JP2014111306A - Apparatus and method for polishing semiconductor dies - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus or polishing method for simultaneously removing layers of material from many semiconductor dies by polishing.SOLUTION: The apparatus comprises a plurality of T-tools or other die holding devices which enable semiconductor dies to be positioned in various orientations. A multi-segmented device 20 for holding a plurality of dies has slots 202, which are open areas. In each slot 202, at least one stop 24 is positioned. The stop 24 can be positioned at a different radial distance from the center of a grinding wheel. In some embodiments, the segments are offset from each other around a template in order to increase an effective working area of a grinding surface.

Description

この開示は、半導体の研磨(polishing)、特に人手を介さずに多くの半導体ダイから材料の複数層を同時に除去するための装置および方法に関する。   This disclosure relates to semiconductor polishing, and more particularly to an apparatus and method for simultaneously removing multiple layers of material from many semiconductor dies without human intervention.

内部構造が、多くの場合電子顕微鏡を使用した観察によって目視検査されることが可能になるように、半導体の層を研削する(grind)(研磨する(polish))ことが多くの場合必要である。この目的のために研磨ホイール(polishing wheel)に押し付けるように(against)半導体(あるいは他の研磨される装置)を保持するのに有用な研磨取付け具は、米国特許第5,272,844の主題である。現在、いくつかの研磨動作は、研削ホイール(grinding wheel)上方にぶら下げられている位置決め構造を使用して実行される。位置決め構造は、開口した中央(open center)と、円周方向に沿って離間され且つ中にダイ保持ツールが挿入されることが可能な複数の開口と、を備えたフレーム(frame、構造)である。操作者は、開口の側面を使用して、ダイが研磨されている間に保持ツールが安定するのを支援する。操作者がツールに手をかけ続けることを必要とすることなくダイを研磨することが望まれる場合、位置決め装置に関する問題が存在する。これらの問題は、主としてツールがしっかりと保持されず、したがって「ぐらつく」ということに関係がある。ストップ(stop)が、ツールを開口内に維持するために装置に対して設けられている。しかしながら、ストップはそれらの意図されている目的に対して効果がない。   It is often necessary to grind (polish) a layer of semiconductor so that the internal structure can often be visually inspected by observation using an electron microscope. . An abrasive fixture useful for holding a semiconductor (or other device to be polished) against a polishing wheel for this purpose is the subject of US Pat. No. 5,272,844. It is. Currently, some polishing operations are performed using a positioning structure that is suspended above a grinding wheel. The positioning structure is a frame with an open center and a plurality of openings spaced circumferentially and into which a die holding tool can be inserted. is there. The operator uses the sides of the opening to help stabilize the holding tool while the die is being polished. There is a problem with the positioning device if it is desired to polish the die without requiring the operator to keep working on the tool. These problems are mainly related to the fact that the tool is not firmly held and therefore "was wobbled". A stop is provided for the device to keep the tool in the opening. However, stops have no effect on their intended purpose.

このような研磨は、ホイールが回転している間、操作者が研磨ホイールの前に立って装置を保持したままで半日から2、3日を要し得る手動の工程である。保持装置は、保持装置が研磨により除去されることが望まれる平面角度に応じて様々な向き(orientation)で半導体が位置される(position、適当な場所に置かれる)ことを可能にするように構築されている。この手順は、遅いもので且つ退屈であり、また、手および指の痙攣に多くの場合つながる。   Such polishing is a manual process that can take from half a day to a few days with the operator standing in front of the polishing wheel and holding the device while the wheel is rotating. The holding device allows the semiconductor to be positioned in various orientations depending on the planar angle at which the holding device is desired to be removed by polishing. Has been built. This procedure is slow and tedious and often leads to hand and finger cramps.

多くのダイから材料の層を人手を介さないで同時に除去することは、複数のダイ保持装置を、研削面(grinding surface)を覆うように(over)取り付けられたテンプレートの様々なセグメント化された(segment、分割された)開口領域内へ一時的に配置することによって、達成される。一実施形態では、研削ホイールによって各保持装置に与えられた摩擦力は、保持装置をストップに押し付けるように各開口の境界内に位置させる役目をする。各セグメント中のストップは、研磨ホイールの様々な部分を使用してダイの各々を研磨するために研削ホイールの中央から相違する半径距離に位置されることが可能である。いくつかの実施形態では、セグメント同士は研削面の実効的な作用領域を増加させるためにテンプレートのまわりでオフセットされて(offset、ずらされて)いる。   The simultaneous removal of material layers from many dies without human intervention is the fact that multiple die holding devices are segmented into various segments of a template mounted over a grinding surface. This is achieved by temporarily placing it in the open area (segment). In one embodiment, the frictional force imparted to each holding device by the grinding wheel serves to position the holding device within the boundaries of each opening so as to press against the stop. The stops in each segment can be located at different radial distances from the center of the grinding wheel to polish each of the dies using different portions of the polishing wheel. In some embodiments, the segments are offset around the template to increase the effective working area of the grinding surface.

上の記述は、後続の発明の詳細な説明がより良く理解されるように本発明の要素および技術的な利点をやや広く概説した。本発明の請求項の主題を形成する本発明のさらなる特徴および利点は、以下に記述されるだろう。開示されている概念および具体的な実施形態が本発明と同じ目的を実行するために他の構造を修正または設計するための基礎として容易に利用され得ることは、当業者によって認識されるべきである。そのような等価な構造が添付の請求項で示されているような本発明の思想および範囲から外れないことも当業者によって理解されるべきである。本発明の特徴であると考えられる新規な特徴(構成および動作の方法の両方に関して)は、さらなる目的および利点も併せて、添付の図と共に熟考されれば以下の記述から一層よく理解されるだろう。しかしながら、各図が例示および記述のみの目的で提供されており、また本発明の境界を定義するものとして意図されていないことが理解されるべきである。   The foregoing has outlined rather broadly the elements and technical advantages of the present invention in order that the detailed description of the invention that follows may be better understood. Additional features and advantages of the invention will be described hereinafter that form the subject of the claims of the invention. It should be recognized by those skilled in the art that the disclosed concepts and specific embodiments can be readily utilized as a basis for modifying or designing other structures for carrying out the same purposes of the present invention. is there. It should also be understood by those skilled in the art that such equivalent constructions do not depart from the spirit and scope of the invention as set forth in the appended claims. The novel features believed to be characteristic of the present invention (in terms of both construction and method of operation), together with further objects and advantages, will be better understood from the following description when considered in conjunction with the accompanying figures. Let's go. However, it should be understood that the figures are provided for purposes of illustration and description only and are not intended to define the boundaries of the present invention.

次に、本発明のより完全な理解のために、以下の記述に対する言及が、添付図面と共に取り上げられて、行なわれる。
図1Aは、典型的な多層半導体を例示している。 図1Bは、半導体の層を研磨するために使用される典型的なグラインダを示している。 図2は、研磨の間複数のダイを保持するための複数にセグメント化された装置の一実施形態の平面図を示している。 図3は、サポート構造の一実施形態の斜視図である。 図4は、本明細書において詳述されている研磨サポート概念を使用する一方法のフローチャートの一実施形態を示している。
Reference is now made to the following description, taken in conjunction with the accompanying drawings, for a more complete understanding of the invention.
FIG. 1A illustrates a typical multilayer semiconductor. FIG. 1B shows a typical grinder used to polish a semiconductor layer. FIG. 2 shows a top view of one embodiment of a multi-segmented apparatus for holding a plurality of dies during polishing. FIG. 3 is a perspective view of one embodiment of a support structure. FIG. 4 illustrates one embodiment of a flowchart of a method using the polishing support concept detailed herein.

