JP2014095141A - Plating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、メッキ装置に関する。 The present invention relates to a plating apparatus.
プリント回路基板は、電子通信機器などに用いられる最も基本的な電子部品である。このようなプリント回路基板は、電子通信技術の急速な発展に伴い、その技術もまた急速に発展している。 A printed circuit board is the most basic electronic component used in electronic communication equipment. Such a printed circuit board is developed rapidly with the rapid development of electronic communication technology.
プリント回路基板を製造するためには、様々な工程が行われる。様々な工程のうち一部として、洗浄水、エッチング液、メッキ液または現像液などの処理液を用いる湿式工程を行うことができる。 In order to manufacture a printed circuit board, various processes are performed. As part of the various processes, a wet process using a processing solution such as cleaning water, an etching solution, a plating solution, or a developing solution can be performed.
湿式工程は、プリント回路基板が駆動装置によって工程設備内を水平に進む間、プリント回路基板の上端または下端に設けられた多数のノズルから各種の化学溶液を噴射することにより行うことができる(特許文献1参照)。 The wet process can be performed by spraying various chemical solutions from a number of nozzles provided at the upper end or the lower end of the printed circuit board while the printed circuit board moves horizontally through the process equipment by the driving device (patent) Reference 1).
本発明の一側面による目的は、メッキ時に基板の離脱を防止するメッキ装置を提供することにある。 An object of one aspect of the present invention is to provide a plating apparatus that prevents separation of a substrate during plating.
本発明の他の側面による目的は、基板の離脱を防止する離脱防止部に損傷が生じた場合に簡単に解決することができるメッキ装置を提供することにある。 An object of another aspect of the present invention is to provide a plating apparatus that can be easily solved when damage occurs to a separation preventing portion that prevents separation of a substrate.
本発明の実施例によると、基板にメッキ液を噴射するメッキチャンバーと、前記メッキチャンバーの内部に形成され、一面に多数個のワイヤが前記基板の移送方向に形成され、移送される前記基板の上部及び下部に位置して前記基板の離脱を防止する離脱防止部と、前記基板を装着して移送する基板移送部と、を含むメッキ装置が提供される。 According to an embodiment of the present invention, a plating chamber that injects a plating solution onto a substrate, and a plurality of wires are formed on one surface in the transfer direction of the substrate, and are transferred to the substrate. There is provided a plating apparatus including a detachment preventing unit located at an upper part and a lower part for preventing the detachment of the substrate, and a substrate transfer unit for mounting and transferring the substrate.
前記離脱防止部は、前記基板の下部に位置する第1離脱防止部と、前記基板の上部に位置する第2離脱防止部と、を含むことができる。 The detachment prevention part may include a first detachment prevention part located at a lower part of the substrate and a second detachment prevention part located at an upper part of the substrate.
前記第1離脱防止部は、前記基板の下部に位置する第1フレームと、前記第1フレームの上部に形成され、前記基板の移送方向に形成された第1ワイヤと、を含むことができる。 The first detachment prevention unit may include a first frame located at a lower portion of the substrate, and a first wire formed at an upper portion of the first frame and formed in the substrate transfer direction.
前記第1フレームは、中央に中空部が形成され、長方形に形成されることができる。 The first frame may be formed in a rectangular shape having a hollow portion in the center.
前記第2離脱防止部は、前記基板の上部に形成される第2フレームと、前記第2フレームの下部に形成され、前記基板の移送方向に形成された第2ワイヤと、を含むことができる。 The second detachment prevention unit may include a second frame formed on an upper portion of the substrate and a second wire formed on a lower portion of the second frame and formed in the transport direction of the substrate. .
前記第2フレームは、中央に中空部が形成され、長方形に形成されることができる。 The second frame may be formed in a rectangular shape with a hollow portion formed in the center.
前記ワイヤの外面が、テフロン(Teflon[登録商標])樹脂でコーティングされることができる。 The outer surface of the wire may be coated with Teflon (registered trademark) resin.
前記基板移送部は、前記基板を固定する固定治具と、前記固定治具に連結され、前記固定治具を基板移送方向に移動させる治具移送部と、を含むことができる。 The substrate transfer unit may include a fixing jig that fixes the substrate and a jig transfer unit that is connected to the fixing jig and moves the fixing jig in the substrate transfer direction.
