JP2014116453A - データ取得方法及び基板処理装置の管理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板処理装置のデータを全て群管理装置内の記憶部に蓄積すると記憶部の使用効率を下げることとなってしまっていた。
【解決手段】 基板処理装置のデータを一旦別の記憶部に保持し、ユーザ任意の装置制御状態、例えば装置プロセス中の状態やデータ変化量に応じてデータ量の制御を行い、記憶部へ蓄積することにより、記憶部へ保持する際、個々のデータに履歴情報を付与する。それらのデータに対し、蓄積制御タスクが一定の周期で履歴情報を含めたデータを取得、変化データ群の変動係数から変化量の大きいデータ群はすべて格納、変化量の低いデータは1つ格納するといった蓄積データ量の制御を実施し、効率的なデータ収集を提供する。
【選択図】図1
【解決手段】 基板処理装置のデータを一旦別の記憶部に保持し、ユーザ任意の装置制御状態、例えば装置プロセス中の状態やデータ変化量に応じてデータ量の制御を行い、記憶部へ蓄積することにより、記憶部へ保持する際、個々のデータに履歴情報を付与する。それらのデータに対し、蓄積制御タスクが一定の周期で履歴情報を含めたデータを取得、変化データ群の変動係数から変化量の大きいデータ群はすべて格納、変化量の低いデータは1つ格納するといった蓄積データ量の制御を実施し、効率的なデータ収集を提供する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエハやガラス基板等の基板を処理するための基板処理装置、その装置を群管理装置および基板処理装置と群管理装置を含む基板処理システムに関し、複数の基板処理装置の稼働状態等を示すデータを収集・蓄積し、そのデータを加工処理して活用するためのデータ収集制御に関するものである。
従来、基板処理装置の生データを取得し、データベースへ蓄積後、データベースへ蓄積したデータに対してイベントなどの付与や、平均・最大・最小などの数式処理を行うことで基板処理装置の状態を把握・分析するデータ収集システムが知られている。
データ収集システムでは、一度生データを取得し、データベースに蓄積後、それらのデータに対し加工することで、後に所望のデータを検索する時間を短縮する技術が知られている(特許文献1)。
特開2006−294831号公報
しかしながら、装置の生データを常時収集することは、装置の状態を常に監視することができる反面、少なからず必要とされないデータや微小な変化データなど不要とされるデータが存在し、ハードディスク(HDD)の使用効率を下げてしまうという問題があった。
上記問題を解決するために、本発明に係るデータ取得方法は、基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御工程と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開する工程と、前記データ取得周期で履歴情報を取得する工程と、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出工程と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積工程と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出工程と、前記第二算出工程で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御工程と、を有する。
本発明に係るデータ取得方法によれば、取得するデータ量の制御を実施することで、ハードディスクの総使用量低減効果が得られ、データを長期的に扱えることができる。また、制御工程を2次元で実施することで突出した値などの異常値を蓄積できる。
以下、本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
まず、本発明の実施形態に係る基板処理システムの概要を説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理システムの構成図である。図1に示すように、基板処理システム1において、基板処理装置100−1〜100−nがネットワーク102−1を介して群管理装置2に接続されるとともに、群管理装置2がネットワーク102−2を介して端末装置3−1〜3−nに接続される。
まず、本発明の実施形態に係る基板処理システムの概要を説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理システムの構成図である。図1に示すように、基板処理システム1において、基板処理装置100−1〜100−nがネットワーク102−1を介して群管理装置2に接続されるとともに、群管理装置2がネットワーク102−2を介して端末装置3−1〜3−nに接続される。
基板処理装置100は、詳細は図2、3を参照して後述するが、例えば半導体製造装置である。
群管理装置2は、例えば、データベース管理システムが稼動するデータベースサーバである。群管理装置2は、基板処理装置100−1から100−nの各部から、基板処理装置100−1から100−nの各部の状態を示す情報(例えば、処理炉内の温度、ガス流量及び圧力。以下、単に「基板処理情報」と記す)を取得し、群管理装置2内のデータベースに格納する。群管理装置2内のデータベースには、基板処理情報のほか、端末装置3−1から3−nの操作者に関する情報(以下、単に「操作者情報」と記す。詳細は図5を参照して後述する)が格納される。群管理装置2は、端末装置3からの指示に基づいて、端末装置3に対して、基板処理情報及び表示情報を送信する。
端末装置3は、例えば、ディスプレイを備えた一般的なコンピュータである。端末装置3は、群管理装置2に対して、操作者から受け付けた指示を送信する。端末装置3の操作者は、ディスプレイを介して、基板処理情報をディスプレイに表示する指示を行う。
群管理装置2は、例えば、データベース管理システムが稼動するデータベースサーバである。群管理装置2は、基板処理装置100−1から100−nの各部から、基板処理装置100−1から100−nの各部の状態を示す情報(例えば、処理炉内の温度、ガス流量及び圧力。以下、単に「基板処理情報」と記す)を取得し、群管理装置2内のデータベースに格納する。群管理装置2内のデータベースには、基板処理情報のほか、端末装置3−1から3−nの操作者に関する情報(以下、単に「操作者情報」と記す。詳細は図5を参照して後述する)が格納される。群管理装置2は、端末装置3からの指示に基づいて、端末装置3に対して、基板処理情報及び表示情報を送信する。
端末装置3は、例えば、ディスプレイを備えた一般的なコンピュータである。端末装置3は、群管理装置2に対して、操作者から受け付けた指示を送信する。端末装置3の操作者は、ディスプレイを介して、基板処理情報をディスプレイに表示する指示を行う。
