the polyimide resin molding has such mechanical strength, a more durable electronic device or the like can be obtained.

<3.2 ポリイミド樹脂成形体の用途>
本発明で得られるポリイミド樹脂は上記の多彩な成形方法により様々な形状のほとんど無色透明なポリイミド樹脂成形体とすることができる。このことにより、ポリイミド樹脂の代表的な用途であるフィルム用途だけでなく、幅広い用途への応用が可能である。例えばフレキシブル太陽電池用部材、ディスプレイ用部材、IC包装用トレー、IC製造工程用トレー、ICソケット、ウェハーキャリア、コネクター、ソケット、ハードディスクキャリア、液晶ディスプレイキャリア、水晶発振器製造用トレー、コピー機用分離爪、コピー機用断熱軸受け、コピー機用ギア、スラストワッシャー、トランスミッションリング、ピストンリング、オイルシールリング、ベアリングリテーナー、ポンプギア、コンベアチェーン、ストレッチマシン用スライドブッシュ、耐熱絶縁テープ、耐熱粘着テープ、高密度磁気記録ベース、又はコンデンサー若しくはフレキシブルプリント基板用のフィルム等の製造に用いることができる。また、例えばガラス繊維や炭素繊維等で補強した構造部材、小型コイルのボビン又は端末絶縁用チューブの成形品の製造にも用いられる。
<3.2 Applications of polyimide resin molding>
The polyimide resin obtained in the present invention can be made into an almost colorless and transparent polyimide resin molded body having various shapes by the above-described various molding methods. As a result, not only film applications, which are typical uses of polyimide resins, but also a wide range of applications are possible. For example, flexible solar cell member, display member, IC packaging tray, IC manufacturing tray, IC socket, wafer carrier, connector, socket, hard disk carrier, liquid crystal display carrier, crystal oscillator manufacturing tray, copier separation claw , Heat insulating bearings for photocopiers, gears for photocopiers, thrust washers, transmission rings, piston rings, oil seal rings, bearing retainers, pump gears, conveyor chains, slide bushes for stretch machines, heat-resistant insulation tape, heat-resistant adhesive tape, high-density magnetic It can be used for production of a recording base, a film for a capacitor or a flexible printed circuit board, and the like. Moreover, it is used also for manufacture of the molded product of the structural member reinforced with glass fiber, carbon fiber, etc., the bobbin of a small coil, or the terminal insulation tube, for example.

また、絶縁スペーサー、磁気ヘッドスペーサー又はトランスのスペーサー等の積層材の製造に用いることができる。また、電線・ケーブル絶縁被覆材、低温貯蔵タンク、宇宙断熱材又は集積回路等のエナメルコーティング材の製造に用いることができる。さらに耐熱性を有する糸、織物又は不織布等の製造にも用いることができる。   Further, it can be used for the production of laminated materials such as insulating spacers, magnetic head spacers or transformer spacers. Moreover, it can be used for manufacture of enamel coating materials such as electric wire / cable insulation coating materials, low-temperature storage tanks, space insulation materials, and integrated circuits. Furthermore, it can also be used for the production of heat-resistant yarns, woven fabrics or nonwoven fabrics.

以下に実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の例に限定されるものではない。
[熱機械分析(TMA)]
熱機械分析装置(SII社製、TMA/SS6000)を用い、測定条件1及び2にてサンプル変形を測定し、軟化温度及び溶融伸度を求めた。測定条件1における試験片の変形開始温度を軟化温度と定義し、測定条件2における60分間経過後のサンプルの変形量を溶融伸度(μm)と定義した。
測定条件1:測定温度範囲50℃〜400℃(昇温速度:10℃/min)、引張り加重:5g、サンプル形状4mm×10mm、厚さ45μm。
測定条件2:測定温度270℃、引張り加重10g、保持時間60分間、サンプル形状4mm×5mm、厚さ45μm。
Examples The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.
[Thermomechanical analysis (TMA)]
Using a thermomechanical analyzer (manufactured by SII, TMA / SS6000), sample deformation was measured under measurement conditions 1 and 2, and a softening temperature and a melt elongation were obtained. The deformation start temperature of the test piece under the measurement condition 1 was defined as the softening temperature, and the deformation amount of the sample after 60 minutes under the measurement condition 2 was defined as the melt elongation (μm).
Measurement conditions 1: Measurement temperature range 50 ° C. to 400 ° C. (temperature increase rate: 10 ° C./min), tensile load: 5 g, sample shape 4 mm × 10 mm, thickness 45 μm.
Measurement condition 2: Measurement temperature 270 ° C., tensile load 10 g, holding time 60 minutes, sample shape 4 mm × 5 mm, thickness 45 μm.