前記固定治具は、前記基板が挿入される基板挿入部と、前記挿入された基板を圧入して固定させる基板固定部と、を含むことができる。 The fixing jig may include a substrate insertion portion into which the substrate is inserted and a substrate fixing portion that press-fits and fixes the inserted substrate.
前記離脱防止部は、前記基板の上部及び下部それぞれに多数個が一直線に並ぶように形成されることができる。 The detachment prevention part may be formed so that a large number of the detachment prevention parts are arranged in a straight line on each of an upper part and a lower part of the substrate.
前記メッキチャンバーは、前記基板にメッキ液を噴射する一つ以上のノズルをさらに含むことができる。 The plating chamber may further include one or more nozzles that spray a plating solution onto the substrate.
前記ノズルは、前記メッキチャンバーの内部の上部及び下部のうち少なくとも一つに形成されることができる。 The nozzle may be formed in at least one of an upper part and a lower part inside the plating chamber.
本発明の実施例によるメッキ装置は、離脱防止部により、メッキ液の噴射圧力によって基板が離脱することを防止することができる。 The plating apparatus according to the embodiment of the present invention can prevent the substrate from being detached by the spraying pressure of the plating solution by the separation preventing unit.
本発明の実施例によるメッキ装置は、基板が離脱することを防止することにより、基板メッキの信頼性を向上させることができる。 The plating apparatus according to the embodiment of the present invention can improve the reliability of substrate plating by preventing the substrate from being detached.
本発明の実施例によるメッキ装置は、基板の離脱を防止する離脱防止部に損傷が生じた場合に、ワイヤを取り替えることにより簡単に解決することができる。 The plating apparatus according to the embodiment of the present invention can be easily solved by replacing the wire when the separation preventing portion for preventing the separation of the substrate is damaged.
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。 Objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description and preferred embodiments with reference to the accompanying drawings. In this specification, it should be noted that when adding reference numerals to the components of each drawing, the same components are given the same number as much as possible even if they are shown in different drawings. I must. The terms “one side”, “other side”, “first”, “second” and the like are used to distinguish one component from another component, and the component is the term It is not limited by. Hereinafter, in describing the present invention, detailed descriptions of known techniques that may obscure the subject matter of the present invention are omitted.
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の実施例によるメッキ装置を示す例示図である。 FIG. 1 is an exemplary view showing a plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
図1を参照すると、メッキ装置100は、メッキチャンバー110と、離脱防止部120と、基板移送部130と、を含むものである。
Referring to FIG. 1, the
メッキチャンバー110は、外壁で囲むように形成させることができる。メッキチャンバー110の内部空間に基板200を位置(設置)することができる。また、メッキチャンバー110は、内部に位置(設置)した基板200にメッキ液112を噴射することができる。ここで、基板200は、プリント回路基板であることができる。
The
メッキチャンバー110は、基板200にメッキ液112を噴射するためのノズル111を含むことができる。本発明の実施例によると、ノズル111は、メッキチャンバー110の内部の上部及び下部それぞれに形成することができる。しかし、ノズル111の形成位置及び個数は、これに限定されない。即ち、ノズル111は、メッキチャンバー110の内部の上部及び下部のうち少なくとも一つに形成することができる。さらに、ノズル111は、メッキチャンバー110の内部で、基板200にメッキ液112を噴射することができる何れの位置にも形成することができる。本発明のメッキチャンバー110は、基板200にメッキ液112を噴射することができれば、その構造及び形態を多様に変形することができる。
The
メッキチャンバー110の内部空間に、基板200を移送するための離脱防止部120及び基板移送部130を形成することができる。
A
離脱防止部120は、基板200の移送方向に形成することができる。また、離脱防止部120は、基板200の上部及び下部に位置(設置)することができる。また、図1に図示されたように、基板200の上部及び下部それぞれに、多数個の離脱防止部120を一直線に並ぶように形成することができる。しかし、これは、本発明の一実施例に過ぎず、このように限定されるものではない。例えば、離脱防止部120は、基板200がメッキチャンバー110を通過できる十分な長さに形成されれば、上部及び下部それぞれに一つのみ形成することができる。即ち、離脱防止部120の個数は、当業者が基板200の移送長さまたは離脱防止部120の大きさなどを考慮して容易に変更することができる。離脱防止部120は、メッキ液112の噴射圧力によって基板200が基板移送部130から離脱することを防止することができる。
The
基板移送部130は、基板200を移送方向に移送することができる。基板移送部130の一部は、離脱防止部120同士の間に位置(設置)して基板200を装着することができる。即ち、基板移送部130は、装着された基板200を離脱防止部120同士の間で移送するようにすることができる。
The
図2は、本発明の実施例による離脱防止部を示す例示図である。 FIG. 2 is an exemplary view illustrating a separation preventing unit according to an embodiment of the present invention.