本発明を実施するための最良の形態において、基板処理装置は、一例として、半導体装置(IC:Integrated
Circuit)の製造方法における処理工程を実施する半導体製造装置として構成されている。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やCVD処理などを行なう縦型の装置(以下、単に処理装置という)を適用した場合について述べる。図2は、本発明に適用される処理装置の斜透視図として示されている。また、図3は図2に示す処理装置の側面透視図である。
Circuit)の製造方法における処理工程を実施する半導体製造装置として構成されている。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やCVD処理などを行なう縦型の装置(以下、単に処理装置という)を適用した場合について述べる。図2は、本発明に適用される処理装置の斜透視図として示されている。また、図3は図2に示す処理装置の側面透視図である。
<本発明の第1の実施形態>
以下に、本発明の第1の実施形態について説明する。
以下に、本発明の第1の実施形態について説明する。
(1)基板処理装置の構成
続いて、本実施形態にかかる基板処理装置100の構成について、図2、図3を参照しながら説明する。図2は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置の斜透視図である。図3は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置の側面透視図である。なお、本実施形態にかかる基板処理装置100は、例えばウエハ等の基板に酸化、拡散処理、CVD処理などを行なう縦型の装置として構成されている。
続いて、本実施形態にかかる基板処理装置100の構成について、図2、図3を参照しながら説明する。図2は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置の斜透視図である。図3は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置の側面透視図である。なお、本実施形態にかかる基板処理装置100は、例えばウエハ等の基板に酸化、拡散処理、CVD処理などを行なう縦型の装置として構成されている。
図2、図3に示すように、本実施形態にかかる基板処理装置100は、耐圧容器として構成された筐体111を備えている。筐体111の正面壁111aの正面前方部には、メンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口103が開設されている。正面メンテナンス口103には、正面メンテナンス口103を開閉する一対の正面メンテナンス扉104が設けられている。シリコン等のウエハ(基板)200を収納したポッド(基板収容器)110が、筐体111内外へウエハ200を搬送するキャリアとして使用される。
筐体111の正面壁111aには、ポッド搬入搬出口(基板収容器搬入搬出口)112が、筐体111内外を連通するように開設されている。ポッド搬入搬出口112は、フロントシャッタ(基板収容器搬入搬出口開閉機構)113によって開閉されるようになっている。ポッド搬入搬出口112の正面前方側には、ロードポート(基板収容器受渡し台)114が設置されている。ロードポート114上には、ポッド110を載置されると共に位置合わせされるように構成されている。ポッド110は、工程内搬送装置(図示せず)によってロードポート114上に搬送されるように構成されている。
筐体111内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚(基板収容器載置棚)105が設置されている。回転式ポッド棚105上には複数個のポッド110が保管されるように構成されている。回転式ポッド棚105は、垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱116と、支柱116に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板(基板収容器載置台)117と、を備えている。複数枚の棚板117は、ポッド110を複数個それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。
筐体111内におけるロードポート114と回転式ポッド棚105との間には、ポッド搬送装置(基板収容器搬送装置)118が設置されている。ポッド搬送装置118は、ポッド110を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ(基板収容器昇降機構)118aと、搬送機構としてのポッド搬送機構(基板収容器搬送機構)118bとで構成されている。ポッド搬送装置118は、ポッドエレベータ118aとポッド搬送機構118bとの連続動作により、ロードポート114、回転式ポッド棚105、ポッドオープナ(基板収容器蓋体開閉機構)121との間で、ポッド110を相互に搬送するように構成されている。
筐体111内の下部には、サブ筐体119が、筐体111内の前後方向の略中央部から後端にわたって設けられている。サブ筐体119の正面壁119aには、ウエハ200をサブ筐体119内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)120が、垂直方向に上下二段に並べられて設けられている。上下段のウエハ搬入搬出口120には、ポッドオープナ121がそれぞれ設置されている。
各ポッドオープナ121は、ポッド110を載置する一対の載置台122と、ポッド110のキャップ(蓋体)を着脱するキャップ着脱機構(蓋体着脱機構)123とを備えている。ポッドオープナ121は、載置台122上に載置されたポッド110のキャップをキャップ着脱機構123によって着脱することにより、ポッド110のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
サブ筐体119内には、ポッド搬送装置118や回転式ポッド棚105等が設置された空間から流体的に隔絶された移載室124が構成されている。移載室124の前側領域にはウエハ移載機構(基板移載機構)125が設置されている。ウエハ移載機構125は、ウエハ200を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置(基板移載装置)125aと、ウエハ移載装置125aを昇降させるウエハ移載装置エレベータ(基板移載装置昇降機構)125bとで構成されている。図2に示すように、ウエハ移載装置エレベータ125bは、サブ筐体119の移載室124前方領域右端部と筐体111右側端部との間に設置されている。ウエハ移載装置125aは、ウエハ200の載置部としてのツイーザ(基板保持体)125cを備えている。これらウエハ移載装置エレベータ125b及びウエハ移載装置125aの連続動作により、ウエハ200をボート(基板保持具)217に対して装填(チャージング)及び脱装(ディスチャージング)することが可能なように構成されている。