詳細な説明Detailed description

図1Aは、典型的な多層半導体(ダイ)、例えば半導体ダイ10、を例示している。示されているように、ダイ10は、パッシベーション層101、能動回路が構築されることが可能な層102、103、104、および105、ならびにビア110、111、および112を有する。1つ以上のビアによって、電気的接続が、ある層から別の層まで通じるように構築されることが可能である。   FIG. 1A illustrates a typical multilayer semiconductor (die), for example, semiconductor die 10. As shown, the die 10 has a passivation layer 101, layers 102, 103, 104, and 105 on which active circuits can be built, and vias 110, 111, and 112. With one or more vias, electrical connections can be constructed to run from one layer to another.

デザインおよび/または製造工程中にダイの内部で欠陥が生じ得る。その欠陥が次に生成されるダイのために改善されることが可能になるために、欠陥が特定されなければならない。例えば、ダイ10のような製造されたダイの回路動作において誤動作が検出されたと想定する。そのような状況においては、連なった複数の材料の面を、例えば図1Bにおいて示されているグラインダ(研磨機、研削機)100を使用して研磨することによって、ダイ10は膜剥離される(delayered)。表面101のようなダイ10の表面は、グラインダ100の動いている研削面12に接した状態で保持され、時間とともに、表面101は除去され、例えば電子顕微鏡(electron magnification)を介して観察できるように層102を露出させる。層102に欠陥がないと判断されると、ビア110は、存在し得る欠陥のために操作者による折に触れたビア100の監視の下で、ゆっくりと研磨除去される。後に詳述されるように、集積回路パッケージはツール(T−ツール)内に位置されることが可能であり、また、集積回路パッケージの研削面12の面に対する接触角度は所望どおりに調整されることが可能になっている。ダイを保持するツールは、研磨のためにダイを保持するための周知のツールの任意のものであり得、そのようなものはTDジャム・プレシジョン(TD Jam Precision)から入手可能である。これらのツールは、ツールが研削面に対して様々な角度で作業対象(work piece)を保持することを可能にするシリコン足を有する。作業対象(ダイ)は、ファスナー、ねじ、エポキシ樹脂、接着剤、ばねなどを使用して、ツールに固定されることが可能である。   Defects can occur inside the die during the design and / or manufacturing process. In order for the defect to be able to be improved for the next produced die, the defect must be identified. For example, assume that a malfunction has been detected in the circuit operation of a manufactured die such as die 10. In such a situation, the die 10 is delaminated by polishing the continuous surfaces of the plurality of materials using, for example, a grinder 100 shown in FIG. 1B ( delayered). The surface of the die 10, such as the surface 101, is held in contact with the moving grinding surface 12 of the grinder 100 and over time the surface 101 is removed so that it can be observed, for example, via an electron magnification. Layer 102 is exposed. If it is determined that the layer 102 is not defective, the via 110 is slowly polished away under the monitoring of the via 100 that has been touched by an operator for possible defects. As will be detailed later, the integrated circuit package can be positioned in a tool (T-tool) and the contact angle of the integrated circuit package with respect to the grinding surface 12 is adjusted as desired. It is possible. The tool for holding the die can be any of the known tools for holding the die for polishing, such as is available from TD Jam Precision. These tools have silicon feet that allow the tool to hold a work piece at various angles with respect to the grinding surface. The work target (die) can be fixed to the tool using fasteners, screws, epoxy resins, adhesives, springs, and the like.

時に、欠陥は、ある層または複数の層へと、これらの層に達する前に処理を停止することが必要とならないように、事前特定される(pre-isolate)。したがって、欠陥がダイ10内において層104と105との間のどこかに含まれていることが(電気的試験または別の方法で)分かれば、層101〜103は詳細な観察なしで研磨除去されることになるだろう。タイミングは、研磨がどの深さまで(いくつの層を)経たかを割り出し得る。   Sometimes defects are pre-isolated into a layer or layers so that it is not necessary to stop processing before reaching these layers. Thus, if a defect is found somewhere in the die 10 between layers 104 and 105 (by electrical testing or otherwise), layers 101-103 are polished away without detailed observation. Will be done. The timing can determine how deep (how many layers) the polishing has gone through.

詳述されている例においては、研磨は、典型的にはミクロン・スラリー(図示せず)を使用して、レベル130に先行する構造が除去され(膜剥離され)きるまで継続する。研磨は、特定の量が新たにされた(renew、研磨された)後に(例えば1/2ミクロンごとに)観察が行なわれながら、継続する。最終的には、欠陥130が目に見えるようになり、また、操作者は、ビア111が欠陥120によってビア112にショートしていることを知るだろう。1つ以上の欠陥を見つけるために、このようにいくつかのIC装置を研磨することが、多くの場合、要求されている。このことは、各IC装置について半日どころか終日(および時にはさらに長時間)かかり得る。この工程は、P(研磨(polishing)のP)ラッピング(lapping)として業界で知られている。   In the detailed example, polishing continues, typically using a micron slurry (not shown), until the structure preceding level 130 has been removed (delaminated). Polishing continues with observation being made (eg, every 1/2 micron) after a certain amount has been renewed. Eventually, defect 130 becomes visible and the operator will know that via 111 is shorted to via 112 by defect 120. It is often required to polish several IC devices in this manner to find one or more defects. This can take an entire day (and sometimes even longer) for each IC device, rather than half a day. This process is known in the industry as P (polishing P) lapping.

図2は、ダイを並行して研磨している間複数のダイを保持するための複数にセグメント化された(multi-segmented)装置(例えば装置20)の一実施形態の平面図を示している。装置20は、グラインダ100の外縁(outer periphery)(図1の142)と結合する(mate with)ように設計されている外縁201を有する。所望により、グラインダが装置20の物理的寸法と異なる物理的寸法を有する場合、挿入物(図示せず)が使用されてグラインダ100(図1A)のようなグラインダに装置20を適合させることが可能である。装置20の開口領域(「ウィング」)202を下向きに覗き込むと、グラインダの表面領域12が見える。開口領域は、例示されている実施形態においては、風車の開口を有する。この実施形態では、グラインダ面12は、グラインダ20(図1A)のフレームによって静止状態に保持されている装置20に対して反時計回りに回転または動くものと想定されている。   FIG. 2 shows a top view of one embodiment of a multi-segmented apparatus (eg, apparatus 20) for holding multiple dies while polishing the dies in parallel. . The device 20 has an outer edge 201 that is designed to mate with the outer periphery of the grinder 100 (142 in FIG. 1). If desired, if the grinder has a physical dimension that differs from the physical dimension of the device 20, an insert (not shown) can be used to adapt the device 20 to a grinder such as the grinder 100 (FIG. 1A). It is. Looking down the open area (“wing”) 202 of the device 20, the surface area 12 of the grinder is visible. The open area has a windmill opening in the illustrated embodiment. In this embodiment, the grinder surface 12 is assumed to rotate or move counterclockwise with respect to the device 20 held stationary by the frame of the grinder 20 (FIG. 1A).

各スロット202内には、少なくとも1つのストップ24が位置されている。後に詳述されるように、各スロット202用のストップ24は、研削面12上の摩耗(wear)が放射状に外へと向かって離間されるように、(グラインダ100中央から外向きに測定された)半径について同半径、または好ましくは様々な半径に位置することが可能である。7mmダイについては、ストップ24は、相互に7mmオフセットだけ離間されることが可能である。   Located within each slot 202 is at least one stop 24. As will be described in detail later, the stop 24 for each slot 202 is measured outward from the center of the grinder 100 so that the wear on the grinding surface 12 is spaced radially outward. It is possible for the radii to be located at the same radius or preferably at various radii. For a 7 mm die, the stops 24 can be separated from each other by a 7 mm offset.