図2を参照すると、離脱防止部120は、第1離脱防止部121と、第2離脱防止部125と、を含むものである。
Referring to FIG. 2, the
第1離脱防止部121は、基板200の下部に位置(設置)することができる。第1離脱防止部121は、第1フレーム122と、第1ワイヤ123と、を含むことができる。第1フレーム122には、多数個の第1ワイヤ123を形成することができる。第1ワイヤ123は、第1フレーム122の上部に形成及び固定することができる。この際、第1ワイヤ123は、基板200の移送方向に、第1フレーム122に固定することができる。第1ワイヤ123は、移送中の基板200がメッキチャンバー110の下部から噴射されるメッキ液112の圧力によって基板移送部130から離脱することを防止することができる。
The first
第2離脱防止部125は、基板200の上部に位置(設置)することができる。第2離脱防止部125は、第2フレーム126と、第2ワイヤ127と、を含むことができる。第2ワイヤ127は、第2フレーム126の下部に形成及び固定することができる。この際、第2ワイヤ127もまた基板200の移送方向に、第2フレーム126に固定することができる。第2フレーム126には、多数個の第2ワイヤ127を形成することができる。第2ワイヤ127は、基板200がメッキチャンバー110の上部から噴射されるメッキ液112の圧力によって基板移送部130から離脱することを防止するためのものである。
The second
このように形成された離脱防止部120は、メッキチャンバー(図1の110)の内壁に固定することができる。または、離脱防止部120の一側に離脱防止部120を固定するための離脱防止部本体(不図示)が形成され、離脱防止部120は、本体(不図示)に固定することができる。
The
本発明の実施例によると、離脱防止部120は、第1離脱防止部121と、第2離脱防止部125との間の間隔を調節することができる。例えば、第1離脱防止部121が固定された状態で、第2離脱防止部125を上下に動かして相互間隔を拡大または縮小することができる。または、第2離脱防止部125が固定された状態で、第1離脱防止部121を上下に動かして相互間隔を拡大または縮小することができる。また、第1離脱防止部121及び第2離脱防止部125の両方を動かして相互間隔を調節することができる。第1離脱防止部121と第2離脱防止部125との間の相互間隔を調節するための構成は、公知の技術から当業者が容易に設計変更して適用することができる。
According to the embodiment of the present invention, the
本発明の実施例によると、第1離脱防止部121及び第2離脱防止部125を基板200の下部及び上部に位置(設置)することにより、基板200がメッキ液112の圧力によって離脱防止部120の外部に離脱することを防止することができる。
According to the embodiment of the present invention, the first
基板200の離脱を防止するための離脱防止部120は、メッキ液に長時間露出したり劣化することによって損傷を受け得る。このように損傷が生じた場合、第1ワイヤ123及び第2ワイヤ127を取り替えることにより問題を容易に解決することができる。
The
図3は、本発明の実施例による第1離脱防止部を示す例示図である。 FIG. 3 is an exemplary view illustrating a first separation preventing unit according to an embodiment of the present invention.