移載室124の後側領域には、ボート217を収容して待機させる待機部126が構成されている。待機部126の上方には、基板処理系としての処理炉202が設けられている。処理炉202の下端部は、炉口シャッタ(炉口開閉機構)147により開閉されるように構成されている。
図2に示すように、サブ筐体119の待機部126右端部と筐体111右側端部との間には、ボート217を昇降させるためのボートエレベータ(基板保持具昇降機構)115が設置されている。ボートエレベータ115の昇降台には、連結具としてのアーム128が連結されている。アーム128には、蓋体としてのシールキャップ219が水平に据え付けられている。シールキャップ219は、ボート217を垂直に支持し、処理炉202の下端部を閉塞可能なように構成されている。
ボート217は複数本の保持部材を備えている。ボート217は、複数枚(例えば、50枚〜125枚程度)のウエハ200を、その中心を揃えて垂直方向に整列させた状態でそれぞれ水平に保持するように構成されている。
図2に示すように、移載室124のウエハ移載装置エレベータ125b側及びボートエレベータ115側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア133を供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット134が設置されている。ウエハ移載装置125aとクリーンユニット134との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置が設置されている。
クリーンユニット134から吹き出されたクリーンエア133は、図示しないノッチ合わせ装置、ウエハ移載装置125a、待機部126にあるボート217の周囲を流通した後、図示しないダクトにより吸い込まれて筐体111の外部に排気されるか、もしくはクリーンユニット134の吸い込み側である一次側(供給側)にまで循環されてクリーンユニット134によって移載室124内に再び吹き出されるように構成されている。
(2)基板処理装置の動作
次に、本実施形態にかかる基板処理装置100の動作について、図2、図3を参照しながら説明する。
次に、本実施形態にかかる基板処理装置100の動作について、図2、図3を参照しながら説明する。
図2、図3に示すように、ポッド110がロードポート114に供給されると、ポッド搬入搬出口112がフロントシャッタ113によって開放される。そして、ロードポート114の上のポッド110が、ポッド搬送装置118によってポッド搬入搬出口112から筐体111内部へと搬入される。
筐体111内部へと搬入されたポッド110は、ポッド搬送装置118によって回転式ポッド棚105の棚板117上へ自動的に搬送されて一時的に保管された後、棚板117上から一方のポッドオープナ121の載置台122上に移載される。なお、筐体111内部へと搬入されたポッド110は、ポッド搬送装置118によって直接ポッドオープナ121の載置台122上に移載されてもよい。この際、ポッドオープナ121のウエハ搬入搬出口120はキャップ着脱機構123によって閉じられており、移載室124内にはクリーンエア133が流通され、充満されている。例えば、移載室124内にクリーンエア133として窒素ガスが充満することにより、移載室124内の酸素濃度が例えば20ppm以下となり、大気雰囲気である筐体111内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されている。
載置台122上に載置されたポッド110は、その開口側端面がサブ筐体119の正面壁119aにおけるウエハ搬入搬出口120の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ウエハ出し入れ口が開放される。その後、ウエハ200は、ウエハ移載装置125aのツイーザ125cによってウエハ出し入れ口を通じてポッド110内からピックアップされ、ノッチ合わせ装置にて方位が整合された後、移載室124の後方にある待機部126内へ搬入され、ボート217内に装填(チャージング)される。ボート217内にウエハ200を装填したウエハ移載装置125aは、ポッド110に戻り、次のウエハ200をボート217内に装填する。
この一方(上段または下段)のポッドオープナ121におけるウエハ移載機構125によるウエハのボート217への装填作業中に、他方(下段または上段)のポッドオープナ121の載置台122上には、別のポッド110が回転式ポッド棚105上からポッド搬送装置118によって搬送されて移載され、ポッドオープナ121によるポッド110の開放作業が同時進行される。
予め指定された枚数のウエハ200がボート217内に装填されると、炉口シャッタ147によって閉じられていた処理炉202の下端部が、炉口シャッタ147によって開放される。続いて、ウエハ200群を保持したボート217は、シールキャップ219がボートエレベータ115によって上昇されることにより処理炉202内へ搬入(ローディング)されていく。
ローディング後は、処理炉202内にてウエハ200に任意の処理が実施される。処理後は、ノッチ合わせ装置でのウエハの整合工程を除き、上述の手順とほぼ逆の手順で、処理後のウエハ200を格納したボート217が処理炉202より搬出され、処理後のウエハ200を格納したポッド110が筐体111外へと搬出される。
(3)処理炉の構成
続いて、本実施形態にかかる処理炉202の構成について、図4を用いて説明する。図4は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置100の処理炉202の縦断面図である。
続いて、本実施形態にかかる処理炉202の構成について、図4を用いて説明する。図4は、本発明の第1の実施形態にかかる基板処理装置100の処理炉202の縦断面図である。
図4に示すように、処理炉202は、反応管としてのプロセスチューブ203を備えている。プロセスチューブ203は、内部反応管としてのインナーチューブ204と、その外側に設けられた外部反応管としてのアウターチューブ205と、を備えている。インナーチューブ204は、例えば石英(SiO2)または炭化シリコン(SiC)等の耐熱性材料からなり、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。インナーチューブ204内の筒中空部には、基板としてのウエハ200を処理する処理室201が形成されている。処理室201内は後述するボート217を収容可能なように構成されている。アウターチューブ205は、インナーチューブ204と同心円状に設けられている。アウターチューブ205は、内径がインナーチューブ204の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。アウターチューブ205は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料からなる。