動作の際、研磨される装置は、取外し可能なツール26の底面(図2において図示せず)上に置かれる。ダイがツール26の中に取り付けられた後、ツール26は研削面12に押し付けられるようにスロット202のうちの1つの中に位置される。この位置させることは、グラインダ100が動作しているか停止しているかに関係なく達成されることが可能である。動いているグラインダ面12の基板に対する摩擦力は、ツール26に、基板(ダイ)を側壁およびストップ24に押し付けるように保持することを強いる。   In operation, the device to be polished is placed on the bottom surface of the removable tool 26 (not shown in FIG. 2). After the die is installed in the tool 26, the tool 26 is positioned in one of the slots 202 to be pressed against the grinding surface 12. This positioning can be accomplished regardless of whether the grinder 100 is operating or stopped. The frictional force of the moving grinder surface 12 against the substrate forces the tool 26 to hold the substrate (die) against the side walls and the stop 24.

ツール26はストップ24に押し付けられたまま留まり続け、他方、グラインダ面12は、その下で、操作者に圧力を維持したりあるいはツール26に接触することさえも要求せずに、回転する。この配置を使用すれば、複数のツール26(この実施形態では、3つの他のツール)が装置20の他のスロット202内に位置されることが可能であり、この結果、同一のグラインダ100を使用して同時に4つのダイ全てが、それぞれのツール26の位置を維持するために操作者の手を使用する必要無しに研磨されることが可能である。各スロット202が他の各スロット202から独立して動作するので、ダイ保持ツール26同士が同じである必要がないことに注目されたい。また、1つのツール26のみが1つのスロット202内に位置されることが可能であるとして詳述されているが、研削面12の直径が複数のツール26をサポートするのに十分に大きい場合、装置20は、複数のツール26が各スロット202内に自律配置されることが可能となるように設計されることができ得ることに注目されたい。   The tool 26 continues to remain pressed against the stop 24, while the grinder surface 12 rotates under it without requiring the operator to maintain pressure or even contact the tool 26. Using this arrangement, multiple tools 26 (in this embodiment, three other tools) can be located in other slots 202 of the device 20 so that the same grinder 100 can be used. In use, all four dies can be polished at the same time without the need to use an operator's hand to maintain the position of the respective tool 26. Note that the die holding tools 26 need not be the same because each slot 202 operates independently of each other slot 202. Also, although only one tool 26 is described in detail as being capable of being positioned in one slot 202, if the diameter of the grinding surface 12 is large enough to support multiple tools 26, Note that the device 20 can be designed to allow multiple tools 26 to be autonomously placed in each slot 202.

一例において、各ツール26の配置を7mmずつ互い違いにすることによって、研削面12が均一に磨耗することが可能であり、また、求心力が中央からスラリーを外へと動かすのでスラリーも均一に位置されることが可能である。   In one example, staggering the placement of each tool 26 by 7 mm allows the grinding surface 12 to wear uniformly, and the centripetal force moves the slurry away from the center so that the slurry is evenly positioned. Is possible.

ストップ24は、ツール26のぐらつきを防ぎ且つツール26をこれが置かれているスロット202の境界内に維持するように、Tツール26の端とかみ合う関係(mating relationship、結合する関係)となるように設計されることが可能である。一実施形態では、ストップ24はTツール26の端と合うように丸められている。他の実施形態では、ストップ24は、スロット202の下流の側壁に対して90度の角度にある。スロット側面の高さは、ツールの高さと合うようにされることが可能である。一実施形態では、この高さは15mmである。また、スロット202同士が中央に関して対称的でなく対称位置から約17.5mmオフセットされて(ずらされて)おり、この結果、各スロット202の中央の開口(central opening)同士が対向しないことに注目されたい。このオフセットは、固定の直径を有するグラインダ面12が、スロット202同士がグラインダ100の中央に関して完全に対称的であったとした場合よりも多くのダイを扱うことが可能であるようになっている。各スロット202の実際の内部輪郭は決定的ではないが、Tツールまたは他のダイ保持装置26がスロット領域202内に置くことおよび取り出すことの両方について容易に位置されるように設計されるべきである。   The stop 24 is in a mating relationship with the end of the T tool 26 so as to prevent the tool 26 from wobbling and keep the tool 26 within the boundaries of the slot 202 in which it is placed. Can be designed. In one embodiment, the stop 24 is rounded to fit the end of the T tool 26. In other embodiments, the stop 24 is at a 90 degree angle to the downstream sidewall of the slot 202. The height of the slot side can be adapted to the height of the tool. In one embodiment, this height is 15 mm. Note that the slots 202 are not symmetrical with respect to the center and are offset (shifted) from the symmetrical position by about 17.5 mm, so that the central openings of the slots 202 do not face each other. I want to be. This offset allows the grinder face 12 having a fixed diameter to handle more dies than if the slots 202 were perfectly symmetric with respect to the center of the grinder 100. The actual internal contour of each slot 202 is not critical, but should be designed so that the T tool or other die holding device 26 is easily positioned for both placing and removing within the slot area 202. is there.

カバーまたは部分的カバーが、所望により、各スロット202の上方に位置されることが可能である。カバーまたは部分的カバーは、スラリーをカバーまたはドーム内に維持しておくための飛沫除けとして働くことが可能である。   A cover or partial cover can be positioned above each slot 202 as desired. The cover or partial cover can serve as a splash proof to keep the slurry in the cover or dome.

ツール26がT部分の上面に沿った多くの窪みを伴って設計されることが可能であることに注目されたい。窪みは、壁210から突出する1つまたは複数のタブとかみ合って、それによってツール26を各スロット202内で固定された関係に保持することが可能である。   Note that the tool 26 can be designed with many indentations along the top surface of the T portion. The recess may engage one or more tabs that protrude from the wall 210, thereby holding the tool 26 in a fixed relationship within each slot 202.

図3は、この開示の考え方を利用するテンプレート構造の一実施形態30の斜視図である。示されている実施形態では、サポート(研磨テンプレート)30は、グラインダ100に永続的にまたは一時的に取付けられるように設計されている外縁31を有する。この取付けは、例えばサポートの外縁の周りの裾(skirt)(図示せず)によるものとすることが可能であり、そこにおいて裾がグラインダ100とかみ合う。また、グラインダの取付けは、足、例えばグラインダ100が動いている間、テンプレート30が動くのを防ぐためにグラインダ100に取り付けられている足32、であり得る。また、外縁(periphery)サポートは、例えばファスナー摩擦、ノッチ、ベルクロ、またはその他同種のものを使用することによって、グラインダ100の固定されている構造とかみ合うことが可能である。上面36は、研削面を覆うように外縁31(およびサポート32)からぶら下がるブリッジとして考えられることが可能である。示されている実施形態では、表面36は比較的水平であるが、表面36は、テンプレートが使用されている間にグラインダ面12からのスラリーの液飛びを防ぐのを支援するためにスロットを覆うように部分的カバーまたはドームを形成するようにスロット33−1〜33−4の上方で上向きに湾曲する部分を有し得る。テンプレートは、図2に関して上に詳述されているように中にダイが置かれると共に自身の保持ツール26が研削面12上に置かれるように、中央において開口している。   FIG. 3 is a perspective view of one embodiment 30 of a template structure that utilizes the concepts of this disclosure. In the illustrated embodiment, the support (abrasive template) 30 has an outer edge 31 that is designed to be permanently or temporarily attached to the grinder 100. This attachment can be, for example, by a skirt (not shown) around the outer edge of the support, where the hem engages the grinder 100. Also, the attachment of the grinder can be a foot, for example, a foot 32 attached to the grinder 100 to prevent the template 30 from moving while the grinder 100 is moving. Also, the peripheral support can engage the fixed structure of the grinder 100, for example by using fastener friction, notches, velcro, or the like. The top surface 36 can be thought of as a bridge that hangs from the outer edge 31 (and support 32) to cover the grinding surface. In the illustrated embodiment, the surface 36 is relatively horizontal, but the surface 36 covers the slot to help prevent slurry splashing from the grinder surface 12 while the template is being used. May have a portion that curves upwardly above the slots 33-1 to 33-4 to form a partial cover or dome. The template is open in the middle so that the die is placed therein and its holding tool 26 is placed on the grinding surface 12 as detailed above with respect to FIG.

