JP2014094909A - 除草用組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】雑草に対して優れた防除効力を有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）：

［式中、ｍは１、２又は３の整数を表し、ｎは１〜５いずれかの整数を表し、ＸはＣＨ_2、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、Ｒ²及びＲ³は水素、Ｃ_1-6アルキル基等を表し、Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表わし、Ｇは水素等を表し、Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、フェニル基、Ｃ_1-6アルキル基等を表す。］で示されるシクロヘキサノン化合物と、メソトリオン、イソキサフルトール、フルフェナセット、ピロキサスルホン、ペンディメタリン、トリフルラリン、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム等から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有することを特徴とする除草用組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、除草剤組成物等に関する。

現在、数多くの除草剤が販売され、使用されている。（例えば、非特許文献１参照）

ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）

本発明は、優れた雑草防除効果を有する除草用組成物を提供することを課題とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、下記式（Ｉ）で表されるシクロヘキサノン化合物と特定の化合物とを含有する除草用組成物が、優れた雑草防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下の通りである。
［１］ 式（Ｉ）

［式中、
ｍは１、２又は３を表し、
ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇは水素又は下記式

｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
で表されるいずれかの基を表し、
Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
で示されるシクロヘキサノン化合物と、下記Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有することを特徴とする除草用組成物。
Ａ群：
メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
［２］ ｎが１〜３いずれかの整数であり、
Ｒ¹が水素であり、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-3アルキル基又はＲ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖であり（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基はハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルキルチオ基、Ｃ_1-3ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ペンタフルオロチオ基、ベンゾイルアミノ基及びＣ_1-3ハロアルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、該Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基は、１以上のハロゲンまたは１以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたは２以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇが水素又は下記式

｛式中、Ｒ^5aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基又はＣ_6-10アリールオキシ基を表し、
Ｒ^6aはＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｗ^aはＣ_1-3アルコキシ基を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
Ｒ⁹が、水素、Ｃ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリールスルホニル基であり（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリールスルホニル基は、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｚがハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、ニトロ基、フェニル基又は５〜６員のヘテロアリールオキシ基（但し、該Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、フェニル基及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基は、１以上のハロゲンを有していてもよく。２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）である、［１］に記載の除草用組成物。
［３］ Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、メチル基、エチル基又はＲ²とＲ³とが結合してエチレン鎖であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、ペンタフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、トリフルオロメチルチオ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロメトキシ基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有している。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、メチル基及びフェニル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。また、該フェニル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
Ｒ⁹が水素、２−ニトロフェニルスルホニル基又はメチル基であり、
Ｚがメチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基、シクロプロピル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、メトキシ基、トリフルオロメチル基、５−トリフルオロメチル−２−クロロピリジルオキシ基又はエチニル基である、［２］に記載の除草用組成物。
［４］ Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有することを特徴とする［１］〜［３］のいずれか一に記載の除草用組成物。
Ｂ群
ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。
［５］ Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロキントセットメキシル、メフェンピルジエチル又はフェンクロラゾールエチルである［４］に記載の除草用組成物。
［６］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物がメソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、またはテフリルトリオンである［１］〜［５］のいずれか一に記載の除草用組成物。
［７］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、イソキサフルトール、またはイソキサクロルトールである［１］〜［５］のいずれか一に記載の除草用組成物。
［８］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、またはトプラメゾンである［１］〜［５］のいずれか一に記載の除草用組成物。
［９］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ビシクロピロン、またはベンゾビシクロンである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１０］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、またはテニルクロールである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１１］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物がジフェナミドまたはナプロパミドである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１２］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フルフェナセットまたはメフェナセットである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１３］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フェントラザミドまたはイプフェンカルバゾンである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１４］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、アニロホスである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１５］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、カフェンストロールである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１６］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピペロホスである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１７］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピロキサスルホンである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１８］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、またはベルノレートである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［１９］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、またはＴＣＡおよびその塩である［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２０］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンフレセート、またはエトフメセートである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２１］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンスライドである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２２］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリンまたはトリフルラリンである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２３］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ブタミホスである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２４］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ジチオピル、またはチアゾピルである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２５］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、プロピザミド、またはテブタムである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２６］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロルタル−ジメチルである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２７］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、カルベタミド、クロルプロファムまたはプロファムである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２８］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フラムプロップおよびそのエステルである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［２９］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロルチアミド、またはジクロベニルである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３０］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、トリアジフラム、またはインダジフラムである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３１］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、イソキサベンである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３２］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フルポキサムである［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３３］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、グリホサートおよびその塩である［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３４］ Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩である［１］〜［５］いずれか一に記載の除草用組成物。
［３５］ Ｇが水素である［１］〜［３４］のいずれか１つに記載の除草用組成物を含有する除草用組成物。
［３６］ ［１］〜［３５］のいずれか１つに記載の除草用組成物を含有する除草剤。
［３７］ 式（Ｉ）で示されるシクロヘキサノン化合物と、下記Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物の有効量を、雑草または雑草の生育する土壌に施用する雑草の防除方法。
式（Ｉ）：

［式中、
ｍは１、２又は３を表し、
ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇは水素又は下記式

｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
で表されるいずれかの基を表し、
Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
Ａ群：
メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
［３８］ Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物の有効量をさらに雑草または雑草の生育する土壌に施用することを特徴とする［３７］に記載の雑草の防除方法。
Ｂ群
ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。
［３９］ 雑草を防除するための、式（Ｉ）で示される化合物、およびＡ群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する除草用組成物の使用。
式（Ｉ）：

［式中、
ｍは１、２又は３を表し、
ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇは水素又は下記式

｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
で表されるいずれかの基を表し、
Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
Ａ群：
メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
［４０］ 雑草を防除するための、Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有することを特徴とする［３９］に記載の除草用組成物の使用。
Ｂ群：
ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。

本発明により、優れた雑草防除効果を有する除草用組成物が提供可能である。

本発明の除草用組成物（以下、本発明除草用組成物と記す。）は、式（Ｉ）
式（Ｉ）

［式中、
ｍは１、２又は３の整数を表し、
ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
ＸはＣＨ_2、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ _1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇは水素又は下記式

｛式中、Ｌは酸素またはイオウを表し、
Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
で表されるいずれかの基を表し、
Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
で示されるシクロヘキサノン化合物（以下、本化合物と記す。）と、下記Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物（以下、本化合物Ａと記す。）とを含有する。
Ａ群：
メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
また、下記Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物（以下、本化合物Ｂと記す。）を含有してもよい。
Ｂ群
ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。

本発明組成物の有効成分である式（Ｉ）で示されるシクロヘキサノン化合物の置換基について説明する。
Ｃ_1-6アルキル基とは、炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ノルマルペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ノルマルヘキシル基及びイソへキシル基が挙げられる。
Ｃ_1-6ハロアルキル基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換されたＣ_1-6アルキル基を意味し、例えば、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジクロロエチル基が挙げられる。
Ｃ_3-8シクロアルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換された炭素数３〜８のシクロアルキル基を意味し、例えば、２−クロロシクロプロピル基及び４，４−ジフルオロシクロヘキシル基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基とは、炭素数１〜６のアルキル基で置換された炭素数３〜８のシクロアルキル基を意味し、例えば、エチルシクロプロピル基、イソブチルシクロプロピル基、３−メチルシクロペンチル基及び４−メチルシクロヘキシル基が挙げられる。
（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピルメチル基及びシクロペンチルメチル基が挙げられる。
（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基とは、炭素数３〜８のシクロアルキル基で置換された炭素数３〜８シクロアルキル基を意味し、例えば、２−シクロプロピルシクロプロピル基及び３−シクロプロピルシクロペンチル基が挙げられる。
（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換された炭素数３〜８のシクロアルキル基で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、２−クロロシクロプロピルメチル基及び３−クロロシクロペンチルエチル基が挙げられる。
｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基とは、（炭素数１〜６のアルキルで置換された炭素数３〜８のシクロアルキル基）で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、２−メチルシクロプロピルメチル基及び３−メチルシクロペンチルメチル基が挙げられる。
Ｃ_2-5アルキレン鎖とは、炭素数２〜５のアルキレン鎖を意味し、例えばエチレン鎖、プロピレン鎖（トリメチレン鎖）、ブチレン鎖（テトラメチレン鎖）、ペンチレン鎖(ペンタメチレン鎖)が挙げられる。
Ｒ²とＲ³が結合して炭素数２〜６のアルキレンであるとき、Ｒ²とＲ³は、Ｒ²とＲ³とが結合する炭素と共に、炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。例えば、Ｒ²とＲ³が結合してエチレンを示す時、Ｒ²とＲ³とが結合する炭素と共にシクロプロピルであることを意味する。
Ｒ^2bとＲ^3bが結合して炭素数２〜６のアルキレンであるとき、Ｒ^2bとＲ^3bとは、Ｒ^2bとＲ^3bとが結合する炭素と共に、炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。例えば、Ｒ^2bとＲ^3bが結合してエチレンを示す時、Ｒ^2bとＲ^3bとが結合する炭素と共にシクロプロピルであることを意味する。
Ｃ_1-3アルキリデン基とは、炭素数１〜３のアルキリデン基を意味し、例えばメチリデン、エチリデン、イソプロピリデンが挙げられる。

ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
Ｃ_2-6アルケニル基とは、炭素数２〜６のアルケニル基を意味し、例えばビニル基、アリル基、１−ブテン−３−イル基及び３−ブテン−１−イル基が挙げられる。
Ｃ_2-6アルキニル基とは、炭素数２〜６のアルキニル基を意味し、例えば、エチニル基、プロパルギル基及び２−ブチニル基が挙げられる。
Ｃ_1-6アルコキシ基とは、炭素数１〜６のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ノルマルペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基及びイソへキシルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_1-6アルキルチオ基とは、炭素数１〜６のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基及びイソプロピルチオ基が挙げられる。
Ｃ_3-6アルケニルオキシ基とは、炭素原子数３〜６のアルケニルオキシ基を意味し、例えば、アリルオキシ基及び２−ブテニルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_3-6アルキニルオキシ基とは、炭素原子数３〜６のアルキニルオキシ基を意味し、例えば、プロパルギルオキシ基及び２−ブチニルオキシ基が挙げられる。
（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基とは、炭素原子数６〜１０のアリール基で置換された炭素数１〜６のアルコキシ基を意味し、例えば、ベンジルオキシ基及びフェネチルオキシ基が挙げられる。
（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基とは、炭素原子数６〜１０のアリール基で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味し、例えば、ベンジル基及びフェネチル基が挙げられる。
Ｃ_3-8シクロアルコキシ基とは、炭素数３〜８のシクロアルコキシ基を意味し、例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
(Ｃ_1-6アルキル)(Ｃ_1-6アルキル)アミノ基とは、同一又は異なる２つの炭素数１〜６のアルキル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びエチルメチルアミノ基が挙げられる。
（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基とは、同一又は異なる２つの炭素数３〜６のアルケニル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジアリルアミノ基及びジ(３−ブテニル)アミノ基が挙げられる。
(Ｃ_1―6アルキル)(Ｃ_6―10アリール)アミノ基とは、炭素数１〜６のアルキル基及びＣ_6-10アリール基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、メチルフェニルアミノ基及びエチルフェニルアミノ基が挙げられる。
Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基とは、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基を意味し、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基及びイソプロピルスルフィニル基が挙げられる。
Ｃ_1-6アルキルスルホニル基とは、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基を意味し、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基及びイソプロピルスルホニル基が挙げられる。
Ｃ_6-10アリール基とは，炭素原子数６〜１０のアリール基を意味し、例えば、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。
５〜６員のヘテロアリール基とは、窒素、酸素、イオウから選ばれるヘテロ原子を１〜３個含む、芳香族の５もしくは６員の複素環基を意味し、例えば、２―ピリジル基、４−ピリジル基、３−フリル基、ピリミジニル基、３−チエニル基及び１−ピラゾリル基が挙げられる。
Ｃ_6-10アリールオキシ基とは、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基を意味し、例えば、フェノキシ基及びナフチルオキシ基が挙げられる。
５〜６員のヘテロアリールオキシ基とは、窒素、酸素、イオウから選ばれるヘテロ原子を１〜３個含む、芳香族の５もしくは６員の複素環オキシ基を意味し、例えば、２―ピリジロキシ基、３−ピリジルロキシ基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基とは、炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換されたカルボニル基を意味し、例えば、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基とは、炭素原子数１〜６のアルキル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、モノメチルアミノ基及びモノエチルアミノ基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基とは、炭素原子数１〜６のアルキル基で置換されたアミノカルボニル基を意味し、例えば、モノメチルアミノカルボニル基及びモノエチルアミノカルボニル基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基とは、同一又は異なる２つの炭素数１〜６のアルキル基で置換されたアミノカルボニル基を意味し、例えば、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基及びエチルメチルアミノカルボニル基が挙げられる。
（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基とは、炭素数１〜６のアルキル基で置換されたカルボニル基を意味し、例えば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基及びイソプロピルカルボニル基が挙げられる。
Ｃ_6-10アリールチオ基とは、炭素原子数６〜１０のアリールチオ基を意味し、例えば、フェニルチオ基及びナフチルチオ基が挙げられる。
Ｃ_1-3アルキル基とは、炭素数１〜３のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
Ｃ_1-3アルコキシ基とは、炭素数１〜３のアルコキシ基を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロピルオキシ基及びイソプロピルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_1-3ハロアルキル基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換されたＣ_1-3アルキル基を意味し、例えば、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジクロロエチル基が挙げられる。
Ｃ_1-3ハロアルコキシ基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換された炭素数１〜３のアルコキシ基を意味し、例えば、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、３，３−ジフルオロプロピルオキシ基及び２，２，２−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。
Ｃ_1-3ハロアルキルチオ基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンで置換されたＣ_1-3アルキルチオ基を意味し、例えば、トリフルオロメチルチオ基、クロロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基及び２，２，２−トリフルオロ−１，１−ジクロロエチルチオ基が挙げられる。

本発明除草用組成物の有効成分である本化合物は、式（Ｉ）で示されるシクロヘキサノン化合物が無機塩基又は有機塩基等と農学的に許容される塩の形態をとる場合もあるが、本発明には該塩の形態のシクロヘキサノン化合物も包含される。このような塩としては例えば無機塩基（例えば、アルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム等）の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩、水素化物等、アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム、バリウム等）の水酸化物、水素化物等、アンモニア）、有機塩基（例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、２−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、ピリジン、コリジン等）、金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウムメトキシド等）等との混合により生成する塩が挙げられる。

本化合物が１個以上の不斉中心を有する場合、該化合物には２個以上の立体異性体（例えば、エナンチオマー、ジアステレオマー等）が存在する。本化合物には、これらの立体異性体のすべて及びそれらのうちの任意の２個以上からなる混合物が包含される。
また本化合物が二重結合等に基づく幾何異性を有する場合、該化合物には２個以上の幾何異性体（例えば、Ｅ／Ｚ又はトランス／シスの各異性体、Ｓ−トランス／Ｓ−シスの各異性体等）が存在する。本化合物には、これらの幾何異性体のすべて及びそれらのうちの任意の２個以上からなる混合物が包含される。

本発明除草用組成物の有効成分である式（Ｉ）で示されるシクロヘキサノン化合物としては、例えば、以下に示される化合物が挙げられる。
ｍが２である化合物；
ｎが３である化合物；
ｍが２であり、ｎが３である化合物；
ＸがＳである化合物；
Ｒ₂が水素である化合物；
Ｒ₃が水素である化合物；
式（Ｉ）における

で示される部分が−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（シクロプロピル）−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、又は−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−である化合物；
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基又は３−フリル基である化合物；
Ｚがフェニル基、又は、ハロゲンを有していてもよいＣ_1-6アルキル基である化合物；

ｍが１、２又は３の整数であり、
ｎが１、２、又は３の整数であり、
ＸがＣＨ_2、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）₂又はＮ（ＣＨ₃）であり、
Ｒ¹が水素であり、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、またはＣ_1-6アルキル基であるか、又は、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ２−６アルケニレン鎖であり、
Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表わし（但し、該Ｃ_6-10アリール基および５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、及びＣ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_1-6アルキル基、及びＣ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンを有していてもよい。）、
Ｇは水素又は下記式

｛式中、Ｌが酸素であり、
Ｒ⁵がＣ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、またはＣ_6-10アリールオキシ基であり、
Ｒ⁶がＣ_1-6アルキル基であり、
Ｒ⁷が水素であり、
ＷがＣ_1-6アルコキシ基である。｝
で表されるいずれかの基であり、
Ｚがハロゲン、フェニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、又は６員のヘテロアリールオキシ基であり（但し、該フェニル基、及び６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。）。〕
で示されるシクロヘキサノン化合物。

メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロンおよびベンゾビシクロンは、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤（ＨＰＰＤ阻害剤）として知られており、プラストキノンの生合成に関わる４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼを阻害する化合物のことである。

前記４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤（ＨＰＰＤ阻害剤）は、夫々トリケトン系除草剤、イソキサゾール系除草剤、ピラゾール系除草剤、ビシクロ系除草剤に分類される。これらの化合物はペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物、または、ＣＡＳ番号で特定された化合物である。

テフリルトリオンは公知の化合物であり、例えば、特表２００２−５２７４１８等に記載の方法により製造することができる。
イソキサクロルトールは公知の化合物であり、例えば、ＥＰ４７０８５６号等に記載の方法により製造することができる。
ビシクロピロンは公知の化合物であり、例えば、ＷＯ２００１０９４３３９号等に記載の方法により製造することができる。
メソトリオン、スルコトリオン、イソキサフルトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、ベンゾビシクロン、ピラスルホトール、トプラメゾン、およびテンボトリオンは公知の化合物であり，例えば、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ならびにベンスライドは、超長鎖脂肪酸生合成阻害剤（ＶＬＣＦＡｓ阻害剤）として知られており、植物のクチクラワックス層や細胞膜のスフィンゴ脂質の主成分である超長鎖脂肪酸の生成に関わる脂肪酸延長酵素系を阻害する化合物のことである。

前記超長鎖脂肪酸生合成阻害剤（ＶＬＣＦＡｓ阻害剤）は、クロロアセトアミド系除草剤、アセトアミド系除草剤、オキシアセトアミド系除草剤、テトラゾリノン系除草剤、チオカーバメート系除草剤、ハロゲン化カルボン酸系除草剤、ベンゾフラン系除草剤、および、ホスホロジチオエート系除草剤等が挙げられる。これらの化合物はいずれも、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物、または、ＣＡＳ番号で特定された化合物である。

プロピソクロールは公知の化合物であり、市販の試薬を入手するか、公知の方法で製造することにより得られる。
イプフェンカルバゾンは公知の化合物であり、例えば、ＷＯ９８／３８１７６に記載の方法により製造することができる。
アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ならびにベンスライドは公知の化合物であり，例えば、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、ならびにフラムプロップおよびそのエステルは、微小管形成阻害剤として知られており、細胞分裂に関わる微小管の形成を阻害する化合物のことである。

前記微小管形成阻害剤の分類としては、ジニトロアニリン系除草剤、有機リン系除草剤、ピリジン系除草剤、ベンズアミド系除草剤、ベンゼンカルボン酸系除草剤カーバメート系除草剤、およびアリールアミノプロピオン酸系除草剤が挙げられる。これらの化合物はいずれも、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物、または、ＣＡＳ番号で特定された化合物である。

テブタムは公知の化合物であり、市販の試薬を入手するか、公知の方法で製造することにより得られる。
ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、ならびにフラムプロップおよびそのエステルは公知の化合物であり，例えば、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、およびフルポキサムは、セルロース合成阻害剤として知られており、細胞壁の構成成分であるセルロースの合成を阻害する化合物のことである。

前記セルロース合成阻害剤の分類としては、ニトリル系除草剤、アルキルアジン系除草剤、ベンズアミド系除草剤、およびトリアゾロカルボキサミド系除草剤が挙げられる。これらの化合物はいずれも、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物、または、ＣＡＳ番号で特定された化合物である。

インダジフラムは公知の化合物であり、市販の試薬を入手するか、公知の方法で製造することにより得られる。
クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、イソキサベン、およびフルポキサムは公知の化合物であり，例えば、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩は、非選択性除草剤として知られている。グリホサートおよびその塩は、５−エノールピルビルシキミ酸−３−リン酸合成酵素阻害剤（ＥＰＳＰ阻害剤）として知られており、チロシン、フェニルアラニン、トリプトファンなどの芳香族アミノ酸の生合成に関わる５−エノールピルビルシキミ酸−３−リン酸合成酵素を阻害する化合物である。グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩はグルタミン合成酵素阻害剤として知られており、アンモニア同化に重要なグルタミン酸合成酵素を阻害する化合物である。

これらの化合物はいずれも、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物である。

グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩は公知の化合物であり，例えば、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

グリホサートおよびその塩としては、グリホサートカリウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩等が挙げられる。

本化合物Ｂは、薬剤軽減剤として知られており、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された化合物、または、ＣＡＳ番号で特定された化合物である。

シプロスルファミドは、公知の化合物であり、例えば、米国特許６２５１８２７号に記載の方法により製造することができる。
ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７は公知の化合物であり，市販されている。また、ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ）Ｆｉｆｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ（２００９）、Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ（ＩＳＢＮ：９７８−１−９０１３９６−１８−８）に記載された文献等により製造することができる。

本発明除草用組成物としては、例えば、以下のような組成物が挙げられる。
［態様１］
式（Ｉ）において、ｎが１〜３である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、ｍが１または２であり、ｎが３である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、ＸがＣＨ₂、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）₂、Ｎ（Ｈ）又はＮ（ＣＨ₃）である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、Ｒ²が水素またはＣ_1-3アルキル基である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、Ｒ³が水素またはＣ_1-3アルキル基である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）における

で示される部分が−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（シクロプロピル）−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、又は−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−である化合物と、ＡＬＳ阻害剤とを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基又は３−フリル基である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、Ｚがハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、ニトロ基、フェニル基又は５〜６員のヘテロアリールオキシ基である化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；
式（Ｉ）において、
ｎが１〜３であり、
ＸがＣＨ₂、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）₂、Ｎ（Ｈ）又はＮ（ＣＨ₃）であり、
Ｒ²が水素またはＣ_1-3アルキル基であり、
Ｒ³が水素またはＣ_1-3アルキル基であり、

で示される部分が−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓ（Ｏ）₂−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｓ−ＣＨ₂Ｃ（シクロプロピル）−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、又は−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−であり、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基又は３−フリル基であり、
Ｚがハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、ニトロ基、フェニル基又は５〜６員のヘテロアリールオキシ基であるシクロヘキサノン化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物；

［態様２］
式（Ｉ）において、
ｎが１〜３いずれかの整数であり、
Ｒ¹が水素であり、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-3アルキル基又はＲ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖であり（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基はハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルキルチオ基、Ｃ_1-3ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ペンタフルオロチオ基、ベンゾイルアミノ基及びＣ_1-3ハロアルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、該Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基は、１以上のハロゲンまたは１以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたは２以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｇが水素又は下記式

｛式中、Ｒ^5aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基又はＣ_6-10アリールオキシ基を表し、
Ｒ^6aはＣ_1-6アルキル基を表し、
Ｗ^aはＣ_1-3アルコキシ基を表す。｝
で表されるいずれかの基であり、
Ｒ⁹が、水素、Ｃ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリールスルホニル基であり（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリールスルホニル基は、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｚがハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、ニトロ基、フェニル基又は５〜６員のヘテロアリールオキシ基（但し、該Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、フェニル基及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基は、１以上のハロゲンを有していてもよく。２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）であるシクロヘキサノン化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物。

［態様３］
式（Ｉ）において、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、メチル基、エチル基又はＲ²とＲ³とが結合してエチレン鎖であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、ペンタフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、トリフルオロメチルチオ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロメトキシ基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有している。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、メチル基及びフェニル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。また、該フェニル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
Ｒ⁹が水素、２−ニトロフェニルスルホニル基又はメチル基であり、
Ｚがメチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基、シクロプロピル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、メトキシ基、トリフルオロメチル基、５−トリフルオロメチル−２−クロロピリジルオキシ基又はエチニル基であるシクロヘキサノン化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物。

［態様４］
式（Ｉ）において、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、又はメチル基であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、又は２−ピリジル基であり（但し、該フェニル基、及び２−ピリジル基は、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
ＸがＯ、Ｓ、又はＳ（Ｏ）であり、
Ｚがメチル基、エチル基、又はフェニル基であるシクロヘキサノン化合物と、本化合物Ａとを含有する除草用組成物。