プロセスチューブ203の外側には、プロセスチューブ203の側壁面を囲うように、加熱機構としてのヒータ206が設けられている。ヒータ206は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース251に支持されることにより垂直に据え付けられている。
アウターチューブ205の下方には、アウターチューブ205と同心円状になるように、マニホールド209が配設されている。マニホールド209は、例えばステンレス等からなり、上端及び下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド209は、インナーチューブ204の下端部とアウターチューブ205の下端部とにそれぞれ係合しており、これらを支持するように設けられている。なお、マニホールド209とアウターチューブ205との間には、シール部材としてのOリング220aが設けられている。マニホールド209がヒータベース251に支持されることにより、プロセスチューブ203は垂直に据え付けられた状態となっている。プロセスチューブ203とマニホールド209により反応容器が形成される。
後述するシールキャップ219には、ガス導入部としてのノズル230が処理室201内に連通するように接続されている。ノズル230の上流端には、ガス供給管232の下流端が接続されている。ガス供給管232の上流側(ノズル230との接続側と反対側)には、ガス流量制御器としてのMFC(マスフローコントローラ)241を介して、図示しない処理ガス供給源や不活性ガス供給源等が接続されている。MFC241には、ガス流量制御部235が電気的に接続されている。ガス流量制御部235は、処理室201内に供給するガスの流量が所望のタイミングにて所望の流量となるように、MFC241を
制御するように構成されている。
制御するように構成されている。
マニホールド209には、処理室201内の雰囲気を排気する排気管231が設けられている。排気管231は、インナーチューブ204とアウターチューブ205との隙間によって形成される筒状空間250の下端部に配置されており、筒状空間250に連通している。排気管231の下流側(マニホールド209との接続側と反対側)には、圧力検出器としての圧力センサ245、例えばAPC(Auto Pressure Controller)として構成された圧力調整装置242、真空ポンプ等の真空排気装置246が上流側から順に接続されている。圧力調整装置242及び圧力センサ245には、圧力制御部236が電気的に接続されている。圧力制御部236は、圧力センサ245により検出された圧力値に基づいて、処理室201内の圧力が所望のタイミングにて所望の圧力となるように、圧力調整装置242を制御するように構成されている。
マニホールド209の下方には、マニホールド209の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体としてのシールキャップ219が設けられている。シールキャップ219は、マニホールド209の下端に垂直方向下側から当接されるようになっている。シールキャップ219は、例えばステンレス等の金属からなり、円盤状に形成されている。シールキャップ219の上面には、マニホールド209の下端と当接するシール部材としてのOリング220bが設けられている。シールキャップ219の中心部付近であって処理室201と反対側には、ボートを回転させる回転機構254が設置されている。回転機構254の回転軸255は、シールキャップ219を貫通してボート217を下方から支持している。
回転機構254は、ボート217を回転させることでウエハ200を回転させることが可能なように構成されている。シールキャップ219は、プロセスチューブ203の外部に垂直に設備された昇降機構としてのボートエレベータ115によって、垂直方向に昇降されるように構成されている。シールキャップ219を昇降させることにより、ボート217を処理室201内外へ搬送することが可能なように構成されている。回転機構254及びボートエレベータ115には、メカ制御部238が電気的に接続されている。メカ制御部238は、回転機構254及びボートエレベータ115が所望のタイミングにて所望の動作をするように、これらを制御するように構成されている。
回転機構254は、ボート217を回転させることでウエハ200を回転させることが可能なように構成されている。シールキャップ219は、プロセスチューブ203の外部に垂直に設備された昇降機構としてのボートエレベータ115によって、垂直方向に昇降されるように構成されている。シールキャップ219を昇降させることにより、ボート217を処理室201内外へ搬送することが可能なように構成されている。回転機構254及びボートエレベータ115には、メカ制御部238が電気的に接続されている。メカ制御部238は、回転機構254及びボートエレベータ115が所望のタイミングにて所望の動作をするように、これらを制御するように構成されている。
上述したように、基板保持具としてのボート217は、複数枚のウエハ200を水平姿勢でかつ互いに中心を揃えた状態で整列させて多段に保持するように構成されている。ボート217は、例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料からなる。ボート217の下部には、例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料からなる円板形状をした断熱部材としての断熱板216が水平姿勢で多段に複数枚配置されており、ヒータ206からの熱がマニホールド209側に伝わりにくくなるように構成されている。
プロセスチューブ203内には、温度検出器としての温度センサ263が設置されている。ヒータ206と温度センサ263とには、電気的に温度制御部237が接続されている。温度制御部237は、温度センサ263により検出された温度情報に基づいて、処理室201内の温度が所望のタイミングにて所望の温度分布となるように、ヒータ206への通電具合を調整するように構成されている。
ガス流量制御部235、圧力制御部236、メカ制御部238、温度制御部237は、基板処理装置全体を制御する主制御部としての表示装置制御部239に電気的に接続されている(以下、ガス流量制御部235、圧力制御部236、温度制御部237をI/O制御部とも呼ぶ)。これら、ガス流量制御部235、圧力制御部236、メカ制御部238、温度制御部237、及び主制御部としての表示装置制御部239は、基板処理装置用コントローラ240として構成されている。基板処理装置用コントローラ240の構成や動作については、後述する。