テンプレートは研削面12を覆うように広がっており、中央開口から外縁サポートに向かって放射状に外へと広がる1つ以上のスロット33−1〜33−4を有する。各スロット領域33−1〜33−4は、中央から研削面12の直ぐ上の地点まで下方へと伸びている少なくとも1つの側壁34を有する。テンプレート壁34の下端が位置する研削面12の上方の正確な距離は、外縁31の周りの裾(あるいは脚)32の高さによって制御され、側壁34がTツール26に安定性を与えるのに十分な表面面積、高さ「h」を有する限り決定的ではない。側壁34は、スロット領域33−1〜33−4の下流側となる側に構築される。この情況における下流とは、スロット領域33−1〜33−4の、研削面12が動いて行く側である。研削面12が両方向に動く場合、両方向において自律支持的な研磨動作のために2つの側壁34が使用されることが必要だろう。図2の実施形態においては、研削面12が反時計回りであると想定されているので、スロット領域33−1〜33−4の下流側は、スロット領域33−1〜33−4の左側にあるとして示されている。   The template extends to cover the grinding surface 12 and has one or more slots 33-1 to 33-4 that extend radially outward from the central opening toward the outer edge support. Each slot region 33-1 to 33-4 has at least one sidewall 34 extending downward from the center to a point just above the grinding surface 12. The exact distance above the grinding surface 12 where the lower end of the template wall 34 is located is controlled by the height of the skirt (or leg) 32 around the outer edge 31 so that the side wall 34 provides stability to the T tool 26. As long as it has sufficient surface area and height “h”, it is not critical. The side wall 34 is constructed on the downstream side of the slot regions 33-1 to 33-4. The downstream in this situation is the side where the grinding surface 12 moves in the slot regions 33-1 to 33-4. If the grinding surface 12 moves in both directions, it may be necessary to use two sidewalls 34 for an autonomously supporting polishing operation in both directions. In the embodiment of FIG. 2, since the grinding surface 12 is assumed to be counterclockwise, the downstream side of the slot regions 33-1 to 33-4 is on the left side of the slot regions 33-1 to 33-4. Shown as being.

上に詳述されているように、また、図3を参照すると、Tツール26の下方のダイ表面に対してグラインダ100によって引き起こされる摩擦は、Tツール26の側面(Tツールの上面)を下流側壁34に押しつけると共にそれぞれの側壁34上に取り付けられているストップ35−1〜35−4(例えばストップ35−1〜35−4)とかみ合った関係にさせる。ストップ35−1〜35−4がTツール26よりも研削面12の中央近くに位置されているので、グラインダ100の動きはTツール26をストップ35−1〜35−4に押し付けるように引き寄せる。ストップ35−1〜35−がTツール26の側面とかみ合うかまたは少なくとも相補的構造を有するように設計されているので、研削面12からのダイに対する摩擦力はTツール26を下流側壁34およびストップ35−1〜35−との安定した関係に維持する。   As detailed above and with reference to FIG. 3, the friction caused by the grinder 100 against the die surface below the T tool 26 is downstream of the side of the T tool 26 (the top surface of the T tool). It presses against the side wall 34 and engages with the stops 35-1 to 35-4 (for example, the stops 35-1 to 35-4) attached on the respective side walls 34. Since the stops 35-1 to 35-4 are positioned closer to the center of the grinding surface 12 than the T tool 26, the movement of the grinder 100 pulls the T tool 26 to press against the stops 35-1 to 35-4. Because the stops 35-1 to 35-35 are designed to mate with at least the sides of the T tool 26 or have at least a complementary structure, the frictional force against the die from the grinding surface 12 causes the T tool 26 to move to the downstream side wall 34 and the stop. Maintain a stable relationship with 35-1 to 35-35.

保持ツール26がスロット33−1〜33−4内に置かれると、摩擦はツール26を適切な位置に保持する。すると、操作者は、他のスロット領域33−1〜33−4内に他のダイを自由に配置することが可能である。研磨処理の間はいつでも、グラインダ100が他のダイを研磨し続けている間にいずれのツール26も容易に取り出されることが可能である。したがって、操作者は、それぞれの下流側壁34に対する位置を維持されたままの他のダイを邪魔せずに、いつでも任意のダイを取り出したりあるいは元の位置に戻したりすることが可能である。   When the holding tool 26 is placed in the slots 33-1 to 33-4, the friction holds the tool 26 in place. Then, the operator can freely arrange other dies in the other slot regions 33-1 to 33-4. At any time during the polishing process, any tool 26 can be easily removed while the grinder 100 continues to polish other dies. Thus, the operator can take out any die or return it to its original position at any time without disturbing other dies that remain in position relative to their respective downstream sidewalls 34.

図4は、本明細書において詳述されている、研磨サポート概念を使用するための一方法のフローチャートの一実施形態40を示している。工程401は、保持ツール内に取り付けられた研磨される準備ができているダイがあるかどうか判断する。無ければ、工程402は、操作者または機械が研削(研磨)面に対して与えられるダイの所望の向きを選択することによってダイが取り付けられることを可能にする。   FIG. 4 illustrates one embodiment of a flowchart 40 of a method for using the polishing support concept detailed herein. Step 401 determines whether there is a die ready for polishing mounted in the holding tool. If not, step 402 allows the die to be attached by the operator or machine selecting the desired orientation of the die to be given with respect to the grinding (polishing) surface.

工程403は、適切なテンプレートが適切なグラインダ上に位置されているかどうか判断し、位置されていなければ、工程404は適切なテンプレートおよびグラインダを選択し、テンプレートをグラインダに取り付ける。   Step 403 determines whether the appropriate template is located on the appropriate grinder, and if not, step 404 selects the appropriate template and grinder and attaches the template to the grinder.

次に、工程405は、選択されたテンプレートの開口スロット内に、保持されたダイを位置させる。グラインダがオンされ(グラインダがまだオンでない場合)、また、位置されたダイの底面が、ある期間に亘って研磨される。研磨は、研削面がダイ表面に対して動く結果生じる。この結果、ダイに対して研削面によって引き起こされた摩擦が保持ツールの側面を下流側壁に押し付けるように動かすとともに側壁上に取り付けられているストップとかみ合った関係にさせる。   Step 405 then positions the retained die within the open slot of the selected template. The grinder is turned on (if the grinder is not yet on) and the bottom of the located die is polished for a period of time. Polishing results from the grinding surface moving relative to the die surface. As a result, the friction caused by the grinding surface against the die moves the side of the holding tool against the downstream side wall and is in meshing relationship with the stop mounted on the side wall.

工程405が完了すると、工程406は、さらなるダイが研磨のために利用可能かどうか判断する。利用可能である場合、工程401〜406が繰り返され、また、第2、第3、および第4ツールが、選択されたテンプレートの他のスロット内に同時に位置されることが可能である。   Once step 405 is complete, step 406 determines whether additional dies are available for polishing. If available, steps 401-406 are repeated and the second, third, and fourth tools can be simultaneously located in other slots of the selected template.

