JP2014112515A - 有機el素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】電極層の電気抵抗を可及的に低下させ、発光領域に十分な電圧が印加することで輝度ムラを軽減できる有機EL素子を提供する。
【解決手段】有機EL素子1は、絶縁性を有する長方形状の基材3と、基材に積層される下部電極層4と、下部電極層に積層される有機EL層5と、有機EL層に積層される上部電極層6とを備える。上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方には、金属によって構成される補助電極層7が接続される。
【選択図】図1
【解決手段】有機EL素子1は、絶縁性を有する長方形状の基材3と、基材に積層される下部電極層4と、下部電極層に積層される有機EL層5と、有機EL層に積層される上部電極層6とを備える。上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方には、金属によって構成される補助電極層7が接続される。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば照明として使用される有機EL素子に関する。
従来の有機EL素子は、例えば、基板上に陽極層、有機EL層、及び陰極層を積層することによって形成される(例えば特許文献1参照)。有機EL素子は、陽極層と陰極層の間に所定の電圧を印加することによって発光する発光素子である。
有機EL素子の電極層(陽極層、陰極層)は、通常、数nm〜数百nmといった厚さで、極めて薄く形成される。このため、所定の電圧を印加した場合に発光領域の範囲内で輝度が区々になって、いわゆる輝度ムラが生じる。この輝度ムラは、電極層が薄く形成されていることから、電極層の電気抵抗が高く、発光領域に十分な電圧が印加されていないことによって起こるものである。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、電極層の電気抵抗を可及的に低下させ、発光領域に十分な電圧が印加することで輝度ムラを軽減できる有機EL素子を提供することを目的とする。
本発明に係る有機EL素子は、上記の課題を解決するためのものであって、絶縁性を有する長方形状の基材と、基材に積層される下部電極層と、下部電極層に積層される有機EL層と、有機EL層に積層される上部電極層とを備え、上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方には、金属層を有する補助電極層が接続されてなることを特徴とする。
かかる構成によれば、上部電極層と下部電極層の少なくとも一方に、補助電極層が接続されることによって、電極層の電気抵抗を可及的に低下させることができる。これにより、発光領域に十分な電圧を印加することができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減することが可能になる。
また、本発明に係る有機EL素子によれば、補助電極層は、フレキシブルプリント基板によって構成され、フレキシブルプリント基板は、少なくとも絶縁基材と、この絶縁基材に積層される金属層とを備えている。
かかる構成によれば、補助電極層にフレキシブルプリント基板を用いれば、補助電極層の金属層を上部電極層及び/又は下部電極層に接続する際に、この絶縁基材の部分を保持すればよくなり、接続作業を容易に行うことができるようになる。
また、本発明に係る有機EL素子によれば、補助電極層は、導電性を有するフィルム又はペーストを介して上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方に接続されることが望ましい。特に、補助電極層は、異方性導電フィルム又は異方性導電ペーストを介して、上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方、より好ましくは、その両方に接続されることが望ましい。
かかる構成によれば、補助電極層と上部電極層及び/又は下部電極層との導電性を確保しながらも、フレキシブルプリント基板を有機EL素子に確実に固定することができる。
本発明によれば、電極層の電気抵抗を可及的に低下させ、発光領域に十分な電圧が印加することで輝度ムラを軽減できるようになる。
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。図1、図2は、本発明に係る有機EL素子の一実施形態を示す。
図1に示すように、有機EL素子1は、絶縁層2を有する基材3と、基材3に積層される下部電極層4と、この下部電極層4に積層される有機EL層5と、この有機EL層5に積層される上部電極層6と、下部電極層4及び上部電極層6に接続される補助電極層7と、上部電極層を封止する封止層8と、封止層8上に形成されるバリアフィルム9とを有する。