[溶融成形試験]
ポリイミド樹脂0.1gをフッ素樹脂製の成形枠に入れ、加熱プレス(井元製作所製 小型加熱プレス180E)で約5分間、280℃でポリイミド樹脂を加熱溶融した。その後、30MPaの圧力で280℃、約2分間加熱圧縮して溶融成形した。その結果、成形枠の形状の成形体が得られた場合を○、成形不良(流動不足)が観察された場合を×とした。各試験においてサンプルを4点ずつ成形し、○のサンプルの個数で溶融成形性を評価した。
[Melting test]
0.1 g of polyimide resin was placed in a fluororesin molding frame, and the polyimide resin was heated and melted at 280 ° C. for about 5 minutes with a heating press (small heating press 180E manufactured by Imoto Seisakusho). Then, it was melt-molded by heating and compressing at 280 ° C. for about 2 minutes at a pressure of 30 MPa. As a result, a case where a molded body having a shape of a forming frame was obtained was marked with ◯, and a case where a molding defect (insufficient flow) was observed was marked with x. In each test, four samples were molded, and the melt moldability was evaluated by the number of samples with a circle.

[引張弾性率、引張強度、引張伸度]
ポリイミド樹脂片又はポリイミド溶融成形体を幅5mmの短冊状に切り出して試験片とし、引張試験機(オリエンテック社製、STA−1225)を用い、引張速度10mm/分、チャック間距離10mmで23℃,50%RH環境下で測定した。応力−歪曲線の初期の勾配から引張弾性率を、最大応力及び伸び率から、引張強度及び引張伸度を、それぞれ求めた。
[Tensile modulus, tensile strength, tensile elongation]
A polyimide resin piece or a polyimide melt-molded product is cut into a strip shape having a width of 5 mm to form a test piece, and a tensile tester (STA-1225, manufactured by Orientec Co., Ltd.) is used, and the tensile speed is 10 mm / min, and the chuck distance is 10 mm. , Measured in a 50% RH environment. The tensile elastic modulus was determined from the initial slope of the stress-strain curve, and the tensile strength and tensile elongation were determined from the maximum stress and elongation.

[残留溶媒量測定]
示差熱‐熱重量測定装置(SII社製TG/DTA6200)を用いて下記測定条件にしたがって測定した。測定条件:ポリイミド樹脂片又はポリイミド溶融成形体20mgを40℃から100℃まで、昇温速度20℃/分で加温した後に、100℃で30分間静置した。その後、100℃から350℃まで、昇温速度10℃/分で加温し、150℃から300℃までの重量減少を残留溶媒含有量と定義した。
[Residual solvent amount measurement]
It measured according to the following measurement conditions using the differential thermal-thermogravimetry apparatus (TG / DTA6200 by SII). Measurement conditions: A polyimide resin piece or 20 mg of a polyimide melt-molded product was heated from 40 ° C. to 100 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./min, and then allowed to stand at 100 ° C. for 30 minutes. Then, it heated from 100 degreeC to 350 degreeC with the temperature increase rate of 10 degree-C / min, and the weight reduction from 150 degreeC to 300 degreeC was defined as residual solvent content.