［態様５］
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがメソトリオンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがイソキサフルトールである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがピラスルホトールおよびその塩である除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがビシクロピロンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物ＡがＳ−メトラクロールおよびその塩である除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがフルフェナセットである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがピロキサスルホンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがプロスルホカルブである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがチオベンカルブである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがトリアレートである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがペンディメタリンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがトリフルラリンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがイソキサベンである除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがグリホサートおよびその塩である除草用組成物；
［態様１］〜［態様４］において、本化合物Ａがグルホシネートアンモニウムである除草用組成物；

［態様６］
［態様５］において、さらにクロキントセットメキシルを含有する除草用組成物；
［態様５］において、さらにメフェンピルジエチルを含有する除草用組成物；
［態様５］において、さらにフェンクロラゾールエチルを含有する除草用組成物；

［態様７］
式（Ｉ）において、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、メチル基、エチル基又はＲ²とＲ³とが結合してエチレン鎖であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、ペンタフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、トリフルオロメチルチオ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロメトキシ基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有している。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、メチル基及びフェニル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。また、該フェニル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
Ｒ⁹が水素、２−ニトロフェニルスルホニル基又はメチル基であり、
Ｚがメチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基、シクロプロピル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、メトキシ基、トリフルオロメチル基、５−トリフルオロメチル−２−クロロピリジルオキシ基又はエチニル基であるシクロヘキサノン化合物と、
メソトリオン、イソキサフルトール、ピラスルホトール、Ｓ−メトラクロール、フルフェナセット、ピロキサスルホン、ペンディメタリン、トリフルラリン、グリホサートおよびその塩ならびにグルホシネートアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有する除草用組成物；
［態様８］
式（Ｉ）において、
Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、メチル基、エチル基又はＲ²とＲ³とが結合してエチレン鎖であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、ペンタフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、トリフルオロメチルチオ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロメトキシ基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有している。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、メチル基及びフェニル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。また、該フェニル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
Ｒ⁹が水素、２−ニトロフェニルスルホニル基又はメチル基であり、
Ｚがメチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基、シクロプロピル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、メトキシ基、トリフルオロメチル基、５−トリフルオロメチル−２−クロロピリジルオキシ基又はエチニル基であるシクロヘキサノン化合物と、
メソトリオン、イソキサフルトール、ピラスルホトール、Ｓ−メトラクロール、フルフェナセット、ピロキサスルホン、ペンディメタリン、トリフルラリン、グリホサートおよびその塩ならびにグルホシネートアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物と、
フェンクロラゾールエチル、メフェンピルジエチルおよびクロキントセットメキシルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有する除草用組成物；

本発明除草用組成物は、広範囲の雑草に対し除草活性を有し、通常の耕起栽培・不耕起栽培が行われる農作物畑、野菜畑、樹園地または非農耕地において、効果的に広範囲の雑草を防除することができる。

本発明除草用組成物の防除対象としては、例えば次のものが挙げられる。
メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｃｉｌｉａｒｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ ｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉ）、キンエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｇｌａｕｃａ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、コヌカグサ（Ａｇｒｏｓｔｉｓ ａｌｂａ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ ｔｅｘａｎｕｍ）、メリケンニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ ｐｌａｔｙｐｈｙｌｌａ）、アレキサンダーグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ ｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ）、スリナムグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ ｄｅｃｕｍｂｅｎｓ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シャッターケーン（Ａｎｄｒｏｐｏｇｏｎ ｓｏｒｇｈｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ ｄａｃｔｙｌｏｎ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、アレチノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ ｓｔｅｒｉｌｉｓ）、ヒメカナリークサヨシ（Ｐｈａｌａｒｉｓ ｍｉｎｏｒ）、セイヨウヌカボ（Ａｐｅｒａ ｓｐｉｃａ−ｖｅｎｔｉ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ ａｎｎｕａ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ ｒｅｐｅｎｓ）、コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ ｏｌｅｒａｃｅａ）、アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｈｙｂｒｉｄｕｓ）、オオホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｐａｌｍｅｒｉ）、ウォーターヘンプ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｕｄｉｓ）、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ ｓｐｉｎｏｓａ）、ソバカズラ（Ｆａｌｌｏｐｉａ ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｓｃａｂｒｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉｃａ）、ハルタデ（Ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ ｖｕｌｇａｒｉｓ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｆａｌｌｏｐｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ）、イヌタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｌｏｎｇｉｓｅｔｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｎｉｇｒｕｍ）、シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｐｕｒｐｕｒｅａ）、アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ ｖａｒ． ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｐｅｒｆｏｒａｔａ ｏｒ ｉｎｏｄｏｒａ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、コーンマリーゴールド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ ｓｅｇｅｔｕｍ）、オロシャギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎ ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、アレチノギク（Ｃｏｎｙｚａ ｂｏｎａｒｉｅｎｓｉｓ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガーウィード（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｒｅｐｅｎｓ）、クズ（Ｐｕｅｒａｒｉａ ｌｏｂａｔａ）、カラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａ ａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ）、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）、マルバツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｂｅｎｇｈａｌｅｎｓｉｓ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ）、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ ｍｅｄｉａ）、ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｐｅｒｓｉｃａ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｈｅｄｅｒｉｆｏｌｉａ）、フィールドパンジー（Ｖｉｏｌａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジー（Ｖｉｏｌａ ｔｒｉｃｏｌｏｒ）、ヒナゲシ（Ｐａｐａｖｅｒ ｒｈｏｅａｓ）、ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ ｓｃｏｒｐｉｏｉｄｅｓ）、オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ ｓｙｒｉａｃａ）、トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｃｈａｍａｅｓｙｃｅ ｎｕｔａｎｓ）、アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍ ｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）、オランダフウロ（Ｅｒｏｄｉｕｍ ｃｉｃｕｔａｒｉｕｍ）、スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ ａｒｖｅｎｓｅ）、アシカキ（Ｌｅｅｒｓｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、ヒメタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ ｖａｒ． ｆｏｒｍｏｓｅｎｓｉｓ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ヒデリコ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ ｍｉｌｉａｃｅａ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、イヌホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タイワンヤマイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ ｗａｌｌｉｃｈｉｉ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、コウキヤガラ（Ｂｏｌｂｏｓｃｈｏｅｎｕｓ ｋｏｓｈｅｖｎｉｋｏｖｉｉ）、シズイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓ ｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ ｖａｇｉｎａｌｉｓ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍ ｊｕｎｃｅｕｍ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ ｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ ｔｒｉａｎｄｒａ）、チョウジタデ（Ｌｕｄｗｉｇｉａ ｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｐｙｇｍａｅａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ ｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）、セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅ ｊａｖａｎｉｃａ）、ミズハコベ（Ｃａｌｌｉｔｒｉｃｈｅ ｐａｌｕｓｔｒｉｓ）、アゼトウガラシ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｍｉｃｒａｎｔｈａ）、アメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ ｄｕｂｉａ）、タカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａ ｐｒｏｓｔｒａｔａ）、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａ ｋｅｉｓａｋ）、キシュウスズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍ ｄｉｓｔｉｃｈｕｍ）、エゾノサヤヌカグサ（Ｌｅｅｒｓｉａ ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）等の雑草。ナガエツルノゲイトウ（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａ ｐｈｉｌｏｘｅｒｏｉｄｅｓ）、フロッグスビット（Ｌｉｍｎｏｂｉｕｍ ｓｐｏｎｇｉａ）、ウォーターファーン（Ｓａｌｖｉｎｉａ属）、ボタンウキクサ（Ｐｉｓｔｉａ ｓｔｒａｔｉｏｔｅｓ）、ウォーターペニーウォート（Ｈｙｄｒｏｃｏｔｙｌｅ属）、糸状藻類（Ｐｉｔｈｏｐｈｏｒａ属、Ｃｌａｄｏｐｈｏｒａ属）、クーンテイル（Ｃｅｒａｔｏｐｈｙｌｌｕｍ ｄｅｍｅｒｓｕｍ）、ウキクサ（Ｌｅｍｎａ属）、ハゴロモモ（Ｃａｂｏｍｂａ ｃａｒｏｌｉｎｉａｎａ）、クロモ（Ｈｙｄｒｉｌｌａ ｖｅｒｔｉｃｉｌｌａｔａ）、サザンネイアド（Ｎａｊａｓ ｇｕａｄａｌｕｐｅｎｓｉｓ）、ポンドウィード類（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｃｒｉｓｐｕｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｉｌｌｉｎｏｅｎｓｉｓ、Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ ｐｅｃｔｉｎａｔｕｓ等）、ウォーターミール（Ｗｏｌｆｆｉａ属）、ウォーターミルフォイル類（Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍ ｓｐｉｃａｔｕｍ、Ｍｙｒｉｏｐｈｙｌｌｕｍ ｈｅｔｅｒｏｐｈｙｌｌｕｍ等）、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａ ｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生植物。蘚類、苔類、ツノゴケ類。シアノバクテリア。シダ類。永年性作物（仁果類、石果類、液果類、堅果類、カンキツ類、ホップ、ブドウ等）の吸枝（ｓｕｃｋｅｒ）。

本発明の除草剤（以下、本発明除草剤と記す）は、本発明除草用組成物を含有する。本発明除草剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地または非農耕地における除草剤として使用される。本発明除草剤は、以下に挙げられる「植物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の雑草を防除することができる。
「植物」；
農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、ソルガム、ワタ、ダイズ、ラッカセイ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ、ホップ等。
野菜：ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン、マクワウリ等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、マメ科作物（エンドウ、インゲンマメ、アズキ、ソラマメ、ヒヨコマメ等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ、コンニャク、ショウガ、オクラ等。
果樹：仁果類（リンゴ、ナシ、セイヨウナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木：チャ、クワ、花木類（サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等）、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。
その他：花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等）、バイオ燃料植物（ヤトロファ、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ等）、観葉植物等。

上記「植物」には、遺伝子組み換え作物も含まれる。

本発明除草剤は、本発明除草用組成物、すなわち、本化合物と本化合物Ａとを含有し、本化合物Ｂを含有していてもよい。本発明除草剤は、通常さらに不活性担体及び界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化される。本発明除草剤において、本化合物と本化合物Ａとの合計の重量は、通常０．１〜８０％である。さらに、本発明除草用組成物に本化合物Ｂを含有する場合、本化合物と本化合物Ａと本化合物Ｂとの合計の重量は通常０．１〜９０％である。

不活性担体としては、固体担体及び液体担体が挙げられる。
固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末もしくは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。

本発明除草剤を水等で希釈した溶液を散布する際には、その散布液に補助剤（ａｄｊｕｖａｎｔ）を添加しても良い。添加できる補助剤としては、例えば、界面活性剤（脂肪酸アルキルエステル、アルキルポリオキシエチレンエーテル等の非イオン系界
面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等のイオン系界面活性剤）、ｃｒｏｐ ｏｉｌ、ｖｅｇｉｔａｔｉｖｅ ｏｉｌ、ｃｒｏｐ ｏｉｌ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ、ｍｅｔｈｙｌａｔｅｄ ｓｅｅｄ ｏｉｌ、有機シリコン系展着剤、液肥（硫酸アンモニウム、ｕｒｅａ ａｍｍｏｎｉｕｍ ｎｉｔｒａｔｅ等）等が挙げられる。これらの補助剤は、単独で用いられてもよく、あるいは、２種以上を組み合わせて用いても良い。

本発明除草用組成物を用いた雑草の防除方法は、本化合物と本化合物Ａと本化合物Ｂとの有効量を雑草または雑草が生育する土壌に施用する方法である。本発明除草剤の施用方法としては、例えば本発明除草剤を雑草に茎葉処理する方法、本発明除草剤を雑草が生育する土壌表面に処理する方法、および、本発明除草剤を雑草が生育する土壌に混和処理する方法が挙げられる。本発明の雑草の防除方法において、雑草を防除する面積１００００ｍ²あたりの本化合物と本化合物Ａと本化合物Ｂとの合計量は、通常１〜５０００ｇ、好ましくは１〜３０００ｇである。

本発明除草用組成物において本化合物Ａがメソトリオンの場合、本化合物とメソトリオンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５００、好ましくは１：０．０５〜１：２００、より好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがスルコトリオンの場合、本化合物とスルコトリオンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．４〜１：４５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがテンボトリオンの場合、本化合物とテンボトリオンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．１４〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがテフリルトリオンの場合、本化合物とテフリルトリオンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．６〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがイソキサフルトールの場合、本化合物とイソキサフルトールとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：１００、好ましくは１：０．０２〜１：５０、より好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがイソキサクロルトールの場合、本化合物とイソキサクロルトールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．１〜１：５０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベンゾフェナップの場合、本化合物とベンゾフェナップとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：１〜１：１００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがピラスルホトールの場合、本化合物とピラスルホトールとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：５０、好ましくは１：０．００２〜１：２０、より好ましくは１：０．０５〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがピラゾリネートの場合、本化合物とピラゾリネートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：６〜１：４００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがピラゾキシフェンの場合、本化合物とピラゾキシフェンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：６〜１：３００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがトプラメゾンの場合、本化合物とトプラメゾンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．２〜１：１５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがビシクロピロンの場合、本化合物とビシクロピロンとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：１００、好ましくは１：０．０２〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベンゾビシクロンの場合、本化合物とベンゾビシクロンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．４〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがアセトクロールの場合、本化合物とアセトクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：５００、好ましくは１：６〜１：３００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがアラクロールの場合、本化合物とアラクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：３．３６〜１：４４８の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがブタクロールの場合、本化合物とブタクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：２〜１：４５０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジメタクロールの場合、本化合物とジメタクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：２．５〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジメテナミドの場合、本化合物とジメテナミドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：１．７〜１：１４４の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジメテナミド−Ｐの場合、本化合物とジメテナミド−Ｐとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：１．３〜１：１００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがメタザクロールの場合、本化合物とメタザクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２〜１：１５０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物ＡがＳ−メトラクロールの場合、本化合物とＳ−メトラクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５００、好ましくは１：０．２〜１：２００、より好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがペトキサミドの場合、本化合物とペトキサミドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２．４〜１：１２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプレチラクロールの場合、本化合物とプレチラクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２〜１：１２５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプロパクロールの場合、本化合物とプロパクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：８００、好ましくは１：６．７２〜１：６７２の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプロピソクロールの場合、本化合物とプロピソクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：２．８８〜１：２１６の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがテニルクロールの場合、本化合物とテニルクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．５４〜１：２７の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジフェナミドの場合、本化合物とジフェナミドとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：８００、好ましくは１：８〜１：６００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがナプロパミドの場合、本化合物とナプロパミドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：８００、好ましくは１：４〜１：６００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフルフェナセットの場合、本化合物とフルフェナセットとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０００、好ましくは１：０．１〜１：５００、より好ましくは１：０．５〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがメフェナセットの場合、本化合物とメフェナセットとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２〜１：１６０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフェントラザミドの場合、本化合物とフェントラザミドとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１００、好ましくは１：０．４〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがイプフェンカルバゾンの場合、本化合物とイプフェンカルバゾンとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがアニロホスの場合、本化合物とアニロホスとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１００、好ましくは１：０．８〜１：４０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがカフェンストロールの場合、本化合物とカフェンストロールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．３〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがピペロホスの場合、本化合物とピペロホスとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：３００、好ましくは１：０．６６〜１：６６の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがピロキサスルホンの場合、本化合物とピロキサスルホンとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：２００、好ましくは１：０．０２〜１：１００、より好ましくは１：０．２〜１：４０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがブチレートの場合、本化合物とブチレートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがシクロエートの場合、本化合物とシクロエートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２５０、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジメピペレートの場合、本化合物とジメピペレートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物ＡがＥＰＴＣの場合、本化合物とＥＰＴＣとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがエスプロカルブの場合、本化合物とエスプロカルブとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがモリネートの場合、本化合物とモリネートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがオルベンカルブの場合、本化合物とオルベンカルブとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがペブレートの場合、本化合物とペブレートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプロスルホカルブの場合、本化合物とプロスルホカルブとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがチオベンカルブの場合、本化合物とチオベンカルブとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがチオカルバジルの場合、本化合物とチオカルバジルとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがトリアレートの場合、本化合物とトリアレートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベルノレートの場合、本化合物とベルノレートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがダラポンおよびその塩の場合、本化合物とダラポンおよびその塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフルプロパネートおよびその塩の場合、本化合物とフルプロパネートおよびその塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物ＡがＴＣＡおよびその塩の場合、本化合物とＴＣＡおよびその塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベンフレセートの場合、本化合物とベンフレセートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがエトフメセートの場合、本化合物とエトフメセートとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベンスライドの場合、本化合物とベンスライドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２００、好ましくは１：０．２〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがベンフルラリンの場合、本化合物とベンフルラリンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２〜１：１５０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがブトラリンの場合、本化合物とブトラリンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：２．２４〜１：３４０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジニトラミンの場合、本化合物とジニトラミンとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：３００、好ましくは１：０．８〜１：８０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがエタルフルラリンの場合、本化合物とエタルフルラリンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：３００、好ましくは１：２〜１：１２５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがオリザリンの場合、本化合物とオリザリンとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：５００、好ましくは１：０．４８〜１：２１６の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがペンディメタリンの場合、本化合物とペンディメタリンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５００、好ましくは１：０．２〜１：３００、より好ましくは１：１〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがトリフルラリンの場合、本化合物とトリフルラリンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５００、好ましくは１：０．０５〜１：２００、より好ましくは１：０．１２５〜１：５０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがブタミホスの場合、本化合物とブタミホスとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：１．８〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジチオピルの場合、本化合物とジチオピルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：５００、好ましくは１：０．５６〜１：１１２の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがチアゾピルの場合、本化合物とチアゾピルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：３００、好ましくは１：０．２〜１：５６の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプロピザミドの場合、本化合物とプロピザミドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：１．１２〜１：２２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがテブタムの場合、本化合物とテブタムとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：１〜１：３００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがクロルタル−ジメチルの場合、本化合物とクロルタル−ジメチルとの混合割合は、重量比で、１：１〜１：１０００、好ましくは１：１０〜１：９００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがカルベタミドの場合、本化合物とカルベタミドとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：５００、好ましくは１：４〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがクロルプロファムの場合、本化合物とクロルプロファムとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１００、好ましくは１：０．４８〜１：２４の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがプロファムの場合、本化合物とプロファムとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：７００、好ましくは１：４．６〜１：５００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフラムプロップおよびそのエステルの場合、本化合物とフラムプロップおよびそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：２００、好ましくは１：０．５〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフラムプロップおよびそのエステルの場合、本化合物とフラムプロップおよびそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：２００、好ましくは１：０．５〜１：３０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがクロルチアミドの場合、本化合物とクロルチアミドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがジクロベニルの場合、本化合物とジクロベニルとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがトリアジフラムの場合、本化合物とトリアジフラムとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがインダジフラムの場合、本化合物とインダジフラムとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがイソキサベンの場合、本化合物とイソキサベンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがフルポキサムの場合、本化合物とフルポキサムとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．５〜１：２０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがグリホサートまたはその塩の場合、本化合物とグリホサートまたはその塩との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：７００、好ましくは１：０．２〜１：５００、より好ましくは１：０．５〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがビラナホスまたはその塩の場合、本化合物とビラナホスまたはその塩との混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：５００、好ましくは１：１．０８〜１：１８０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ａがグルホシネートアンモニウムの場合、本化合物とグルホシネートアンモニウムとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５００、好ましくは１：０．１〜１：３００、より好ましくは１：１〜１：２００の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがベノキサコールの場合、本化合物とベノキサコールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがクロキントセットメキシルの場合、本化合物とクロキントセットメキシルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：２０、好ましくは１：０．０２〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがシオメトリニルの場合、本化合物とシオメトリニルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがジクロルミッドの場合、本化合物とジクロルミッドとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがフェンクロラゾールエチルの場合、本化合物とフェンクロラゾールエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０１〜１：１の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがフェンクロリムの場合、本化合物とフェンクロリムとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがフルラゾールの場合、本化合物とフルラゾールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがフリラゾールの場合、本化合物とフリラゾールとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがメフェンピルジエチルの場合、本化合物とメフェンピルジエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：２０、好ましくは１：０．０２〜１：１０の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがオキサベトリニルの場合、本化合物とオキサベトリニルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがイソキサジフェンの場合、本化合物とイソキサジフェンとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがシプロスルファミドの場合、本化合物とシプロスルファミドとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂがフルクソフェニムの場合、本化合物とフルクソフェニムとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物Ｂが１，８−ナフタル酸無水物の場合、本化合物と１，８−ナフタル酸無水物との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。
本発明除草用組成物において本化合物ＢがＡＤ−６７の場合、本化合物とＡＤ−６７との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１０、好ましくは１：０．０３〜１：５の範囲である。

本発明除草剤は、夫々の有効成分を製剤化した後、これらを混合することにより調製することもできる。

本発明除草剤は、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混合または併用することもできる。

本発明除草用組成物に用いられる本化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。
製造法１
本化合物のうちＧが水素である、式（１ａ）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下反応させることによって製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
本反応は通常溶媒中で行われる。使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
本反応において用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。該塩基の使用量は、式（２）で示される化合物に対して、通常１〜１０モル当量、好ましくは２〜５モル当量である。本反応に用いられる式（３）で示される化合物の使用量は、式（２）で示される化合物に対して、通常１〜３モル当量である。
本反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。本反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
本反応の終了は、反応混合物の一部をサンプリングして、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。本反応の終了後、例えば反応混合物に酸を添加して酸性とし、水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ａ）で示される化合物を得ることができる。

製造法２
本化合物のうちＧが水素以外の基である、式（１ｂ）で示される化合物は、式（１a）で示される化合物と式Ｇ¹−Ｘ¹で示される化合物から製造することができる。

〔式中、Ｇ¹は式

（式中、Ｌ、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷およびＷは前記と同じ意味を表す。）
で表されるいずれかの基を表し、
Ｘ¹はハロゲン（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等）又はハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メチルスルホニルオキシ基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等）を表すか、式ＯＧ¹で表される基を表し（ただし、Ｇ¹が式

で表される基である場合、Ｘ¹はハロゲン又はハロゲンで置換されていてもよいＣ_1-3アルキルスルホニルオキシ基である。）、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
本反応は溶媒中で行うことができる。使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
本反応に用いられる式（４）で示される化合物としては、例えば、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化イソブチリル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイル、シクロヘキサンカルボン酸クロリド等のカルボン酸のハロゲン化物；無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等のカルボン酸の無水物；クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸フェニル等の炭酸半エステルのハロゲン化物；塩化ジメチルカルバモイル等のカルバミン酸のハロゲン化物；塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のスルホン酸のハロゲン化物；メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等のスルホン酸の無水物；クロロメチル メチル エーテル、エチル クロロメチル エーテル等のアルキル ハロゲノアルキル エーテル等が挙げられる。本反応に用いられる式（４）で示される化合物の使用量は、式（１ａ）で示される化合物に対して、通常１モル当量以上、好ましくは１〜３モル当量である。
本反応は通常、塩基の存在下に行われる。本反応において用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。該塩基の使用量は、式（１a）で示される化合物に対して、通常０．５〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量である。
本反応の反応温度は通常、−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。本反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
本反応の終了は、反応混合物の一部をサンプリングして、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の分析手段により確認することができる。本反応の終了後、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｂ）で示される化合物を得ることができる。
式（４）で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができる。

製造法３
本化合物のうちＸがＳ（Ｏ）で示される化合物は、ＸがＳで示される化合物を酸化することにより製造することができる。式（１ｃ）で示される化合物のＸ以外の部分にアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、ハロアルキルチオ基及び／又はハロアルキルスルフィニル基を含む場合これらの基も酸化される場合がある。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｇ、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応には酸化剤が用いられる。かかる酸化剤としては、例えば、過酸化水素；過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の過酸類；メタ過ヨウ素酸ナトリウム、オゾン、二酸化セレン、クロム酸、四酸化二窒素、硝酸アセチル、ヨウ素、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、及びヨードシルベンゼンが挙げられる。酸化剤は式（１ｃ）で示される化合物１モルに対して通常０．８〜１．２モル用いられる。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；水、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常−５０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜１０時間である。該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｄ）で示される化合物を得ることができる。