基材3は、金属材料によって、所定の厚さで長方形状に形成される。この基材3の材料としては、例えば、ステンレス鋼、鉄-ニッケル合金等の合金、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、チタン等が挙げられる。基材3の上面は、絶縁層2によって被覆されている。絶縁層2は、例えばアクリル樹脂によって構成される。絶縁層2は、基材3の表面を平坦化するためのものであり、ウェットコーティングによって形成される。
なお、本発明において、「絶縁性を有する基材」とは、上記のように、金属製の基材3の上に、絶縁層2が形成されている場合の他、絶縁層2を用いることなく、基材3全てが絶縁性部材によって形成されている場合を含む。
下部電極層4は、基材3の絶縁層2の面積よりも小さい面積でこの絶縁層2上に積層されている。本実施形態において、下部電極層4は、陽極層として用いられる。下部電極層4の材料としては、例えば金、銀、アルミニウムなどが挙げられる。本実施形態では、下部電極層4がアルミニウム層によって構成されている。
有機EL層5は、発光層として下部電極層4に積層される。有機EL層5の材料としては、例えば、トリス(8−ハイドロキシキノリン)アルミニウム(Alq3)、イリジウム錯体(Ir(ppy)3)をドープした4,4'−N,N'−ジカルバゾニルビフェニル(CBP)等を用いることができる。有機EL層5は、少なくともこの発光層を有しており、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層といったその他機能層を有していてもよい。
上部電極層6は、有機EL層5を覆うように積層されている。本実施形態では、上部電極層6は、陰極層として用いられる。上部電極層6の材料としては、マグネシウム、銀、マグネシウムと銀を含む合金、アルミニウム等が挙げられる。
図1に示すように、補助電極層7は、下部電極層4に接続される第1補助電極層7aと、上部電極層6に接続される第2補助電極層7bとを有する。各補助電極層7a,7bは、例えば、銅(Cu)等の金属によって薄膜状に形成される。各補助電極層7a,7bには、例えばポリイミド等からなる被覆層7cが形成されている。補助電極層7は、フレキシブルプリント基板(FPC)を用いて構成されてもよい。すなわち、フレキシブルプリント基板は、ポリイミド等からなる絶縁基材と、この絶縁基材に積層される金属層(例えば銅等)とを備える。フレキシブルプリント基板を使用する場合には、金属層が補助電極層7(7a,7b)として機能し、絶縁基材が補助電極層7(7a,7b)を被覆する被覆層7cとして機能する。
フレキシブルプリント基板を使用して第1補助電極層7aを構成する場合には、その金属層を下方に向け、所定の接着部材10によって基材3上の下部電極層4に固定する。この接着部材10としては、異方性導電フィルム(ACF)又は異方性導電ペースト(ACP)を用いることが望ましい。フレキシブルプリント基板を使用して第2補助電極層7bを構成する場合には、上部電極層6に接続される金属接続層11(図1参照)及び所定の接着部材(例えば異方性導電フィルム、異方性導電ペースト等)10を介して、フレキシブルプリント基板の金属層と上部電極層6とを電気的に接続する。
フレキシブルプリント基板としては、大小様々な大きさのものが使用され得る。特に、大型のフレキシブルプリント基板が使用されると、フレキシブルプリント基板の端部が基材3の端部から幅方向に突出する場合がある。このような場合には、基材3に絶縁層2が形成されていたとしても、フレキシブルプリント基板の金属層と金属製の基材3とが接触してショート(短絡)するおそれがある。このような場合において、ショートを防止するために、基材3と対向するフレキシブルプリント基板における金属層の下面側に絶縁層を形成することが望ましい。
このことを確認するために、本発明の発明者は、上記の絶縁層を形成した10個の有機EL素子及び絶縁層を形成していない10個の有機EL素子を製造し、ショートの発生の有無を確認する実験を行った。実験では、有機EL素子を曲率半径約50mmで曲げた状態において、フレキシブルプリント基板側から逆バイアス電圧(3V)を印加した場合に、流れる電流が0.1mA以下であった場合をショート無しとし、0.1mAよりも大きな電流が流れた場合にショートが発生したものと定めた。実験の結果、絶縁層が形成された10個の有機EL素子は、いずれもショートが発生しなかったのに対し、絶縁層が形成されていない有機EL素子では、10個中6個にショートが発生した。これにより、フレキシブルプリント基板における金属層の下面に絶縁層を形成することによって、ショートの発生を効果的に防止できることが確認された。