[分子量測定]
本発明に係るポリイミド樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)により、下記の方法で求めた。先ず、下記の条件で標準ポリスチレンのGPCを測定し、検量線を作成した。引き続き同一の条件により試料(ポリイミド)のGPCを測定し、ポリスチレン換算の平均分子量を求めた。
測定条件:
カラム:Shodex AD−80M/S 3本
プレカラム:Shodex KF−G 1本
溶媒:N,N−ジメチルホルムアミド(LiBr 50mmol/lを含む)
流速:1.0ml/min
温度:カラム35℃
試料濃度:0.5重量%
検出器:UV検出器
較正試料:単分散標準ポリスチレン
[溶融物性測定]
島津高架式フローテスター(島津製作所製、CFT−500A)を用い、下記測定条件でポリイミドの流動開始温度および溶融粘度を測定した。オリフィスより溶融樹脂が流出し始める温度を流動開始温度と定義した。また、十分な溶融流動性(1.0x10Pa・s以下)を発現する温度を必要流動温度と定義した。
測定条件:測定温度範囲200℃〜350℃(昇温速度:3℃/min)荷重40kg、内径2mm、長さ10mmのオリフィス、サンプル量1.3グラム。
[Molecular weight measurement]
The polystyrene equivalent weight average molecular weight of the polyimide resin according to the present invention was determined by gel permeation chromatography (GPC) by the following method. First, GPC of standard polystyrene was measured under the following conditions to prepare a calibration curve. Subsequently, GPC of the sample (polyimide) was measured under the same conditions, and an average molecular weight in terms of polystyrene was obtained.
Measurement condition:
Column: 3 Shodex AD-80M / S Precolumn: 1 Shodex KF-G Solvent: N, N-dimethylformamide (including LiBr 50 mmol / l)
Flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: Column 35 ° C
Sample concentration: 0.5% by weight
Detector: UV detector Calibration sample: Monodisperse standard polystyrene [Melt property measurement]
Using a Shimadzu elevated flow tester (manufactured by Shimadzu Corporation, CFT-500A), the flow start temperature and melt viscosity of the polyimide were measured under the following measurement conditions. The temperature at which the molten resin began to flow out of the orifice was defined as the flow start temperature. Further, the temperature at which sufficient melt fluidity (1.0 × 10 5 Pa · s or less) was expressed was defined as the required flow temperature.
Measurement conditions: Measurement temperature range 200 ° C. to 350 ° C. (temperature increase rate: 3 ° C./min) Load 40 kg, internal diameter 2 mm, length 10 mm orifice, sample amount 1.3 grams.

<合成例>
(第1工程:1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物(H−BPDA)の合成)
<Synthesis example>
(First Step: Synthesis of 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4,4′-dianhydride (H-BPDA))

Figure 2013014759
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1,1’−ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物(三菱化学社製)150gを、水593gに水酸化ナトリウム83.3gを溶解させた溶液に溶解して、1,1’−ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸四ナトリウム塩の水溶液を作製し、この塩をルテニウム/カーボン触媒を用いて10MPaG、120℃で核水素化した。次いで49%硫酸水溶液429gを滴下し、析出した固体を濾過することにより、ジシクロヘキシル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸(H−BTC)157g(収率81%)を得た。   150 g of 1,1′-biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was dissolved in a solution obtained by dissolving 83.3 g of sodium hydroxide in 593 g of water. An aqueous solution of 1,1′-biphenyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid tetrasodium salt was prepared, and this salt was nuclear hydrogenated at 10 MPaG and 120 ° C. using a ruthenium / carbon catalyst. Subsequently, 429 g of a 49% sulfuric acid aqueous solution was added dropwise, and the precipitated solid was filtered to obtain 157 g of dicyclohexyl-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid (H-BTC) (yield 81%).

温度計、攪拌機、及びジムロート冷却管を備えた300mlの3口フラスコに、得られたH−BTC 33.7g(0.98mol)及び無水酢酸90gを窒素下にて加えた。この混合物を攪拌しながら昇温し、還流温度(130℃〜140℃)で3時間反応させた。反応後、反応溶液を10℃まで冷却し、固体を濾過することにより、白色の結晶を得た。得られた結晶をトルエンにて洗浄し、減圧乾燥機にて乾燥することにより、1,1’−ビシクロヘキサン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸−3,3’,4,4’−二無水物(H−BPDA)含有組成物23.5g(収率78%)を得た。   To a 300 ml three-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a Dimroth condenser, 33.7 g (0.98 mol) of the obtained H-BTC and 90 g of acetic anhydride were added under nitrogen. The mixture was heated with stirring and reacted at reflux temperature (130 ° C. to 140 ° C.) for 3 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled to 10 ° C., and the solid was filtered to obtain white crystals. The obtained crystals were washed with toluene and dried with a vacuum drier to obtain 1,1′-bicyclohexane-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid-3,3 ′, 4, 23.5 g (yield 78%) of a 4′-dianhydride (H-BPDA) -containing composition was obtained.