製造法４
本化合物のうちＸがＳＯ₂で示される化合物は、ＸがＳで示される化合物もしくはＳＯで示される化合物を酸化することにより製造することができる。式（１ｅ）で示される化合物のＸ以外の基がアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、ハロアルキルチオ基及び／又はハロアルキルスルフィニル基を含む場合これらの基も酸化される場合がある。

〔式中、ｒは０または１の整数を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｇ、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応には酸化剤が用いられる。かかる酸化剤としては、例えば、過酸化水素；過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の過酸類；メタ過ヨウ素酸ナトリウム、オゾン、二酸化セレン、クロム酸、四酸化二窒素、硝酸アセチル、ヨウ素、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、ヨードシルベンゼン、過酸化水素とタングステン触媒との組み合わせ、過酸化水素とバナジウム触媒との組み合わせ、及び過マンガン酸カリウムが挙げられる。、ｒが０である式（１ｅ）で示される化合物が用いられる場合、該酸化剤の使用量は該化合物１モル対して通常２〜１０モル、好ましくは２〜４モルである。また、ｒが１である式（１ｅ）で示される化合物が用いられる場合、該酸化剤の使用量は、該化合物１モルに対して通常１〜１０モル、好ましくは１〜３モルである。
該反応は、溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化飽和炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類；酢酸、プロピオン酸等の有機酸類；水、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃、好ましくは２０〜１５０℃、である。該反応の反応時間は通常３０分〜１０時間である。該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｆ）で示される化合物を得ることができる。

製造法５
本化合物のうちＧが水素である、式（１ａ）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３１）で示される化合物とを塩基の存在下反応させることによって製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｘ、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。使用できる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。該塩基の使用量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。本反応で用いられる式（３１）で示される化合物の使用量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、通常１〜３モルである。
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ａ）で示される化合物を得ることができる。

製造法６
本化合物のうち式（１ｇ）で示される化合物は、式（２２）で示される化合物と式（２１）で示される化合物とをホスフィン存在下に反応させることにより製造することができる。

[式中、Ｇ³は式

（式中、Ｌ、Ｒ⁵は前記と同じ意味を表す。）
で表される基を表し、Ｇ⁴は水素もしくは式

（式中、Ｌ、Ｒ⁵は前記と同じ意味を表す。）
で表される基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、及びこれらの混合物が挙げられる。
ホスフィンとしては、例えばトリノルマルブチルホスフィン、トリフェニルホスフィンが挙げられる。該ホスフィンの使用量は、式（２２）で示される化合物に対して、通常１モル当量以上、好ましくは１〜３モル当量である。本反応で用いられる式（２１）で示される化合物の使用量は、式（２２）で示される化合物に対して、通常１モル当量以上、好ましくは１〜３モル当量である。
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｇ）で示される化合物を得ることができる。

製造法７
本化合物のうち式（１ｇ）で示される化合物は、式（３４）で示される化合物と式(１０)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、
Ｒ¹⁰はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基(但し、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、ｎ、ｍ、Ｚ、Ｇ³、Ｇ⁴は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、及びこれらの混合物が挙げられる。本反応で用いられる式（１０）で示される化合物の使用量は、式（３４）で示される化合物に対して、通常１モル当量以上、好ましくは１〜５モル当量である。
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｇ）で示される化合物を得ることができる。

製造法８
本化合物のうち式（１ｈ）で示される化合物は、式（１ｇ）で示される化合物を塩基の存在下加水分解することにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、ｎ、ｍ、Ｚ、Ｇ⁴は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノール、エタノール等のアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。該塩基の使用量は、式（１ｇ）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１ｈ）で示される化合物を得ることができる。

製造法９
本化合物のうち式（１i）で示される化合物は、式（３５）で示される化合物と式(１１)で示される化合物とを、硫酸銅およびアスコルビン酸ナトリウムの存在下、反応させることにより製造することができる。

〔式中、
Ｒ¹¹はＣ_6-10アリール基(但し、該Ｃ_6-10アリール基は、１以上のハロゲンまたは１以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたは２以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)を表し、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。本反応で用いられる式（１１）で示される化合物の使用量は、式（３５）で示される化合物に対して、通常１〜１０モル当量であり、好ましくは１〜３モル当量である。本反応で用いられる硫酸銅の使用量は、式（３５）で示される化合物に対して、通常０．０２〜０．２モル当量である。本反応で用いられるアスコルビン酸ナトリウムの使用量は、式（３５）で示される化合物に対して、通常０．０５〜０．５モル当量である。
該反応の反応温度は通常、２０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（１i）で示される化合物を得ることができる。

上記の製造法１〜９により製造される各化合物は、その他の公知の手段、例えば濃縮、減圧濃縮、抽出、転溶、結晶化、再結晶化、クロマトグラフィー等の方法によっても、単離・精製することができる場合がある。

参考製造法１
式（３）で示される化合物は、例えば、Ｍａｒｉｅ−Ｌｕｉｓｅ Ｈｕｂｅｒ ａｎｄ Ｊｏｈｎ Ｔ． Ｐｉｎｈｅｙ， Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓｉｏｎ １（１９９０） ７２１に記載の方法に従って、式（５）で示される化合物と四酢酸鉛とを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｚ及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
式（５）で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができる。例えば、特開２００８−１３３２５２に記載されている方法、又はそれらに準じる方法に従い製造することができる。

参考製造法２
式（２）で示される化合物は、例えば以下の反応スキームにより製造することができる。

〔式中、Ｒ⁸はＣ_1-3アルキル基を示し、Ｘ、ｍ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
式（２）で示される化合物は、例えば特開昭６３−１４６８５６に記載の方法に準じて製造することができる。
工程１において、式（９）で示される化合物と１−トリフェニルホスホラニリデン−２−プロパノンとのウィティッヒ反応により式（７）で示される化合物を製造することができる。
工程２において、式（７）で示される化合物を塩基性条件下、式（８）で示される化合物と反応させることにより式（６）で示される化合物を製造することができる。式（８）で示される化合物の中ではジメチルマロネート又はジエチルマロネートが好ましい。、本反応は適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール又はトルエンの中で実施される。
工程３において、式（６）で示される化合物を加水分解し、次に脱カルボン酸化することにより式（２）で示される化合物を製造することができる。
式（９）で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができ、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ｌｅｔｔｅｒ ２８（１９８７）２８９３−２８９４、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ｌｅｔｔｅｒ ４７（２００６）５８６９−５８７３、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ４２（１９８６）６０７１−６０９５、特開昭６３−１４６８５６に記載されている方法、又はそれらに準じる方法に従い製造することができる。

参考製造法３
式（３１）で示される化合物は例えば、以下の方法で製造することができる。

〔式中、Ｑはハロゲンを示し、Ｚ及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
式（３１）で示される化合物は例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６５，３５０４−３５０６（１９９２）に記載の方法に従って、式（３２）で示される化合物から製造することができる。
式（３２）で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができ、例えば、ＷＯ２０１０１０２７６１、ＷＯ２００６０８４６６３に記載されている方法、又はそれらに準じる方法に従い製造することができる。

参考製造例４
式（２２）で示される化合物は例えば、以下の方法で製造することができる。

〔式中、Ｇ²はベンジル基もしくはパラメトキシベンジル基を示し、Ｇ³、ｍ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁸、Ｚ、Ｘ¹及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
式（２５）で示される化合物は、例えば特開昭６３−１４６８５６に記載の方法に準じて製造することができる。
工程１
式（２７）で示される化合物は、式（２９）で示される化合物と１−トリフェニルホスホラニリデン−２−プロパノンとのウィティッヒ反応により製造することができる。
工程２
式（２６）で示される化合物は、式（２７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを塩基性条件下で反応させることにより製造することができる。
式（８）で示される化合物としては、例えばジメチルマロネート又はジエチルマロネートが挙げられる。反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール及びトルエンが挙げられる。
工程３
式（２５）で示される化合物は、式（２６）で示される化合物を加水分解した後脱炭酸により製造することができる。

工程４
式（２４）で示される化合物は、式（２５）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中で行われる。
かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応において用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。該塩基の使用量は、式（２５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは２〜５モルである。本反応で用いられる式（３）で示される化合物の使用量は、式（２５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜３モルである
該反応の反応温度は通常−６０〜１８０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸を添加した後水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（２４）で示される化合物を得ることができる。

工程５
式（２３）で示される化合物は、式（２４）で示される化合物とＧ³−Ｘ¹で示される化合物とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。 該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる式Ｇ³−Ｘ¹で示される化合物としては、例えば、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化イソブチリル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイル、シクロヘキサンカルボン酸クロリド等のカルボン酸のハロゲン化物；無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸等のカルボン酸の無水物；クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸フェニル等の炭酸エステルのハロゲン化物；塩化ジメチルカルバモイル等のカルバミン酸のハロゲン化物；塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のスルホン酸のハロゲン化物；メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等のスルホン酸の無水物；クロロメチル メチル エーテル、エチル クロロメチル エーテル等のアルキル ハロゲノアルキル エーテル等が挙げられる。
該反応に用いられる式Ｇ³−Ｘ¹で示される化合物の使用量は、式（２４）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上、好ましくは１〜３モルである。
反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
該塩基の使用量は、式（２４）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
該反応の反応温度は通常、−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（２３）で示される化合物を得ることができる。
式Ｇ³−Ｘ¹で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができる。

工程６
式（２２）で示される化合物は、式（２３）で示される化合物を金属の存在下に反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；メタノール、エタノールのアルコール類；酢酸エチル等のエステル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる金属としては、例えば、パラジウム、白金が挙げられる。該反応に用いられる金属の使用量は、式（２３）で示される化合物１モルに対して、通常０．０１モル以上、好ましくは０．０１〜０．５モルである。
該反応の反応温度は通常、−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。該反応の終了後は、例えば反応混合物をセライト（登録商標）ろ過し、得られた液を減圧濃縮する等の操作を行うことにより、式（２２）で示される化合物を得ることができる。

参考製造例５
式（３４）で示される化合物は、式（２２）で示される化合物と式（３５）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹⁰、Ｘ¹、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、ｎ、ｍ、Ｇ³、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類、及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる式（３５）で示される化合物としては、例えば、塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のスルホン酸のハロゲン化物；メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等のスルホン酸無水物が挙げれる。該反応に用いられる式（３５）で示される化合物の使用量は、式（２２）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上、好ましくは１〜３モルである。
該反応は通常、塩基の存在下に行われる。本反応で用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。該塩基の使用量は、式（２２）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モルである。
該反応の反応温度は通常、−３０〜１８０℃、好ましくは−１０〜５０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。
該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（３４）で示される化合物を得ることができる。
式（３５）で示される化合物は公知の化合物であるか、あるいは公知の化合物から製造することができる。

参考製造例６
式（３５）で示される化合物は、式（３４-a）で示される化合物とアジ化ナトリウムとを１５−クラウン５−エーテルの存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹⁰、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｇ³、ｎ、ｍ、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。本反応で用いられるアジ化ナトリウムの使用量は、式（３４−a）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モル当量であり、好ましくは２〜１０モル当量である。本反応で用いられる１５−クラウン５−エーテルの使用量は、式（３４−a）で示される化合物１モルに対して、通常０．０２〜０。２モル当量である。
該反応の反応温度は好ましくは−１０〜１２０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分〜３０時間である。
該反応の終了は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認することができる。
該反応の終了後は、例えば反応混合物を濃縮することにより式（３５）で示される化合物を得ることができる。
式（３４−ａ）で示される化合物は例えば参考製造例５に記載の方法で製造することができる。

上記製造法で製造できる本化合物のいくつかを以下に示す。

以下に製造例、参考例、製剤例及び試験例を示して、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
製造例及び参考例中、室温とは通常１０〜３０℃を示す。¹Ｈ ＮＭＲとはプロトン核磁気共鳴スペクトルを示し、内部標準としてテトラメチルシランを用い、ケミカルシフト（δ）をｐｐｍで表記した。
製造例及び参考例中で用いられている記号は次のような意味を有するものである。
ＣＤＣｌ₃：重クロロホルム、ｓ：シングレット、ｄ：ダブレット、ｔ：トリプレット、ｑ：カルテット、ｂｒｓ：幅広いシングレット、ｍ：マルチプレット、Ｊ：カップリング定数、Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｈe：フェニル基、ＯＭｅ：メトキシ基、ＯＡｃ：アセトキシ基、Ｐｙｒ：ピリジル基、Ｂｎ：ベンジル基、Ｔｓ：ｐ−トルエンスルホニル基。

製造例１−１：式（１−１）で示される化合物の製造
＜式９−１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１）で示される化合物１０ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン４．０ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１）で示される化合物１８．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７７（１Ｈ，ｓ），７．５１（２Ｈ，ｄ），７．３６（２Ｈ，ｄ），３．２８−３．２０（２Ｈ，ｍ），２．８７−２．８０（２Ｈ，ｍ）

＜式７−１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１）で示される化合物６５．７ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１００ｇをクロロホルム３３０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１）で示される化合物２８．６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｄ），７．３９（２Ｈ，ｄ），６．８２−６．７４（１Ｈ，ｍ），６．１３（１Ｈ，ｄｄ），３．１１（２Ｈ，ｍ），２．６３−２．５６（２Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ）

＜式６−１で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２２ｇおよび式（８−１）で示される化合物７．６ｇをテトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１）で示される化合物２８．６ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１）で示される化合物２４．５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．６３（２Ｈ，ｄ），７．４５（２Ｈ，ｄ），４．３９（１Ｈ，ｓ），３．４６（３Ｈ，ｓ），３．１１（１Ｈ，ｍ），２．９５（１Ｈ，ｍ），２．８３（１Ｈ，ｄ），２．３４−２．２６（１Ｈ，ｍ），２．１２（１Ｈ，ｄｄ），１．７８（１Ｈ，ｄｄ），１．５３−１．４７（２Ｈ，ｍ）

＜式２−１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−１）で示される化合物１２ｇを水１８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１０ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１）で示される化合物１８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０７（１Ｈ，ｓ），７．６３（２Ｈ，ｄ），７．４８（２Ｈ，ｄ），５．２２（１Ｈ，ｓ），３．１６−３．０５（２Ｈ，ｍ），２．３３−１．６９（７Ｈ，ｍ）

＜式３−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、四酢酸鉛２６．５ｇ、酢酸水銀０．８３ｇおよび式（５−１）で示される化合物１０ｇをクロロホルム１１０ｍｌに溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４０℃で４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質にヘキサンを加え、得られたものを減圧濃縮して黄色固体を得た。窒素雰囲気下、室温にて、得られた固体をクロロホルム２６０ｍｌに溶解した。得られた溶液に炭酸カリウム８６．２ｇを加え、得られたものを１０分間すばやく攪拌した。その後、反応液をセライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（３−１）で示される化合物２１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．０５（２Ｈ，ｓ），２．９０（４Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．０６（９Ｈ，ｓ），１．３３−１．２７（６Ｈ，ｍ）

＜式１−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１）で示される化合物２４０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン４６０ｍｇをクロロホルム２．５ｍｌとトルエン０．５ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物４４０ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−１）で示される化合物１２０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３８（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），３．０７（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７１（２Ｈ，ｔｄ），２．４７−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．８８（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−２：式（１−２）で示される化合物の製造
＜式３−２で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、四酢酸鉛６．２ｇ、酢酸水銀１９４ｍｇおよび式（５−２）で示される化合物２ｇをクロロホルム２５ｍｌに溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４０℃で４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質にヘキサンを加え、得られたものを減圧濃縮して黄色固体を得た。窒素雰囲気下、室温にて、得られた固体をクロロホルム５０ｍｌに溶解した。得られた溶液に炭酸カリウム２０ｇを加え、得られたものを１０分間すばやく攪拌した。その後、反応液をセライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（３−２）で示される化合物４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９９（２Ｈ，ｓ），２．５７（６Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．０６（９Ｈ，ｓ）

＜式１−２で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１）で示される化合物２４０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン４６０ｍｇをクロロホルム２．５ｍｌとトルエン０．５ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−２）で示される化合物４２０ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−２）で示される化合物１２５ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３７（２Ｈ，ｄ），６．９４（２Ｈ，ｓ），５．７２（１Ｈ，ｓ），３．１１−３．０１（２Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔｄ），２．４４−２．０１（１２Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｑ）

製造例１−３：式（１−３）で示される化合物の製造
＜式３−３で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、四酢酸鉛８．４ｇ、酢酸水銀２６３ｍｇおよび式（５−３）で示される化合物４．２ｇをクロロホルム３５ｍｌに溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４０℃で４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質にヘキサンを加え、得られたものを減圧濃縮して黄色固体を得た。窒素雰囲気下、室温にて、得られた固体をクロロホルム８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に炭酸カリウム２７．４ｇを加え、得られたものを１０分間すばやく攪拌した。その後、反応液をセライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（３−３）で示される化合物６．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６０−７．３１（７Ｈ，ｍ），３．０６−２．９３（４Ｈ，ｍ），２．０７（９Ｈ，ｓ），１．３９−１．３２（６Ｈ，ｍ）

＜式１−３で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１）で示される化合物２４０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン４６０ｍｇをクロロホルム２．５ｍｌとトルエン０．５ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−３）で示される化合物５００ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−３）で示される化合物１９０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５７（４Ｈ，ｔｄ），７．４５（２Ｈ，ｄｄ），７．４０−７．３４（５Ｈ，ｍ），５．５６（１Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｄｔ），２．７８−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．３０（７Ｈ，ｍ），１．９０（２Ｈ，ｑ），１．１７−１．０９（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４：式（１−４）で示される化合物の製造
＜式９−２で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−２）で示される化合物１０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合、を攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン４．０ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−２）で示される化合物１３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．８０（１Ｈ，ｓ），８，６７−８．６６（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２６(１Ｈ，ｄｄ)，３．４８（２Ｈ，ｄｄｄ），２．９８−２．９５（２Ｈ，ｍ）

＜式７−２で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−２）で示される化合物１３ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン２０ｇをクロロホルム６５ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−２）で示される化合物１３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．６９−７．６６（１Ｈ，ｍ），７．２９（１Ｈ，ｄ），６．８８−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．１６（１Ｈ，ｄｔ），３．３６（２Ｈ，ｔ），２．６７（２Ｈ，ｔｔ），２．２４（３Ｈ，ｓ）

＜式６−２で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１０ｇおよび式（８−１）で示される化合物６．７ｇをテトラヒドロフラン１３０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−２）で示される化合物１３ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−２）で示される化合物１５．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：８．７８（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ），７．５０（１Ｈ，ｄ），４．４０（１Ｈ，ｓ），３．４９（３Ｈ，ｓ），３．２６（１Ｈ，ｄｑ），３．０６（１Ｈ，ｄｔ），２．８３（１Ｈ，ｄ），２．３４−２．２４（１Ｈ，ｍ），２．１３（１Ｈ，ｄｄ），１．７９（１Ｈ，ｄｔ），１．６３−１．４９（２Ｈ，ｍ）

＜式２−２で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−２）で示される化合物５ｇを水７０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶を順次、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで洗浄して式（２−２）で示される化合物３．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０７（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ），７．５２(１Ｈ，ｄ)，５．２１（１Ｈ，ｓ），３．２３（２Ｈ，ｔ），２．３４（２Ｈ，ｄ），２．１３（３Ｈ，ｍ），１．７３（２Ｈ，ｍ）

＜式１−４で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２）で示される化合物５４０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−４）で示される化合物３２０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６８−８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９８(２Ｈ，ｓ)，５．５２（１Ｈ，ｓ），３．３１（２Ｈ，ｔｔ），２．７５（２Ｈ，ｄｄｄ），２．５１−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．９２（２Ｈ，ｄｄｄ），１．５（６Ｈ，ｄｔ）

製造例１−５：式（１−５）で示される化合物の製造
＜式１−５で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２）で示される化合物５７０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．１ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−２）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−５）で示される化合物４１０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６６（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２６(１Ｈ，ｄ)，６．９３（２Ｈ，ｓ），５．６６（１Ｈ，ｓ），３．３２−３．２８（２Ｈ，ｍ），２．７４（２Ｈ，ｔ），２．４６−２．０４（１２Ｈ，ｍ），１．９１（２Ｈ，ｍ）

製造例１−６：式（１−６）で示される化合物の製造
＜式９−３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−３）で示される化合物１０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン６．６ｇとトリエチルアミン０．２ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−３）で示される化合物１５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７４（１Ｈ，ｓ），７．３６−７．１７（５Ｈ，ｍ），３．１７（２Ｈ，ｔ），２．７５（２Ｈ，ｔ）

＜式７−３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−３）で示される化合物１０ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン２１ｇをクロロホルム７０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−３）で示される化合物７．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３５−７．２５（４Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｍ），６．８０−６．７１（１Ｈ，ｍ），６．０７（１Ｈ，ｄｔ），３．０１（２Ｈ，ｔｔ），２．５１（２Ｈ，ｄｄｄ），２．２３（３Ｈ，ｓ）

＜式６−３で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液７．５ｇおよび式（８−１）で示される化合物５ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−３）で示される化合物７．２ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−３）で示される化合物１０ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．３３−７．２７（４Ｈ，ｍ），７．１７（１Ｈ，ｄｑ），４．３７（１Ｈ，ｓ），３．４８（３Ｈ，ｓ），３．０２−２．９６（１Ｈ，ｍ），２．８７−２．７８（２Ｈ，ｍ），２．３３−２．２３（１Ｈ，ｍ），２．０８（１Ｈ，ｄｄ），１．７４（１Ｈ，ｄｄ），１．４４（２Ｈ，ｍ）

＜式２−３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−３）で示される化合物５ｇを水８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．８ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−３）で示される化合物３．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０５（１Ｈ，ｓ），７．３１（４Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ，ｔ），２．３３−１．９９（５Ｈ，ｍ），１．６３（２Ｈ，ｍ）

＜式１−６で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−３）で示される化合物４３０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−６）で示される化合物３１０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３６−７．２０（５Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５９（１Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ，ｄｄｄ），２．６７（２Ｈ，ｄｄｔ），２．４７−２．２０（１０Ｈ，ｍ），１．８２（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−７：式（１−７）で示される化合物の製造
＜式９−４で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−４）で示される化合物５ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン３．０ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−４）で示される化合物７．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７２（１Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｄ），７．１８（２Ｈ，ｄ），３．１２（２Ｈ，ｔ），２．７１（２Ｈ，ｔ），２．３１（３Ｈ，ｓ）

＜式６−４で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−４）で示される化合物７．４ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１４．４ｇをクロロホルム５０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−４）で示される化合物６．０ｇを得た。
引き続き、室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液５．８ｇおよび式（８−１）で示される化合物４．０ｇをテトラヒドロフラン８０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−４）で示される化合物６．０ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−４）で示される化合物６．７ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．１９（２Ｈ，ｄ），７．１２（２Ｈ，ｄ），４．３９（１Ｈ，ｓ），３．４８（３Ｈ，ｓ），２．９７−２．９０（１Ｈ，ｍ），２．８２−２．７５（２Ｈ，ｍ），２．２４（３Ｈ，ｓ），２．１０−２．０４（１Ｈ，ｍ），１．７２（１Ｈ，ｄｄ），１．４９−１．３５（２Ｈ，ｍ）

＜式２−４で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−４）で示される化合物５ｇを水８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．６ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンとで順次洗浄して式（２−４）で示される化合物２．９ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０４（１Ｈ，ｓ），７．２３（２Ｈ，ｄ），７．１３（２Ｈ，ｄ），５．１９（１Ｈ，ｓ），２．９５（２Ｈ，ｔ），２．４２−１．９９（８Ｈ，ｍ），１．６０−１．５８（２Ｈ，ｍ）

＜式１−７で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−４）で示される化合物４５０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−７）で示される化合物３４０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２７（２Ｈ，ｄ），７．１２（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．４７（１Ｈ，ｓ），２．９６（２Ｈ，ｄｔ），２．６７（２Ｈ，ｄｄｄ），２．４５−２．２１（１３Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｄｔ）

製造例１−８：式（１−８）で示される化合物の製造
＜式９−５で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−５）で示される化合物４ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン２．５ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−５）で示される化合物５．５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７３（１Ｈ，ｓ），７．３６（２Ｈ，ｄ），６．８５（２Ｈ，ｄ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．０６(２Ｈ，ｔ)，２．６８（２Ｈ，ｔ）