また、接着部材10、特に異方性導電フィルム(ACF)によってフレキシブルプリント基板が下部電極層4に固定される場合には、所定の圧力条件下での熱圧着が施される。具体的には、例えば約180℃の温度条件下で、2.0MPa以下、好ましくは、1.5MPa以下、さらに好ましくは、1.0MPa以下での熱圧着が行われる。熱圧着における圧力が大きくなり過ぎると、基材3に積層される絶縁層2が破壊され、ショート(短絡)が発生するおそれがある。上記の条件によって有機EL素子が形成されることで、絶縁層2の損傷を防止できる。
このことを確認するために、本発明の発明者は、所定の圧力条件の下で、複数の有機EL素子を製造し、ショートの発生の有無を確認する実験を行った。具体的には、約180℃の温度条件下において、1.0MPa、2.0MPa、2.5MPa、および3.0MPaの各圧力条件下で、それぞれ10個の有機EL素子を製造した。そして、各有機EL素子において、基材3と電極層4,6との間に3Vの電圧を印加して流れる電流を測定した。この実験において、0.1mA以下の電流が流れる場合にはショートが発生していないものとし、0.1mAよりも大きな電流が流れた場合にショートが発生したものと定めた。実験の結果、1.0MPaの圧力で製造された10個の有機EL素子には、ショートが発生しなかった。2.0MPaの圧力で製造された有機EL素子では、10個中1個しかショートが発生しなかった。2.5Maの圧力で製造された有機EL素子では、10個中5個にショートが発生した。3.0MPaの圧力で製造された有機EL素子では、10個中8個にショートが発生した。以上により、2.0MPa以下の条件下で製造された有機EL素子が絶縁層2の損傷を効果的に防止できることが確認された。
また、フレキシブルプリント基板を用いて補助電極層7が形成された場合には、この補助電極層7から給電できるため、例えば、コンタクトピンを電極に接続して給電する場合と比較して、各電極層4,6の損傷を防止し、接続信頼性を向上させ、外観不良も防止できるようになる。すなわち、コンタクトピンを使用して給電を行う場合には、コンタクトピンが接触することで、電極層4,6が損傷して外観不良を生じたり、ショートの原因となったりするおそれがあるが、フレキシブルプリント基板を使用することにより、これらの点を改善することが可能になる。
このことを確認するため、本発明の発明者は、フレキシブルプリント基板を用いて補助電極層7が形成された複数の有機EL素子と、コンタクトピンを使用する複数の有機EL素子とを製造して、その性能を比較する実験を行った。具体的には、フレキシブルプリント基板による補助電極層7が形成された10個の有機EL素子と、コンタクトピンを使用して給電可能な10個の有機EL素子を製造し、各有機EL素子に対して100回の給電を行った後、基材3と電極層4,6との間に3Vの電圧を印加して、流れる電流を測定するとともに、目視によって電極層4,6に傷が生じているかどうかについての確認を行った。
この実験において、0.1mA以下の電流が流れる場合にはショートが発生していないものとし、0.1mAよりも大きな電流が流れた場合には、ショートが発生したものと定めた。実験の結果、フレキシブルプリント基板を使用して補助電極層7が形成された10個の有機EL素子の全てにおいて、ショートが発生せず、目視による傷も発生しなかった。これに対し、コンタクトピンを使用して給電された有機EL素子の場合には、10個中9個にショートが発生しており、10個全てに傷が生じていることが目視より確認された。この実験により、フレキシブルプリント基板による補助電極層7によって給電が行われることで、電極層4,6の損傷を防止し、接続信頼性を向上させ、外観不良も防止できることが確認された。
封止層8は、例えば低水分エポキシ樹脂によって構成される。バリアフィルム9は、例えばフレキシブルガラスによって構成される。
この有機EL素子1は、例えば、ロールトゥロールプロセスによって製造される。ロールトゥロールプロセスでは、基材3に対して絶縁材料を塗布、乾燥、キュアし、絶縁層2を形成した後、真空槽内に配置される送り出しローラから巻き取りローラに向かって搬送される絶縁層2が形成された帯状の基材3に対して、所定の蒸着源による真空蒸着を行うことによって、下部電極層4、有機EL層5、上部電極層6の各層が基材3上に形成される。下部電極層4が形成される際に、上部電極層6と補助電極層7とを接続する金属接続層11も基材3上に形成される。
さらに、この蒸着を基材3上で連続的に繰り返すことによって、複数の有機EL素子1が基材3の長手方向(搬送方向)に所定の間隔をおいて形成されることになる。その後、封止層8及びバリアフィルム9によって、上部電極層6を封止する。この後、有機EL素子1ごとに基材3が切断される。