(4)処理炉の動作
続いて、半導体デバイスの製造工程の一工程として、上記構成に係る処理炉202を用いてCVD法によりウエハ200上に薄膜を形成する方法について、図4を参照しながら説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置100を構成する各部の動作は基板処理装置用コントローラ240により制御される。
続いて、半導体デバイスの製造工程の一工程として、上記構成に係る処理炉202を用いてCVD法によりウエハ200上に薄膜を形成する方法について、図4を参照しながら説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置100を構成する各部の動作は基板処理装置用コントローラ240により制御される。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図4に示すように、複数枚のウエハ200を保持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートローディング)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内が所望の圧力(真空度)となるように、真空排気装置246によって真空排気される。この際、圧力センサ245が測定した圧力値に基づき、圧力調整装置242(の弁の開度)がフィードバック制御される。また、処理室201内が所望の温度となるように、ヒータ206によって加熱される。この際、温度センサ263が検出した温度値に基づき、ヒータ206への通電量がフィードバック制御される。続いて、回転機構254により、ボート217及びウエハ200が回転させられる。
次いで、処理ガス供給源から供給されてMFC241にて所望の流量となるように制御されたガスは、ガス供給管232内を流通してノズル230から処理室201内に導入される。導入されたガスは処理室201内を上昇し、インナーチューブ204の上端開口から筒状空間250内に流出して排気管231から排気される。ガスは、処理室201内を通過する際にウエハ200の表面と接触し、この際に熱CVD反応によってウエハ200の表面上に薄膜が堆積(デポジション)される。
予め設定された処理時間が経過すると、不活性ガス供給源から不活性ガスが供給され、処理室201内が不活性ガスに置換されるとともに、処理室201内の圧力が常圧に復帰される。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されてマニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200を保持するボート217がマニホールド209の下端からプロセスチューブ203の外部へと搬出(ボートアンローディング)される。その後、処理済のウエハ200はボート217より取り出され、ポッド110内へ格納される(ウエハディスチャージ)。
図5を用いて本発明のデータ収集制御について説明する。
基板処理装置100に設けられた複数の各種センサ1、2、・・、nから取得したヒータ温度やガス流量値といったデータやプロセス開始/終了といった装置制御情報を群管理装置2内に設けられたデータ収集システム21内の受信タスク22が受ける受信工程を行う。次に取得したデータがセンサデータである場合には、そのデータを基に装置最新情報の更新する履歴情報展開工程を行う。取得データが基板処理装置100の制御情報の場合、制御情報を基に装置状態を判定し、履歴情報取得周期を算出する収集周期制御工程を行う。蓄積データ量制御工程では先工程にて算出した周期で履歴情報を取得し、履歴情報からデータ変化のばらつき判定のために変動係数算出する。変動係数とその閾値を基に蓄積するデータ量を制御し、データベース24への格納を行う。最後に変動閾値算出工程ではデータ種別によって変動幅や上下限といったデータ遷移が異なるため、変動係数の累積平均値を算出し、データ種別の変動特性を求める。蓄積データ量制御工程で使用する閾値をデータ特性に応じて変化させることでデータの変動特性に応じた蓄積制御を実現する。
基板処理装置100に設けられた複数の各種センサ1、2、・・、nから取得したヒータ温度やガス流量値といったデータやプロセス開始/終了といった装置制御情報を群管理装置2内に設けられたデータ収集システム21内の受信タスク22が受ける受信工程を行う。次に取得したデータがセンサデータである場合には、そのデータを基に装置最新情報の更新する履歴情報展開工程を行う。取得データが基板処理装置100の制御情報の場合、制御情報を基に装置状態を判定し、履歴情報取得周期を算出する収集周期制御工程を行う。蓄積データ量制御工程では先工程にて算出した周期で履歴情報を取得し、履歴情報からデータ変化のばらつき判定のために変動係数算出する。変動係数とその閾値を基に蓄積するデータ量を制御し、データベース24への格納を行う。最後に変動閾値算出工程ではデータ種別によって変動幅や上下限といったデータ遷移が異なるため、変動係数の累積平均値を算出し、データ種別の変動特性を求める。蓄積データ量制御工程で使用する閾値をデータ特性に応じて変化させることでデータの変動特性に応じた蓄積制御を実現する。
図6を用いて、基板処理装置最新情報を管理する履歴情報展開工程について説明する。
まず取得した例えば、センサBの温度データと同一種の前装置最新データとタイムスタンプ値の差分61を算出する。全装置最新データを履歴情報に格納し、取得したセンサBのデータを装置最新情報として格納する。
装置最新情報と履歴情報は端末上のメモリに展開するため、履歴情報のタイムスタンプ値を差分61を管理する。センサBのデータは変化した場合のみ履歴情報に保持するため、未変化の基板処理装置センサデータの履歴情報は保持する必要が無い。
まず取得した例えば、センサBの温度データと同一種の前装置最新データとタイムスタンプ値の差分61を算出する。全装置最新データを履歴情報に格納し、取得したセンサBのデータを装置最新情報として格納する。
装置最新情報と履歴情報は端末上のメモリに展開するため、履歴情報のタイムスタンプ値を差分61を管理する。センサBのデータは変化した場合のみ履歴情報に保持するため、未変化の基板処理装置センサデータの履歴情報は保持する必要が無い。
図7を用いて履歴情報取得周期を算出する履歴情報取得周期制御工程について説明する。
まず、基板処理装置の装置制御情報を取得し、基板装置の状態を取得する(S702)。基板処理装置の状態を判断する(S704)。基板処理装置がプロセス状態である場合には履歴情報取得周期を例えば1秒(S706)とし、非プロセス状態である場合には履歴情報取得周期を例えば10秒(S710)としてデータベース蓄積処理を行う。データベース履歴情報取得周期を変更させる(S708)ことで蓄積処理数の制御を行う。