＜式６−５で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−５）で示される化合物５．５ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１０ｇをクロロホルム４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−５）で示される化合物５．４ｇを得た。
引き続き、室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４．８ｇおよび式（８−１）で示される化合物３．３ｇをテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−５）で示される化合物５．４ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−５）で示される化合物５．７ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．２８（２Ｈ，ｄ），６．９０（２Ｈ，ｄ），４．３８（１Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．４７（３Ｈ，ｓ），２．９０−２．６９（３Ｈ，ｍ），２．３０−２．２２（１Ｈ，ｍ），２．０４（１Ｈ，ｄｄ），１．７４−１．６６（１Ｈ，ｍ），１．４５−１．３３（２Ｈ，ｍ）

＜式１−８で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−５）で示される化合物５ｇを水８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．４ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−５）で示される化合物３．８ｇを得た。
引き続き、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−５）で示される化合物４８０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−８）で示される化合物１７４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３６（２Ｈ，ｄｄ），６．９７（２Ｈ，ｄ），６．８６（２Ｈ，ｄｄ），５．５７（１Ｈ，ｓ），３．８０(３Ｈ，３Ｈ)，２．９２−２．８８（２Ｈ，ｍ），２．６９―２．６０（２Ｈ，ｍ），２．４４−２．１９（１０Ｈ，ｍ），１．７５（２Ｈ，ｄｄ），１．０６（６Ｈ，ｄｔ）

製造例１−９：式（１−９）で示される化合物の製造
＜式９−６で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−６）で示される化合物１０ｇおよびテトラヒドロフラン２０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン５．６ｇとトリエチルアミン０．２ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−６）で示される化合物１３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７３（１Ｈ，ｓ），７．２９―７．２０（４Ｈ，ｍ），３．１４（２Ｈ，ｔ），２．７５（２Ｈ，ｔ）

＜式７−６で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−６）で示される化合物１０ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１７．４ｇをクロロホルム６０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−６）で示される化合物９．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３１−７．２２（４Ｈ，ｍ），６．８０−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．０８（１Ｈ，ｄ），３．００（２Ｈ，ｍ），２．５２（２Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ）

＜式６−６で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液８．３ｇおよび式（８−１）で示される化合物５．７ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−６）で示される化合物９．４ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−６）で示される化合物１０ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．３６（２Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ），４．３８（１Ｈ，ｓ），３．４８（３Ｈ，ｓ），３．００（１Ｈ，ｍ），２．８４（２Ｈ，ｍ），２．３２−２．２２（１Ｈ，ｍ），２．０９（１Ｈ，ｍ），１．７８―１．７１（１Ｈ，ｍ），１．４４（２Ｈ，ｍ）

＜式２−６で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−６）で示される化合物５ｇを水８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．４ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−６）で示される化合物２．９ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０６（１Ｈ，ｓ），７．３６（４Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｓ），３．０１（２Ｈ，ｔ），２．３２−１．９９（５Ｈ，ｍ），１．６２（２Ｈ，ｍ）

＜式１−９で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−６）で示される化合物４９０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−９）で示される化合物３５０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２９−７．２４（４Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．６６（１Ｈ，ｓ），３．０２−２．９３（２Ｈ，ｍ），２．６６（２Ｈ，ｔｔ），２．４５−２．２１（１０Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０１（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１０：式（１−１０）で示される化合物の製造
＜式６−７で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−７）で示される化合物１０ｇおよびテトラヒドロフラン２５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン６．７ｇとトリエチルアミン０．２ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−７）で示される化合物１４ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−７）で示される化合物１４ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン３０ｇをクロロホルム１００ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−７）で示される化合物１３ｇを得た。
引き続き、室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１２ｇおよび式（８−１）で示される化合物８．４ｇをテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−７）で示される化合物１３ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−７）で示される化合物１４．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．３６（２Ｈ，ｄｄｄ），７．１７（２Ｈ，ｔｔ），４．３７（１Ｈ，ｓ），３．４９（３Ｈ，ｓ），３．００−２．９３（１Ｈ，ｍ），２．８５―２．７７（２Ｈ，ｍ），２．２７（１Ｈ，ｔｄｄ），２．０６（１Ｈ，ｄｄ），１．７３（１Ｈ，ｄｔ），１．４２（２Ｈ，ｔｔ）

＜式２−７で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−７）で示される化合物５ｇを水８０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．６ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−７）で示される化合物２．４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０４（１Ｈ，ｓ），７．４０（２Ｈ，ｄｄｄ），７．１７（２Ｈ，ｔｔ），５．１９（１Ｈ，ｓ），２．９８（２Ｈ，ｔ），２．２８−１．９１（５Ｈ，ｍ），１．６０（２Ｈ，ｄｄ）

＜式１−１０で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−７）で示される化合物４６０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１０）で示される化合物３３０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３９−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．０４−６．９８（２Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．６２（１Ｈ，ｓ），２．９５（２Ｈ，ｄｄｄ），２．６５（２Ｈ，ｄｄ），２．４５−２．２１（１０Ｈ，ｍ），１．７８（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｄｄｄ）

製造例１−１１：式（１−１１）で示される化合物の製造
＜式９−８で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１）で示される化合物５ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこにメタクロレイン２．６ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−８）で示される化合物６．９ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．６９（１Ｈ，ｓ），７．５３（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），３．４２−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．００−２．９５（１Ｈ，ｍ），２．６７（１Ｈ，ｄｄ），１．２８（３Ｈ，ｄｄ）

＜式７−８で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−８）で示される化合物６．９ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１０ｇをクロロホルム５０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−８）で示される化合物５．３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｄ），７．３６（２Ｈ，ｄ），６．７２（１Ｈ，ｄｄ），６．０９（１Ｈ，ｄｄ），３．０３（２Ｈ，ｄｄｄ），２．６７（１Ｈ，ｄｔ），２．２４（３Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｄ）

＜式２−８で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．９ｇおよび式（８−１）で示される化合物２．７ｇをテトラヒドロフラン６０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−８）で示される化合物５．３ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、ヘキサンを加えた。その後、反応液を氷冷し、析出した結晶をろ過により集め、ヘキサンでよく洗浄し、式（６−８）で示される化合物４．４ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−８）で示される化合物１．６ｇを水３０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．３ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、（２−８）で示される化合物１．３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｔ），７．３５（２Ｈ，ｄ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．４２(１Ｈ，ｓ)，３．０９−２．８２（２Ｈ，ｍ），２．６７(１Ｈ，ｄ)，２．４６（２Ｈ，ｄｔ），２．２５（２Ｈ，ｄｄｄ），１．９０−１．８４（１Ｈ，ｍ），１．０９（３Ｈ，ｄｄ）

＜式１−１１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−８）で示される化合物５７０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１１）で示される化合物４８０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５３（２Ｈ，ｄ），７．３８（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．２２―３．１４（１Ｈ，ｍ），２．８７（１Ｈ，ｄｄｄ），２．６７−２．２３（１２Ｈ，ｍ），１．９５−１．８８（１Ｈ，ｍ），１．１６(３Ｈ，ｄｄ)，１．１１−１．０４（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１２：式（１−１２）で示される化合物の製造
＜式１−１２で示される化合物の製造＞

フラスコに窒素雰囲気下、室温にて、式（２−８）で示される化合物６００ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．１ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−２）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１２）で示される化合物５４０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５３（２Ｈ，ｄ），７．３８（２Ｈ，ｄ），６．９４（２Ｈ，ｓ），５．５６（１Ｈ，ｓ），３．１６（１Ｈ，ｄｄｄ），２．８７（１Ｈ，ｄｄｄ），２．６５−２．２５（８Ｈ，ｍ），２．０８(３Ｈ，ｄ)，２．０１（３Ｈ，ｓ），１．９０（１Ｈ，ｔｄ），１．１５（３Ｈ，ｄｄ）

製造例１−１２に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−１６２で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２８−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．０９（１Ｈ，ｄ），７．０３（１Ｈ，ｄｔ），６．９３（２Ｈ，ｓ），６．９０−６．８５（１Ｈ，ｍ），５．７３（１Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｓ），２．８３（１Ｈ，ｄｔ），２．６０−２．２２（８Ｈ，ｍ），２．０６−１．９７（６Ｈ，ｍ），１．８６（１Ｈ，ｓ），１．１３（３Ｈ，ｄ）

製造例１−１３：式（１−１３）で示される化合物の製造
＜式９−９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−２）で示される化合物５ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこにメタクロレイン２．６ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−９）で示される化合物６．３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７２（１Ｈ，ｓ），８．６６(１Ｈ，ｓ)，７．６６（１Ｈ，ｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），３．５６（１Ｈ，ｄｄｄ），３．３８−３．３１（１Ｈ，ｍ），２．８４（１Ｈ，ｄｄ），１．２７−１．２５（３Ｈ，ｍ）

＜式７−９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−９）で示される化合物６．６ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン９ｇをクロロホルム４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−９）で示される化合物２．８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６６(１Ｈ，ｓ)，７．６７−７．６５（１Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ），３．３２（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７９−２．７２（１Ｈ，ｍ），２．２２（３Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｄ）

＜式２−９で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．１ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．４ｇをテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−９）で示される化合物２．８ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、ヘキサンを加えた。その後、反応液を氷冷し、析出した結晶をろ過により集め、ヘキサンでよく洗浄し、式（６−９）で示される化合物２．０ｇを得た。
引き続き、フラスコに室温にて、式（６−９）で示される化合物１．８ｇを水２５ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．５ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、式（２−９）で示される化合物１．３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６６（１Ｈ，ｓ），７．６７−７．６４（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．１９（１Ｈ，ｍ），５．５２（１Ｈ，ｓ），３．４９−３．４１（１Ｈ，ｍ），３．０５−２．９６（１Ｈ，ｍ），２．７５（１Ｈ，ｄｄ），２．５８−２．４５（２Ｈ，ｍ），２．３７−２．１８（２Ｈ，ｍ），１．９８−１．８８（１Ｈ，ｍ），１．０６（３Ｈ，ｄｄ）

＜式１−１３で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−９）で示される化合物５７０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１３）で示される化合物５７０ｍｇを得た。得られた式（１−１３）で示される化合物をキラルカラム（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ（登録商標） ＩＣ−３（ダイセル社製）、４．６ｘ２５０ｍｍ、３μｍ、検出器：２５４ｎｍ）を用い、カラム温度４０度、移動相の流速：ＣＯ₂ ２．０ｍｌ／ｍｉｎ、ＭｅＯＨ０．１５ｍｌ／ｍｉn、背圧：１５MPaの条件に付し、保持時間１３ ｍｉｎのピーク（以下１−１３−Ａとする。）と１６ ｍｉｎ（以下１−１３−Ｂとする。）のピークに分離した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２８(１Ｈ，ｄ)，６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．５９（１Ｈ，ｄｄｄ），３．０２(１Ｈ，ｄｄｄｄ)，２．７６−２．２６（１２Ｈ，ｍ），１．９５（１Ｈ，ｔ），１．１５(３Ｈ，ｄｔ)，１．０９−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１４：式（１−１４）で示される化合物の製造
＜式１−１４で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−９）で示される化合物４５０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン６００ｍｇをクロロホルム２．５ｍｌとトルエン０．５ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−２）で示される化合物５００ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−１４）で示される化合物３２０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６６（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２７(１Ｈ，ｄ)，６．９３（２Ｈ，ｓ），５．６５（１Ｈ，ｓ），３．５７（１Ｈ，ｄｄｄ），３．０７−２．９６（１Ｈ，ｍ），２．７４−２．２７（６Ｈ，ｍ），２．０７−１．９４（９Ｈ，ｍ），１．１７−１．１０（３Ｈ，ｍ）

製造例１−１５：式（１−１５）で示される化合物の製造
＜式７−１０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１）で示される化合物３ｇおよびテトラヒドロフラン１０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこにクロトンアルデヒド１．５ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１０）で示される化合物４．４ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−１０）で示される化合物４．４ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン６．２ｇをクロロホルム２５ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１０）で示される化合物３．７ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．４５（２Ｈ，ｄ），６．７９（１Ｈ，ｄｔ），６．１４−６．１０（１Ｈ，ｍ），３．５１（１Ｈ，ｑ），２．６０−２．４５（２Ｈ，ｍ），２．２４（３Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｄ）

＜式２−１０で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．７ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．８ｇをテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１０）で示される化合物３．７ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、ヘキサンを加えた。その後、反応液を氷冷し、析出した結晶をろ過により集め、ヘキサンでよく洗浄し、式（６−１０）で示される化合物２．９ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−１０）で示される化合物２．９ｇを水４０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム２．３ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、式（２−１０）で示される化合物２．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｔ），７．４２（２Ｈ，ｄｄ），５．４８（１Ｈ，ｓ），３．３６（２Ｈ，ｔｔ），２．７８(２Ｈ，ｄ)，２．５３−２．３４（２Ｈ，ｍ），２．１３（１Ｈ，ｄｄ），１．７５−１．５３（２Ｈ，ｍ），１．３４−１．２９（３Ｈ，ｍ）

＜式１−１５で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１０）で示される化合物５７０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１５）で示される化合物３６０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５６−７．５２（２Ｈ，ｍ），７．４６−７．４１（２Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｓ），３．４９−３．４２（１Ｈ，ｍ），２．７６−２．２３（１２Ｈ，ｍ），１．８３−１．７１（２Ｈ，ｍ），１．３８(３Ｈ，ｄｄ)，１．０６（６Ｈ，ｔｔ）

製造例１−１６：式（１−１６）で示される化合物の製造
＜式９−１１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−８）で示される化合物２ｇおよびテトラヒドロフラン１０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン０．８ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１１）で示される化合物２．５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．８４（１Ｈ，ｓ），８．５９（１Ｈ，ｓ），７．７６（１Ｈ，ｓ），３．４９（２Ｈ，ｔ），２．９６（２Ｈ，ｔ）

＜式７−１１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１１）で示される化合物２．５ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン３．４ｇをクロロホルム１５ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１１）で示される化合物１．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６０（１Ｈ，ｓ），７．７６（１Ｈ，ｓ），６．８４（１Ｈ，ｄｔ），６．１６（１Ｈ，ｄｔ），３．３６（２Ｈ，ｔ），２．６８（２Ｈ，ｄｄｄ），２．２６（３Ｈ，ｓ）

＜式６−１１で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液０．８ｇおよび式（８−１）で示される化合物０．５６ｇをテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１１）で示される化合物１．２ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１１）で示される化合物０．８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：８．８１（１Ｈ，ｓ），８．３４（１Ｈ，ｓ），４．３８（１Ｈ，ｓ），３．５０（３Ｈ，ｓ），３．４２−３．２５（１Ｈ，ｍ），３．１５−３．０７（１Ｈ，ｍ），２．８２（１Ｈ，ｄ），２．３３−２．２３（１Ｈ，ｍ），２．１２（１Ｈ，ｄｄ），１．７９（１Ｈ，ｄｔ），１．６３−１．５０（２Ｈ，ｍ）

＜式２−１１で示される化合物の製造＞

フラスコに室温にて、式（６−１１）で示される化合物０．８ｇを水１０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム０．６ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１１）で示される化合物０．６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０６（１Ｈ，ｓ），８．８１（１Ｈ，ｄ），８．３５（１Ｈ，ｄ），５．２０（１Ｈ，ｓ），３．２７（２Ｈ，ｔ），２．５１−１．９１（５Ｈ，ｍ），１．７４（２Ｈ，ｄ）

＜式１−１６で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１１）で示される化合物６００ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１６）で示される化合物３６０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６０(１Ｈ，ｓ)，７．７５（１Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．７１（１Ｈ，ｓ），３．３１（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７５（２Ｈ，ｔ），２．５１−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．９４−１．８８（２Ｈ，ｍ），１．０９−１．００（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１７：式（１−１７）で示される化合物の製造
＜式７−１２で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１２）で示される化合物９．３ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン２２ｇをクロロホルム９０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１２）で示される化合物２．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３１−７．２３（２Ｈ，ｍ），６．９５（１Ｈ，ｔｔ），６．９２−６．８２（３Ｈ，ｍ），６．２１−６．１４（１Ｈ，ｍ），４．０９（２Ｈ，ｔ），２．６９（２Ｈ，ｑ），２．２４（３Ｈ，ｓ）

＜式６−１２で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．３ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．６ｇをテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１２）で示される化合物２．１ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１２）で示される化合物２．６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．２７（２Ｈ，ｔ），６．９２−６．８９（３Ｈ，ｍ），４．４０（１Ｈ，ｓ），４．３８−３．８９（２Ｈ，ｍ），３．５４（３Ｈ，ｓ），２．８７（１Ｈ，ｄ），２．４０−２．３０（１Ｈ，ｍ），２．０８（１Ｈ，ｄｄ），１．８１（１Ｈ，ｄｄ），１．７２−１．６４（１Ｈ，ｍ），１．６０−１．５１（１Ｈ，ｍ）

＜式２−１２で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−１２）で示される化合物２．０ｇを水４０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム２．０ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで不純物を洗浄した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶を順次、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで洗浄して式（２−１２）で示される化合物１．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１１．０６（１Ｈ，ｓ），７．２８（２Ｈ，ｔ），６．９２（２Ｈ，ｄｄ），５．２０（１Ｈ，ｓ），４．０２(２Ｈ，ｔ)，２．５０−１．９９（５Ｈ，ｍ），１．７９（２Ｈ，ｄ）

＜式１−１７で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１２）で示される化合物４００ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−１７）で示される化合物３８０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３２−７．２７（２Ｈ，ｍ），６．９７−６．８９（５Ｈ，ｍ），５．６８（１Ｈ，ｓ），４．１１−４．０６（２Ｈ，ｍ），２．７８−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．６０−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．９７（２Ｈ，ｄｄｄ），１．１１−１．０５（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１８：式（１−１８）で示される化合物の製造
＜式７−１３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１３）で示される化合物３．５ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン７．５ｇをクロロホルム３０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１３）で示される化合物１．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．１４−７．０９（２Ｈ，ｍ），６．９９−６．９３（２Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄｔ），６．０８（１Ｈ，ｄｔ），２．６２（２Ｈ，ｔ），２．２７−２．２０（５Ｈ，ｍ），１．８２−１．７４（２Ｈ，ｍ）

＜式２−１３で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１．１ｇおよび式（８−１）で示される化合物０．８ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１３）で示される化合物１．１ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１３）で示される化合物１．０ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−１３）で示される化合物１．０ｇを水２０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．０ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１３）で示される化合物６５０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：１０．９９（１Ｈ，ｓ），７．２５−７．２１（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．０５（２Ｈ，ｍ），５．１８（１Ｈ，ｓ），２．５５(２Ｈ，ｔ)，２．４３−１．９１（５Ｈ，ｍ），１．６１−１．５３（２Ｈ，ｍ），１．３５−１．３２（２Ｈ，ｍ）

＜式１−１８で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１３）で示される化合物４３０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−１８）で示される化合物４４０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．１５−７．１１（２Ｈ，ｍ），６．９９−６．９３（４Ｈ，ｍ），５．６０（１Ｈ，ｓ），２．６７−２．６１（４Ｈ，ｍ），２．４０−２．１９（１０Ｈ，ｍ），１．７４−１．６６（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．４６（２Ｈ，ｍ），１．０８―１．００（６Ｈ，ｍ）

製造例１−１９：式（１−６９）で示される化合物の製造
＜式７−１４で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１４）で示される化合物９．０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン３．６ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１４）で示される化合物１１ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−１４）で示される化合物１１ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１５．８ｇをクロロホルム５０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）に付し、式（７−１４）で示される化合物２．６５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．７９−６．７１（１Ｈ，ｍ），６．１１（１Ｈ，ｄｔ），３．０２（２Ｈ，ｔｄ），２．５１（２Ｈ，ｄｔ），２．２５（３Ｈ，ｄｄ）

＜式６−１４で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１．９ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．３ｇをテトラヒドロフラン３５ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１４）で示される化合物２．６５ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１４）で示される化合物１．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：４．３９（１Ｈ，ｓ），３．４９（３Ｈ，ｓ），２．９９−２．９２（１Ｈ, m）、２．８６−２．７６（２Ｈ，ｍ），２．２８−２．１９（１Ｈ，ｍ），２．０５−１．９９（１Ｈ，ｍ），１．７６−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．４４−１．３３（２Ｈ，ｍ）

＜式１−６９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−１４）で示される化合物１．１ｇを水２０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム８４０ｍｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１４）で示される化合物８００ｍｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１４）で示される化合物５８０ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−６９）で示される化合物１５０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９９（２Ｈ，ｓ），５．５６（１Ｈ，ｓ），３．００−２．９５（２Ｈ，ｍ），２．７１−２．６２（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．７５（２Ｈ，ｄｄ），１．１０−１．０４（６Ｈ，ｍ）

製造例１−２０：式（１−３１）で示される化合物の製造
＜式９−１５で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１５）で示される化合物３．３ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン１．４ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１５）で示される化合物４．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７６（１Ｈ，ｓ），７．５２（２Ｈ，ｄ），７．３７（２Ｈ，ｄ），３．２１−３．１６（２Ｈ，ｍ），２．８０−２．７６（２Ｈ，ｍ）

＜式７−１５で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１５）で示される化合物４．２ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン６．０ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１５）で示される化合物２．７ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３７（２Ｈ，ｄ），７．１６（２Ｈ，ｄ），６．７７（１Ｈ，ｄｔ），６．０９（１Ｈ，ｄ），３．０４（２Ｈ，ｔ），２．５８−２．５２（２Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ）

＜式６−１５で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．４ｇをテトラヒドロフラン４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１５）で示される化合物２．７ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１５）で示される化合物１．８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．３９（２Ｈ，ｄ），７．３１（２Ｈ，ｄ），４．４０（１Ｈ，ｓ），３．４７（３Ｈ，ｓ），３．０７−３．０１（１Ｈ，ｍ），２．９２−２．８０（２Ｈ，ｍ），２．３４−２．２４（１Ｈ，ｍ），２．０９（１Ｈ，ｄｄ），１．７５（１Ｈ，ｄｄ），１．５１−１．４０（２Ｈ，ｍ）

＜式１−３１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−１５）で示される化合物１．８ｇを水３５ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．４ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１５）で示される化合物１．６ｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１５）で示される化合物５７０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−３１）で示される化合物２９０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３６（２Ｈ，ｄ），７．１５（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５９（１Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７１−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８３（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−２１：式（１−７３）で示される化合物の製造
＜式７−１６で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−１６）で示される化合物５．０ｇおよびテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに９５％アクロレイン２．８ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１６）で示される化合物６．７ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−１６）で示される化合物６．７ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１１．２ｇをクロロホルム４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（７−１６）で示される化合物５．０ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．２３(１Ｈ，ｄ），８．２５−８．２１(１Ｈ，ｍ），７．３２−７．２８（１Ｈ，ｍ），６．８３（１Ｈ，ｄｔ），６．１６（１Ｈ，ｄ），３．４１（２Ｈ，ｔ），２．７２−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．２４（３Ｈ，ｓ）

＜式６−１４で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４．２ｇおよび式（８−１）で示される化合物２．９ｇをテトラヒドロフラン８０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１６）で示される化合物５．０ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１６）で示される化合物４．９ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：９．２１(１Ｈ，ｄ），８．３６(１Ｈ，ｄｄ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ），４．３８（１Ｈ，ｓ），３．５２（３Ｈ，ｓ），３．３４−２．８２（３Ｈ，ｍ）、２．３３−２．２４（１Ｈ，ｍ），２．１６−２．１１（１Ｈ，ｍ），１．８３−１．７４（１Ｈ，ｍ），１．６１−１．５３（２Ｈ，ｍ）

＜式１−７３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−１６）で示される化合物３．０ｇを水６５ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム２．７ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１６）で示される化合物１．１ｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１６）で示される化合物５００ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）に付し、式（１−７３）で示される化合物５０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．２５（１Ｈ，ｄ），８．２３（１Ｈ，ｄｔ），７．３０（１Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５８（１Ｈ，ｓ），３．３６（２Ｈ，ｔ），２．８０−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．９６−１．９０（２Ｈ，ｍ），１．０９−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−２２：式（１−７４）で示される化合物の製造
＜式７−１７で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−２）で示される化合物３．０ｇおよびテトラヒドロフラン１５ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこに２−エチルアクロレイン１．８５ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下１．５時間攪拌した。その後、得られた混合物を水に加えた。得られた混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−１７）で示される化合物４．３ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−１７）で示される化合物４．３ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン５．８ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１７）で示される化合物１．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６６(１Ｈ，ｓ），７．６７−７．６４(１Ｈ，ｍ)，７．２８−７．２４（１Ｈ，ｍ），６．６６−６．５９（１Ｈ，ｍ），６．１０（１Ｈ，ｄｄ），３．４５−３．２４（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．４７（１Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），１．７９−１．４６（２Ｈ，ｍ）、０．９６−０．９２（３Ｈ，ｍ）