工程407は、位置されたダイのうちの1つを検査するべき時間かどうか判断する。これは、経過時間によって、または操作者が利用可能な他の信号によるいくつかの状況によって、なされることが可能である。検査のための時間である場合、工程408は、研削面がテンプレート・サポートに対して動き続けている状態でスロットからダイを取り出し、またダイが検査される。   Step 407 determines whether it is time to inspect one of the located dies. This can be done by elapsed time or by some situation with other signals available to the operator. If it is time for inspection, step 408 removes the die from the slot with the grinding surface continuing to move relative to the template support, and the die is inspected.

工程409は、検査されたダイについて研磨が完了しているかどうか判断する。完了している場合、ダイはテンプレートに戻されない。研磨が完了していない場合、工程405に再び移行する。研磨が完了している場合、工程410は、検査されたダイについての研磨を終了する。たとえ1つのダイがテンプレートから取り出されたとしても他のダイが人手を介さずに研磨され続けることに注目されたい。   Step 409 determines whether polishing has been completed for the inspected die. If completed, the die is not returned to the template. If the polishing has not been completed, the process proceeds to step 405 again. If polishing is complete, step 410 ends polishing for the inspected die. Note that even if one die is removed from the template, the other die will continue to be polished without human intervention.

本発明とその利点が詳細に記述されたが、添付された請求項によって定義されるような発明の思想および範囲から外れることなく様々な変更、置換、および変更がここにおいて行なわれることが可能であることは理解されるべきである。また、本願の範囲は、明細書中で記述されている工程、機械、製造、構成、手段、方法、およびステップの具体的な実施形態に制限されることを意図されていない。当業者は、本発明の本開示から、現在存在しているか後に開発されかつ本明細書において記述されている対応の実施形態と実質的に同じ機能を実行するあるいは実質的に同じ結果を達成する工程、機械、製造、構成、手段、方法、またはステップが本発明に従って利用され得ることを容易に認識するだろう。したがって、添付の請求項は、そのような工程、機械、製造、構成、手段、方法、またはステップを自身の範囲に含むことを意図されている。   Although the invention and its advantages have been described in detail, various changes, substitutions, and changes can be made herein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It should be understood that there is. In addition, the scope of the present application is not intended to be limited to the specific embodiments of the processes, machines, manufacture, configurations, means, methods, and steps described in the specification. Those skilled in the art will appreciate from this disclosure of the present invention that performs substantially the same functions or achieves substantially the same results as the corresponding embodiments presently or later developed and described herein. It will be readily appreciated that a process, machine, manufacture, configuration, means, method, or step can be utilized in accordance with the present invention. Accordingly, the appended claims are intended to include within their scope such processes, machines, manufacture, structures, means, methods, or steps.