(第2工程:ポリアミック酸エステル樹脂溶液の作成)
第1工程で得られたH−BPDA 12.3g(40.0mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド53.4gに加え、窒素気流下、室温で攪拌した。これにメタノール0.065g(2.02mmol)と、ジメチルアミノエタノール0.0037g(0.04mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド3.0gに溶解させたものとを加え、70℃で2時間攪拌した。その後、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(和光純薬工業社製)をN,N−ジメチルアセトアミド23gに溶解したものを加え、70℃で2時間、更に80℃で4時間過熱攪拌し、目的とするポリアミック酸エステル樹脂溶液を得た。
(Second step: preparation of polyamic acid ester resin solution)
12.3 g (40.0 mmol) of H-BPDA obtained in the first step was added to 53.4 g of N, N-dimethylacetamide and stirred at room temperature under a nitrogen stream. To this, 0.065 g (2.02 mmol) of methanol and 0.0037 g (0.04 mmol) of dimethylaminoethanol dissolved in 3.0 g of N, N-dimethylacetamide were added and stirred at 70 ° C. for 2 hours. . Thereafter, 4,4′-diaminodiphenyl ether (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) dissolved in 23 g of N, N-dimethylacetamide was added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 2 hours and further at 80 ° C. for 4 hours. A polyamic acid ester resin solution was obtained.

<実施例1>
(A工程:ポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程)
乾燥窒素ガス導入管、冷却器、トルエンを満たしたDean−Stark凝集器、攪拌機を備えた4口フラスコに、合成例で得られたポリアミック酸エステル樹脂溶液50g、トルエン7.5g、及びトリエチルアミン0.09gを加えた。次いで三口フラスコ内を窒素雰囲気とし、内温を190℃まで加熱して、イミド化に伴って発生する水をトルエンと共に共沸除去した。6時間加熱、還流、攪拌を続けると、水の発生は認められなくなった。引き続きトルエンとトリエチルアミンを除去しながら1時間加熱し、ポリイミド樹脂溶液を得た。
<Example 1>
(Step A: Step of obtaining a polyimide resin solution by imidizing a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent)
In a four-necked flask equipped with a dry nitrogen gas inlet tube, a condenser, a Dean-Stark agglomerator filled with toluene, and a stirrer, 50 g of the polyamic acid ester resin solution obtained in the synthesis example, 7.5 g of toluene, and 0. 09 g was added. Next, the inside of the three-necked flask was set to a nitrogen atmosphere, the internal temperature was heated to 190 ° C., and water generated accompanying imidization was removed azeotropically with toluene. When heating, refluxing and stirring were continued for 6 hours, generation of water was not observed. Subsequently, heating was performed for 1 hour while removing toluene and triethylamine to obtain a polyimide resin solution.

(B工程:ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程)
上記A工程で得られたポリイミド樹脂溶液をイソプロピルアルコールに滴下し、析出したポリイミド樹脂をろ別回収した後、減圧下80℃で3時間乾燥してポリイミド樹脂の固体を得た。得られたポリイミド樹脂の固体2gを8gのジメチルアセトアミド(DMAc
)に溶解し、ポリイミド樹脂溶液を得た。得られたポリイミド樹脂溶液をフィルムアプリケーターを用いてガラス板上に100μmの厚みで流延し、減圧下80℃で30分乾燥してフィルム化した。その後、窒素雰囲気下で230℃で1時間、更に300℃で1時間の乾燥してポリイミド樹脂膜を作製した。得られたポリイミド樹脂膜をガラス板から剥離し、ポリイミド樹脂片を得た。得られたポリイミド樹脂片に対し、各種ポリイミド樹脂片物性(熱機械分析(TMA)、引張弾性率、引張強度、引張伸度及び残留溶媒量)の測定について上述の通り行った。結果を表1に示す。
また、得られたポリイミド樹脂片を用いた溶融成形試験を上述の通り行った。結果を表1に示す。
(Step B: Step of removing the solvent from the polyimide resin solution to obtain a polyimide resin)
The polyimide resin solution obtained in the above step A was dropped into isopropyl alcohol, and the precipitated polyimide resin was collected by filtration and then dried at 80 ° C. under reduced pressure for 3 hours to obtain a polyimide resin solid. 2 g of the resulting polyimide resin solid was added to 8 g of dimethylacetamide (DMAc
) To obtain a polyimide resin solution. The obtained polyimide resin solution was cast on a glass plate with a thickness of 100 μm using a film applicator, and dried at 80 ° C. under reduced pressure for 30 minutes to form a film. Thereafter, it was dried at 230 ° C. for 1 hour and further at 300 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to prepare a polyimide resin film. The obtained polyimide resin film was peeled from the glass plate to obtain a polyimide resin piece. About the obtained polyimide resin piece, it measured as above-mentioned about the measurement of various polyimide resin piece physical properties (Thermomechanical analysis (TMA), tensile elastic modulus, tensile strength, tensile elongation, residual solvent amount). The results are shown in Table 1.
Moreover, the melt-molding test using the obtained polyimide resin piece was done as described above. The results are shown in Table 1.