＜式１−７４で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液８１０ｍｇおよび式（８−１）で示される化合物５６０ｍｇをテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１７）で示される化合物１．１ｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１７）で示される化合物１．６ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−１７）で示される化合物１．６ｇを水３０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．２ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１７）で示される化合物１．２ｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１７）で示される化合物６００ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）に付し、式（１−７４）で示される化合物２００ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５２（１Ｈ，ｓ），３．５７−３．４６（１Ｈ，ｍ），３．３１−３．１７（１Ｈ，ｍ），２．７１−２．５８（３Ｈ，ｍ），２．４４−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．７５−１．６２（２Ｈ，ｍ），１．０８−１．００（９Ｈ，ｍ）

製造例１−２３：式（１−２１）で示される化合物の製造
＜式１２−１で示される化合物の製造＞

室温にて式（１１−１）で示される化合物３１ｇ、ピリジン１７ｍｌおよび塩化メチレン１００ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、パラトルエンスルホニルクロライド１１．４ｇを塩化メチレン６０ｍｌに溶解して得られた混合液へ滴下した。得られた混合液を０℃氷冷下、３時間攪拌した。得られた反応混合液を酢酸エチルで希釈して、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝３：２)に付し、式（１２−１）で示される化合物１６ｇ(無色油状物質)を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．８０−７．７８（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．３０（２Ｈ，ｍ），３．８２（２Ｈ，ｓ），３．３７（２Ｈ，ｓ），２．４５（３Ｈ，ｓ），０．８８（６Ｈ，ｓ）

＜式１３−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、６０％水素化ナトリウム１．５５ｇに無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌを添加した。得られた混合物に氷冷下、式（１０−１）で示される化合物７．２ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下２５分間攪拌した後、そこに式（１２−１）で示される化合物８ｇの無水ＤＭＦ１５ｍｌ溶液を滴下し、得られた混合物を室温下１時間攪拌した後、反応温度を９０℃まで昇温し８時間攪拌した。得られた反応混合液をt−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を合し、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗製生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４→２：３）に付し、式（１３−１）で示される化合物７．６ｇを得た（油状物質）。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．４８（２Ｈ，ｄ），７．３９（２Ｈ，ｄ），３．４５（２Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｓ），２．０３(１Ｈ，ｓ), １．０１（６Ｈ，ｓ）

＜式９−１８で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、塩化オキサリル３．４ｍｌと塩化メチレン１２０mlの混合液をー７８℃まで冷却した後、ジメチルスルホキシド５．７ｍｌをゆっくりと滴下し、１０分間攪拌した。その後、得られた混合液に式（１３−１）で示される化合物７．６ｇの塩化メチレン５０ｍｌ溶液を滴下し、３０分間攪拌した。その後、得られた混合液にトリエチルアミン１１．６ｇを加え、−７８℃で１時間攪拌した後、０℃氷冷下でさらに６時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈して、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して式（９−１８）で示される化合物６．７ｇ(油状物質)を得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：９．５０（１Ｈ，ｓ），７．５１（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），３．１６（２Ｈ，ｓ），１．２４（６Ｈ，ｓ）

＜式７−１８で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１８）で示される化合物４．２ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン５．６ｇをキシレン２０ｍｌに溶解した。得られた溶液を８時間加熱還流した。その後、減圧下、得られた反応液からキシレンを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１８）で示される化合物４．１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５０（２Ｈ，ｄ），７．３８（２Ｈ，ｄ），６．７３（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），３．０６（２Ｈ，ｓ），２．１７（３Ｈ，ｓ），１．２３（６Ｈ，ｓ）

＜式１−２１で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．９ｇおよび式（８−１）で示される化合物２．０ｇを１，４−ジオキサン３５ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１８）で示される化合物４．１ｇを加えた。その後、得られた混合液を１時間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、減圧濃縮し、析出した粗結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１８）で示される化合物５．７ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−１８）で示される化合物５．７ｇを水２５ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム１．０５ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１８）で示される化合物９７０mｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１８）で示される化合物９７０ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．７ｇをクロロホルム７．５ｍｌとトルエン２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．５ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−２１）で示される化合物３００ｍｇ（白色固体）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｄ），７．４１（２Ｈ，ｄ），６．９９（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．０４（２Ｈ，ｄｄ），２．６７−２．２４（１２Ｈ，ｍ），１．１３−１．０６（１２Ｈ，ｍ）

製造例１−２４：式（１−２２）で示される化合物の製造
＜式１３−２で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、６０％水素化ナトリウム１．５５ｇに無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌを添加した。得られた混合物に氷冷下、式（１０−２）で示される化合物７．２ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下２５分間攪拌した後、そこに式（１２−１）で示される化合物８ｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌ溶液を滴下し、得られた混合物を室温下１時間攪拌した後、反応温度を９０℃まで昇温し８時間攪拌した。得られた反応混合液をtert−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を合し、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗製生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１３−２）で示される化合物６．７ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：８．６１(１Ｈ，ｓ)，７．７０−７．６７（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．３２（２Ｈ，ｍ），３．３０（２Ｈ，ｄ），３．２３（２Ｈ，ｄ），１．０４（６Ｈ，ｓ）

＜式９−１９で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、塩化オキサリル３．１ｍｌと塩化メチレン１２０mlの混合液を−７８℃まで冷却した後、ジメチルスルホキシド５．０ｍｌをゆっくりと滴下し、１０分間攪拌した。その後、得られた混合液に式（１３−２）で示される化合物６．７ｇの塩化メチレン５０ｍｌ溶液を滴下し、３０分間攪拌した。その後、得られた混合液にトリエチルアミン１０．３ｇを加え、−７８℃で１時間攪拌した後、０℃氷冷下で６時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈して、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して式（９−１９）で示される化合物６．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：９．５１（１Ｈ，ｓ），８．６４(１Ｈ，ｓ），７．６５（１Ｈ，ｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），３．５２（２Ｈ，ｓ），１．２４（６Ｈ，ｓ）

＜式７−１９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−１９）で示される化合物４．６ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン６．２ｇをキシレン２５ｍｌに溶解した。得られた溶液を８時間加熱還流した。その後、得られた反応液を減圧下、キシレンを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。続いて、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−１９）で示される化合物３．８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６４（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ），７．２７(１Ｈ，ｄ），６．０４（１Ｈ，ｄ），６．０４（１Ｈ，ｄ），３．４３（２Ｈ，ｓ），２．１７（３Ｈ，ｓ），１．２２（６Ｈ，ｓ）

＜式１−２２で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．７ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．８ｇを１，４−ジオキサン３５ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−１９）で示される化合物３．８ｇを加えた。その後、得られた混合液を１時間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、減圧濃縮し、析出した粗結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次よく洗浄し、式（６−１９）で示される化合物５．３ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（６−１９）で示される化合物５．３ｇを水９５ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム４．０ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄して不純物を除去した後、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした水層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−１９）で示される化合物２．８ｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１９）で示される化合物６００ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．０ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）に付し、式（１−２２）で示される化合物２９０ｍｇ（白色固体）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６５(１Ｈ，ｓ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ），７．３０（１Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．４１（２Ｈ，ｄｄ），２．７８−２．５１（３Ｈ，ｍ），２．４８−２．２６（９Ｈ，ｍ），１．１８−１．００（１２Ｈ，ｍ）

製造例１−２５：式（１−４０）で示される化合物の製造
＜式３−３で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、四酢酸鉛１０ｇ、酢酸水銀３１０ｍｇおよび式（５−３）で示される化合物５ｇをクロロホルム４０ｍｌに溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４０℃で４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して赤色油状物質を得た。得られた油状物質にヘキサンを加え、得られたものを減圧濃縮して式(３−３)で示される化合物１０．２ｇ（赤色固体）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６１−７．５９（１Ｈ， ｍ）、７．４１−７．３４（５Ｈ，ｍ），７．００−６．９７（２Ｈ，ｍ）、５．０８（２Ｈ，ｓ）、２．８３（２Ｈ，ｑ）、２．０９（９Ｈ，ｓ），１．２９（３Ｈ，ｔ）

＜式３４−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２）で示される化合物５４０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０５ｇをクロロホルム４．８ｍｌとトルエン１．２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−３）で示される化合物１．１ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、式（３４−１）で示される化合物３８６ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｓ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．４６−７．２６（６Ｈ，ｍ），６．９８−６．９２(２Ｈ，ｍ)，６．８６(１Ｈ，ｄｔ)，５．７４（１Ｈ，ｓ），５．０８(２Ｈ，ｓ)，３．３０（２Ｈ，ｔ），２．７９−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．５０−２．２４（５Ｈ，ｍ），１．９３−１．８７（２Ｈ，ｍ），１．０８（３Ｈ，ｄｔ）

＜式１−４０で示される化合物の製造＞

室温下、式（３４−１）で示される化合物３００ｍｇを酢酸２．２mlに溶解し、得られた混合液に４７％臭化水素酸０．７ｍｌを滴下した。得られた反応液を１００℃まで加熱し、３０分間攪拌した。反応液に氷水１０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（３５−１）で示される化合物２４０ｍｇを得た。
引き続いて、室温にて式（３５−１）で示される化合物２４０ｍｇ、炭酸セシウム２００ｍｇと２，３−ジクロロー5−トリフルオロメチルピリジン１１８ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２mlに溶解した。得られた反応液を７０℃まで加熱して、２時間攪拌した。得られた反応液を酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、式（１−４０）で示される化合物８０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６８（１Ｈ，ｓ），８．２４（１Ｈ，ｄｄ），８．００（１Ｈ，ｄ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２８−７．２６(１Ｈ，ｍ)，７．１４−７．０３（３Ｈ，ｍ）、６．３３(１Ｈ，ｓ)，３．３１（２Ｈ，ｔ），２．７９−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．２６（５Ｈ，ｍ），１．９４−１．８９（２Ｈ，ｍ），１．１０（３Ｈ，ｄｔ）

製造例１−２６：式（１−７５）で示される化合物の製造
＜式７−２０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（７−２０）で示される化合物１０ｇを酢酸３３ｍｌに溶解した。得られた混合液に３５％硫酸１００ｍｌを加えた。その後、得られた反応混合液を０℃まで冷却した後、亜硝酸ナトリウム３．３ｇと水２５ｍｌとの混合物を滴下し、０℃にて１０分間攪拌した。
その後、得られた反応液を、硫化ナトリウム１５ｇと硫黄２ｇと水酸化ナトリウム３．３ｇとを６０℃にて水１００ｍｌに溶解した混合物に滴下し、３０分間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出、１０％塩酸水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧乾燥し、ジエチルエーテル３００ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、０℃にてリチウムアルミニウムハイドライド１．８ｇを加え、その後、室温下、１時間攪拌した。得られた反応混合液へ１０％塩酸水を５００ｍｌ加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して、式（１０−１７）で示される化合物の粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１０−１７）で示される化合物３．１ｇを得た。
その後、室温にて、式（１０−１７）で示される化合物３．０ｇおよびテトラヒドロフラン１０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物を０℃まで冷却した後、そこにアクロレイン１．０５ｇとトリエチルアミン０．１ｇを滴下した。得られた混合物を氷冷下２時間攪拌した。その後、得られた混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、式（９−２０）で示される化合物１．２ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−２０）で示される化合物１．２ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１．４ｇをクロロホルム５ｍｌに溶解した。得られた溶液を０℃で、８時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−２０）で示される化合物３４０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６６(２Ｈ，ｄ)，７．３２(２Ｈ，ｄ)，６．７８（１Ｈ，ｄｔ），６．１４（１Ｈ，ｄ），３．１２（２Ｈ，ｔ），２．６１（２Ｈ，ｑ），２．２５（３Ｈ，ｓ）

＜式６−２０で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２２０ｇおよび式（８−１）で示される化合物１５０ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−２０）で示される化合物３４０ｍｇを加えた。その後、得られた混合液を３０分間加熱還流した。得られた反応液を０℃まで冷却し、ヘキサンを加え、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次洗浄し、式（６−２０）で示される化合物４６０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．８０（２Ｈ，ｄ），７．４４（２Ｈ，ｄ），４．３９（１Ｈ，ｓ），３．６５−３．４８（４Ｈ，ｍ），３．１７−３．１０（１Ｈ，ｍ），２．９９−２．９１（１Ｈ，ｍ），２．８３（１Ｈ，ｄ），２．３２−２．２５（１Ｈ，ｍ），２．１５−２．０３（１Ｈ，ｍ），１．８５−１．７４（１Ｈ，ｍ），１．５３−１．４７（１Ｈ，ｍ）

＜式１−７５で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−２０）で示される化合物４６０ｍｇを水１０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム３２３ｍｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した後、水層に２Ｎ塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−２０）で示される化合物４００ｍｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２０）で示される化合物４００ｍｇおよびジメチルアミピリジン６２０ｍｇをクロロホルム３ｍｌとトルエン１ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物６００ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−７５）で示される化合物１５０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６６（２Ｈ，ｄ），７．３２（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５７（１Ｈ，ｓ），３．１３−３．０１（２Ｈ，ｍ），２．７７−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．４９−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８８（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｄｄｄ）

製造例１−２７：式（１−２３）で示される化合物の製造
＜式２１−１で示される化合物の製造＞

室温にて式（１０−１）で示される化合物１０ｇをジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解した。得られた混合液に室温にてトリエチルアミン５．７ｇを加え、超音波をかけながら６時間攪拌した。得られた反応混合液をｔｅｒｔ−メチルエチルエーテルで抽出し、得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（２１−１）で示される化合物９．３ｇを得た。（無色固体）
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６０−７．５３（８H, ｍ）

＜式１３−３で示される化合物の製造＞

式（１１−２）で示される化合物５ｇと式（２１−１）で示される化合物９．３ｇとをテトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解した。窒素雰囲気下、室温にて、得られた混合液にトリブチルホスフィン５．８ｇを滴下し、２時間攪拌した。得られた反応混合液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１３−３）で示される化合物４．５ｇを得た。(無色固体)
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５０（２Ｈ，ｄ）、７．４１（２Ｈ，ｄ）、３．５８（２Ｈ，ｓ），３．１７（２Ｈ，ｓ），０．５８（４Ｈ，ｓ）

＜式７−２１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、塩化オキサリル２．５ｇと塩化メチレン４５mlとの混合液を−７８℃まで冷却した後、ジメチルスルホキシド２．７ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を滴下し、１０分間攪拌した。その後、得られた混合液に式（１３−３）で示される化合物４．５ｇの塩化メチレン５ｍｌ溶液を滴下し、３０分間攪拌した。その後、得られた混合液にトリエチルアミン８．８ｇを加え、室温まで昇温し、３時間攪拌した。得られた反応液を１Ｎ塩酸水６０ｍｌに注ぎ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して式（９−２１）で示される化合物の粗生成物４．５ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（９−２１）で示される化合物の粗生成物４．５ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン６．１ｇをキシレン４５ｍｌに溶解した。得られた反応混合溶液を８時間加熱還流した。その後、得られた反応液を減圧下、キシレンを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。続いて、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−２１）で示される化合物３．８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｄ），７．３５（２Ｈ，ｄ），６．４９（１Ｈ，ｄ），６．１７（１Ｈ，ｄ），３．１９（２Ｈ，ｓ），２．２２（３Ｈ，ｓ），１．１０−１．００（４Ｈ，ｍ）

＜式６−２１で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液２．７ｇおよび式（８−１）で示される化合物１．８ｇを１，４−ジオキサン３０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−２１）で示される化合物３．８ｇを加えた。その後、得られた混合液を１時間加熱還流した。得られた反応液を０℃まで冷却し、ヘキサンを加え、析出した結晶をろ過して、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次洗浄し、式（６−２１）で示される化合物４．５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６２（２Ｈ，ｄ），７．４５（２Ｈ，ｄ），４．４２（１Ｈ，ｓ），３．５７（３Ｈ，ｓ），３．３９−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．２３（１Ｈ，ｄ），３．０７（１Ｈ，ｄ)，２．３２（１Ｈ，ｔ），１．９３（１Ｈ，ｄｄ），１．７６（１Ｈ，ｔｄ），０．４６−０．３４（４Ｈ，ｍ）

＜式１−２３で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−２１）で示される化合物４．５ｇを水１００ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム３．３７ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した後、水層に２Ｎ塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮し、式（２−２１）で示される化合物の粗生成物３．４ｇを得た。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２１）で示される化合物の粗生成物１．７５ｇおよびジメチルアミピリジン３．１３ｇをクロロホルム１４ｍｌとトルエン４ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物３ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−２３）で示される化合物１．９ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５２（２Ｈ，ｄ）、７．３５（２Ｈ，ｄ）、６．９７（２Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｓ），３．１２（２Ｈ，ｄｄ），２．６５−２．５８（３Ｈ，ｍ），２．４６−２．１３（９Ｈ，ｍ），１．０７（６Ｈ，ｔ），０．６４（４Ｈ，ｓ）

製造例１−２８：式（１−３６）で示される化合物の製造
＜式２７−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、塩化オキサリル８．６ｇと塩化メチレン１５０mlとの混合液を−７８℃まで冷却した後、得られた混合液にジメチルスルホキシド９．４ｇの塩化メチレン６０ｍｌ溶液を滴下し、１０分間攪拌した。その後、得られた混合液に式（２８−１）で示される化合物１０ｇの塩化メチレン２０ｍｌ溶液を滴下し、３０分間攪拌した。その後、得られた混合液にトリエチルアミン３０．４ｇを加え、室温まで昇温し、１時間攪拌した。得られた反応液を１Ｎ塩酸水２００ｍｌに注ぎ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して式（２９−１）で示される化合物の粗生成物９．８ｇを得た。
引き続き、室温にて、式（２９−１）で示される化合物の粗生成物９．８ｇおよび１−トリフェニルホスホラニリデン−２−プロパノン２２．６ｇをクロロホルム８０ｍｌに溶解した。得られた反応混合溶液を８時間加熱還流した。その後、得られた反応液を減圧下、クロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。続いて、得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（２７−１）で示される化合物７．４ｇを得た(無色油状物質)。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３８−７．２６（５Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｄｔ），６．１３（１Ｈ，ｄｔ），４．５１（２Ｈ，ｓ），３．６３−３．５７（２Ｈ，ｍ），２．５３（２Ｈ，ｄｄｄ），２．２４（３Ｈ，ｓ）

＜式２５−１で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液７．７ｇおよび式（８−１）で示される化合物５．３ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した。得られた溶液を１５分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（２７−１）で示される化合物７．４ｇを加えた。その後、得られた混合液を１時間加熱還流した。得られた反応液を０℃まで冷却し、ヘキサンを加え、析出した結晶をろ過して、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルとヘキサンとで順次洗浄し、式（２５−１）で示される化合物７．２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３７−７．２６（５Ｈ，ｍ），４．５０−４．３８（３Ｈ，ｍ），３．５９（３Ｈ，ｓ），３．４３−３．４０（３Ｈ， ｍ）,２．８４（１Ｈ，ｄ），２．３２−２．２４（１Ｈ，ｍ），２．０８（１Ｈ，ｄｄ），１．７６（１Ｈ，ｄｄ），１．５７−１．３６（２Ｈ，ｍ）

＜式２４−１で示される化合物の製造＞

室温にて、式（２５−１）で示される化合物３ｇを水９０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム２．９ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した後、水層に２Ｎ塩酸を加えて酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮し、式（２６−１）で示される化合物の粗生成物２ｇを得た(黄色固体)。
続いて、窒素雰囲気下、室温にて、式（２６−１）で示される化合物の粗生成物７３０ｍｇおよびジメチルアミピリジン１．８ｇをクロロホルム８ｍｌとトルエン２ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．７ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、式（２４−１）で示される化合物８９０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３９−７．２７（５H, ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．７０（１Ｈ，ｓ），４．５３（２H, s）、３．６２−３．５３（２Ｈ，ｍ），２．６９−２．６２（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８３−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．０８（６Ｈ，ｄｄｄ）

＜式２３−１で示される化合物の製造＞

式（２４−１）で示される化合物４．５ｇにトリエチルアミン１．８ｇの無水テトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を添加した。得られた混合物に氷冷下アセチルクロライド１．８ｇの無水テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を添加した。得られた混合物を室温下１２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、それをクロロホルムで抽出した。抽出したクロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（２３−１）で示される化合物３．７ｇを得た（無色油状物質）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３５−７．２４（５Ｈ，ｍ），６．８８（２Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，ｄｄ），３．５６（２Ｈ，ｔ），２．７２−２．２８（１２Ｈ，ｍ），１．８６−１．７３（５Ｈ，ｍ），１．１２−１．０３（６Ｈ，ｍ）

＜式２３−１で示される化合物の製造＞

式（２３−１）で示される化合物３．７ｇを酢酸エチル１５０ｍｌに溶解した。得られた混合液へ10％パラジウム炭素１．５ｇを加え、水素下、３５℃で４時間攪拌した。
得られた反応混合液をセライト（登録商標）ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、式（２２−１）で示される化合物２．４ｇを得た（無色固体）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．８９（２Ｈ，ｓ），３．７９（２Ｈ，ｄ），２．７９−２．６９（３Ｈ，ｍ），２．６０−２．５３（１Ｈ，ｍ），２．４２−２．２５（７Ｈ，ｍ），１．８８（３Ｈ，ｓ），１．８２−１．７３（２Ｈ，ｍ），１．６３−１．６１（２Ｈ，ｍ），１．０７（６Ｈ，ｑ）

＜式１−３６で示される化合物の製造＞

式（２２−１）で示される化合物３４４ｍｇと式（２１−２）で示される化合物２２７ｍｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解した。窒素雰囲気下、室温にて、得られた混合液にトリブチルホフィン２２３ｍｇを滴下し、２時間攪拌した。得られた反応混合液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−３６）で示される化合物４００ｍｇを得た。(無色油状物質)
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２９（１Ｈ，ｄ），６．９６（２Ｈ，ｓ），６．３４（１Ｈ，ｄ），５．８８（１Ｈ，ｓ），２．７１−２．６０（４Ｈ，ｍ），２．４４−２．１６（１３Ｈ，ｍ），１．７０（２Ｈ，ｄｄ），１．１０−１．０１（６Ｈ，ｍ）

製造例１−２９：式（１−３３）で示される化合物の製造
＜式１−３３で示される化合物の製造＞

式（２２−１）で示される化合物３４４ｍｇと式（２１−３）で示される化合物１２１ｍｇとをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解した。窒素雰囲気下、室温にて、得られた混合液にトリブチルホフィン１２１ｍｇを滴下し、２時間攪拌した。得られた反応混合液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、式（１−３３）で示される化合物８０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．４１（２Ｈ，ｄｄ），７．１３（２Ｈ，ｄｄ），６．９０（１Ｈ，ｓ）、３．０８（２Ｈ，ｔ），２．８２−２．６７（３Ｈ，ｍ），２．５８−２．２４（９Ｈ，ｍ），１．９５−１．８４（３Ｈ，ｍ），１．１３−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３０：式（１−７６）で示される化合物の製造
＜式１−７６で示される化合物の製造＞

式（２２−１）で示される化合物１７２ｍｇと式（２１−４）で示される化合物１２４ｍｇをテトラヒドロフラン２．５ｍｌに溶解した。窒素雰囲気下、室温にて、得られた混合液にトリブチルホスフィン０．１４ｍｌを滴下し、２時間攪拌した。得られた反応混合液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：3→1：2→1：1）に付し、式（１−７６）で示される化合物１６０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２６−７．２２（２Ｈ，ｍ）、６．９７（２Ｈ，ｓ）、６．６１（２Ｈ，ｄｔ），２．８６−２．８２（２Ｈ，ｍ），２．６７−２．５９（２Ｈ，ｍ），２．４４−２．１８（１０Ｈ，ｍ），１．７３（２Ｈ，ｄｄ），１．１１−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３１：式（１−７７）で示される化合物の製造
＜式１−７７で示される化合物の製造＞