本発明とその利点が詳細に記述されたが、添付された請求項によって定義されるような発明の思想および範囲から外れることなく様々な変更、置換、および変更がここにおいて行なわれることが可能であることは理解されるべきである。また、本願の範囲は、明細書中で記述されている工程、機械、製造、構成、手段、方法、およびステップの具体的な実施形態に制限されることを意図されていない。当業者は、本発明の本開示から、現在存在しているか後に開発されかつ本明細書において記述されている対応の実施形態と実質的に同じ機能を実行するあるいは実質的に同じ結果を達成する工程、機械、製造、構成、手段、方法、またはステップが本発明に従って利用され得ることを容易に認識するだろう。したがって、添付の請求項は、そのような工程、機械、製造、構成、手段、方法、またはステップを自身の範囲に含むことを意図されている。
以下に本願発明の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[C1]
少なくとも1つのダイの研磨を円滑にするための装置であって、
研磨面上に位置させるためのテンプレートであって、前記テンプレートは前記テンプレートの中央から放射状に外へと伸びる少なくとも1つのスロットを具備し、前記スロットはダイが前記研磨面に対する並列的な研磨のために前記スロット内に位置されることを可能にし、前記スロットは前記テンプレートが前記研磨面を覆うように配置された際に前記テンプレートから前記研削面に向かって下方へと伸びる少なくとも1つの側壁を有し、前記側壁は高さが前記研磨面の上方で伸び、前記高さは前記ダイを保持するために使用されるツールの高さと少なくとも等しい、テンプレートと、
前記スロットの輪郭内に位置された少なくとも1つのストップであって、前記ストップは前記位置されたダイに対して前記研磨面が動く際に前記ダイを前記スロット内に静止状態でかつ前記研磨面に接して位置し続けさせるように動作する、少なくとも1つのストップと、
を具備する装置。
[C2]
前記取付け具が、
前記テンプレートの前記中央から放射状に外へと伸びる少なくとも1つのさらなるスロットであって、前記さらなるスロットの各々は前記複数のスロットのうちの別のスロットから円周方向においてずらされている、少なくとも1つのさらなるスロット、
をさらに具備し、
前記さらなる開口の各々は、
前記テンプレートが前記研削面を覆うように位置された際に前記テンプレートから前記研削面に向かって下方へと伸びる少なくとも1つの側壁であって、前記壁は前記研磨面の上方で高さ「h」伸び、前記高さ「h」は前記ダイを保持するために使用されるツールの高さと少なくとも等しい、少なくとも1つの側壁と、
前記さらなるスロットの輪郭内に位置する少なくとも1つのストップであって、前記ストップは位置されたダイに対して前記研磨面が動いている間前記ダイを前記さらなるスロット内に静止状態でかつ前記研磨面に接して位置し続けさせるように動作する、少なくとも1つのストップと、
を具備する、
C1の装置。
[C3]
前記さらなるスロットの各々の前記複数のストップが前記それぞれの開口内で相違する半径距離で位置されている、
C2の装置。
[C4]
前記さらなるスロットの各々の中央の開口(central opening)が相互に対向していない、
C2の装置。
[C5]
前記複数のスロットを覆うように形成された飛沫除けであって、前記飛沫除けは前記ハウジングの前記中央で開口を有する、飛沫除け、
をさらに具備する、C4の装置。
[C6]
ダイ研磨ツール・サポートであって、
グラインダと一時的にかみ合うための外縁部分と、
前記外縁部分によってサポートされているテンプレートであって、前記テンプレートは前記外縁部分がかみ合っている前記グラインダの研削面の上方において前記外縁部分によって保持されており、前記テンプレートは開口した中央部分(open central portion)を有する、テンプレートと、
前記テンプレート内に形成された第1スロットであって、前記スロット領域は前記開口した中央部分から前記外縁部分に向かって放射状に外へと伸びており、前記スロットは前記テンプレートから前記研削面の上方の位置まで下方へと伸びる側壁を有し、前記側壁は前記第1スロット内に置かれた第1ダイ取付けツールの動きの抑制に十分な高さを前記グラインダ面の上方で有する、第1スロットと、
前記テンプレートの中心点からある半径において前記側壁上に位置された第1ストップであって、前記第1ストップは前記第1ツールの前記抑制を促進するための構造を具備し、前記抑制は前記第1ツールに対する前記研削面の動きによって一部促進されている、第1ストップと、
を具備する、ダイ研磨ツール・サポート。
[C7]
前記サポート内に形成された第2スロットであって、前記第2スロットは前記開口した中央部分から前記外縁部分に向かって放射状に外へと伸びているとともに前記第1スロットから水平方向に沿ってずらされており、前記第2スロットは前記テンプレートから前記研削面の直ぐ上の位置まで下方へと伸びる側壁部分を有し、前記側壁は前記第2スロット内に置かれた第2ダイ取付けツールの動きの抑制に十分な高さを前記グラインダ面の上方で有する、第2スロットと、
前記側壁上に位置されたストップであって、前記ストップは前記第2ツールの前記抑制を促進するための構造を具備し、前記抑制は前記第2ツールに対する前記研削面の動きによって一部促進されている、ストップと、
をさらに具備する、C6のツール・サポート。
[C8]
前記複数のストップが、前記複数のスロットのうちのそれぞれのスロット内で前記テンプレートの前記中央から相違する半径に位置されている、
C7のツール・サポート。
[C9]
前記第2ストップの前記半径が、前記第1ストップの前記半径よりも、研磨されているダイの幅だけ大きい、
C8のツール。
[C10]
前記幅が少なくとも7mmである、
C9のツール。
[C11]
前記側面の前記高さが少なくとも15mmである、
C8のツール。
[C12]
前記複数のスロットの中央の開口(central opening)が相互に対向しないように、前記複数のスロットが前記テンプレートの中央の周りに位置されている、
C8のツール。
[C13]
ダイを研磨する方法であって、
研削面を覆うよう似テンプレートを置くことと、
研磨される第1ダイを保持する第1ツールを、前記第1ダイの少なくとも1つの面が前記研削面に接触するように、前記テンプレートの第1スロット内に置くことであって、前記第1スロット領域は前記研削面の中央部分から放射状に外へと伸びており、前記第1スロット領域は前記第1スロットの下流側において側壁を有する、置くことと、
前記接触している第1ダイの面に対して前記研削面によって引き起こされた摩擦が前記第1保持ツールの側面を前記下流側壁に押し付けるように且つ前記側壁上に取り付けられたストップとかみ合う関係となるように動かすように前記研削面が前記接触している第1ダイの面に対して動くことが可能とされるように、前記第1ツールから前記テンプレートの外部の抑制を取り除くことであって、前記ストップは前記第1の置かれたツールよりも前記研削面の前記中央部分により近い、取り除くことと、
を具備する方法。
[C14]
前記研削面が前記サポートに対して動き続けている間、前記第1ツールを前記第1スロット領域から取り除くこと、
をさらに具備する、C15の方法。
[C15]
前記研削面が前記サポートに対して動き続けている間、前記第1ツールを前記第1スロット領域へ戻すこと、
をさらに具備するC14の方法。
[C16]
研磨される第2ダイを保持する第2ツールを、前記第2ダイの少なくとも1つの面が前記研削面に接触するように、前記テンプレートの第2スロット内に置くことであって、前記第2スロットは前記第1スロットから水平方向においてずらされているとともに前記研削面の中央部分から放射状に外へと伸びており、前記第2スロットは前記第2スロットの下流側において側壁を有し、前記置くことは前記第1ツールが前記第1スロット領域とかみ合った関係にある間に発生し、前記置くことは前記第2の接触しているダイの面に対して前記研削面によって引き起こされた摩擦が前記第2保持ツールの側面を前記第2下流側壁に押し付けるように且つ前記第2スロットの側壁上に取り付けられたストップとかみ合う関係となるように動かすように前記研削面が前記第2の接触しているダイの面に対して動くことを可能にし、前記ストップは前記第2の置かれたツールよりも前記研削面の前記中央により近い、置くこと、
をさらに具備する、C13の方法。
[C17]
前記第2スロット側壁ストップが、前記第1スロット側壁の半径距離と異なる半径距離にある、
C16の方法。
[C18]
前記異なる半径距離が前記第1および第2ダイの幅の関数である、
C17の方法。
[C19]
第3および第4ダイを研磨するための少なくとも2つのさらなるスロットについて前記最後に言及された置くことおよび取り除くことを繰り返すことを、さらに具備する、
C16の方法。
[C20]
前記複数のスロットが前記テンプレートの中央の周りで円周方向に沿って位置されており、いかなる2つのスロットもが相互に対向していない、
C19の方法。
Although the invention and its advantages have been described in detail, various changes, substitutions, and changes can be made herein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It should be understood that there is. In addition, the scope of the present application is not intended to be limited to the specific embodiments of the processes, machines, manufacture, configurations, means, methods, and steps described in the specification. Those skilled in the art will appreciate from this disclosure of the present invention that performs substantially the same functions or achieves substantially the same results as the corresponding embodiments presently or later developed and described herein. It will be readily appreciated that a process, machine, manufacture, configuration, means, method, or step can be utilized in accordance with the present invention. Accordingly, the appended claims are intended to include within their scope such processes, machines, manufacture, structures, means, methods, or steps.
The invention described in the scope of the claims of the present invention is appended below.
[C1]
An apparatus for smooth polishing of at least one die, comprising:
A template for positioning on a polishing surface, wherein the template comprises at least one slot extending radially outward from the center of the template, the slot being used for polishing a die in parallel to the polishing surface. The slot having at least one side wall extending downward from the template toward the grinding surface when the template is arranged to cover the polishing surface. The side wall extends above the polishing surface and the height is at least equal to the height of the tool used to hold the die; and
At least one stop positioned within the contour of the slot, the stop being stationary in the slot and moving to the polishing surface as the polishing surface moves relative to the positioned die. At least one stop that operates to keep it in contact with, and
A device comprising:
[C2]
The fixture is
At least one additional slot extending radially outward from the center of the template, each of the additional slots being offset circumferentially from another of the plurality of slots. More slots,
Further comprising
Each of the further openings is