まず、基板処理装置の装置制御情報を取得し、基板装置の状態を取得する(S702)。基板処理装置の状態を判断する(S704)。基板処理装置がプロセス状態である場合には履歴情報取得周期を例えば1秒(S706)とし、非プロセス状態である場合には履歴情報取得周期を例えば10秒(S710)としてデータベース蓄積処理を行う。データベース履歴情報取得周期を変更させる(S708)ことで蓄積処理数の制御を行う。
図8を用いて蓄積データ量制御工程について説明する。
履歴情報取得周期を算出する、履歴情報取得周期制御工程で算出した周期で本工程を開始する。まず取得した履歴情報から基板装置変化履歴データを取得し(S802)、履歴データのタイムスタンプ差分が例えば100msec以上の場合には100msec単位でデータの補完を行う。補完された履歴データに対して、同一種データ単位で平均値αと標準偏差値σを算出し(S804)、データ変化値のバラつきを求める。バラつきの判定には、αとσに対し変動係数演算を用いて判定を実施する。δデータ種別においてデータの単位や桁数が異なるため、同一のバラつき判定を実施するために変動係数[CV]を算出する(S806)。変動係数[CV=σ/α]<閾値[β](第一の閾値)の場合には、基板処理装置最新値のみをデータベースに蓄積し(S812)、変動係数[CV=σ/α]>=閾値[β]の場合には取得した全履歴データをデータベースに蓄積する(S810)ことで蓄積データ量の制御を行う。デフォルト値としてデータ種別に関係なく閾値は例えば[β]=[0.01]を使用する。
履歴情報取得周期を算出する、履歴情報取得周期制御工程で算出した周期で本工程を開始する。まず取得した履歴情報から基板装置変化履歴データを取得し(S802)、履歴データのタイムスタンプ差分が例えば100msec以上の場合には100msec単位でデータの補完を行う。補完された履歴データに対して、同一種データ単位で平均値αと標準偏差値σを算出し(S804)、データ変化値のバラつきを求める。バラつきの判定には、αとσに対し変動係数演算を用いて判定を実施する。δデータ種別においてデータの単位や桁数が異なるため、同一のバラつき判定を実施するために変動係数[CV]を算出する(S806)。変動係数[CV=σ/α]<閾値[β](第一の閾値)の場合には、基板処理装置最新値のみをデータベースに蓄積し(S812)、変動係数[CV=σ/α]>=閾値[β]の場合には取得した全履歴データをデータベースに蓄積する(S810)ことで蓄積データ量の制御を行う。デフォルト値としてデータ種別に関係なく閾値は例えば[β]=[0.01]を使用する。
蓄積データ量制御工程で使用する閾値[β]の変動閾値算出工程について説明する。
まず、蓄積データ量制御工程にて算出した変動係数[CV]の変動係数累積平均値[γ]を算出する(S814)。その算出した変動係数累積平均値[γ]はデータの変動特性である。その変動係数累積平均値[γ]と現在の変動係数[CV]を比較し(S816)、蓄積データ量制御工程で使用する閾値[β]を変化させることで、データ種別単位の変動特性に応じた蓄積制御を実現する。現在の変動量が変動特性よりも大きい([CV]>[γ])場合(S818)には閾値[β]-[0.001]とし、閾値を下げ蓄積データ蓄積量を増やす。また、現在の変動量が変動特性よりも小さい([CV]<[γ])場合(S820)には閾値[β]+[0.001] とすることで、閾値を上げデータ蓄積量を減らす。本工程にて算出された閾値[β](第二の閾値)を蓄積データ量制御工程にフィードバックすることでデータ種別単位の変動特性に応じたデータ蓄積制御を行う。
まず、蓄積データ量制御工程にて算出した変動係数[CV]の変動係数累積平均値[γ]を算出する(S814)。その算出した変動係数累積平均値[γ]はデータの変動特性である。その変動係数累積平均値[γ]と現在の変動係数[CV]を比較し(S816)、蓄積データ量制御工程で使用する閾値[β]を変化させることで、データ種別単位の変動特性に応じた蓄積制御を実現する。現在の変動量が変動特性よりも大きい([CV]>[γ])場合(S818)には閾値[β]-[0.001]とし、閾値を下げ蓄積データ蓄積量を増やす。また、現在の変動量が変動特性よりも小さい([CV]<[γ])場合(S820)には閾値[β]+[0.001] とすることで、閾値を上げデータ蓄積量を減らす。本工程にて算出された閾値[β](第二の閾値)を蓄積データ量制御工程にフィードバックすることでデータ種別単位の変動特性に応じたデータ蓄積制御を行う。
次に、群管理装置500について、図9を用いて説明する。群管理装置500は、中央処理装置(CPU)として構成された制御部501と、内部に共有メモリ502領域を有するメモリと、HDDなどの記憶装置として構成された格納手段としてのデータ保持部503と、ディスプレイ装置などのデータ表示部505と、キーボード等の入力手段506と、通信手段としての通信制御部504と、を有するコンピュータとして構成されている。上述のメモリ、データ保持部503、データ表示部505、入力手段506、通信制御部504は、内部バス等を介して制御部501とデータ交換可能なように構成されている。また、制御部501は、図示しない時計機能を有している。
データ保持部503には、図示しない種々の群管理プログラムが格納されており、各群管理プログラムが、データ保持部503から上述のメモリに読み出されて制御部501で実行される。本実施の形態においては、後述のグラフ作成機能550などの各種機能が実現されるように構成されている。
通信制御部504は、モニタデータを基板処理装置100から受信するように構成されている。本実施の形態においては、通信手段としての通信制御部504は、基板処理装置用コントローラ240の通信制御部239bに接続されている。本実施の形態においては、通信制御部504は基板処理装置100からパッケージデータを受信し、共有メモリ502に渡すように構成されている。
制御部501は、基板処理装置100から受信したモニタデータをデータ保持部503に読み出し可能に記憶させるように構成されている。本実施の形態においては、制御部501は、共有メモリ502に記憶されたパッケージデータを読み出し、読み出し可能にしてデータ保持部503に記憶させるように構成されている。また、パッケージデータは、パッケージデータ生成時刻、装置ID、レシピID、経過時間等と関連付けてデータベース化され、データ保持部503に記憶されてもよい。
また、制御部501は、データ保持部503に記憶されるモニタデータをデータ表示部505に表示させるように構成されている。本実施の形態においては、制御部501は、データ保持部503に記憶させるパッケージデータをデータ表示部505に渡す。データ表示部505は、受け取ったパッケージデータを画面に表示するように構成されている。