式（２２−１）で示される化合物３４４ｍｇと式（２１−５）で示される化合物４５６ｍｇとをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解した。窒素雰囲気下、室温にて、得られた混合液にトリブチルホフィン１１１ｍｇを滴下し、２時間攪拌した。得られた反応混合液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４→1：2）に付し、式（１−７７）で示される化合物２１０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．４０（１Ｈ，ｓ），８．６１（１Ｈ，ｄｄ），７．９８−７．９５（２Ｈ，ｍ)，７．６１−７．５１（４Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｔｄ），７．１１（１Ｈ，ｔｄ）、６．８７（２Ｈ，ｓ），２．８７−２．８３（２Ｈ，ｍ），２．６８−２．５４（３Ｈ，ｍ），２．４６−２．２２（９Ｈ，ｍ），１．８５（３Ｈ，ｓ），１．７９−１．７３（２Ｈ，ｍ），１．０４（６Ｈ，ｄｔ）

製造例１−３２：式（１−７８）で示される化合物の製造
＜式１−７８で示される化合物の製造＞

室温下、式（１−７７）で示される化合物１５０ｍｇをメタノール２０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１００ｍｇを加え、１時間攪拌した。得られた反応液を減圧濃縮して、式（１−７８）で示される化合物の粗生成物を得た。その後、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−７８）で示される化合物１６０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．３９（１Ｈ，ｓ），８．５９（１Ｈ，ｄｄ，７．９５（２Ｈ、ｍ），７．６０−７．５１（４Ｈ、ｍ），７．４４−７．３９（１Ｈ，ｍ），７．１１（１Ｈ，ｔｄ），６．９４（２Ｈ，ｓ），５．９１（１Ｈ，ｓ），２．８８−２．８３（２Ｈ，ｍ），２．６０−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．３２−２．１５（９Ｈ，ｍ），１．７６−１．７１（２H, m），１．０６−０．９７（６Ｈ，ｄｔ）

製造例１−３３：式（１−９７）で示される化合物の製造
＜式３１−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、０℃にて、テトラメチレンジアミン３．２ｍｌにｎ−ブチルリチウム１６ｍｌ（１．６Ｍヘキサン溶液）を加え、１０分間攪拌した。その後、０℃氷冷下、式(３２−１)で示される化合物５ｇを加えた。その後、得られた溶液を−７８℃まで冷却した後、トリクロロビスマス２．３ｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ懸濁液を加え、室温まで昇温しながら１時間攪拌した。その後、得られた反応液に水２０ｍｌを加え、水層をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して、式（３３−１）で示される化合物の粗生成物２．６ｇを得た。
続いて、室温下、得られた式（３３−１）の粗生成物２．６ｇを脱水クロロホルム２５ｍｌに溶解し、０℃へ冷却した後、塩化スルフリル０．４ｍｌを加えた。その後室温まで昇温し、１時間攪拌した。得られた反応液を減圧濃縮し、得られた油状物質にヘキサンを加え、結晶を析出させ、ろ過することにより、式（３１−１）で示される化合物１．３ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．００（１Ｈ，ｄｄ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．５４−７．４６（２Ｈ，ｍ），３．０３（２Ｈ，ｑ），１．３８（３Ｈ，ｔ）

＜１−９７で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（３１−１）で示される化合物５５０ｍｇおよび式（２−９）で示される化合物２９０ｍｇをクロロホルム１ｍｌとトルエン４ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液にジアザビシクロウンデセン０．１７ｍｌを加えた。窒素雰囲気下、室温にて得られた混合物を１２時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈した。得られた希釈液を、ｐＨ１〜２に調整した塩酸水で洗浄し、続いて飽和食塩水で洗浄した。その後、得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過して、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−９７）で示される化合物２４０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．３６−７．２３（４Ｈ，ｍ），７．０４−７．０１（１Ｈ，ｍ），５．９１−５．８７（１Ｈ，ｍ），３．６１−３．５１（１Ｈ，ｍ），３．０８−２．９８（１Ｈ，ｍ），２．７４−２．２８（７Ｈ，ｍ），２．０４−１．９５（１Ｈ，ｍ），１．１７−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３４：式（１−１９）で示される化合物の製造
＜式１−１９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１−１）で示される化合物２５０ｍｇにクロロホルム３ｍｌを加えた。得られた混合物を攪拌しながら０℃まで冷却し、そこにメタクロロ過安息香酸１２０ｍｇをクロロホルム２ｍｌに溶解して得られた混合液を滴下した。得られた混合物を１時間攪拌した。その後、得られた混合物を室温まで加温し、室温で終夜攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈して、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液で洗浄した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝９：１）に付し、式（１−１９）で示される化合物１５４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．８３−７．７５（４Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ， ｓ），３．０３−２．９４（１Ｈ，ｍ），２．８９−２．６２（３Ｈ， ｍ），２．４６−２．１９（１０Ｈ，ｍ），２．１３−１．７８（２Ｈ，ｍ），１．０８−１．００（６Ｈ， ｍ）

製造例１−３４に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−７９で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：１１．５１（１Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｄ），８．０５（２Ｈ，ｄ），７．６０−７．５０（４Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｄ），７．１９（１Ｈ，ｔ），６．９４（２Ｈ，ｓ），５．８２（１Ｈ，ｓ），３．３４−３．２４（１Ｈ，ｍ），３．０９−３．０１（１Ｈ，ｍ），２．６２−２．５５（２Ｈ，ｍ），２．３６−２．１４（１０Ｈ，ｍ），１．９６−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．０５−１．０１（６Ｈ，ｍ）
＜１−８１で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．８３−７．７７（４Ｈ，ｍ），６．９０−６．８８（２Ｈ，ｍ），２．９９−２．１９（１５Ｈ，ｍ），１．３５−１．０２（９Ｈ，ｍ）
＜１−８３で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：８．８９（１Ｈ，ｓ），８．２３−８．１６（２Ｈ，ｍ），６．９６（２Ｈ，ｄ），３．３６−３．２８（１Ｈ、ｍ）、３．０１−２．８４（１Ｈ、ｍ）、２．７０−２．２１（１３Ｈ，ｍ），１．３７-１．１７（３Ｈ，ｍ），１．１１−１．０３（６Ｈ，ｍ）
＜１−８５で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：８．９９（１Ｈ，ｓ），８．０４（１Ｈ，ｓ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．７８(１Ｈ，ｓ)，３．２１−３．１３（２Ｈ，ｍ），２．７６−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．４８−１．８２（１２Ｈ，ｍ），１．０６−１．０２（６Ｈ，ｍ）
＜１−８７で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．８０（４Ｈ，ｄｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），３．００−２．９２（１Ｈ，ｍ），２．７６−２．２２（１３Ｈ，ｍ），１．３６−１．３３（６Ｈ，ｍ）、１．１１−１．０５（６Ｈ，ｍ）
＜１−８９で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：８．９０（１Ｈ，ｓ），８．２４−８．１８（２Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ）、２．８９（１Ｈ，ｄｄ），２．７６−２．６７（２Ｈ、ｍ），２．５７−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．４０−１．３５（６Ｈ，ｍ），１．１１−１．０５（６Ｈ，ｍ）
＜１−９１で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．８４−７．７６（４Ｈ，ｍ），６．９８（１Ｈ，ｓ），５．８６（１Ｈ，ｓ），２．９５−２．２５（１４Ｈ，ｍ），１．１１−１．０６（６Ｈ，ｍ），１．００−０．９４（１Ｈ，ｍ），０．８６−０．７４（２Ｈ，ｓ），０．６４−０．５９（１Ｈ，ｓ）
＜１−９８で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ ：７．９６−７．９３（４Ｈ，ｍ），６．９２（１Ｈ，ｄ），３．０１−２．８４（２Ｈ，ｍ），２．６６−２．２６（１０Ｈ，ｍ），２．０９−１．９７（６Ｈ，ｍ），１．４０−１．１５（３Ｈ，ｍ）
＜式１−１５４で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．９０（１Ｈ，ｓ），８．２４（１Ｈ，ｄｔ），８．１８（１Ｈ，ｄｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｄ），３．３５−３．１９（１Ｈ，ｍ），３．１１−２．９９（１Ｈ，ｍ），２．７３−２．６４（２Ｈ，ｍ），２．４４−２．２３（１２Ｈ，ｍ），１．０８−１．０３（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１５６で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．２１（１Ｈ，ｓ），８．５５（１Ｈ，ｄ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．４８（１Ｈ，ｄ），４．００（３Ｈ，ｓ），３．３４−３．２４（１Ｈ，ｍ），３．１１−３．００（１Ｈ，ｍ），２．６８−２．６３（２Ｈ，ｍ），２．３８−２．０６（１２Ｈ，ｍ），１．０８−１．０１（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１５８で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．７６（１Ｈ，ｄ），７．７９（１Ｈ，ｄ），７．４５（１Ｈ，ｄｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｄ），３．１８−３．１４（２Ｈ，ｍ），２．７２−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．２４（１１Ｈ，ｍ），２．０５−２．０１（１Ｈ，ｍ），１．０９−１．０２（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１５９で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．３３（１Ｈ，ｄ），８．９８（１Ｈ，ｓ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｄ），３．３６−３．２８（１Ｈ，ｍ），３．２０−３．１１（１Ｈ，ｍ），２．７５−２．６６（２Ｈ，ｍ），２．４９−２．２０（１１Ｈ，ｍ），１．８４−１．６３（１Ｈ，ｍ），１．０８−１．０１（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１６５で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．３９（１Ｈ，ｄｄ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５２（１Ｈ，ｄ），３．４９−３．４２（１Ｈ，ｍ），３．２７−３．２０（１Ｈ，ｍ），２．７４−２．６４（２Ｈ，ｍ），２．４６−２．１４（１１Ｈ，ｍ），１．７６−１．６６（１Ｈ，ｍ），１．０８−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３５：式（１−２０）で示される化合物の製造
＜式１−２０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１−１）で示される化合物２５０ｍｇにクロロホルム３ｍｌを加えた。得られた混合物を撹拌しながら０℃まで冷却し、そこにメタクロロ過安息香酸４４０ｍｇをクロロホルム２ｍｌに溶解して得られた混合液を滴下した。得られた混合物を１時間攪拌した。その後、得られた混合物を室温まで加温し、室温で終夜攪拌した。反応液をクロロホルムで希釈して、得られた希釈液を１０％亜硫酸ナトリウム水溶液で洗浄した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、式（１−２０）で示される化合物１５４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．０８（２Ｈ，ｄ），７．８８（２Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５２（１Ｈ，ｓ），３．２７−３．１５（２Ｈ，ｍ），２．７３−２．６０（２Ｈ，ｍ），２．４５−２．２１（１０Ｈ，ｍ），２．０２−１．９０（２Ｈ，ｍ），１．０８―１．００（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３５に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−８０で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：１０．４６（１Ｈ，ｓ），８．６９（１Ｈ，ｄ），８．０５−７．９１（２Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｔｄ），７．６４−７．５２（４Ｈ，ｍ），７．３４（１Ｈ，ｔｄ），６．９５（２Ｈ，ｓ），３．２６−３．１６（２Ｈ，ｍ），２．６１−２．５２（２Ｈ，ｍ），２．３５−２．１１（１０Ｈ，ｍ），１．９３−１．８７（２Ｈ，ｍ），１．０３（６Ｈ，ｄｄ）
＜式１−８２で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．０９（２Ｈ，ｄ），７．８８（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），３．２８−２．９９（２Ｈ，ｍ），２．６１−２．２１（１３Ｈ，ｍ），１．２８−１．２２（３Ｈ，ｍ），１．０８―１．０４（６Ｈ，ｍ）
＜式１−８４で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：９．０２（１Ｈ，ｓ），８．２７（２Ｈ，ｓ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．６７（１Ｈ，ｓ），３．６９（１Ｈ，ｄｔ），３．３２（１Ｈ，ｄｄｄ），２．６６−２．２１（１３Ｈ，ｍ），１．２８−１．２４（３Ｈ，ｍ），１．１０―１．０２（６Ｈ，ｍ）
＜式１−８６で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．７９（１Ｈ，ｓ），８．１８（１Ｈ，ｓ），６．９９（２Ｈ，ｓ），３．８６−３．６６（２Ｈ，ｍ），２．８６−２．７２（２Ｈ，ｍ），２．５４−２．０９（１２Ｈ，ｍ），１．１０―１．０１（６Ｈ，ｍ）
＜式１−８８で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．０９（２Ｈ，ｄ），７．８６（２Ｈ，ｄ），６．９９（２Ｈ，ｄ），３．１１（２Ｈ，ｄｄ），２．６８−２．２４（１２Ｈ，ｍ），１．３５（６Ｈ，ｄ）、１．０８（６Ｈ，ｄｔ）
＜式１−９０で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：９．０１（１Ｈ，ｓ）、８．２７−８．２２（２Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），３．５９−３．４９（２Ｈ，ｍ），２．５９−２．４８（２Ｈ，ｍ），２．５９−２．４８（２Ｈ，ｍ），２．４２−２．２７（８Ｈ，ｍ）、１．３３−１．２７（６Ｈ、ｍ）、１．０８（６Ｈ，ｔｄ）
＜式１−９２で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．０８（２Ｈ，ｄ）、７．８６（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｄ），５．８６（１Ｈ，ｓ）、３．２６−３．０８（２Ｈ，ｍ），２．８８−２．７３（１Ｈ，ｍ），２．６８−２．５２（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．１７（９Ｈ，ｍ）、１．１２−１．０５（６Ｈ、ｍ）、０．８３−０．５３（４Ｈ，ｍ）
＜式１−９９で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δｐｐｍ：８．０９（２Ｈ，ｄ）、７．８８（２Ｈ，ｄ），６．９３（２Ｈ，ｓ），５．５９（１Ｈ，ｓ）、３．２３（１Ｈ，ｔｄ），３．０５−２．９８（１Ｈ，ｍ），２．５９−２．２３（９Ｈ，ｍ），２．０６−１．９７（６Ｈ，ｍ）、１．２１（３Ｈ，ｄｔ）

製造例１−３６：式（１−５９）で示される化合物の製造
＜式１−５９で示される化合物の製造＞

式（１−４）で示される化合物５００ｍｇにトリエチルアミン１７５ｍｇの無水テトラヒドロフラン３ｍｌ溶液を添加した。得られた混合物に氷冷下アセチルクロライド１７０ｍｇの無水テトラヒドロフラン１ｍｌ溶液を添加した。得られた混合物を室温下１２時間攪拌した。反応混合物に水５ｍｌを加え、それをクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）に付し、式（１−５９）で示される化合物５３０ｍｇを得た（無色油状物質）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．８９(２Ｈ，ｓ)，３．３０（２Ｈ，ｔ），２．８４−２．２５（１２Ｈ，ｍ），１．９８−１．８９（５Ｈ，ｍ），１．０９−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３６に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−６０で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．８８(２Ｈ，ｓ)，３．３１（２Ｈ，ｔ），２．７７−２．２３（１２Ｈ，ｍ），２．１７−２．１１（２Ｈ，ｍ），１．９８−１．８８（２H，ｍ），１．０５（６Ｈ，ｄｄｄ）、０．８４（３H，ｔ）
＜式１−６１で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．８７(２Ｈ，ｓ)，３．３１（２Ｈ，ｔｄ），２．８４−２．２５（１２Ｈ，ｍ），１．９４（２Ｈ，ｄｔ），１．０５（６H，ｄｔ），０．８８（９Ｈ，ｓ）
＜式１−６２で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９０(２Ｈ，ｓ)，３．７０（３Ｈ，ｓ），３．３１（２Ｈ，ｔ），２．９２−２．２６（１２Ｈ，ｍ），１．９９−１．８９（２Ｈ，ｍ），１．０９−１．０２（６Ｈ，ｍ）
＜式１−６３で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９０(２Ｈ，ｓ)，４．１２−４．０７（２Ｈ，ｍ），３．３４−３．２７（２Ｈ，ｍ），２．９１−２．２７（１２Ｈ，ｍ），１．９９−１．８８（２Ｈ，ｍ），１．１８（３Ｈ，ｔ），１．０９−１．００（６Ｈ，ｍ）
＜式１−６６で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２６（１Ｈ，ｄ），６．９０(２Ｈ，ｓ)，５．８０−５．７１（１Ｈ，ｍ），５．２１−５．１５（２Ｈ，ｍ），４．５２−４．５０（２Ｈ，ｍ），３．３０（２Ｈ，ｔ），２．８２−２．２６（１２Ｈ，ｍ），１．９７−１．８８（２Ｈ，ｍ），１．０９−１．００（６Ｈ，ｍ）
＜式１−６７で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｔ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．３５−７．１８（４Ｈ，ｍ），６．９５(２Ｈ，ｓ)，６．８７−６．８３（２Ｈ，ｍ），３．３１（２Ｈ，ｔ），２．９９−２．２９（１２Ｈ，ｍ），２．００−１．９０（２Ｈ，ｍ），１．０８−１．０３（６Ｈ，ｍ）
＜式１−６８で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６９（１Ｈ，ｔ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９３(２Ｈ，ｓ)，３．６６−３．２７（２Ｈ，ｍ），３．０６（１Ｈ，ｄｄ），２．８４−２．７６（２Ｈ，ｍ），２．５６−２．２６（１２Ｈ，ｍ），１．９９−１．８８（２Ｈ，ｍ），１．１４−１．０４（６Ｈ，ｍ）
＜式１−９３で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．９１（１Ｈ，ｓ），８．２４−８．１８（２Ｈ，ｍ），６．９０(２Ｈ，ｄ)，４．１３−４．０５（２Ｈ，ｍ），３．３３（１Ｈ，ｄｄｄ），３．０７−２．２４（１４Ｈ，ｍ），１．３９−１．０２（１２Ｈ，ｍ）

製造例１−３７：式（１−６４）で示される化合物の製造
＜式１−６４で示される化合物の製造＞

６０％水素化ナトリウム１１０ｍｇに無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌを添加した。得られた混合物に氷冷下、式（１−４）で示される化合物５００ｍｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌ溶液を滴下した。得られた混合物を氷冷下１０分間攪拌した後、そこにクロロメチル メチル エーテル２００ｍｇの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍｌ溶液を滴下し、得られた混合物を室温下２時間攪拌した。反応混合物に水５ｍｌを加え、それを酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−６４）で示される化合物２０８ｍｇを得た（黄色油状物質）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９０(２Ｈ，ｓ)，４．９８（２Ｈ，ｓ），３．３９−３．２２（５Ｈ，ｍ）、３．０３−２．２５（１２Ｈ，ｍ），１．９９−１．８９（２Ｈ，ｍ），１．０８−１．０２（６Ｈ，ｍ）

製造例１−３７に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−６５で示される化合物＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７（１Ｈ，ｄ），６．９１(２Ｈ，ｓ)，５．０５−４．９９（２H，ｍ）、３．５６−３．５１（２Ｈ，ｍ），３．３７−３．２８（２Ｈ，ｍ），３．０４−２．２３（１２Ｈ，ｍ），１．９７−１．９０（２H、ｍ）、１．１７−０．９９（９Ｈ，ｍ）

製造例１−３８：式（１−３０）で示される化合物の製造
＜式９−３０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−３０）で示される化合物７．１０ｇおよびテトラヒドロフラン６０ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物に９５％アクロレイン３．６４ｇとトリエチルアミン１．２１ｇを滴下した。得られた混合物を室温にて５．５時間攪拌した。その後、得られた反応液を減圧濃縮して、式（９−３０）で示される化合物９．３２ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．７８（１Ｈ，ｓ），７．６７（１Ｈ，ｄ），７．５４−７．４６（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．３１（１Ｈ，ｍ），３．２４（２Ｈ，ｔ），２．８０（２Ｈ，ｄｔ）

＜式７−３０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（９−３０）で示される化合物９．３２ｇをクロロホルム４０ｍｌに溶解した。得られた溶液に氷冷下トリフェニルホスフィンアセチルメチレン１６．５ｇを加えた。得られた溶液を室温にて、１７時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からクロロホルムを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−３０）で示される化合物９．７６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６７（１Ｈ，ｄ），７．５２−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．３４−７．３０（１Ｈ，ｍ）６．７９（１Ｈ，ｄｔ），６．１１（１Ｈ，ｄｔ），３．１０（２Ｈ，ｔ），２．５７（２Ｈ，ｑｄ），２．２４（３Ｈ，ｓ）

＜式６−３０で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液７．５５ｇおよび式（８−１）で示される化合物５．１７ｇをテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した。得られた溶液を１０分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−３０）で示される化合物９．７６ｇを加えた。その後、得られた混合液を２時間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ヘキサンで順次洗浄し、式（６−３０）で示される化合物６．８０ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．７０（１Ｈ，ｄ），７．６１（２Ｈ，ｄｄ），７．３６（１Ｈ，ｑ），４．３９（１Ｈ，ｓ），３．４７（３Ｈ，ｓ），３．１５−３．０８（１Ｈ，ｍ），３．００−２．９３（１Ｈ，ｍ），２．８３（１Ｈ，ｄ），２．３３−２．２３（１Ｈ，ｍ），２．１１（１Ｈ，ｄｄ），１．７７（１Ｈ，ｄｄ），１．５３−１．４４（２Ｈ，ｍ）

＜式１−３０で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−３０）で示される化合物６．８０ｇを水９０ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム５．７８ｇを加えた。得られた溶液を５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした。得られた反応液を酢酸エチルで抽出して、式（２−３０）で示される化合物６．０１ｇを得た。
窒素雰囲気下、室温にて、式（２−３０）で示される化合物５４１ｍｇおよびジメチルアミノピリジン１．０４ｇをクロロホルム５．０ｍｌとトルエン２．０ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物１．００ｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を７５℃で１．５時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（１−３０）で示される化合物３８７ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６７（１Ｈ，ｄ），７．４９（２Ｈ，ｔ），７．３２−７．２８（１Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．０７（２Ｈ，ｄｄｄ），２．６９（２Ｈ，ｔｄ），２．４８−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．８５（２Ｈ，ｑ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０５（３Ｈ，ｔ）

製造例１−３９：式（１−２９）で示される化合物の製造
＜式７−２９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１０−２９）で示される化合物５．０ｇおよびテトラヒドロフラン５６ｍｌを混合、攪拌し、得られた混合物に９５％アクロレイン２．５６ｇとトリエチルアミン８５２ｍｇを滴下した。得られた混合物を室温にて２時間攪拌した。その後、得られた反応液を減圧濃縮して、式（９−２９）で示される化合物６．６１ｇを得た。
室温にて、式（９−２９）で示される化合物６．６１ｇおよびトリフェニルホスフィンアセチルメチレン１１．６ｇをテトラヒドロフラン２８ｍｌに溶解した。得られた溶液を室温で、５時間攪拌した。その後、減圧下、得られた反応液からテトラヒドロフランを除去した。得られた残渣にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンを加えた。得られた混合物をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、式（７−２９）で示される化合物１．０１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５６（１Ｈ，ｓ），７．５１−７．４０（３Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄｔ），６．１３（１Ｈ，ｄｔ），３．１０（２Ｈ，ｔ），２．５９（２Ｈ，ｑｄ），２．２５（３Ｈ，ｓ）

＜式６−２９で示される化合物の製造＞

室温にて、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液７８１ｍｇおよび式（８−１）で示される化合物４６４ｍｇをテトラヒドロフラン７ｍｌに溶解した。得られた溶液を１０分間加熱還流した。その後、加熱をやめ、得られた反応混合物に式（７−２９）で示される化合物１．０１ｇを加えた。その後、得られた混合液を１時間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過により集め、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ヘキサンで順次洗浄し、式（６−２９）で示される化合物８７３ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５７−７．５１（４Ｈ，ｍ），４．３８（１Ｈ，ｓ），３．４５（３Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｍ），２．９６（１Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｄ），２．２８（１Ｈ，ｍ），２．１１（１Ｈ，ｄ），１．７５（１Ｈ，ｔ），１．４７（２Ｈ，ｍ）

＜式１−２９で示される化合物の製造＞

室温にて、式（６−２９）で示される化合物８７３ｍｇを水１２ｍｌに溶解した。得られた溶液に無水炭酸ナトリウム７４１ｍｇを加えた。得られた溶液を６．５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸を加えて酸性にした。得られた反応液を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を減圧濃縮し、得られた結晶をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびヘキサンで順次洗浄して式（２−２９）で示される化合物４３４ｍｇを得た。
窒素雰囲気下、室温にて、式（２−２９）で示される化合物４３０ｍｇおよびジメチルアミノピリジン８３１ｍｇをクロロホルム４ｍｌとトルエン１ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−１）で示される化合物７９５ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１５：８５）に付し、式（１−２９）で示される化合物１４４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５６（１Ｈ，ｓ），７．５０−７．４０（３Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．１０−３．０１（２Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．４７−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．８６（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４０：式（１−４１）で示される化合物の製造
＜式３−１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−パラジウム（ＩＩ）ジクロリド−ジクロロメタン錯体２．０４ｇ、炭酸セシウム４８．８ｇ、および式（５−１）で示される化合物１０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２５ｍｌに溶解した。得られた溶液に、トリエチルボラン３２．５ｍｌ（１．０Ｍ ヘキサン溶液）を滴下し、窒素雰囲気下、室温にて１６時間攪拌した。反応液をセライト（登録商標）濾過した後、ろ液に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルにて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた有機層を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９→１：９）に付し、式（３−１）で示される化合物３．１８ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．７８（２Ｈ，ｓ），３．４９（２Ｈ，ｓ），２．５１（２Ｈ，ｑ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．１６（３Ｈ，ｓ），１．２４（３Ｈ，ｔ）