<比較例1>
(ポリアミック酸エステル樹脂溶液から溶媒を除去し、その後加熱ポリイミド化によりポリイミド樹脂を得る工程)
合成例で得られたポリアミック酸エステル樹脂溶液をフィルムアプリケーターを用いてガラス板上に100μmの厚みで流延し、減圧下80℃で30分乾燥してフィルム化した後、窒素雰囲気下で230℃で1時間、更に300℃で1時間の加熱イミド化によりポリイミド樹脂膜を作製した。得られたポリイミド樹脂膜をガラス板から剥離し、ポリイミド樹脂片を得た。得られたポリイミド樹脂片に対し、各種ポリイミド樹脂片物性(熱機械分析(TMA)、引張弾性率、引張強度、引張伸度及び残留溶媒量)の測定について上述の通り行った。結果を表1に示す。
また、得られたポリイミド樹脂片を用いた溶融成形試験を上述の通り行った。結果を表1に示す。
<Comparative Example 1>
(The process of removing the solvent from the polyamic acid ester resin solution, and then obtaining the polyimide resin by heating polyimide)
The polyamic acid ester resin solution obtained in the synthesis example was cast to a thickness of 100 μm on a glass plate using a film applicator, dried at 80 ° C. for 30 minutes under reduced pressure to form a film, and then 230 ° C. in a nitrogen atmosphere. A polyimide resin film was prepared by heating imidization for 1 hour at 300 ° C. for 1 hour. The obtained polyimide resin film was peeled from the glass plate to obtain a polyimide resin piece. About the obtained polyimide resin piece, it measured as above-mentioned about the measurement of various polyimide resin piece physical properties (Thermomechanical analysis (TMA), tensile elastic modulus, tensile strength, tensile elongation, residual solvent amount). The results are shown in Table 1.
Moreover, the melt-molding test using the obtained polyimide resin piece was done as described above. The results are shown in Table 1.

Figure 2013014759
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表1の結果から、実施例1のポリイミド樹脂は溶融時の流動性に優れ、成形枠の形状の通りに成形されたことが分かる。一方、比較例1のポリイミド樹脂は溶融時の流動性に乏しく、成形不良が多く見られ、目的とする成形体を得ることができなかった。サンプルを目視したところ成形体にゲル成分が多く存在していた。
以上の結果から、本願発明に係わるポリイミド樹脂成形体の製造方法によれば、所望の形状の成形体を負荷の少ないプロセスで製造できることがわかる。
From the results in Table 1, it can be seen that the polyimide resin of Example 1 was excellent in fluidity at the time of melting and was molded according to the shape of the molding frame. On the other hand, the polyimide resin of Comparative Example 1 was poor in fluidity at the time of melting, many molding defects were observed, and the intended molded article could not be obtained. When the sample was visually observed, many gel components were present in the molded product.
From the above results, it can be seen that according to the method for manufacturing a polyimide resin molded body according to the present invention, a molded body having a desired shape can be manufactured by a process with less load.

<実施例2>
(ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程)
実施例1の(A工程)で得られたポリイミド樹脂溶液をイソプロピルアルコールに滴下し、析出したポリイミド樹脂をろ別回収した後、減圧下200℃で3時間乾燥してポリイ
ミド樹脂の固体を得た。得られたポリイミド樹脂に対し、溶融物性測定を行った。結果を表2に示す。
<Example 2>
(Process to obtain polyimide resin by removing solvent from polyimide resin solution)
The polyimide resin solution obtained in Example 1 (Step A) was dropped into isopropyl alcohol, and the precipitated polyimide resin was collected by filtration and then dried at 200 ° C. under reduced pressure for 3 hours to obtain a polyimide resin solid. . The melt property measurement was performed with respect to the obtained polyimide resin. The results are shown in Table 2.

