JP2014085188A - 蛍光像再構成方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モデル形状について適当な離散化距離のもとで吸収・散乱係数を異ならせて予め準備された複数のシステム行列を用い、以下の工程(A)から(D)を備えて試料中の蛍光光源の分布を再構成する。
(A)試料を実測してその三次元表面形状である実測形状を取得する実測形状取得工程、
(B)前記モデル形状と前記実測形状との間の形状誤差を算出する形状誤差算出工程、
(C)前記形状誤差に基づいて前記離散化距離を修正して修正離散化距離を得るとともに、前記複数のシステム行列のうちからの選定又は修正により最適システム行列を得る補正工程、及び、
(D)前記試料を実測して得た表面輝度分布と、前記補正工程で得られた前記修正離散化距離及び最適システム行列とに基づいて、前記試料中の蛍光光源の分布を再構成する蛍光像再構成工程。
【選択図】図2
Description
(A)試料を実測してその三次元表面形状である実測形状を取得する実測形状取得工程、
(B)前記モデル形状と前記実測形状との間の形状誤差を算出する形状誤差算出工程、
(C)前記形状誤差に基づいて前記離散化距離を修正して修正離散化距離を得るとともに、前記複数のシステム行列のうちからの選定又は修正により最適システム行列を得る補正工程、及び、
(D)前記試料を実測して得た表面輝度分布と、前記補正工程で得られた前記修正離散化距離及び最適システム行列とに基づいて、前記試料中の蛍光光源の分布を再構成する蛍光像再構成工程。
また、蛍光が試料内部を伝搬する過程は次に示す光拡散方程式(2)によって計算することができる。
ここで、
D:拡散定数、
r:位置、
μa:吸収係数、
φex(j):j番目の方向から励起光を与えた場合の位置rにおける励起光フルエンスレート(光密度)、
φem(k):k番目の位置に蛍光剤が存在した場合の位置rにおける蛍光フルエンスレート、
S:光源強度、
ε:モル吸光係数、
γ:量子収率、
M:モル濃度、を表す。
p(θ)は散乱位相関数を表す。一般に、g≒0だと等方散乱、g=0.9〜1だと前方散乱を示す。gは試料の種類によって定める。
g=Af (3)
A=[a(1),a(2),…,a(k)] (4)
ここで、
A:システム行列、
f:蛍光剤の空間分布ベクトル、
g:試料表面での蛍光分布ベクトル、
を表す。例えば、蛍光剤の空間分布f=[0 0 0.5 1 0.5 0 … 0]Tが与えられた場合、このベクトルにシステム行列を掛ける(Af)と、試料表面での蛍光分布ベクトルgが得られる。ここで、[…]Tは転置を示している。
と求められる。図9−ステップ7、ステップ8での離散化修正、光学定数補正、光伝搬結果補正のための形状誤差αを修正形状誤差γに置き換えてそれらの処理を実行すれば、内部形状を考慮した補正が実施できる。
14 蛍光画像取得装置
16 画像処理装置
18 モデル形状保持部
20 光伝搬解析部
22 光伝搬解析結果保持部
24 形状誤差算出部
26 離散化修正部
28 光伝搬解析結果補正部
30 蛍光像再構成部
Claims (7)
- モデル形状について適当な離散化距離のもとで吸収・散乱係数を異ならせて予め準備された複数のシステム行列を用い、以下の工程(A)から(D)を備えて試料中の蛍光光源の分布を再構成する蛍光像再構成方法。
(A)試料を実測してその三次元表面形状である実測形状を取得する実測形状取得工程、
(B)前記モデル形状と前記実測形状との間の形状誤差を算出する形状誤差算出工程、
(C)前記形状誤差に基づいて前記離散化距離を修正して修正離散化距離を得るとともに、前記複数のシステム行列のうちからの選定又は修正により最適システム行列を得る補正工程、及び、
(D)前記試料を実測して得た表面輝度分布と、前記補正工程で得られた前記修正離散化距離及び最適システム行列とに基づいて、前記試料中の蛍光光源の分布を再構成する蛍光像再構成工程。 - 前記形状誤差算出工程(B)は前記モデル形状の断層画像と前記実測形状の断層画像について、それぞれの重心からそれぞれの断層画像輪郭までの同一方位の距離に基づいて形状誤差を求める請求項1に記載の蛍光像再構成方法。
- 前記補正工程(C)で得られる最適システム行列は、前記形状誤差算出工程(B)で算出された形状誤差により補正された吸収・散乱係数に一致するか又は最も近い吸収・散乱係数に対応したシステム行列として選定されたシステム行列である請求項1又は2に記載の蛍光像再構成方法。
- 前記補正工程(C)で得られる最適システム行列は、前記形状誤差算出工程(B)で算出された形状誤差により補正された吸収・散乱係数に近い2つの吸収・散乱係数に対応した2つのシステム行列から補完法により修正して得られたシステム行列である請求項1又は2に記載の蛍光像再構成方法。
- 前記モデル形状は形状の異なる複数個を含んでおり、モデル形状ごとに前記複数のシステム行列が予め準備されており、
前記形状誤差算出工程(B)では全てのモデル形状と前記実測形状との間の形状誤差を算出し、
前記補正工程(C)を形状誤差の最も小さいモデル形状について行う請求項1から4のいずれか一項に記載の蛍光像再構成方法。 - モデル形状についての予め準備された前記複数のシステム行列は、モデル形状の内部形態情報を基にして組織毎に準備されている請求項1から5のいずれか一項に記載の蛍光像再構成方法。
- 試料の少なくとも外表面の三次元形状を取得する三次元形状測定装置、試料表面に現れた蛍光像を取得する蛍光画像取得装置、及び前記三次元形状測定装置が取得した試料の三次元形状を基に励起光と蛍光の伝搬解析を行なうとともに、その伝搬解析と前記蛍光画像取得装置が取得した試料表面の蛍光像から試料内部の蛍光像を再構成する画像処理装置を備えた蛍光像再構成装置であって、
前記画像処理装置は、
観測試料に関連する標準試料についての前記三次元形状測定装置による測定結果の三次元形状をモデル形状として保持するモデル形状保持部と、
前記モデル形状保持部に保持されているモデル形状について光伝搬計算を行う光伝搬解析部と、
前記光伝搬解析部による光伝搬計算結果としてモデル形状について適当な離散化距離のもとで吸収・散乱係数を異ならせて作成した複数のシステム行列を保持する光伝搬解析結果保持部と、
観測試料についての前記三次元形状測定装置による測定結果の三次元形状と前記モデル形状保持部に保持されているモデル形状との間の形状誤差を算出する形状誤差算出部と、
前記形状誤差に基づいて離散化距離を修正して修正離散化距離を得る離散化修正部と、
前記光伝搬解析結果保持部に保持されている前記複数のシステム行列のうちから前記形状誤差に基づいて選定又は修正により最適システム行列を得る光伝搬解析結果補正部と、
前記蛍光画像取得装置により取得された前記観測試料表面の輝度分布、前記離散化修正部で得られた修正離散化距離、及び前記光伝搬解析結果補正部で得られた最適システム行列から前記観測試料中の蛍光光源の分布を再構成する蛍光像再構成部と、
を備えている蛍光像再構成装置。
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