その後、基材3上に補助電極層7(7a,7b)が形成される。より具体的には、基材3上に積層される下部電極層4に異方性導電フィルムを貼り付け、または異方性導電ペーストを印刷し乾燥させる。また、上部電極6に接続される金属接続層11に異方性導電フィルムを貼り付け、または、異方性導電ペーストを印刷し乾燥させる。そして、異方性導電フィルム(又は異方性導電ペースト)にフレキシブルプリント基板の金属層を接触させ、加熱圧着によって固着する。以上により、図1に示す有機EL素子1が完成する。
このようにして製造された有機EL素子1には、所定の面積を有する発光領域が形成される。この発光領域は、下部電極層4、有機EL層5、及び上部電極層6が重ねられた領域である。すなわち、図1及び図2に示すように、発光領域は、所定の幅X及び所定の長さYを有する長方形状に構成される。
補助電極層7(7a,7b)は、図2(a)に示すように、発光領域の長辺に沿って長手方向に長く形成される。また、補助電極層7(7a,7b)は、有機EL素子の接続端子部12a,12bを有していてもよい。また、補助電極層7は、図2(b)、(c)に示すように、発光領域の周囲を囲むように構成されてもよい。補助電極層7に形成される接続端子部12a,12bは、発光領域の長手方向における一端部側に2つ設けられてもよく(図2(b)参照)、発光領域の一端部側と他端部側に1つずつ設けられてもよい(図2(c)参照)。
以上説明した有機EL素子1によれば、上部電極層6及び下部電極層4に補助電極層7が接続されることによって、各電極層4,6の電気抵抗を低下させることが可能になる。これにより、発光領域に十分な電圧を印加することができ、有機EL素子1は、輝度ムラを軽減することが可能になる。
また、補助電極層7にフレキシブルプリント基板を用いることによって、補助電極層7を上部電極層及び下部電極層に固定(接続)する際に、このフレキシブルプリント基板の絶縁基材の部分を保持しやすいため、固定作業を容易に行うことができるようになる。
さらに、異方性導電フィルムを使用して、フレキシブルプリント基板による補助電極層と、上部電極層6及び下部電極層4との接続を行うことによって、導電性を確保しながらも、補助電極層7を各電極層4,6に確実に固定することができる。
なお、本発明に係る有機EL素子1は、上記実施形態の構成に限定されるものではない。また、本発明に係る有機EL素子1は、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明に係る有機EL素子1は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、上記の実施形態では、下部電極層4が陽極層とされ、上部電極層6が陰極層とされた有機EL素子1の例を示したが、これに限定されず、下部電極層4を陰極層とし、上部電極層6を陽極層としてもよい。
基材3、下部電極層4、有機EL層5、上部電極層6及び補助電極層7(7a,7b)の材料は、上記の実施形態で例示したものに限定されない。さらに、上記の実施形態では、フレキシブルプリント基板を各電極層4,6に電気的に接続するための接着部材10として、異方性導電フィルム又は異方性導電ペーストを使用した例を示したが、これに限定されず、他の導電フィルム又は導電ペーストを使用してもよい。
上記の実施形態では、下部電極層4に第1補助電極層7aが接続され、上部電極層6に第2補助電極層7bが接続された有機EL素子1を例示したが、これに限定されない。補助電極層7は、下部電極層4のみ、又は上部電極層6のみに接続されていてもよい。
1…有機EL素子、2…絶縁層、3…基材、4…下部電極層、5…有機EL層、6…上部電極層、7(7a,7b)…補助電極層、8…封止層、9…バリアフィルム、10…接着部材、11…金属接続層,12a…接続端子部、12b…接続端子部
Claims (4)
- 絶縁性を有する長方形状の基材と、基材に積層される下部電極層と、下部電極層に積層される有機EL層と、有機EL層に積層される上部電極層とを備え、
上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方には、金属によって構成される補助電極層が接続されてなることを特徴とする有機EL素子。 - 補助電極層は、フレキシブルプリント基板によって構成され、
フレキシブルプリント基板は、絶縁基材と、この絶縁基材に積層される金属層とを備える請求項1に記載の有機EL素子。 - 補助電極層は、導電性を有するフィルム又はペーストを介して上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方に接続される請求項2に記載の有機EL素子。
- 補助電極層は、異方性導電フィルム又は異方性導電ペーストを介して上部電極層及び下部電極層の少なくとも一方に接続される請求項3に記載の有機EL素子。
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