At least one sidewall extending downward from the template toward the grinding surface when the template is positioned to cover the grinding surface, the wall having a height “h” above the polishing surface. Elongate, the height “h” being at least one side wall at least equal to the height of the tool used to hold the die;
At least one stop located within the contour of the further slot, the stop being stationary in the further slot and moving the polishing surface while the polishing surface is moving relative to the located die. At least one stop that operates to keep it in contact with
Comprising
C1 device.
[C3]
The plurality of stops of each of the further slots are located at different radial distances within the respective openings;
C2 device.
[C4]
The central openings of each of the further slots are not opposite one another,
C2 device.
[C5]
A splash ablation formed to cover the plurality of slots, the splash ablation having an opening in the center of the housing,
A C4 apparatus, further comprising:
[C6]
Die polishing tool support,
An outer edge for temporarily engaging with the grinder;
A template supported by the outer edge portion, wherein the template is held by the outer edge portion above the grinding surface of the grinder with which the outer edge portion is engaged, and the template is an open central portion. portion), and a template
A first slot formed in the template, wherein the slot region extends radially outward from the open central portion toward the outer edge portion, the slot extending from the template above the grinding surface; A first slot having a side wall extending downwardly to a position above the grinder surface that is high enough to inhibit movement of a first die attach tool placed in the first slot. When,
A first stop located on the sidewall at a radius from a center point of the template, the first stop comprising a structure for promoting the suppression of the first tool, wherein the suppression is the first stop; A first stop, partly facilitated by movement of the grinding surface relative to a tool;
Die polishing tool support comprising:
[C7]
A second slot formed in the support, the second slot extending radially outward from the open central portion toward the outer edge portion and horizontally extending from the first slot; The second slot has a side wall portion extending downwardly from the template to a position just above the grinding surface, the side wall of a second die attach tool located in the second slot. A second slot having a height above the grinder surface sufficient to inhibit movement;
A stop located on the sidewall, the stop comprising a structure for promoting the restraint of the second tool, wherein the restraint is partly facilitated by movement of the grinding surface relative to the second tool; It ’s a stop,
C6 tool support further comprising:
[C8]
The plurality of stops are located at different radii from the center of the template within each of the plurality of slots;
C7 tool support.
[C9]
The radius of the second stop is greater than the radius of the first stop by the width of the die being polished;
C8 tool.
[C10]
The width is at least 7 mm;
C9 tool.
[C11]
The height of the side surface is at least 15 mm;
C8 tool.
[C12]
The plurality of slots are positioned around the center of the template such that central openings of the plurality of slots do not face each other;
C8 tool.
[C13]
A method of polishing a die,
Placing a similar template to cover the grinding surface;
Placing a first tool holding a first die to be polished in a first slot of the template such that at least one surface of the first die contacts the grinding surface; Placing a slot region extending radially outward from a central portion of the grinding surface, the first slot region having a sidewall downstream of the first slot;
The friction caused by the grinding surface against the surface of the contacting first die engages a stop mounted on the side wall so as to press the side surface of the first holding tool against the downstream side wall. Removing an external restraint of the template from the first tool so that the grinding surface can be moved relative to the surface of the contacting first die to move Removing the stop closer to the central portion of the grinding surface than the first placed tool;
A method comprising:
[C14]
Removing the first tool from the first slot region while the grinding surface continues to move relative to the support;
The method of C15, further comprising:
[C15]
Returning the first tool to the first slot region while the grinding surface continues to move relative to the support;
The method of C14, further comprising:
[C16]
Placing a second tool holding a second die to be polished in the second slot of the template such that at least one surface of the second die contacts the grinding surface, the second die The slot is horizontally offset from the first slot and extends radially outward from a central portion of the grinding surface, the second slot having a sidewall downstream of the second slot; Placing occurs while the first tool is in intermeshing relationship with the first slot region, and the placing is the friction caused by the grinding surface against the surface of the second contacting die. To move the side surface of the second holding tool against the second downstream side wall and in mesh with a stop mounted on the side wall of the second slot. It possible to move relative to the surface of the die, wherein the grinding surface is in contact of the second, the stop closer to the center of the ground surface than the second, placed tools, placing,
The method of C13, further comprising:
[C17]
The second slot sidewall stop is at a radial distance different from the radial distance of the first slot sidewall;
The method of C16.
[C18]
The different radial distances are a function of the widths of the first and second dies;
The method of C17.
[C19]
Further comprising repeating the last mentioned placing and removing for at least two further slots for polishing the third and fourth dies,
The method of C16.
[C20]
The plurality of slots are located circumferentially around the center of the template, and no two slots are facing each other;
The method of C19.