共有メモリ502には、図示しないROMが設けられ、EEPROM、フラッシュメモリ、ハードディスクなどから構成され、制御部501(CPU)の動作プログラム等を記憶する記録媒体である。図示しないRAMは、CPU501のワークエリアなどとして機能する。CPU(Central Processing Unit)501は、操作部の中枢を構成し、ROMに記憶された制御プログラムを実行し、操作パネルからの指示に従って、レシピ記憶部に記憶されているレシピ(例えば、プロセス用レシピ)を実行する。
本発明の実施の形態にかかる操作部は、専用のシステムによらず、通常のコンピュータシステムを用いて実現可能である。例えば、汎用コンピュータに、前述の処理を実行するためのプログラムを格納した記録媒体(フレキシブルディスク、CD−ROM、USBなど)から当該プログラムをインストールすることにより、前述の処理を実行する操作部を構成することができる。
そして、これらのプログラム(例えば、インストーラ)を供給するための手段は任意である。前述のように、所定の記録媒体を介して供給できる他、例えば、通信回線、通信ネットワーク、通信システムなどを介して供給してもよい。この場合、例えば、通信ネットワークの掲示板に当該プログラムを掲示し、これをネットワークを介して搬送波に重畳して提供してもよい。そして、このように提供されたプログラムを起動し、OSの制御下で、他のアプリケーションプログラムと同様に実行することにより、前述の処理を実行する事が出来る。
本発明は、成膜処理の他、拡散処理、アニール処理、酸化処理、窒化処理、リソグラフィ処理等の他の基板処理にも好適に適用できる。さらに、本発明は、薄膜形成装置の他、アニール処理装置、酸化処理装置、窒化処理装置、露光装置、塗布装置、乾燥装置、加熱装置等の他の基板処理装置にも好適に適用できる。
本発明は、本実施形態にかかる半導体製造装置等のウエハ基板を処理する基板処理装置に限らず、LCD(Liquid Crystal Display)製造装置等のガラス基板を処理する基板処理装置にも好適に適用できる。
以上、本発明の実施の形態を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
[付記1]
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御工程と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開する工程と、前記データ取得周期で履歴情報を取得する工程と、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出工程と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積工程と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出工程と、前記第二算出工程で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御工程と、を有するデータ取得方法
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御工程と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開する工程と、前記データ取得周期で履歴情報を取得する工程と、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出工程と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積工程と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出工程と、前記第二算出工程で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御工程と、を有するデータ取得方法
[付記2]
前記蓄積工程において、前記変動係数が前記第一閾値以上の場合、前記履歴情報を全て蓄積し、前記変動係数が前記第一閾値より小さい場合、前記履歴情報のうち最新のデータのみを蓄積する付記1のデータ取得方法。
前記蓄積工程において、前記変動係数が前記第一閾値以上の場合、前記履歴情報を全て蓄積し、前記変動係数が前記第一閾値より小さい場合、前記履歴情報のうち最新のデータのみを蓄積する付記1のデータ取得方法。
[付記3]
前記データ量制御工程において、前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)が前記第二閾値より大きい場合、前記第一閾値の値をー0.001し、前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)が前記第二閾値より小さい場合、前記第一閾値の値を+0.001する付記1のデータ取得方法。
前記データ量制御工程において、前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)が前記第二閾値より大きい場合、前記第一閾値の値をー0.001し、前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)が前記第二閾値より小さい場合、前記第一閾値の値を+0.001する付記1のデータ取得方法。
[付記4]
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御ステップと、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開するステップと、前記データ取得周期で履歴情報を取得するステップと、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出ステップと、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積ステップと、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出ステップと、前記第二算出ステップで算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御ステップと、を有する記憶媒体。
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御ステップと、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開するステップと、前記データ取得周期で履歴情報を取得するステップと、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出ステップと、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積ステップと、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出ステップと、前記第二算出ステップで算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御ステップと、を有する記憶媒体。