(ポリイミド樹脂成形体)
得られたポリイミド樹脂の固体0.4gをポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製 カプトン)2枚で挟み、加熱プレス(井元製作所製 小型加熱プレス180E)で約5分間、310℃でポリイミド樹脂を加熱溶融した。その後、30MPaの圧力で310℃、約2分間加熱圧縮した後に冷却してポリイミド樹脂成形体を得た。得られたポリイミド樹脂成形体に対して、各種ポリイミド樹脂成形体物性の測定について上述の通り行った。結果を表2に示す。
(Polyimide resin molding)
0.4 g of the obtained polyimide resin solid is sandwiched between two polyimide films (Kapton manufactured by Toray DuPont), and the polyimide resin is heated and melted at 310 ° C. for about 5 minutes with a heating press (small heating press 180E manufactured by Imoto Seisakusho). did. Then, after heating and compressing at 310 ° C. for about 2 minutes at a pressure of 30 MPa, cooling was performed to obtain a polyimide resin molded body. About the obtained polyimide resin molding, it measured as described above about the measurement of various polyimide resin molding physical properties. The results are shown in Table 2.

<比較例2>
(ポリアミック酸エステル樹脂溶液から溶媒を除去し、その後加熱ポリイミド化によりポリイミド樹脂を得る工程)
合成例で得られたポリアミック酸エステル樹脂溶液をフッ素樹脂製のトレイ上に流延し、減圧下80℃で30分乾燥した後、窒素雰囲気下で230℃1時間、更に300℃1時間の加熱イミド化によりポリイミド樹脂片を得た。得られたポリイミド樹脂片に対し、溶融物性測定を行った。結果を表2に示す。得られたポリイミド樹脂の固体0.5gを実施例2と同様に成形したところ、ポリイミド樹脂の流動性が悪いため成形体表面に凹凸が観察され、測定に必要な形状をもったポリイミド樹脂成形体を得ることができなかったため、測定が不可能であった。
<Comparative example 2>
(The process of removing the solvent from the polyamic acid ester resin solution, and then obtaining the polyimide resin by heating polyimide)
The polyamic acid ester resin solution obtained in the synthesis example was cast on a fluororesin tray, dried at 80 ° C. for 30 minutes under reduced pressure, and then heated at 230 ° C. for 1 hour and further at 300 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. A polyimide resin piece was obtained by imidization. Melt property measurement was performed on the obtained polyimide resin piece. The results are shown in Table 2. When 0.5 g of the obtained polyimide resin solid was molded in the same manner as in Example 2, the polyimide resin molded body had a shape necessary for measurement because irregularities were observed on the surface of the molded body due to poor fluidity of the polyimide resin. The measurement was impossible because

Figure 2013014759
Figure 2013014759

表2から、実施例2のポリイミド樹脂は実用的な温度で十分な流動性を発現し、溶融時の流動性に優れることが分かる。また、熱可塑成型で得られたポリイミド樹脂成形体は電子デバイスなどの製造に用いるのに十分な力学的強度を有することが分かる。一方、比較例2のポリイミド樹脂は高温にしなければ溶融せず、溶融時の流動性に乏しい。
以上の結果から、本発明に係るポリイミド樹脂成形体の製造方法によれば、様々なデバイス製造に使用でき、かつ所望の形状の成形体を負荷の少ないプロセスで製造できることがわかる。
From Table 2, it can be seen that the polyimide resin of Example 2 exhibits sufficient fluidity at a practical temperature and is excellent in fluidity at the time of melting. Moreover, it turns out that the polyimide resin molding obtained by thermoplastic molding has sufficient mechanical strength to use for manufacture of an electronic device etc. On the other hand, the polyimide resin of Comparative Example 2 does not melt unless the temperature is raised, and the fluidity at the time of melting is poor.
From the above results, it can be seen that the method for producing a polyimide resin molded body according to the present invention can be used for manufacturing various devices, and a molded body having a desired shape can be manufactured by a process with less load.