図3を参照すると、第1離脱防止部121は、第1フレーム122と、多数個の第1ワイヤ123と、を含むものである。
Referring to FIG. 3, the first
第1フレーム122は、中央に中空部が形成され、長方形に形成されることができる。本発明の実施例によると、第1フレーム122は、基板移送方向に長い長方形を形成することができる。しかし、第1フレーム122の形状は、これに限定されるものではない。即ち、第1フレーム122は、メッキ液112が通過可能な空間を含むことができれば、如何なる形態であってもよい。
The
多数個の第1ワイヤ123は、第1フレーム122の上部に形成することができる。また、第1ワイヤ123もまた、図3に図示されたように、基板移送方向に形成することができる。ここで、第1ワイヤの内部123−1は、ステンレスワイヤ(SUS Wire)のような剛性材質で形成することができる。また、第1ワイヤの外部123−2は、テフロン(Teflon[登録商標])でコーティングすることができる。しかし、第1ワイヤの外部123−2の材質は、テフロン(Teflon[登録商標])に限定されず、摩擦係数が低い樹脂のいずれも可能である。
A plurality of
図4は、本発明の実施例による第2離脱防止部を示す例示図である。 FIG. 4 is an exemplary view illustrating a second detachment preventing unit according to an embodiment of the present invention.
図4を参照すると、第2離脱防止部125は、第2フレーム126と、多数個の第2ワイヤ127と、を含むものである。
Referring to FIG. 4, the second
第2フレーム126は、中央に中空部が形成され、長方形に形成されることができる。本発明の実施例によると、第2フレーム126は、基板移送方向に長い長方形を形成することができる。このような第2フレーム126の形状は、これに限定されるものではない。即ち、第2フレーム126は、メッキ液112が通過可能な空間を含むことができれば、如何なる形態であってもよい。
The
多数個の第2ワイヤ127は、第2フレーム126の下部に形成することができる。また、第2ワイヤ127もまた、図4に図示されたように、基板移送方向に形成することができる。ここで、第2ワイヤの内部127−1は、第1ワイヤ123と同様に、ステンレスワイヤのような剛性材質で形成することができる。また、第2ワイヤの外部127−2は、テフロン(Teflon[登録商標])でコーティングすることができる。しかし、第2ワイヤの外部127−2の材質は、テフロン(Teflon[登録商標])に限定されず、摩擦係数が低い樹脂のいずれも可能である。
A plurality of
図5は、本発明の実施例による基板移送部を示す例示図である。 FIG. 5 is an exemplary view illustrating a substrate transfer unit according to an embodiment of the present invention.
図5を参照すると、基板移送部130は、固定治具131と、治具移送部135と、を含むものである。
Referring to FIG. 5, the
固定治具131は、第1離脱防止部121と、第2離脱防止部125との間に位置(設置)することができる。固定治具131には、基板200を装着することができる。固定治具131は、基板挿入部132と、基板固定部133と、を含むことができる。基板挿入部132には、基板200を挿入することができる。基板挿入部132は、固定治具131の一側に溝状に形成することができる。例えば、一側は、固定治具131において基板移送方向の反対側面にすることができる。溝状の基板挿入部132に基板200の一部を挿入することができる。
The fixing
基板固定部133は、基板挿入部132に挿入された基板200を固定することができる。基板固定部133は、基板挿入部132の上部及び下部から突出した形状に形成することができる。即ち、基板挿入部132に基板200の一部が挿入されると、挿入された基板200を圧入して固定することができる。この際、基板固定部133は、挿入された基板200と点接触することができる。従って、基板固定部133の圧入により、基板200が損傷を受けることを最小化することができる。
The
治具移送部135は、固定治具131に結合して固定治具131を基板移送方向に移動することができる。治具移送部135は、基板200の移送方向に対して平行に形成することができる。また、治具移送部135は、離脱防止部120の一側から所定距離離隔して形成することができる。治具移送部135は、コンベヤ(Conveyor)状に形成することができる。治具移送部135をコンベヤ状に形成することは、実施例に過ぎず、これに限定されるものではない。治具移送部135は、固定治具131に連結されて固定治具131を基板移送方向に移動することができるいずれの装置も可能である。
The
このように、本発明の実施例によるメッキ装置は、離脱防止部により、基板メッキを行う際に基板の離脱を防止することができる。従って、本発明の実施例によるメッキ装置により、基板メッキに対する信頼性を向上させることができる。 As described above, the plating apparatus according to the embodiment of the present invention can prevent the substrate from being detached when the substrate is plated by the separation preventing unit. Therefore, the plating apparatus according to the embodiment of the present invention can improve the reliability for substrate plating.