[付記5]
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御ステップと、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開するステップと、前記データ取得周期で履歴情報を取得するステップと、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出ステップと、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積ステップと、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出ステップと、前記第二算出ステップで算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御ステップと、を有するプログラム。
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御ステップと、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開するステップと、前記データ取得周期で履歴情報を取得するステップと、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出ステップと、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積ステップと、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出ステップと、前記第二算出ステップで算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御ステップと、を有するプログラム。
[付記6]
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御部と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開し、前記データ取得周期で履歴情報を取得し、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出手段と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する記憶部と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出手段と、前記第二算出手段で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御手段と、を有する基板処理装置の管理装置。
基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御部と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開し、前記データ取得周期で履歴情報を取得し、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出手段と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する記憶部と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出手段と、前記第二算出手段で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御手段と、を有する基板処理装置の管理装置。
2 群管理装置
3 端末装置
100 基板処理装置
200 ウエハ
202 処理室
240 主表示制御部
3 端末装置
100 基板処理装置
200 ウエハ
202 処理室
240 主表示制御部
Claims (2)
- 基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御工程と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開する工程と、前記データ取得周期で履歴情報を取得する工程と、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出工程と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する蓄積工程と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出工程と、前記第二算出工程で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御工程と、を有するデータ取得方法。
- 基板処理装置の装置状態からデータ取得周期を決定するデータ履歴情報取得周期制御部と、前記基板処理装置から取得したデータをメモリ上に展開し、前記データ取得周期で履歴情報を取得し、前記履歴情報から取得された前記データ取得周期内で変化したデータに関する変動係数を算出する第一算出手段と、前記変動係数と第一閾値とを比較した結果に応じて前記履歴情報を蓄積する記憶部と、前記履歴情報から前記変動係数の累積平均値を算出する第二算出手段と、前記第二算出手段で算出された前記累積平均値と前記変動係数との差(偏差値)を第二閾値と比較し、比較した結果に応じて蓄積するデータ量を制御するデータ量制御手段と、を有する基板処理装置の管理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012269251A JP2014116453A (ja) | 2012-12-10 | 2012-12-10 | データ取得方法及び基板処理装置の管理装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11422528B2 (en) | 2019-07-04 | 2022-08-23 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing system, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium |
-
2012
- 2012-12-10 JP JP2012269251A patent/JP2014116453A/ja active Pending
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