Claims (20)

少なくとも1つのダイの研磨を円滑にするための装置であって、
研磨面上に位置させるためのテンプレートであって、前記テンプレートは前記テンプレートの中央から放射状に外へと伸びる少なくとも1つのスロットを具備し、前記スロットはダイが前記研磨面に対する並列的な研磨のために前記スロット内に位置されることを可能にし、前記スロットは前記テンプレートが前記研磨面を覆うように配置された際に前記テンプレートから前記研削面に向かって下方へと伸びる少なくとも1つの側壁を有し、前記側壁は高さが前記研磨面の上方で伸び、前記高さは前記ダイを保持するために使用されるツールの高さと少なくとも等しい、テンプレートと、
前記スロットの輪郭内に位置された少なくとも1つのストップであって、前記ストップは前記位置されたダイに対して前記研磨面が動く際に前記ダイを前記スロット内に静止状態でかつ前記研磨面に接して位置し続けさせるように動作する、少なくとも1つのストップと、
を具備する装置。
An apparatus for smooth polishing of at least one die, comprising:
A template for positioning on a polishing surface, wherein the template comprises at least one slot extending radially outward from the center of the template, the slot being used for polishing a die in parallel to the polishing surface. The slot having at least one side wall extending downward from the template toward the grinding surface when the template is arranged to cover the polishing surface. The side wall extends above the polishing surface and the height is at least equal to the height of the tool used to hold the die; and
At least one stop positioned within the contour of the slot, the stop being stationary in the slot and moving to the polishing surface as the polishing surface moves relative to the positioned die. At least one stop that operates to keep it in contact with, and
A device comprising:
前記取付け具が、
前記テンプレートの前記中央から放射状に外へと伸びる少なくとも1つのさらなるスロットであって、前記さらなるスロットの各々は前記複数のスロットのうちの別のスロットから円周方向においてずらされている、少なくとも1つのさらなるスロット、
をさらに具備し、
前記さらなる開口の各々は、
前記テンプレートが前記研削面を覆うように位置された際に前記テンプレートから前記研削面に向かって下方へと伸びる少なくとも1つの側壁であって、前記壁は前記研磨面の上方で高さ「h」伸び、前記高さ「h」は前記ダイを保持するために使用されるツールの高さと少なくとも等しい、少なくとも1つの側壁と、
前記さらなるスロットの輪郭内に位置する少なくとも1つのストップであって、前記ストップは位置されたダイに対して前記研磨面が動いている間前記ダイを前記さらなるスロット内に静止状態でかつ前記研磨面に接して位置し続けさせるように動作する、少なくとも1つのストップと、
を具備する、
請求項1の装置。
The fixture is
At least one additional slot extending radially outward from the center of the template, each of the additional slots being offset circumferentially from another of the plurality of slots. More slots,
Further comprising
Each of the further openings is
At least one sidewall extending downward from the template toward the grinding surface when the template is positioned to cover the grinding surface, the wall having a height “h” above the polishing surface. Elongate, the height “h” being at least one side wall at least equal to the height of the tool used to hold the die;
At least one stop located within the contour of the further slot, the stop being stationary in the further slot and moving the polishing surface while the polishing surface is moving relative to the located die. At least one stop that operates to keep it in contact with
Comprising
The apparatus of claim 1.
前記さらなるスロットの各々の前記複数のストップが前記それぞれの開口内で相違する半径距離で位置されている、
請求項2の装置。
The plurality of stops of each of the further slots are located at different radial distances within the respective openings;
The apparatus of claim 2.
前記さらなるスロットの各々の中央の開口(central opening)が相互に対向していない、
請求項2の装置。
The central openings of each of the further slots are not opposite one another,
The apparatus of claim 2.
前記複数のスロットを覆うように形成された飛沫除けであって、前記飛沫除けは前記ハウジングの前記中央で開口を有する、飛沫除け、
をさらに具備する、請求項4の装置。
A splash ablation formed to cover the plurality of slots, the splash ablation having an opening in the center of the housing,
The apparatus of claim 4 further comprising:
ダイ研磨ツール・サポートであって、
グラインダと一時的にかみ合うための外縁部分と、
前記外縁部分によってサポートされているテンプレートであって、前記テンプレートは前記外縁部分がかみ合っている前記グラインダの研削面の上方において前記外縁部分によって保持されており、前記テンプレートは開口した中央部分(open central portion)を有する、テンプレートと、
前記テンプレート内に形成された第1スロットであって、前記スロット領域は前記開口した中央部分から前記外縁部分に向かって放射状に外へと伸びており、前記スロットは前記テンプレートから前記研削面の上方の位置まで下方へと伸びる側壁を有し、前記側壁は前記第1スロット内に置かれた第1ダイ取付けツールの動きの抑制に十分な高さを前記グラインダ面の上方で有する、第1スロットと、
前記テンプレートの中心点からある半径において前記側壁上に位置された第1ストップであって、前記第1ストップは前記第1ツールの前記抑制を促進するための構造を具備し、前記抑制は前記第1ツールに対する前記研削面の動きによって一部促進されている、第1ストップと、
を具備する、ダイ研磨ツール・サポート。
Die polishing tool support,
An outer edge for temporarily engaging with the grinder;
A template supported by the outer edge portion, wherein the template is held by the outer edge portion above the grinding surface of the grinder with which the outer edge portion is engaged, and the template is an open central portion. portion), and a template
A first slot formed in the template, wherein the slot region extends radially outward from the open central portion toward the outer edge portion, the slot extending from the template above the grinding surface; A first slot having a side wall extending downwardly to a position above the grinder surface that is high enough to inhibit movement of a first die attach tool placed in the first slot. When,
A first stop located on the sidewall at a radius from a center point of the template, the first stop comprising a structure for promoting the suppression of the first tool, wherein the suppression is the first stop; A first stop, partly facilitated by movement of the grinding surface relative to a tool;
Die polishing tool support comprising:
前記サポート内に形成された第2スロットであって、前記第2スロットは前記開口した中央部分から前記外縁部分に向かって放射状に外へと伸びているとともに前記第1スロットから水平方向に沿ってずらされており、前記第2スロットは前記テンプレートから前記研削面の直ぐ上の位置まで下方へと伸びる側壁部分を有し、前記側壁は前記第2スロット内に置かれた第2ダイ取付けツールの動きの抑制に十分な高さを前記グラインダ面の上方で有する、第2スロットと、
前記側壁上に位置されたストップであって、前記ストップは前記第2ツールの前記抑制を促進するための構造を具備し、前記抑制は前記第2ツールに対する前記研削面の動きによって一部促進されている、ストップと、
をさらに具備する、請求項6のツール・サポート。
A second slot formed in the support, the second slot extending radially outward from the open central portion toward the outer edge portion and horizontally extending from the first slot; The second slot has a side wall portion extending downwardly from the template to a position just above the grinding surface, the side wall of a second die attach tool located in the second slot. A second slot having a height above the grinder surface sufficient to inhibit movement;
A stop located on the sidewall, the stop comprising a structure for promoting the restraint of the second tool, wherein the restraint is partly facilitated by movement of the grinding surface relative to the second tool; It ’s a stop,
The tool support of claim 6 further comprising:
前記複数のストップが、前記複数のスロットのうちのそれぞれのスロット内で前記テンプレートの前記中央から相違する半径に位置されている、
請求項7のツール・サポート。
The plurality of stops are located at different radii from the center of the template within each of the plurality of slots;
8. Tool support according to claim 7.
前記第2ストップの前記半径が、前記第1ストップの前記半径よりも、研磨されているダイの幅だけ大きい、
請求項8のツール。
The radius of the second stop is greater than the radius of the first stop by the width of the die being polished;
The tool of claim 8.
前記幅が少なくとも7mmである、
請求項9のツール。
The width is at least 7 mm;
The tool of claim 9.
前記側面の前記高さが少なくとも15mmである、
請求項8のツール。
The height of the side surface is at least 15 mm;
The tool of claim 8.
前記複数のスロットの中央の開口(central opening)が相互に対向しないように、前記複数のスロットが前記テンプレートの中央の周りに位置されている、
請求項8のツール。
The plurality of slots are positioned around the center of the template such that central openings of the plurality of slots do not face each other;
The tool of claim 8.
ダイを研磨する方法であって、
研削面を覆うよう似テンプレートを置くことと、
研磨される第1ダイを保持する第1ツールを、前記第1ダイの少なくとも1つの面が前記研削面に接触するように、前記テンプレートの第1スロット内に置くことであって、前記第1スロット領域は前記研削面の中央部分から放射状に外へと伸びており、前記第1スロット領域は前記第1スロットの下流側において側壁を有する、置くことと、
前記接触している第1ダイの面に対して前記研削面によって引き起こされた摩擦が前記第1保持ツールの側面を前記下流側壁に押し付けるように且つ前記側壁上に取り付けられたストップとかみ合う関係となるように動かすように前記研削面が前記接触している第1ダイの面に対して動くことが可能とされるように、前記第1ツールから前記テンプレートの外部の抑制を取り除くことであって、前記ストップは前記第1の置かれたツールよりも前記研削面の前記中央部分により近い、取り除くことと、
を具備する方法。
A method of polishing a die,
Placing a similar template to cover the grinding surface;
Placing a first tool holding a first die to be polished in a first slot of the template such that at least one surface of the first die contacts the grinding surface; Placing a slot region extending radially outward from a central portion of the grinding surface, the first slot region having a sidewall downstream of the first slot;
The friction caused by the grinding surface against the surface of the contacting first die engages a stop mounted on the side wall so as to press the side surface of the first holding tool against the downstream side wall. Removing an external restraint of the template from the first tool so that the grinding surface can be moved relative to the surface of the contacting first die to move Removing the stop closer to the central portion of the grinding surface than the first placed tool;
A method comprising:
前記研削面が前記サポートに対して動き続けている間、前記第1ツールを前記第1スロット領域から取り除くこと、
をさらに具備する、請求項15の方法。
Removing the first tool from the first slot region while the grinding surface continues to move relative to the support;
16. The method of claim 15, further comprising:
前記研削面が前記サポートに対して動き続けている間、前記第1ツールを前記第1スロット領域へ戻すこと、
をさらに具備する請求項14の方法。
Returning the first tool to the first slot region while the grinding surface continues to move relative to the support;
15. The method of claim 14, further comprising:
研磨される第2ダイを保持する第2ツールを、前記第2ダイの少なくとも1つの面が前記研削面に接触するように、前記テンプレートの第2スロット内に置くことであって、前記第2スロットは前記第1スロットから水平方向においてずらされているとともに前記研削面の中央部分から放射状に外へと伸びており、前記第2スロットは前記第2スロットの下流側において側壁を有し、前記置くことは前記第1ツールが前記第1スロット領域とかみ合った関係にある間に発生し、前記置くことは前記第2の接触しているダイの面に対して前記研削面によって引き起こされた摩擦が前記第2保持ツールの側面を前記第2下流側壁に押し付けるように且つ前記第2スロットの側壁上に取り付けられたストップとかみ合う関係となるように動かすように前記研削面が前記第2の接触しているダイの面に対して動くことを可能にし、前記ストップは前記第2の置かれたツールよりも前記研削面の前記中央により近い、置くこと、
をさらに具備する、請求項13の方法。
Placing a second tool holding a second die to be polished in the second slot of the template such that at least one surface of the second die contacts the grinding surface, the second die The slot is horizontally offset from the first slot and extends radially outward from a central portion of the grinding surface, the second slot having a sidewall downstream of the second slot; Placing occurs while the first tool is in intermeshing relationship with the first slot region, and the placing is the friction caused by the grinding surface against the surface of the second contacting die. To move the side surface of the second holding tool against the second downstream side wall and in mesh with a stop mounted on the side wall of the second slot. It possible to move relative to the surface of the die, wherein the grinding surface is in contact of the second, the stop closer to the center of the ground surface than the second, placed tools, placing,
14. The method of claim 13, further comprising:
前記第2スロット側壁ストップが、前記第1スロット側壁の半径距離と異なる半径距離にある、
請求項16の方法。
The second slot sidewall stop is at a radial distance different from the radial distance of the first slot sidewall;
The method of claim 16.
前記異なる半径距離が前記第1および第2ダイの幅の関数である、
請求項17の方法。
The different radial distances are a function of the widths of the first and second dies;
The method of claim 17.
第3および第4ダイを研磨するための少なくとも2つのさらなるスロットについて前記最後に言及された置くことおよび取り除くことを繰り返すことを、さらに具備する、
請求項16の方法。
Further comprising repeating the last mentioned placing and removing for at least two further slots for polishing the third and fourth dies,
The method of claim 16.
前記複数のスロットが前記テンプレートの中央の周りで円周方向に沿って位置されており、いかなる2つのスロットもが相互に対向していない、
請求項19の方法。
The plurality of slots are located circumferentially around the center of the template, and no two slots are facing each other;
The method of claim 19.
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