Claims (6)

ポリアミック酸樹脂及び/又はポリアミック酸エステル樹脂を溶媒存在下でイミド化してポリイミド樹脂溶液を得る工程と、前記ポリイミド樹脂溶液から溶媒を除去してポリイミド樹脂を得る工程と、前記ポリイミド樹脂を溶融成形する工程とを含む、ポリイミド樹脂成形体の製造方法であって、前記ポリイミド樹脂が下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とするポリイミド樹脂成形体の製造方法。
Figure 2013014759
(式(1)中、Rは2価の有機基を示す。)
A step of imidizing a polyamic acid resin and / or a polyamic acid ester resin in the presence of a solvent to obtain a polyimide resin solution, a step of removing the solvent from the polyimide resin solution to obtain a polyimide resin, and melt-molding the polyimide resin A process for producing a polyimide resin molded body, wherein the polyimide resin comprises a repeating unit represented by the following general formula (1).
Figure 2013014759
(In formula (1), R 1 represents a divalent organic group.)
が下記式(2)で表される、請求項1に記載のポリイミド樹脂成形体の製造方法。
Figure 2013014759
(式(2)中、環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示し、p、qは各々独立して、0〜10の整数を示す。Xは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)を示す。ただし、p及びqがともに0になることはない。Y及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。p又はqが2以上である場合、複数のY、Y、環A及び環Bは各々互いに異なっていてもよい。)
R 1 is represented by the following formula (2), the production method of the polyimide resin molded article according to claim 1.
Figure 2013014759
(In Formula (2), each of ring A and ring B independently represents an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and p and q are Each independently represents an integer of 0 to 10. X represents a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or a substituent. aromatic group which may have a, -NH-C (= O) -, -. NH-, or -O-C n H 2n -O- ( n is an integer of from 1 to 5) shows the proviso, p and q are not both 0. Y 1 and Y 2 are each independently a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, when a sulfide group, or .p or q indicates a carbonyl group is two or more, a plurality of Y 1, 2, ring A and ring B each may be different from one another.)
Xが直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)である、請求項2に記載のポリイミド樹脂成形体の製造方法。 X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, an aromatic group which may have a substituent, -NH -, or (n 1 to 5 integer) -O-C n H 2n -O- is, the production method of the polyimide resin molded article according to claim 2. 下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含むポリイミド樹脂を溶融成形して得られることを特徴とするポリイミド樹脂成形体。
Figure 2013014759
(式(1)中、Rは2価の有機基を示す。)
A polyimide resin molded article obtained by melt-molding a polyimide resin containing a repeating unit represented by the following general formula (1).
Figure 2013014759
(In formula (1), R 1 represents a divalent organic group.)
が下記式(2)で表される、請求項4に記載のポリイミド樹脂成形体。
Figure 2013014759
(式(2)中、環A及び環Bは各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族環又は置換基を有していてもよい脂肪族環を示し、p、qは各々独立して、0〜10の整数を示す。Xは直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−C(=O)−、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)を示す。ただし、p及びqがともに0になることはない。Y及びYは各々独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、又はカルボニル基を示す。p又はqが2以上である場合、複数のY、Y、環A及び環Bは各々互いに異なっていてもよい。)
The polyimide resin molded body according to claim 4, wherein R 1 is represented by the following formula (2).
Figure 2013014759
(In Formula (2), each of ring A and ring B independently represents an aromatic ring which may have a substituent or an aliphatic ring which may have a substituent, and p and q are Each independently represents an integer of 0 to 10. X represents a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, or a substituent. aromatic group which may have a, -NH-C (= O) -, -. NH-, or -O-C n H 2n -O- ( n is an integer of from 1 to 5) shows the proviso, p and q are not both 0. Y 1 and Y 2 are each independently a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, when a sulfide group, or .p or q indicates a carbonyl group is two or more, a plurality of Y 1, 2, ring A and ring B each may be different from one another.)
Xが直接結合、酸素原子、硫黄原子、置換基を有していてもよいアルキレン基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフィド基、カルボニル基、置換基を有していてもよい芳香族基、−NH−、又は−O−C2n−O−(nは1〜5の整数)である、請求項5に記載のポリイミド樹脂成形体。 X is a direct bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group which may have a substituent, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfide group, a carbonyl group, an aromatic group which may have a substituent, -NH -, or (n 1 to 5 integer) -O-C n H 2n -O- is, polyimide resin molded article according to claim 5.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014181780A1 (en) * 2013-05-07 2014-11-13 旭硝子株式会社 Cover glass for display devices
JP2016027130A (en) * 2014-06-26 2016-02-18 三菱化学株式会社 Polyimide precursor composition

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