＜式１１−４で示される化合物の製造＞

室温にて、式（１２−４）で示される化合物３．１８ｇを水２５ｍｌに溶解した。得られた溶液に４８％ 臭化水素酸２６．６ｍｌ加え、４０℃で１５分間攪拌した。得られた反応液に、０℃で２．３４Ｍ 亜硝酸ナトリウム水溶液１０ｍｌを滴下し、氷冷下２０分間攪拌した。得られた混合物を、硫酸銅（ＩＩ）五水和物３．１９ｇと銅（粉末）１．２７ｇとに４８％臭化水素酸２６．６ｍｌを加え０℃に冷却した混合物に、滴下した。得られた溶液を室温にて、３．５時間攪拌した。得られた反応液をセライト（登録商標）濾過し、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた有機層を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、ヘキサン）に付し、式（１１−４）で示される化合物１．９１ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９０（１Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｓ），２．７４（２Ｈ，ｑ），２．３８（３Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），１．２１（３Ｈ，ｔ）

＜式３−４で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（１１−４）で示される化合物１．９１ｇをテトラヒドロフラン２３ｍｌに溶解した。得られた溶液を−７８℃まで冷却し窒素雰囲気下、ｎ−ブチルリチウム（１．６３Ｍ ヘキサン溶液）を滴下した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４０℃で４時間攪拌した。得られた溶液を−７８℃まで冷却し、窒素雰囲気下トリメトキシボラン１．１２ｇを滴下し、室温にて２３時間攪拌した。得られた溶液を０℃まで冷却し、１Ｎ 塩酸を加えて酸性にした。得られた反応液をクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮後、濾過し残渣をヘキサンで洗浄することで、式（３−４）で示される化合物６５４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．８６（１Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｓ），４．５８（２Ｈ，ｄ），２．６３（２Ｈ，ｑ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．２９（３Ｈ，ｓ），１．２３（３Ｈ，ｔ）

＜式１−４１で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、四酢酸鉛１．８７ｇ、酢酸水銀５８．５ｍｇおよび式（５−４）で示される化合物６５４ｍｇをクロロホルム７ｍｌに溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、反応液を４５℃で４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質にヘキサンを加え、得られた混合物を減圧濃縮して黄色固体を得た。窒素雰囲気下、室温にて、得られた固体をクロロホルム１６ｍｌに溶解した。得られた溶液に炭酸カリウム６．０９ｇを加え、１５分間攪拌した。その後、反応液をセライト（登録商標）濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、式（３−４）で示される化合物２１ｇを得た。
窒素雰囲気下、室温にて、式（２−１）で示される化合物３３２ｍｇおよびジメチルアミノピリジン６４４ｍｇをクロロホルム３ｍｌとトルエン１ｍｌとの混合物に溶解した。得られた溶液を窒素雰囲気下、室温にて１５分間攪拌した。その後、窒素雰囲気下、得られた溶液に式（３−４）で示される化合物６００ｍｇを加えた。窒素雰囲気下、得られた混合物を２時間加熱還流した。得られた反応液を室温まで冷却し、２Ｎ塩酸でｐＨ１になるように調整し、セライト（登録商標）濾過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮して黄色油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：９→３：１７）に付し、式（１−４１）で示される化合物３６１ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３７（２Ｈ，ｄ），６．９６（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），３．１３−３．０３（２Ｈ，ｍ），２．７１（２Ｈ，ｔ），２．４７−２．２５（８Ｈ，ｍ），２．０６−２．００（３Ｈ，ｍ），１．９０−１．８５（２Ｈ，ｍ），１．１０−１．０２（３Ｈ，ｍ）

製造例１−４０に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−１２８で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５３（２Ｈ，ｄ），７．３７（３Ｈ，ｄ），７．２３−７．１２（３Ｈ，ｍ），３．０５（２Ｈ，ｔｄ），２．６９（２Ｈ，ｄ），２．４７−２．３０（３Ｈ，ｍ），１．８７−１．８１（２Ｈ，ｍ）
＜式１−１６７で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５５−７．４９（３Ｈ，ｍ），７．３８−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．１９−７．１４（１Ｈ，ｍ），５．６２（１Ｈ，ｓ），３．０７−３．０６（２Ｈ，ｍ），２．７２−２．６３（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．２１（３Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｄｔ）
＜式１−１６８で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｓ），７．７０−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．３８（１Ｈ，ｔｔ），７．２９−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｄｄｄ），５．５８（１Ｈ，ｄ），３．３１（２Ｈ，ｔ），２．８１−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．２４（３Ｈ，ｍ），１．９７−１．８８（２Ｈ，ｍ）
＜式１−１７０で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６３（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ），７．２５（１Ｈ，ｄ），６．６１（２Ｈ，ｓ），３．２５−３．２１（２Ｈ，ｍ），２．６９（２Ｈ，ｄ），２．３７−２．３１（３Ｈ，ｍ），１．８６−１．８３（２Ｈ，ｍ）
＜式１−１７１で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６９（１Ｈ，ｄｄｄ），７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３８（３Ｈ，ｄ），７．２８−７．１３（２Ｈ，ｍ），５．５８（１Ｈ，ｓ），３．０７（２Ｈ，ｑ），２．７７−２．２５（５Ｈ，ｍ），１．９１−１．８５（２Ｈ，ｍ）

製造例１−４１：式（１−１０５）で示される化合物の製造
＜式３１−２で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて式（３２−２）で示される化合物２．５２ｇをテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解した。得られた溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム1０ml（１．６Ｍヘキサン溶液）を加え、１時間攪拌した。その後、トリクロロビスマス１．４４ｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ懸濁液を加え、室温まで昇温しながら約１時間攪拌した。得られた反応液へ水２０ｍｌを加え、セライト（登録商標）濾過した。ろ液をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して、式（３３−２）で示される化合物の粗生成物２．１８ｇを得た。
続いて、室温下、得られた式（３３−２）で示される化合物の粗生成物２．１８ｇを脱水クロロホルム５ｍｌに溶解し、０℃まで冷却した後、塩化スルフリル０．５５ｍｌを加えた。その後室温まで昇温し、３０分間攪拌した。得られた反応液にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを加え結晶を析出させた後、減圧濃縮し、ろ過することにより、式（３１−２）で示される化合物１．８６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ‐ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：８．０３（３Ｈ，ｄｄ）、７．６２（３Ｈ，ｔ）、７．５１（３Ｈ，ｄ）、７．３４（３Ｈ，ｔ）、３．８２（９Ｈ，ｓ）

＜１−１０５で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−９）で示される化合物４７５ｍｇ、１,８‐ジアザビシクロ[５.４.０]ウンデカ‐７‐エン２７４ｍｇ、および式（３１−２）で示される化合物１，０８ｇをクロロホルム１ｍｌとトルエン５ｍｌとの混合物に溶解し、窒素雰囲気下、室温にて２４時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈し、ｐＨ１〜２に調整した塩酸水で洗浄し、続いて飽和食塩水で洗浄した。その後、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過して、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：９→３：７）に付し、式（１−１０５）で示される化合物７２．４ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５３（２Ｈ，ｄ），７．３８−７．３４（３Ｈ，ｍ），７．１４−６．９８（３Ｈ，ｍ），６．３０（１Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．１０−３．０２（２Ｈ，ｍ），２．７３−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．３１−２．２４（１Ｈ，ｍ），１．８８−１．８２（２Ｈ，ｍ）

製造例１−４２：式（１−９６）で示される化合物の製造
＜式３１−３で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて式（３２−３）で示される化合物３．２０ｇをテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解した。得られた溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム1０ml（１．６Ｍヘキサン溶液）を加え、１時間攪拌した。その後、テトラヒドロフラン１０ｍｌに懸濁したトリクロロビスマス１．４４ｇ溶液を加え、室温まで昇温しながら１時間攪拌した。得られた反応液へ水２０ｍｌを加え、水層をクロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して、式（３３−３）で示される化合物の粗生成物３．０７ｇを得た。
続いて、室温下、得られた式（３３−３）で示される化合物の粗生成物３．０７ｇを脱水クロロホルム５ｍｌに溶解し、０℃に冷却した後、塩化スルフリル０．５５ｍｌを加えた。その後室温まで昇温し、３０分間攪拌した。得られた反応液を減圧濃縮し、得られた油状物質にヘキサンを加え、結晶を析出させた。得られた結晶をろ過することにより、式（３１−３）で示される化合物１．２５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．１１（３Ｈ，ｄ）、７．５１−７．４５（９Ｈ，ｍ）、７．３０（６Ｈ、ｄ）、７．１９−７．１５（３Ｈ、ｍ）、７．０５（６Ｈ，ｔ）

＜１−９６で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−９）で示される化合物３．１６ｍｇ、１,８‐ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ‐７‐エン１８３ｍｇ、および式（３１−３）で示される化合物８８７ｍｇをクロロホルム１ｍｌとトルエン４ｍｌとの混合物に溶解し、窒素雰囲気下、室温にて２４時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈し、得られた希釈液を、ｐＨ１〜２に調整した塩酸水で洗浄し、続いて飽和食塩水で洗浄した。その後、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過して、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）に付し、式（１−９６）で示される化合物９９ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４−７．１７（１３Ｈ，ｍ），５．６６（１Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｍ），２，７３（２Ｈ，ｍ），２．５９−２．１７（３Ｈ，ｍ），１．８２−１．７７（２Ｈ，ｍ）

製造例１−４２に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−４２で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．７９（１Ｈ，ｄ），７．６３−７．５３（４Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｄ），７．２０（１Ｈ，ｄｄ），５．４０（１Ｈ，ｓ），３．０６（２Ｈ，ｔ），２．７５−２．２５（５Ｈ，ｍ），１．８６（２Ｈ，ｄｔ）
＜式１−１６６で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３８（２Ｈ，ｄ），７．３１−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．０４（１Ｈ，ｍ），５．６５（１Ｈ，ｄ），３．１１−３．０３（２Ｈ，ｍ），２．７５−２．６５（２Ｈ，ｍ），２．４９−２．３９（２Ｈ，ｍ），２．３２−２．２３（１Ｈ，ｍ），２．１１（３Ｈ，ｄ），１．８７（２Ｈ，ｑ）

製造例１−４３：式（１−１０２）で示される化合物の製造
＜３２−４で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、氷冷下にてジエチル亜鉛２０ｍｌ（１．０Ｍヘキサン溶液）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解させ、トリフルオロ酢酸２．２８ｇのジクロロメタン２０ｍｌ溶液を添加した。得られた混合液を氷冷下、２０分間攪拌した後、ジヨードメタン５．３６ｇのジクロロメタン２０ｍｌ溶液を添加し、２０分間攪拌した。得られた溶液に氷冷下、２−ブロモスチレン１．８３ｇのジクロロメタン１０ｍｌ溶液を加え、室温にて6時間攪拌した。得られた反応液に２Ｎ塩酸水を加えｐＨ１〜２とした後、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して、式（３２−４）で示される化合物の粗生成物１．７６ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（１Ｈ，ｄｄ）、７．２０（１Ｈ，ｔｄ）、７．０２（１Ｈ、ｔｄ）、６．９３（１Ｈ、ｄｄ）、２．１６（１Ｈ，ｔｔ）、１．０１（２Ｈ，ｄｄｄ）、０．６８（２Ｈ，ｄｔ）

＜３１−４で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて式（３２−４）で示される化合物１．７６ｇをテトラヒドロフラン９ｍｌへ溶解した。得られた溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム６．６ｍｌ（１．６Ｍヘキサン溶液）を加え、３０分間攪拌した。その後、得られた混合物に、トリクロロビスマス９３９ｍｇのテトラヒドロフラン５ｍｌ懸濁液を加え、室温まで昇温しながら１時間攪拌した。得られた反応液に水２０ｍｌを加え、クロロホルムで抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮して、式（３３−４）で示される化合物の粗生成物２．２７ｇを得た。
続いて、室温下、得られた式（３３−４）で示される化合物の粗生成物２．２７ｇを脱水クロロホルム５ｍｌに溶解し、０℃に冷却した後、塩化スルフリル０．３６ｍｌを加えた。その後室温まで昇温し、１時間攪拌した。得られた反応液にｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを加え結晶を析出させた後、減圧濃縮した。得られた結晶をろ過することにより、式（３１−４）で示される化合物１．０５ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）
δ ｐｐｍ：７．９２（３Ｈ，ｔ）、７．５８−７．５２（６Ｈ，ｍ）、７．２６（３Ｈ、ｔ）、２．３６−２．２８（３Ｈ、ｍ）、１．０３−０．９４（１２Ｈ，ｍ）

＜１−１０２で示される化合物の製造＞

窒素雰囲気下、室温にて、式（２−９）で示される化合物３．１６ｍｇ、１，８‐ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ‐７‐エン１８３ｍｇ、および式（３１−４）で示される化合物８８７ｍｇをクロロホルム１ｍｌとトルエン４ｍｌとの混合物に溶解した。窒素雰囲気下、室温にて得られた混合物を約２４時間攪拌した。得られた反応液をクロロホルムで希釈し、ｐＨ１〜２に調整した塩酸水で洗浄し、続いて飽和食塩水で洗浄した。その後、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過して、得られたろ液を減圧濃縮し、油状物質を得た。得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）に付し、式（１−１０２）で示される化合物５６ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５４（２Ｈ，ｄ），７．３８−７．２２（４Ｈ，ｍ），７．０６−７．００（２Ｈ，ｍ），５．７６（１Ｈ，ｄ），３．０８−３．０２（２Ｈ，ｍ），２．７５−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．１０（４Ｈ，ｍ），１．９０−１．８６（２Ｈ，ｍ），０．８７−０．６５（３Ｈ，ｍ）、０．５７−０．４７（１Ｈ，ｍ）

製造例１−４４：式（１−７１）で示される化合物の製造
＜式２３−２で示される化合物の製造＞

式（２４−１）で示される化合物６．６０ｇおよびジイソプロピルエチルアミン５．４３ｇを無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。得られた混合物に氷冷下、ピバロイルクロライドを滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７）に付し、式（２３−２）で示される化合物７．１４ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３８−７．２６（５Ｈ，ｍ），６．８７（２Ｈ，ｓ），４．５３（２Ｈ， ｄｄ）、３．６３−３．５４（２Ｈ，ｍ），２．７５−２．２２（１２Ｈ，ｍ），１．８６−１．７６（２Ｈ，ｍ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，ｓ）

＜式２２−２で示される化合物の製造＞

式（２３−２）で示される化合物７．１４ｇを酢酸エチル４５ｍｌに溶解した。得られた混合液に１０％パラジウム炭素３．５７ｇを加え、水素雰囲気下、３５℃で１８時間攪拌した。反応混合液をセライト（登録商標）ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、式（２２−２）で示される化合物５．１０ｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．８７（２Ｈ，ｓ），３．８１（２Ｈ，ｄ），２．７８−２．２４（１２Ｈ，ｍ），１．８３−１．７３（２Ｈ、ｍ）、１．３９−１．３６（１Ｈ，ｍ）、１．１０−１．０４（６Ｈ，ｍ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）

＜式２１−１で示される化合物の製造＞

式（２１−２）で示される化合物１９３ｍｇおよびジイソプロピルエチルアミン１６２ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に溶解させた。得られた混合物に氷冷下、メタンスルホニルクロライド６８．７ｍｇを滴下し、室温下１時間攪拌した。反応混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣にヘキサンを加え、濾過することにより、式（２１−１）で示される化合物２０８ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．８７（２Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｄｄ）、３．０５（３Ｈ，ｓ），２．７４−２．２５（１２Ｈ，ｍ），２．００−１．９７（２Ｈ，ｍ），１．１０−１．０４（６Ｈ，ｍ），０．８８（９Ｈ，ｓ）

＜式１−７１で示される化合物の製造＞

式（２１−１）で示される化合物２００ｍｇおよびジイソプロピルエチルアミン１６７ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解した。得られた混合液にパラブロモチオフェノール１９５ｍｇを加え、室温下、１６時間攪拌した。得られた混合物を８０℃に加熱し２時間攪拌した後、水を加えｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝０：１００→１：４）に付し、式（１−７１）で示される化合物１９３ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．４２（２Ｈ，ｄｔ），７．２１（２Ｈ，ｄｔ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．６１（１Ｈ，ｓ），３．０５−２．９３（２Ｈ，ｍ），２．７３−２．６４（２Ｈ，ｍ）、２．４８−２．２１（１０Ｈ，ｍ），１．８１（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４５：式（１−１３２）で示される化合物の製造
＜式１−１３２で示される化合物の製造＞

式（２２−２）で示される化合物１９３ｍｇおよびジイソプロピルエチルアミン２５８ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に溶解した。得られた混合物に氷冷下、メタンスルホニルクロライド６８．７ｍｇを滴下し、室温下３０分間攪拌した。得られた混合液に２−メルカプトピリミジン１２３ｍｇを加え、８０℃で９時間攪拌した。得られた反応液に２Ｎ塩酸を加え、ｐＨ１に調整した後、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝７：１３）に付し、式（１−１３２）で示される化合物１７１ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．５２（２Ｈ，ｄｄ），６．９８（１Ｈ，ｄｔ），６．８７（２Ｈ，ｄ），３．３０−３．１８（２Ｈ，ｍ），２．８５−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．５７−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．９６（２Ｈ，ｑ），１．０９−１．０２（６Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，ｓ）
製造例１−４６：式（１−３４）で示される化合物の製造

＜式１−３４で示される化合物の製造＞

式（１−１３２）で示される化合物１７０ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌ、メタノール１０ｍｌ、水１０ｍｌの混合溶液に溶解させた。得られた溶液に水酸化リチウム一水和物４４．５ｍｇを添加し、室温にて１０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、２Ｎ塩酸を加えｐＨ１とした後、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）に付し、式（１−３４）で示される化合物１２６ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．５３（２Ｈ，ｄ），７．００−６．９６（３Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｓ），３．２９−３．２１（２Ｈ，ｍ），２．８１−２．７３（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．４３（２Ｈ，ｍ），２．４１−２．２５（８Ｈ，ｍ），１．９５（２Ｈ，ｓ），１．０９−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４７：式（１−１０４）で示される化合物の製造
＜式１−１０４で示される化合物の製造＞

式（２２−２）で示される化合物１７８ｍｇおよびジイソプロピルエチルアミン２３８ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に溶解させた。得られた混合物に氷冷下、メタンスルホニルクロライド６３．３ｍｇを滴下し、室温下３０分間攪拌した。得られた溶液にパラ（メチルチオ）チオフェノール１５８ｍｇを加え、室温下、１．５時間攪拌した。得られた反応液に２Ｎ塩酸を加えｐＨ１とし、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。ろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：９→７：１３）に付し、式（１−１０４）で示される化合物１００ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３０（２Ｈ，ｄｔ），７．２０（２Ｈ，ｄｔ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５８（１Ｈ，ｓ），２．９７（２Ｈ，ｔｄ），２．７０−２．６４（２Ｈ，ｍ），２．４７（３Ｈ，ｓ），２．４５−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４８：式（１−１３３）で示される化合物の製造
＜式１−１３３で示される化合物の製造＞

式（２２−２）で示される化合物３８７ｍｇおよびジイソプロピルエチルアミン５１６ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に溶解させた。得られた混合物に氷冷下、メタンスルホニルクロライド１３７ｍｇを滴下し、室温下１時間攪拌した。得られた混合液に４−トリフルオロメチル−２−ピリミジンチオール３９６ｍｇを加え、８０℃で３０分間攪拌した。反応液に２Ｎ塩酸を加え、ｐＨ１になるように調整した後、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−１３３）で示される化合物５４６ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．７６（１Ｈ，ｄ），７．２９（１Ｈ，ｄ），６．８７（２Ｈ，ｄ），３．３３−３．２３（２Ｈ，ｍ），２．８２−２．６８（３Ｈ，ｍ），２．５９−２．２４（９Ｈ，ｍ），１．９７（２Ｈ，ｑ），１．１０−１．０３（６Ｈ，ｍ），０．８８（９Ｈ，ｓ）

製造例１−４９：式（１−３５）で示される化合物の製造
＜式１−３５で示される化合物の製造＞

式（１−１３３）で示される化合物５４６ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌ、メタノール１０ｍｌと水１０ｍｌとの混合溶液に溶解した。得られた溶液に水酸化リチウム一水和物１２６ｍｇを添加し、室温にて２０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、２Ｎ塩酸を加えｐＨ１とした後、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗い洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、式（１−３５）で示される化合物４３５ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．７６（１Ｈ，ｄ），７．２９（１Ｈ，ｄ），６．９９（２Ｈ，ｄ），５．６２（１Ｈ，ｓ），３．２７（２Ｈ，ｔｄ），２．７８−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．５１−１．９３（１２Ｈ，ｍ），１．０７（６Ｈ，ｍ）