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。 As described above, the present invention has been described in detail based on the specific embodiments. However, the present invention is only for explaining the present invention, and the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that modifications and improvements within the technical idea of the present invention are possible.
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。 All simple variations and modifications of the present invention belong to the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be apparent from the appended claims.
本発明は、メッキ装置に適用可能である。 The present invention is applicable to a plating apparatus.
100 メッキ装置
110 メッキチャンバー
111 ノズル
112 メッキ液
120 離脱防止部
121 第1離脱防止部
122 第1フレーム
123 第1ワイヤ
123−1 第1ワイヤの内部
123−2 第1ワイヤの外部
125 第2離脱防止部
126 第2フレーム
127 第2ワイヤ
127−1 第2ワイヤの内部
127−2 第2ワイヤの外部
130 基板移送部
131 固定治具
132 基板挿入部
133 基板固定部
135 治具移送部
200 基板
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記メッキチャンバーの内部に形成され、一面に多数個のワイヤが前記基板の移送方向に形成され、移送される前記基板の上部及び下部に位置して前記基板の離脱を防止する離脱防止部と、
前記基板を装着して移送する基板移送部と、を含むメッキ装置。 A plating chamber for injecting a plating solution onto the substrate;
A detachment prevention unit that is formed inside the plating chamber and has a plurality of wires formed in one surface in the transfer direction of the substrate to prevent the detachment of the substrate located above and below the substrate to be transferred,
A plating apparatus comprising: a substrate transfer unit that mounts and transfers the substrate.
前記基板の下部に位置する第1離脱防止部と、
前記基板の上部に位置する第2離脱防止部と、を含む請求項1に記載のメッキ装置。 The separation prevention unit is
A first detachment preventing unit located at a lower portion of the substrate;
The plating apparatus according to claim 1, further comprising a second detachment prevention unit located on an upper portion of the substrate.
前記基板の下部に位置する第1フレームと、
前記第1フレームの上部に形成され、前記基板の移送方向に形成された第1ワイヤと、を含む請求項2に記載のメッキ装置。 The first separation preventing unit is
A first frame located under the substrate;
The plating apparatus according to claim 2, further comprising: a first wire formed on an upper portion of the first frame and formed in a transfer direction of the substrate.
前記基板の上部に形成される第2フレームと、
前記第2フレームの下部に形成され、前記基板の移送方向に形成された第2ワイヤと、を含む請求項2に記載のメッキ装置。 The second separation preventing unit is
A second frame formed on the substrate;
The plating apparatus according to claim 2, further comprising: a second wire formed at a lower portion of the second frame and formed in a direction in which the substrate is transferred.
前記基板を固定する固定治具と、
前記固定治具に連結され、前記固定治具を基板移送方向に移動させる治具移送部と、を含む請求項1に記載のメッキ装置。 The substrate transfer unit
A fixing jig for fixing the substrate;
The plating apparatus according to claim 1, further comprising: a jig transfer unit that is connected to the fixing jig and moves the fixing jig in a substrate transfer direction.
前記基板が挿入される基板挿入部と、
前記挿入された基板を圧入して固定させる基板固定部と、を含む請求項8に記載のメッキ装置。 The fixing jig is
A substrate insertion portion into which the substrate is inserted;
The plating apparatus according to claim 8, further comprising: a substrate fixing portion that press-fits and inserts the inserted substrate.
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04108580A (en) * | 1990-08-29 | 1992-04-09 | Seiko Epson Corp | Work transfer mechanism in submerged jet cleaner |
JPH0572165U (en) * | 1992-03-05 | 1993-09-28 | 昭和電工株式会社 | Etching equipment |
JP3052378U (en) * | 1997-12-09 | 1998-09-25 | 日本ミクロン株式会社 | Pure water washing machine |
JP2002018371A (en) * | 2000-07-04 | 2002-01-22 | Akifumi Kanbe | Glove cleaning equipment and cleaning method |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114829680A (en) * | 2020-11-20 | 2022-07-29 | Kpm技术有限公司 | Substrate transfer apparatus for vertical type continuous plating apparatus |
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