製造例１−４９に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
＜式１−１３６で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３８（１Ｈ，ｔ），７．２６（１Ｈ，ｍ），７．１０（２Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ，ｔ），２．７７（２Ｈ，ｔ），２．５０−２．２０（１０Ｈ，ｍ），１．７９（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１３７で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３７（１Ｈ，ｄ），７．３０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．０６（１Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｑ），２．７１（２Ｈ，ｔ），２．５１−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１３８で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５７（１Ｈ，ｄ），７．５５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．０７−７．０４（１Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．０４−３．００（２Ｈ，ｍ），２．７１（２Ｈ，ｔ），２．５０−２．２８（１０Ｈ，ｍ），１．８９（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１３９で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２８−７．２６（１Ｈ，ｄ），７．１９−７．０５（３Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｓ），２．９８（２Ｈ，ｔ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．５０−２．２０（１３Ｈ，ｍ），１．８５（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４０で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３０−７．１８（４Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．４６（１Ｈ，ｓ），３．００（２Ｈ，ｔ），２．７８（２Ｈ，ｑ），２．６５（２Ｈ，ｔ），２．５０−２．２１（１０Ｈ，ｍ），１．８４（２Ｈ，ｑ），１．２３（３Ｈ，ｔ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４１で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３４−７．１０（４Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｓ），３．５５−３．４５（１Ｈ，ｍ），２．９８（２Ｈ，ｔ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．５０−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８５（２Ｈ，ｑ），１．２４（６Ｈ，ｄ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４２で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３２−７．１９（２Ｈ，ｍ），６．９８−６．８４（４Ｈ，ｍ），５．５３（１Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），３．０８−２．９４（２Ｈ，ｍ），２．６９（２Ｈ，ｔ），２．４８−２．２０（１０Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４３で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３０−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．１０−６．９８（４Ｈ，ｍ），６．９０−６．８０（１Ｈ，ｔ），５．５２（１Ｈ，ｓ），３．０５−３．００（２Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．４９−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．８３（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４４で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３０−７．１５（４Ｈ，ｍ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．５４（１Ｈ，ｓ），３．０５−３．００（２Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．４８−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８５（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４５で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．４８（１Ｈ，ｓ），７．３１−７．１１（３Ｈ，ｍ），６．９５（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｓ），３．０９−３．００（２Ｈ，ｍ），２．７０（２Ｈ，ｔ），２．４７−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．８５（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４６で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２０−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．１２−６．９８（３Ｈ，ｍ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．０１−２．９５（２Ｈ，ｍ），２．６５（２Ｈ，ｔ），２．４５−２．２０（１３Ｈ，ｍ），１．８２（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４７で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３０−７．１２（３Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．４８（１Ｈ，ｓ），３．１０−３．００（２Ｈ，ｍ），２．７２（２Ｈ，ｔ），２．５２−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８９（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４８で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．１２−７．０５（３Ｈ，ｍ），６．９２（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），２．７１（２Ｈ，ｔ），２．５５（６Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｔ），２．４２−２．１７（１０Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｑ），１．０６（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１４９で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３６（１Ｈ，ｄｄ），７．１４（１Ｈ，ｄｄ），６．９９（１Ｈ，ｄｄ），６．９６（２Ｈ，ｓ），５．８０（１Ｈ，ｓ），２．８６（２Ｈ，ｔ），２．６７−２．５９（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．１８（１０Ｈ，ｍ），１．７８（２Ｈ，ｑ），１．０７（３Ｈ，ｔ），１．０５（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１５０で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６８（１Ｈ，ｄ），７．２４（１Ｈ，ｄ），６．９９（２Ｈ，ｓ），５．４９（１Ｈ，ｓ），３．３２（２Ｈ，ｔ），２．７６−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．４６−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．９７（２Ｈ，ｑ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０５（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１５１で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．８８（２Ｈ，ｄ），７．３３（２Ｈ，ｄ），６．９９（２Ｈ，ｓ），５．５２（１Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｄｔ），２．７５−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），２．４７−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．９０（２Ｈ，ｑ），１．０９（３Ｈ，ｔ），１．０５（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１５２で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３１（２Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），６．７８（２Ｈ，ｄ），５．５７（１Ｈ，ｓ），５．１８（１Ｈ，ｓ），２．８９（２Ｈ，ｔ），２．６８−２．６１（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．１８（１０Ｈ，ｍ），１．７６（２Ｈ，ｑ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１５３で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ），７．２７−７．２５（１Ｈ，ｍ），６．９９（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），３．３３−３．２９（２Ｈ，ｍ），２．７９−２．７１（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．９４−１．８９（２Ｈ，ｍ），１．０７（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１５５で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：９．０２−９．０１（１Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄｄ），７．２３（１Ｈ，ｄｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），３．３２（２Ｈ，ｔ），２．７６（２Ｈ，ｔ），２．５１−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．９２（２Ｈ，ｑ），１．０５（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１２７で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．３６（１Ｈ，ｄｄ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ），６．９８−６．９５（３Ｈ，ｍ），５．４６（１Ｈ，ｓ），３．３０（２Ｈ，ｄｔ），２．８０−２．７３（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．９２（２Ｈ，ｑ），１．０７（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１６０で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９８（２Ｈ，ｓ），５．７５（１Ｈ，ｓ），５．５５（１Ｈ，ｓ），３．９４（６Ｈ，ｓ），３．２９−３．１８（２Ｈ，ｍ），２．７６−２．６９（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．２６（１０Ｈ，ｍ），１．９６（２Ｈ，ｑ），１．０７（６Ｈ，ｑ）
＜式１−１６１で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９８（２Ｈ，ｓ），６．８４−６．７８（２Ｈ，ｍ），６．６２（１Ｈ，ｔｔ）、５．５２（１Ｈ，ｓ），３．０３（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７２（２Ｈ，ｄｔ），２．４８−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．８７（２Ｈ，ｄｄ），１．０７（６Ｈ，ｄｔ）
＜式１−７０で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６１（２Ｈ，ｄ），７．０７（２Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），５．７２（１Ｈ，ｓ），３．０４−２．９２（２Ｈ，ｍ），２．７２−２．６３（２Ｈ，ｍ），２．４５−２．２１（１０Ｈ，ｍ），１．８１（２Ｈ，ｑ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−７５で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．３４−７．２８（４Ｈ，ｍ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．４６（１Ｈ，ｓ），２．９９（２Ｈ，ｄｔ），２．７１−２．６４（２Ｈ，ｍ），２．４３−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．８２（２Ｈ，ｑ），１．３１（９Ｈ，ｓ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１０９で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．７４（２Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｓ），３．２８（２Ｈ，ｄｔ），２．７９−２．７３（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．２５（１０Ｈ，ｍ），１．９６（２Ｈ，ｑ），１．０９−１．０３（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１１２で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６２（１Ｈ，ｄ），７．７４（１Ｈ，ｄｄ），７．６０（１Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．５１（１Ｈ，ｓ），３．１５−３．０７（２Ｈ，ｍ），２．７５−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．４７−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．８９（２Ｈ，ｑ），１．０９（３Ｈ，ｔ），１．０５（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１１５で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．７０（１Ｈ，ｓ），８．５１（１Ｈ，ｓ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．４９（１Ｈ，ｓ），３．３３（２Ｈ，ｄｔ），２．７９−２．７２（２Ｈ，ｍ），２．５１−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．９３（２Ｈ，ｑ），１．０７（３Ｈ，ｔ），１．０４（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１１８で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．５６（１Ｈ，ｄ），７．４９（１Ｈ，ｄ），６．９８（２Ｈ，ｓ），５．４８（１Ｈ，ｓ），３．５４−３．４６（２Ｈ，ｍ），２．７９−２．７０（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．２７（１０Ｈ，ｍ），２．０６−１．９９（２Ｈ，ｍ），１．０８（３Ｈ，ｔ），１．０６（３Ｈ，ｔ）
＜式１−１２１で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：８．６１（１Ｈ，ｄ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ），７．２３（１Ｈ， ｄｄ）， ６．９８（２Ｈ，ｓ），３．２９（２Ｈ，ｄｄｄ），２．７６（２Ｈ，ｄｄｄ），２．５２−２．２３（１０Ｈ，ｍ），１．９５−１．８９（２Ｈ，ｍ），１．０６（６Ｈ，ｄｔ）
＜式１−１６９で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．２１−７．０６（３Ｈ，ｍ），６．９５（２Ｈ，ｓ），５．６４（１Ｈ， ｓ）， ２．９７（２Ｈ，ｄｄｄ），２．６８（２Ｈ，ｄｔ），２．４８−２．２２（１０Ｈ，ｍ），１．８３−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．１２−０．９９（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１７２で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９５（２Ｈ，ｓ），５．７９（１Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｔ），２．６８（２Ｈ，ｄ），２．３７−２．１６（１６Ｈ，ｍ），１．９５（２Ｈ，ｄ），１．０９−０．９８（６Ｈ，ｍ）
＜式１−１７３で示される化合物の製造＞
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．６７（２Ｈ，ｄ），７．３２（２Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｓ），４．１９−４．１４（２Ｈ，ｍ）、２．７９−２．６６（２Ｈ，ｍ）、２．４８−２．２８（１３Ｈ，ｍ），２．０８−１．９８（２Ｈ，ｍ），１．０３（６Ｈ，ｔｄ）

製造例１−５０：式（１−１３４）で示される化合物の製造
＜式３５−１で示される化合物の製造＞

室温下、式（２１−１）で示される化合物３６０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに溶解し、アジ化ナトリウム５００ｍｇと１５クラウン５エーテル０．０１５ｍｌを加えた。得られた混合液を１００℃まで加熱して約４時間攪拌した。その後、得られた反応混合液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝３４：６６）に付し、式（３５−１）で示される化合物１８０ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：６．９８（２Ｈ，ｓ），５．７９（１Ｈ，ｓ），３．４４−３．４０（２Ｈ，ｍ），２．７１−２．６４（２Ｈ，ｍ），２．４４−２．２４（１０Ｈ，ｍ），１．７７（２Ｈ，ｑ）、１．０７（６Ｈ，ｔｄ）

＜式１―１３４で示される化合物の製造＞

室温下、式（３５−１）で示される化合物１００ｍｇと１−エチニル−４−フルオロベンゼン４０ｍｇをアセトニトリル４ｍｌとジメチルスルホキシド１ｍｌに溶解し、得られた混合液にアスコルビン酸ナトリウムを７ｍｇと硫酸銅３ｍｇを加え、約５時間加熱還流を行った。その後、得られた反応混合液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液、酢酸エチル：ヘキサン＝６６：３４）に付し、式（１−１３４）で示される化合物５４．１ｍｇを得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．８３−７．７８（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｔ），６．９８（２Ｈ， s）、５．７７（１Ｈ，ｓ）、４．５７−４．４６（２Ｈ，ｍ），２．８０−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．５２−２．１２（１２Ｈ，ｍ）、１．０４（６Ｈ，ｑ）

製造例１−５０に準じて製造した本化合物を、以下に示す。
式（１−１３５）で示される化合物の製造
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ ｐｐｍ：７．９５（２Ｈ，ｄ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．６９（２Ｈ，ｄ），６．９７（２Ｈ， s）、５．７９（１Ｈ，ｓ）、４．６０−４．４８（２Ｈ，ｍ），２．８０−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．１２（１２Ｈ，ｍ）、１．０４（６Ｈ，ｑ）

次に製剤例を示す。なお、本化合物は構造式の番号で示す。

製剤例１
化合物（１−１） １０重量％
ピラスルホトール ２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ８２重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２
化合物（１−１） １０重量％
イソキサフルトール １０重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート ５重量％
カルボキシメチルセルロース ５重量％
水 ７０重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例３
化合物（１−１） ５重量％
メソトリオン １０重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート ６重量％
カルボキシメチルセルロース ４重量％
水 ７５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例４
化合物（１−１） ２０重量％
Ｓ−メトラクロール ２重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６３重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例５
化合物（１−１） １０重量％
ピロキサスルホン １０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ６重量％
ホワイトカーボン ６重量％
クレイ ６３重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例６
化合物（１−１） ２０重量％
フルフェナセット ５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ６９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例７
化合物（１−１） １０重量％
プロスルホカルブ １０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例８
化合物（１−１） ２０重量％
チオベンカルブ ２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ７２重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例９
化合物（１−１） １０重量％
トリアレート １０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１０
化合物（１−１） ４重量％
トリフルラリン １６重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１１
化合物（１−１） ３重量％
ペンディメタリン １２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ７９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１２
化合物（１−１） ５重量％
グリホサートカリウム塩 ２０重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６０重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１３
化合物（１−１） １０重量％
グルホシネートアンモニウム塩 ２０重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ５重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ６２重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１４
化合物（１−１） １０重量％
ピラスルホトール １０重量％
メフェンピルジエチル ５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ５重量％
カルボキシメチルセルロース ５重量％
水 ６５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１５
化合物（１−１） ８重量％
ピラスルホトール ２０重量％
フェンクロラゾールエチル ５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ４重量％
カルボキシメチルセルロース ６重量％
水 ５７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１６
化合物（１−１） １３重量％
ピラスルホトール ４重量％
クロキントセットメキシル ６重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ２重量％
カルボキシメチルセルロース ８重量％
水 ６７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１７
化合物（１−１） ５重量％
グリホサートカリウム塩 ３０重量％
メフェンピルジエチル ２重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ５７重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１８
化合物（１−１） １０重量％
グルホシネートアンモニウム塩 １０重量％
メフェンピルジエチル ５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ６９重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例１９
化合物（１−１） １０重量％
トリフルラリン １０重量％
クロキントセットメキシル ３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６２重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２０
化合物（１−１） ４重量％
トリフルラリン １６重量％
メフェンピルジエチル ３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６２重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２１
化合物（１−１） １５重量％
トリフルラリン １０重量％
フェンクロラゾールエチル ３重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ４重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ４重量％
ホワイトカーボン ４重量％
クレイ ６０重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２２
化合物（１−１） １５重量％
イソキサベン ５重量％
フェンクロラゾールエチル １０重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ３重量％
カルボキシメチルセルロース ３重量％
水 ６４重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２３
化合物（１−１） ２０重量％
グリホサートイソプロピルアミン塩 ５重量％
フェンクロラゾールエチル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ５５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２４
化合物（１−１） １０重量％
イソキサフルトール ５重量％
クロキントセットメキシル ３重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ５重量％
カルボキシメチルセルロース ５重量％
水 ７２重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２５
化合物（１−１） １０重量％
ビシクロピロン ５重量％
クロキントセットメキシル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２６
化合物（１−１） １５重量％
ピロキサスルホン ５重量％
フェンクロラゾールエチル ５重量％
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレェート ５重量％
カルボキシメチルセルロース ５重量％
水 ６５重量％
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、製剤を得る。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２７
化合物（１−１） １５重量％
イプフェンカルバゾン ５重量％
メフェンピルジエチル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６０重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２８
化合物（１−１） ５重量％
フルフェナセット １０重量％
メフェンピルジエチル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ６５重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例２９
化合物（１−１） ２重量％
フルフェナセット ２０重量％
フェンクロラゾールエチル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ４重量％
ホワイトカーボン ４重量％
クレイ ６０重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

製剤例３０
化合物（１−１） １０重量％
フルフェナセット １０重量％
クロキントセットメキシル ５重量％
リグニンスルホン酸ナトリウム ６重量％
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ６重量％
ホワイトカーボン ５重量％
クレイ ５８重量％
を混合粉砕して製剤を得る。調製した製剤は水で適宜希釈して使用する。
化合物（１−１）を化合物（１−２）〜化合物（１−１５６）または化合物（１−１５８）〜化合物（１−１７３）に代えて、同様の方法で各々の製剤を得る。

次に試験例を示す。
試験例１ 雑草への茎葉散布試験
市販培土をプラスチックカップに充填し、これにイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）の種子をまき、約０．５ｃｍの覆土をした後、温室内で栽培した。植物が1〜２葉期まで生育した時、本発明除草用組成物の散布液を所定の薬量になるように植物全体に均一に散布した。散布液は夫々の化合物の所定量をトゥイーン２０（ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ＭＰバイオメディカルズ・インク製）のジメチルホルムアミド溶液（２％）に溶解し、水で希釈することにより調製した。薬剤処理後、植物を温室内に３週間置いた。除草効果を０（無作用）〜１００（完全枯死）の１０１段階で評価した。
結果を表１２〜表３８に示す。

−：未試験

−：未試験

−：未試験

−：未試験

本発明除草用組成物は、雑草防除に有用である。

Claims (40)

1. 式（Ｉ）
   

   

   ［式中、
   ｍは１、２又は３を表し、
   ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
   ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
   Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
   Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｇは水素又は下記式
   

   

   ｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
   Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
   Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
   ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
   で表されるいずれかの基を表し、
   Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
   Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
   で示されるシクロヘキサノン化合物と、下記Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含有することを特徴とする除草用組成物。
   Ａ群：
   メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
2. ｎが１〜３いずれかの整数であり、
   Ｒ¹が水素であり、
   Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-3アルキル基又はＲ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖であり（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基はハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ_1-3アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_1-3ハロアルキル基、Ｃ_1-3アルキルチオ基、Ｃ_1-3ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ペンタフルオロチオ基、ベンゾイルアミノ基及びＣ_1-3ハロアルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、該Ｃ_1-3アルキル基及びＣ_6-10アリール基は、１以上のハロゲンまたは１以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたは２以上のＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｇが水素又は下記式
   

   

   ｛式中、Ｒ^5aはＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基又はＣ_6-10アリールオキシ基を表し、
   Ｒ^6aはＣ_1-6アルキル基を表し、
   Ｗ^aはＣ_1-3アルコキシ基を表す。｝
   で表されるいずれかの基であり、
   Ｒ⁹が、水素、Ｃ_1-6アルキル基又はＣ_6-10アリールスルホニル基であり（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリールスルホニル基は、ハロゲン及びニトロ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｚがハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、ニトロ基、フェニル基又は５〜６員のヘテロアリールオキシ基（但し、該Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-3アルコキシ基、フェニル基及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基は、１以上のハロゲンを有していてもよく。２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）である、請求項１に記載の除草用組成物。
3. Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、メチル基、エチル基又はＲ²とＲ³とが結合してエチレン鎖であり（但し、２個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、また、２個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
   Ｒ⁴がフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基、２−チアゾリル基、１，２，３−トリアゾリル基又は１−ピラゾリル基であり（但し、該フェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、３−ピリダジニル基、３−フリル基、２−チエニル基及び２−チアゾリル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、ペンタフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、トリフルオロメチルチオ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロメトキシ基及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有している。また該１，２，３−トリアゾリル基及び１−ピラゾリル基は、メチル基及びフェニル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。また、該フェニル基は塩素、臭素、ヨウ素、フッ素及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）、
   Ｇが水素、アセチル基、プロピオニル基、ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基であり、
   Ｒ⁹が水素、２−ニトロフェニルスルホニル基又はメチル基であり、
   Ｚがメチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基、シクロプロピル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素、メトキシ基、トリフルオロメチル基、５−トリフルオロメチル−２−クロロピリジルオキシ基又はエチニル基である、請求項２に記載の除草用組成物。
4. Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一に記載の除草用組成物。
   Ｂ群
   ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。
5. Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロキントセットメキシル、メフェンピルジエチル又はフェンクロラゾールエチルである請求項４に記載の除草用組成物。
6. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、またはテフリルトリオンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
7. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、イソキサフルトール、またはイソキサクロルトールである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
8. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、またはトプラメゾンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
9. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ビシクロピロン、またはベンゾビシクロンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
10. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、またはテニルクロールである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
11. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ジフェナミドまたはナプロパミドである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
12. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フルフェナセットまたはメフェナセットである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
13. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フェントラザミドまたはイプフェンカルバゾンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
14. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、アニロホスである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
15. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、カフェンストロールである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
16. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピペロホスである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
17. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ピロキサスルホンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
18. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、またはベルノレートである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
19. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ダラポンもしくはその塩、フルプロパネートもしくはその塩、またはＴＣＡもしくはその塩である請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
20. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンフレセート、またはエトフメセートである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
21. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンスライドである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
22. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリンまたはトリフルラリンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
23. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ブタミホスである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
24. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、ジチオピル、またはチアゾピルである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
25. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、プロピザミド、またはテブタムである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
26. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロルタル−ジメチルである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
27. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、カルベタミド、クロルプロファムまたはプロファムである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
28. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フラムプロップまたはそのエステルである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
29. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、クロルチアミド、またはジクロベニルである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
30. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、トリアジフラム、またはインダジフラムである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
31. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、イソキサベンである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
32. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、フルポキサムである請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
33. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、グリホサートもしくはその塩である請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
34. Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物が、グルホシネートアンモニウム、またはビラナホスもしくはその塩である請求項１〜請求項５のいずれか一に記載の除草用組成物。
35. Ｇが水素である請求項１〜請求項３４のいずれか１つに記載の除草用組成物を含有する除草用組成物。
36. 請求項１〜請求項３５のいずれか１つに記載の除草用組成物を含有する除草剤。
37. 式（Ｉ）で示されるシクロヘキサノン化合物と、下記Ａ群から選ばれる少なくとも１種の化合物の有効量を、雑草または雑草の生育する土壌に施用する雑草の防除方法。
    式（Ｉ）：
    

    

    ［式中、
    ｍは１、２又は３を表し、
    ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
    ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
    Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
    Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｇは水素又は下記式
    

    

    ｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
    Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
    Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
    ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
    で表されるいずれかの基を表し、
    Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
    Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
    Ａ群：
    メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
38. Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物の有効量をさらに雑草または雑草の生育する土壌に施用することを特徴とする請求項３７に記載の雑草の防除方法。
    Ｂ群
    ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。
39. 雑草を防除するための、式（Ｉ）で示される化合物、およびＡ群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する除草用組成物の使用。
    式（Ｉ）：
    

    

    ［式中、
    ｍは１、２又は３を表し、
    ｎは１〜５いずれかの整数を表し、
    ＸはＣＨ₂、Ｏ、ＮＲ⁹、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳ（Ｏ）₂を表し、
    Ｒ¹は水素またはメチル基を表し、
    Ｒ²及びＲ³は、互いに独立に、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6ハロアルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_3-8ハロシクロアルキル基、（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、（Ｃ_3-8シクロアルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル基、（Ｃ_3-8ハロシクロアルキル）Ｃ_1-6アルキル基、｛（Ｃ_1-6アルキル）Ｃ_3-8シクロアルキル｝Ｃ_1-6アルキル基を表すか、Ｒ²とＲ³とが結合してＣ_2-5アルキレン鎖を表すか、又はＲ²とＲ³とが一緒になってハロゲンを有していてもよいＣ_1-3アルキリデン基を表し（但し、ｍが２又は３である場合、２又は３個のＲ²は同一であっても異なっていてもよく、２又は３個のＲ³は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｒ⁴はＣ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、該Ｃ_6-10アリール基及び５〜６員のヘテロアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、ペンタフルオロチオ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、該（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、ベンゾイルアミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノカルボニル基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_3―6アルケニルオキシ基、Ｃ_3―6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基、（Ｃ_1-6アルコキシ）カルボニル基及び（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基は１以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有していてもよく、２以上のハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基を有している場合、該ハロゲンまたはＣ_1-3ハロアルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｇは水素又は下記式
    

    

    ｛式中、Ｌは酸素または硫黄を表し、
    Ｒ⁵はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_3-6アルケニルオキシ基、Ｃ_3-6アルキニルオキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基、（Ｃ_3-6アルケニル）（Ｃ_3-6アルケニル）アミノ基、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルキル基のアリール部分、Ｃ_3-8シクロアルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、（Ｃ_6-10アリール）Ｃ_1-6アルコキシ基のアリール部分、（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_6-10アリール）アミノ基のアリール部分及び５〜６員のヘテロアリール基はいずれも１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。）、
    Ｒ⁶はＣ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は（Ｃ_1-6アルキル）（Ｃ_1-6アルキル）アミノ基を表し(但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。また、該Ｃ_6-10アリール基は１以上のＣ_1-6アルキル基を有していてもよく、２以上のＣ_1-6アルキル基を有している場合、該アルキル基は同一であっても異なっていてもよい。)、
    Ｒ⁷は水素又はＣ_1-6アルキル基を表し、
    ＷはＣ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_1-6アルキルスルフィニル基、Ｃ_1-6アルキルスルホニル基を表す（但し、これらはいずれも１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。）。｝
    で表されるいずれかの基を表し、
    Ｒ⁹は、水素、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基を表し（但し、該Ｃ_1-6アルキル基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、Ｃ_6-10アリールチオ基、Ｃ_6-10アリールスルフィニル基、Ｃ_6-10アリールスルホニル基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基からなる群から選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。）
    Ｚはハロゲン、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、Ｃ_1-6アルキルチオ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、５〜６員のヘテロアリールオキシ基、Ｃ_3-8シクロアルキル基、Ｃ_6-10アリール基又は５〜６員のヘテロアリール基を表し、（但し、該Ｃ_1-6アルキル基、Ｃ_2-6アルケニル基、Ｃ_2-6アルキニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、（Ｃ_1-6アルキル）カルボニル基、及びＣ_1-6アルキルチオ基は１以上のハロゲンを有していてもよく、２以上のハロゲンを有している場合、該ハロゲンは同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_6-10アリール基、５〜６員のヘテロアリール基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、及び５〜６員のヘテロアリールオキシ基はハロゲン、Ｃ_1-6アルキル基及びＣ_1-6ハロアルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。該Ｃ_3-8シクロアルキル基はハロゲン及びＣ_1-6アルキル基からなる群より選ばれる１以上の置換基を有していてもよく、２以上の置換基を有している場合、該置換基は同一であっても異なっていてもよい。さらに、ｎが２以上の整数を表わす場合、Ｚは同一であっても異なっていてもよい。）。〕
    Ａ群：
    メソトリオン、スルコトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ピラスルホトール、ベンゾフェナップ、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ビシクロピロン、ベンゾビシクロン、アセトクロール、アラクロール、ブタクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、ジメテナミド−Ｐ、メタザクロール、Ｓ−メトラクロール、ペトキサミド、プレチラクロール、プロパクロール、プロピソクロール、テニルクロール、ジフェナミド、ナプロパミド、フルフェナセット、メフェナセット、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、アニロホス、カフェンストロール、ピペロホス、ピロキサスルホン、ブチレート、シクロエート、ジメピペレート、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、モリネート、オルベンカルブ、ペブレート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、チオカルバジル、トリアレート、ベルノレート、ダラポンおよびその塩、フルプロパネートおよびその塩、ＴＣＡおよびその塩、ベンフレセート、エトフメセート、ベンスライド、ベンフルラリン、ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、ペンディメタリン、トリフルラリン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、プロピザミド、テブタム、クロルタル−ジメチル、カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、フラムプロップおよびそのエステル、クロルチアミド、ジクロベニル、トリアジフラム、インダジフラム、イソキサベン、フルポキサム、グリホサートおよびその塩、グルホシネートアンモニウム、ならびにビラナホスおよびその塩からなる群。
40. 雑草を防除するための、Ｂ群から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含有することを特徴とする請求項３９に記載の除草用組成物の使用。
    Ｂ群
    ベノキサコール、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、ジクロルミッド、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フリラゾール、メフェンピルジエチル、オキサベトリニル、イソキサジフェンエチル、シプロスルファミド、フルクソフェニム、１，８−ナフタル酸無水物、および、ＡＤ−６７からなる群。